JP2001264505A - Antireflection transparent electrically conductive laminated film - Google Patents

Antireflection transparent electrically conductive laminated film

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JP2001264505A
JP2001264505A JP2000071199A JP2000071199A JP2001264505A JP 2001264505 A JP2001264505 A JP 2001264505A JP 2000071199 A JP2000071199 A JP 2000071199A JP 2000071199 A JP2000071199 A JP 2000071199A JP 2001264505 A JP2001264505 A JP 2001264505A
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JP
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layer
transparent conductive
laminated film
antireflection
fine particles
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Application number
JP2000071199A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Yamada
司 山田
Akihiro Matsufuji
明博 松藤
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection transparent electrically conductive laminated film which is excellent in antistatic performance, electromagnetic wave shielding property, antireflection performance, stain-proofing property, productivity and mechanical characteristics, is excellent further in adhesion and can be stuck to a face panel. SOLUTION: The antireflection transparent electrically conductive laminated film is obtained by laminating a transparent base (1), a hard coat layer (2), a transparent electyically conductive layer (3) with fine particles comprising at least one metal, at least one antireflection layer (4) having a refractive index different from that of the transparent electrically conductive layer and a stain- proofing layer (5) in this order. The hard coat layer (2) contains a binder polymer prepared by polymerizing and crosslinking a polyfunctional acrylate compound containing dispersed inorganic fine particles containing at least one selected from the group comprising aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide and zirconium oxide. The antireflection layer (4) is substantially formed from a product prepared by partially hydrolyzing and polymerizing an alkyl silicate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止効果、電
磁波遮蔽効果、反射防止効果、機械特性及び防汚性に優
れ、密着性の改良された反射防止透明導電性積層フイル
ムと、それを用いた画像表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-reflective transparent conductive laminated film having an excellent antistatic effect, electromagnetic wave shielding effect, anti-reflective effect, mechanical properties and antifouling property, and having improved adhesion. To an image display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】TVブラウン管やコンピュータディスプ
レイとして用いられている陰極線管やプラズマディスプ
レイ等は、フェースパネル面に発生する静電気により埃
が付着して視認性が低下する他、電磁波を輻射して周囲
に悪影響を及ぼすなどの問題点を有している。また陰極
線管のフラット化等により、反射防止機能が必要となっ
ている。さらに、フェースパネル面は手が触れたり、汚
れを落とすために拭いたりすると、擦り傷が発生しやす
い問題がある。
2. Description of the Related Art In a cathode ray tube, a plasma display, and the like used as a TV cathode ray tube or a computer display, dust adheres due to static electricity generated on a face panel surface, thereby lowering visibility. It has problems such as adverse effects. Further, the flattening of the cathode ray tube or the like requires an antireflection function. Furthermore, when the face panel surface is touched by hands or wiped to remove dirt, there is a problem that scratches are likely to occur.

【0003】帯電防止、電磁波遮蔽および反射防止を目
的としては、銀等の金属あるいはITO等の導電性金属
酸化物を蒸着・スパッタ等で導電性層をフェースパネル
面に直接形成させる方法が提案されているが、膜形成に
は真空処理や高温処理が必要であり、製造費が高価にな
る、あるいは生産性が低いという難点がある。
For the purpose of preventing static electricity, shielding electromagnetic waves and preventing reflection, a method has been proposed in which a conductive layer is formed directly on the face panel surface by vapor deposition or sputtering of a metal such as silver or a conductive metal oxide such as ITO. However, film formation requires vacuum processing and high-temperature processing, and has the disadvantage that manufacturing costs are high or productivity is low.

【0004】また、ゾル−ゲル法による塗布方式の導電
性薄膜の形成法も提案されているが(羽生等,Nati
onal Technical Report 40,
No.1,(1994)90)、高温処理が必要であ
り、透明基材であるプラスチックフイルム上やハードコ
ート上への積層は基材の変質が起こることにより、基材
として使用できる素材が限定されてしまう問題があっ
た。
A method of forming a conductive thin film by a coating method by a sol-gel method has also been proposed (Hani et al., Nati.
onal Technical Report 40,
No. 1, (1994) 90), high-temperature treatment is required, and lamination on a plastic film or a hard coat, which is a transparent substrate, is subject to deterioration of the substrate, which limits the materials that can be used as the substrate. There was a problem.

【0005】導電性酸化物微粒子やコロイドを分散させ
た透明導電性塗料も提案されているが(特開平6−34
4489号、特開平7−268251号)、透明導電性
層の導電性が低いという問題があった。
[0005] A transparent conductive paint in which conductive oxide fine particles and colloids are dispersed has also been proposed (JP-A-6-34).
4489, JP-A-7-268251), which has a problem that the conductivity of the transparent conductive layer is low.

【0006】そこで、さらに導電性をあげるため、金属
微粒子からなる透明導電膜を形成する方法が提案されて
いる(特開昭63−160140号、特開平9−551
75号)。また、透明導電膜上にテトラエトキシシラン
等の反射防止塗料を塗布することにより低反射透明導電
膜を形成する方法が提案されている(特開平10−14
2401号)。しかし、透明基材の上に金属微粒子を塗
布しただけでは機械強度が弱く、さらに、テトラエトキ
シシラン等の反射防止塗料から形成した反射防止層は透
明導電層との密着性が低いという問題がある。また、テ
トラエトキシシラン等の反射防止塗料の硬化には通常、
長時間の高温熱処理が必要であり、ゾル−ゲル法による
反射防止層の積層は透明基材が限られてしまうという問
題が発生する。このため上記の低反射透明導電膜を形成
する方法では、ガラスフェースパネルに直接塗布するこ
としかできないという問題があった。
Therefore, in order to further increase the conductivity, a method of forming a transparent conductive film made of metal fine particles has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 63-160140 and 9-551).
No. 75). Further, a method of forming a low-reflection transparent conductive film by applying an antireflection paint such as tetraethoxysilane on the transparent conductive film has been proposed (JP-A-10-14).
No. 2401). However, there is a problem that mechanical strength is weak only by coating metal fine particles on a transparent base material, and that an antireflection layer formed from an antireflection paint such as tetraethoxysilane has low adhesion to a transparent conductive layer. . Also, for curing of anti-reflective paint such as tetraethoxysilane, usually,
Long-time high-temperature heat treatment is required, and the lamination of the antireflection layer by the sol-gel method has a problem that the transparent substrate is limited. Therefore, the method of forming the low-reflection transparent conductive film has a problem that it can only be applied directly to the glass face panel.

【0007】一方、ガラスフェースパネルに銀微粒子を
直接スピンコート法により塗布し、150℃近辺で焼結
反応を起こすこと、表面のAgOも分解反応を起こす
ことにより焼成することで導電性の改良が提案されてい
るが(特開平10−66861号)、この方法も耐熱性
のあるガラス等の基材にしか適用できない。そこで、設
備投資が大きく、高温処理が必要な、フェースパネル前
面に直接塗膜を形成させる方法に対し、基材に薄膜を形
成したものを貼り付ける方法も提案されている(瀧等,
National Technical Repor
t,42,No.3(1996)264−268)。
On the other hand, silver fine particles are directly applied to a glass face panel by a spin coating method, and a sintering reaction is caused at around 150 ° C., and Ag 2 O on the surface is also baked by causing a decomposition reaction, thereby obtaining a conductive material. Although an improvement has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-66861), this method is also applicable only to heat-resistant substrates such as glass. Therefore, instead of a method of directly forming a coating film on the front surface of a face panel, which requires a large investment in equipment and requires high-temperature treatment, a method of attaching a thin film formed on a base material has been proposed (Taki et al.,
National Technical Report
t, 42, No. 3 (1996) 264-268).

【0008】しかしこれらにおいても薄膜の形成方法
は、ITO(indium titanium oxi
de)等の導電性金属酸化物の蒸着・スパッタ等によっ
て導電性層を形成させる方法であり、膜形成には真空処
理が必要であり、製造コストや生産性に問題があった。
However, even in these methods, a method of forming a thin film is based on ITO (indium titanium oxy).
This method is a method of forming a conductive layer by vapor deposition or sputtering of a conductive metal oxide such as de), and requires vacuum treatment for film formation, which is problematic in manufacturing cost and productivity.

