JP2002015676A - Plasma display panel and its back board - Google Patents

Plasma display panel and its back board

Info

Publication number
JP2002015676A
JP2002015676A JP2000194063A JP2000194063A JP2002015676A JP 2002015676 A JP2002015676 A JP 2002015676A JP 2000194063 A JP2000194063 A JP 2000194063A JP 2000194063 A JP2000194063 A JP 2000194063A JP 2002015676 A JP2002015676 A JP 2002015676A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rib
electrode
ribs
horizontal
vertical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000194063A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sukeyuki Nishimura
祐行 西村
Shinichi Sakano
真一 坂野
Yozo Kosaka
陽三 小坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2000194063A priority Critical patent/JP2002015676A/en
Publication of JP2002015676A publication Critical patent/JP2002015676A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel of a structure not producing problems, when it is made to a panel and driven, while aiming at an improvement in brightness. SOLUTION: The plasma display panel is constituted of a compound electrode composing of a maintaining electrode and a bus electrode on a front board, an address electrode intersecting perpendicularly with the compound electrode and a vertical rib 12 arranged in standing state between the address electrodes on the back board, and further, a horizontal rib 13 formed for dividing a cell space 14 as a discharge space specified by the address electrode and the bus electrode, a phosphor arranged so at to cover wall sides of the vertical rib 12 and the horizontal rib 13 dividing the cell space, and a structure in which the edge of the vertical rib 12 are pressed down by the horizontal rib 13a. As a luminescence area of a fluorescent surface becomes large compared with a case where the horizontal rib 13 does not exist, high brightness is obtained, and risings of the end parts of the vertical rib causing noise generation at the time of driving, are not generated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気体放電を用いた
自発光形式の平板ディスプレイであるプラズマディスプ
レイパネル(以下、PDPと記す)の技術分野に属する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a plasma display panel (hereinafter, referred to as a PDP), which is a self-luminous flat panel display using gas discharge.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にPDPは、2枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にNe,Xe等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露
出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている交
流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
2. Description of the Related Art In general, a PDP has a structure in which a pair of electrodes arranged regularly on two opposing glass substrates are provided, and a gas mainly composed of Ne, Xe or the like is sealed between the electrodes. Then, a voltage is applied between these electrodes,
By generating a discharge in a minute cell around the electrode, each cell emits light to perform display. In order to display information, regularly arranged cells are selectively caused to emit light. There are two types of PDPs, a direct current type (DC type) in which the electrodes are exposed to the discharge space, and an alternating current type (AC type) in which the electrodes are covered with an insulating layer. And a refresh driving method and a memory driving method.

【0003】図1にAC型PDPの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように2枚のガラス基板1,2が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板1の背面側には透明電極である維持電極4と金属電
極であるバス電極5とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層6が形成されてお
り、さらにその上に保護層7(MgO層)が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板2の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ3の間に位置してアド
レス電極8が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体10が設けられている。そし
て、カラー表示を行うため、各リブ3の間にはRGB各
色で発光する蛍光体材料の一つが充填され、背面板はそ
のRGB各色のストライプ状の蛍光面が3つからなる組
を多数配列した構造となる。
FIG. 1 shows a configuration example of an AC type PDP. This figure shows the front plate and the back plate separated from each other. As shown in the figure, two glass substrates 1 and 2 are arranged in parallel and opposed to each other, and both become the back plate. The ribs 3 provided on the glass substrate 2 in parallel with each other are held at regular intervals. On the back side of the glass substrate 1 serving as a front plate, composite electrodes composed of a sustain electrode 4 which is a transparent electrode and a bus electrode 5 which is a metal electrode are formed in parallel with each other, and a dielectric layer 6 is covered thereover. The protective layer 7 (MgO layer) is further formed thereon. On the front side of the glass substrate 2 serving as the back plate, address electrodes 8 are formed between the ribs 3 so as to be orthogonal to the composite electrodes and are formed in parallel with each other. Are formed, and a phosphor 10 is provided so as to cover the wall surface of the rib 3 and the cell bottom surface. In order to perform color display, one of the phosphor materials that emits light in each of the RGB colors is filled between the ribs 3, and the back plate has a large number of sets of three striped phosphor screens of each of the RGB colors. Structure.

【0004】このAC型PDPは面放電型であって、ア
ドレス電極8により書き込みを行った後、前面板上の複
合電極に交流電圧を印加し、空間に生成した電界により
放電させる構造である。この場合、交流をかけているた
めに電界の向きは周波数に対応して変化する。そしてこ
の放電により生じる紫外線により蛍光体10を発光さ
せ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっ
ている。
The AC type PDP is of a surface discharge type, and has a structure in which, after writing is performed by an address electrode 8, an AC voltage is applied to a composite electrode on the front panel to discharge by an electric field generated in a space. In this case, since the alternating current is applied, the direction of the electric field changes according to the frequency. Then, the phosphor 10 emits light by the ultraviolet light generated by the discharge, so that an observer can visually recognize the light transmitted through the front plate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】一般にPDPにおいて
は、蛍光面を発光させた時の輝度を高めることが重要な
課題の一つになっている。そして、輝度を高めるために
各種の方法が提案されているが、決定的な解決策はな
く、複数の方法の積み重ねにより少しずつ輝度が高めら
れている。その一つとして、蛍光面の発光面積を広くす
ることは、その蛍光面に紫外線が効率よく作用する等に
より発光効率が改善され、輝度が高くなることにつなが
る点で有効である。ところが、上記したような構造のA
C型PDPでは、蛍光体10は両側にあるリブ3の壁面
とセル底面を覆うようにして設けられており、蛍光面は
3面にだけ跨がって形成されているので発光面積が制約
されている。そこで、縦方向のリブに直交する横方向の
リブ(補助隔壁)を設けることにより、表示セル部の四
方が囲まれるようにし、発光面積を増やすようにしたも
のが提案されている。
Generally, in PDPs, it is one of the important issues to increase the luminance when the phosphor screen emits light. Various methods have been proposed to increase the brightness, but there is no definitive solution, and the brightness is gradually increased by stacking a plurality of methods. As one of them, increasing the light emitting area of the phosphor screen is effective in that the luminous efficiency is improved due to the efficient operation of ultraviolet light on the phosphor screen and the luminance is increased. However, A of the above structure
In the C-type PDP, the phosphor 10 is provided so as to cover the wall surfaces of the ribs 3 on both sides and the cell bottom surface, and the phosphor surface is formed so as to extend over only three surfaces, so that the light emitting area is restricted. ing. In view of this, there has been proposed a configuration in which a horizontal rib (auxiliary partition) orthogonal to the vertical rib is provided so that four sides of the display cell portion are surrounded, and the light emitting area is increased.

【0006】このように、表示セル部を区画する縦リブ
に加えて横リブ(補助隔壁)を設ける場合、縦リブの端
は表示領域の外になるので、ここには発光面積を増やす
ための横リブは必要ない。したがって、通常は縦リブの
端に横リブを設けることはしない。しかしながら、縦リ
ブの端が突き出たままの形状であると、焼成時における
収縮により縦リブの端部に盛り上がりが生じ、そのため
パネル化すると前面板との間に空間ができ、駆動したと
きにノイズが発生する。これを防止するには、リブを形
成した後で、縦リブの端部に対する研磨が必要となる。
As described above, when the horizontal ribs (auxiliary partition walls) are provided in addition to the vertical ribs for partitioning the display cell portion, the ends of the vertical ribs are outside the display area. No side ribs are required. Therefore, normally, the horizontal rib is not provided at the end of the vertical rib. However, if the ends of the vertical ribs are in a protruding shape, the ends of the vertical ribs bulge due to shrinkage during firing, so that when a panel is formed, a space is created between the front ribs and noise is generated when the panel is driven. Occurs. To prevent this, it is necessary to polish the ends of the vertical ribs after forming the ribs.

