JP2001272294A - 選択封止付き超小型電気機械式システム・センサおよびそのための方法 - Google Patents

選択封止付き超小型電気機械式システム・センサおよびそのための方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 超小型電気機械式圧力センサの選択封止によ
り、圧力センサ・ダイアフラム(121)を周囲圧力に
暴露させながら、封止によるワイヤ・ボンドの保護を達
成することを可能にする。 【解決手段】 圧力センサ・ダイアフラム(121)の
外周に保護ダム(150)を構築して、保護ダム(15
0)とデバイス・ハウジング(105)との間にワイヤ
・ボンド・キャビティ領域を形成することによって、選
択封止が可能になる。ワイヤ・ボンド・キャビティは、
封止ゲル(160)またはベント・キャップ(170)
により封止することができる。代替的に、キャップ・ウ
ェハ(151)をデバイス・ウェハ(125)に結合す
るガラス・フリット・パターン(152)によって保護
ダム(150)を形成することができ、次いで、保護ダ
ムが取り付けられた2つのウェハの組合せを個別ダイに
裁断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般に超小型電気機械
式システム(MEMS)デバイスに関し、さらに詳しく
はMEMSデバイスの選択封止に関する。
【0002】
【従来の技術】MEMSセンサ、つまり集積回路サイズ
のミニチュア・センサは、種々の周囲状態を感知するた
めに小型装置を必要とする多種多様な消費製品および工
業製品に導入されている。MEMS圧力センサの組込み
の潜在的可能性が自動車タイヤより大きい適用分野は、
現在、おそらく存在しない。この適用分野は、RF送信
機を装備した1つまたはそれ以上のMEMS圧力センサ
を自動車タイヤ内に埋め込むことが必要である。このセ
ンサはタイヤ空気圧を監視し、低空気圧警報を提供する
信号を自動車の処理装置および表示装置に送信して、危
険なタイヤのことをドライバに警告する。
【0003】図1は、接着剤17によりプラスチック・
パッケージ12に結合された圧力センサ・ダイ13を有
するプラスチック・パッケージ12上に形成されたキャ
ビティに封止ゲル11を注入する、MEMSデバイス1
0の従来の封止を示す。封止ゲル11の目的は、圧力セ
ンサ・ダイ13とリード・フレーム14との間のワイヤ
・ボンド15を保護することである。しかし、従来使用
された総封止技術は、圧力センサ・ダイアフラム16を
含め、圧力センサ・ダイ13を完全に被覆した。
【0004】この従来技術の総封止ゲル技術の第一の欠
点は、一種の加速度感受性である。封止ゲル11が圧力
センサ・ダイアフラム16を被覆し、MEMSデバイス
10が高い毎分回転数(RPM)にさらされるタイヤに
配置されると、そのような高いRPMによって実現され
る加速度成分は、圧力センサ13に対して封止ゲル11
の質量を押しつけ、それにより誤ったタイヤ空気圧の読
みを提供する。
【0005】総封止ゲル技術の別の欠点はゲルの過剰膨
張として知られ、一般的に「ゲル滲出」と呼ばれる。周
囲圧力の急激な変化によって生じるこの現象は、封止ゲ
ルをMEMSデバイス10から滲出または噴出させる。
これは次にデバイスの完全性を損ね、汚染を生じ、最終
的に早期デバイス故障に至る。
【0006】MEMS圧力センサの別の従来技術の封止
方法は、コンフォーマル・コーティングとして知られて
いた。これは、圧力センサ・ダイ、ワイヤ・ボンド、お
よびリード・フレーム上に薄いポリマーを塗布する必要
があった。コンフォーマル・コーティングは加速度感受
性の問題を部分的に解決するが、それ自体の欠点の組が
あった。
【0007】厳しい環境では、湿気がコンフォーマル・
コーティングに浸透して、層間剥離やピーリングを発生
させる。ワイヤ・ボンドが露出するところまでコンフォ
ーマル・コーティングが層間剥離すると、MEMSデバ
イスは早期故障を起こす。また、パリレンCコーティン
グの場合、摂氏105度(℃)を超える熱は、コーティ
ングの酸化崩壊またはその他の永久的材料特性変化を引
き起こし、それによりコンフォーマル・コーティングは
さらに湿気の問題にさらされる。
【0008】さらに別の従来技術の封止技法は、総封止
ゲルとコンフォーマル・コーティングを結合した。さら
に別の技法は、MEMSデバイスをステンレス鋼のキャ
ップまたはカバーで封止するものであった。しかし、こ
れらの解決策は、加速度感受性のみならず、高コストに
関連する問題にもさらされた。
【0009】圧力センサ・ユニットを製造するための別
の従来技術の技法は、コボリら(「コボリ」)によって
米国特許第4,802,952号に開示されている。コ
ボリは、圧電抵抗素子に陽極ボンディングを使用するウ
ェハ・レベルのキャッピング技法を開示している。コボ
リの欠点は、シリコン基板の下面に凹所をエッチングす
ることによって、圧力感受性ダイアフラムが形成される
ことである。この技法は、製造工程のコストを増加し、
効率を低下する。
【0010】別の従来技術の実装技法は、ラムら(「ラ
ム」)によって米国特許第4,942,383号に開示
されている。ラムは、ダイが接着剤で底部カバーに結合
され、接着剤を超音波溶接することによって上部カバー
が底部カバーに結合された、圧力センサ・パッケージを
開示している。再び、センサ・ダイアフラムはパッケー
ジの下面に配置される。さらに、ダイ接着剤のダイアフ
ラムへの滲出を阻止するための予防手段が無い。
【0011】さらに別の従来技術の技法が、高橋らによ
る1対の特許、米国特許第5,207,102号(「高
橋102」)および第5,333,505号(「高橋5
05」)に開示されている。高橋102では、圧力セン
サ・ダイがペデスタルの頂面に配置され、ペデスタルの
底面はダイ・パッドに固定される。ワイヤ・ボンディン
グは圧力センサ・ダイをリードに接続する。ダイ、ワイ
