JP2012218368A - Transparent conductive laminated film and touch panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive laminated film capable of improving visibility of a display device including a patterned transparent conductive layer (transparent electrode) such as a capacitance type touch panel.SOLUTION: In this transparent conductive laminated film, a hard coat layer formed of a hardened material of a polymerizable composition containing nanometer-size inorganic particles and a vinyl-based compound is laminated at least on one surface of a base material film formed of a transparent material, and a transparent conductive layer is formed in a partial region on a surface of the hard coat layer. The vinyl-based compound contains silicon-free multifunctional (meta) acrylate and silicon-containing multifunctional (meta) acrylate. The obtained transparent conductive laminate film can be used for a transparent electrode substrate of a projection type capacitance type touch panel and the like. The average primary particle size of the inorganic particles is around 1-100 nm. The inorganic particle may be a metal oxide particle.

Description

本発明は、投影型静電容量方式タッチパネルの電極などに利用される透明導電性積層フィルム及びこの積層フィルムを備えた静電容量方式タッチパネルに関する。   The present invention relates to a transparent conductive laminated film used for an electrode of a projected capacitive touch panel and a capacitive touch panel provided with the laminated film.

近年、マンマシンインターフェースとしての電子ディスプレイの進歩に伴い、対話型の入力システムが普及し、なかでもタッチパネル(座標入力装置)をディスプレイと一体化した装置がATM(現金自動受払機)、商品管理、アウトワーカー(外交、セールス)、案内表示、娯楽機器などで広く使用されている。液晶ディスプレイなどの軽量・薄型ディスプレイでは、キーボードレスにでき、その特長が生きることから、モバイル機器にもタッチパネルが使用されるケースが増えている。タッチパネルは、位置検出の方法により、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などに分類できる。これらの方式のうち、静電容量方式は、静電容量の変化を利用し、位置の検出を行う方式であるが、近年、機能性に優れる点から、ITOグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネルが、スマートフォンや電子ペーパーなどのモバイル機器で採用されて脚光を浴びている。ITOグリッド方式では、透明基材の上にパターン化されたITO(酸化インジウム−酸化錫系複合酸化物)膜が形成されているが、ITO膜の屈折率は透明基材に比べて高い。そのため、ITO膜が形成されている領域と形成されていない領域とでは光透過性に差が発生するが、ITO膜も透明であるため、従来のタッチパネルの画像では視認性に影響はなかった。しかし、近年のタッチパネルの画像では、精密な画像表示が行われているため、ITO膜によるパターンの映り込みが視認性に影響を与えている。このため、ITO膜の蒸着パターンがなるべく視認されないようにする方法として、ITOに近い屈折率を持つ二酸化ニオブなどを全面蒸着(パターンなく蒸着)して、次に必要な部分にITO膜をパターン蒸着(エッチング法)で形成することも行われている。この場合には、ITO膜の密着強度を維持するために、二酸化ニオブの蒸着層の上に更に酸化ケイ素膜を蒸着で形成した上でITO膜を蒸着することも行われており、工程が煩雑であった。   In recent years, with the advancement of electronic displays as man-machine interfaces, interactive input systems have become widespread. Among them, devices that integrate a touch panel (coordinate input device) with a display are ATMs (automated teller machines), merchandise management, Widely used in outworkers (diplomatic, sales), information display, entertainment equipment. Lightweight and thin displays such as liquid crystal displays can be made keyboard-less, and their features are alive, so the number of cases where touch panels are used in mobile devices is increasing. The touch panel can be classified into an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like according to a position detection method. Among these methods, the electrostatic capacitance method is a method for detecting a position by using a change in electrostatic capacitance. However, in recent years, the electrostatic capacitance method adopts an ITO grid method because of its excellent functionality. Capacitive touch panels are in the spotlight as they are used in mobile devices such as smartphones and electronic paper. In the ITO grid method, a patterned ITO (indium oxide-tin oxide composite oxide) film is formed on a transparent substrate, but the refractive index of the ITO film is higher than that of the transparent substrate. Therefore, there is a difference in light transmittance between the region where the ITO film is formed and the region where the ITO film is not formed. However, since the ITO film is also transparent, the conventional touch panel image has no effect on the visibility. However, since the image of the touch panel in recent years has been displayed precisely, the reflection of the pattern by the ITO film affects the visibility. For this reason, as a method to prevent the ITO film deposition pattern from being seen as much as possible, niobium dioxide having a refractive index close to that of ITO is deposited on the entire surface (deposition without patterning), and then the ITO film is pattern deposited on the necessary part. (Etching method) is also used. In this case, in order to maintain the adhesion strength of the ITO film, a silicon oxide film is further formed by vapor deposition on the vapor deposition layer of niobium dioxide, and then the ITO film is vapor deposited, and the process is complicated. Met.

一方、透明プラスチックの屈折率を制御する方法として、プラスチックよりも屈折率が高い金属微粒子をナノサイズで含有させる方法が知られており、例えば、特開昭61−291650号公報(特許文献1)には、粒径が200ミリミクロン以下で屈折率が1.6以上の無機微粒子を含む1種以上の無機微粒子混合物を合成樹脂中に分散させた高屈折率樹脂組成物が開示されている。また、特開2000−327836号公報(特許文献2)には、分散媒体であるポリマー中に、粒子径が0.001〜0.1μmの金属超微粒子を分散させた高屈折率金属超微粒子分散ポリマーが開示されている。これらの文献には、眼鏡や光学機器のレンズにおいて、軽量性を保持しつつ、屈折率を向上させる目的で、ポリメチルメタクリレートやスチレン系樹脂などの透明樹脂に、ナノメーターサイズのチタニアや銀などの金属微粒子を含有させて、透明樹脂の屈折率を増加させることが記載されている。   On the other hand, as a method for controlling the refractive index of a transparent plastic, a method in which metal fine particles having a refractive index higher than that of a plastic is contained in a nano size is known. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-291650 (Patent Document 1). Discloses a high refractive index resin composition in which one or more inorganic fine particle mixtures containing inorganic fine particles having a particle size of 200 mm or less and a refractive index of 1.6 or more are dispersed in a synthetic resin. JP 2000-327836 A (Patent Document 2) discloses a high refractive index metal ultrafine particle dispersion in which metal ultrafine particles having a particle diameter of 0.001 to 0.1 μm are dispersed in a polymer as a dispersion medium. A polymer is disclosed. These documents include transparent glasses such as polymethyl methacrylate and styrene resin, nanometer-sized titania and silver for the purpose of improving the refractive index while maintaining lightness in lenses for glasses and optical instruments. It is described that the refractive index of a transparent resin is increased by containing metal fine particles.

さらに、特開2008−52088号公報(特許文献3)には、透明フィルム上に、帯電防止性を有する易接着層、ハードコート層及び低屈折率層が形成されたディスプレイ用反射防止フィルムが開示されている。この文献には、反射防止性能を向上させるために、ハードコート層がジルコニア、チタニア、酸化セレン、酸化亜鉛などの酸化物微粒子を含むことが記載され、実施例では、平均粒径80nmのジルコニアが配合されている。   Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-52088 (Patent Document 3) discloses an antireflection film for a display in which an easy-adhesive layer having antistatic properties, a hard coat layer, and a low refractive index layer are formed on a transparent film. Has been. This document describes that the hard coat layer contains fine oxide particles such as zirconia, titania, selenium oxide, and zinc oxide in order to improve the antireflection performance. In the examples, zirconia having an average particle size of 80 nm is described. It is blended.

しかし、これらの文献には、透明導電層は記載されておらず、パターン化された透明導電層と透明基材との積層体における光学特性の技術的意義は記載されていない。さらに、金属微粒子を含有するフィルムを光学用途に使用する場合、ナノメーターサイズの粒子であっても、一般的に、金属微粒子の割合を増加させると、全光線透過率が減少するとともにヘイズが向上する。すなわち、金属微粒子を含む透明フィルムでは、透明性と屈折率とはトレードオフの関係にあるため、金属微粒子を用いて屈折率を高めるとともに、透明性などの光学特性も両立するのは困難であった。従って、透明電極がパターン化された静電容量方式タッチパネルでは、このようなトレードオフの関係を充足しつつ、映り込みも抑制する必要があり、視認性の向上が特に困難であった。   However, these documents do not describe the transparent conductive layer, and do not describe the technical significance of the optical characteristics in the laminate of the patterned transparent conductive layer and the transparent substrate. In addition, when using films containing fine metal particles for optical applications, increasing the proportion of fine metal particles generally decreases the total light transmittance and improves haze even for nanometer-sized particles. To do. That is, in a transparent film containing metal fine particles, there is a trade-off relationship between transparency and refractive index, so it is difficult to increase the refractive index using metal fine particles and achieve both optical properties such as transparency. It was. Therefore, in the capacitive touch panel in which the transparent electrode is patterned, it is necessary to suppress the reflection while satisfying such a trade-off relationship, and it is particularly difficult to improve the visibility.

