JP2001264395A - 半導体デバイス測定装置 - Google Patents

半導体デバイス測定装置

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JP2001264395A JP2000076545A JP2000076545A JP2001264395A JP 2001264395 A JP2001264395 A JP 2001264395A JP 2000076545 A JP2000076545 A JP 2000076545A JP 2000076545 A JP2000076545 A JP 2000076545A JP 2001264395 A JP2001264395 A JP 2001264395A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体デバイス測定にかかる複数の機器同士
を短時間で同期制御でき測定を効率的に行えること。 【解決手段】 信号発生器11には、設定テーブル13
aが設けられ、発生出力する測定用信号の周波数範囲と
周波数ステップ、各周波数での出力レベルが格納され
る。送信機テスタ21の設定テーブル23aには、測定
周波数が格納される。これらテーブル内容は測定開始前
に処理手段1からGP−IBインターフェース3を介し
コマンド転送で設定される。測定開始後、信号発生器1
1と無線機テスタ21は、それぞれある周波数範囲での
動作を実行すると他方にトリガを送出して測定周波数を
ステップ単位で可変していき、半導体デバイスの特性を
設定した周波数範囲全域に渡り連続的に自動測定する。
各装置は、トリガの入力に基づき1つの手順を順次実行
していくため、短時間での特性測定を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスの
特性を測定する装置に係り、特に、信号発生器と信号測
定器を用い半導体デバイスに信号を供給しこの半導体デ
バイスの出力を得る測定の高速化が図れる半導体デバイ
ス測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイス、例えば、移動体通信機
器、ITS等の、アンプ、ミキサ、スイッチなどの複合
デバイスは、半導体デバイス測定装置を用いて周波数ー
レベル特性等が測定される。図6は従来の半導体デバイ
スの測定装置を示すブロック図である。図示のように、
半導体デバイスの周波数ーレベル特性を測定するには、
パソコン等の処理装置50と、信号発生器51と、レベ
ルメータ52が用いられ、これらがGP−IBインター
フェース53で接続されたものが用いられている。
【0003】処理装置50は、信号発生器51及びレベ
ルメータ52にそれぞれ測定周波数を及びレベルの設定
情報をGP−IBコマンドで出力し、信号発生器51は
設定された周波数及びレベルで信号を発生出力する。レ
ベルメータ52は、同様に設定された周波数で被測定の
半導体デバイスの特性を測定し、レベル取得要求に対し
て測定したレベルを処理装置50に出力する。
【0004】処理装置50は、特性測定に必要な周波数
(例えば10MHz〜3000MHzまでの10MHz
ステップの300回)分だけ信号発生器51及びレベル
メータ52の設定をGP−IBコマンドで設定する。こ
れにより、半導体デバイスの周波数ーレベル特性を所定
の周波数範囲に渡って自動測定することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の測定装置に
おいては、各装置間でのデータ転送が全て低速なGP−
IBコマンドを用いた構成であるため、設定コマンドの
転送時間、及びコマンドの解析に時間がかかり測定時間
の短縮化(測定の高速化)が図れなかった。上記例の場
合、各1つのコマンド転送に40msecかかったとす
ると、1つの周波数測定では、5回のコマンド転送だけ
で200msecかかることになる。
【0006】現在、GP−IBインターフェースの転送
速度が高速なものの例で説明すると、GP−IBのコマ
ンドの転送時間が1コマンドあたり5mseであり、コ
マンドに基づく装置の実行時間が1コマンド当たり1m
s以下で、300データを得るまでの時間は、300
(データ)×5(コマンド)×5(ms)=約7.5
(sec)かかっていた。
【0007】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、半導体デバイス測定にかかる複数の機
器同士を短時間で同期制御でき測定を効率的に行える半