【0009】これらの課題を解決するため、本発明者ら
は、透明基材上にハードコート層と金属微粒子からなる
透明導電層を有し、さらに反射防止透明導電性層を積層
したフイルムについて検討してきたが、透明導電層と他
の層との密着性がまだ十分でなかった。
In order to solve these problems, the present inventors have studied a film having a hard coat layer and a transparent conductive layer composed of metal fine particles on a transparent substrate, and further laminating an anti-reflective transparent conductive layer. However, the adhesion between the transparent conductive layer and other layers has not been sufficient.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされたものであって、帯電防止性、
電磁波遮蔽性、反射防止性、防汚性、生産性、機械特性
に優れ、更に密着性に優れ、フェースパネルに貼り付け
ることの可能な反射防止透明導電性積層フイルムを提供
することにある。さらに本発明は、画像表示面の電磁波
遮蔽性、反射防止性、防汚性、機械特性に優れ、フィル
ムをフェースパネルに貼り付けることにより高い生産性
で製造することができ、フイルムの剥離も防止された画
像表示装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has an antistatic property,
An object of the present invention is to provide an anti-reflective transparent conductive laminated film which is excellent in electromagnetic wave shielding property, anti-reflection property, anti-fouling property, productivity, mechanical properties, excellent in adhesion, and can be attached to a face panel. Furthermore, the present invention has excellent electromagnetic wave shielding properties, antireflection properties, antifouling properties, and mechanical properties of the image display surface, and can be manufactured with high productivity by attaching a film to a face panel, and also prevents film peeling. It is an object of the present invention to provide a completed image display device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記事情に
鑑み鋭意研究した結果、透明支持体上にハードコート層
と、少なくとも1種以上の金属からなる微粒子を有する
透明導電層と、該透明導電層の外層に形成され、この透
明導電層の屈折率と異なる屈折率を有する少なくとも1
層の透明性反射防止層と、最外層に形成された防汚層と
を含む構成の積層フイルムにおいて、ハードコート層を
特定の無機微粒子を分散させた多官能アクリレート化合
物を重合、架橋させてなるバインダーポリマーより形成
し、反射防止層を実質的にアルキルシリケートの部分加
水分解重合物から形成することにより上記を解決しうる
ことを見出した。この理由としては、ハードコート層と
反射防止層の間に介在する、金属微粒子を有する透明導
電層が一種の凝集構造を部分的にとるため、透明導電層
上に塗布された反射防止層がハードコート層と一部で接
触しており、ハードコート層と反射防止層との密着力を
向上させ、フイルム剥離の問題を解決することができる
と考えられる。本発明はこの知見に基づきなされるに至
ったものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in view of the above circumstances, and as a result, have found that a hard coat layer on a transparent support, a transparent conductive layer having fine particles of at least one or more metals, At least one layer formed on an outer layer of the transparent conductive layer and having a refractive index different from that of the transparent conductive layer;
In a laminated film comprising a transparent antireflection layer of the layer and an antifouling layer formed on the outermost layer, the hard coat layer is formed by polymerizing and crosslinking a polyfunctional acrylate compound in which specific inorganic fine particles are dispersed. It has been found that the above problem can be solved by forming the antireflection layer from a partially hydrolyzed polymer of an alkyl silicate substantially by forming the antireflection layer from a binder polymer. The reason is that the transparent conductive layer having fine metal particles interposed between the hard coat layer and the antireflection layer partially forms a kind of cohesive structure, so that the antireflection layer applied on the transparent conductive layer is hard. It is considered that the film is partly in contact with the coat layer, so that the adhesion between the hard coat layer and the antireflection layer can be improved and the problem of film peeling can be solved. The present invention has been made based on this finding.

【0012】すなわち本発明は、(1)透明支持体、ハ
ードコート層、少なくとも1種の金属からなる微粒子を
有する透明導電層、透明導電層の屈折率と異なる屈折率
を有する少なくとも1層の反射防止層、および防汚層が
この順で積層された反射防止透明導電性積層フイルムで
あって、該ハードコート層が、酸化アルミニウム、二酸
化ケイ素、二酸化チタンおよび酸化ジルコニウムからな
る群から選ばれる少なくとも1種を含む無機微粒子を分
散させた多官能アクリレート化合物を重合、架橋させて
なるバインダーポリマーを含んでなり、該反射防止層が
実質的にアルキルシリケート部分加水分解重合物より形
成されていることを特徴とする反射防止透明導電性積層
フイルム、(2)ハードコート層が5〜80質量%の無
機微粒子を含有することを特徴とする(1)項に記載の
反射防止透明導電性積層フイルム、(3)反射防止層が
実質的にメチルシリケートおよび/またはエチルシリケ
ートの部分加水分解重合物より形成されていることを特
徴とする(1)または(2)項に記載の反射防止透明導
電性積層フイルム、(4)反射防止層が、メチルシリケ
ートおよび/またはエチルシリケートの部分加水分解重
合物、並びに酸またはアルカリを含有する塗布液により
形成されたことを特徴とする(3)項に記載の反射防止
透明導電性積層フイルム、
That is, the present invention provides (1) a transparent support, a hard coat layer, a transparent conductive layer having fine particles made of at least one kind of metal, and reflection of at least one layer having a refractive index different from that of the transparent conductive layer. An antireflective transparent conductive laminated film in which an antireflection layer and an antifouling layer are laminated in this order, wherein the hard coat layer is at least one selected from the group consisting of aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide and zirconium oxide. It comprises a binder polymer obtained by polymerizing and crosslinking a polyfunctional acrylate compound in which inorganic fine particles containing seeds are dispersed, and the antireflection layer is substantially formed of an alkyl silicate partially hydrolyzed polymer. (2) The hard coat layer contains 5-80% by mass of inorganic fine particles. (1) The antireflection transparent conductive laminated film according to the item (1), (3) that the antireflection layer is substantially formed of a partially hydrolyzed polymer of methyl silicate and / or ethyl silicate. (1) or (2), wherein the antireflection transparent conductive laminated film according to (1) or (2), (4) the antireflection layer contains a partially hydrolyzed polymer of methyl silicate and / or ethyl silicate, and an acid or alkali. The anti-reflection transparent conductive laminated film according to the item (3), wherein the laminated film is formed by a coating solution to be applied.

【0013】(5)反射防止層が実質的にメチルシリケ
ート部分加水分解重合物より形成されていることを特徴
とする(3)または(4)項に記載の反射防止導電性積
層フイルム、(6)反射防止層が少なくとも10質量%
のケイ素を含むことを特徴とする(1)〜(5)項のい
ずれか1項に記載の反射防止透明導電性積層フイルム、
(7)透明支持体上に、酸化アルミニウム、二酸化ケイ
素、二酸化チタンおよび酸化ジルコニウムからなる群か
ら選ばれる少なくとも1種を含み、無機微粒子を分散さ
せた多官能アクリレート化合物を重合、架橋させてなる
バインダーポリマーを含んでなるハードコート層を形成
し、その上に、少なくとも1種の金属からなる微粒子を
有する透明導電層を形成した後、フイルムを水洗、加熱
し、更にアルキルシリケート部分加水分解重合物により
硬化反射防止層を形成することを特徴とする反射防止透
明導電性積層フイルムの製造方法、及び(8)画像表示
面上に、(1)〜(6)項のいずれか1項に記載の反射
防止透明導電性積層フイルムを有することを特徴とする
画像表示装置を提供するものである。
(5) The antireflection conductive laminated film according to the item (3) or (4), wherein the antireflection layer is substantially formed of a partially hydrolyzed polymer of methyl silicate. ) At least 10% by weight of antireflection
The anti-reflective transparent conductive laminated film according to any one of the above items (1) to (5), comprising:
(7) A binder obtained by polymerizing and crosslinking a polyfunctional acrylate compound containing at least one selected from the group consisting of aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide, and zirconium oxide on a transparent support, in which inorganic fine particles are dispersed. After forming a hard coat layer containing a polymer and forming thereon a transparent conductive layer having fine particles made of at least one kind of metal, the film is washed with water, heated, and further treated with an alkyl silicate partially hydrolyzed polymer. (8) The method for producing an antireflection transparent conductive laminated film, wherein a cured antireflection layer is formed, and (8) the reflection according to any one of (1) to (6) on an image display surface. It is an object of the present invention to provide an image display device characterized by having a transparent conductive laminated film for prevention.

