JP2001267221A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 荷電粒子源と、
   複数の開口を備えた基板と、
   前記荷電粒子源から放射される荷電粒子線を前記基板に照射する照射電子光学系と、
   前記複数の開口を通過する複数の荷電粒子線から複数の中間像を形成する複数の要素電子光学系と、
   前記複数の中間像を被露光面に縮小投影する投影電子光学系と、
   前記複数の開口を通過する前記複数の荷電粒子線を個別に偏向する複数の偏向器と、
   前記照射電子光学系の前側焦点位置と前記荷電粒子源の位置との相対位置関係を変更するとともに、前記複数の偏向器を個別に制御することで、前記複数の中間像が前記被露光面に投影される位置を調整する制御手段とを有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。
2. 前記照射電子光学系は複数の電子レンズを有し、前記複数の電子レンズのうち少なくとも１つの電子レンズの電子光学的パワーを調整することで前記相対位置関係を変更する請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
3. 前記制御手段は、位置調整の目標値と前記相対位置関係の変更量との差にもとづいて前記複数の偏向器を制御する請求項１または２に記載の荷電粒子線露光装置。
4. 前記複数の中間像が前記投影電子光学系を介して前記被露光面に投影される位置に関する情報に基づいて、前記制御手段は前記目標値を設定する請求項３に記載の荷電粒子線露光装置。
5. 前記複数の中間像が前記投影電子光学系を介して前記被露光面に投影される位置に関する情報に基づいて、前記制御手段は前記相対位置関係の変更を複数回行う請求項３に記載の荷電粒子線露光装置。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の荷電粒子線露光装置を用いて被露光基板を露光する段階と、前記被露光基板を現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
7. 荷電粒子源から荷電粒子線を放射する段階と、
   照射電子光学系によって前記荷電粒子源から放射される前記荷電粒子線を複数の開口を備えた基板に照射する段階と、
   前記複数の開口を通過する複数の荷電粒子線から複数の中間像を形成する段階と、
   複数の偏向器によって前記複数の荷電粒子線を個別に偏向する段階と、
   前記複数の中間像を被露光面に縮小投影する段階と、
   前記複数の偏向器を個別に制御するとともに、前記照射電子光学系の前側焦点位置と前記荷電粒子源の位置との相対位置関係を変更することで、前記複数の中間像が前記被露光面に投影される位置を調整する段階とを有することを特徴とする荷電粒子線露光方法。
8. 前記照射電子光学系は複数の電子レンズを有し、前記複数の電子レンズのうち少なくとも１つの電子レンズの電子光学的パワーを調整することで前記相対位置関係を変更する請求項７に記載の荷電粒子線露光方法。
9. 位置調整の目標値と前記相対位置関係の変更量との差にもとづいて前記複数の偏向器を制御する請求項７または８に記載の荷電粒子線露光方法。
10. 前記複数の中間像が前記被露光面に投影される位置に関する情報に基づいて、前記目標値を設定する請求項９に記載の荷電粒子線露光方法。
11. 前記複数の中間像が前記被露光面に投影される位置に関する情報に基づいて、前記相対位置関係の変更を複数回行う請求項９に記載の荷電粒子線露光方法。
12. 請求項７〜１１のいずれかに記載の荷電粒子線露光方法を用いて被露光基板を露光する段階と、前記被露光基板を現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法。