国際公開WO2010/114056号公報(特許文献4)には、静電容量方式タッチパネルのパターンの映り込み(骨見え)を抑制するために、透明有機高分子基板の少なくとも一方の面上に、硬化樹脂層、さらに透明導電層が順次積層された透明導電性積層体において、硬化樹脂層が樹脂成分及び平均一次粒子径1nm以上の超微粒子を含む積層体が開示されている。この文献の実施例では、PET又はPCで形成された透明基板の上に、ウレタンアクリレート100重量部に対して平均粒径30nmの酸化チタン72又は82重量部を含む硬化樹脂層が形成され、さらに硬化樹脂層の上にITO膜を形成された積層体を製造している。   International Publication WO2010 / 114056 (Patent Document 4) discloses a cured resin on at least one surface of a transparent organic polymer substrate in order to suppress the reflection (bone appearance) of a capacitive touch panel pattern. In a transparent conductive laminate in which layers and further transparent conductive layers are sequentially laminated, a laminate in which a cured resin layer contains a resin component and ultrafine particles having an average primary particle diameter of 1 nm or more is disclosed. In the example of this document, a cured resin layer containing 72 or 82 parts by weight of titanium oxide having an average particle diameter of 30 nm is formed on a transparent substrate formed of PET or PC with respect to 100 parts by weight of urethane acrylate, A laminate having an ITO film formed on a cured resin layer is manufactured.

しかし、この積層体でも、光の散乱を抑制するのは困難であり、パターンの映り込みと、高い透明性などの光学性とを両立するのは困難であった。さらに、微粒子の割合も少なく、屈折率の向上効果も低かった。   However, even in this laminate, it is difficult to suppress light scattering, and it is difficult to achieve both reflection of a pattern and optical properties such as high transparency. Furthermore, the proportion of fine particles was small, and the effect of improving the refractive index was low.

特開昭61−291650号公報(請求項1、従来の技術及び発明の効果の欄、実施例)Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-291650 (Claim 1, column of effects of conventional technology and invention, examples) 特開2000−327836号公報(請求項1、従来の技術及び発明の効果の欄、実施例)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-327836 (Claim 1, column of effects of conventional technology and invention, examples) 特開2008−52088号公報(特許請求の範囲、段落[0026]〜[0028]、実施例)JP 2008-52088 A (claims, paragraphs [0026] to [0028], examples) 国際公開WO2010/114056号公報(請求の範囲、実施例)International Publication No. WO2010 / 114056 (Claims, Examples)

従って、本発明の目的は、光散乱を抑制して、高い透明性を保持しつつ、パターン化された透明導電層(透明電極)を有する表示装置の視認性を向上できる透明導電性積層フィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent conductive laminated film capable of improving the visibility of a display device having a patterned transparent conductive layer (transparent electrode) while suppressing light scattering and maintaining high transparency, and It is providing the electrostatic capacitance type touch panel provided with this film.

本発明の他の目的は、静電容量方式タッチパネルのパターン化された透明導電層の映り込みを抑制できる透明導電性積層フィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a transparent conductive laminated film capable of suppressing reflection of a patterned transparent conductive layer of a capacitive touch panel and a capacitive touch panel provided with this film.

本発明のさらに他の目的は、静電容量方式タッチパネルの視認性を向上できる透明導電性積層フィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルを提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a transparent conductive laminated film capable of improving the visibility of a capacitive touch panel and a capacitive touch panel provided with this film.

本発明の別の目的は、視認性の改良された静電容量方式タッチパネルを簡便に製造することにある。   Another object of the present invention is to easily manufacture a capacitive touch panel with improved visibility.

本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、透明材料で形成された基材フィルムの少なくとも一方の面に、ナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層を積層し、さらにこのハードコート層の一部に透明導電層を形成することにより、パターン化された透明導電層(透明電極)を有する表示装置の視認性を向上できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventor cured a polymerizable composition containing nanometer-sized inorganic particles and a vinyl compound on at least one surface of a base film formed of a transparent material. The visibility of a display device having a patterned transparent conductive layer (transparent electrode) is improved by laminating a hard coat layer formed of an object and forming a transparent conductive layer on a part of the hard coat layer. The present invention has been completed by finding out what can be done.

すなわち、本発明の透明導電性積層フィルムは、透明材料で形成された基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層され、かつナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層と、このハードコート層表面の一部の領域に形成された透明導電層とを含む透明導電性積層フィルムであって、前記ビニル系化合物が、ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートとケイ素含有多官能(メタ)アクリレートとを含む。前記ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートは、5〜7官能(メタ)アクリレートと、2〜4官能(メタ)アクリレートとの組み合わせであり、前記ケイ素含有多官能(メタ)アクリレートは、シリコーン(メタ)アクリレートであってもよい。前記5〜7官能(メタ)アクリレートと、前記2〜4官能(メタ)アクリレートとの割合は、前者/後者=99/1〜30/70程度であり、かつ前記ケイ素含有多官能(メタ)アクリレートの割合は、ケイ素非含有(メタ)アクリレート100重量部に対して0.1〜30重量部程度であってもよい。前記重合性組成物は、さらにセルロースエステルを含んでいてもよい。前記ビニル系化合物と前記無機粒子との割合(重量比)は、前者/後者=50/50〜10/90程度であってもよい。前記無機粒子は平均一次粒径1〜100nmの金属酸化物粒子であってもよい。前記無機粒子は、チタン及び/又はジルコニウムを含んでいてもよい。前記基材フィルムと前記透明導電層との屈折率差は0.3以上であってもよい。前記ハードコート層の屈折率は、基材フィルムの屈折率よりも大きく、かつ透明導電層の屈折率よりも小さくてもよい。本発明の透明導電性積層フィルムにおいて、前記透明導電層が形成された領域と、前記透明導電層が形成されていない領域との全光線透過率の差は2%であってもよい。前記透明導電層が形成されていない領域の全光線透過率が80%以上であってもよく、前記透明導電層が形成されていない領域のヘイズは5%以下であってもよい。前記ハードコート層の表面において、透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域との面積比は、前者/後者=9/1〜1/9程度であってもよい。前記基材フィルムは、ポリエステル系樹脂又はセルロースエステルで形成されていてもよい。この透明導電層を有する透明導電性積層フィルムは、透明導電層がパターン化されて形成されたタッチパネルの透明電極基板であり、かつこの透明電極基板が視認側の上部電極基板であってもよい。   That is, the transparent conductive laminated film of the present invention is a polymerization comprising a base film formed of a transparent material, and laminated on at least one surface of the base film and containing nanometer-sized inorganic particles and a vinyl compound. A transparent conductive laminated film comprising a hard coat layer formed of a cured product of the adhesive composition and a transparent conductive layer formed in a partial region of the surface of the hard coat layer, wherein the vinyl compound is Silicon-free polyfunctional (meth) acrylate and silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate are included. The silicon-free polyfunctional (meth) acrylate is a combination of 5 to 7 functional (meth) acrylate and 2 to 4 functional (meth) acrylate, and the silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate is silicone (meta). ) Acrylate may be used. The ratio of the 5-7 functional (meth) acrylate and the 2-4 functional (meth) acrylate is the former / the latter = 99/1 to 30/70, and the silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate. The ratio may be about 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silicon-free (meth) acrylate. The polymerizable composition may further contain a cellulose ester. The ratio (weight ratio) between the vinyl compound and the inorganic particles may be about the former / the latter = 50/50 to 10/90. The inorganic particles may be metal oxide particles having an average primary particle size of 1 to 100 nm. The inorganic particles may contain titanium and / or zirconium. The refractive index difference between the base film and the transparent conductive layer may be 0.3 or more. The refractive index of the hard coat layer may be larger than the refractive index of the base film and smaller than the refractive index of the transparent conductive layer. In the transparent conductive laminated film of the present invention, the difference in total light transmittance between the region where the transparent conductive layer is formed and the region where the transparent conductive layer is not formed may be 2%. The total light transmittance of the region where the transparent conductive layer is not formed may be 80% or more, and the haze of the region where the transparent conductive layer is not formed may be 5% or less. On the surface of the hard coat layer, the area ratio between the region where the transparent conductive layer is formed and the region where the transparent conductive layer is not formed may be about the former / the latter = 9/1 to 1/9. The base film may be formed of a polyester resin or a cellulose ester. The transparent conductive laminated film having the transparent conductive layer may be a transparent electrode substrate of a touch panel formed by patterning the transparent conductive layer, and the transparent electrode substrate may be a viewing-side upper electrode substrate.

