JP2001273084A - 座標入力装置 - Google Patents

座標入力装置

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JP2001273084A
JP2001273084A JP2000085162A JP2000085162A JP2001273084A JP 2001273084 A JP2001273084 A JP 2001273084A JP 2000085162 A JP2000085162 A JP 2000085162A JP 2000085162 A JP2000085162 A JP 2000085162A JP 2001273084 A JP2001273084 A JP 2001273084A
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film
resistive
sheet
resistance film
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JP2000085162A
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English (en)
Inventor
Makoto Kanekawa
誠 金川
Mitsuru Katayanagi
満 片柳
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 切替え動作のためのスイッチ回路を必要とせ
ず、高速動作を可能とし、切替え動作に伴い発生するノ
イズが発生せず、さらに、単位時間当たりの検出座標数
を増大させることができるデジタイザを提供する。 【解決手段】 X座標を検出するための一対の抵抗膜で
ある第1抵抗膜Xt−1と第2抵抗膜Xt−2が設けら
れているとともに、Y座標を検出するための一対の抵抗
膜である第3抵抗膜Yt−1と第4抵抗膜Yt−2が設
けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタイザに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、軽量で携帯可能な小型の携帯情報
処理装置が多く製品化されており、ペンを用いて手書き
入力やアイコン操作を行う製品が増加している。該製品
においては、使用するペンの種類を問わず、安価で簡単
な構成で実現できることから、抵抗膜感圧式デジタイザ
が広く用いられている。
【0003】ここで、抵抗膜感圧式デジタイザの構成を
示すと、抵抗膜感圧式デジタイザは、図7に示すよう
に、樹脂フィルム等で形成された上下2枚のパネル30
1を向かい合わせて配置し、パネル301の内側に蒸着
等により導電性シートとしての抵抗膜302が形成され
たサンドイッチ状の構成となっている。ここで、押圧さ
れていない状態では、該2枚の抵抗膜302が接触しな
いように、絶縁スペーサ303が設けられている。
【0004】また、上記の各抵抗膜の両端には、電極が
設けられており、各電極にはリード線が接続され、電圧
の印加や電位検出用の端子として使用される。各抵抗膜
の電極の設置方向は2つの抵抗膜において互いに直交す
るように配される。この2枚の抵抗膜の一方はX座標検
出用に、他方はY座標検出用に使用される。つまり、X
座標検出用の抵抗膜においては、左右の両端に電極が設
置され、一方、Y座標検出用の抵抗膜においては、上下
の両端に電極が設置される。
【0005】ここで、従来のデジタイザにおいては、4
線式のタイプのものが存在する。すなわち、4線式タイ
プのデジタイザを使用した座標検出装置は、図8に示す
ように、デジタイザ10と、スイッチSW0〜SW4
と、A/D変換器100と、演算制御部110を有して
いる。そして、該デジタイザ10には、図9に示すよう
に、X座標検出用抵抗膜XtとY座標検出用抵抗膜Yt
とが設けられ、該X座標検出用抵抗膜XtとY座標検出
用抵抗膜Ytとには、それぞれ平行に一対の電極が設け
られ、該X座標検出用抵抗膜Xtに設けられた電極と、
Y座標検出用抵抗膜Ytに設けられた電極とは直交する
ように配置されている。さらに、該各電極には、引出し
線が配線されている。つまり、4線式の場合には、各抵
抗膜の両端部には1つずつの電極が設けられ、デジタイ
