JP2001264236A - パーティクル測定装置およびパーティクル測定方法 - Google Patents
パーティクル測定装置およびパーティクル測定方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
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- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
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- FGRBYDKOBBBPOI-UHFFFAOYSA-N 10,10-dioxo-2-[4-(N-phenylanilino)phenyl]thioxanthen-9-one Chemical compound O=C1c2ccccc2S(=O)(=O)c2ccc(cc12)-c1ccc(cc1)N(c1ccccc1)c1ccccc1 FGRBYDKOBBBPOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】同時刻でのクリーンルーム内の一定平面領域で
のパーティクル数分布を連続して得られるようにする。 【解決手段】クリーンルーム内等の浮遊パーティクル数
を計測するパーティクルカウンタ３，４として、複数の
吸引チューブ２の吸引口５が一定の面領域内に連続的に
配置され、かつ、各吸引チューブ２それぞれにパーティ
クルを計数できるパーティクルカウンタの検知部４が接
続されていることを特徴とする。
のパーティクル数分布を連続して得られるようにする。 【解決手段】クリーンルーム内等の浮遊パーティクル数
を計測するパーティクルカウンタ３，４として、複数の
吸引チューブ２の吸引口５が一定の面領域内に連続的に
配置され、かつ、各吸引チューブ２それぞれにパーティ
クルを計数できるパーティクルカウンタの検知部４が接
続されていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は浮遊パーティクルな
どを計測するパーティクル測定方法およびパーティクル
測定装置に関し、特に連続して所定領域内のパーティク
ル数分布が得られるパーティクル測定方法およびパーテ
ィクル測定装置に関する。
どを計測するパーティクル測定方法およびパーティクル
測定装置に関し、特に連続して所定領域内のパーティク
ル数分布が得られるパーティクル測定方法およびパーテ
ィクル測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】クリーンルーム内の浮遊パーティクル数
計測においては、２つの異なった方法が一般的に採用さ
れている。ひとつは、１本の吸引チューブで導入された
単位流量エアーの中のパーティクルを光散乱方式パーテ
ィクルカウンタで計測する方式である。この場合、平面
的なパーティクル数の分布を同時に得ることはできな
い。もうひとつは、シリコンウェハーを所与の場所に一
定時間設置しウェハーに付着したパーティクルをウェハ
ー付着パーティクル検査装置で計測する方式である。こ
の方式はウェハー内のパーティクル数の分布を知ること
ができるが、高価なシリコンウェハーを使用するという
コスト上の問題や、ウェハーに各パーティクルが付着す
る時刻が詳細にわからないという解析上の問題がある。
計測においては、２つの異なった方法が一般的に採用さ
れている。ひとつは、１本の吸引チューブで導入された
単位流量エアーの中のパーティクルを光散乱方式パーテ
ィクルカウンタで計測する方式である。この場合、平面
的なパーティクル数の分布を同時に得ることはできな
い。もうひとつは、シリコンウェハーを所与の場所に一
定時間設置しウェハーに付着したパーティクルをウェハ
ー付着パーティクル検査装置で計測する方式である。こ
の方式はウェハー内のパーティクル数の分布を知ること
ができるが、高価なシリコンウェハーを使用するという
コスト上の問題や、ウェハーに各パーティクルが付着す
る時刻が詳細にわからないという解析上の問題がある。
【０００３】第１の従来例として、特開平２−０７１１
３４号公報に示されたものを、図２の構成図に示す。こ