【0007】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、輝度の向上
を図るとともに、パネル化し駆動した時に問題を生じな
い構造のPDPを提供することにある。
The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a PDP having a structure which does not cause a problem when it is driven in a panel while improving the luminance. It is in.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のPDPは、前面板に維持電極とバス電極と
からなる複合電極を備えるとともに、背面板に前記複合
電極と直交するアドレス電極とこのアドレス電極の間に
立設する縦リブとを備え、さらに背面板には、アドレス
電極とバス電極とにより特定される放電空間としてのセ
ル空間を区画するための横リブが形成され、セル空間を
区画する縦リブ及び横リブの壁面とセル底面とを覆うよ
うにして蛍光体が設けられており、縦リブの端を横リブ
で押さえた構造をしていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, a PDP of the present invention has a composite electrode comprising a sustain electrode and a bus electrode on a front panel and an address perpendicular to the composite electrode on a rear panel. It has an electrode and vertical ribs standing between the address electrodes, and further, on the back plate, horizontal ribs are formed to partition a cell space as a discharge space specified by the address electrodes and the bus electrodes, A phosphor is provided so as to cover the wall surfaces of the vertical ribs and the horizontal ribs that divide the cell space, and the cell bottom surface, and has a structure in which the ends of the vertical ribs are pressed by the horizontal ribs.

【0009】また、上記のPDPを構成する背面板は、
前面板の維持電極とバス電極とからなる複合電極と直交
するアドレス電極とこのアドレス電極の間に立設する縦
リブとを備え、アドレス電極と前面板のバス電極とによ
り特定される放電空間としてのセル空間を区画するため
の横リブが形成され、セル空間を区画する縦リブ及び横
リブの壁面とセル底面とを覆うようにして蛍光体が設け
られており、縦リブの端を横リブで押さえた構造のもの
となる。
The back plate constituting the above PDP is
An address electrode orthogonal to a composite electrode composed of a sustain electrode and a bus electrode on the front panel and a vertical rib provided between the address electrodes and a vertical rib provided between the address electrodes, as a discharge space specified by the address electrode and the bus electrode on the front panel. A horizontal rib for partitioning the cell space is formed, and a phosphor is provided so as to cover the wall surface of the vertical rib and the horizontal rib that partition the cell space and the bottom of the cell. It becomes the thing of the structure which is held down.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図2は本発明に係るPDPの背面
板に形成されるリブの形状の一例を示す斜視図であり、
図3は図2に対応したリブ頂部のパターンを示す平面図
である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of the shape of a rib formed on the back plate of the PDP according to the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a pattern of a rib top corresponding to FIG.

【0011】図2において11は背面板を構成するガラ
ス基板であり、その上に縦リブ12と横リブ13が形成
されている。なお、図ではガラス基板11に形成された
アドレス電極及び誘電体層を省略している。また、背面
板には実際は多数の縦リブ12及び横リブ13が形成さ
れるが、図2及び図3ではそのコーナーの一部のみを図
示している。
In FIG. 2, reference numeral 11 denotes a glass substrate constituting a back plate, on which vertical ribs 12 and horizontal ribs 13 are formed. In the figure, the address electrodes and the dielectric layers formed on the glass substrate 11 are omitted. Further, although a large number of vertical ribs 12 and horizontal ribs 13 are actually formed on the back plate, FIGS. 2 and 3 show only a part of the corners.

【0012】縦リブ12はアドレス電極の間に且つアド
レス電極と平行に形成される。横リブ13は前面板のバ
ス電極と背面板のアドレス電極とにより特定される放電
空間としてのセル空間14を区画するように形成されて
いる。すなわち、縦リブ12の間に補助隔壁として横リ
ブ13を直交して設けたマトリックス構造である。そし
て、本発明に係る図示の背面板では、縦リブ12の端に
も横リブ13aが形成されている。このような形状で縦
リブ12及び横リブ13が形成された後、縦リブ12及
び横リブ13の壁面とセル底面とを覆うようにして蛍光
体が設けられることで背面板が完成する。
The vertical ribs 12 are formed between the address electrodes and in parallel with the address electrodes. The horizontal ribs 13 are formed so as to define a cell space 14 as a discharge space specified by the bus electrodes on the front panel and the address electrodes on the rear panel. That is, it has a matrix structure in which horizontal ribs 13 are provided orthogonally as auxiliary partition walls between the vertical ribs 12. In the illustrated back plate according to the present invention, the horizontal ribs 13 a are also formed at the ends of the vertical ribs 12. After the vertical ribs 12 and the horizontal ribs 13 are formed in such a shape, the phosphor is provided so as to cover the wall surfaces of the vertical ribs 12 and the horizontal ribs 13 and the cell bottom surface, thereby completing the rear plate.

【0013】図2及び図3に示すように、セル空間14
は縦リブ12と横リブ13によって囲まれた状態になる
ので、セル空間14における蛍光面の発光面積は、横リ
ブ13が存在しないストライプ構造と比べて大きくな
る。したがって、放電によりセル空間14内に生じる紫
外線が四方の蛍光体に作用するため高い輝度が得られ
る。また、横リブ13はセル空間14での放電や放電に
より発生する紫外線の漏洩を少なくし、さらにセル空間
14での発光を独立して制御することができ、品質のよ
い表示画像を得ることができる。
As shown in FIG. 2 and FIG.
Is surrounded by the vertical ribs 12 and the horizontal ribs 13, so that the emission area of the phosphor screen in the cell space 14 is larger than that of the stripe structure without the horizontal ribs 13. Therefore, since the ultraviolet rays generated in the cell space 14 due to the discharge act on the phosphors on all sides, high luminance can be obtained. Further, the horizontal ribs 13 can reduce the discharge of the discharge in the cell space 14 and the leakage of the ultraviolet light generated by the discharge, and can independently control the light emission in the cell space 14, thereby obtaining a high quality display image. it can.

【0014】そして、縦リブ12の端は突出した形状で
はなく、横リブ13aで押さえた構造になっているた
め、リブ形成時における焼成収縮による盛り上がりを生
じることがない。すなわち、縦リブ12の端が突き出た
ままの形状であると、焼成工程における収縮により縦リ
ブの端に盛り上がりが生じ、パネル化時に縦リブ12の
盛り上がった端部が前面板に当たって隙間ができるが、
縦リブ12の端を横リブ13aで押さえた構造を採るこ
とにより、このような盛り上がりを無くすことができ
る。
Since the ends of the vertical ribs 12 are not protruded but are held by the horizontal ribs 13a, there is no swelling due to shrinkage during firing when the ribs are formed. In other words, if the ends of the vertical ribs 12 are in a protruding shape, the ends of the vertical ribs will bulge due to shrinkage in the firing process, and the raised ends of the vertical ribs 12 will hit the front plate when panelized, leaving a gap. ,
By adopting a structure in which the ends of the vertical ribs 12 are pressed by the horizontal ribs 13a, such swelling can be eliminated.

【0015】図4は本発明に係るPDPの背面板に形成
されるリブの形状の別の例を示す斜視図であり、図5は
図4に対応したリブ頂部のパターンを示す平面図であ
る。
FIG. 4 is a perspective view showing another example of the shape of the rib formed on the back plate of the PDP according to the present invention, and FIG. 5 is a plan view showing the pattern of the rib top corresponding to FIG. .

【0016】図4及び図5に示した背面板は、縦リブ1
2の間に補助隔壁として横リブ13を設けているが、横
リブ13が縦リブ12より低くなった段差マトリックス
構造である。そして、本発明に係る図示の背面板では、
縦リブ12の端にも横リブ13aが形成されている。こ
のタイプは、図2及び図3に示した背面板と同様に蛍光
面の発光面積がストライプ構造に比べて大きいととも
に、横リブ13の上にある空間によりパネル化時の排気
を考慮したものになっている。このタイプの背面板にお
いても、縦リブ12の端は突出した形状ではなく、横リ
ブ13aで押さえた構造になっているため、焼成収縮に
よる盛り上がりを生じることがない。
The back plate shown in FIG. 4 and FIG.
2, horizontal ribs 13 are provided as auxiliary partition walls. The horizontal ribs 13 have a step matrix structure lower than the vertical ribs 12. And in the illustrated back plate according to the present invention,
Horizontal ribs 13 a are also formed at the ends of the vertical ribs 12. This type is similar to the back plate shown in FIGS. 2 and 3 in that the light emission area of the phosphor screen is larger than that of the stripe structure, and the space above the horizontal ribs 13 takes into account the exhaust during paneling. Has become. Also in this type of back plate, the ends of the vertical ribs 12 are not protruded, but are held by the horizontal ribs 13a, so that the swelling due to firing shrinkage does not occur.