ザ10には計4つの電極が設けられて、その各電極から
配線されている。
【0006】ここで、座標検出の基本原理を説明する
と、デジタイザ面をペン等で押圧した場合に、押圧点の
電位Vp を検出し、その電位Vp を定電圧Vccと比較す
ることにより検出が可能である。つまり、図8におい
て、X座標を検出する場合には、スイッチSW0をb
側、スイッチSW1をa側、スイッチSW2をb側、ス
イッチSW3をb側、スイッチSW4をa側に接続する
と、X座標検出用抵抗膜XtにはVcc−グランド間に通
電されるので、スイッチSW2又はスイッチSW4から
押圧点の電位Vp を検出する。すると、Vp /Vccを算
出することによりX座標の検出ができる。なお、Y座標
についても同様に行う。
【0007】また、従来のデジタイザにおいては、8線
式のデジタイザも存在する。つまり、4線式のデジタイ
ザおいては、デジタイザの抵抗膜以外の引出し線の抵抗
成分やコネクタ接触抵抗を考慮していないという問題点
があるため、各電極にさらにリード線を配して、デジタ
イザの端の電圧を求めることにより、デジタイザの座標
位置を正確に検出できるようにしている。
【0008】つまり、8線式のデジタイザにおいては、
各電極に2本のリード線が配設され、デジタイザの端の
電位を正確に検出することができる。そして、2つのデ
ジタイザの端の電位が検出されたら、それらから電位勾
配を検出する。8線式デジタイザの場合の回路構成は図
10のようになる。
【0009】ここで、8線式のデジタイザにおいては、
X座標検出用抵抗膜Xtにおける端電圧、つまり、X座
標検出用抵抗膜Xtに定電圧Vccを印加した場合の2つ
の電極の電位を検出し、また、Y座標検出用抵抗膜Yt
における端電圧、つまり、Y座標検出用抵抗膜Ytに定
電圧Vccを印加した場合の2つの電極の電位を検出す
る。そして、検出された電位に基づき、電位勾配直線を
X座標検出用抵抗膜XtとY座標検出用抵抗膜Ytのそ
れぞれについて算出し、この電位勾配直線に基づきX座
標とY座標を算出する。
【0010】つまり、ペンダウンがあった場合には、ま
ず、X座標検出用の抵抗膜において以下のように電位の
検出を行う。つまり、図10における各スイッチについ
て、SW0をb側、SW1をa側、SW2をb側、SW
3をb側、SW4をa側に切り換える。すると、X座標
検出用抵抗膜Xtにおいて電流がVccからGNDに向け
て流れるので、押圧点の電位をY座標検出用抵抗膜Yt
に設けられたリード線を介して検出する。
【0011】そして、次には、Y座標検出用の抵抗膜に
おいて以下のように電位の検出を行う。つまり、図10
における各スイッチについて、SW0をb側、SW1を
b側、SW2をa側、SW3をa側、SW4をb側に切
り換える。すると、Y抵抗膜検出用抵抗膜Ytにおいて
電流がVccからGNDに向けて流れるので、押圧点の電
位をX座標検出用抵抗膜Xtに設けられたリード線を介
して検出する。
【0012】そして、上記の検出された電位を上記で算
出された電位勾配直線に当てはめてX座標とY座標を算
出する。
【0013】以上のように、上記の4線式のデジタイザ
も8線式のデジタイザも、X座標検出用抵抗膜XtとY
座標検出用抵抗膜Ytの2つの抵抗膜を用いて、一方を
電位勾配検出用の抵抗膜とし、他方を電位検出用の抵抗
膜とするべく、切替え動作を行っている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のデ
ジタイザにおいては、切替え動作が必要で、該切替え動
作を行うためのスイッチ回路が必要となり、回路規模が
大きくなるという問題があった。また、上記のように切
替え動作を行う場合に、時分割による検出電圧の立ち上
がり時間が必要となり、高速動作に限界があり、また、
単位時間当たりの検出座標数にも限界があった。また、
切替え動作に伴い発生するノイズが正確な座標の検出に
支障となることがあった。
【0015】そこで、本発明は、切替え動作のためのス
イッチ回路を必要とせず、高速動作を可能とし、切替え
動作に伴い発生するノイズが発生せず、さらに、単位時
間当たりの検出座標数を増大させることができるデジタ
イザを提供することを目的とするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は上記問題点を解
決するために創作されたものであって、第1には、押圧