本発明には、基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層をコーティングで形成した後、得られたハードコート層に透明導電層を物理的又は化学的気相法で形成する前記透明導電性積層フィルムの製造方法も含まれる。本発明には、前記透明導電性積層フィルムを電極基板として備える投影型静電容量方式タッチパネルも含まれる。   In the present invention, the transparent conductive layer is formed by forming a hard coat layer on at least one surface of a base film by coating, and then forming a transparent conductive layer on the obtained hard coat layer by a physical or chemical vapor phase method. A method for producing a laminated film is also included. The present invention also includes a projected capacitive touch panel that includes the transparent conductive laminated film as an electrode substrate.

本発明では、透明材料で形成された基材フィルムの少なくとも一方の面に、ナノメーターサイズの無機粒子及び特定のビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層が積層され、さらにこのハードコート層表面の一部の領域に透明導電層が形成されているため、光散乱を抑制して、高い透明性を保持しつつ、パターン化された透明導電層(透明電極)を有する表示装置の視認性を向上できる。特に、投影型静電容量方式タッチパネルなどのパターン化された透明導電層の映り込みを抑制できる。さらに、本発明では、このような視認性の改良された静電容量方式タッチパネルを簡便に製造できる。   In the present invention, a hard coat layer formed of a cured product of a polymerizable composition containing nanometer-sized inorganic particles and a specific vinyl compound is laminated on at least one surface of a base film formed of a transparent material. Furthermore, since a transparent conductive layer is formed in a part of the surface of the hard coat layer, a patterned transparent conductive layer (transparent electrode) while suppressing light scattering and maintaining high transparency The visibility of the display device having the above can be improved. In particular, reflection of a patterned transparent conductive layer such as a projected capacitive touch panel can be suppressed. Furthermore, in the present invention, such a capacitive touch panel with improved visibility can be easily manufactured.

[透明導電性積層フィルム]
本発明の透明導電性積層フィルムは、透明材料で形成された基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層され、かつナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層と、このハードコート層表面の一部の領域に形成された透明導電層とを含む。
[Transparent conductive laminated film]
The transparent conductive laminated film of the present invention is a polymerizable composition comprising a base film formed of a transparent material, laminated on at least one surface of the base film, and comprising nanometer-sized inorganic particles and a vinyl compound. A hard coat layer formed of a cured product of the product, and a transparent conductive layer formed in a partial region of the surface of the hard coat layer.

(基材フィルム)
基材フィルムは、透明な材質で形成されているITOなどの透明導電層を蒸着で形成できるポリマーフィルムであればよく、例えば、セルロース誘導体、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂などであってもよい。これらのうち、セルロースエステル、ポリエステル系樹脂などが汎用される。
(Base film)
The base film may be a polymer film that can be formed by vapor deposition of a transparent conductive layer such as ITO formed of a transparent material. For example, a cellulose derivative, a polyester resin, a polyamide resin, a polycarbonate resin, ) Acrylic resin may be used. Of these, cellulose esters, polyester resins and the like are widely used.

セルロースエステルとしては、セルローストリアセテート(TAC)などのセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースアセテートC3−4アシレートなどが挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、PET、PENなどのポリアルキレンアリレート系樹脂などが挙げられる。 Examples of the cellulose ester include cellulose acetate such as cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate C 3-4 acylate such as cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate. Polyester resins include polyalkylene arylate resins such as PET and PEN.

これらのうち、PETなどのポリC2−4アルキレンアリレートが特に好ましい。さらに、基材フィルムは、PET、PENなどのポリアルキレンアリレート系樹脂を二軸延伸したフィルムであってもよい。 Of these, poly C2-4 alkylene arylates such as PET are particularly preferred. Furthermore, the base film may be a film obtained by biaxially stretching a polyalkylene arylate resin such as PET or PEN.

基材フィルムは、必要に応じて、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤など)、結晶核剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   The base film contains additives such as stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, etc.), crystal nucleating agents, plasticizers, antistatic agents, etc., as necessary. May be. These additives can be used alone or in combination of two or more.

基材フィルムの厚みは、用途に応じて10〜300μm程度である。   The thickness of a base film is about 10-300 micrometers according to a use.

(ハードコート層)
ハードコート層は、ナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されている。本発明では、ナノメーターサイズの無機粒子を含有させることにより、単層のハードコート層を介在させるだけで視認性を向上できる。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is formed of a cured product of a polymerizable composition containing nanometer-sized inorganic particles and a vinyl compound. In the present invention, by including nanometer-sized inorganic particles, visibility can be improved only by interposing a single hard coat layer.

(A)無機粒子
無機粒子の粒径はナノメーターサイズであればよく、詳しくは、平均一次粒径が1〜100nm程度の範囲から選択でき、例えば、2〜50nm、好ましくは3〜40nm、さらに好ましくは5〜30nm(特に8〜20nm)程度である。無機粒子の粒径が大きすぎると、光散乱が大きくなるとともに、透明性も低下する。
(A) Inorganic particles The particle size of the inorganic particles may be nanometer size. Specifically, the average primary particle size can be selected from the range of about 1 to 100 nm, for example, 2 to 50 nm, preferably 3 to 40 nm, Preferably it is about 5-30 nm (especially 8-20 nm). If the particle size of the inorganic particles is too large, light scattering increases and transparency decreases.

無機粒子の形状は、特に限定されず、球状、楕円体状、多角体形(多角錘状、正方体状、直方体状など)、板状、棒状、不定形などが挙げられるが、等方的に光を散乱し、視認性を向上できる点から、略球状などの等方形状が好ましい。   The shape of the inorganic particles is not particularly limited, and may be spherical, ellipsoidal, polygonal (polygonal, tetrahedral, cuboid, etc.), plate, rod, indefinite, etc. Isotropic shapes such as a substantially spherical shape are preferred from the viewpoint of improving the visibility.

無機粒子は、基材フィルムの屈折率よりも大きい屈折率を有していればよく、例えば、1.7〜2.0程度である。屈折率が低すぎると、ハードコート層の屈折率を上昇させる効果が低く、高すぎると、光散乱が大きくなるともに、透明性が低下する。   The inorganic particles should just have a refractive index larger than the refractive index of a base film, for example, is about 1.7-2.0. If the refractive index is too low, the effect of increasing the refractive index of the hard coat layer is low, and if it is too high, light scattering increases and transparency decreases.

無機粒子を構成する無機化合物としては、例えば、金属単体、金属酸化物、屈折率を上昇できる効果の点から、金属酸化物が好ましい。   As the inorganic compound constituting the inorganic particles, for example, a metal oxide, a metal oxide, and a metal oxide are preferable from the viewpoint of an effect of increasing the refractive index.

金属酸化物としては、例えば、周期表第4A族金属酸化物(例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなど)、第5A族金属酸化物(酸化バナジウムなど)、第6A族金属酸化物(酸化モリブデン、酸化タングステンなど)、第7A族金属酸化物(酸化マンガンなど)、第8族金属酸化物(酸化ニッケル、酸化鉄など)、第1B族金属酸化物(酸化銅など)、第2B族金属酸化物(酸化亜鉛など)、第3B族金属酸化物(酸化アルミニウム、酸化インジウムなど)、第4B族金属酸化物(酸化ケイ素、酸化錫など)、第5B族金属酸化物(酸化アンチモンなど)などが挙げられる。これらの金属酸化物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   Examples of the metal oxide include Group 4A metal oxides (eg, titanium oxide, zirconium oxide, etc.), Group 5A metal oxides (eg, vanadium oxide), and Group 6A metal oxides (molybdenum oxide, oxide). Tungsten), Group 7A metal oxides (manganese oxide, etc.), Group 8 metal oxides (nickel oxide, iron oxide, etc.), Group 1B metal oxides (copper oxide, etc.), Group 2B metal oxides ( Zinc oxide, etc.), Group 3B metal oxides (aluminum oxide, indium oxide, etc.), Group 4B metal oxides (silicon oxide, tin oxide, etc.), Group 5B metal oxides (antimony oxide, etc.) and the like. . These metal oxides can be used alone or in combination of two or more.

これらの金属酸化物のうち、少ない割合でハードコート層の屈折率を上昇でき、かつ添加量が増加してもヘイズの上昇を抑制できる点から、酸化チタンや酸化ジルコニウムなどの周期表第4A族金属酸化物が好ましく、酸化チタンが特に好ましい。   Among these metal oxides, the refractive index of the hard coat layer can be increased in a small proportion, and even if the addition amount is increased, the increase in haze can be suppressed, so that periodic table 4A group such as titanium oxide and zirconium oxide can be used. Metal oxides are preferred, and titanium oxide is particularly preferred.