の従来例では、磁気ディスク装置の筐体１０に吸引チュ
ーブ１４を複数（１４―１〜４）取り付けて切換コック
１６で各チューブ１４に吸引されたエアーの中のパーテ
ィクル数を塵埃計（パーティクルカウンタ）１３で計測
している。なお、この場合は、塵埃計１３からの空気は
戻しパイプ１５から筐体１０に戻され、また制御回路１
１から発塵ユニット１２から筐体１０に塵埃が供給さ
れ、その塵埃分布を測定している。しかし、この場合、
計数すべき塵埃計１３が１台であり、また、各吸引口が
離れた位置にあるため、同時刻での一定連続平面でのパ
ーティクル数分布は得られないという欠点がある。
３４号公報に示されたものを、図２の構成図に示す。こ
の従来例では、磁気ディスク装置の筐体１０に吸引チュ
ーブ１４を複数（１４―１〜４）取り付けて切換コック
１６で各チューブ１４に吸引されたエアーの中のパーテ
ィクル数を塵埃計（パーティクルカウンタ）１３で計測
している。なお、この場合は、塵埃計１３からの空気は
戻しパイプ１５から筐体１０に戻され、また制御回路１
１から発塵ユニット１２から筐体１０に塵埃が供給さ
れ、その塵埃分布を測定している。しかし、この場合、
計数すべき塵埃計１３が１台であり、また、各吸引口が
離れた位置にあるため、同時刻での一定連続平面でのパ
ーティクル数分布は得られないという欠点がある。
【０００４】また、第２の従来例として、特開平７−２
０９１４６号公報に示されたものを、図３の構成図に示
す。この従来例は、クリーンルーム内におけるサンプリ
ングチューブ２９およびパーティクルカウンタ２３の配
置を示したもので、このクリーンルーム内のパーティク
ル数をパーティクルカウンタ２３で計数している。この
図には，パーティクルカウンタ２３が接続されるＬＡＮ
２６およびこれに関連するパソコン２１，サーバ２２等
の一般に室外に設置される機器も示シている。
０９１４６号公報に示されたものを、図３の構成図に示
す。この従来例は、クリーンルーム内におけるサンプリ
ングチューブ２９およびパーティクルカウンタ２３の配
置を示したもので、このクリーンルーム内のパーティク
ル数をパーティクルカウンタ２３で計数している。この
図には，パーティクルカウンタ２３が接続されるＬＡＮ
２６およびこれに関連するパソコン２１，サーバ２２等
の一般に室外に設置される機器も示シている。
【０００５】床板２８は、通常フリーアクセス型のもの
が用いられ、床板２８には、例えば間隔60cmごとに画定
された６０ｃｍ×６０ｃｍの領域に, 開口面積が１ｃｍ
2 程度の貫通穴（パンチ穴）が多数設けられている。ク
リーンルームの天井から送出された清浄空気は, この貫
通穴を通じて床板２８の下に排出される。
が用いられ、床板２８には、例えば間隔60cmごとに画定
された６０ｃｍ×６０ｃｍの領域に, 開口面積が１ｃｍ
2 程度の貫通穴（パンチ穴）が多数設けられている。ク
リーンルームの天井から送出された清浄空気は, この貫
通穴を通じて床板２８の下に排出される。
【０００６】床板２８の下には、床面に沿ってＸ方向お
よびＹ方向に延伸するサンプリングチューブ２９ａおよ
び２９ｂが設置されている。これらサンプリングチュー
ブ２９ａおよび２９ｂは、貫通穴が設けられている領域
の下を通るように配置されている。したがって, サンプ
リングチューブはこれらの領域で交差している。各々の
交差位置では、図２に示すように、サンプリングチュー
ブ９ａおよび９ｂに開口（サンプリング口）３０ａおよ
び３０ｂがそれぞれ設けられている。
よびＹ方向に延伸するサンプリングチューブ２９ａおよ
び２９ｂが設置されている。これらサンプリングチュー
ブ２９ａおよび２９ｂは、貫通穴が設けられている領域
の下を通るように配置されている。したがって, サンプ
リングチューブはこれらの領域で交差している。各々の
交差位置では、図２に示すように、サンプリングチュー
ブ９ａおよび９ｂに開口（サンプリング口）３０ａおよ
び３０ｂがそれぞれ設けられている。
【０００７】複数のサンプリングチューブ９ａおよび９
ｂの一端は, パーティクルカウンタ２３と後述する切り
換え器２４から成るＸ軸センサユニット２５ａおよびＹ
軸センサユニット２５ｂにそれぞれ接続されている。こ