することにより座標を入力するための座標入力装置であ
って、互いに略平行に設けられた2つの抵抗膜を有する
第1抵抗膜群と、互いに略平行に設けられた2つの抵抗
膜を有する第2抵抗膜群と、を有することを特徴とす
る。
【0017】この第1の構成の座標入力装置によれば、
一対の抵抗膜が2つ設けられているので、一方をX座標
検出用に使用し、他方をY座標検出用に使用することに
より、X座標検出とY座標検出に際して、切替え動作を
必要ないものとすることができる。
【0018】また、第2には、押圧することにより座標
を入力するための座標入力装置であって、X座標検出用
の第1抵抗膜群であって、電位勾配形成用の抵抗膜と、
電位検出用の抵抗膜とを有する第1抵抗膜群と、Y座標
検出用の第2抵抗膜群であって、電位勾配形成用の抵抗
膜と、電位検出用の抵抗膜とを有する第2抵抗膜群と、
を有することを特徴とする。よって、X座標検出とY座
標検出に際して、切替え動作を必要ないものとすること
ができる。
【0019】また、第3には、上記第2の構成におい
て、上記座標入力装置が、さらに、第1シート状層と、
第2シート状層と、第3シート状層を有し、該第1シー
ト状層と、第2シート状層と、第3シート状層とは互い
に略平行に設けられ、また、該第2シート状層は、該第
1シート状層と第3シート状層の間に設けられており、
上記第1抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗膜は、
上記第1シート状層の下面に設けられており、上記第1
抵抗膜群における電位検出用の抵抗膜は、上記第2シー
ト状層の上面に設けられており、上記第2抵抗膜群にお
ける電位検出用の抵抗膜は、上記第2シート状層の下面
に設けられており、上記第2抵抗膜群における電位勾配
形成用の抵抗膜は、上記第3シート状層の上面に設けら
れていることを特徴とする。
【0020】また、第4には、上記第3の構成におい
て、上記第1シート状層と第2シート状層とがフィルム
層であり、また、上記第3シート状層がガラス層又は合
成樹脂層であることを特徴とする。
【0021】また、第5には、上記第2から第4までの
いずれかの構成において、上記各抵抗膜が略方形状を呈
し、上記第1抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗膜
には、相対する辺部に沿って一対の電極部が略平行に設
けられており、また、上記第1抵抗膜群における電位検
出用の抵抗膜には、上記電位勾配形成用の抵抗膜に設け
られた電極部の方向とは略直角方向の一方の辺部に沿っ
て設けられており、また、上記第2抵抗膜群における電
位勾配形成用の抵抗膜には、上記第1抵抗膜群における
電位勾配形成用の抵抗膜に設けられた電極部の方向とは
略直角方向の相対する辺部に沿って一対の電極部が略平
行に設けられており、また、上記第2抵抗膜群における
電位検出用の抵抗膜には、上記第2抵抗膜群における電
位勾配形成用の抵抗膜に設けられた電極部の方向とは略
直角方向の一方の辺部に沿って設けられていることを特
徴とする。
【0022】また、第6には、上記第1から第5までの
いずれかの構成において、上記第1抵抗膜群における2
つの抵抗膜は、押圧されない状態では離間して設けら
れ、また、上記第1抵抗膜群における2つの抵抗膜は、
押圧されない状態では離間して設けられていることを特
徴とする。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態としての実施
例を図面を利用して説明する。本発明に基づくデジタイ
ザ10は、図1、図2、図3に示されるように、第1フ
ィルム層(第1シート状層)20と、第2フィルム層
(第2シート状層)22と、ガラス層(第3シート状
層)24と、第1抵抗膜Xt−1と、第2抵抗膜Xt−
2と、第3抵抗膜Yt−1と、第4抵抗膜Yt−2と、
電極部40と、電極部42と、電極部44と、電極部5
0と、電極部52と、電極部54と、嵌装部材60と、
絶縁スペーサ70とを有している。ここで、図3は、各
部材の幅等は理解を容易にするために、若干誇張して描
かれている。
【0024】ここで、上記第1フィルム層20と第2フ
ィルム層22とは、略長方形状の板状の透明フィルム材
であり、第1フィルム層20と第2フィルム層22とは
略同一の大きさ及び形状を呈している。また、ガラス層
24も、略長方形状の板状の透明ガラス材であり、該ガ