【0014】本発明の反射防止透明導電性積層フイルム
は、TVブラウン管やコンピュータディスプレイとして
用いられている陰極線管やプラズマディスプレイ等の表
面に直接ラミネートすることができる。これにより、物
理蒸着(PVD)法や化学蒸着(CVD)法を用いる従
来の導電性被膜の形成方法や、フェースパネル等に直接
導電性皮膜等を塗布する方法に比べ、設備も工程も格段
に簡略化することができ、さらに、表面の機械特性、特
に耐傷性を向上させることが可能となり、密着性が低い
ことによるフイルム剥離等の問題も発生しない。また、
本発明のフイルムを液晶ディスプレイに直接貼合するこ
とで、液晶ディスプレイの表面の機械特性、反射特性を
改善することが可能である。
The anti-reflection transparent conductive laminated film of the present invention can be directly laminated on the surface of a cathode ray tube or a plasma display used as a TV cathode ray tube or a computer display. As a result, the equipment and process are much more remarkable than the conventional method of forming a conductive film using a physical vapor deposition (PVD) method or a chemical vapor deposition (CVD) method, or a method of directly applying a conductive film or the like to a face panel or the like. It can be simplified, and furthermore, the mechanical properties of the surface, particularly the scratch resistance, can be improved, and problems such as film peeling due to low adhesion do not occur. Also,
By directly laminating the film of the present invention to a liquid crystal display, it is possible to improve the mechanical properties and the reflection properties of the surface of the liquid crystal display.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳し
く説明する。図1に、本発明の好ましい一実施形態であ
る反射防止透明導電性積層フイルムの層構成を示す断面
模式図を示す。透明支持体1の側からハードコート層
2、少なくとも1種の金属からなる微粒子より形成され
た透明導電層3と、その外層に透明導電層3と異なる屈
折率を有する反射防止層4が、実質的にアルキルシリケ
ートの部分加水分解重合物より形成され、最外層には防
汚層5を有する。図1には反射防止層が1層の例を示し
たが、それぞれ透明導電層と異なる屈折率を有する2層
以上の反射防止層を有するものであってもよい。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of an antireflection transparent conductive laminated film according to a preferred embodiment of the present invention. A hard coat layer 2, a transparent conductive layer 3 formed of fine particles made of at least one metal, and an antireflection layer 4 having a refractive index different from that of the transparent conductive layer 3 on its outer layer are substantially formed from the side of the transparent support 1. It is formed from a partially hydrolyzed polymer of alkyl silicate, and has an antifouling layer 5 as the outermost layer. FIG. 1 shows an example in which the antireflection layer is a single layer, but may have two or more antireflection layers each having a refractive index different from that of the transparent conductive layer.

【0016】本発明の積層フイルムは、ハードコート層
を設けたことによりフイルムに傷が付くことが防止され
ている。また、少なくとも1種の金属からなる微粒子を
有する透明導電層が積層されているので十分な導電性を
有し、帯電を防止しうると共に、陰極線管等から輻射さ
れる電磁波を効果的に遮断することができる。さらに反
射防止層を有することにより外部からの反射光を低下さ
せることができ、最外層に設けた防汚層によりフイルム
の汚れを防止することができる。
The laminated film of the present invention prevents the film from being damaged due to the provision of the hard coat layer. Further, since a transparent conductive layer having fine particles made of at least one kind of metal is laminated, it has sufficient conductivity, can prevent charging, and effectively blocks electromagnetic waves radiated from a cathode ray tube or the like. be able to. Further, by having an antireflection layer, reflected light from the outside can be reduced, and the film can be prevented from being stained by an antifouling layer provided on the outermost layer.

【0017】本発明に用いられる透明支持体としては、
プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラス
チックフイルムを形成するポリマーの例には、セルロー
スエステル(例えば、トリアセチルセルロース、ジアセ
チルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセ
ルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセ
ルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエス
テル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェ
ノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブ
チレンテレフタレート)、ポリスチレン(例えば、シン
ジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例え
ば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテ
ン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリ
レート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレー
トおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチル
セルロース、ポリカーボネートおよびポリエチレンテレ
フタレートが好ましい。透明支持体の光透過率は、80
%以上であることが好ましく、86%以上であることが
さらに好ましい。透明支持体のヘイズは、2.0%以下
であることが好ましく、1.0%以下であることがさら
に好ましい。透明支持体の屈折率は、1.4乃至1.7
であることが好ましい。
The transparent support used in the present invention includes:
It is preferable to use a plastic film. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene Naphthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin ( For example, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, poly Includes ether imides, polymethyl methacrylate and polyether ketone. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The light transmittance of the transparent support is 80.
%, More preferably 86% or more. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent support is 1.4 to 1.7.
It is preferred that

【0018】この透明支持体フイルムの厚さとしては特
に制限はなく、使用目的に応じて適宜選定すればよい
が、20〜500μmが好ましい。薄すぎると膜強度が
弱く、厚いとスティフネスが大きく貼り付けが困難にな
る場合があり、50〜200μmがより好ましい。この
透明支持体フイルムは、所望により着色又は蒸着されて
いてもよく、また紫外線吸収剤を含んでいてもよい。さ
らに、その表面に設けられる層との密着性を向上させる
目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法
などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法と
しては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロ
ム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外
線照射処理などが挙げられる。更に、一層以上の下塗り
層を設けることができる。下塗り層の素材としては塩化
ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、(メタ)アクリ
ル酸エステル、ビニルエステル等の共重合体或いはラテ
ックス、ゼラチン等の水溶性ポリマーなどが挙げられ
る。
The thickness of the transparent support film is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 20 to 500 μm. If the thickness is too small, the film strength is weak, and if the thickness is too large, the stiffness may be large and it may be difficult to attach the film. The transparent support film may be colored or vapor-deposited as desired, and may contain an ultraviolet absorber. Further, for the purpose of improving the adhesion to a layer provided on the surface, one or both surfaces can be subjected to a surface treatment by an oxidation method, a roughening method, or the like, if desired. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, glow discharge treatment, chromic acid treatment (wet method), flame treatment, hot air treatment, and ozone / ultraviolet irradiation treatment. Further, one or more undercoat layers can be provided. Examples of the material for the undercoat layer include copolymers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, (meth) acrylate, and vinyl ester, and water-soluble polymers such as latex and gelatin.

【0019】本発明においてハードコート層は、透明支
持体に耐傷性を付与する機能を有する。ハードコート層
は、アクリレート化合物の架橋している重合体を含み、
多官能アクリレート化合物と重合開始剤を含む塗布液を
透明支持体上に塗布し、多官能アクリレート化合物を重
合させることにより形成できる。官能基としては、エチ
レン性不飽和基が好ましい。なお、本発明においてアク
リレート化合物には、もちろんメタクリレート化合物も
含まれる。多官能アクリレート化合物は、多価アルコー
ルとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルである
ことが好ましい。多価アルコールの例には、エチレング
リコール、1,4−シクロヘキサノール、ペンタエリス
リトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエ
タン、ジペンタエリスリトール、1,2,4−シクロヘ
キサノール、ポリウレタンポリオールおよびポリエステ
ルポリオールが含まれる。トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびポ
リウレタンポリオールが好ましい。二種類以上の多官能
アクリレート化合物を併用してもよい。
In the present invention, the hard coat layer has a function of imparting scratch resistance to the transparent support. The hard coat layer includes a cross-linked polymer of an acrylate compound,
It can be formed by applying a coating solution containing a polyfunctional acrylate compound and a polymerization initiator on a transparent support and polymerizing the polyfunctional acrylate compound. As the functional group, an ethylenically unsaturated group is preferable. In the present invention, the acrylate compound also includes a methacrylate compound. The polyfunctional acrylate compound is preferably an ester of a polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,4-cyclohexanol, pentaerythritol, trimethylolpropane, trimethylolethane, dipentaerythritol, 1,2,4-cyclohexanol, polyurethane polyol and polyester polyol. . Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and polyurethane polyols are preferred. Two or more polyfunctional acrylate compounds may be used in combination.

【0020】本発明においては、ハードコート層に無機
微粒子を添加分散することで、膜としての架橋収縮率を
改良し、塗膜の平面性を向上させることができる。ま
た、この無機微粒子により前記のようなハードコート層
と反射防止層との接触部分の密着性をさらに高めること
ができる。無機微粒子としては、反射防止層に含有され
るケイ素と親和性があるものが好ましく、本発明におい
ては二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコ
ニウム粒子、酸化アルミニウム粒子のいずれかが用いら
れる。前記の無機微粒子の平均粒子径は、1乃至200
0nmであることが好ましく、2乃至1000nmであ
ることがより好ましく、5乃至500nmであることが
さらに好ましく、10乃至200nmであることが最も
好ましい。前記の無機微粒子の添加量は、ハードコート
層の全量の1乃至99質量%であることが好ましく、3
乃至90質量%であることがより好ましく、5乃至80
質量%であることが最も好ましい。本発明において前記
以外の無機微粒子をさらに添加してもよい。
In the present invention, by adding and dispersing inorganic fine particles in the hard coat layer, the crosslinking shrinkage as a film can be improved and the flatness of the coating film can be improved. The inorganic fine particles can further enhance the adhesion at the contact portion between the hard coat layer and the antireflection layer as described above. As the inorganic fine particles, those having an affinity for silicon contained in the antireflection layer are preferable. In the present invention, any one of silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles is used. The average particle diameter of the inorganic fine particles is 1 to 200.
It is preferably 0 nm, more preferably 2 to 1000 nm, still more preferably 5 to 500 nm, and most preferably 10 to 200 nm. The addition amount of the inorganic fine particles is preferably 1 to 99% by mass of the total amount of the hard coat layer, and is preferably 3 to 99% by mass.
And more preferably 90 to 90% by mass.
Most preferably, it is% by mass. In the present invention, inorganic fine particles other than those described above may be further added.