【0017】図6と図7はそれぞれは図3と図5のパタ
ーンにおいて両端の縦リブ12aを太くしたものであ
る。通常、表示領域の外側にも縦リブがダミーリブとし
て形成される。すなわち、パネル化時において周囲でガ
ラス基板が撓む時の影響を表示領域に及ぶのを少なくす
るのを目的としてダミーリブが設けられる。また、スク
リーン印刷により蛍光体ペーストの充填を行う時に、ス
クリーン版の撓みにより表示領域両端で条件が異なるの
を防ぎ、充填量が不均一とならないようにするため、余
裕を持たせる意味でも形成される。或いは、サンドブラ
スト法によりリブを形成する時、両端部では多く削られ
てリブが細くなるが、表示領域に影響のないところにダ
ミーリブを設けておけば、そのダミーリブが細くなって
も表示には関係がないという意味でもダミーリブが形成
される。したがって、図6及び図7に示す例では、ダミ
ーリブであってしかも一番外側にあるダミーリブを太く
したものである。端部の縦リブ12aが細いと、焼成収
縮によりうねりを生じ、検査工程で欠陥として認識して
しまう恐れがあるが、図6や図7のように、端部の縦リ
ブ12aを太くすることで、焼成時のうねりがなくな
る。
FIGS. 6 and 7 show the patterns of FIGS. 3 and 5, respectively, in which the longitudinal ribs 12a at both ends are thickened. Normally, vertical ribs are also formed outside the display area as dummy ribs. That is, the dummy ribs are provided for the purpose of reducing the influence of the bending of the glass substrate around the display area when the panel is formed. Also, when filling the phosphor paste by screen printing, it is also formed to have a margin in order to prevent the condition from being different at both ends of the display area due to the bending of the screen plate and to make the filling amount non-uniform. You. Alternatively, when ribs are formed by the sandblasting method, the ribs are sharply cut at both ends and the ribs become thinner. However, if a dummy rib is provided in a place that does not affect the display area, even if the dummy rib becomes thinner, it is not related to display. Dummy ribs are also formed in the sense that there is no gap. Therefore, in the examples shown in FIGS. 6 and 7, the outermost dummy ribs which are dummy ribs are made thicker. If the vertical ribs 12a at the ends are thin, undulations may occur due to shrinkage during firing, which may be recognized as defects in the inspection process. However, as shown in FIGS. 6 and 7, the vertical ribs 12a at the ends must be thickened. As a result, undulation during firing is eliminated.

【0018】リブの形成方法としては、サンドブラスト
法、型転写法、感光性ペースト法等が挙げられる。
Examples of the method for forming the rib include a sand blast method, a mold transfer method, and a photosensitive paste method.

【0019】サンドブラスト法でリブを形成するには、
まず、リブペーストを基板上に塗布して乾燥させること
でリブ材料層を形成する。次に、そのリブ材料層の上に
耐サンドブラスト性の有る感光性樹脂組成物層を設け、
フォトリソグラフィー法でセル画定用のブラストマスク
にパターニングする。次いで、そのブラストマスクの上
方の噴射ノズルから研削材を含む混合エアーを噴射する
ことによりリブ材料層の不要部分を除去するサンドブラ
スト加工を行った後、ブラストマスクを剥離してから焼
成する手順が採られる。なお、ブラストマスクは、スク
リーン印刷、ディスペンス法、電界ジェット法、オフセ
ット印刷などの手段により印刷形成する場合もある。ま
た、リブペーストを予めフィルムにコーティングした
後、基板にラミネートし同様にサンドブラスト加工を行
う方法もある。
In order to form ribs by the sand blast method,
First, a rib material layer is formed by applying and drying a rib paste on a substrate. Next, a photosensitive resin composition layer having sandblast resistance is provided on the rib material layer,
It is patterned into a blast mask for defining cells by photolithography. Then, after performing a sand blast process for removing unnecessary portions of the rib material layer by spraying mixed air containing abrasives from a spray nozzle above the blast mask, the blast mask is peeled off and then fired. Can be The blast mask may be formed by printing such as screen printing, a dispensing method, an electric field jet method, and offset printing. Alternatively, there is a method in which a rib paste is coated on a film in advance, then laminated on a substrate, and similarly subjected to sandblasting.

【0020】型転写法では、目的とするリブパターンに
対応する凹部を形成した雌型を使用する。そして、その
雌型の凹部にリブペーストを充填した後、リブペースト
を挟むようにして雌型に基板を密着させ、その状態でリ
ブペーストを硬化させる。次いで、硬化したリブペース
トを基板の表面に残すようにして雌型を基板から剥離す
る。続いて、リブペーストがパターン状に転写された基
板を焼成することでリブを形成する。
In the mold transfer method, a female mold having a concave portion corresponding to a target rib pattern is used. Then, after filling the rib paste into the concave portion of the female mold, the substrate is brought into close contact with the female mold so as to sandwich the rib paste, and the rib paste is cured in that state. Next, the female mold is peeled from the substrate such that the cured rib paste is left on the surface of the substrate. Subsequently, ribs are formed by baking the substrate to which the rib paste has been transferred in a pattern.

【0021】リブペーストを構成するガラスフリットと
しては、その軟化点が400〜600℃であり、熱膨張
係数(α300 )が60〜95×10-7/℃のものを使用
する。軟化点が600℃を越えるガラスフリットを使用
すると焼成温度を高くする必要があり、その積層対象に
よっては熱変形したりするので好ましくなく、また軟化
点が400℃より低いガラスフリットを使用すると樹脂
等が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中
に空隙等の発生が生じるので好ましくない。また、熱膨
張係数が上記の範囲外であると、ガラス基板の熱膨張係
数との差が大きく、歪等を生じるので好ましくない。ガ
ラス転移温度は350〜500℃のものを使用する。
As the glass frit constituting the rib paste, one having a softening point of 400 to 600 ° C. and a coefficient of thermal expansion (α 300 ) of 60 to 95 × 10 −7 / ° C. is used. If a glass frit having a softening point exceeding 600 ° C. is used, it is necessary to raise the sintering temperature, and it is not preferable because a glass frit having a softening point lower than 400 ° C. Glass frit is fused before it is decomposed and volatilized, and voids and the like are generated in the layer, which is not preferable. On the other hand, if the coefficient of thermal expansion is out of the above range, the difference from the coefficient of thermal expansion of the glass substrate is large, and distortion or the like occurs, which is not preferable. A glass transition temperature of 350 to 500 ° C is used.

【0022】リブペーストのガラスフリットの具体的な
ものとしては、PbO−SiO2 −B2 3 系、Bi2
3 −SiO2 −B2 3 系、ZnO−B2 3 −Si
2−アルカリ金属酸化物系、Bi2 3 −ZnO−B
2 3 系が挙げられる。これらのガラスフリットで、平
均粒径が0.1〜10μm、好ましくは0.5〜5μm
のものが使用される。
Specific examples of the glass frit of the rib paste include PbO—SiO 2 —B 2 O 3 and Bi 2
O 3 -SiO 2 -B 2 O 3 system, ZnO-B 2 O 3 -Si
O 2 -alkali metal oxide, Bi 2 O 3 -ZnO-B
A 2 O 3 system is exemplified. With these glass frits, the average particle size is 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm
Is used.

【0023】また、リブペーストには、無機成分とし
て、上記のガラスフリットの他に無機フィラーを加え
る。さらに無機顔料を加えてもよい。
In addition, an inorganic filler is added to the rib paste as an inorganic component in addition to the above-mentioned glass frit. Further, an inorganic pigment may be added.

