JP2001261639A - イミノメチルピロール骨格を有する配位子を有する新規金属錯体化合物及びこれを含むα−オレフィン重合用触媒 - Google Patents
イミノメチルピロール骨格を有する配位子を有する新規金属錯体化合物及びこれを含むα−オレフィン重合用触媒Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な金属錯体化合物を提供し、押出成形や
射出成形が可能な高分子量で且つ高融点のα−オレフィ
ン重合体を製造する為の触媒を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される金属錯体化
合物。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ｎは窒素原子であり、Ｍは周期表の
第３〜１０族及びランタノイド系列から選ばれる元素で
あり、Ｘは、Ｍと結合するσ結合性の配位子を示し、Ｘ
が複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよ
い。Ｙは、ルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数
のＹは同じでも異なっていてもよい。ｎは２又は３であ
り、ｑは１〜５の整数であって、且つ［（Ｍの原子価）
−ｎ] の数を表し、ｒは０〜３の整数を示す。Ｘ、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は、それぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０
のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭
化水素基、又は炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を
示す。）
射出成形が可能な高分子量で且つ高融点のα−オレフィ
ン重合体を製造する為の触媒を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される金属錯体化
合物。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ｎは窒素原子であり、Ｍは周期表の
第３〜１０族及びランタノイド系列から選ばれる元素で
あり、Ｘは、Ｍと結合するσ結合性の配位子を示し、Ｘ
が複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよ
い。Ｙは、ルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数
のＹは同じでも異なっていてもよい。ｎは２又は３であ
り、ｑは１〜５の整数であって、且つ［（Ｍの原子価）
−ｎ] の数を表し、ｒは０〜３の整数を示す。Ｘ、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は、それぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０
のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭
化水素基、又は炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を
示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な遷移金属錯
体化合物、当該遷移金属化合物を含むα−オレフィン重
合用触媒、およびそれを使用したα−オレフィン重合体
の製造方法に関するものである。
体化合物、当該遷移金属化合物を含むα−オレフィン重
合用触媒、およびそれを使用したα−オレフィン重合体
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オレフィン重合用均一系触媒として周知
の所謂カミンスキー触媒は、重合活性が高く、シャープ
な分子量分布の重合体を製造することが出来る。この様
なカミンスキー触媒に用いられる遷移金属化合物として
は、例えばビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド（特開昭５８−０１９３０９号公報）や、エ
チレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド（特開昭６１−１３０３１
４号公報）などが知られている。また、重合に用いる遷
移金属化合物が異なると、オレフィン重合活性や得られ
たポリオレフィンの性状が大きく異なることも知られて
いる。また、最近新しいオレフィン重合触媒としてジイ
ミン構造の配位子を持った周期表第８族の遷移金属化合
物（国際公開特許９６２３０１０号）が提案されてい
る。更に、イミノメチルピロリル配位子を有するクロム
錯体化合物をα−オレフィン重合用触媒成分として用い
る方法も知られている（ＷＯ９９／１９３３５、Chem.C
ommun.,1998,1651）。
の所謂カミンスキー触媒は、重合活性が高く、シャープ
な分子量分布の重合体を製造することが出来る。この様
なカミンスキー触媒に用いられる遷移金属化合物として
は、例えばビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド（特開昭５８−０１９３０９号公報）や、エ
チレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド（特開昭６１−１３０３１
４号公報）などが知られている。また、重合に用いる遷
移金属化合物が異なると、オレフィン重合活性や得られ
たポリオレフィンの性状が大きく異なることも知られて
いる。また、最近新しいオレフィン重合触媒としてジイ
ミン構造の配位子を持った周期表第８族の遷移金属化合
物（国際公開特許９６２３０１０号）が提案されてい
る。更に、イミノメチルピロリル配位子を有するクロム
錯体化合物をα−オレフィン重合用触媒成分として用い
る方法も知られている（ＷＯ９９／１９３３５、Chem.C
ommun.,1998,1651）。
【０００３】ところで一般にポリオレフィンは、機械的
特性などに優れているため、各種成形体用など種々の分
野に用いられているが、近年ポリオレフィンに対する物
性の要求が多様化しており、様々な性状のポリオレフィ
ンが望まれている。また、生産性の向上も望まれてい
る。この様な状況のもとオレフィン重合活性に優れ、し
かも優れた性状を有するポリオレフィンを製造しうるよ
うなオレフィン重合用触媒成分の出現が望まれており、
また、そのようなオレフィン重合用触媒成分となり得る
ような新たな遷移金属化合物の出現が望まれている。
特性などに優れているため、各種成形体用など種々の分
野に用いられているが、近年ポリオレフィンに対する物
性の要求が多様化しており、様々な性状のポリオレフィ
ンが望まれている。また、生産性の向上も望まれてい
る。この様な状況のもとオレフィン重合活性に優れ、し