の図の部分拡大図は、一つのサンプリングチューブ９ａ
または９ｂに平行な面で床板２８を切断した図であり、
床板８に貫通穴（パンチ穴）が設けられている。
ｂの一端は, パーティクルカウンタ２３と後述する切り
換え器２４から成るＸ軸センサユニット２５ａおよびＹ
軸センサユニット２５ｂにそれぞれ接続されている。こ
の図の部分拡大図は、一つのサンプリングチューブ９ａ
または９ｂに平行な面で床板２８を切断した図であり、
床板８に貫通穴（パンチ穴）が設けられている。
【０００８】床板２８上には塵埃粒子の発生源となる前
述のような装置が設置され、塵埃粒子は、天井に設けら
れたフィルタを通過することによって清浄にされた空気
の流れによって、貫通穴を通って床板８の下に排出さ
れ, サンプリングチューブ９ａ（または９ｂ）に設けら
れている開口３０ａ( または３０ｂ）から吸引される。
このようにして、クリーンルーム内における各々の領域
で採取された塵埃粒子がセンサユニット５ａ（または５
ｂ）に送られ、単位立方フィート当たりの個数が計測さ
れる。
述のような装置が設置され、塵埃粒子は、天井に設けら
れたフィルタを通過することによって清浄にされた空気
の流れによって、貫通穴を通って床板８の下に排出さ
れ, サンプリングチューブ９ａ（または９ｂ）に設けら
れている開口３０ａ( または３０ｂ）から吸引される。
このようにして、クリーンルーム内における各々の領域
で採取された塵埃粒子がセンサユニット５ａ（または５
ｂ）に送られ、単位立方フィート当たりの個数が計測さ
れる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述した第１の従来例
の場合も、計数すべき塵埃計１３が１台であり、また各
吸引口が離れた位置にあるため、同時刻での一定連続平
面でのパーティクル数分布は得られないという欠点があ
る。
の場合も、計数すべき塵埃計１３が１台であり、また各
吸引口が離れた位置にあるため、同時刻での一定連続平
面でのパーティクル数分布は得られないという欠点があ
る。
【００１０】また第２の従来例においても、サンプリン
グチューブ（吸引チューブ）２９ａ，ｂを複数取り付け
て切り替え器２４で切り替えてパーティクル数を計測し
ているため、同時刻での一定連続平面でのパーティクル
数分布は得られないという欠点がある。
グチューブ（吸引チューブ）２９ａ，ｂを複数取り付け
て切り替え器２４で切り替えてパーティクル数を計測し
ているため、同時刻での一定連続平面でのパーティクル
数分布は得られないという欠点がある。
【００１１】特に、クリーンルーム内で発塵した場合
に、その発塵した状態、分布なとを詳細に分析して発塵
源を調べるような時に、連続して発塵状態をモニターす
る必要があるが、前述の従来例では十分に対応できなか
った。
に、その発塵した状態、分布なとを詳細に分析して発塵
源を調べるような時に、連続して発塵状態をモニターす
る必要があるが、前述の従来例では十分に対応できなか
った。
【００１２】本発明の目的は、これらの問題を解決し、
同時刻での一定連続平面領域でのパーティクル数分布を
連続して得られるようにしたパーティクル測定装置およ
びパーティクル測定方法を提供することにある。
同時刻での一定連続平面領域でのパーティクル数分布を
連続して得られるようにしたパーティクル測定装置およ
びパーティクル測定方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の構成は、所定領
域内の浮遊パーティクル数を複数のパーティクルカウン
タにより計測するパーティクル測定装置において、前記
所定領域内に複数の吸引チューブの吸引口が一定の面積
内に連続的に配置され、かつ、前記複数の各吸引チュー
ブそれぞれに前記複数の各パーティクルカウンタの検知
部が接続されていることを特徴とする。
域内の浮遊パーティクル数を複数のパーティクルカウン
タにより計測するパーティクル測定装置において、前記
所定領域内に複数の吸引チューブの吸引口が一定の面積
内に連続的に配置され、かつ、前記複数の各吸引チュー
ブそれぞれに前記複数の各パーティクルカウンタの検知
部が接続されていることを特徴とする。
【００１４】また本発明の他の構成は、所定領域内の浮