【0024】無機フィラーは、焼成に際しての流延防
止、緻密性向上を目的とするもので、ガラスフリットよ
り軟化点が高いものであり、本発明では、例えば、チタ
ニア、アルミナ、ジルコニア、シリカ、酸化スズ、IT
O、ZnO、RuO等が挙げられ、またアンチモンドー
プ酸化スズなどの不純物をドープした上記酸化物が用い
られる。これらのうち平均粒径が0.01〜5μmで、
形状としては球状、不定形、塊状、針状、棒状のものが
使用される。無機フィラーの使用割合は、ガラスフリッ
ト100重量部に対して無機フィラー5〜50重量部と
するとよい。
The inorganic filler is intended to prevent casting during firing and to improve compactness, and has a higher softening point than glass frit. In the present invention, for example, titania, alumina, zirconia, silica, Tin, IT
O, ZnO, RuO and the like can be mentioned, and the above oxide doped with impurities such as antimony-doped tin oxide can be used. Among these, the average particle size is 0.01 to 5 μm,
Spherical, amorphous, massive, needle-like and rod-like shapes are used. The use ratio of the inorganic filler is preferably 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the glass frit.

【0025】無機顔料は、外光反射を低減し、実用上の
コントラストを向上させるために必要に応じて添加され
るものであり、暗色にする場合には、耐火性の黒色顔料
として、Co−Cr−Fe、Co−Mn−Fe、Co−
Fe−Mn−Al、Co−Ni−Cr−Fe、Co−N
i−Mn−Cr−Fe、Co−Ni−Al−Cr−F
e、Co−Mn−Al−Cr−Fe−Si等が挙げられ
る。また、耐火性の白色顔料としては、酸化チタン、酸
化アルミニウム、シリカ、炭酸カルシウム等が挙げられ
る。使用する無機顔料の平均粒径は0.01〜5μmが
好ましい。
The inorganic pigment is added as necessary to reduce the reflection of external light and improve the practical contrast. When the color is dark, a fire-resistant black pigment such as Co- Cr-Fe, Co-Mn-Fe, Co-
Fe-Mn-Al, Co-Ni-Cr-Fe, Co-N
i-Mn-Cr-Fe, Co-Ni-Al-Cr-F
e, Co-Mn-Al-Cr-Fe-Si and the like. Examples of the fire-resistant white pigment include titanium oxide, aluminum oxide, silica, and calcium carbonate. The average particle size of the inorganic pigment used is preferably 0.01 to 5 μm.

【0026】焼成により除去される樹脂成分としては、
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導
体、ポリアクリルエステル、アルキッド樹脂等のポリエ
ステル系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、
メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリ
レート、プロピルアクリレート、n−ブチルメタクリレ
ート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレート、2−ヘキシルアクリレート、ラウリル
メタクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルメ
タクリレート、ステアリルアクリレート、ドデシルメタ
クリレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタクリ
レート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリレー
ト、オクチルアクリレート、セチルメタクリレート、セ
チルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニルアク
リレート、デシルメタクリレート、デシルアクリレー
ト、シクロシキシルメタクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、2−メトキシアクリレート、
2(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンアクリ
ルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、イソプロピル
アクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、t−ブチルメタクリレート、N,N−ジメチルアク
リルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニルト
ルエン、N−ビニル−2−ピロリドン等のモノマーから
なるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された2
種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アクリ
ル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹脂、
ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が例示
される。
As the resin component removed by firing,
Ethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, cellulose derivatives such as nitrocellulose, polyacrylic esters, polyester resins such as alkyd resins, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, vinyl acetic acid,
Methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, propyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hexyl acrylate, lauryl methacrylate, lauryl acrylate, stearyl methacrylate, stearyl acrylate, dodecyl methacrylate , Dodecyl acrylate, hexyl methacrylate, hexyl acrylate, octyl methacrylate, octyl acrylate, cetyl methacrylate, cetyl acrylate, nonyl methacrylate, nonyl acrylate, decyl methacrylate, decyl acrylate, cyclosixyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, glycylic Methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, 2-methoxy acrylate,
2 (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, 2-
Hydroxyethyl methacrylate, diacetone acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-diethylacrylamide, isopropylacrylamide, diethylaminoethyl methacrylate, t-butyl methacrylate, N, N-dimethylacrylamide, α-methylstyrene, styrene, Homopolymers composed of monomers such as vinyltoluene and N-vinyl-2-pyrrolidone and 2 selected from the above monomers
Copolymers composed of at least one kind of monomer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, polyolefin resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer,
Examples include polyvinyl formal and polyvinyl butyral.

【0027】溶剤としては、α−、β−、γ−テルピネ
オールのようなテルペン類、エチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエー
テル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチ
レングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エ
チレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジ
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテー
ト類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、
プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロ
ピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、2−エチル
ヘキサノール、1−ブトキシ−2−プロパノール等のア
ルコール類等が例示され、これらを単独または2種類以
上を混合して使用してもよい。
Examples of the solvent include terpenes such as α-, β- and γ-terpineol, ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol dialkyl ethers, and ethylene glycol monoalkyl. Ether acetates, ethylene glycol dialkyl ether acetates, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol dialkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers,
Examples include propylene glycol dialkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol dialkyl ether acetates, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, 2-ethylhexanol, 1-butoxy-2-propanol, and the like. You may use individually or in mixture of 2 or more types.

【0028】さらに、可塑剤、沈降防止剤、分散剤、消
泡剤、染料、シランカップリング剤、モノマー開始剤、
増感剤、紫外線吸収剤等を必要に応じて適宜使用するこ
とができる。
Further, a plasticizer, an antisettling agent, a dispersant, an antifoaming agent, a dye, a silane coupling agent, a monomer initiator,
A sensitizer, an ultraviolet absorber and the like can be used as needed.

【0029】感光性ペースト法は、基板上に感光性リブ
ペーストを塗布し、乾燥させることでリブ材料層を形成
した後、リブ形状に対応したフォトマスクを介しての露
光とそれに続く現像によりリブ材料層をパターニング
し、それに続いて焼成する方法である。この方法で使用
される感光性リブペーストは、少なくともガラスフリッ
トを有する無機成分と、感光性化合物を含む有機成分と
からなる。このうち無機成分は上記したのと同様のガラ
スフリットが用いられる。
In the photosensitive paste method, a photosensitive rib paste is applied to a substrate, and a rib material layer is formed by drying. A rib material layer is formed by exposure through a photomask corresponding to the rib shape and subsequent development. This is a method in which a material layer is patterned and then fired. The photosensitive rib paste used in this method comprises at least an inorganic component having a glass frit and an organic component containing a photosensitive compound. Among these, the same glass frit as described above is used as the inorganic component.

【0030】感光性リブペーストの他方の成分である感
光性有機成分は、感光性リブペーストの15〜35重量
%を占めることが望ましい。感光性有機成分は具体的に
は、a)感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポ
リマーのうちの少なくとも1種から選ばれた感光性成
分、b)その他として、バインダー、光重合開始剤、増
感剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸
化防止剤、分散剤、c)その他必要に応じた添加剤等、
からなる。
The photosensitive organic component, which is the other component of the photosensitive rib paste, preferably accounts for 15 to 35% by weight of the photosensitive rib paste. Specifically, the photosensitive organic component is a) a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer; b) a binder, a photopolymerization initiator, Sensitizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, plasticizers, thickeners, antioxidants, dispersants, c) other optional additives,
Consists of

【0031】感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭
素二重結合を有する化合物が挙げられるが、官能基とし
てビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレー
ト基、アクリルアミド基を有する単官能及び多官能化合
物が好ましく挙げられる。
Examples of the photosensitive monomer include compounds having an active carbon-carbon double bond, and monofunctional and polyfunctional compounds having a vinyl group, an allyl group, an acrylate group, a methacrylate group, or an acrylamide group as a functional group. Are preferred.

【0032】また、感光性有機成分として、光反応で形
成される硬化物の物性の向上やペーストの粘度の調整な
どの役割を果たすとともに、未露光部の現像性をコント
ロールする機能を果たす成分として、オリゴマーもしく
はポリマーが含まれることが多い。
As a photosensitive organic component, it serves as a component for improving the physical properties of a cured product formed by photoreaction, adjusting the viscosity of the paste, and controlling the developability of an unexposed portion. , Oligomers or polymers.