ヤ・ボンド、ペデスタル、およびダイ・パッドは、エポ
キシ樹脂を使用して、従来の成形工程によって封止され
る。詳細には開示されていないが、図面および明細書か
ら、高橋102は、成形工程の一部として、エポキシ樹
脂の封止を制限するために一時的プラグに依存している
ようである。
【0012】高橋505は、モノリシック成形中に被覆
樹脂がダイアフラム内に流入するのを防止するために、
圧電抵抗器の周囲を包囲する樹脂ダムを有する、高橋1
02の改良版を開示している。高橋505を綿密に読む
と、ダムは実際には、圧力センサ・ダイとエポキシ樹脂
封止中に使用される成形プラグとの間のシールであるこ
とが分かる。ダム/シールは、明らかに高橋102の欠
点である封止樹脂のダイアフラムへの滲出を防止するの
に役立つ。高橋505は、印刷法または写真製版による
ダムの形成を開示している。ダムの高さは、圧力センサ
・ダイ上のボンド・パッドにほぼ等しい。成形封止エポ
キシ樹脂の高さは、ダムの高さより著しく高いことに注
意されたい。したがって、高橋505によって開示され
たダムは誤称である。つまり、それはキャビティまたは
リザーバを形成するものではなく、むしろ成形工程中の
樹脂の滲出を防止するシールであるという意味で、真の
ダムではない。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来技術
の技法の性能上の欠点や故障メカニズムを招くことな
く、MEMSセンサの完全性を保護するために、より信
頼でき、改善された品質で、より頑健な封止技法を提供
する必要がある。
【0014】
【課題を解決するための手段】図2は、本発明の実施形
態による選択封止付きMEMSセンサ100の断面側面
図である。MEMS圧力センサ100は、一般的にプラ
スチック材料から形成されるハウジング105(部分的
に図示)を含む。センサ・ダイ120は、エポキシまた
はシリコーン接着剤110によってプラスチック・ハウ
ジング105に取り付けられる。ワイヤ・ボンド140
は、センサ・ダイ120のワイヤ・ボンド・パッド12
2とリード・フレーム130との間の電気的接続を提供
する。また、保護ダム150および保護材として働く封
止ゲル材160も図示されている。
【0015】様々な要素および改善されたMEMSセン
サ100を製造するための技法の詳細は、以下の通りで
ある。本発明の様々な実施形態の説明は、主としてME
MS圧力センサに寄せられている。しかし、本発明の記
載する実施形態の選択封止は、圧力、化学薬品、湿度等
を感知する容量性センサを含め、多種多様なMEMSセ
ンサに適用することができる。
【0016】本発明の様々な実施形態に関するこれらの
種類のMEMSセンサの共通分母は、一部の周囲状態に
敏感であり、かつ最適性能を達成するために封止ゲルが
付かないようにしなければならない、容量性ダイアフラ
ムまたは隔膜などのトランスデューサ要素である。しか
し、トランスデューサ要素以外のパッケージの残部は、
環境保護のために封止すべきである。
【0017】多数のMEMS圧力センサ・デバイスを含
むウェハを個々のダイにダイシングした後、各々の個別
圧力センサ・ダイ120は、一般的にプラスチックで形
成されるハウジング105に、従来の方法によって取り
付けられる。圧力センサ・ダイ120をプラスチック・
ハウジング105のベースに取り付けるために、一般的
にエポキシまたはシリコーン接着剤110が使用され
る。
【0018】圧力センサ・ダイ120をプラスチック・
ハウジング105に取り付けた後、ワイヤ・ボンド・パ
ッド122とリード・フレーム130との間に、ワイヤ
・ボンド140が接続される。
【0019】次のステップは、圧力センサ・ダイアフラ
ム121の外周とボンド・パッド122によって形成さ
れる内周との間に、保護ダム150を構築することであ
る。圧力センサ・ダイアフラム121は一般的に、図3
に示すように、圧力センサ・ダイ120の中心部に配置
される。次いで、保護ダム150が高温で硬化される。
【0020】保護ダム150の硬化の後、MEMS圧力
センサ100は封止することができる。このステップ中
に、保護ダム150とプラスチック・ハウジング105
との間に位置するワイヤ・ボンド・キャビティ領域内
に、封止ゲル160が注入され、それによりボンド・パ
ッド122、リード・フレーム130の一部分、および
ワイヤ・ボンド140が被覆される。選択封止が完了し
た後、封止ゲル160が硬化される。
【0021】例として、保護ダム150は、最善の媒体
両立性を達成するために、つまりワイヤ・ボンドの完全
性を異物による汚染から守るために、フルオロカーボン
をベースにする材料から構築される。しかし、フルオロ
カーボン系の材料は、一般的に最も高価でもある。他の
対費用効果の高い材料として、シリコーンおよびフルオ
ロシリコーンをベースにした材料がある。一般的に、保
護ダム150および封止ゲル160の両方に、同様の材
料が使用される。
【0022】保護ダム150は一般的に、計量分配コレ
ットなどの装置を使用して、それを単体として形成する
ことによって構築される。計量分配コレットはノズル型
の装置であり、ノズルの出力開口の設計は保護ダム15
0の設計に対応する。したがって、矩形のダムの場合、
計量分配小レットは矩形のノズルを持ち、保護ダムの4
つの壁全部を同時に形成することができる。現在の設計
は、矩形の圧力センサ・ダイアフラム121との一貫性
のために、矩形の保護ダム150を使用することが好ま
しい。しかし、円形、三角形、五角形、または同様のも
の含め、それらに限定されず、その他の形状のダイアフ
ラムおよび保護ダムが構想される。
【0023】代替的に、保護ダム150の4つの壁の各
々は、計量分配針を用いて形成することができる。計量
分配針法による保護ダムの構築では、ダムの壁が同時に
形成される計量分配小レット法とは対照的に、各々のダ
ム壁が順次形成される。計量分配針は基本的に、各ダム
壁を線描する。保護ダム150の高さおよび幅を制御す