導体デバイス測定装置の提供を目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体デバイス測定装置は、測定用信号を
発生し半導体デバイスに出力する信号発生器11と、前
記測定用信号の供給に基づく特性を測定する特性測定装
置21とを用いて半導体デバイスの特性を測定する装置
において、前記信号発生器及び特性測定装置にはそれぞ
れ、互いに予め定められた測定動作を実行するための手
順を格納する手順格納手段13,23と、1つの手順を
実行する度に相手装置に対して次の手順の実行要求を示
すトリガを送出し、該トリガの入力に基づき相互に1つ
の手順の実行を繰り返させる同期手段14,24と、を
備えたことを特徴とする。
【0009】また、前記信号発生器11の手順格納手段
13には、測定用信号の周波数範囲及び周波数間隔の情
報、及び測定用信号の出力レベルが格納され、前記特性
測定装置21の手順格納手段23には、測定周波数範囲
及び周波数間隔の情報が格納されることにより、前記ト
リガの送出の度に、設定された周波数範囲を所定の前記
周波数間隔で順次半導体デバイスの周波数ーレベル特性
を測定可能な構成にもできる。
【0010】また、前記信号発生器11と前記特性測定
装置21の間には、相互の装置の測定特性に対応して、
送出された前記トリガを相手装置に対し所定のウェイト
を以て転送するトリガ信号制御装置31を介設した構成
にもできる。
【0011】また、前記信号発生器11及び特性測定装
置21の手順格納手段13,23に格納する手順の情報
を送出する処理装置1と、前記手順の情報を処理装置1
から前記信号発生器11及び特性測定装置21に転送す
るためのGP−IBインターフェース3を備えた構成と
しても良い。
【0012】上記構成によれば、信号発生器11と特性
測定装置21は互いにトリガを送出し合って1つの手順
ずつ実行し半導体デバイスの特性を測定していく。各装
置は、トリガの入力に基づき手順格納手段13,23に
格納されている手順を1つずつ順次実行するため、コマ
ンド転送やコマンド解析の時間が不要で短時間での特性
測定が可能となる。
【0013】
【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本発明
の半導体デバイス測定装置の構成例を示す図である。装
置は、処理装置1と、信号発生器11と、特性測定装置
(送信機テスタ)21によって構成されている。この実
施形態では、被測定物Wである半導体デバイスの周波数
ーレベル特性を測定する例を用いて説明する。半導体デ
バイスDUTはテストフィクスチャに装着された状態で
信号ケーブルを介して信号発生器11及び特性測定装置
(送信機テスタ)21にそれぞれ電気的に接続される。
【0014】図2は、各装置の内部構成を示すブロック
図である。処理装置1は、CPU2及びROM、RAM
等を備えたパソコンで構成されており、信号発生器11
及び送信機テスタ21に対し、従来からのGP−IBイ
ンターフェース3に加え、トリガ用インターフェース4
を備えている。このトリガ用インターフェース4は、増
設スロットに装着されるパラレルI/Oインターフェー
スボードが用いられる。このパラレルI/Oは、CPU
2の測定開始要求に基づき信号発生器11に対してパル
ス状のトリガ(測定開始用トリガ)SAを発生出力する
機能を有している。
【0015】また、処理装置1は、測定開始前の時期に
GP−IBインターフェース3を介して、測定条件に基
づく初期設定用の各種パラメータS0を信号発生器11
及び送信機テスタ21に送出し設定する。このパラメー
タとしては、特性測定を行う周波数帯域、測定周波数ス
テップ、各周波数でのレベル等がある。
【0016】信号発生器11は、半導体デバイスWに対
して試験用の信号を供給する信号発生手段12を備えて
いる。この信号発生手段12は、手順格納手段13に設
定された測定条件に基づき発生出力する信号が制御され
る。手順格納手段13は、処理装置1から送出された初
期設定のパラメータS0に基づき、信号発生手段12か
ら出力する信号の周波数、レベルを所定の周波数帯域で
所定の周波数ステップ毎に複数設定する。この設定内容
は設定テーブル13aに格納される。
【0017】同期手段14は、トリガ用インターフェー
ス(不図示)を備え、処理装置1からのトリガSAに基
づき、信号発生手段12からの信号発生、即ち、測定開
始を制御する。また、測定開始後において同期手段14
は、信号発生手段12により設定した各周波数の信号を
出力する毎に、トリガ用インターフェースを介して送信
機テスタ21にトリガ(周波数変更要求トリガ)SBを