【0033】感光性リブペースト中にバインダー成分が
必要な場合には、バインダーとしてポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、それらの共重合体など
を用いることができる。
When a binder component is required in the photosensitive rib paste, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, a methacrylate polymer, an acrylate polymer, a copolymer thereof, or the like can be used as the binder.

【0034】また、光重合開始剤を用いる場合、感光性
リブペーストによるパターン形成は、露光された部分の
感光性成分(モノマー、オリゴマー、ポリマー)を重合
および架橋させて現像液に不溶性にすることであり、好
ましく用いられる感光性を示す官能基はラジカル重合性
であるため、ラジカル種を発生するものから選択するこ
とが好ましい。
When a photopolymerization initiator is used, the pattern formation using the photosensitive rib paste is performed by polymerizing and cross-linking the photosensitive components (monomer, oligomer, polymer) in the exposed portions to make them insoluble in a developer. Since the photosensitive functional group preferably used is radically polymerizable, it is preferable to select from those which generate radical species.

【0035】また、光重合開始剤と共に感剤を使用し、
感度を向上させたり(化学増感)、反応に有効な波長範
囲を拡大する(分光増感)こともできる。増感剤の作用
機構も種々のものがあるが、三重合増感剤と称されるも
のが最もよく使われる。
Further, a sensitizer is used together with a photopolymerization initiator,
It is also possible to improve the sensitivity (chemical sensitization) or expand the wavelength range effective for the reaction (spectral sensitization). There are various mechanisms of action of the sensitizer, but a so-called tripolymer sensitizer is most often used.

【0036】さらに、感光性リブペーストには、紫外線
吸収剤が含まれることが優れた形状のパターン加工のた
めに有効である。紫外光の吸収効果の高い化合物を添加
することによって、特に高アスペクト比、高精細、高解
像度が得られる。紫外線吸収剤としては有機系染料から
なるもの、中でも350〜450nmの波長範囲で高い
吸光係数を有するものが好ましく用いられる。
Further, the photosensitive rib paste contains an ultraviolet absorber, which is effective for processing a pattern having an excellent shape. By adding a compound having a high ultraviolet light absorbing effect, a particularly high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained. As the ultraviolet absorber, those composed of organic dyes, among them, those having a high absorption coefficient in the wavelength range of 350 to 450 nm are preferably used.

【0037】また、感光性リブペーストには、必要に応
じて、保存時の熱安定性を向上させるための重合禁止
剤、アクリル系共重合体の酸化を防ぐための酸化防止
剤、その他可塑剤などを含んでもよい。
The photosensitive rib paste may further contain, as necessary, a polymerization inhibitor for improving thermal stability during storage, an antioxidant for preventing oxidation of the acrylic copolymer, and other plasticizers. And the like.

【0038】[0038]

【実施例】以下、サンドブラスト法でリブを形成する一
連の工程を例に挙げて本発明の実施例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to a series of steps for forming ribs by a sandblast method.

【0039】(実施例1)ここでは、図2に示したマト
リックス構造のリブを持つ背面板を作製し、またそれを
用いてパネル化を行った。
Example 1 Here, a back plate having a matrix-structured rib shown in FIG. 2 was prepared, and a panel was formed using the back plate.

【0040】まず、平面的な大きさが1000×600
mmで厚さが2.8mmであるガラス基板を用意し、そ
の片側の表面に線幅100μm、ピッチ0.27mmの
平行なストライプ状をなす多数のアドレス電極をスクリ
ーン印刷で形成した。次いで、その電極を覆うようにし
て厚さ7μmの誘電体層を全面ベタで形成した。
First, the plane size is 1000 × 600.
A glass substrate having a thickness of 2.8 mm and a thickness of 2.8 mm was prepared, and a large number of parallel stripe-shaped address electrodes having a line width of 100 μm and a pitch of 0.27 mm were formed on one surface thereof by screen printing. Next, a 7 μm-thick dielectric layer was formed over the entire surface so as to cover the electrode.

【0041】この誘電体層の上に、下記組成のリブペー
ストAをダイコーターで一括コーティングし、180℃
で30分間乾燥し、膜厚170μmのリブ材料層を形成
した。なお、この実施例1で用いたガラスフリットは、
PbO/SiO2 /B2 3(無アルカリ)を主成分と
するもので、平均粒径:1.3μm、ガラス転移点:4
50℃、軟化点:560℃、熱膨張係数:75×10-7
/℃であり、リブペーストは下記の各成分を3本ロール
で混練することで作製した。
On this dielectric layer, a rib paste A having the following composition was coated at once by a die coater,
For 30 minutes to form a 170 μm-thick rib material layer. The glass frit used in Example 1 was
PbO / SiO 2 / B 2 O 3 (alkali-free) as a main component, average particle size: 1.3 μm, glass transition point: 4
50 ° C., softening point: 560 ° C., coefficient of thermal expansion: 75 × 10 −7
/ ° C, and the rib paste was prepared by kneading the following components with three rolls.

【0042】 <リブペーストAの組成> ・ガラスフリット 60重量部 ・チタニア 12重量部 ・アルミナ(岩谷化学工業(株)製「RA−40」) 8重量部 ・樹脂(ダウ・ケミカル社製「エトセルSTD−100 FP」) 2重量部 ・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 9重量部 ・テルピネオール(溶剤) 9重量部<Composition of rib paste A> ・ 60 parts by weight of glass frit ・ 12 parts by weight of titania ・ 8 parts by weight of alumina (“RA-40” manufactured by Iwatani Chemical Industry Co., Ltd.) ・ Resin (“Ethocel” manufactured by Dow Chemical Company) STD-100 FP ") 2 parts by weight ・ Diethylene glycol monobutyl ether acetate 9 parts by weight ・ Terpineol (solvent) 9 parts by weight

【0043】次いで、基板を80℃に加熱し、リブ材料
層の全表面にドライフィルム(東京応化工業(株)製
「OSBRフィルムBF−605」)をラミネートし
た。そして、露光及びそれに続く現像を行い、リブ材料
層上にサンドブラストマスクとしてパターン状のレジス
ト層を形成した。露光には高圧水銀灯を光源とする平行
光露光機を使用し、80mJ/cm2 の条件で照射し
た。また、現像には、炭酸ナトリウム0.2%水溶液を
使用し、液温35℃でスプレー現像を行った。本実施例
のサンドブラストマスクは図3に示すリブに対応するパ
ターンにした。
Next, the substrate was heated to 80 ° C., and a dry film (“OSBR film BF-605” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was laminated on the entire surface of the rib material layer. Exposure and subsequent development were performed to form a patterned resist layer as a sandblast mask on the rib material layer. For exposure, a parallel light exposure machine using a high-pressure mercury lamp as a light source was used, and irradiation was performed under the conditions of 80 mJ / cm 2 . For development, a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate was used, and spray development was performed at a liquid temperature of 35 ° C. The sandblast mask of the present example had a pattern corresponding to the rib shown in FIG.

【0044】次に、サンドブラスト加工を行うため、基
板を多数の搬送ローラ上を移動させてブラスト加工室内
に搬入した。そして、基板、すなわちガラス基板の表面
にリブ材料層とサンドブラストマスクを形成した被加工
物におけるリブ材料層とサンドブラストマスクの側に向
けて噴射ノズルから研削材を噴射した。本実施例では、
研削材として平均粒径11.5μmの溶融アルミナ(フ
ジミインコーポレーテッド製「WA#1000」)を使
用した。
Next, in order to perform sand blasting, the substrate was moved on a number of transport rollers and was carried into the blasting chamber. Then, the abrasive was sprayed from the spray nozzle toward the rib material layer and the sandblast mask side of the workpiece in which the rib material layer and the sandblast mask were formed on the surface of the substrate, that is, the glass substrate. In this embodiment,
Fused alumina having an average particle size of 11.5 μm (“WA # 1000” manufactured by Fujimi Incorporated) was used as the abrasive.