るために、各壁を複数回通過することができる。
【0024】保護ダム150の最小高さは、ワイヤ・ボ
ンド140のループの高さ、すなわち圧力センサ・ダイ
120より上のワイヤ・ボンド140の遠地点にほぼ等
しいことが好ましい。最小高さは、ワイヤ・ボンド14
0の完全な封止を確保するための要件によって誘導され
る。保護ダムの最大高さは、プラスチック・ハウジング
105の高さである。しかし、実際には、保護ダム15
0の高さは、図2に示すように、ワイヤ・ボンド140
の遠地点とプラスチック・ハウジング105との間の範
囲である。
【0025】圧力センサ・ダイ120の厚さが約645
ミクロン(μm)、つまり約25milであり、プラス
チック・ハウジング105のキャビティの全高が約13
5milである一般的な適用例の場合、保護ダム150
の公称高さは、774〜1,548μm、つまり約30
〜60milの範囲内である。
【0026】今、図4および図5を参照すると、別の実
施形態による選択封止付きのMEMS圧力センサ101
が図示されており、ここでベント・キャップ170は保
護材として働く。MEMS圧力センサ101は、封止ゲ
ルを用いてワイヤ・ボンド・キャビティを充填する代り
に、ワイヤ・ボンド・キャビティ領域を被覆、密封、ま
たはその他のやり方で封止するベント・キャップ170
を含む。ベント・キャップ170は、中心に圧力センサ
・ダイアフラム121が妨害されない周囲圧力を受け取
ることを可能にするベント・アパーチャ171を中心に
含む。従来技術のゲルの過剰膨張の問題は、ワイヤ・ボ
ンド・キャビティに封止ゲルを充填しないことによって
回避される。
【0027】MEMS圧力センサ101の形成は、圧力
センサ・ダイ120をプラスチック・ハウジング105
(部分的に図示)に取り付け、ワイヤ・ボンドで圧力セ
ンサ・ボンド・パッド122をリード・フレーム130
に電気的に接続し、保護ダム150を構築することを含
む、MEMS圧力センサ100の形成について説明した
のと同様のステップを使用する。
【0028】しかし、保護ダム150が圧力センサ・ダ
イ120の頂面上に構築された後、デバイス上にベント
・キャップ170が載置される。ベント・キャップ17
0の外縁は、プラスチック・ハウジング105と嵌合す
る。ベント・キャップ170の中心部の下面は、保護ダ
ム150に押しつけられる。デバイスを高温で硬化する
ことによって、ベント・キャップ170の封止が行われ
る。代替的に、接着材料を使用して、ベント・キャップ
170を封止することもできる。また、熱硬化と接着剤
の様々な組合せを使用して、ベント・キャップ170を
封止することもできる。
【0029】ベント・キャップ170は、プラスチック
・ハウジング105および保護ダム150と両立するプ
ラスチック材料から形成することが好ましい。代替実施
形態では、ベント・キャップ170は金属から構築する
ことができる。しかし、金属の実施形態の場合、ワイヤ
・ボンド140からベント・キャップ170への電気的
短絡を阻止するために、ベント・キャップ170とワイ
ヤ・ボンドとの間に適切な離隔距離を取らなければなら
ない。保護ダム150の高さの制限は、MEMSセンサ
100について説明したものと同様である。
【0030】図4に示すように、ベント・キャップ17
0は、保護ダム150と接触する中心部に段違いを有す
る。この段違いの目的は、ワイヤ・ボンド140および
プラスチック・ハウジング105に対して保護ダム15
0の高さを最適にすることである。しかし、代替実施形
態では、段違いは不要である。
【0031】ここで図6を参照すると、本発明のさらに
別の実施形態による選択封止付きMEMS圧力センサ1
02が図示されている。この実施形態では、ガラス・フ
リット152またはその他の適切な接着剤により、キャ
ップ・ウェハ151をデバイス・ウェハ125に結合す
ることによって、ウェハ・レベルに保護ダム150が形
成される。MEMSセンサ102の製造の予備ステップ
で、基板上にデバイス・ウェハ125などの複数のセン
サ・デバイスが形成される。図6は、典型的センサ・デ
バイスのダイアフラム121およびワイヤ・ボンド・パ
ッド122を示す。
【0032】デバイス・ウェハ125上のセンサ・デバ
イスの形成とは別個に、時々キャップ・ウェハ151と
呼ばれる第2ウェハに、複数のダイアフラム・アパーチ
ャ153、デバイス・チャネル154、およびカット・
ライン155がパターン形成される。次のステップで、
スクリーン印刷またはその他の手段によって、キャップ
・ウェハ151上にガラス・フリット・パターンを堆積
することによって、ボンディング領域が形成される。次
いで、キャップ・ウェハ151がデバイス・ウェハ12
5に整列され、結合される。次いで、キャップ/デバイ
ス・ウェハの組合せが熱硬化され、保護ダム150が取
り付けられた個々の圧力センサ・ダイ120に裁断され
る。
【0033】図7は封止されたデバイス102の断面図
であり、ダイアフラム・アパーチャ153をさらに図解
する。各々の圧力センサ・ダイ120は、前の実施形態
で説明したように、ハウジング105に取り付けられ
る。同様に、ワイヤ・ボンド140をワイヤ・ボンド・
パッド122とリード・フレーム130との間に接続す
ることによって、ワイヤ・ボンディングが達成される。
保護ダム150、つまりキャップ・ウェハ部分151と
ガラス・フリット・パターン部分152の組合せと、ハ
ウジング105との間に、ワイヤ・ボンド・キャビティ
領域が形成される。ワイヤ・ボンド・キャビティには、
前述の実施形態と同様に封止ゲル160が充填される。
保護ダム150の高さの制限は、MEMSセンサ100
に関して説明したのと同様である。
【0034】これまでに、従来技術のセンサに特有の加
速度感受性、ゲル過剰膨張、およびその他の不利益など
の問題を解決する選択封止を備えた改良MEMSセンサ
が得られることが理解されるであろう。さらに、本発明
に従って製造されたMEMSセンサの厳しい環境での性