出力する。この後、送信機テスタ21側からのトリガ
(レベル取得済トリガ)SCを受信する毎に、設定テー
ブル13aに設定された信号の周波数とレベルを各周波
数ステップ毎に順次読み出して信号発生手段12に出力
することを繰り返す。
【0018】送信機テスタ21は、半導体デバイスWの
周波数ーレベル特性を測定する信号測定手段22を備え
ている。この信号測定手段22は、手順格納手段23に
設定された測定条件に基づき測定周波数別のレベルを測
定する。手順格納手段23は、処理装置1から送出され
た初期設定のパラメータS0に基づき、信号測定手段2
2で測定する信号の周波数を所定の周波数帯域で所定の
周波数ステップ毎に複数設定する。この設定内容は設定
テーブル23aに格納される。
【0019】同期手段24は、トリガ用インターフェー
ス(不図示)を備え、信号発生器11からのトリガ受信
に基づき、信号測定手段22での測定開始を制御する。
また、測定開始後において同期手段24は、信号測定手
段22が各周波数の信号を測定する毎に、トリガ用イン
ターフェースを介して信号発生器11にトリガ(レベル
取得済トリガ)を出力する。この後、信号発生器11側
からのトリガ(周波数変更要求トリガ)を受信する毎
に、設定テーブル23aに設定された信号の周波数を各
周波数ステップ毎に順次読み出して信号測定手段22に
出力することを繰り返す。なお、上記レベル取得済トリ
ガ、及び周波数変更要求トリガは、トリガの機能の説明
の便宜上付けたものであって、単に単パルスのトリガ信
号である。
【0020】図3は、上記設定テーブル13a,23a
の設定内容を示す図である。(a)は信号発生器11の
設定テーブル13aの内容、(b)は特性測定装置(送
信機テスタ)21の設定テーブル23aの内容である。
(a)に示す信号発生器11の設定テーブル13aに
は、図2のように処理装置1からGP−IBインターフ
ェース3を介して初期設定の各パラメータが設定され
る。図3の例では、発生する信号が10MHz〜300
0MHzまでの周波数範囲で、10MHzステップで設
定される。同時に各ステップ周波数にはそれぞれ所望す
る信号レベルが格納される。これにより信号発生器11
は10MHzを開始時の出力周波数として10MHzス
テップで3000MHzまで300回、周波数及びレベ
ルを可変して出力する。
【0021】(b)に示す送信機テスタ21の設定テー
ブル23aにも、図2のように処理装置1からGP−I
Bインターフェース3を介して初期設定のパラメータが
設定される。ここで、信号発生器11と同じ周波数範囲
(10MHz〜3000MHz)及び周波数ステップ
(10MHzステップ)が設定される。これにより送信
機テスタ21は10MHzを測定開始の周波数として1
0MHzステップで3000MHzまで300回、周波
数を可変した状態で半導体デバイスWの出力レベルを測
定する。
【0022】図3のように、信号発生器11からは各周
波数での信号発生の都度、送信機テスタ21に対して周
波数変更要求トリガSB-1〜SB-300を出力する。送信
機テスタ21は、各周波数でのレベル測定後に信号発生
器11に対してレベル取得済トリガSC-1〜SC-300を
出力する。測定で得られたレベルは、設定テーブル23
aで対応する測定周波数のエリアに順次格納される。こ
の他、送信機テスタ21には設定テーブル23aと別に
格納手段を設けて格納しておくこともできる。測定終了
後、測定で得られた各周波数別のレベルは、所定のデー
タインターフェース(GP−IB等)を介して処理装置
1のデータ格納手段7に転送される。
【0023】図4は、上記構成による測定動作を示すフ
ローチャートである。測定開始で処理装置1が測定開始
のトリガSAを出力すると、信号発生器11は設定テー
ブル13aに格納されている開始時の周波数及びレベル
を信号発生手段12に設定する。信号発生手段12は、
この周波数及びレベルの信号を発生出力する(SP
1)。送信機テスタ21は、信号発生器11から出力さ
れたトリガSBの入力に基づき、設定テーブル23aに
格納されている開始時の周波数を信号測定手段22に設
定する。信号測定手段22は、この周波数における半導
体デバイスWの出力レベルを測定する(SP2)。上記
により測定開始周波数(10MHz)における特性測定
が行われる。
【0024】次に、信号発生器11は送信機テスタ21
からのトリガSCが入力される都度、設定テーブル13
aに格納されている次の周波数(20MHz)及びレベ
ルで信号発生させる。また、送信機テスタ21は、信号
発生器11のトリガSBが入力される都度、設定テーブ