遊パーティクル数を複数のパーティクルカウンタにより
計測するパーティクル測定方法において、前記所定領域
内に複数の吸引チューブの吸引口を連続して配置し、こ
れら複数の吸引チューブからの吸気をそれぞれ前記各パ
ーティクルカウンタの検知部に供給し、これら複数のパ
ーティクルカウンタにより前記所定領域内の各浮遊塵数
をそれぞれ計数することにより、前記所定領域内の各浮
遊パーティクル数分布を連続して測定することを特徴と
する。
遊パーティクル数を複数のパーティクルカウンタにより
計測するパーティクル測定方法において、前記所定領域
内に複数の吸引チューブの吸引口を連続して配置し、こ
れら複数の吸引チューブからの吸気をそれぞれ前記各パ
ーティクルカウンタの検知部に供給し、これら複数のパ
ーティクルカウンタにより前記所定領域内の各浮遊塵数
をそれぞれ計数することにより、前記所定領域内の各浮
遊パーティクル数分布を連続して測定することを特徴と
する。
【００１５】本発明において、連続的に配置された複数
の吸引チューブの吸引口が、所定領域内で格子状または
網目状に規則的に配置されるようにでき、また複数のパ
ーティクルカウンタを、浮遊パーティクルをその粒径ご
とに計数して出力するものとすることができる。
の吸引チューブの吸引口が、所定領域内で格子状または
網目状に規則的に配置されるようにでき、また複数のパ
ーティクルカウンタを、浮遊パーティクルをその粒径ご
とに計数して出力するものとすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態を示
すブロック図である。このパーティクルカウンタは、ク
リーンルーム内に設置した場合を示している。この場
合、エアーを吸引する吸引口部１は、その表面が、１０
０個の吸引口６を格子状に連続的に固定したもので、一
定断面積のエアーを同時に吸引することができる。各吸
引口６はそれぞれ吸引チューブ２に接続され、各吸引口
６の大きさは吸引チューブ２の断面と同程度の大きさで
ある。
すブロック図である。このパーティクルカウンタは、ク
リーンルーム内に設置した場合を示している。この場
合、エアーを吸引する吸引口部１は、その表面が、１０
０個の吸引口６を格子状に連続的に固定したもので、一
定断面積のエアーを同時に吸引することができる。各吸
引口６はそれぞれ吸引チューブ２に接続され、各吸引口
６の大きさは吸引チューブ２の断面と同程度の大きさで
ある。
【００１７】この吸引口部１は、例えば、直径３０ｃｍ
程度のウェーハ上の領域であり、このような領域におけ
る浮遊パーティクル数分布を連続して測定する必要のあ
るような場合に用いられる。
程度のウェーハ上の領域であり、このような領域におけ
る浮遊パーティクル数分布を連続して測定する必要のあ
るような場合に用いられる。
【００１８】各吸引口６から吸引チューブ２を介してそ
れぞれＨｅ―Ｎｅレーザ３に接続される。１００箇所の
吸引口６から導入されたエアーは、１００本の吸引チュ
ーブ２を経て、それぞれ１００個のＨｅ―Ｎｅレーザ３
に導入される。これらレーザ部３に導入されたエアー
は、それぞれの検知部４において、光散乱方式により、
粒径毎のパーティクル数が計測される。各検知部４の光
電素子により計測データが電気信号に変換され、信号処
理部５に入力される。
れぞれＨｅ―Ｎｅレーザ３に接続される。１００箇所の
吸引口６から導入されたエアーは、１００本の吸引チュ
ーブ２を経て、それぞれ１００個のＨｅ―Ｎｅレーザ３
に導入される。これらレーザ部３に導入されたエアー
は、それぞれの検知部４において、光散乱方式により、
粒径毎のパーティクル数が計測される。各検知部４の光
電素子により計測データが電気信号に変換され、信号処
理部５に入力される。
【００１９】この信号処理部５では、１００個のチュー
ブ２それぞれでの粒径毎のパーティクル数、１個１個の
パーティクル捕捉時刻、捕捉したチューブの位置を示す
Ｘ−Ｙ配列座標などを算出し、ＣＲＴ表示またはプリン
タに紙で打ち出す。尚、図におけるチューブ、レーザ、
検知部の数はそれぞれ１００個であるが、説明を簡便に
するために、３個のみを図示している。
ブ２それぞれでの粒径毎のパーティクル数、１個１個の
パーティクル捕捉時刻、捕捉したチューブの位置を示す