能が改善される。本発明のMEMSセンサは圧力セン
サ、化学薬品センサ、湿度センサ等を含むことを理解さ
れたい。
【0035】本発明を好適な実施形態に関連して詳しく
図示し説明したが、本発明の精神および範囲から逸脱す
ることなく、形状および細部を変化させることができる
ことを当業者は理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の総封止MEMS圧力センサの断面側
面図である。
【図2】本発明の第1実施形態による選択封止付きME
MS圧力センサの断面側面図である。
【図3】図2のMEMSデバイスの平面図である。
【図4】本発明の第2実施形態による選択封止付きME
MS圧力センサの断面側面図である。
【図5】図4のMEMSデバイスの平面図である。
【図6】本発明の第3実施形態によるMEMSデバイス
の斜視図である。
【図7】図6に示したMEMSデバイスの断面図であ
る。
【符号の説明】
100 MEMS圧力センサ 105 ハウジング 110 接着剤 120 センサ・ダイ 130 リード・フレーム 140 ワイヤ・ボンド 150 保護ダム 160 封止ゲル材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G01L 19/14 G01L 19/14 (72)発明者 サン・ウーン・キム 大韓民国、キュンギ・ドー、コヤン・シ、 イルサン・ク、タンヒュン・マウル104− 1703 (72)発明者 キュジン・ジュング 大韓民国、キュンギ・ドー、コヤン・シ、 イルサン・ク、イルサン3・ドン、ホーコ ック・マウル、ヒュンダイ・アパート304 −803 (72)発明者 ビシュヌ・ゴゴイ アメリカ合衆国アリゾナ州スコッツデー ル、イースト・クリントン・ストリート 11115 (72)発明者 ゴードン・ビツコ アメリカ合衆国アリゾナ州フェニックス、 アパート2193、サウス・48ス・ストリート 14435 (72)発明者 ビル・マクドナルド アメリカ合衆国アリゾナ州スコッツデー ル、ナンバー399、ノース・92ンド・スト リート1149 (72)発明者 テレサ・エー・マウディー アメリカ合衆国アリゾナ州フェニックス、 イースト・オズボーン・ロード4202 (72)発明者 デーブ・マハデバン アメリカ合衆国アリゾナ州メサ、イース ト・ヒュバー・ストリート543

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハウジング(105)と、 前記ハウジングに結合されたリード・フレーム(13
    0)と、 前記ハウジングにセンサ・ダイを取り付けるための第1
    表面を有するセンサ・ダイ(12)であって、周囲状態
    を測定するためのセンサ・ダイアフラムと、前記センサ
    ・ダイの第2表面上に形成された複数のバンド・パッド
    とを備えた前記センサ・ダイと、 前記複数のバンド・パッドの少なくとも1つを前記リー
    ド・フレームに電気的に接続するワイヤ・ボンド(14
    0)と、 前記センサ・ダイの前記第2表面上で前記センサ・ダイ
    アフラムの外周より外側に構築された保護ダム(15
    0)と、 前記ワイヤ・ボンド上の保護材(160)とを備えた超
    小型電気機械式センサ(10)。
  2. 【請求項2】 前記保護材(160)が前記ハウジング
    および前記保護ダムによって形成されたキャビティ内に
    配置された封止ゲルであり、前記封止ゲルは前記ワイヤ
    ・ボンドを封止するが、前記センサ・ダイアフラムを封
    止しない、請求項1に記載の超小型電気機械式センサ。
  3. 【請求項3】 前記保護材が前記ハウジングおよび前記
    保護ダムに結合されたベント・キャップ(170)であ
    り、前記ベント・キャップはワイヤ・ボンドを封止し、
    かつベント・キャップがセンサ・ダイアフラムを封止し
    ないようにベント・アパーチャを有する、請求項1に記
    載の超小型電気機械式センサ。
  4. 【請求項4】 ハウジング(105)と、 前記ハウジングに結合されたリード・フレーム(13
    0)と、 前記ハウジングにセンサ・ダイを取り付けるための第1
    表面を有するセンサ・ダイ(12)であって、周囲状態
    を測定するためのセンサ・ダイアフラム(121)と、
    前記センサ・ダイの第2表面上に形成された複数のバン
    ド・パッドとを備えた前記センサ・ダイと、 前記複数のバンド・パッドの少なくとも1つを前記リー
    ド・フレームに電気的に接続するワイヤ・ボンド(14
    0)と、 保護ダム(150)であって、 前記センサ・ダイアフラム(121)を周囲状態に暴露
    するために少なくとも1つのアパーチャを有するキャッ
    プ・ウェハ(151)の一部分と、 前記キャップ・ウェハの一部分を前記センサ・ダイに結
    合するためのガラス・フリット(152)・パターンの
    一部分とを備えた前記保護ダムと、 前記ハウジングおよび前記保護ダムによって形成される
    キャビティ内に配置された封止ゲル(160)であっ
    て、前記ワイヤ・ボンドを封止するが、前記センサ・ダ
    イアフラムを封止しない前記封止ゲルとを備えた超小型
    電気機械式システム・センサ。
  5. 【請求項5】 前記保護ダム(150)が前記センサ・
    ダイアフラムの外周と、前記複数のワイヤ・ボンド・パ
    ッド(122)によって形成される内周との間に構築さ
    れる、請求項4に記載の超小型電気機械式システム・セ
    ンサ。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004358603A (ja) * 2003-06-04 2004-12-24 Shinko Electric Ind Co Ltd マイクロデバイスの製造方法