ル23aに格納されている次の周波数(20MHz)で
の半導体デバイスWの出力レベルを測定する。以降、信
号発生器11と送信機テスタ21との間で互いにトリガ
SB、SCの入力によって最後の設定周波数(3000
MHz)に至るまで、合計300回、10MHzステッ
プでの特性測定が自動実行される(SP3)。このよう
に、トリガの送受のみで信号発生器11と送信機テスタ
21同士を短時間で同期して測定動作させることがで
き、高速測定が可能となる。
【0025】上記説明では、送信機テスタ21は、測定
したレベルを測定後にまとめて処理装置1に転送する構
成としたが、これに限らず、各測定周波数でのレベルを
取得した都度、処理装置1に転送する構成にもできる。
【0026】(第2実施形態)図5は、本発明の第2実
施形態を示すブロック図である。図示のように、この実
施形態では、信号発生器11と送信機テスタ21との間
でやりとりされるトリガをトリガ信号制御装置31を用
いてタイミング制御する構成を付加したものである。処
理装置1によりGP−IBコマンドを用いて信号発生器
11及び送信機テスタ21の設定テーブル13a、23
aに初期設定パラメータを格納する構成は前述同様であ
る。
【0027】トリガ信号制御装置31は、信号発生器1
1から出力されるトリガ(周波数変更要求トリガ)SB
の入力後、所定のウェイト時間を以て送信機テスタ21
に出力する。このウェイト時間は信号発生器11におい
て、信号発生後、出力が安定するにかかる時間に相当す
る。また、送信機テスタ21から出力されるトリガ(レ
ベル取得済トリガ)SCに対しても所定のウェイト時間
を以て信号発生器11に出力する。このウェイト時間は
送信機テスタ21において、測定開始後、レベルを安定
して取得するにかかる時間に相当する。
【0028】このように、トリガ信号制御装置31を設
ける構成により、信号発生器11と、送信機テスタ21
それぞれの動作を安定した状態での測定が可能となる。
ところで、このトリガ信号制御装置31は、汎用のパソ
コンや、PLC(Programmable controller) を用いるこ
とができる。また、処理装置1のパソコンを用いる事も
できる。この場合、処理装置1は、測定開始前にGP−
IBにより信号発生器11と、送信機テスタ21に対し
て初期設定のコマンドを送出する制御を実行し、測定開
始後には、信号発生器11と送信機テスタ21の間でや
りとりされるトリガにウェイトをかける制御を実行す
る。
【0029】上記実施形態で説明した信号発生器11と
しては、例えばスぺクトラムアナライザのTG(トラッ
キングジェネレータ)を使用する事ができる。これによ
り、デジタル変調信号を発生し半導体デバイスWに出力
することもできる。ここで、測定時において信号発生器
11と送信機テスタ21はGP−IBコマンドをやりと
りしないため、上記デジタル変調特性を測定することが
できる。また、特性測定装置21は送信機テスタの他
に、レベルメータやネットワークアナライザ、スペクト
ラムアナライザを用いることができ、必要な測定項目に
合わせた機器を選択して用いればよい。特に、スペクト
ラムアナライザを用いたデジタル変調特性測定時におい
てはネットワークアナライザ等では扱えないデジタル変
調特性(隣接チャネル漏洩特性等)が測定可能となる。
【0030】そして、上記実施形態における測定装置に
よれば、トリガの実行時間が1コマンドあたり1mse
c以下であり、300データを得るまでの時間は、(3
00(データ)×2(トリガ)×1(ms以下))+
(3コマンド×5(ms))=約0.6(sec)以下
となり、従来に比して十分短時間で測定することができ
るようになる。上記3コマンドとは、初期設定時に信号
発生器11と送信機テスタ21に送出される2個のGP
−IBコマンドと、レベルデータ転送時の1コマンドを
示す。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、個別に設けられる信号
発生器と特性測定装置には、それぞれ手順格納手段が設
けられ、トリガの入力により予め格納された手順を1つ
ずつ順次実行できる。これらの装置は、互いにトリガを
送出し合って1つの手順ずつ実行し半導体デバイスの特
性を測定していくため、トリガの転送及び解析の時間が
不要で短時間で特性測定が可能となる。
【0032】半導体デバイスの周波数ーレベル特性を測
定する場合には、手順格納手段に測定しようとする周波
数範囲と周波数間隔を基本として設定しておくことによ
り、トリガ入力の都度、この周波数範囲内で所定の周波
数間隔をもって順次測定信号の出力及びレベル測定が行