酸化チタンとしては、慣用の酸化チタン[組成式TixOy]を利用でき、二酸化チタン、Ti、Tiなどを利用できるが、通常、二酸化チタンを主成分とする。さらに、酸化チタンは、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型などの結晶形であってもよいが、ルチル型の二酸化チタンが好ましい。 As titanium oxide, conventional titanium oxide [compositional formula TixOy] can be used, and titanium dioxide, Ti 2 O 5 , Ti 2 O 3 and the like can be used, but usually titanium dioxide is the main component. Further, the titanium oxide may be a crystal form such as anatase type, rutile type, brookite type, etc., but rutile type titanium dioxide is preferred.

無機粒子(特に酸化チタン)は、凝集を抑制する点から、表面処理されていない粒子が好ましい。無機粒子の分散状態は、ハードコート層の全光線透過率及びヘイズによって評価でき、ハードコート層の全光線透過率が75%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは85%以上であってもよく、ヘイズは5%以下、好ましくは3%以下(例えば、0.01〜3%)、さらに好ましくは2%以下(例えば、0.1〜2%)であってもよい。   Inorganic particles (particularly titanium oxide) are preferably particles that are not surface-treated from the viewpoint of suppressing aggregation. The dispersion state of the inorganic particles can be evaluated by the total light transmittance and haze of the hard coat layer. Even if the total light transmittance of the hard coat layer is 75% or more, preferably 80% or more, more preferably 85% or more. The haze may be 5% or less, preferably 3% or less (for example, 0.01 to 3%), more preferably 2% or less (for example, 0.1 to 2%).

(B)ビニル系化合物
ビニル系化合物は、ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートとケイ素含有多官能(メタ)アクリレートとを含む。
(B) Vinyl compound The vinyl compound contains a silicon-free polyfunctional (meth) acrylate and a silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate.

(B1)ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレート
ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートとしては、分子内に2以上(例えば、2〜8程度)の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートが使用される。
(B1) Silicon-free polyfunctional (meth) acrylate As silicon-free polyfunctional (meth) acrylate, (meth) acrylate having 2 or more (for example, about 2 to 8) (meth) acryloyl groups in the molecule is used. used.

2官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、アリル(メタ)アクリレート;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレートなどのアルカンジオールジ(メタ)アクリレート;グリセリンジ(メタ)アクリレートなどのアルカンポリオールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパンなどのビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールSなど)のC2−4アルキレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート;トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、アダマンタンジ(メタ)アクリレートなどの橋架け環式ジ(メタ)アクリレートなどが例示できる。さらに、2官能ビニル系化合物としては、例えば、エポキシジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、(ポリ)ウレタンジ(メタ)アクリレートなどのオリゴマー又は樹脂も例示できる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate include allyl (meth) acrylate; alkanediol di (meth) acrylate such as ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, and 1,4-butanediol di (meth) acrylate. Alkane polyol di (meth) acrylate such as glycerin di (meth) acrylate; polyalkylene glycol di (meth) acrylate such as diethylene glycol di (meth) acrylate and polyethylene glycol di (meth) acrylate; 2,2-bis Di (meth) acrylates of C 2-4 alkylene oxide adducts of bisphenols (bisphenol A, bisphenol S, etc.) such as (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane; Examples thereof include bridged cyclic di (meth) acrylates such as chlorodecane dimethanol di (meth) acrylate and adamantane di (meth) acrylate. Further, examples of the bifunctional vinyl compound include oligomers or resins such as epoxy di (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, and (poly) urethane di (meth) acrylate.

3官能以上(3〜8官能程度)の(メタ)アクリレートとしては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化物、例えば、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート;ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。さらに、これらの多官能(メタ)アクリレートにおいて、多価アルコールは、アルキレンオキシド(例えば、エチレンオキシドやプロピレンオキシドなどのC2−4アルキレンオキシド)の付加体であってもよい。アルキレンオキシドの平均付加モル数は、例えば、0〜30モル(特に1〜10モル)程度の範囲から選択できる。これらの多官能(メタ)アクリレートは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of trifunctional or higher (about 3 to 8 functional) (meth) acrylates include, for example, esterified products of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, such as glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth). Acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate; ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate; dipentaerythritol penta (meth) acrylate; dipentaerythritol hexa ( And (meth) acrylate. Further, in these polyfunctional (meth) acrylates, the polyhydric alcohol may be an adduct of alkylene oxide (for example, C 2-4 alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide). The average addition mole number of alkylene oxide can be selected from the range of about 0-30 mol (especially 1-10 mol), for example. These polyfunctional (meth) acrylates can be used alone or in combination of two or more.

これらの多官能(メタ)アクリレートのうち、ハードコート性などの点から、3官能以上の(メタ)アクリレート(特に、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの4〜8官能(メタ)アクリレート)を少なくとも含む多官能(メタ)アクリレートが好ましい。特に、5〜7官能(メタ)アクリレートと、2〜4官能(メタ)アクリレート[特に、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどの3〜4官能(メタ)アクリレート]とを組み合わせてもよく、両者の割合(重量比)は、例えば、前者/後者=100/0〜10/90、好ましくは99/1〜30/70、さらに好ましくは90/10〜50/50(特に80/20〜40/60)程度である。本発明では、官能基数の異なる多官能(メタ)アクリレートをこのような割合で組み合わせることにより、ハードコート層の機械的特性を向上でき、大量の無機粒子の配合が可能となり、ハードコート層の屈折率を向上できる。   Among these polyfunctional (meth) acrylates, trifunctional or higher functional (meth) acrylates (particularly, 4-8 functional (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate) are selected from the viewpoint of hard coat properties and the like. The polyfunctional (meth) acrylate containing at least is preferable. In particular, 5 to 7 functional (meth) acrylates and 2 to 4 functional (meth) acrylates [particularly 3 to 4 functional (meth) acrylates such as pentaerythritol tri (meth) acrylate] may be combined. The ratio (weight ratio) is, for example, the former / the latter = 100/0 to 10/90, preferably 99/1 to 30/70, more preferably 90/10 to 50/50 (particularly 80/20 to 40/60). ) In the present invention, by combining polyfunctional (meth) acrylates having different numbers of functional groups in such a ratio, the mechanical properties of the hard coat layer can be improved, a large amount of inorganic particles can be blended, and the refractive index of the hard coat layer can be improved. The rate can be improved.

(B2)ケイ素含有多官能(メタ)アクリレート
ケイ素含有多官能(メタ)アクリレートとしては、シリコーン(メタ)アクリレートが汎用される。本発明では、前記ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートに加えて、ケイ素含有多官能(メタ)アクリレートを配合することにより、多量の無機粒子を含有させるにも拘わらず、ヘイズを抑制でき、透明性などの光学特性を向上できるとともに、屈折率も調整でき、視認性も向上できる。
(B2) Silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate Silicone (meth) acrylate is widely used as the silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate. In the present invention, in addition to the silicon-free polyfunctional (meth) acrylate, by adding a silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate, it is possible to suppress haze despite containing a large amount of inorganic particles, and transparent In addition to improving the optical characteristics such as the property, the refractive index can be adjusted and the visibility can be improved.

シリコーン(メタ)アクリレートは、通常、オルガノシロキサン単位[−Si(−R)−O−](基Rは置換基を示す)を有しており、Si原子(又はオルガノシロキサン単位)の数は、1分子中に1以上(例えば、1〜30、好ましくは1〜20、さらに好ましくは1〜15程度)であってもよい。また、(メタ)アクリロイル基の数は、1分子中に2以上(例えば、2〜20、好ましくは2〜15、さらに好ましくは2〜10程度)であってもよい。 Silicone (meth) acrylate usually has an organosiloxane unit [—Si (—R) 2 —O—] (the group R represents a substituent), and the number of Si atoms (or organosiloxane units) is One or more (for example, about 1 to 30, preferably about 1 to 20, more preferably about 1 to 15) may be included in one molecule. Moreover, the number of (meth) acryloyl groups may be 2 or more (for example, 2 to 20, preferably 2 to 15, more preferably about 2 to 10) in one molecule.

シリコーン(メタ)アクリレートは、モノマーであってもよく、オリゴマー(又はプレポリマー)であってもよく、モノマー及びオリゴマーを組み合わせて使用してもよい。また、オリゴマー(プレポリマー)は、複数の(−Si−O)結合を有するポリシロキサン系オリゴマーであってもよく、加水分解縮合性基(例えば、メトキシ、エトキシなどのC1−4アルコキシ基、塩素原子などのハロゲン原子など)を有するシリコーン(メタ)アクリレートモノマーの加水分解縮合による2量体、3量体などの多量体であってもよい。 The silicone (meth) acrylate may be a monomer, an oligomer (or prepolymer), or a combination of monomers and oligomers. The oligomer (prepolymer) may be a polysiloxane oligomer having a plurality of (—Si—O) bonds, and may be a hydrolytic condensable group (for example, a C 1-4 alkoxy group such as methoxy or ethoxy, It may be a multimer such as a dimer or trimer by hydrolytic condensation of a silicone (meth) acrylate monomer having a halogen atom such as a chlorine atom.