JP2005524847A (ja) * 2002-05-08 2005-08-18 ローズマウント インコーポレイテッド 圧力センサ組立体
JP2008296906A (ja) * 2008-07-03 2008-12-11 Pirelli Tyre Spa タイヤの特性パラメーターの監視システム
JP2013543136A (ja) * 2010-11-22 2013-11-28 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 結合要素を備える感知装置
JP2014174121A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Denso Corp 圧力センサ
JP2014228354A (ja) * 2013-05-21 2014-12-08 株式会社テージーケー 圧力センサモジュール及び圧力センサユニット
JP2018533488A (ja) * 2015-11-06 2018-11-15 ザ・ユニバーシティ・オブ・マンチェスターThe University Of Manchester デバイス及びかかるデバイスを製作する方法
WO2023185372A1 (zh) * 2022-03-30 2023-10-05 青岛歌尔智能传感器有限公司 组合传感器封装结构及封装方法
WO2024075462A1 (ja) * 2022-10-03 2024-04-11 ローム株式会社 圧力センサ

Families Citing this family (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6550337B1 (en) * 2000-01-19 2003-04-22 Measurement Specialties, Inc. Isolation technique for pressure sensing structure
US6441481B1 (en) * 2000-04-10 2002-08-27 Analog Devices, Inc. Hermetically sealed microstructure package
US7071025B2 (en) * 2000-12-29 2006-07-04 Texas Instruments Incorporated Separating wafers coated with plastic films
AUPR244801A0 (en) * 2001-01-10 2001-02-01 Silverbrook Research Pty Ltd A method and apparatus (WSM01)
US6812061B1 (en) * 2001-01-17 2004-11-02 Innovative Micro Technology Method and apparatus for assembling an array of micro-devices
US6769319B2 (en) * 2001-07-09 2004-08-03 Freescale Semiconductor, Inc. Component having a filter
US6781239B1 (en) 2001-12-05 2004-08-24 National Semiconductor Corporation Integrated circuit and method of forming the integrated circuit having a die with high Q inductors and capacitors attached to a die with a circuit as a flip chip
US6891239B2 (en) * 2002-03-06 2005-05-10 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Integrated sensor and electronics package
US6653723B2 (en) * 2002-03-09 2003-11-25 Fujitsu Limited System for providing an open-cavity low profile encapsulated semiconductor package
TW588532B (en) * 2002-03-29 2004-05-21 Realtek Semiconductor Corp Management device and method of NAT/NAPT session
US7089786B2 (en) * 2002-05-15 2006-08-15 Glaxo Group Limited Microelectromechanical system and method for determining temperature and moisture profiles within pharmaceutical packaging
DE60228891D1 (de) * 2002-06-28 2008-10-23 Pirelli Vorrichtung zur überwachung von kennzeichnenden parametern eines reifens
US20040041254A1 (en) * 2002-09-04 2004-03-04 Lewis Long Packaged microchip
US6877380B2 (en) * 2002-10-01 2005-04-12 Honeywell International Inc. Diaphragm for bonded element sensor
US7014888B2 (en) * 2002-12-23 2006-03-21 Freescale Semiconductor, Inc. Method and structure for fabricating sensors with a sacrificial gel dome