え、周波数を可変させての連続した測定動作を自動的に
かつ短時間で行えるようになる。また、トリガ信号制御
装置を設けて両装置間でやりとりされるトリガにウェイ
トをかける構成とすれば、各装置の測定特性に合わせて
測定用信号の送出及びレベル取得がいずれも安定した時
期の値を測定できるようになり、測定時間の短縮化と共
に測定精度の向上を図れるようになる。また、手順格納
手段に格納する手順は、処理装置からGP−IBインタ
ーフェースを介して転送することができ、測定開始前に
おいては既存のコマンド転送を用いる事もできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体デバイス装置の構成例を示す
図。
【図2】第1実施形態における各装置の内部構成を示す
ブロック図。
【図3】設定テーブルの内容を示す図。
【図4】測定処理内容を示すフローチャート。
【図5】第2実施形態における装置構成を示すブロック
図。
【図6】従来の半導体デバイスの測定装置を示すブロッ
ク図。
【符号の説明】
1…処理装置、2…CPU、3…GP−IBインターフ
ェース、4…トリガ用インターフェース、7…データ格
納手段、11…信号発生器、12…信号発生手段、13
…手順格納手段、13a…設定テーブル、14…同期手
段、21…特性測定装置、22…信号測定手段、23…
手順格納手段、23a…設定テーブル、24…同期手
段、31…トリガ信号制御装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古田 経夫 東京都港区南麻布五丁目10番27号 アンリ ツ株式会社内 Fターム(参考) 2G003 AE03 AG17 AH01 AH04 2G032 AA03 AA07 AA08 AB01 AD04 AG01 9A001 BB03 BB04 CC02 JJ45 KK37 LL05

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定用信号を発生し半導体デバイスに出
    力する信号発生器(11)と、前記測定用信号の供給に
    基づく特性を測定する特性測定装置(21)とを用いて
    半導体デバイスの特性を測定する装置において、 前記信号発生器及び特性測定装置にはそれぞれ、 互いに予め定められた測定動作を実行するための手順を
    格納する手順格納手段(13,23)と、 1つの手順を実行する度に相手装置に対して次の手順の
    実行要求を示すトリガを送出し、該トリガの入力に基づ
    き相互に1つの手順の実行を繰り返させる同期手段(1
    4,24)と、を備えたことを特徴とする半導体デバイ
    ス測定装置。
  2. 【請求項2】 前記信号発生器(11)の手順格納手段
    (13)には、測定用信号の周波数範囲及び周波数間隔
    の情報、及び測定用信号の出力レベルが格納され、 前記特性測定装置(21)の手順格納手段(23)に
    は、測定周波数範囲及び周波数間隔の情報が格納される
    ことにより、 前記トリガの送出の度に、設定された周波数範囲を所定
    の前記周波数間隔で順次半導体デバイスの周波数ーレベ
    ル特性を測定可能な半導体デバイス測定装置。
  3. 【請求項3】 前記信号発生器(11)と前記特性測定
    装置(21)の間には、相互の装置の測定特性に対応し
    て、送出された前記トリガを相手装置に対し所定のウェ
    イトを以て転送するトリガ信号制御装置(31)を介設
    した請求項1記載の半導体デバイス測定装置。
  4. 【請求項4】 前記信号発生器(11)及び特性測定装
    置(21)の手順格納手段に格納する手順の情報を送出
    する処理装置(1)と、 前記手順の情報を前記処理装置から前記信号発生器及び
    特性測定装置に転送するためのGP−IBインターフェ
    ース(3)を備えた請求項1記載の半導体デバイス測定
    装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007074352A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Murata Mfg Co Ltd 被測定デバイスの測定装置及び測定方法
JP2007315828A (ja) * 2006-05-24 2007-12-06 Yokogawa Electric Corp テストシステム

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