【0021】一般に無機微粒子はバインダーポリマーと
の親和性が悪いため、単に両者を混合するだけでは界面
が破壊しやすく、膜として割れ、耐傷性を改善すること
は困難である。無機微粒子を有機セグメントを含む表面
処理剤で処理することで、無機微粒子とポリマーバイン
ダーとの親和性は改良され、この問題は解決できる。表
面処理剤は一方で金属粒子と結合を形成し得、他方でバ
インダーポリマーと高い親和性を有することが必要であ
る。金属と結合を生成し得る官能基としては、金属アル
コキシドが好ましく、具体的にはアルミニウム、チタン
等の金属アルコキシド化合物を挙げることができる。あ
るいは、アニオン性基を有する化合物が好ましく、リン
酸基、スルホン酸基またはカルボン酸基を官能基として
有する化合物がさらに好ましい。またバインダーポリマ
ーとは化学的に結合させることが好ましく、末端にビニ
ル性重合基等を導入したものが好適である。例えば、エ
チレン性不飽和基を重合性基および架橋性基として有す
るモノマーからバインダーポリマーを合成する場合は、
金属アルコキシド化合物またはアニオン性化合物の末端
にエチレン性不飽和基を有していることが好ましい。こ
の表面処理の方法は無機微粒子を前記の表面処理剤で被
覆し、バインダーポリマーに添加後、被覆表面処理剤を
バインダーポリマーの架橋と同時に硬化、架橋させるの
が良い。
In general, inorganic fine particles have a poor affinity for a binder polymer. Therefore, simply mixing the two easily breaks the interface, cracks the film, and makes it difficult to improve the scratch resistance. By treating the inorganic fine particles with a surface treating agent containing an organic segment, the affinity between the inorganic fine particles and the polymer binder is improved, and this problem can be solved. The surface treatment agent must be able to form bonds with the metal particles on the one hand and have a high affinity for the binder polymer on the other hand. As the functional group capable of forming a bond with a metal, a metal alkoxide is preferable, and specific examples thereof include metal alkoxide compounds such as aluminum and titanium. Alternatively, a compound having an anionic group is preferable, and a compound having a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group as a functional group is more preferable. Further, it is preferable that the polymer is chemically bonded to the binder polymer, and a polymer having a vinyl polymer group introduced at the terminal is preferable. For example, when synthesizing a binder polymer from a monomer having an ethylenically unsaturated group as a polymerizable group and a crosslinkable group,
It is preferable that the metal alkoxide compound or the anionic compound has an ethylenically unsaturated group at a terminal. In this surface treatment method, it is preferable that the inorganic fine particles are coated with the above-mentioned surface treatment agent, and after the addition to the binder polymer, the coated surface treatment agent is cured and crosslinked simultaneously with the crosslinking of the binder polymer.

【0022】架橋しているバインダーポリマーの合成反
応(多官能モノマーの重合反応)には、光重合開始剤を
用いることが好ましい。光重合開始剤の例には、アセト
フェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイル
ベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチ
ルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類が
含まれる。光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いても
よい。光増感剤の例には、n−ブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケ
トンおよびチオキサントンが含まれる。光重合開始剤
は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1乃至
15質量部の範囲で使用することが好ましく、1乃至1
0質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。光重
合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線
照射により実施することが好ましい。
For the synthesis reaction of the crosslinked binder polymer (polymerization reaction of the polyfunctional monomer), it is preferable to use a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, benzoylbenzoate of Michler, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthone. A photosensitizer may be used in addition to the photopolymerization initiator. Examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone. The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyfunctional monomer.
More preferably, it is used in the range of 0 parts by mass. The photopolymerization reaction is preferably carried out by irradiating ultraviolet rays after applying and drying the hard coat layer.

【0023】本発明の透明導電層は、少なくとも1種の
金属からなる微粒子(以下、金属微粒子ともいう)を含
有する。1種以上の金属からなる微粒子としては、金、
銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウム、プ
ラチナ等の金属、あるいはこれらの合金の微粒子が挙げ
られる。特に銀を含有する微粒子が好ましく、さらに耐
候性の観点からパラジウムと銀の合金の微粒子が好まし
い。パラジウムの含有量としては5〜30wt%が好ま
しく、パラジウムが少ないと耐候性が悪くなることがあ
り、また、パラジウムが多くなると導電性が低下するこ
とがある。金属微粒子の作成方法としては、低真空蒸発
法による微粒子の作製方法や、金属塩の水溶液を鉄(I
I)、ヒドラジン、ボロンハイドライド、ヒドロキシエ
チルアミン等のアミン等の還元剤で還元する金属コロイ
ド作製方法が挙げられる。
The transparent conductive layer of the present invention contains fine particles made of at least one kind of metal (hereinafter also referred to as metal fine particles). Fine particles composed of one or more metals include gold,
Fine particles of metals such as silver, copper, aluminum, iron, nickel, palladium and platinum, or alloys of these metals. Particularly, fine particles containing silver are preferable, and fine particles of an alloy of palladium and silver are more preferable from the viewpoint of weather resistance. The content of palladium is preferably 5 to 30% by weight. When the amount of palladium is small, the weather resistance may be deteriorated. When the amount of palladium is large, the conductivity may be reduced. Examples of the method for producing metal fine particles include a method for producing fine particles by a low-vacuum evaporation method and an aqueous solution of a metal salt containing iron (I
I), a method of preparing a metal colloid which is reduced with a reducing agent such as an amine such as hydrazine, boron hydride or hydroxyethylamine.

【0024】これら金属微粒子の平均粒径は1〜100
nmが好ましい。100nmを越える場合には、金属微
粒子による光の吸収が大きくなり、このために粒子層の
光透過率が低下すると同時にヘイズが大きくなり、ま
た、これら金属微粒子の平均粒径が1nm未満の場合に
は微粒子の分散が困難になること、および微粒子層の表
面抵抗が急激に大きくなることにより、本発明の目的を
達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜を得ることがで
きないことがある。透明導電層は実質的に金属微粒子の
みからなることが好ましく、バインダー等の非導電性の
ものを含有しないことが導電性の観点から好ましい。
The average particle diameter of these metal fine particles is 1 to 100.
nm is preferred. When it exceeds 100 nm, the light absorption by the metal fine particles becomes large, so that the light transmittance of the particle layer is reduced and the haze is increased, and when the average particle size of these metal fine particles is less than 1 nm, In some cases, it becomes difficult to disperse the fine particles and the surface resistance of the fine particle layer rapidly increases, so that a film having a low resistance value that can achieve the object of the present invention cannot be obtained. The transparent conductive layer is preferably substantially composed of only metal fine particles, and preferably does not contain a nonconductive material such as a binder from the viewpoint of conductivity.

【0025】透明導電層の形成は、金属微粒子を水を主
体とする溶液あるいは有機溶剤等に分散した塗料をハー
ドコート層上に塗布して作製する。金属微粒子の分散安
定化のためには水を主体とする溶液が好ましく、水と混
合できる溶剤としてはエチルアルコール、n−プロピル
アルコール、i−プロピルアルコール、ブチルアルコー
ル、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコー
ルが好ましい。金属微粒子の塗布量としては、50〜1
50mg/m2が好ましい。塗布量が少ないと十分な導
電性が得られず、塗布量が多いと透過性が低くなりすぎ
ることがある。
The transparent conductive layer is formed by applying a coating material in which metal fine particles are dispersed in a solution mainly composed of water or an organic solvent or the like on the hard coat layer. For the purpose of stabilizing the dispersion of the metal fine particles, a solution mainly composed of water is preferable. Examples of the solvent that can be mixed with water include ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, butyl alcohol, methylcellosolve, butylcellosolve and the like. Are preferred. The coating amount of the metal fine particles is 50 to 1
50 mg / m 2 is preferred. If the coating amount is small, sufficient conductivity cannot be obtained, and if the coating amount is large, the transmittance may be too low.

【0026】透明導電層の表面抵抗率は、スウェーデン
中央労働者協議会が制定したTCOガイドラインをクリ
アーするため1000Ω/□以下が必要であり、透過性
は50%以上が好ましい。なお、表面抵抗率は正方形の
領域の平行な2辺に電極を設置した時の抵抗値であり、
単位はΩであるが、便宜上Ω/□で表記される。本発明
では表面抵抗率をΩ/□で表記する。
The surface resistivity of the transparent conductive layer is required to be 1000 Ω / □ or less in order to meet the TCO guidelines established by the Swedish Central Workers' Council, and the transmittance is preferably 50% or more. The surface resistivity is a resistance value when electrodes are installed on two parallel sides of a square area.
Although the unit is Ω, it is represented by Ω / □ for convenience. In the present invention, the surface resistivity is represented by Ω / □.