Ｘ−Ｙ配列座標などを算出し、ＣＲＴ表示またはプリン
タに紙で打ち出す。尚、図におけるチューブ、レーザ、
検知部の数はそれぞれ１００個であるが、説明を簡便に
するために、３個のみを図示している。
【００２０】本実施形態によれば、複数の吸引チューブ
２の吸引口を連続して一定面領域内に配置させること、
及び複数の検知部（１本の吸引口に１つの検知部）３を
もつことにより、一定面積内でのパーティクル数の分布
が同時に得られ、かつ時間経過による分布の変化も把握
することができる。
２の吸引口を連続して一定面領域内に配置させること、
及び複数の検知部（１本の吸引口に１つの検知部）３を
もつことにより、一定面積内でのパーティクル数の分布
が同時に得られ、かつ時間経過による分布の変化も把握
することができる。
【００２１】なお、このパーティクルカウンタ（３）４
としては、吸引される各パーティクルに交差してＨｅ―
Ｎｅレーザ３が照射される場合に、その散乱光の検出信
号波高値により各パーティクルの粒径が求められる。そ
のためパーティクルの粒径ごとの分布の時間変化を調べ
ることができ、所定領域内の発塵状態の解析に極めて有
効な手段となることができる。
としては、吸引される各パーティクルに交差してＨｅ―
Ｎｅレーザ３が照射される場合に、その散乱光の検出信
号波高値により各パーティクルの粒径が求められる。そ
のためパーティクルの粒径ごとの分布の時間変化を調べ
ることができ、所定領域内の発塵状態の解析に極めて有
効な手段となることができる。
【００２２】また、本実施形態の測定領域は、例えば直
径３０ｃｍの領域を示したが、その測定領域としては、
各吸引チューブ２の吸引口６から徐々に拡大してゆくよ
うな形状の漏斗状の導入口を設ければ、これら漏斗状導
入口を連続して配置することにより、より大きな領域の
測定ができることも明らかであり、例えばクリーンルー
ム全体の測定も可能となる。
径３０ｃｍの領域を示したが、その測定領域としては、
各吸引チューブ２の吸引口６から徐々に拡大してゆくよ
うな形状の漏斗状の導入口を設ければ、これら漏斗状導
入口を連続して配置することにより、より大きな領域の
測定ができることも明らかであり、例えばクリーンルー
ム全体の測定も可能となる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の構成によ
れば、複数の吸引口を連続して一定面積内に配置させる
こと、及び複数の検知部（１本の吸引口に１つの検知
部）をもつことにより、一定面領域内でのパーティクル
数の分布が同時に得られ、また、時間経過による分布の
変化を把握でき、これによりクリーンルーム内の生産設
備等における発塵箇所の早期発見に極めて有効であると
いう効果がある。
れば、複数の吸引口を連続して一定面積内に配置させる
こと、及び複数の検知部（１本の吸引口に１つの検知
部）をもつことにより、一定面領域内でのパーティクル
数の分布が同時に得られ、また、時間経過による分布の
変化を把握でき、これによりクリーンルーム内の生産設
備等における発塵箇所の早期発見に極めて有効であると
いう効果がある。
【図１】本発明の第１の実施形態を説明するブロック図
である。
である。
【図２】従来例の第１の構成を示す概略斜視図である。
【図３】従来例の第２の構成を示す概略斜視図である。
１ 吸引口部 ２ チューブ ３ Ｈｅ―Ｎｅレーザ ４ 検知部 ５ 信号処理部 ６ 吸引口 １０ 筐体 １１ 制御回路 １２ 発塵ユニット １３ 塵埃計 １４―１〜４ 吸引チューブ １５ 戻しパイプ １６ 切換コック ２１ パソコン ２２ サーバ ２３ パーティクルカウンタ ２４ 切り換え器 ２５ａ Ｘ軸センサユニット ２５ｂ Ｙ軸センサユニット ２６ ＬＡＮ ２７ 他の回線 ２８ 床板 ２９ａ，ｂ サンプリングチューブ ３０ａ，ｂ 開口部
Claims (6)
- 【請求項１】 所定領域内の浮遊パーティクル数を複数
のパーティクルカウンタにより計測するパーティクル測
定装置において、前記所定領域内に複数の吸引チューブ
の吸引口が一定の面積内に連続的に配置され、かつ、前
記複数の各吸引チューブそれぞれに前記複数の各パーテ
ィクルカウンタの検知部が接続されていることを特徴と