ラス層24は、第1フィルム層20、第2フィルム層2
2とは略同一の大きさ及び形状を呈している。該第1フ
ィルム層20と、第2フィルム層22と、ガラス層24
とは、第2フィルム層22が、第1フィルム層20とガ
ラス層24の間に設けられる。上記第1フィルム層20
と、第2フィルム層22と、ガラス層24とは互いに略
平行に設けられている。
【0025】また、上記第1抵抗膜Xt−1はITO抵
抗膜であり、シート状を呈し、上記第1フィルム層20
の裏面に固着されている。また、この第1抵抗膜Xt−
1のX方向の両端には、電極部40と電極部42が該第
1抵抗膜Xt−1に接続して設けられている。つまり、
電極部40、電極部42はともにY方向に伸びる電極で
あり、互いに略平行に設けられている。
【0026】また、上記第2抵抗膜Xt−2はITO抵
抗膜であり、シート状を呈し、上記第2フィルム層22
の表面に固着されている。また、この第2抵抗膜Xt−
2のY方向の一方の端部には、電極部44が該第2抵抗
膜Xt−2に接続して設けられている。つまり、電極部
44はX方向に伸びる電極である。
【0027】また、上記第3抵抗膜Xt−3はITO抵
抗膜であり、シート状を呈し、上記第2フィルム層22
の裏面に固着されている。また、この第3抵抗膜Xt−
3のX方向の一方の端部には、電極部54が該第3抵抗
膜Xt−3に接続して設けられている。つまり、電極部
54はY方向に伸びる電極である。
【0028】また、上記第4抵抗膜Xt−4はITO抵
抗膜であり、シート状を呈し、上記ガラス層24の表面
に固着されている。また、この第4抵抗膜Xt−4のY
方向の両端には、電極部50と電極部52とが該第4抵
抗膜Xt−4に接続して設けられている。つまり、電極
部50、電極部52はともにX方向に伸びる電極であ
り、互いに略平行に設けられている。
【0029】ここで、上記第1抵抗膜Xt−1と第2抵
抗膜Xt−2とがX座標検出用の抵抗膜となり、上記第
3抵抗膜Yt−1と第4抵抗膜Yt−2とがY座標検出
用の抵抗膜となる。また、上記第1抵抗膜Xt−1と第
3抵抗膜Yt−1とは電位勾配形成用、すなわち、電圧
印加用の抵抗膜であり、また、上記第2抵抗膜Xt−2
と第4抵抗膜Yt−2とは電位検出用の抵抗膜となる。
第1抵抗膜Xt−1と第2抵抗膜Xt−2とは上記第1
抵抗膜群を形成し、また、上記第3抵抗膜Yt−1と第
4抵抗膜Yt−2とは上記第2抵抗膜群を形成する。
【0030】また、嵌装部材60は、図3に示すよう
に、第1フィルム層20と第2フィルム層22の間の外
周に設けられているとともに、第2フィルム層22とガ
ラス層24の間の外周にも設けられている。
【0031】また、絶縁スペーサ70は、第1抵抗膜X
t−1と第2抵抗膜Xt−2の間に設けられているとと
もに、第3抵抗膜Yt−1と第4抵抗膜Yt−2の間に
も設けられている。これにより、第1抵抗膜Xt−1と
第2抵抗膜Xt−2とはデジタイザ10を押圧していな
い状態では、互いに略平行に離間して設けられており、
また、第3抵抗膜Yt−1と第4抵抗膜Yt−2につい
ても、デジタイザ10を押圧していない状態では、互い
に略平行に離間して設けられている。なお、該嵌装部材
60と絶縁スペーサ70とは図1においては、省略して
示されている。
【0032】上記構成のデジタイザ10を使用した座標
検出装置は、図4に示すように構成され、デジタイザ1
0と、スイッチSWと、A/D変換器100と、演算制
御部110とが設けられている。
【0033】また、デジタイザ10の第1抵抗膜Xt−
1に接続された電極部40は、定電圧Vccに接続されて
いるとともに、スイッチSWに接続され、また、電極部
42は接地されている。また、第1抵抗膜Xt−2に接
続された電極部44は、A/D変換器100に接続され
ている。
【0034】また、第3抵抗膜Xt−3に接続された電
極部54は、A/D変換器100に接続されており、ま
た、第4抵抗膜Xt−4に接続された電極部50は、定
電圧Vccに接続されており、また、電極部52は接地さ
れている。
【0035】上記構成のデジタイザ10及び該デジタイ
ザ10を使用した座標検出装置の動作について説明す
る。
【0036】まず、ペンダウンがあったか否かが判定さ
れる。このペンダウンの検出はペンダウン信号が検出さ
れるか否かにより行う。すなわち、スイッチSWをa側
に切り換える。すると、もしペンダウンがあった場合に