DE10324139B4 (de) * 2003-05-26 2005-07-21 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
JP2004361308A (ja) * 2003-06-06 2004-12-24 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 物理量検出装置および物理量検出手段格納ケース
US20050001316A1 (en) * 2003-07-01 2005-01-06 Motorola, Inc. Corrosion-resistant bond pad and integrated device
US7078796B2 (en) * 2003-07-01 2006-07-18 Freescale Semiconductor, Inc. Corrosion-resistant copper bond pad and integrated device
US8162839B2 (en) * 2003-08-27 2012-04-24 Microtech Medical Technologies Ltd. Protected passive resonating sensors
US6995462B2 (en) * 2003-09-17 2006-02-07 Micron Technology, Inc. Image sensor packages
WO2005040748A1 (en) * 2003-09-30 2005-05-06 Honeywell International Inc. Diaphragm for bonded element sensor
US7368312B1 (en) * 2004-10-15 2008-05-06 Morgan Research Corporation MEMS sensor suite on a chip
TWI251886B (en) * 2004-11-03 2006-03-21 Advanced Semiconductor Eng Sensor chip for defining molding exposed region and method for manufacturing the same
DE102005054177B4 (de) * 2005-11-14 2011-12-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von gehäusten Sensormodulen
US20070107500A1 (en) * 2005-11-16 2007-05-17 Neha Patel Sensing moisture uptake of package polymers
TWI289916B (en) * 2006-03-24 2007-11-11 Advanced Semiconductor Eng Chip package and package process thereof
US7632698B2 (en) 2006-05-16 2009-12-15 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit encapsulation and method therefor
US7468556B2 (en) * 2006-06-19 2008-12-23 Lv Sensors, Inc. Packaging of hybrid integrated circuits
US8344487B2 (en) * 2006-06-29 2013-01-01 Analog Devices, Inc. Stress mitigation in packaged microchips
TWM308496U (en) * 2006-09-08 2007-03-21 Lingsen Precision Ind Ltd Package structure of microelectromechanical module systematization
US20080070378A1 (en) * 2006-09-19 2008-03-20 Jong-Souk Yeo Dual laser separation of bonded wafers
US20080105046A1 (en) * 2006-11-03 2008-05-08 Honeywell International Inc. Microelectronic flow sensor packaging method and system
US7807511B2 (en) * 2006-11-17 2010-10-05 Freescale Semiconductor, Inc. Method of packaging a device having a multi-contact elastomer connector contact area and device thereof
US7696016B2 (en) * 2006-11-17 2010-04-13 Freescale Semiconductor, Inc. Method of packaging a device having a tangible element and device thereof
US7588951B2 (en) * 2006-11-17 2009-09-15 Freescale Semiconductor, Inc. Method of packaging a semiconductor device and a prefabricated connector
NL2000566C2 (nl) * 2007-03-30 2008-10-02 Elmos Advanced Packaging B V Sensorelement en sensorsamenstel met omhulling.