かも優れた性状を有するポリオレフィンを製造しうるよ
うなオレフィン重合用触媒成分の出現が望まれており、
また、そのようなオレフィン重合用触媒成分となり得る
ような新たな遷移金属化合物の出現が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、押出成形や射出
成形が可能な高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体
を高収率で得ることが出来るα−オレフィン重合用触媒
成分となり得る新規な遷移金属錯体化合物を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、上記の遷移金属錯体化
合物を含む触媒を使用したα−オレフィン重合体の製造
方法およびその結果得られたα−オレフィン重合体を提
供することにある。
鑑みなされたものであり、その目的は、押出成形や射出
成形が可能な高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体
を高収率で得ることが出来るα−オレフィン重合用触媒
成分となり得る新規な遷移金属錯体化合物を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、上記の遷移金属錯体化
合物を含む触媒を使用したα−オレフィン重合体の製造
方法およびその結果得られたα−オレフィン重合体を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述した
課題について鋭意検討した結果、イミノメチルピロリル
配位子と特定の遷移金属を含む新規な錯体化合物を見出
し、この錯体化合物をα−オレフィン重合用触媒成分と
して使用することにより、押出成形や射出成形が可能な
高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体を高収率で得
ることが出来ることを見出し、本発明を完成した。
課題について鋭意検討した結果、イミノメチルピロリル
配位子と特定の遷移金属を含む新規な錯体化合物を見出
し、この錯体化合物をα−オレフィン重合用触媒成分と
して使用することにより、押出成形や射出成形が可能な
高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体を高収率で得
ることが出来ることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】即ち、本発明の第１の要旨は、下記一般式
（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物、に存する。
（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物、に存する。
【０００７】
【化４】
【０００８】（一般式（Ｉ）中、Ｎは窒素原子であり、
Ｍは周期表の第３〜１０族の遷移金属、アルミニウム及
びランタノイド系列から選ばれる元素であり、Ｘは、Ｍ
と結合するσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場
合、複数のＸは同じでも異なっていてもよい。Ｙは、ル
イス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じで
も異なっていてもよい。ｎは２又は３であり、ｑは１〜
５の整数であって、且つ[（Ｍの原子価）−ｎ] の数を
表し、ｒは０〜３の整数を示す。Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は、それぞれ独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜
２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０のハロゲン化炭
化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、又は
炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を各々示す。）
Ｍは周期表の第３〜１０族の遷移金属、アルミニウム及
びランタノイド系列から選ばれる元素であり、Ｘは、Ｍ
と結合するσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場
合、複数のＸは同じでも異なっていてもよい。Ｙは、ル
イス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じで
も異なっていてもよい。ｎは２又は３であり、ｑは１〜
５の整数であって、且つ[（Ｍの原子価）−ｎ] の数を
表し、ｒは０〜３の整数を示す。Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は、それぞれ独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜
２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０のハロゲン化炭
化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、又は
炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を各々示す。）
【０００９】本発明の第２の要旨は、上記一般式（Ｉ）
で表される新規な金属錯体化合物を含むことを特徴とす
るα−オレフィン重合用触媒、に存する。
で表される新規な金属錯体化合物を含むことを特徴とす
るα−オレフィン重合用触媒、に存する。
【００１０】本発明の第３の要旨は、上記一般式（Ｉ）
で表される金属錯体化合物を含む触媒とα−オレフィン
とを接触させて重合又は共重合を行うことを特徴とする
α−オレフィン重合体の製造方法、及びその結果得られ
たα−オレフィン低重合体、に存する。
で表される金属錯体化合物を含む触媒とα−オレフィン
とを接触させて重合又は共重合を行うことを特徴とする
α−オレフィン重合体の製造方法、及びその結果得られ
たα−オレフィン低重合体、に存する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
先ず、本発明の金属錯体化合物について説明する。本発
明の金属錯体化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。
先ず、本発明の金属錯体化合物について説明する。本発
明の金属錯体化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。
【００１２】
【化５】
【００１３】一般式（Ｉ）においてＮは窒素原子であ
る。また、式（Ｉ）で表されるの化合物は、イミノメチ
ル基を構成する窒素原子と遷移元素Ｍとの間に配位結合
を有する化合物（下記式（II））と、配位結合を有しな
い化合物（下記式（III ））の両方を表すものである。