【0027】本発明においては、透明導電性層の導電性
や透過性の向上のため、熱処理や水処理することができ
る。熱処理は、透明支持体の耐熱性によるが、150℃
以下が好ましく、100〜150℃がさらに好ましい。
温度が高すぎると透明支持体の熱による変形が起こりや
すく、低すぎると熱処理の効果を得にくいため長時間の
処理を必要とする場合がある。
In the present invention, the transparent conductive layer can be subjected to heat treatment or water treatment in order to improve conductivity and permeability. The heat treatment depends on the heat resistance of the transparent support.
The following is preferable, and 100 to 150 ° C is more preferable.
If the temperature is too high, the transparent support is likely to be deformed by heat. If the temperature is too low, it is difficult to obtain the effect of the heat treatment, so that a long-time treatment may be required.

【0028】熱処理の方法は、ウェット状態で加熱ゾー
ンを通しながら処理することが均一な処理ができて好ま
しい。加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節す
ることができる。またロール状のフイルムを高温槽中で
加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを考慮
した時間設定が必要になる。
The heat treatment is preferably performed in a wet state while passing through a heating zone, since uniform treatment can be achieved. The stay time can be adjusted by the length of the heating zone and the transport speed. It is also possible to heat the roll-shaped film in a high-temperature bath, but it is necessary to set a time in consideration of variations in heat conduction.

【0029】また、熱処理に先立ち透明導電性層に水洗
等の水処理を施すことにより、熱処理をさらに効率良く
行うことができる。水洗等の水処理は、通常の塗布方式
による水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、
ワイヤーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレー
やシャワーで水を透明導電性層にかける方法がある。透
明導電性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、
ワイヤーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイ
フで掻き取ったりすることができる。
Further, by performing a water treatment such as washing with water on the transparent conductive layer prior to the heat treatment, the heat treatment can be performed more efficiently. Water treatment such as washing is performed by applying only water by a normal coating method, specifically, dip coating,
There is a method of applying water to the transparent conductive layer by spraying or showering, for example, by applying water with a wire bar. After watering the transparent conductive layer, excess water can be
It can be scraped with a wire bar or rod bar, or scraped with an air knife.

【0030】これらの水処理により、熱処理後の透明導
電性層の表面抵抗をさらに低下させることが出来、加え
て透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反射防止層
を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕著にな
る。
These water treatments can further reduce the surface resistance of the transparent conductive layer after the heat treatment, increase the transmittance, flatten the transmission spectrum, and reflectivity after the antireflection layer is laminated. The effect on the reduction of the amount becomes significant.

【0031】本発明において反射防止層は、透明導電層
と屈折率が異なり、2よりも小さいことが好ましい。屈
折率が異なるとは、少なくとも屈折率の差が0.01以
上異なることを示すが、透明導電層か反射防止層が吸収
を持っているために屈折率が複素数となる場合には、そ
の虚数部が0.01以上異なっている場合も屈折率が異
なるとみなすことができる。ここで、屈折率と反射防止
層の厚み(nm)との積が100〜200の範囲に入る
ことがさらに好ましい。この反射防止層は実質的にアル
キルシリケート部分加水分解重合物から形成される。こ
こで「実質的にアルキルシリケート部分加水分解重合物
から形成される」とは、アルキルシリケート部分加水分
解重合物が全体の60質量%以上で形成されることをい
う。また、本発明において反射防止層は、好ましくは1
0質量%以上、さらに好ましくは20〜70質量%のケ
イ素を含有する。本発明で用いることのできるアルキル
シリケート部分加水分解重合物としては、炭素数1〜3
の低級アルキル基を有するものが好ましく、エチルシリ
ケート、メチルシリケートがさらに好ましく、メチルシ
リケートが特に好ましい。上記アルキルシリケート部分
加水分解重合物として例えば、オルトアルキルシリケー
トを加水分解して、ある程度脱水縮重合を進行させた形
のものなどが挙げられる。オルトアルキルシリケートと
しては、例えばオルトメチルシリケート(Si(OCH
34)、オルトエチルシリケート(Si(OC
254)オルトプロピルシリケート(Si(OC
374)、オルトブチルシリケート(Si(OC
494)、などを使用することができる。また2種以
上のアルキル基を同一分子内に有するオルトアルキルシ
リケートでも良い。また2種以上のアルキルオルトシリ
ケートを混合して使用しても差し支えない。
In the present invention, the antireflection layer has a refractive index different from that of the transparent conductive layer and is preferably smaller than 2. The difference in the refractive index means that the difference in the refractive index is at least 0.01 or more, but when the refractive index is a complex number because the transparent conductive layer or the antireflection layer has absorption, the imaginary number When the portions are different by 0.01 or more, it can be considered that the refractive indexes are different. Here, the product of the refractive index and the thickness (nm) of the antireflection layer is more preferably in the range of 100 to 200. The antireflective layer is formed substantially from an alkyl silicate partially hydrolyzed polymer. Here, “substantially formed from an alkyl silicate partially hydrolyzed polymer” means that the alkyl silicate partially hydrolyzed polymer is formed in 60% by mass or more of the whole. Further, in the present invention, the antireflection layer preferably comprises 1
It contains 0% by mass or more, more preferably 20 to 70% by mass of silicon. The alkyl silicate partially hydrolyzed polymer that can be used in the present invention has 1 to 3 carbon atoms.
Those having a lower alkyl group are preferred, ethyl silicate and methyl silicate are more preferred, and methyl silicate is particularly preferred. Examples of the alkyl silicate partially hydrolyzed polymer include those in which orthoalkyl silicate is hydrolyzed and dehydration condensation polymerization is advanced to some extent. As the orthoalkyl silicate, for example, orthomethyl silicate (Si (OCH
3 ) 4 ), ortho-ethyl silicate (Si (OC
2 H 5 ) 4 ) Orthopropyl silicate (Si (OC
3 H 7) 4), ortho-butyl silicate (Si (OC
4 H 9) 4), or the like can be used. Orthoalkyl silicate having two or more alkyl groups in the same molecule may be used. Further, two or more kinds of alkyl orthosilicates may be used as a mixture.

【0032】オルトアルキルシリケートは、水分の存在
下で容易に加水分解を受けて、アルコキシル基が水酸基
となり、脱水縮重合により重合する。本発明におけるア
ルキルシリケート部分加水分解重合物とは、このような
ある程度縮重合が進行したものも含む。なお脱水縮重合
反応を進行させるために、少量の水分や反応触媒として
塩酸や硫酸のような酸、もしくは水酸化ナトリウムやア
ンモニア等のアルカリを共存させることができる。反射
防止層は、アルキルシリケート部分加水分解重合物と前
記の酸またはアルカリとを含有する塗布液より、好まし
く形成しうる。塗布液中のアルキルシリケート部分加水
分解重合物の濃度は適宜設定されるが、10〜0.01
質量%が好ましい。酸またはアルカリの量も特に制限は
なく、通常はいわゆる触媒量である。溶媒としては例え
ばメタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、
MEK(メチルエチルケトン)などを用いる。
The orthoalkyl silicate is easily hydrolyzed in the presence of water, and the alkoxyl group becomes a hydroxyl group, and is polymerized by dehydration polycondensation. The partially hydrolyzed alkyl silicate polymer in the present invention also includes such a polymer that has undergone a certain degree of polycondensation. In order to promote the dehydration-condensation polymerization reaction, a small amount of water or an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an alkali such as sodium hydroxide or ammonia can be coexisted as a reaction catalyst. The antireflection layer can be preferably formed from a coating solution containing an alkyl silicate partially hydrolyzed polymer and the above-mentioned acid or alkali. The concentration of the alkyl silicate partially hydrolyzed polymer in the coating solution is appropriately set,
% By mass is preferred. The amount of the acid or alkali is not particularly limited, and is usually a so-called catalytic amount. As the solvent, for example, methanol, ethanol, propanol, acetone,
MEK (methyl ethyl ketone) or the like is used.

【0033】アルキルシリケート部分加水分解重合物
は、上記のようにオルトアルキルシリケートを出発原料
として作製することができるが、同様のアルキルシリケ
ート部分加水分解重合物が得られるならばその原料は必
ずしもオルトアルキルシリケートに限定されない。市販
品としては例えばエチルシリケート40やメチルシリケ
ート51(いずれも商品名、多摩化学工業社製)が上市
されているが、このような化合物をそのまま、或いはさ
らに加水分解縮重合を進行させた上、所定量に希釈して
用いることができる。さらに、例えば、チタン、ジルコ
ニウム、アルミニウムなどのアルコキシドの加水分解物
を必要に応じて添加することも可能である。
The alkyl silicate partially hydrolyzed polymer can be prepared using orthoalkyl silicate as a starting material as described above. However, if the same alkyl silicate partially hydrolyzed polymer is obtained, the raw material is not necessarily orthoalkyl. Not limited to silicate. As commercially available products, for example, ethyl silicate 40 and methyl silicate 51 (both are trade names, manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd.) are marketed, but such compounds can be used as they are or after further hydrolytic condensation polymerization. It can be used after being diluted to a predetermined amount. Further, for example, a hydrolyzate of an alkoxide such as titanium, zirconium, or aluminum can be added as needed.