TWI341014B (en) * 2007-05-30 2011-04-21 Ind Tech Res Inst A device structure with preformed ring and method therefor
US7694610B2 (en) * 2007-06-27 2010-04-13 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Photo-multiplier tube removal tool
US8148808B2 (en) * 2007-08-13 2012-04-03 Lv Sensors, Inc. Partitioning of electronic packages
US7626827B2 (en) * 2007-09-07 2009-12-01 Kla-Tencor Corporation High density in-package microelectronic amplifier
US7617599B2 (en) * 2007-12-05 2009-11-17 Memsic, Inc. Sensor packaging method for a human contact interface
US8084849B2 (en) * 2007-12-12 2011-12-27 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with offset stacking
US8536692B2 (en) * 2007-12-12 2013-09-17 Stats Chippac Ltd. Mountable integrated circuit package system with mountable integrated circuit die
US7985628B2 (en) * 2007-12-12 2011-07-26 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with interconnect lock
US7781261B2 (en) * 2007-12-12 2010-08-24 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with offset stacking and anti-flash structure
EP2090873B1 (en) * 2008-02-14 2011-06-01 Elmos Advanced Packaging B.V. Integrated circuit package
US20090243069A1 (en) * 2008-03-26 2009-10-01 Zigmund Ramirez Camacho Integrated circuit package system with redistribution
US8468887B2 (en) * 2008-04-14 2013-06-25 Freescale Semiconductor, Inc. Resonant accelerometer with low sensitivity to package stress
DE102008021108A1 (de) * 2008-04-28 2009-11-05 Continental Automotive Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung und Sensoranordnung
TWI380413B (en) * 2008-06-19 2012-12-21 Unimicron Technology Corp Pressure sensing device package and manufacturing method thereof
CN101620022B (zh) * 2008-07-01 2011-12-21 欣兴电子股份有限公司 压力感测元件封装及其制作方法
US9293385B2 (en) * 2008-07-30 2016-03-22 Stats Chippac Ltd. RDL patterning with package on package system
US8115286B2 (en) * 2008-10-22 2012-02-14 Honeywell International Inc. Integrated sensor including sensing and processing die mounted on opposite sides of package substrate
US7886609B2 (en) * 2009-05-06 2011-02-15 Freescale Semiconductor, Inc. Pressure sensor package
US8327715B2 (en) * 2009-07-02 2012-12-11 Honeywell International Inc. Force sensor apparatus
US8359927B2 (en) * 2009-08-12 2013-01-29 Freescale Semiconductor, Inc. Molded differential PRT pressure sensor
FR2953765B1 (fr) * 2009-12-15 2012-05-04 Continental Automotive France Procede et unite de mesure de pression de pneumatiques a vitesses superieures par un capteur integrant une couche de protection
US8490497B2 (en) * 2010-03-25 2013-07-23 University Of Southern California Microelectromechanical (MEMS) pressure transducer
JP4968371B2 (ja) * 2010-06-30 2012-07-04 大日本印刷株式会社 センサデバイスの製造方法及びセンサデバイス
US8618620B2 (en) * 2010-07-13 2013-12-31 Infineon Technologies Ag Pressure sensor package systems and methods
US8230743B2 (en) * 2010-08-23 2012-07-31 Honeywell International Inc. Pressure sensor
US8378435B2 (en) 2010-12-06 2013-02-19 Wai Yew Lo Pressure sensor and method of assembling same
CN102589753B (zh) 2011-01-05 2016-05-04 飞思卡尔半导体公司 压力传感器及其封装方法
DE102011013468A1 (de) 2011-03-09 2012-09-13 Micronas Gmbh Halbleitergehäuse und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitergehäuses
US9029999B2 (en) 2011-11-23 2015-05-12 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor sensor device with footed lid
DE102012217105A1 (de) * 2012-09-24 2014-04-17 Robert Bosch Gmbh Elektrische Schaltung und Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Schaltung
US8757001B2 (en) * 2012-09-27 2014-06-24 Honeywell International Inc. Mechanically coupled force sensor on flexible platform assembly structure
US8946833B2 (en) * 2012-10-22 2015-02-03 Freescale Semiconductor, Inc. Packaging for semiconductor sensor devices and methods
DE102012021413B4 (de) * 2012-10-30 2016-06-02 Infineon Technologies Ag Sensor mit Maskierung
US9173024B2 (en) * 2013-01-31 2015-10-27 Invensense, Inc. Noise mitigating microphone system
US9676614B2 (en) 2013-02-01 2017-06-13 Analog Devices, Inc. MEMS device with stress relief structures
US9677950B2 (en) 2013-03-14 2017-06-13 Robert Bosch Gmbh Portable device with temperature sensing
MY184608A (en) 2013-12-10 2021-04-07 Carsem M Sdn Bhd Pre-molded integrated circuit packages
WO2015119593A1 (en) * 2014-02-04 2015-08-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Encapsulants to retain wires at bond pads
JP6147689B2 (ja) * 2014-03-05 2017-06-14 株式会社東芝 Mems装置
US9297713B2 (en) 2014-03-19 2016-03-29 Freescale Semiconductor,Inc. Pressure sensor device with through silicon via