するパーティクル測定装置。 - 【請求項２】 連続的に配置された複数の吸引チューブ
の吸引口が、所定領域内で格子状または網目状に規則的
に配置された請求項１記載のパーティクル測定装置。 - 【請求項３】 複数のパーティクルカウンタが、浮遊パ
ーティクルをその粒径ごとに計数して出力するものであ
る請求項１または２記載のパーティクル測定装置。 - 【請求項４】 所定領域内の浮遊パーティクル数を複数
のパーティクルカウンタにより計測するパーティクル測
定方法において、前記所定領域内に複数の吸引チューブ
の吸引口を連続して配置し、これら複数の吸引チューブ
からの吸気をそれぞれ前記各パーティクルカウンタの検
知部に供給し、これら複数のパーティクルカウンタによ
り前記所定領域内の各浮遊塵数をそれぞれ計数すること
により、前記所定領域内の各浮遊パーティクル数分布を
連続して測定することを特徴とするパーティクル測定方
法。 - 【請求項５】 連続的に配置された複数の吸引チューブ
の吸引口が、所定領域内で格子状または網目状に規則的
に配置されものにより、各パーティクルカウンタで測定
する請求項４記載のパーティクル測定方法。 - 【請求項６】 複数のパーティクルカウンタの出力から
浮遊塵の粒径ごとに所定領域内の浮遊塵数分布を連続し
て測定する請求項４または５記載のパーティクル測定方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000078505A JP2001264236A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | パーティクル測定装置およびパーティクル測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000078505A JP2001264236A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | パーティクル測定装置およびパーティクル測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001264236A true JP2001264236A (ja) | 2001-09-26 |
Family
ID=18595908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000078505A Pending JP2001264236A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | パーティクル測定装置およびパーティクル測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001264236A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013079867A (ja) * | 2011-10-04 | 2013-05-02 | Azbil Corp | 微粒子検出装置の評価システム及び微粒子検出装置の評価方法 |
| CN105466827A (zh) * | 2016-01-22 | 2016-04-06 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种实时检测洁净设备内颗粒含量的系统 |
-
2000
- 2000-03-21 JP JP2000078505A patent/JP2001264236A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013079867A (ja) * | 2011-10-04 | 2013-05-02 | Azbil Corp | 微粒子検出装置の評価システム及び微粒子検出装置の評価方法 |
| CN105466827A (zh) * | 2016-01-22 | 2016-04-06 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种实时检测洁净设备内颗粒含量的系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20031216 |