る。また、式（Ｉ）で表されるの化合物は、イミノメチ
ル基を構成する窒素原子と遷移元素Ｍとの間に配位結合
を有する化合物（下記式（II））と、配位結合を有しな
い化合物（下記式（III ））の両方を表すものである。
【００１４】
【化６】
【００１５】
【化７】
【００１６】また、Ｍは周期表の第３〜１０族（ＩＵＰ
ＡＣ、無機化学命名法改訂版（１９８９））の元素、ア
ルミニウム及びランタノイド系列から選ばれる元素を示
し、具体的にはスカンジウム、イットリウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、
ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジ
ウム、ニッケル、パラジウム、白金、サマリウムなどを
示し、好ましくはスカンジウム、イットリウム、チタニ
ウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、モリブデン、タングステン、マンガンか
ら選ばれる元素であり、より好ましくはクロム以外の周
期表の第３〜６族から選ばれる元素であり、更に好まし
くは周期表第４族のチタニウム、ジルコニウム、ハフニ
ウムである。
ＡＣ、無機化学命名法改訂版（１９８９））の元素、ア
ルミニウム及びランタノイド系列から選ばれる元素を示
し、具体的にはスカンジウム、イットリウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、
ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジ
ウム、ニッケル、パラジウム、白金、サマリウムなどを
示し、好ましくはスカンジウム、イットリウム、チタニ
ウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、モリブデン、タングステン、マンガンか
ら選ばれる元素であり、より好ましくはクロム以外の周
期表の第３〜６族から選ばれる元素であり、更に好まし
くは周期表第４族のチタニウム、ジルコニウム、ハフニ
ウムである。
【００１７】Ｘは、Ｍと結合するσ結合性の配位子を示
し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なってい
てもよい。一般式（Ｉ）において、Ｘ及びＲ1 〜Ｒ
5 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化
水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素
数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜２０の
酸素含有炭化水素基、または炭素数１〜２０の窒素含有
炭化水素基を示す。上記のハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ
る。
し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なってい
てもよい。一般式（Ｉ）において、Ｘ及びＲ1 〜Ｒ
5 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化
水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素
数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜２０の
酸素含有炭化水素基、または炭素数１〜２０の窒素含有
炭化水素基を示す。上記のハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ
る。
【００１８】上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体
例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロ
ピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル
等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニ
ル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェ
ニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−ス
チリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、
ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェ
ナントリル、アントリル等のアリール基が挙げられる。
例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロ
ピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル
等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニ
ル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェ
ニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−ス
チリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、
ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェ
ナントリル、アントリル等のアリール基が挙げられる。
【００１９】上記の炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素
基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フ
ェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナ
フトキシ等のアリロキシ基、フェニルメトキシ、ナフチ
ルメトキシ等のアリールアルコキシ基、フリル基などの
酸素含有複素環基などが挙げられる。
基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フ
ェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナ
フトキシ等のアリロキシ基、フェニルメトキシ、ナフチ
ルメトキシ等のアリールアルコキシ基、フリル基などの
酸素含有複素環基などが挙げられる。
【００２０】上記の炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素
基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、
エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、
フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ
基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）
（アリール）アミノ基、ジアルキルアミド基等のアミド
基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基など
が挙げられる。
基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、
エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、
フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ
基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）
（アリール）アミノ基、ジアルキルアミド基等のアミド
基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基など
が挙げられる。
【００２１】上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水
素基において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして、
上記のハロゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えば
フッ素原子の場合、フッ素原子が上記の炭化水素基の任
意の位置に置換した化合物である。具体的には、フルオ
ロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ク
ロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロ
モメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨード
メチル、２, ２, ２−トリフルオロエチル、２, ２,
１, １−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチ
ル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノ
ナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１, １−ジフ
ルオロベンジル、１, １, ２, ２−テトラフルオロフェ
ニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２
−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロ
モフェニル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、２, ５−
ジフルオロフェニル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、
２, ５−ジクロロフェニル、２, ４, ６−トリフルオロ
フェニル、２, ４, ６−トリクロロフェニル、ペンタフ
ルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロ
ナフチル、４−クロロナフチル、２, ４−ジフルオロナ
フチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ
−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチル
フェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニ
ル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、２, ５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル、２, ４−、３, ５−、
２, ６−、２, ５−ビス（トリクロロメチル）フェニ
ル、２, ４, ６−トリス（トリフルオロメチル）フェニ
ル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロ
メチルナフチル、２, ４−ビス（トリフルオロメチル）
ナフチル基などが挙げられる。（尚、本明細書中におい
て、例示置換基として挙げられるもの等を一部省略して
記載する。例えば前述の「２−、３−、４−フルオロフ
ェニル」は、「２−フルオロフェニル」、「３−フルオ
ロフェニル」、「４−フルオロフェニル」の３つの化合
物を挙げたことを意味する。）
素基において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして、
上記のハロゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えば
フッ素原子の場合、フッ素原子が上記の炭化水素基の任
意の位置に置換した化合物である。具体的には、フルオ
ロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ク
ロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロ
モメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨード
メチル、２, ２, ２−トリフルオロエチル、２, ２,
１, １−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチ
ル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノ
ナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１, １−ジフ
ルオロベンジル、１, １, ２, ２−テトラフルオロフェ
ニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２
−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロ
モフェニル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、２, ５−
ジフルオロフェニル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、
２, ５−ジクロロフェニル、２, ４, ６−トリフルオロ
フェニル、２, ４, ６−トリクロロフェニル、ペンタフ
ルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロ
ナフチル、４−クロロナフチル、２, ４−ジフルオロナ
フチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ
−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチル
フェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニ
ル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、２, ５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル、２, ４−、３, ５−、
２, ６−、２, ５−ビス（トリクロロメチル）フェニ
ル、２, ４, ６−トリス（トリフルオロメチル）フェニ
ル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロ
メチルナフチル、２, ４−ビス（トリフルオロメチル）
ナフチル基などが挙げられる。（尚、本明細書中におい
て、例示置換基として挙げられるもの等を一部省略して
記載する。例えば前述の「２−、３−、４−フルオロフ
ェニル」は、「２−フルオロフェニル」、「３−フルオ
ロフェニル」、「４−フルオロフェニル」の３つの化合
物を挙げたことを意味する。）
【００２２】上記の炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水
素基の具体例としては、トリメチルシリルメチル、トリ
エチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、
ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリ
ルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキ
ル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。上
述した基の中でも、Ｘとしては、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の窒
素含有炭化水素基が好ましく、中でもハロゲン原子、炭
素数１〜２０の炭化水素基または炭素数１〜２０の窒素
含有炭化水素基が更に好ましく、塩素原子、メチル基、
ｉ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、ジメチルアミ
ノ基またはジエチルアミノ基が特に好ましく、塩素原子
又はジエチルアミンが最も好ましい。
素基の具体例としては、トリメチルシリルメチル、トリ
エチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、
ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリ
ルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキ
ル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。上
述した基の中でも、Ｘとしては、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の窒
素含有炭化水素基が好ましく、中でもハロゲン原子、炭
素数１〜２０の炭化水素基または炭素数１〜２０の窒素
含有炭化水素基が更に好ましく、塩素原子、メチル基、
ｉ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、ジメチルアミ
ノ基またはジエチルアミノ基が特に好ましく、塩素原子
又はジエチルアミンが最も好ましい。
【００２３】また、上述した基の中でも、Ｒ1 として
は、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜１８のハ
ロゲン化アリール基、炭素数９〜１８のケイ素含有アリ
ール基、炭素数７〜２０の酸素含有アリール基が更に好
ましい。上記の好ましいＲ1 である炭素数６〜２０のア
リール基の具体例としては、フェニル、トリル、ジメチ
ルフェニル、エチルフェニル、ジエチルフェニル、イソ
プロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリメチ
ルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチ
ル、フェナントリル、アントリルなどが挙げられる。
は、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜１８のハ
ロゲン化アリール基、炭素数９〜１８のケイ素含有アリ
ール基、炭素数７〜２０の酸素含有アリール基が更に好
ましい。上記の好ましいＲ1 である炭素数６〜２０のア
リール基の具体例としては、フェニル、トリル、ジメチ
ルフェニル、エチルフェニル、ジエチルフェニル、イソ
プロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリメチ
ルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチ
ル、フェナントリル、アントリルなどが挙げられる。
【００２４】上記の好ましいＲ1 である炭素数６〜１８
のハロゲン化アリール基において、ハロゲン原子として
は、上述したようなフッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。そして、上記のハロゲン化炭
化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子の場合、
フッ素原子が上記の炭化水素基の任意の位置に置換した
化合物である。その好ましいＲ1 の具体例としては、２
−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−ク
ロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２,
４−、３, ５−、２, ６−、２, ５−ジフルオロフェニ
ル、２, ４−、３, ５−、２,６−、２, ５−ジクロロ
フェニル、２, ４, ６−トリフルオロフェニル、２,
４, ６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニ
ル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４
−クロロナフチル、２, ４−ジフルオロナフチル、ヘプ
タフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチ
ル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２
−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２, ４−、
３, ５−、２, ６−、２, ５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、２, ５