US9362479B2 (en) 2014-07-22 2016-06-07 Freescale Semiconductor, Inc. Package-in-package semiconductor sensor device
US10167189B2 (en) 2014-09-30 2019-01-01 Analog Devices, Inc. Stress isolation platform for MEMS devices
DE102014018277A1 (de) * 2014-12-12 2016-06-16 Tesat-Spacecom Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Hestellen einer Hochspannungsisolierung von elektrischen Komponenten
US10131538B2 (en) 2015-09-14 2018-11-20 Analog Devices, Inc. Mechanically isolated MEMS device
US20180325454A1 (en) * 2015-11-18 2018-11-15 University Of Utah Research Foundation Conformable biomechanical force sensor and method of fabrication
CN107290096A (zh) 2016-04-11 2017-10-24 飞思卡尔半导体公司 具有膜片的压力感测集成电路器件
CN107527874B (zh) 2016-06-20 2023-08-01 恩智浦美国有限公司 腔式压力传感器器件
GB2555829B (en) 2016-11-11 2019-11-20 Sensata Technologies Inc Encapsulations for MEMS sense elements and wire bonds
CN106477512B (zh) * 2016-11-23 2018-07-31 苏州敏芯微电子技术股份有限公司 压力传感器及其封装方法
US10036676B1 (en) * 2017-03-15 2018-07-31 Honeywell International Inc. Microelectromechanical systems (MEMS) force die with buried cavity vented to the edges
CN108645548B (zh) * 2018-05-10 2022-04-01 苏州敏芯微电子技术股份有限公司 压力传感器封装结构及其形成方法、触控装置
US11837513B2 (en) * 2019-07-17 2023-12-05 Texas Instruments Incorporated O-ring seals for fluid sensing
US11498829B2 (en) 2020-01-16 2022-11-15 Nxp Usa, Inc. No-gel pressure sensor package
US11417611B2 (en) 2020-02-25 2022-08-16 Analog Devices International Unlimited Company Devices and methods for reducing stress on circuit components
CN113526449A (zh) * 2020-04-14 2021-10-22 鹰克国际股份有限公司 芯片封装结构及其制法
US11981560B2 (en) 2020-06-09 2024-05-14 Analog Devices, Inc. Stress-isolated MEMS device comprising substrate having cavity and method of manufacture
US11397120B2 (en) * 2020-09-23 2022-07-26 Apple Inc. Interface pressure sensor system for electronic device
US11839450B2 (en) * 2020-09-23 2023-12-12 Apple Inc. Pressure sensor module for wearable applanation tonometer
US11839451B2 (en) 2020-09-23 2023-12-12 Apple Inc. Sensing structure for pulse-wave velocity measurement

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0810170B2 (ja) 1987-03-06 1996-01-31 株式会社日立製作所 半導体絶対圧力センサの製造方法
US4942383A (en) 1989-03-06 1990-07-17 Honeywell Inc. Low cost wet-to-wet pressure sensor package
JPH04258176A (ja) 1991-02-12 1992-09-14 Mitsubishi Electric Corp 半導体圧力センサ
US5333505A (en) 1992-01-13 1994-08-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor for use at high temperature and pressure and method of manufacturing same
US5612576A (en) * 1992-10-13 1997-03-18 Motorola Self-opening vent hole in an overmolded semiconductor device
US5583370A (en) * 1994-03-04 1996-12-10 Motorola Inc. Tab semiconductor device having die edge protection and method for making the same
US5700981A (en) * 1996-02-08 1997-12-23 Micron Communications, Inc. Encapsulated electronic component and method for encapsulating an electronic component
US6067709A (en) * 1996-02-23 2000-05-30 Mpm Corporation Applying encapsulating material to substrates
US5894167A (en) * 1996-05-08 1999-04-13 Micron Technology, Inc. Encapsulant dam standoff for shell-enclosed die assemblies
US5981314A (en) * 1996-10-31 1999-11-09 Amkor Technology, Inc. Near chip size integrated circuit package
US5929512A (en) * 1997-03-18 1999-07-27 Jacobs; Richard L. Urethane encapsulated integrated circuits and compositions therefor
US5977622A (en) * 1997-04-25 1999-11-02 Lsi Logic Corporation Stiffener with slots for clip-on heat sink attachment

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005524847A (ja) * 2002-05-08 2005-08-18 ローズマウント インコーポレイテッド 圧力センサ組立体
JP2004358603A (ja) * 2003-06-04 2004-12-24 Shinko Electric Ind Co Ltd マイクロデバイスの製造方法
JP2008296906A (ja) * 2008-07-03 2008-12-11 Pirelli Tyre Spa タイヤの特性パラメーターの監視システム
JP2013543136A (ja) * 2010-11-22 2013-11-28 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 結合要素を備える感知装置
JP2017072587A (ja) * 2010-11-22 2017-04-13 アンフェノール サーモメトリックス インコーポレイテッドAmphenol Thermometrics, Inc. 結合要素を備える感知装置
JP2014174121A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Denso Corp 圧力センサ
JP2014228354A (ja) * 2013-05-21 2014-12-08 株式会社テージーケー 圧力センサモジュール及び圧力センサユニット
JP2018533488A (ja) * 2015-11-06 2018-11-15 ザ・ユニバーシティ・オブ・マンチェスターThe University Of Manchester デバイス及びかかるデバイスを製作する方法
US10947107B2 (en) 2015-11-06 2021-03-16 The University Of Manchester Device and method of fabricating such a device
WO2023185372A1 (zh) * 2022-03-30 2023-10-05 青岛歌尔智能传感器有限公司 组合传感器封装结构及封装方法
WO2024075462A1 (ja) * 2022-10-03 2024-04-11 ローム株式会社 圧力センサ

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