【0034】また、塗布液として上市されているものと
してMS51やMSH1(いずれも商品名、三菱化学工
業(株)製)等も好適に使用できる。これらは、メチル
シリケート系の反応基を有しており高い反応性を示すた
め、TMOSモノマー同様に、比較的穏和な加熱条件で
十分な硬化が得られるという特徴がある。
Further, MS51 and MSH1 (both trade names, manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.), etc., which are commercially available as the coating liquid, can also be suitably used. Since these have a methyl silicate-based reactive group and exhibit high reactivity, they are characterized in that sufficient curing can be obtained under relatively mild heating conditions, like the TMOS monomer.

【0035】上記反射防止層を形成後、好ましくは80
〜150℃、より好ましくは100〜140℃の温度で
加熱処理することにより塗膜の硬化を進行させることが
できる。熱処理時間は特に限定されないが、製造適性等
を考慮して概ね1日以下であることが好ましい。
After the formation of the above antireflection layer, preferably 80
Heat treatment at a temperature of from 150 to 150 ° C, more preferably from 100 to 140 ° C, can promote the curing of the coating film. The heat treatment time is not particularly limited, but is preferably about 1 day or less in consideration of suitability for production and the like.

【0036】最外層の防汚層は、公知のフッ素原子を含
有する低表面エネルギーの有機化合物を含んでなること
が好ましく、具体的にはフッ化炭化水素基を含有するシ
リコン化合物、フッ化炭化水素基含有ポリマー、フッ化
炭化水素、シリコンを有するモノマーのグラフト、ブロ
ック共重合体等が挙げられる。これらは熱硬化性、放射
線硬化基を含有する架橋性の樹脂が好ましい。防汚層
は、表面の水との接触角が80°以上であることが好ま
しく、90°以上がより好ましい。
The outermost antifouling layer preferably contains a known organic compound having a low surface energy containing a fluorine atom, specifically, a silicon compound containing a fluorohydrocarbon group, Examples include a hydrogen group-containing polymer, a fluorocarbon, a graft of a silicon-containing monomer, and a block copolymer. These are preferably thermosetting or crosslinkable resins containing a radiation-curable group. The surface of the antifouling layer preferably has a contact angle with water of 80 ° or more, more preferably 90 ° or more.

【0037】本発明の積層フイルムの作製は、基材フイ
ルム(透明支持体)上に各層の塗料をディッピング法、
スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グラビア
法、ワイヤーバー法等の公知の薄膜形成方法で各層を順
次形成、乾燥することにより行うことができる。本発明
においては透明導電層形成後、フイルムを水洗、加熱し
てから十分に硬化した反射防止層を形成することが好ま
しく、水洗、加熱の処理条件等は透明導電層の水処理、
熱処理として上述した通りである。
The production of the laminated film of the present invention is carried out by dipping a coating of each layer on a base film (transparent support),
It can be performed by sequentially forming and drying each layer by a known thin film forming method such as a spinner method, a spray method, a roll coater method, a gravure method, and a wire bar method. In the present invention, after the formation of the transparent conductive layer, it is preferable to wash the film with water, and then form a sufficiently cured antireflection layer after heating.
The heat treatment is as described above.

【0038】本発明の反射防止透明導電性積層フイルム
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用しうる。本発明の画像表示装置は、上記
反射防止透明導電性積層フイルムの透明支持体側を画像
表示装置の画像表示面に接着することにより製造でき
る。
The anti-reflection transparent conductive laminated film of the present invention is applied to an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). Applicable. The image display device of the present invention can be manufactured by bonding the transparent support side of the antireflection transparent conductive laminated film to the image display surface of the image display device.

【0039】[0039]

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に具体的に
説明する。 [実施例1] (無機粒子分散液M−1の調製)セラミックコートのベ
ッセルに各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン 337g PM−2(日本化薬(株)製リン酸基含有メタアクリレート) 31g AKP−G015(住友化学工業製アルミナ) 92g 上記混合液をサンドミル(1/4Gのサンドミル)にて
1600rpm、10時間微細分散した。メディアは1
mmφのジルコニアビーズを1400g用いた。得られ
た表面処理したアルミナの粒径は93nmであった。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 (Preparation of Inorganic Particle Dispersion M-1) The following amounts of each reagent were measured in a ceramic-coated vessel. Cyclohexanone 337 g PM-2 (phosphate group-containing methacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 31 g AKP-G015 (Alumina manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 92 g The above mixture was subjected to 1600 rpm for 10 hours by a sand mill (1/4 G sand mill). Finely dispersed. Media is 1
1400 g of mmφ zirconia beads were used. The particle size of the obtained surface-treated alumina was 93 nm.

【0040】(ハードコート層用塗布液の調製)表面処
理したアルミナ微粒子の43質量%メタノール分散液1
16gに、メタノール97g、イソプロパノール163
gおよび酢酸ブチル163gを加えた。混合液に、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA(商
品名、日本化薬社製))200gを加えて溶解した。得
られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907(商
品名、チバガイギー社製))7.5gおよび光増感剤
(カヤキュアーDETX(商品名、日本化薬社製))
5.0gを4加えて溶解した。混合物を30分間攪拌し
た後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過
してハードコート層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Liquid for Hard Coat Layer) 43% by mass methanol dispersion of surface-treated alumina fine particles 1
To 16 g, 97 g of methanol and 163 of isopropanol
g and 163 g of butyl acetate were added. To the mixture, 200 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) was added and dissolved. To the obtained solution, 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 (trade name, manufactured by Ciba Geigy)) and a photosensitizer (Kayacure DETX (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.))
5.0 g of 4 was added and dissolved. After stirring the mixture for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer.

【0041】(銀パラジウムコロイド分散液の調製)3
0%硫酸鉄(II)FeSO・7HO、40%のクエ
ン酸を調製、混合し、20℃に保持、攪拌しながらこれ
に10%の硝酸銀と硝酸パラジウム(モル比9/1に混
合したもの)溶液を200ml/minの速度で添加混
合し、その後生成した遠心分離により水洗を繰り返し、
最終的に3質量%になるように純水を加え、銀パラジウ
ムコロイド分散液を調製した。得られた銀コロイド粒子
の粒径はTEM観察の結果、粒径は約9〜12nmであ
った。ICPによる測定の結果、銀とパラジウムの比は
9/1の仕込み比と同一であった。
(Preparation of Silver-Palladium Colloid Dispersion) 3
Preparation 0% iron sulfate (II) FeSO 4 · 7H 2 O, 40% citric acid, mixed, mixed holding, stirring thereto while 10% of the silver nitrate and palladium nitrate (molar ratio 9/1 to 20 ° C. The solution was added and mixed at a speed of 200 ml / min, and thereafter, washing with water was repeated by centrifugation, which was generated.
Pure water was added so that the final concentration was 3% by mass to prepare a silver-palladium colloidal dispersion. As a result of TEM observation, the particle diameter of the obtained silver colloid particles was about 9 to 12 nm. As a result of measurement by ICP, the ratio of silver to palladium was the same as the charging ratio of 9/1.

【0042】(銀コロイド塗布液の調製)前記銀コロイ
ド分散液100gにi−プロピルアルコールを加え、超
音波分散し孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで
濾過して塗布液を調製した。
(Preparation of Silver Colloid Coating Liquid) To 100 g of the above silver colloid dispersion liquid, i-propyl alcohol was added, ultrasonically dispersed, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating liquid.

【0043】(反射防止層用塗布液L―1の調製)テト
ラメトキシシラン50gに0.01規定の硝酸15gを
30分かけて滴下し、3時間激しく攪拌した。液が均一
になったことを確認後室温で12時間放置しさらに30
分間撹拌した。この液を孔径1μmのポリプロピレン製
フィルターで濾過した後にメタノール450gで希釈し
低反射防止層用塗布液を調製した。
(Preparation of Antireflection Layer Coating Solution L-1) To 50 g of tetramethoxysilane, 15 g of 0.01 N nitric acid was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was vigorously stirred for 3 hours. After confirming that the solution became homogeneous, it was left at room temperature for 12 hours and further
Stirred for minutes. This solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm, and then diluted with 450 g of methanol to prepare a coating solution for a low antireflection layer.

【0044】(防汚層用塗布液の調製)熱架橋性含フッ
素ポリマー(JN−7214(商品名、日本合成ゴム社
製))にイソプロピルアルコールを加えて、0.2質量
%の粗分散液を調製した。粗分散液を、更に超音波分散
し、防汚層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution for Antifouling Layer) To a thermally crosslinkable fluoropolymer (JN-7214 (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)) was added isopropyl alcohol, and a 0.2% by mass crude dispersion was prepared. Was prepared. The coarse dispersion was further ultrasonically dispersed to prepare a coating solution for an antifouling layer.