−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２, ４, ６−ト
リス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオ
ロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、
２, ４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが
挙げられる。
のハロゲン化アリール基において、ハロゲン原子として
は、上述したようなフッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。そして、上記のハロゲン化炭
化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子の場合、
フッ素原子が上記の炭化水素基の任意の位置に置換した
化合物である。その好ましいＲ1 の具体例としては、２
−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−ク
ロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２,
４−、３, ５−、２, ６−、２, ５−ジフルオロフェニ
ル、２, ４−、３, ５−、２,６−、２, ５−ジクロロ
フェニル、２, ４, ６−トリフルオロフェニル、２,
４, ６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニ
ル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４
−クロロナフチル、２, ４−ジフルオロナフチル、ヘプ
タフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチ
ル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２
−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２, ４−、
３, ５−、２, ６−、２, ５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル、２, ４−、３, ５−、２, ６−、２, ５
−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２, ４, ６−ト
リス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオ
ロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、
２, ４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが
挙げられる。
【００２５】上記の好ましいＲ1 である、炭素数９〜１
８のケイ素含有アリール基の具体例としては、トリメチ
ルシリルフェニル、トリメチルシリルナフチル、ｔ−ブ
チルジメチルシリルフェニル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルナフチルジエチル等のトリ（アルキル）シリルアリー
ル基などが挙げられる。
８のケイ素含有アリール基の具体例としては、トリメチ
ルシリルフェニル、トリメチルシリルナフチル、ｔ−ブ
チルジメチルシリルフェニル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルナフチルジエチル等のトリ（アルキル）シリルアリー
ル基などが挙げられる。
【００２６】上記の好ましいＲ1 である、炭素数７〜２
０の酸素含有アリール基の具体例としては、メトキシフ
ェニル、メトキシナフチル等のアルコキシアリール基、
フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。上
述した基の中でもＲ1 としては、フェニル、トリル、ジ
メチルフェニル、ジイソロピルフェニル、４−クロロフ
ェニル、４−トリメチルシリルフェニル、４−メトキシ
フェニルが好ましく、特にはトリル、ジメチルフェニ
ル、ジイソプロピルフェニル、４−メトキシフェニルが
好ましい。また、Ｒ2 〜Ｒ5 としては、水素原子、塩素
原子、メチル、メトキシ、フェノキシ、ジメチルアミ
ン、４−クロロフェニル、トリメチルシリルが好まし
く、特には水素原子が好ましい。
０の酸素含有アリール基の具体例としては、メトキシフ
ェニル、メトキシナフチル等のアルコキシアリール基、
フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。上
述した基の中でもＲ1 としては、フェニル、トリル、ジ
メチルフェニル、ジイソロピルフェニル、４−クロロフ
ェニル、４−トリメチルシリルフェニル、４−メトキシ
フェニルが好ましく、特にはトリル、ジメチルフェニ
ル、ジイソプロピルフェニル、４−メトキシフェニルが
好ましい。また、Ｒ2 〜Ｒ5 としては、水素原子、塩素
原子、メチル、メトキシ、フェノキシ、ジメチルアミ
ン、４−クロロフェニル、トリメチルシリルが好まし
く、特には水素原子が好ましい。
【００２７】Ｙは、ルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場
合、複数のＹは同じでも異なっていてもよい。ＹのＭへ
の結合形態はπ配位である。Ｙは好ましくはエーテル、
アルコール、アミン、エステル、アルケン、アルキンも
しくはアレーンであり、より好ましくは重合反応活性の
点からエーテル又はアルケンである。ｎは２又は３であ
り、特に２が好ましい。ｑは配位子Ｘの数を表し、１〜
５の整数であって、且つ[ （Ｍの原子価）−ｎ] の数を
表し、中でも１〜４が好ましく、特に２が好ましい。ｒ
はルイス塩基Ｙの数を表し、０〜３の整数であり、中で
もｒ＝０が好ましい。
合、複数のＹは同じでも異なっていてもよい。ＹのＭへ
の結合形態はπ配位である。Ｙは好ましくはエーテル、
アルコール、アミン、エステル、アルケン、アルキンも
しくはアレーンであり、より好ましくは重合反応活性の
点からエーテル又はアルケンである。ｎは２又は３であ
り、特に２が好ましい。ｑは配位子Ｘの数を表し、１〜
５の整数であって、且つ[ （Ｍの原子価）−ｎ] の数を
表し、中でも１〜４が好ましく、特に２が好ましい。ｒ
はルイス塩基Ｙの数を表し、０〜３の整数であり、中で
もｒ＝０が好ましい。
【００２８】本発明においては、式（Ｉ）の遷移金属錯
体化合物の中でも、更に下記一般式（IV）で表される化
合物であるのが好ましい。
体化合物の中でも、更に下記一般式（IV）で表される化
合物であるのが好ましい。
【００２９】
【化８】
【００３０】上記式（IV）で示される化合物の具体例を
下記表−１に示す。また、表−１に記載の化合物（１）
であるチタニウムジクロリドの名称は、ビス｛２−（フ