は、ペンダウン信号の出力電位は降下するので、これを
見てペンダウンがあったか否かを判定する。
【0037】そして、ペンダウンがあったと判定される
場合には、X座標の検出を行う。つまり、第1抵抗膜X
t−1において電流がVccからGNDに向けて流れるの
で、押圧点の電位を第2抵抗膜Xt−2から電極部4
4、さらには、電極部44に接続されたリード線を介し
て検出する。この検出された電位の値をX座標について
の電位勾配直線を示す式に代入してX座標の値を求め
る。
【0038】さらには、Y座標の検出を行う。つまり、
第3抵抗膜Yt−1において電流がVccからGNDに向
けて流れるので、押圧点の電位を第4抵抗膜Yt−2か
ら電極部54、さらには、電極部54に接続されたリー
ド線を介して検出する。この検出された電位の値をX座
標についての電位勾配直線を示す式に代入してX座標の
値を求める。
【0039】なお、電位勾配直線を示す式については、
例えば、予め所定の座標としての2点を押圧させて電位
を検出し、X=C*V+D(Xは位置、Vは電位を示
す)における係数CとDの値を算出しておく。これらの
係数はX座標検出用とY座標検出用のそれぞれについて
算出される。
【0040】また、定電圧Vccの供給を従来のように切
り替える必要がないので、第1抵抗膜Xt−1と第3抵
抗膜Yt−1とには常時供給しておけばよい。
【0041】以上のように、本実施例のデジタイザ及び
座標検出装置によれば、スイッチングによる切替え動作
が必要ないので、スイッチ回路を必要としない。つま
り、ゲート素子数を減少させることができる。また、従
来に比べて、高速動作が可能となる。つまり、従来のよ
うに座標検出時の時分割による検出電圧の立ち上がり時
間が必要ないので、単位時間当たりの検出座標数は大幅
に向上する。例えば、従来の構成では、200P(ポイ
ント)/Sであったものが、本実施例の構成では、10
00P/Sとなる。また、切替え動作をしないので、時
分割制御時に発生するノイズを防止することができる。
なお、上記第2抵抗膜Xt−2と第4抵抗膜Yt−2と
は、電位検出用にのみ用いられるので、第1抵抗膜Xt
−1や第3抵抗膜Yt−1に比べてリニアリティーを必
要としない。
【0042】なお、図4に示す構成は、デジタイザ10
から引き出される引き出し線は6本となるが、図5に示
すように構成することにより4本とすることができる。
つまり、図5に示す構成は、電極部を共通にすることに
よりデジタイザ10から引き出される引出し線の数を少
なくした点が開示されている。
【0043】また、上記の実施例においては、4線式の
タイプについて説明したが、これには限られず、8線式
のタイプに適用してもよい。その場合の構成としては、
図6に示すような構成となる。
【0044】
【発明の効果】本発明に基づく座標入力装置によれば、
一対の抵抗膜が2つ設けられているので、一方をX座標
検出用に使用し、他方をY座標検出用に使用することに
より、X座標検出とY座標検出に際して、切替え動作を
必要ないものとすることができ、高速動作を可能とし、
切替え動作に伴い発生するノイズが発生せず、さらに、
単位時間当たりの検出座標数を増大させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に基づくデジタイザの構成を示
す分解斜視図である。
【図2】本発明の実施例に基づくデジタイザの平面図で
ある。
【図3】本発明の実施例に基づくデジタイザの断面図で
あり、(a)は長手方向に切断した場合の断面図で、
(b)は短手方向に切断した場合の断面図である。
【図4】本発明の実施例に基づくデジタイザの回路図で
ある。
【図5】本発明の他の実施例に基づくデジタイザの回路
図である。
【図6】本発明の他の実施例に基づくデジタイザの回路
図である。
【図7】抵抗膜感圧式デジタイザの基本構成図である。
【図8】従来の4線式デジタイザとこれに接続されたス
イッチ回路の構成を示す回路図である。
【図9】従来の4線式デジタイザの概略を示す平面図で
ある。
【図10】従来の8線式デジタイザとこれに接続された
スイッチ回路の構成を示す回路図である。
【符号の説明】