代表的なシリコーン(メタ)アクリレートとしては、1分子中に1つのSi原子を有するシリコーンモノ乃至テトラ(メタ)アクリレート、1分子中に2つのSi原子を有するシリコーンテトラ乃至ヘキサ(メタ)アクリレートなどが例示できる。   Typical silicone (meth) acrylates include silicone mono to tetra (meth) acrylate having one Si atom in one molecule, silicone tetra to hexa (meth) acrylate having two Si atoms in one molecule, and the like. It can be illustrated.

これらのシリコーン(メタ)アクリレートのうち、1分子中に複数(例えば、2〜10個、好ましくは3〜8個、さらに好ましくは4〜7個程度)の(メタ)アクリロイル基と、1又は複数(例えば、1〜20個、好ましくは1〜10個、さらに好ましくは1〜6個程度)のSi原子を有するシリコーン(メタ)アクリレート成分[例えば、シリコーンジ乃至ヘキサ(メタ)アクリレート、好ましくはシリコーントリ乃至ヘキサ(メタ)アクリレート]が好ましい。なお、シリコーンジ(メタ)アクリレートは、商品名「EBECRYL350」(ダイセル・サイテック(株)製)などとして入手でき、シリコーンヘキサ(メタ)アクリレートは、商品名「EBECRYL1360」(ダイセル・サイテック(株)製)などとして入手できる。   Among these silicone (meth) acrylates, a plurality of (for example, 2 to 10, preferably 3 to 8, more preferably about 4 to 7) (meth) acryloyl groups and one or more in one molecule. Silicone (meth) acrylate component having a Si atom (for example, 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably about 1 to 6) [for example, silicone di to hexa (meth) acrylate, preferably silicone Tri to hexa (meth) acrylate] is preferable. Silicone di (meth) acrylate is available under the trade name “EBECRYL350” (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.). Silicone hexa (meth) acrylate is trade name “EBECRYL1360” (manufactured by Daicel Cytech Co., Ltd.). ) Etc.

ケイ素含有多官能(メタ)アクリレートの割合は、ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレート100重量部に対して、例えば、0.1〜30重量部、好ましくは0.2〜20重量部、さらに好ましくは0.5〜10重量部(特に1〜5重量部)程度である。   The proportion of the silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate is, for example, 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.2 to 20 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the silicon-free polyfunctional (meth) acrylate. Is about 0.5 to 10 parts by weight (particularly 1 to 5 parts by weight).

ビニル系化合物としては、多官能(メタ)アクリレートに加えて、単官能ビニル系化合物、例えば、アルキル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル、シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートやアダマンチル(メタ)アクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレートなどのアリール(メタ)アクリレート、ビニルピロリドンなどのビニル系単量体などを含んでいてもよい。   As vinyl compounds, in addition to polyfunctional (meth) acrylates, monofunctional vinyl compounds, for example, (meth) acrylic acid esters such as alkyl (meth) acrylate, cycloalkyl (meth) such as cyclohexyl (meth) acrylate, etc. Vinyl monomers such as acrylate, aryl (meth) acrylate such as phenyl (meth) acrylate, vinyl pyrrolidone, etc. having a bridged cyclic hydrocarbon group such as isobornyl (meth) acrylate and adamantyl (meth) acrylate Etc. may be included.

ビニル系化合物と無機粒子との割合(重量比)は、基材フィルムと透明導電層との屈折率差などに応じて適宜選択でき、例えば、99/1〜1/99程度の範囲から選択でき、例えば、前者/後者=80/20〜5/95、好ましくは50/50〜10/90、さらに好ましくは40/60〜15/85(特に30/70〜20/80)程度である。本発明では、特定のビニル系化合物を組み合わせるため、多量の無機粒子を配合しても、機械的特性に優れ、ハードコート層の屈折率を向上できる。無機粒子の割合が少なすぎると、屈折率を向上できず、多すぎると、ハードコート層の機械的特性が低下する。   The ratio (weight ratio) between the vinyl compound and the inorganic particles can be appropriately selected according to the difference in refractive index between the base film and the transparent conductive layer, and can be selected, for example, from a range of about 99/1 to 1/99. For example, the former / the latter = 80/20 to 5/95, preferably 50/50 to 10/90, more preferably about 40/60 to 15/85 (particularly 30/70 to 20/80). In the present invention, since a specific vinyl compound is combined, even if a large amount of inorganic particles are blended, the mechanical properties are excellent and the refractive index of the hard coat layer can be improved. If the proportion of the inorganic particles is too small, the refractive index cannot be improved, and if it is too large, the mechanical properties of the hard coat layer are lowered.

(C)重合性組成物
重合性組成物(硬化性樹脂前駆体)は、ハードコート層の塗工性及び機械的特性を向上させるために、セルロースエステルを含んでいてもよい。セルロースエステルとしては、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースC2−6アシレートなどが例示できる。これらのセルロースエステルは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
(C) Polymerizable composition The polymerizable composition (curable resin precursor) may contain a cellulose ester in order to improve the coatability and mechanical properties of the hard coat layer. Examples of the cellulose ester include cellulose C 2-6 acylates such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate. These cellulose esters can be used alone or in combination of two or more.

これらのセルロースエステルのうち、溶剤のへの溶解性が高く、塗工液の調製がし易い上に、少量の添加によって塗工液の粘度調節が容易にできるとともに、塗工液での微粒子の凝集を抑制し、保存安定性を高めることができる点から、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースC2−4アシレート(特に、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテートC3−4アシレート)が好ましい。 Among these cellulose esters, the solubility in a solvent is high, the preparation of the coating liquid is easy, the viscosity of the coating liquid can be easily adjusted by adding a small amount, and the fine particles in the coating liquid can be easily adjusted. Cellulose C 2-4 acylates such as cellulose diacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate (especially cellulose acetate such as cellulose acetate propionate) from the point that aggregation can be suppressed and storage stability can be improved. C 3-4 acylate) is preferred.

セルロースエステルの割合は、ビニル系化合物100重量部に対して、例えば、0.01〜30重量部、好ましくは0.05〜10重量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部(特に0.2〜1重量部)程度である。   The ratio of the cellulose ester is, for example, 0.01 to 30 parts by weight, preferably 0.05 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight (particularly 0.1. 2 to 1 part by weight).

重合性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤は、熱重合開始剤(ベンゾイルパーオキサイドなどの過酸化物などの熱ラジカル発生剤)であってもよく、光重合開始剤(光ラジカル発生剤)であってもよい。好ましい重合開始剤は、光重合開始剤である。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類などが例示できる。光重合開始剤には、慣用の光増感剤や光重合促進剤(例えば、第三級アミン類など)が含まれていてもよい。光重合開始剤の割合は、ビニル系化合物100重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは0.5〜10重量部、さらに好ましくは1〜8重量部(特に1〜5重量部)程度であってもよい。重合性組成物は、透明性を損なわない範囲で、さらに慣用の添加剤を含有していてもよい。重合性組成物は、塗工性などの点から、さらに溶媒を含んでいるのが好ましい。   The polymerizable composition may contain a polymerization initiator. The polymerization initiator may be a thermal polymerization initiator (thermal radical generator such as a peroxide such as benzoyl peroxide) or a photopolymerization initiator (photo radical generator). A preferred polymerization initiator is a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones or propiophenones, benzyls, benzoins, benzophenones, thioxanthones, and acylphosphine oxides. The photopolymerization initiator may contain a conventional photosensitizer and a photopolymerization accelerator (for example, tertiary amines). The proportion of the photopolymerization initiator is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 8 parts by weight (particularly 1 to 5 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the vinyl compound. ) Degree. The polymerizable composition may further contain a conventional additive as long as the transparency is not impaired. The polymerizable composition preferably further contains a solvent from the viewpoint of coatability.

重合性組成物(硬化性樹脂前駆体)は、熱硬化性組成物であってもよいが、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物、EB硬化性化合物であってもよい。特に、実用的に有利な樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。   The polymerizable composition (curable resin precursor) may be a thermosetting composition, but may be a photocurable compound that can be cured in a short time, for example, an ultraviolet curable compound or an EB curable compound. Good. In particular, a practically advantageous resin precursor is an ultraviolet curable resin.