【0045】ブラスト加工室では、基板の搬送方向に直
交する方向に往復移動するタイプの噴射ノズルを8本設
けている。各噴射ノズルとしては、150mm×0.5
mmのスリットからほぼ垂直に研削材を噴射するスリッ
トノズルを採用してある。このスリットノズルはそれ自
体が従来の丸ノズル(10mmφ)よりも広い噴射分布
を持っているが、さらに加工均一性を向上させるため
に、噴射ノズルの駆動速度を速くしている。このブラス
ト加工室内では、上記ガラス基板におけるサンドブラス
トマスクとリブ形成層の側に研削材が圧空と共に噴射さ
れ、サンドブラストマスクの真下以外の部分のリブ材料
層が研削除去された。
In the blasting chamber, eight spray nozzles of a type which reciprocate in a direction perpendicular to the direction of transport of the substrate are provided. For each injection nozzle, 150mm x 0.5
A slit nozzle for injecting the abrasive almost vertically from the slit of mm is adopted. The slit nozzle itself has a wider spray distribution than the conventional round nozzle (10 mmφ), but the driving speed of the spray nozzle is increased to further improve the processing uniformity. In the blasting chamber, an abrasive was sprayed together with the compressed air on the side of the glass substrate on the side of the sand blast mask and the rib forming layer, and the rib material layer other than immediately below the sand blast mask was ground and removed.

【0046】次に、水酸化ナトリウム0.7%水溶液を
用い、液温30℃にてサンドブラストマスクを剥離し、
乾燥させた後、ピーク温度570℃、保持時間10分
間、全焼成時間2時間で焼成を行った。
Next, using a 0.7% aqueous solution of sodium hydroxide, the sandblast mask was peeled off at a liquid temperature of 30 ° C.
After drying, firing was performed at a peak temperature of 570 ° C., a holding time of 10 minutes, and a total firing time of 2 hours.

【0047】このようにしてマトリックス構造のリブが
形成された。縦リブは、頂部幅が50μm、底部幅が9
0μm、高さが120μmであり、横リブは、頂部幅が
400μm、底部幅が500μm、高さは同じ120μ
mであった。このパターンでリブを形成したところ、縦
リブの端が横リブで押さえられているので、縦リブの端
に目立った盛り上がりは生じていなかった。
Thus, the ribs having the matrix structure were formed. The vertical rib has a top width of 50 μm and a bottom width of 9 μm.
0 μm, height 120 μm, horizontal ribs, top width 400 μm, bottom width 500 μm, same height 120 μm
m. When ribs were formed with this pattern, no noticeable bulge occurred at the ends of the vertical ribs because the ends of the vertical ribs were pressed by the horizontal ribs.

【0048】このリブまでを形成した後、スクリーン印
刷機によりセル空間への蛍光体ペーストの充填を行っ
た。具体的には、緑色の発光色の蛍光体を含むペースト
(蛍光体:化成オプトニクス社製「P1−G1S」35
wt%、樹脂固形分6.8wt%、溶剤58.2wt
%)を所定のセル空間に充填し、120℃で30分間乾
燥させた。同様に青色の発光色の蛍光体を含むペースト
(蛍光体:化成オプトニクス社製「KX−501A」2
7wt%、樹脂固形分7.8wt%、溶剤65.2wt
%)、赤色の発光色の蛍光体を含むペースト(蛍光体:
化成オプトニクス社製「KX−504A」35wt%、
樹脂固形分4.1wt%、溶剤57.9wt%)を、そ
れぞれ所定のリブ空間に充填し、同様に乾燥させた。こ
のようにして蛍光体ペーストの充填工程を行った後、最
後に焼成工程を経てセル空間に蛍光面を形成した。
After the ribs were formed, the cell space was filled with the phosphor paste using a screen printer. Specifically, a paste containing a phosphor of green emission color (phosphor: “P1-G1S” 35 manufactured by Kasei Optonics, Inc.)
wt%, resin solid content 6.8wt%, solvent 58.2wt
%) Into a predetermined cell space and dried at 120 ° C. for 30 minutes. Similarly, a paste containing a phosphor of blue emission color (phosphor: “KX-501A” 2 manufactured by Kasei Optonics, Inc.)
7wt%, resin solid content 7.8wt%, solvent 65.2wt
%), A paste containing a phosphor of red emission color (phosphor:
35% by weight of “KX-504A” manufactured by Kasei Optonics,
Resin solids content 4.1 wt%, solvent 57.9 wt%) were each filled in predetermined rib spaces and dried similarly. After the phosphor paste filling step was performed in this manner, a firing step was finally performed to form a phosphor screen in the cell space.

【0049】上記の如くセル空間に蛍光面を形成した背
面板に対し、別途作製した前面板を貼り合わせることに
より、RGBの3原色が視認される面放電型のAC型カ
ラーPDPを作製した。このパネル化時において背面板
のリブと前面板との間に隙間は生じなかった。そして、
このようにして作製したPDPを駆動させたところ、輝
度の向上が見られ、ノイズの発生もなかった。
A surface discharge type AC color PDP in which three primary colors of RGB can be visually recognized was prepared by attaching a separately prepared front plate to the back plate having the fluorescent screen formed in the cell space as described above. When this panel was formed, no gap was formed between the ribs on the back plate and the front plate. And
When the PDP thus manufactured was driven, the brightness was improved and no noise was generated.

【0050】(実施例2)ここでは、図4に示した段差
マトリックス構造のリブを持つ背面板を作製し、またそ
れを用いてパネル化を行った。
Example 2 In this example, a back plate having ribs having a step matrix structure shown in FIG. 4 was prepared, and a panel was formed using the back plate.

【0051】まず、平面的な大きさが1000×600
mmで厚さが2.8mmであるガラス基板を用意し、そ
の片側の表面に線幅100μm、ピッチ0.27mmの
平行なストライプ状をなす多数のアドレス電極をスクリ
ーン印刷で形成した。次いで、その電極を覆うようにし
て厚さ7μmの誘電体層を全面ベタで形成した。
First, the plane size is 1000 × 600.
A glass substrate having a thickness of 2.8 mm and a thickness of 2.8 mm was prepared, and a large number of parallel stripe-shaped address electrodes having a line width of 100 μm and a pitch of 0.27 mm were formed on one surface thereof by screen printing. Next, a 7 μm-thick dielectric layer was formed over the entire surface so as to cover the electrode.

【0052】この誘電体層の上に、下記組成のリブペー
ストBをダイコーターで一括コーティングし、180℃
で30分間乾燥し、膜厚170μmのリブ材料層を形成
した。なお、この実施例2で用いたガラスフリットは、
ZnO、B O 、SiO、アルカリ土類金属酸化物、
アルカリ金属酸化物を含むもので、ガラス転移点:46
0℃、軟化点:556℃、熱膨張係数80×10-7/℃
であり、リブペーストは下記の各成分を3本ロールで混
練することで作製した。
On this dielectric layer, a rib paste B having the following composition was coated at once by a die coater,
For 30 minutes to form a 170 μm-thick rib material layer. The glass frit used in Example 2 was
ZnO, B 2 O 3, SiO, alkaline earth metal oxide,
It contains an alkali metal oxide and has a glass transition point of 46.
0 ° C., softening point: 556 ° C., coefficient of thermal expansion 80 × 10 −7 / ° C.
The rib paste was prepared by kneading the following components with three rolls.

【0053】 <リブペーストBの組成> ・ガラスフリット 100重量部 ・アルミナ(大明化学工業製「タイミクロンTM−DAR」)15重量部 ・エチルセルロース 3重量部 ・ターピネオール 15重量部 ・ブチルカルビトールアセテート 15重量部<Composition of the rib paste B> 100 parts by weight of glass frit 15 parts by weight of alumina ("Taimicron TM-DAR" manufactured by Daimei Chemical Co., Ltd.) 3 parts by weight of ethyl cellulose 15 parts by weight of terpineol 15 parts by weight of butyl carbitol acetate 15 Parts by weight

【0054】次に、下記組成のブラストマスク材を、ス
クリーン印刷によりリブ材料層の上にパターニングし、
リブ材料層の上部に浸透させた。使用したスクリーン印
刷版は、SUSの400メッシュで、開口幅470μ
m、ピッチ1.08mmの横方向のストライプ状のもの
である。
Next, a blast mask material having the following composition is patterned on the rib material layer by screen printing.
It penetrated into the upper part of the rib material layer. The screen printing plate used is 400 mesh of SUS and the opening width is 470 μm.
m, a horizontal stripe with a pitch of 1.08 mm.