【0045】(反射防止透明導電性積層フイルムの作
製)188μmのポリエチレンテレフタレートフイルム
にワイヤーバーを用いてハードコート層用塗布液を層厚
8μmになるように塗布・乾燥し、紫外線照射しハード
コート層を作製した。コロナ処理を施した後、上記銀コ
ロイド塗布液をワイヤーバーで塗布量が70mg/m
になるように塗布し、40℃で乾燥した。この銀コロイ
ド塗布面に、ポンプで送液した水をスプレーでかけ、エ
アーナイフで過剰の水を除去した後、120℃の加熱ゾ
ーンで搬送しながら、5分の処理を行った。次いで、反
射防止層用塗布液L−1を膜厚80nmになるように塗
布・乾燥し、120℃で2時間熱処理した。さらに、防
汚層用塗布液を同様にワイヤーバーで5mg/m塗布
し120℃で乾燥・熱処理を行った。
(Preparation of Antireflective Transparent Conductive Laminated Film) A coating liquid for a hard coat layer was applied to a 188 μm polyethylene terephthalate film using a wire bar to a thickness of 8 μm, dried, and irradiated with ultraviolet rays to hard coat layer. Was prepared. After the corona treatment, the silver colloid coating solution was coated with a wire bar at a coating amount of 70 mg / m 2.
And dried at 40 ° C. Water fed by a pump was sprayed on the silver colloid-coated surface, excess water was removed with an air knife, and a treatment was carried out for 5 minutes while transporting in a heating zone at 120 ° C. Next, an antireflection layer coating liquid L-1 was applied to a thickness of 80 nm, dried, and heat-treated at 120 ° C. for 2 hours. Further, the coating solution for the antifouling layer was similarly applied at 5 mg / m 2 with a wire bar, and dried and heat-treated at 120 ° C.

【0046】[実施例2]無機粒子分散液にシリカ微粒
子を分散した下記のM−2液を用いてハードコート塗布
液を調製し、反射防止層用塗布液に下記のL―2液を用
いた以外は実施例1と全く同様にして反射防止透明導電
性積層フイルムを形成した。
Example 2 A hard coat coating solution was prepared using the following M-2 solution in which silica fine particles were dispersed in an inorganic particle dispersion, and the following L-2 solution was used as an antireflection layer coating solution. An anti-reflective transparent conductive laminated film was formed in exactly the same manner as in Example 1 except for the difference.

【0047】(無機粒子分散液M−2の調製)セラミッ
クコートのベッセルに各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン 337g 3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン 10g シリカ微粒子(平均粒径14nm) 92g 上記混合液をサンドミル(1/4Gのサンドミル)にて
1600rpm、10時間微細分散した。メディアは1
mmφのジルコニアビーズを1400g用いた。
(Preparation of Inorganic Particle Dispersion M-2) The following reagents were weighed in a ceramic-coated vessel. Cyclohexanone 337 g 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane 10 g Silica fine particles (average particle diameter: 14 nm) 92 g The above mixture was finely dispersed at 1600 rpm for 10 hours by a sand mill (1/4 G sand mill). Media is 1
1400 g of mmφ zirconia beads were used.

【0048】(反射防止層用塗布液L―2の調製)MS
H1(商品名、三菱化学社製)50gをを孔径1μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過した後にメタノール
450gで希釈し反射防止層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution L-2 for Antireflection Layer) MS
50 g of H1 (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm, and then diluted with 450 g of methanol to prepare an antireflection layer coating solution.

【0049】[比較例1]ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの混合物(DPHA(商品名、日本化薬社製))
125gおよびウレタンアクリレートオリゴマー(UV
−6300B(商品名、日本合成化学工業社製))12
5gを、450gの工業用変性エタノールに溶解した。
得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907
(商品名、チバガイギー社製))7.5gおよび光増感
剤(カヤキュアーDETX(商品名、日本化薬社製))
5.0gを47.5gのメチルエチルケトンに溶解した
溶液を加えた。混合物を攪拌した後、孔径1μmのポリ
プロピレン製フィルターで濾過してハードコート層の塗
布液を調製した。以上のように調製したハードコート層
用塗布液を用いた以外は、実施例1と同様にして積層フ
イルムを作製した。
Comparative Example 1 Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.))
125 g and urethane acrylate oligomer (UV
-6300B (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)) 12
5 g was dissolved in 450 g of industrial denatured ethanol.
A photopolymerization initiator (Irgacure 907) was added to the obtained solution.
7.5 g (trade name, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DETX (trade name, manufactured by Nippon Kayaku))
A solution of 5.0 g dissolved in 47.5 g of methyl ethyl ketone was added. After stirring the mixture, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer. A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for a hard coat layer prepared as described above was used.

【0050】[比較例2] (反射防止層用塗布液L―3の調製)テトラブトキシシ
ラン50gに0.01規定の硝酸15gを30分かけて
滴下し、3時間激しく攪拌した。液が均一になったこと
を確認後室温で12時間放置しさらに30分間撹拌し
た。この液を孔径1μmのポリプロピレン製フィルター
で濾過した後にメタノール450gで希釈し反射防止層
用塗布液を調製した。以上のように調製した反射防止層
用塗布液L―3を用いた以外は、実施例1と同様の方法
で積層フイルムを作成した。
Comparative Example 2 (Preparation of Coating Solution L-3 for Antireflection Layer) 15 g of 0.01 N nitric acid was added dropwise to 50 g of tetrabutoxysilane over 30 minutes, and the mixture was vigorously stirred for 3 hours. After confirming that the solution became homogeneous, the solution was allowed to stand at room temperature for 12 hours and further stirred for 30 minutes. This solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm, and then diluted with 450 g of methanol to prepare a coating solution for an antireflection layer. A laminated film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the antireflection layer coating solution L-3 prepared as described above was used.

【0051】作製した各積層フイルムの特性を以下に示
す方法で測定した。 (反射防止膜の評価) (1)表面抵抗率 4端子法表面抵抗率計(ロレスタGP(商品名、三菱化
学社製))により測定した。 (2)反射率 分光光度計(日本分光社製)を用いて、450〜650
nmの波長領域における入射光5゜における正反射の平
均反射率を測定した。 (3)防汚性 フイルム表面に指紋を付着させ、トレシー(商品名、東
レ社製)を用いてふき取った状態を観察して以下の基準
で評価した。 ○:指紋が完全にふき取れた ×:指紋の一部がふき取れずに残った (4)鉛筆引っ掻き試験の硬度 フイルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間
調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛
筆を用いて、JIS−K−5400が規定する鉛筆硬度
評価方法に従い、1kgの加重にて傷が全く認められな
い鉛筆の硬度を測定した。 (5)スチールウールによる耐傷性試験 フイルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間
調湿した後、#0000のスチールウールを接地面積1
cm、加重200gにて50往復した後の傷を観察
し、以下の基準で評価した。 ○:傷がない △:弱い傷の発生が認められる ×:明らかな傷が認められる (6)密着性試験 フイルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間
調湿した後、カッターナイフで10×10個の切片がで
きるように傷を入れ、ポリエステルテープで剥離したあ
とを観察し、以下の基準で評価した。 ○:剥離なし △:端部がわずかに剥離している ×:明らかな剥離が認められる
The characteristics of each of the produced laminated films were measured by the following methods. (Evaluation of antireflection film) (1) Surface resistivity Measured by a four-terminal method surface resistivity meter (Loresta GP (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)). (2) Reflectance 450-650 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
The average reflectance of specular reflection in the incident light 5 ° in the wavelength region of nm was measured. (3) Antifouling property A fingerprint was adhered to the film surface, and a state of wiping off the film using Toraysee (trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.) was observed and evaluated according to the following criteria. :: The fingerprint was completely wiped off. ×: A part of the fingerprint remained without being wiped off. (4) Hardness of Pencil Scratch Test After the film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, Using a pencil for test defined by JIS-S-6006, the hardness of a pencil with no scratch was measured at a load of 1 kg according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS-K-5400. (5) Scratch resistance test using steel wool After the film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the steel wool of # 0000 was grounded with a contact area of 1 mm.
cm 2, to observe the scratches after 50 reciprocating in weighting 200 g, were evaluated by the following criteria. :: No scratches △: Weak scratches found ×: Clear scratches found (6) Adhesion test The film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 60%, and then a cutter knife Were cut so as to form 10 × 10 pieces, and observed after peeling with a polyester tape, and evaluated according to the following criteria. :: No peeling Δ: Slight peeling at the end ×: Clear peeling is observed

【0052】測定結果を表1に示す。何れのフイルムも
表面電気抵抗率は200Ω/□、平均反射率は0.8%
であり、また、防汚性は○であった。
Table 1 shows the measurement results. Each film has a surface electrical resistivity of 200Ω / □ and an average reflectance of 0.8%.
And the antifouling property was ○.