ェニルイミノ）ピロリル｝チタニウムジクロリドと称す
る。
下記表−１に示す。また、表−１に記載の化合物（１）
であるチタニウムジクロリドの名称は、ビス｛２−（フ
ェニルイミノ）ピロリル｝チタニウムジクロリドと称す
る。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】本発明で提案するイミノメチルピロリル配
位子を有する金属錯体化合物の製造方法に特に制限はな
いが、通常、下記一般式（Ｖ）で示される２−イミノメ
チルピロール
位子を有する金属錯体化合物の製造方法に特に制限はな
いが、通常、下記一般式（Ｖ）で示される２−イミノメ
チルピロール
【００３４】
【化９】
【００３５】あるいは下記一般式（VI）で示される２−
イミノメチルピロリル典型金属化合物
イミノメチルピロリル典型金属化合物
【００３６】
【化１０】
【００３７】を、目的とする金属の前駆体と反応させる
ことにより製造することができる。
ことにより製造することができる。
【００３８】上記一般式（Ｖ）で示される２−イミノメ
チルピロールと金属前駆体との反応によって製造する方
法において用いられる金属前駆体は、金属の種類によっ
て異なるが、通常少なくとも１つの金属−アルキル結合
または金属−アミド結合を有する金属化合物である。そ
れぞれアルカンあるいはアミンを発生させながら目的の
錯体を生成することができる。金属前駆体の具体例とし
ては、ＡｌＭｅ3 、ＡｌＥｔ3 ，ＡｌＥｔ2 Ｃｌ，Ａｌ
ＥｔＣｌ2 、Ｙ（ＮＭｅ2 ）3 ，Ｙ（ＮＥｔ2）3 、Ｚ
ｒ（ＮＥｔ2 ）4 、Ｈｆ（ＮＥｔ2 ）4 、Ｔｉ（Ｅｔ）
4 、Ｔｉ（Ｍｅ）4 、Ｔｉ（ＮＥｔ2 ）4 等が挙げられ
る。
チルピロールと金属前駆体との反応によって製造する方
法において用いられる金属前駆体は、金属の種類によっ
て異なるが、通常少なくとも１つの金属−アルキル結合
または金属−アミド結合を有する金属化合物である。そ
れぞれアルカンあるいはアミンを発生させながら目的の
錯体を生成することができる。金属前駆体の具体例とし
ては、ＡｌＭｅ3 、ＡｌＥｔ3 ，ＡｌＥｔ2 Ｃｌ，Ａｌ
ＥｔＣｌ2 、Ｙ（ＮＭｅ2 ）3 ，Ｙ（ＮＥｔ2）3 、Ｚ
ｒ（ＮＥｔ2 ）4 、Ｈｆ（ＮＥｔ2 ）4 、Ｔｉ（Ｅｔ）
4 、Ｔｉ（Ｍｅ）4 、Ｔｉ（ＮＥｔ2 ）4 等が挙げられ
る。
【００３９】一方、上記一般式（VI）で示される２−イ
ミノメチルピロリル典型金属化合物と金属前駆体の反応
によって製造する方法において用いられる金属前駆体
は、金属の種類によっても異なるが、通常少なくとも１
つの金属−ハロゲン結合あるいは金属−アルコキシ結合
を有する化合物である。具体的にはＡｌＣｌ3 、ＡｌＣ
ｌＭｅ2 、ＡｌＣｌ2 Ｍｅ、Ａｌ（ＯＥｔ）3 、ＴｉＣ
ｌ4 ，Ｔｉ（ＯＥｔ）4、ＴｉＣｌ3 、ＺｒＣｌ4 ，Ｈ
ｆＣｌ4 、ＴａＣｌ5 ，ＮｂＣｌ5 、ＶＣｌ5 、ＶＯＣ
ｌ3 、ＶＣｌ3 、ＣｒＣｌ3 、ＭｏＣｌ6 、ＷＣｌ6 、
ＦｅＣｌ2 ，ＦｅＣｌ3 、ＣｏＣｌ2 ，ＣｏＢｒ2 、Ｒ
ｈＣｌ3 、ＮｉＢｒ2 、ＰｄＣｌ2 、ＰｔＣｌ2 等があ
げられる。これらは単なる無機塩でもよいし、場合によ
り１，５−シクロオクタジエン、有機ニトリル、有機３
級アミン、有機３級ホスフィンなどの配位子を有してい
てもよい。
ミノメチルピロリル典型金属化合物と金属前駆体の反応
によって製造する方法において用いられる金属前駆体
は、金属の種類によっても異なるが、通常少なくとも１
つの金属−ハロゲン結合あるいは金属−アルコキシ結合
を有する化合物である。具体的にはＡｌＣｌ3 、ＡｌＣ
ｌＭｅ2 、ＡｌＣｌ2 Ｍｅ、Ａｌ（ＯＥｔ）3 、ＴｉＣ
ｌ4 ，Ｔｉ（ＯＥｔ）4、ＴｉＣｌ3 、ＺｒＣｌ4 ，Ｈ
ｆＣｌ4 、ＴａＣｌ5 ，ＮｂＣｌ5 、ＶＣｌ5 、ＶＯＣ
ｌ3 、ＶＣｌ3 、ＣｒＣｌ3 、ＭｏＣｌ6 、ＷＣｌ6 、
ＦｅＣｌ2 ，ＦｅＣｌ3 、ＣｏＣｌ2 ，ＣｏＢｒ2 、Ｒ
ｈＣｌ3 、ＮｉＢｒ2 、ＰｄＣｌ2 、ＰｔＣｌ2 等があ
げられる。これらは単なる無機塩でもよいし、場合によ
り１，５−シクロオクタジエン、有機ニトリル、有機３
級アミン、有機３級ホスフィンなどの配位子を有してい
てもよい。
【００４０】またこの製造反応で用いられる、上記一般
式（VI）に示される２−イミノメチルピロリル典型金属
化合物中のＭ’としては、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、珪素、ゲルマニウムが挙げられる。具体的にはＮ
ａ，Ｋ、Ｌｉ，ＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ，ＭｇＭｅ、ＣａＣ
ｌ、ＣａＢｒ，ＳｉＭｅ3 ，ＳｉＥｔ3 、ＳｉＣｌ3、
ＧｅＭｅ3 ，ＧｅＥｔ3 などが挙げられる。また、一般
式（VI）に示される化合物の代わりに、一般式（Ｖ）に
示される化合物と、ピリジンやトリエチルアミン等の有
機アミンを用いて、目的とする化合物を得ることもでき
る。
式（VI）に示される２−イミノメチルピロリル典型金属
化合物中のＭ’としては、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、珪素、ゲルマニウムが挙げられる。具体的にはＮ
ａ，Ｋ、Ｌｉ，ＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ，ＭｇＭｅ、ＣａＣ
ｌ、ＣａＢｒ，ＳｉＭｅ3 ，ＳｉＥｔ3 、ＳｉＣｌ3、
ＧｅＭｅ3 ，ＧｅＥｔ3 などが挙げられる。また、一般
式（VI）に示される化合物の代わりに、一般式（Ｖ）に
示される化合物と、ピリジンやトリエチルアミン等の有
機アミンを用いて、目的とする化合物を得ることもでき
る。
【００４１】更に、これらの方法で得られた上記一般式
（Ｉ）の金属錯体中の少なくとも１つを他の基に変換す
ることによって目的の錯体を得る方法も本発明で提案す
る錯体の製造法として有用である。例えば、一般にＸ＝
ＮＥｔ2 の金属錯体は、Ｍｅ 3 ＳｉＣｌ、ＴｉＣｌ4 な
どの金属塩化物で処理することによりＸ＝Ｃｌの金属錯
体に変換される。またＸ＝Ｃｌの金属錯体は、ＭｅＬ
ｉ，Ｍｅ3 Ａｌなどのメチル金属化合物によりＸ＝Ｍｅ
の金属錯体に変換することができる。
（Ｉ）の金属錯体中の少なくとも１つを他の基に変換す
ることによって目的の錯体を得る方法も本発明で提案す
る錯体の製造法として有用である。例えば、一般にＸ＝
ＮＥｔ2 の金属錯体は、Ｍｅ 3 ＳｉＣｌ、ＴｉＣｌ4 な
どの金属塩化物で処理することによりＸ＝Ｃｌの金属錯
体に変換される。またＸ＝Ｃｌの金属錯体は、ＭｅＬ
ｉ，Ｍｅ3 Ａｌなどのメチル金属化合物によりＸ＝Ｍｅ
の金属錯体に変換することができる。
【００４２】次に、本発明のα−オレフィン重合用触媒
について説明する。この触媒は、前述した本発明の遷移
金属錯体化合物を成分（Ａ）として含む。また、成分
（Ａ）の他に、成分（Ｂ）として、アルミニウムオキシ
化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに
変換することが可能なイオン性化合物またはルイス酸を