ハードコート層の屈折率は、基材フィルムの屈折率よりも大きく、かつ透明導電層の屈折率よりも小さく、例えば、1.5〜2.2程度の範囲から選択でき、例えば、1.55〜2.0、好ましくは1.6〜1.95、さらに好ましくは1.65〜1.9(特に1.7〜1.85)程度であってもよい。   The refractive index of the hard coat layer is larger than the refractive index of the base film and smaller than the refractive index of the transparent conductive layer, and can be selected from a range of about 1.5 to 2.2, for example, 1.55. To 2.0, preferably 1.6 to 1.95, more preferably about 1.65 to 1.9 (especially 1.7 to 1.85).

ハードコート層の厚みは、例えば、0.01〜30μm、好ましくは0.015〜20μm、さらに好ましくは0.02〜10μm(特に0.03〜10μm)程度である。   The thickness of the hard coat layer is, for example, about 0.01 to 30 μm, preferably 0.015 to 20 μm, and more preferably about 0.02 to 10 μm (particularly 0.03 to 10 μm).

(透明導電層)
透明導電層は、透明電極として利用されている慣用の透明導電層を利用でき、導電性無機化合物で形成された透明導電層でよい。導電性無機化合物としては、ITO膜などの金属酸化物が汎用される。
(Transparent conductive layer)
The transparent conductive layer can be a conventional transparent conductive layer used as a transparent electrode, and may be a transparent conductive layer formed of a conductive inorganic compound. As the conductive inorganic compound, a metal oxide such as an ITO film is widely used.

本発明では、透明導電層は、ハードコート層表面の一部の領域に(部分的に)形成されており、通常、格子状などにパターン化されて形成されている。本発明では、透明導電層の有無により、積層フィルムの光透過性の違いが発生することによるパターンが映り込むことを有効に防止できる。   In the present invention, the transparent conductive layer is (partially) formed in a partial region on the surface of the hard coat layer, and is usually formed by being patterned in a lattice shape or the like. In this invention, it can prevent effectively that the pattern by the difference in the light transmittance of a laminated | multilayer film generate | occur | produces with the presence or absence of a transparent conductive layer is reflected.

基材フィルムと透明導電層との屈折率差は0.3以上であってもよく、例えば、0.3〜0.9、好ましくは0.35〜0.8、さらに好ましくは0.4〜0.75(特に0.5〜0.75)程度であってもよい。   The refractive index difference between the base film and the transparent conductive layer may be 0.3 or more, for example, 0.3 to 0.9, preferably 0.35 to 0.8, and more preferably 0.4 to It may be about 0.75 (particularly 0.5 to 0.75).

透明導電層の厚みは、例えば、1〜1000nm、好ましくは5〜500nm、さらに好ましくは10〜400nm(特に20〜300nm)程度であってもよい。   The thickness of the transparent conductive layer may be, for example, about 1 to 1000 nm, preferably 5 to 500 nm, more preferably about 10 to 400 nm (particularly 20 to 300 nm).

(透明導電性積層フィルムの特性)
本発明の透明導電性積層フィルムは透明性に優れており、透明導電層が形成された領域における全光線透過率は、例えば、75%以上、好ましくは80〜99%、さらに好ましくは85〜95%程度である。一方、透明導電層が形成されていない領域における全光線透過率は、例えば、80%以上、好ましくは85〜99%、さらに好ましくは90〜95%程度である。
(Characteristics of transparent conductive laminated film)
The transparent conductive laminated film of the present invention is excellent in transparency, and the total light transmittance in the region where the transparent conductive layer is formed is, for example, 75% or more, preferably 80 to 99%, more preferably 85 to 95. %. On the other hand, the total light transmittance in the region where the transparent conductive layer is not formed is, for example, 80% or more, preferably 85 to 99%, and more preferably about 90 to 95%.

透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域との全光線透過率の差は、例えば、2%以下であってもよく、好ましくは0.1〜2%、さらに好ましくは0.2〜1.5%程度である。   The difference in total light transmittance between the region where the transparent conductive layer is formed and the region where the transparent conductive layer is not formed may be, for example, 2% or less, preferably 0.1 to 2%, more preferably Is about 0.2 to 1.5%.

このように、本発明の透明導電性積層フィルムは透明性に優れているが、透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域とでは屈折率差を有している。そのため、このようなフィルムでは、領域間における反射率の差によりパターンの映り込みなど、視認性が低下する。しかし、本発明では、屈折率差があるにも拘わらず、ナノメータサイズの無機粒子を含むハードコート層を介在させることにより、屈折率差に起因するパターンの映り込みを抑制でき、視認性を向上できる。   Thus, although the transparent conductive laminated film of this invention is excellent in transparency, it has a refractive index difference with the area | region in which the transparent conductive layer was formed, and the area | region in which the transparent conductive layer was not formed. Therefore, in such a film, visibility such as reflection of a pattern is deteriorated due to a difference in reflectance between regions. However, in the present invention, although there is a difference in refractive index, by interposing a hard coat layer containing nanometer-sized inorganic particles, reflection of a pattern due to the difference in refractive index can be suppressed, and visibility is improved. it can.

本発明の透明導電性積層フィルムは、ヘイズも低く、透明導電層が形成された領域におけるヘイズは、例えば、5%以下、好ましくは0.1〜3%、さらに好ましくは0.3〜1.5%程度である。一方、透明導電層が形成されていない領域におけるヘイズは、例えば、5%以下、好ましくは0.1〜3%、さらに好ましくは0.3〜2%程度である。   The transparent conductive laminated film of the present invention has a low haze, and the haze in the region where the transparent conductive layer is formed is, for example, 5% or less, preferably 0.1 to 3%, more preferably 0.3 to 1. It is about 5%. On the other hand, the haze in the region where the transparent conductive layer is not formed is, for example, 5% or less, preferably 0.1 to 3%, more preferably about 0.3 to 2%.

本発明の透明導電性積層フィルムは、少なくとも一方の面にハードコート層が形成されていればよく、両面に形成されていてもよい。ハードコート層が両面に形成された場合、透明導電層も両面に形成されてもよい。   The transparent conductive laminated film of the present invention only needs to have a hard coat layer formed on at least one surface, and may be formed on both surfaces. When the hard coat layer is formed on both sides, the transparent conductive layer may also be formed on both sides.

本発明の透明導電性積層フィルムには、さらに慣用の機能層、例えば、アンチニュートンリング層、光散乱層、反射防止層、低屈折率層などと組み合わせてもよい。   The transparent conductive laminated film of the present invention may be further combined with a conventional functional layer such as an anti-Newton ring layer, a light scattering layer, an antireflection layer, or a low refractive index layer.

[透明導電性積層フィルムの製造方法]
本発明の透明導電性積層フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層をコーティングで形成した後、得られたハードコート層に透明導電層を物理的又は化学的気相法で形成する方法により得られる。
[Method for producing transparent conductive laminated film]
In the transparent conductive laminated film of the present invention, after forming a hard coat layer on at least one surface of the base film by coating, a transparent conductive layer is formed on the obtained hard coat layer by a physical or chemical vapor phase method. It is obtained by the method to do.

(ハードコート層の形成工程)
詳細には、ハードコート層の形成工程においては、重合性組成物を含む塗工液を塗布した後、硬化することにより得ることができる。
(Hard coat layer forming process)
In detail, in the formation process of a hard-coat layer, after apply | coating the coating liquid containing a polymeric composition, it can obtain by hardening.

重合性組成物の塗布方法としては、慣用の方法、例えば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、リバースコーター、バーコーター、コンマコーター、ディップ・スクイズコーター、ダイコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、シルクスクリーンコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法などが挙げられる。これらの方法のうち、バーコーター法やグラビアコーター法などが汎用される。なお、必要であれば、塗布液は複数回に亘り塗布してもよい。   As a coating method of the polymerizable composition, conventional methods such as roll coater, air knife coater, blade coater, rod coater, reverse coater, bar coater, comma coater, dip squeeze coater, die coater, gravure coater, microgravure coater Examples include coater, silk screen coater method, dip method, spray method, spinner method and the like. Of these methods, the bar coater method and the gravure coater method are widely used. If necessary, the coating solution may be applied a plurality of times.

重合性組成物が有機溶媒を含有する場合など、塗布後は、必要に応じて乾燥を行ってもよい。乾燥は、例えば、50〜150℃、好ましくは60〜140℃、さらに好ましくは70〜130℃程度の温度で行ってもよい。   When the polymerizable composition contains an organic solvent, it may be dried as necessary after coating. Drying may be performed at a temperature of about 50 to 150 ° C., preferably 60 to 140 ° C., and more preferably about 70 to 130 ° C., for example.