【0055】 <ブラストマスク材の組成> ・ポリブテン30N 75重量部 ・可塑剤(ジオクチルフタレート/ジオクチルアジペート) 3重量部 ・シリカ 1重量部 ・消泡剤(ジメチルシリコンオイル) 0.5重量部 ・ガラスフリット(A) 15重量部 ・アルミナ(大明化学工業製「タイミクロンTM−DAR」) 5重量部<Composition of blast mask material>-75 parts by weight of polybutene 30N-3 parts by weight of plasticizer (dioctyl phthalate / dioctyl adipate)-1 part by weight of silica-0.5 parts by weight of defoamer (dimethyl silicone oil)-glass 15 parts by weight of frit (A) ・ 5 parts by weight of alumina (“Taimicron TM-DAR” manufactured by Daimei Chemical Co., Ltd.)

【0056】次いで、基板を80℃に加熱し、リブ材料
層の上にドライフィルム(東京応化工業製「オーディル
BF703」)をラミネートした。そして、露光及びそ
れに続く現像を行い、リブ材料層上にサンドブラストマ
スクとしてパターン状のレジスト層を形成した。露光に
は高圧水銀灯を光源とする平行光プリンターを使用し、
線幅80μm、ピッチ0.36mmの縦方向のストライ
プパターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、
365μmで測定した時に強度200μW/cm2 、照
射量80mJ/cm2 であった。また、現像には、炭酸
ナトリウム0.2%水溶液を使用し、液温35℃でスプ
レー現像を行った。
Next, the substrate was heated to 80 ° C., and a dry film (“Audil BF703” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was laminated on the rib material layer. Exposure and subsequent development were performed to form a patterned resist layer as a sandblast mask on the rib material layer. For exposure, use a parallel light printer that uses a high-pressure mercury lamp as a light source.
Exposure was performed via a vertical stripe pattern mask having a line width of 80 μm and a pitch of 0.36 mm. Exposure conditions are
When measured at 365 μm, the intensity was 200 μW / cm 2 and the irradiation amount was 80 mJ / cm 2 . For development, a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate was used, and spray development was performed at a liquid temperature of 35 ° C.

【0057】続いて、サンドブラスト加工を行うため、
基板を多数のローラ上を移動させてブラスト加工室内に
搬入した。そして、基板におけるサンドブラストマスク
側に向けて噴射ノズルから研削材を噴射した。本実施例
では、溶融アルミナ(フジミインコーポレーテッド製
「溶融アルミナA−#800」)を研削材として、噴射
圧1kg/cm2 でサンドブラスト加工を行った。
Subsequently, in order to perform sandblasting,
The substrate was moved over a number of rollers and carried into the blasting chamber. Then, the abrasive was sprayed from the spray nozzle toward the sandblast mask side of the substrate. In this example, sandblasting was performed at an injection pressure of 1 kg / cm 2 using fused alumina (“Fused Alumina A- # 800” manufactured by Fujimi Incorporated) as an abrasive.

【0058】サンドブラスト加工後、水酸化ナトリウム
0.7%水溶液を用い、液温35℃にてサンドブラスト
マスクを剥離し、乾燥させた後、ピーク温度575℃、
保持時間10分、全焼成時間2時間で焼成を行った。
After sand blasting, the sand blast mask was peeled off at a liquid temperature of 35 ° C. using a 0.7% aqueous solution of sodium hydroxide, dried, and then subjected to a peak temperature of 575 ° C.
The firing was performed for a holding time of 10 minutes and a total firing time of 2 hours.

【0059】このようにして段差マトリックス構造のリ
ブが形成された。縦リブは、頂部幅が50μm、底部幅
が90μm、高さが120μmであり、横リブは、頂部
幅が400μm、底部幅が500μm、高さが90μm
であった。このパターンでリブを形成した場合も、縦リ
ブの端が横リブで押さえられているので、縦リブの端に
目立った盛り上がりは生じていなかった。
Thus, a rib having a step matrix structure was formed. The vertical rib has a top width of 50 μm, a bottom width of 90 μm, and a height of 120 μm, and the horizontal rib has a top width of 400 μm, a bottom width of 500 μm, and a height of 90 μm.
Met. Even when the ribs were formed in this pattern, no noticeable bulge occurred at the ends of the vertical ribs because the ends of the vertical ribs were pressed by the horizontal ribs.

【0060】このリブまでを形成した後、実施例1と同
様に、スクリーン印刷機によりセル空間への蛍光体ペー
ストの充填工程を行った後、最後に焼成工程を経てセル
空間に蛍光面を形成した。
After the ribs have been formed, the phosphor paste is filled in the cell space by a screen printer in the same manner as in the first embodiment, and finally a phosphor screen is formed in the cell space through a firing process. did.

【0061】上記の如くセル空間に蛍光面を形成した背
面板に対し、別途作製した前面板を貼り合わせることに
より、RGBの3原色が視認される面放電型のAC型カ
ラーPDPを作製した。このパネル化時において背面板
のリブと前面板との間に隙間は生じなかった。そして、
このようにして作製したPDPを駆動させたところ、輝
度の向上が見られ、ノイズの発生もなかった。
A surface discharge type AC color PDP in which three primary colors of RGB can be visually recognized was prepared by attaching a separately prepared front plate to the back plate having the phosphor screen formed in the cell space as described above. When this panel was formed, no gap was formed between the ribs on the back plate and the front plate. And
When the PDP thus manufactured was driven, the brightness was improved and no noise was generated.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のPDP
は、前面板に維持電極とバス電極とからなる複合電極を
備えるとともに、背面板に前記複合電極と直交するアド
レス電極とこのアドレス電極の間に立設する縦リブとを
備え、さらに背面板には、アドレス電極とバス電極とに
より特定される放電空間としてのセル空間を区画するた
めの横リブが形成され、セル空間を区画する縦リブ及び
横リブの壁面とセル底面とを覆うようにして蛍光体が設
けられており、縦リブの端を横リブで押さえた構造にし
たことを特徴としているので、蛍光面の発光面積は、横
リブが存在しない場合と比べて大きくなることから、高
い輝度が得られ、しかも、駆動時にノイズ発生の原因と
なる縦リブ端部の盛り上がりのないものとなる。
As described above, the PDP of the present invention
Has a composite electrode composed of a sustain electrode and a bus electrode on the front panel, and has an address electrode orthogonal to the composite electrode on the rear panel and a vertical rib erected between the address electrodes, and further has a rear panel. A horizontal rib for defining a cell space as a discharge space specified by the address electrode and the bus electrode is formed, and covers a wall surface of a vertical rib and a horizontal rib for partitioning the cell space and a cell bottom surface. Since the phosphor is provided and the structure is such that the ends of the vertical ribs are held down by the horizontal ribs, the light emitting area of the phosphor screen is large as compared with the case where the horizontal ribs are not present. Luminance is obtained, and there is no swelling at the ends of the vertical ribs, which causes noise during driving.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a plasma display panel in which a front plate and a back plate are separated from each other.

【図2】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの背
面板に形成されるリブの形状の一例を示す斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of a shape of a rib formed on a back plate of the plasma display panel according to the present invention.

【図3】図2に対応したリブ頂部のパターンを示す平面
図である。
FIG. 3 is a plan view showing a pattern of a rib top corresponding to FIG. 2;

【図4】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの背
面板に形成されるリブの形状の別の例を示す斜視図であ
る。
FIG. 4 is a perspective view showing another example of the shape of the rib formed on the back plate of the plasma display panel according to the present invention.