【0053】 表1 スチールウールによる 密着性 鉛筆硬度 耐傷性試験 備考 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例1 ○ 4H ○ 面状良好 実施例2 ○ 4H ○ 面状良好 比較例1 △ 2H △ 塗膜のカール大 比較例2 △ 2H × 表面白化 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−Table 1 Adhesion by Steel Wool Pencil Hardness Scratch Resistance Test Remarks ----------------------------------------------------------------------------------------------------- -Example 1 ○ 4H ○ Good surface condition Example 2 ○ 4H ○ Good surface condition Comparative Example 1 △ 2H △ Large curl of coating film Comparative Example 2 △ 2H × surface whitening --------------- −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【0054】表1より、実施例1、2においては、特定
の無機微粒子を含有した架橋多官能アクリレートからな
るハードコート層と、アルキルシリケート化合物の部分
加水分解重合物から形成された反射防止層を有する積層
フイルムとしたことにより、表面の硬度を維持しつつフ
イルムの密着性を向上させることができたことがわか
る。但し比較例2のように反射防止層の液の反応性が低
い場合には硬化が十分でなく十分な性能が得られない場
合がある。
As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, a hard coat layer comprising a crosslinked polyfunctional acrylate containing specific inorganic fine particles and an antireflection layer formed from a partially hydrolyzed polymer of an alkyl silicate compound were used. It can be seen that the use of the laminated film provided improved the adhesiveness of the film while maintaining the surface hardness. However, when the reactivity of the antireflection layer liquid is low as in Comparative Example 2, curing may not be sufficient and sufficient performance may not be obtained.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明の反射防止透明導電性積層フイル
ムは、簡単な層構成でも帯電防止性および電磁波遮蔽性
が高く、表面反射が十分に防止され、さらに表面の機械
強度に優れる。したがってこの反射防止透明導電性積層
フイルムの製造は、生産性が高く、低コスト生産が可能
であり、また、反射防止層が他の層と密着して形成され
ているためフイルムの剥離も防止されている。また、陰
極線管やプラズマディスプレイ等の表面に本発明の積層
フイルムを貼合等することにより、電磁波遮蔽、反射防
止および表面の汚れ防止の各機能を付与することがで
き、さらにディスプレイ等の表面に優れた機械強度を付
加できる。
The antireflective transparent conductive laminated film of the present invention has high antistatic properties and electromagnetic wave shielding properties even with a simple layer structure, sufficiently prevents surface reflection, and has excellent surface mechanical strength. Therefore, the production of this anti-reflection transparent conductive laminated film has high productivity and can be produced at low cost, and since the anti-reflection layer is formed in close contact with other layers, peeling of the film is also prevented. ing. Further, by laminating the laminated film of the present invention on the surface of a cathode ray tube, a plasma display, or the like, it is possible to provide each function of shielding electromagnetic waves, preventing reflection, and preventing contamination of the surface. Excellent mechanical strength can be added.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反射防止導電性積層フイルムの層構成
の一例を示す断面模式図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a layer configuration of an antireflection conductive laminated film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明支持体 2 ハードコート層 3 透明導電層 4 反射防止層 5 防汚層 Reference Signs List 1 transparent support 2 hard coat layer 3 transparent conductive layer 4 antireflection layer 5 antifouling layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 5/14 G02B 1/10 A H04N 5/72 Z Fターム(参考) 2H091 FA37X FB02 FB06 FB13 GA02 LA02 LA07 LA12 2K009 AA07 BB13 BB24 BB28 CC02 CC09 CC21 CC42 DD02 DD05 DD06 EE03 4F100 AA19B AA20B AA21B AA27B AB01C AK25B AK41 AK52E AR00B AR00C AR00D AR00E AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E BA26 CC00B DE01B DE01C EJ05B EJ55 GB41 JG01C JK12B JL06E JN01A JN01C JN06D JN18D 5C058 AA01 AA06 AA11 BA35 DA01 DA08 DA10 5G307 FA02 FB02 FC05 FC08 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01B 5/14 G02B 1/10 A H04N 5/72 Z F term (Reference) 2H091 FA37X FB02 FB06 FB13 GA02 LA02 LA07 LA12 2K009 AA07 BB13 BB24 BB28 CC02 CC09 CC21 CC42 DD02 DD05 DD06 EE03 4F100 AA19B AA20B AA21B AA27B AB01C AK25B AK41 AK52E AR00B AR00C AR00D AR00E AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E BA26 CC00B DE01B DE01C EJ05B EJ55 GB41 JG01C JK12B JL06E JN01A JN01C JN06D JN18D 5C058 AA01 AA06 AA11 BA35 DA01 DA08 DA10 5G307 FA02 FB02 FC05 FC08

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体、ハードコート層、少なくと
も1種の金属からなる微粒子を有する透明導電層、透明
導電層の屈折率と異なる屈折率を有する少なくとも1層
の反射防止層、および防汚層がこの順で積層された反射
防止透明導電性積層フイルムであって、該ハードコート
層が、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン
および酸化ジルコニウムからなる群から選ばれる少なく
とも1種を含む無機微粒子を分散させた多官能アクリレ
ート化合物を重合、架橋させてなるバインダーポリマー
を含んでなり、該反射防止層が実質的にアルキルシリケ
ート部分加水分解重合物より形成されていることを特徴
とする反射防止透明導電性積層フイルム。
1. A transparent support, a hard coat layer, a transparent conductive layer having fine particles of at least one metal, at least one antireflection layer having a refractive index different from that of the transparent conductive layer, and antifouling. The layer is an anti-reflective transparent conductive laminated film laminated in this order, wherein the hard coat layer contains inorganic fine particles containing at least one selected from the group consisting of aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide and zirconium oxide. An antireflective transparent conductive material comprising a binder polymer obtained by polymerizing and cross-linking a dispersed polyfunctional acrylate compound, wherein the antireflective layer is substantially formed from an alkyl silicate partially hydrolyzed polymer. Laminated film.
【請求項2】 ハードコート層が5〜80質量%の無機
微粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載の反
射防止透明導電性積層フイルム。
2. The antireflection transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains 5 to 80% by mass of inorganic fine particles.
【請求項3】 反射防止層が実質的にメチルシリケート
および/またはエチルシリケートの部分加水分解重合物
より形成されていることを特徴とする請求項1または2
に記載の反射防止透明導電性積層フイルム。
3. The method according to claim 1, wherein the antireflection layer is substantially formed of a partially hydrolyzed polymer of methyl silicate and / or ethyl silicate.
4. The anti-reflective transparent conductive laminated film according to item 1.
【請求項4】 反射防止層が、メチルシリケートおよび
/またはエチルシリケートの部分加水分解重合物、並び
に酸またはアルカリを含有する塗布液により形成された
ことを特徴とする請求項3に記載の反射防止透明導電性
積層フイルム。
4. The anti-reflection layer according to claim 3, wherein the anti-reflection layer is formed of a coating solution containing a partially hydrolyzed polymer of methyl silicate and / or ethyl silicate and an acid or alkali. Transparent conductive laminated film.
【請求項5】 反射防止層が実質的にメチルシリケート
部分加水分解重合物より形成されていることを特徴とす
る請求項3または4に記載の反射防止導電性積層フイル
ム。
5. The anti-reflective conductive laminated film according to claim 3, wherein the anti-reflective layer is substantially formed of a partially hydrolyzed polymer of methyl silicate.
【請求項6】 反射防止層が少なくとも10質量%のケ
イ素を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1
項に記載の反射防止透明導電性積層フイルム。
6. The method according to claim 1, wherein the antireflection layer contains at least 10% by weight of silicon.
Item 8. The antireflection transparent conductive laminated film according to item 8.
【請求項7】 透明支持体上に、酸化アルミニウム、二
酸化ケイ素、二酸化チタンおよび酸化ジルコニウムから
なる群から選ばれる少なくとも1種を含み、無機微粒子
を分散させた多官能アクリレート化合物を重合、架橋さ
せてなるバインダーポリマーを含んでなるハードコート
層を形成し、その上に、少なくとも1種の金属からなる
微粒子を有する透明導電層を形成した後、フイルムを水
洗、加熱し、更にアルキルシリケート部分加水分解重合
物により硬化反射防止層を形成することを特徴とする反
射防止透明導電性積層フイルムの製造方法。
7. A polyfunctional acrylate compound containing at least one selected from the group consisting of aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide and zirconium oxide and having inorganic fine particles dispersed thereon is polymerized and crosslinked on a transparent support. A hard coat layer containing a binder polymer is formed, and a transparent conductive layer having fine particles of at least one kind of metal is formed thereon. Then, the film is washed with water, heated, and further partially hydrolyzed with alkyl silicate. A method for producing an anti-reflective transparent conductive laminated film, comprising forming a cured anti-reflective layer from a product.
【請求項8】 画像表示面上に、請求項1〜6のいずれ
か1項に記載の反射防止透明導電性積層フイルムを有す
ることを特徴とする画像表示装置。
8. An image display device comprising the anti-reflective transparent conductive laminated film according to claim 1 on an image display surface.
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