硬化工程において、重合性組成物は、重合開始剤の種類に応じて加熱して硬化させてもよいが、通常、活性エネルギー線を照射することにより硬化できる。活性エネルギー線としては、例えば、放射線(ガンマー線、X線など)、紫外線、可視光線、電子線(EB)などが利用でき、通常、紫外線、電子線である場合が多い。   In the curing step, the polymerizable composition may be cured by heating depending on the type of the polymerization initiator, but it can usually be cured by irradiation with active energy rays. As active energy rays, for example, radiation (gamma rays, X-rays, etc.), ultraviolet rays, visible rays, electron beams (EB) and the like can be used, and usually ultraviolet rays and electron beams are often used.

光源としては、例えば、紫外線の場合は、Deep UV ランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光源(ヘリウム−カドミウムレーザー、エキシマレーザーなどの光源)などを用いることができる。照射光量(照射エネルギー)は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、50〜10000mJ/cm、好ましくは70〜7000mJ/cm、さらに好ましくは100〜5000mJ/cm程度であってもよい。 As the light source, for example, in the case of ultraviolet rays, a Deep UV lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a laser light source (light source such as a helium-cadmium laser or an excimer laser) may be used. it can. The amount of irradiation light (irradiation energy) varies depending on the thickness of the coating film, but may be, for example, about 50 to 10,000 mJ / cm 2 , preferably 70 to 7000 mJ / cm 2 , and more preferably about 100 to 5000 mJ / cm 2 .

電子線の場合は、電子線照射装置などの露光源によって、電子線を照射する方法が利用できる。照射量(線量)は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、1〜200kGy(グレイ)、好ましくは5〜150kGy、さらに好ましくは10〜100kGy(特に20〜80kGy)程度である。加速電圧は、例えば、10〜1000kV、好ましくは50〜500kV、さらに好ましくは100〜300kV程度である。   In the case of an electron beam, a method of irradiating an electron beam with an exposure source such as an electron beam irradiation apparatus can be used. The irradiation amount (dose) varies depending on the thickness of the coating film, but is, for example, about 1 to 200 kGy (gray), preferably 5 to 150 kGy, and more preferably 10 to 100 kGy (particularly 20 to 80 kGy). The acceleration voltage is, for example, about 10 to 1000 kV, preferably about 50 to 500 kV, and more preferably about 100 to 300 kV.

なお、活性エネルギー線の照射は、必要であれば、不活性ガス(例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなど)雰囲気中で行ってもよい。   In addition, you may perform irradiation of an active energy ray in inert gas (for example, nitrogen gas, argon gas, helium gas etc.) atmosphere if necessary.

ハードコート層に対する透明導電層の密着性を向上させるために、ハードコート層を表面処理に供してもよい。表面処理としては、慣用の表面処理、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、オゾンや紫外線照射処理などが挙げられる。   In order to improve the adhesion of the transparent conductive layer to the hard coat layer, the hard coat layer may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include conventional surface treatments such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, ozone and ultraviolet irradiation treatment.

(透明導電層の形成工程)
導電性無機化合物で形成された透明導電層は、金属又は金属化合物を含む薄膜を形成可能な方法であれば、特に限定されず、慣用の成膜方法を利用して形成できる。成膜方法としては、例えば、物理的気相法(PVD)[例えば、真空蒸着法、フラッシュ蒸着法、電子ビーム蒸着法、イオンビーム蒸着法、イオンプレーティング法(例えば、HCD法、エレクトロンビームRF法、アーク放電法など)、スパッタリング法(例えば、直流放電法、高周波(RF)放電法、マグネトロン法など)、分子線エピタキシー法、レーザーアブレーション法など]、化学的気相法(CVD)[例えば、熱CVD法、プラズマCVD法、MOCVD法(有機金属気相成長法)、光CVD法など]、イオンビームミキシング法、イオン注入法などが例示できる。これらの成膜方法のうち、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などの物理的気相法、化学的気相法などが汎用され、スパッタリング法、プラズマCVD法(特にスパッタリング法)が好ましい。
(Transparent conductive layer formation process)
The transparent conductive layer formed of a conductive inorganic compound is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a thin film containing a metal or a metal compound, and can be formed using a conventional film forming method. Examples of the film formation method include physical vapor deposition (PVD) [for example, vacuum deposition, flash deposition, electron beam deposition, ion beam deposition, ion plating (for example, HCD, electron beam RF). Method, arc discharge method, etc.), sputtering method (eg, DC discharge method, radio frequency (RF) discharge method, magnetron method, etc.), molecular beam epitaxy method, laser ablation method, etc.], chemical vapor phase method (CVD) [eg, , Thermal CVD method, plasma CVD method, MOCVD method (metal organic chemical vapor deposition method), photo CVD method, etc.], ion beam mixing method, ion implantation method and the like. Of these film formation methods, physical vapor deposition methods such as vacuum deposition, ion plating, and sputtering, and chemical vapor deposition are widely used, and sputtering and plasma CVD (particularly sputtering) are preferred. .

一方、導電性ポリマーで構成された透明導電層は、導電性ポリマーを含有する液状組成物を前述のコーティングなどで塗布して乾燥することにより製造できる。   On the other hand, a transparent conductive layer composed of a conductive polymer can be produced by applying and drying a liquid composition containing a conductive polymer with the above-described coating or the like.

透明導電層は、タッチパネルなどの種類に応じて、格子状又はストライプ状などの形状にパターン化される。投影型静電容量方式タッチパネルでは、例えば、ハードコート層の全面に透明導電層を形成した後、酸やアルカリなどを用いたエッチングにより格子状にパターン化する方法や、マスクなどを利用したパターニングにより格子状のパターンを形成する方法などが挙げられる。   The transparent conductive layer is patterned into a lattice shape or a stripe shape according to the type of the touch panel or the like. In a projected capacitive touch panel, for example, a transparent conductive layer is formed on the entire surface of the hard coat layer, and then patterned into a lattice pattern by etching using acid or alkali, or by patterning using a mask or the like. Examples thereof include a method of forming a lattice pattern.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。実施例及び比較例で得られた透明導電性積層フィルムを以下の項目で評価した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The transparent electroconductive laminated film obtained by the Example and the comparative example was evaluated by the following items.

[ヘイズ(HZ)及び全光線透過率(TT)]
ヘイズメーター(日本電色(株)製、商品名「NDH−5000W」)を用いて、JIS K7136に準拠して測定した。
[Haze (HZ) and total light transmittance (TT)]
It measured based on JISK7136 using the haze meter (The Nippon Denshoku Co., Ltd. make, brand name "NDH-5000W").

[視認性]
黒紙の上に透明導電層が形成された領域と形成されていない領域とを並べて置き、目視で観察して以下の基準で判定した。
[Visibility]
The region where the transparent conductive layer was formed on the black paper and the region where the transparent conductive layer was not formed were placed side by side, visually observed and judged according to the following criteria.

◎:差がわからない
○:差がわかりにくい
△:わずかに差がある
×:明らかに差がある。
◎: The difference is not known ○: The difference is difficult to understand △: There is a slight difference ×: There is a clear difference.

[ハードコート層の配合成分]
6官能アクリレート:六官能アクリル系UV硬化モノマー、ダイセルサイテック(株)製「DPHA」
3官能アクリレート:三官能アクリル系UV硬化モノマー:ダイセルサイテック(株)製「PETIA」
シリコーンアクリレート:六官能アクリル系UV硬化モノマー、ダイセルサイテック(株)製「EBECRYL1360」
CAP:セルロースアセテートプロピオネート、イーストマン社製「CAP−482−20」、アセチル化度=2.5%、プロピオニル化度=46%、ポリスチレン換算数平均分子量75,000
酸化チタン分散液:シーアイ化成(株)製「RTTDNB15WT%−N39」
BuOH:1−ブタノール、沸点113℃
MMPG:1−メトキシ−2−プロパノール、沸点119℃
MEK:メチルエチルケトン
IPA:2−プロパノール
開始剤1:光重合開始剤、チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア(Irgacure)184」
開始剤2:光重合開始剤、チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア(Irgacure)907」。
[Compounding ingredients of hard coat layer]
6-functional acrylate: 6-functional acrylic UV curing monomer, “DPHA” manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.
Trifunctional acrylate: Trifunctional acrylic UV curing monomer: "PETIA" manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.
Silicone acrylate: Hexafunctional acrylic UV curing monomer, “EBECRYL1360” manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.
CAP: cellulose acetate propionate, “CAP-482-20” manufactured by Eastman, degree of acetylation = 2.5%, degree of propionylation = 46%, polystyrene-equivalent number average molecular weight 75,000
Titanium oxide dispersion: “RTTDNB15WT% -N39” manufactured by CI Kasei Co., Ltd.
BuOH: 1-butanol, boiling point 113 ° C
MMPG: 1-methoxy-2-propanol, boiling point 119 ° C
MEK: Methyl ethyl ketone IPA: 2-propanol Initiator 1: Photopolymerization initiator, “Irgacure 184” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.
Initiator 2: Photopolymerization initiator, “Irgacure 907” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.