【図5】図4に対応したリブ頂部のパターンを示す平面
図である。
FIG. 5 is a plan view showing a pattern of a rib top corresponding to FIG. 4;

【図6】図3に示すパターンの変形パターンを示す平面
図である。
FIG. 6 is a plan view showing a modified pattern of the pattern shown in FIG.

【図7】図5に示すパターンの変形パターンを示す平面
図である。
FIG. 7 is a plan view showing a modified pattern of the pattern shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ガラス基板 3 リブ 4 維持電極 5 バス電極 6 誘電体槽 7 保護槽 8 アドレス電極 9 誘電体槽 10 蛍光体 11 ガラス基板 12,12a 縦リブ 13,13a 横リブ 14 セル空間 1, 2 glass substrate 3 rib 4 sustain electrode 5 bus electrode 6 dielectric tank 7 protection tank 8 address electrode 9 dielectric tank 10 phosphor 11 glass substrate 12, 12a vertical rib 13, 13a horizontal rib 14 cell space

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年6月28日(2000.6.2
8)
[Submission date] June 28, 2000 (2006.2.
8)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0052[Correction target item name] 0052

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0052】この誘電体層の上に、下記組成のリブペー
ストBをダイコーターで一括コーティングし、180℃
で30分間乾燥し、膜厚170μmのリブ材料層を形成
した。なお、この実施例2で用いたガラスフリットは、
ZnO、B 2 3 、SiO 2 、アルカリ土類金属酸化
物、アルカリ金属酸化物を含むもので、ガラス転移点:
460℃、軟化点:556℃、熱膨張係数80×10-7
/℃であり、リブペーストは下記の各成分を3本ロール
で混練することで作製した。
On this dielectric layer, a rib paste B having the following composition was coated at once by a die coater,
For 30 minutes to form a 170 μm-thick rib material layer. The glass frit used in Example 2 was
It contains ZnO, B 2 O 3 , SiO 2 , alkaline earth metal oxide and alkali metal oxide, and has a glass transition point of:
460 ° C, softening point: 556 ° C, coefficient of thermal expansion 80 × 10 -7
/ ° C, and the rib paste was prepared by kneading the following components with three rolls.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小坂 陽三 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C040 FA01 GA03 GF03 GF19 MA02 MA23  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yozo Kosaka 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (reference) 5C040 FA01 GA03 GF03 GF19 MA02 MA23

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 前面板に維持電極とバス電極とからなる
複合電極を備えるとともに、背面板に前記複合電極と直
交するアドレス電極とこのアドレス電極の間に立設する
縦リブとを備え、さらに背面板には、アドレス電極とバ
ス電極とにより特定される放電空間としてのセル空間を
区画するための横リブが形成され、セル空間を区画する
縦リブ及び横リブの壁面とセル底面とを覆うようにして
蛍光体が設けられており、縦リブの端を横リブで押さえ
た構造をしていることを特徴とするプラズマディスプレ
イパネル。
1. A front panel comprising a composite electrode comprising a sustain electrode and a bus electrode, and a rear panel comprising an address electrode orthogonal to the composite electrode and a vertical rib provided between the address electrodes. On the back plate, horizontal ribs for defining a cell space as a discharge space specified by the address electrode and the bus electrode are formed, and cover the wall surfaces of the vertical ribs and the horizontal ribs for partitioning the cell space and the cell bottom surface. A plasma display panel having a structure in which a phosphor is provided as described above and the ends of the vertical ribs are pressed by horizontal ribs.
【請求項2】 横リブが縦リブより低い請求項1に記載
のプラズマディスプレイパネル。
2. The plasma display panel according to claim 1, wherein the horizontal rib is lower than the vertical rib.
【請求項3】 前面板の維持電極とバス電極とからなる
複合電極と直交するアドレス電極とこのアドレス電極の
間に立設する縦リブとを備え、アドレス電極と前面板の
バス電極とにより特定される放電空間としてのセル空間
を区画するための横リブが形成され、セル空間を区画す
る縦リブ及び横リブの壁面とセル底面とを覆うようにし
て蛍光体が設けられており、縦リブの端を横リブで押さ
えた構造をしていることを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの背面板。
3. An address electrode orthogonal to a composite electrode composed of a sustain electrode and a bus electrode on the front panel, and a vertical rib standing between the address electrodes, and is specified by the address electrode and the bus electrode on the front panel. A horizontal rib for partitioning a cell space as a discharge space to be formed is formed, and a phosphor is provided so as to cover a wall surface of the vertical rib and the horizontal rib for partitioning the cell space and a cell bottom surface. The rear plate of the plasma display panel, characterized in that the end of the plasma display panel is held down by a horizontal rib.
【請求項4】 横リブが縦リブより低い請求項3に記載
のプラズマディスプレイパネルの背面板。
4. The back plate of claim 3, wherein the horizontal ribs are lower than the vertical ribs.
JP2000194063A 2000-06-28 2000-06-28 Plasma display panel and its back board Pending JP2002015676A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000194063A JP2002015676A (en) 2000-06-28 2000-06-28 Plasma display panel and its back board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000194063A JP2002015676A (en) 2000-06-28 2000-06-28 Plasma display panel and its back board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002015676A true JP2002015676A (en) 2002-01-18

Family

ID=18692952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000194063A Pending JP2002015676A (en) 2000-06-28 2000-06-28 Plasma display panel and its back board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002015676A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003017314A1 (en) * 2001-08-14 2003-02-27 Sony Corporation Plasma display device
JP2006261106A (en) * 2005-02-16 2006-09-28 Toray Ind Inc Component for plasma display and manufacturing method, manufacturing method of back board for plasma display, and plasma display
KR100730219B1 (en) * 2006-03-28 2007-06-19 삼성에스디아이 주식회사 Structure of barrier ribs for plasma display panel, and plasma display panel comprising the same
EP1763056A3 (en) * 2005-09-07 2009-01-21 Samsung SDI Co., Ltd. Plasma Display Panel

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003017314A1 (en) * 2001-08-14 2003-02-27 Sony Corporation Plasma display device
JP2006261106A (en) * 2005-02-16 2006-09-28 Toray Ind Inc Component for plasma display and manufacturing method, manufacturing method of back board for plasma display, and plasma display
EP1763056A3 (en) * 2005-09-07 2009-01-21 Samsung SDI Co., Ltd. Plasma Display Panel
KR100730219B1 (en) * 2006-03-28 2007-06-19 삼성에스디아이 주식회사 Structure of barrier ribs for plasma display panel, and plasma display panel comprising the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004241379A (en) Plasma display member and plasma display, as well as manufacturing method of plasma display member
JP4770502B2 (en) Plasma display panel
JP2001283734A (en) Plasma display panel and its backside plate
JP4957546B2 (en) Plasma display member and manufacturing method thereof
JP2002015676A (en) Plasma display panel and its back board
JP2001210239A (en) Plasma display panel and rear plate thereof
JP2002373574A (en) Forming method of ribs of plasma display panel
JP2006294501A (en) Member for plasma display
JP2001210240A (en) Plasma display panel and rear plate thereof
JP2001266754A (en) Rear board for plasma display panel and plasma display panel using the same
JP2001283724A (en) Blast mask ink and rib formaton method for plasma display panel therewith
JP4843392B2 (en) Method for manufacturing plasma display panel
KR100831013B1 (en) Plasma display panel
JP2007066692A (en) Member for display and display using the same
JP2002372919A (en) Method for forming uneven pattern
JP2003234072A (en) Plasma display panel
KR20040023957A (en) Plasma display panel and method of fabricating the same
JP4915357B2 (en) Plasma display panel
JP5025907B2 (en) Method for manufacturing plasma display panel
KR100684824B1 (en) Plasma display panel
JP2001287164A (en) Blast mask forming ink
JP4045806B2 (en) Sheet-like dielectric material and method for manufacturing plasma display panel using the same
JP5256674B2 (en) Plasma display panel
JP4200264B2 (en) Sheet-like dielectric material and method for manufacturing plasma display panel using the same
JP3861696B2 (en) Sheet-like dielectric material and method for manufacturing plasma display panel using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060322

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071019

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20071025

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080311