10 デジタイザ 20 第1フィルム層 22 第2フィルム層 24 ガラス層 Xt−1 第1抵抗膜 Xt−2 第2抵抗膜 Yt−1 第3抵抗膜 Yt−2 第4抵抗膜 40、42、44、50、52、54 電極部 70 絶縁スペーサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F063 AA03 BA28 BB02 CA11 DA02 DA05 DB05 DD07 FA08 FA13 FA16 FA18 2F077 AA33 EE09 NN12 NN21 RR03 TT06 WW03 WW04 5B068 AA02 AA32 BB06 BC11 BD02 BE06 CC11 5B087 AA01 AE09 CC01 CC37 DD02 DJ03

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 押圧することにより座標を入力するため
    の座標入力装置であって、 互いに略平行に設けられた2つの抵抗膜を有する第1抵
    抗膜群と、 互いに略平行に設けられた2つの抵抗膜を有する第2抵
    抗膜群と、を有することを特徴とする座標入力装置。
  2. 【請求項2】 押圧することにより座標を入力するため
    の座標入力装置であって、 X座標検出用の第1抵抗膜群であって、電位勾配形成用
    の抵抗膜と、電位検出用の抵抗膜とを有する第1抵抗膜
    群と、 Y座標検出用の第2抵抗膜群であって、電位勾配形成用
    の抵抗膜と、電位検出用の抵抗膜とを有する第2抵抗膜
    群と、を有することを特徴とする座標入力装置。
  3. 【請求項3】 上記座標入力装置が、さらに、 第1シート状層と、第2シート状層と、第3シート状層
    を有し、該第1シート状層と、第2シート状層と、第3
    シート状層とは互いに略平行に設けられ、また、該第2
    シート状層は、該第1シート状層と第3シート状層の間
    に設けられており、 上記第1抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗膜は、
    上記第1シート状層の下面に設けられており、 上記第1抵抗膜群における電位検出用の抵抗膜は、上記
    第2シート状層の上面に設けられており、 上記第2抵抗膜群における電位検出用の抵抗膜は、上記
    第2シート状層の下面に設けられており、 上記第2抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗膜は、
    上記第3シート状層の上面に設けられていることを特徴
    とする請求項2に記載の座標入力装置。
  4. 【請求項4】 上記第1シート状層と第2シート状層と
    がフィルム層であり、また、上記第3シート状層がガラ
    ス層又は合成樹脂層であることを特徴とする請求項3に
    記載の座標入力装置。
  5. 【請求項5】 上記各抵抗膜が略方形状を呈し、 上記第1抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗膜に
    は、相対する辺部に沿って一対の電極部が略平行に設け
    られており、 また、上記第1抵抗膜群における電位検出用の抵抗膜に
    は、上記電位勾配形成用の抵抗膜に設けられた電極部の
    方向とは略直角方向の一方の辺部に沿って設けられてお
    り、 また、上記第2抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗
    膜には、上記第1抵抗膜群における電位勾配形成用の抵
    抗膜に設けられた電極部の方向とは略直角方向の相対す
    る辺部に沿って一対の電極部が略平行に設けられてお
    り、 また、上記第2抵抗膜群における電位検出用の抵抗膜に
    は、上記第2抵抗膜群における電位勾配形成用の抵抗膜
    に設けられた電極部の方向とは略直角方向の一方の辺部
    に沿って設けられていることを特徴とする請求項2又は
    3又は4に記載の座標入力装置。
  6. 【請求項6】 上記第1抵抗膜群における2つの抵抗膜
    は、押圧されない状態では離間して設けられ、また、上
    記第1抵抗膜群における2つの抵抗膜は、押圧されない
    状態では離間して設けられていることを特徴とする請求
    項1又は2又は3又は4又は5に記載の座標入力装置。
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