比較例1〜2及び実施例1〜3
表1に示すアクリレート、セルロースエステル及び酸化チタン分散液を、表1に示す混合溶媒に溶解した。この溶液を用いてトリアセチルセルロースフィルム上にワイヤーバー#5を用いて流延したのち、60℃のオーブン内で1分間放置後、コートフィルムを紫外線照射装置(ウシオ電機(株)製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量:800mJ/cm)に通して、紫外線硬化処理を行い、塗工膜を硬化させてハードコート層を形成した。さらに、ハードコート層の上に、InO及びSnOの複合酸化物物(ITO)をスパッタリング処理して透明導電層を形成した後、1Nの塩酸に浸漬することによりITO膜を除去して透明導電層が形成されていない領域を作成した。得られた積層フィルムの透明導電層が形成されていない領域のヘイズ及び全光線透過率、ハードコート層の屈折率を測定し、視認性を評価した結果を表1に示す。
Comparative Examples 1-2 and Examples 1-3
The acrylate, cellulose ester, and titanium oxide dispersion shown in Table 1 were dissolved in the mixed solvent shown in Table 1. After casting using this solution on a triacetylcellulose film using a wire bar # 5, it was left in an oven at 60 ° C. for 1 minute, and then the coated film was irradiated with an ultraviolet irradiation device (USHIO INC., High pressure mercury). Lamp, ultraviolet irradiation amount: 800 mJ / cm 2 ), an ultraviolet curing treatment was performed, and the coating film was cured to form a hard coat layer. Further, a transparent conductive layer is formed on the hard coat layer by sputtering a composite oxide of InO 2 and SnO 2 (ITO), and then the ITO film is removed by immersion in 1N hydrochloric acid to be transparent. A region where a conductive layer was not formed was created. Table 1 shows the results of measuring the haze, total light transmittance, and refractive index of the hard coat layer of the obtained laminated film where the transparent conductive layer is not formed, and evaluating the visibility.

Figure 2012218368
Figure 2012218368

表1の結果から明らかなように、比較例1の積層フィルムでは屈折率が低く、視認性が低い。また、比較例2の積層フィルムはヘイズが高い。一方、実施例の積層フィルムは、屈折率が高く、特に、実施例4の積層フィルムは、視認性に優れるとともに、屈折率が高い。   As is clear from the results in Table 1, the laminated film of Comparative Example 1 has a low refractive index and low visibility. Moreover, the laminated film of Comparative Example 2 has high haze. On the other hand, the laminated film of Example has a high refractive index, and in particular, the laminated film of Example 4 has excellent visibility and a high refractive index.

本発明の透明導電性積層フィルムは、透明導電層をパターン化して利用する各種の光学表示装置に利用でき、例えば、パーソナルコンピューター、テレビ、携帯電話(スマートフォン)、電子ペーパー、遊技機器、モバイル機器、時計、電卓などの電気・電子又は精密機器の表示部において、表示装置(液晶表示装置、プラズマディスプレイ装置、有機又は無機EL表示装置など)と組み合わせて用いられるタッチパネル(抵抗膜方式タッチパネル、静電容量方式タッチパネルなど)に利用できる。特に、優れた視認性から、ITOグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネルの視認側の上部電極板に有用である。   The transparent conductive laminated film of the present invention can be used for various optical display devices that use the transparent conductive layer in a pattern, such as a personal computer, a television, a mobile phone (smart phone), electronic paper, a game machine, a mobile device, Touch panel (resistive film type touch panel, electrostatic capacity) used in combination with a display device (liquid crystal display device, plasma display device, organic or inorganic EL display device, etc.) in the display part of electric / electronic or precision equipment such as a clock and a calculator System touch panel). In particular, because of excellent visibility, it is useful for the upper electrode plate on the viewing side of a projected capacitive touch panel employing an ITO grid method.

Claims (15)

透明材料で形成された基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層され、かつナノメーターサイズの無機粒子及びビニル系化合物を含む重合性組成物の硬化物で形成されたハードコート層と、このハードコート層表面の一部の領域に形成された透明導電層とを含む透明導電性積層フィルムであって、前記ビニル系化合物が、ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートとケイ素含有多官能(メタ)アクリレートとを含む透明導電性積層フィルム。   A base film formed of a transparent material, and a hard coat formed of a cured product of a polymerizable composition that is laminated on at least one surface of the base film and includes nanometer-sized inorganic particles and a vinyl compound Layer and a transparent conductive layer formed in a part of the surface of the hard coat layer, wherein the vinyl compound is a silicon-free polyfunctional (meth) acrylate and silicon-containing A transparent conductive laminated film containing polyfunctional (meth) acrylate. ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレートが、5〜7官能(メタ)アクリレートと、2〜4官能(メタ)アクリレートとの組み合わせであり、ケイ素含有(メタ)アクリレートが、シリコーン(メタ)アクリレートである請求項1記載の透明導電性積層フィルム。   Silicon-free polyfunctional (meth) acrylate is a combination of 5-7 functional (meth) acrylate and 2-4 functional (meth) acrylate, and silicon-containing (meth) acrylate is silicone (meth) acrylate The transparent conductive laminated film according to claim 1. 5〜7官能(メタ)アクリレートと、2〜4官能(メタ)アクリレートとの割合が、前者/後者=99/1〜30/70であり、かつケイ素含有多官能(メタ)アクリレートの割合が、ケイ素非含有多官能(メタ)アクリレート100重量部に対して0.1〜30重量部である請求項2記載の透明導電性積層フィルム。   The ratio of 5 to 7 functional (meth) acrylate and 2 to 4 functional (meth) acrylate is the former / the latter = 99/1 to 30/70, and the ratio of the silicon-containing polyfunctional (meth) acrylate is The transparent conductive laminated film according to claim 2, which is 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicon-free polyfunctional (meth) acrylate. 重合性組成物が、さらにセルロースエステルを含む請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the polymerizable composition further contains a cellulose ester. ビニル系化合物と無機粒子との割合(重量比)が、前者/後者=50/50〜10/90である請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the ratio (weight ratio) between the vinyl compound and the inorganic particles is the former / the latter = 50/50 to 10/90. 透明導電層が形成された領域と透明導電層が形成されていない領域との全光線透過率の差が2%以下である請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein a difference in total light transmittance between a region where the transparent conductive layer is formed and a region where the transparent conductive layer is not formed is 2% or less. 無機粒子が平均一次粒径1〜100nmの金属酸化物粒子である請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the inorganic particles are metal oxide particles having an average primary particle size of 1 to 100 nm. 無機粒子がチタン及び/又はジルコニウムを含む請求項1〜7のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to any one of claims 1 to 7, wherein the inorganic particles contain titanium and / or zirconium. 基材フィルムと透明導電層との屈折率差が0.3以上である請求項1〜8のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the difference in refractive index between the base film and the transparent conductive layer is 0.3 or more. ハードコート層の屈折率が、基材フィルムの屈折率よりも大きく、かつ透明導電層の屈折率よりも小さい請求項1〜9のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the refractive index of the hard coat layer is larger than the refractive index of the base film and smaller than the refractive index of the transparent conductive layer. 透明導電層が形成されていない領域の全光線透過率が80%以上であり、透明導電層が形成されていない領域のヘイズが5%以下である請求項1〜10のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   11. The transparent according to claim 1, wherein the total light transmittance of the region where the transparent conductive layer is not formed is 80% or more, and the haze of the region where the transparent conductive layer is not formed is 5% or less. Conductive laminated film. 基材フィルムが、ポリエステル系樹脂又はセルロースエステルで形成されている請求項1〜11のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the base film is formed of a polyester resin or a cellulose ester. 透明導電層がパターン化された形成されたタッチパネルの透明電極基板である請求項1〜12のいずれかに記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, which is a transparent electrode substrate of a touch panel formed by patterning a transparent conductive layer. 基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層をコーティングで形成した後、得られたハードコート層に透明導電層を物理的又は化学的気相法で形成する請求項1〜13のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムの製造方法。   The hard coat layer is formed on at least one surface of the base film by coating, and then the transparent conductive layer is formed on the obtained hard coat layer by a physical or chemical vapor phase method. The manufacturing method of the transparent conductive laminated film of description. 請求項1〜13のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムを電極基板として備える投影型静電容量方式タッチパネル。   A projected capacitive touch panel comprising the transparent conductive laminated film according to claim 1 as an electrode substrate.
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