含むものである。なお、上記のルイス酸のある種のもの
は、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換
することが可能なイオン性化合物として把握することも
出来る。従って、上記のルイス酸およびイオン性化合物
の両者に属する化合物は、何れか一方に属するものとす
る。上記の成分（Ｂ）であるアルミニウムオキシ化合物
としては、具体的には次の一般式（VII)、（VIII）又は
（IX）で表される化合物が挙げられる。
について説明する。この触媒は、前述した本発明の遷移
金属錯体化合物を成分（Ａ）として含む。また、成分
（Ａ）の他に、成分（Ｂ）として、アルミニウムオキシ
化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに
変換することが可能なイオン性化合物またはルイス酸を
含むものである。なお、上記のルイス酸のある種のもの
は、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換
することが可能なイオン性化合物として把握することも
出来る。従って、上記のルイス酸およびイオン性化合物
の両者に属する化合物は、何れか一方に属するものとす
る。上記の成分（Ｂ）であるアルミニウムオキシ化合物
としては、具体的には次の一般式（VII)、（VIII）又は
（IX）で表される化合物が挙げられる。
【００４３】
【化１１】
【００４４】上記の各一般式（VII)〜（IX）中、Ｒ
6 は、それぞれ独立に、水素原子または炭化水素残基、
好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜
６の炭化水素残基を示す。また、複数のＲ6 はそれぞれ
同一でも異なっていてもよい。また、ｐは０〜４０、好
ましくは２〜３０の整数を示す。
6 は、それぞれ独立に、水素原子または炭化水素残基、
好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜
６の炭化水素残基を示す。また、複数のＲ6 はそれぞれ
同一でも異なっていてもよい。また、ｐは０〜４０、好
ましくは２〜３０の整数を示す。
【００４５】一般式（VIII）及び（IX）で表される化合
物は、アルモキサンとも呼ばれる化合物であって、一種
類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリア
ルキルアルミニウムと水との反応により得られる。具体
的には、（ａ）一種類のトリアルキルアルミニウムと水
から得られる、メチルアルモキサン、エチルアルモキサ
ン、プロピルアルモキサン、ブチルアルモキサン、イソ
ブチルアルモキサン、（ｂ）二種類のトリアルキルアル
ミニウムと水から得られる、メチルエチルアルモキサ
ン、メチルブチルアルモキサン、メチルイソブチルアル
モキサン等が例示される。これらの中では、メチルアル
モキサン又はメチルイソブチルアルモキサンが好まし
い。
物は、アルモキサンとも呼ばれる化合物であって、一種
類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリア
ルキルアルミニウムと水との反応により得られる。具体
的には、（ａ）一種類のトリアルキルアルミニウムと水
から得られる、メチルアルモキサン、エチルアルモキサ
ン、プロピルアルモキサン、ブチルアルモキサン、イソ
ブチルアルモキサン、（ｂ）二種類のトリアルキルアル
ミニウムと水から得られる、メチルエチルアルモキサ
ン、メチルブチルアルモキサン、メチルイソブチルアル
モキサン等が例示される。これらの中では、メチルアル
モキサン又はメチルイソブチルアルモキサンが好まし
い。
【００４６】上記のアルモキサンは、各一般式で表され
る各群内および各群間で複数種併用することも可能であ
る。そして、上記のアルモキサンは、公知の様々な条件
下に調製することが出来る。具体的には以下の様な方法
が例示できる。 （１）トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶
剤の存在下、トリアルキルアルミニウムを直接水と反応
させる方法。 （２）トリアルキルアルミニウムと結晶水を有する塩水
和物、例えば、硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物とを
反応させる方法。 （３）トリアルキルアルミニウムとシリカゲル等に含浸
させた水分とを反応させる方法。 （４）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミ
ニウムとを混合した後、トルエン、ベンゼン、エーテル
等の適当な有機溶剤の存在下、直接水と反応させる方
法。 （５）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミ
ニウムとの混合物と結晶水を有する塩水和物、例えば、
硫酸銅、硫酸アルミニウムとの水和物とを加熱反応させ
る方法。 （６）シリカゲル等に水分を含浸させ、トリイソブチル
アルミニウムで処理した後、トリメチルアルミニウムで
追加処理する方法。 （７）メチルアルモキサン及びイソブチルアルモキサン
を公知の方法で合成し、これら二成分を所定量混合して
加熱反応させる方法。 （８）ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒中に
硫酸銅５水塩などの結晶水を有する塩とトリメチルアル
ミニウムとを添加して約−４０〜４０℃の温度条件下に
反応させる方法。
る各群内および各群間で複数種併用することも可能であ
る。そして、上記のアルモキサンは、公知の様々な条件
下に調製することが出来る。具体的には以下の様な方法
が例示できる。 （１）トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶
剤の存在下、トリアルキルアルミニウムを直接水と反応
させる方法。 （２）トリアルキルアルミニウムと結晶水を有する塩水
和物、例えば、硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物とを
反応させる方法。 （３）トリアルキルアルミニウムとシリカゲル等に含浸
させた水分とを反応させる方法。 （４）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミ
ニウムとを混合した後、トルエン、ベンゼン、エーテル
等の適当な有機溶剤の存在下、直接水と反応させる方
法。 （５）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミ
ニウムとの混合物と結晶水を有する塩水和物、例えば、
硫酸銅、硫酸アルミニウムとの水和物とを加熱反応させ
る方法。 （６）シリカゲル等に水分を含浸させ、トリイソブチル
アルミニウムで処理した後、トリメチルアルミニウムで
追加処理する方法。 （７）メチルアルモキサン及びイソブチルアルモキサン
を公知の方法で合成し、これら二成分を所定量混合して
加熱反応させる方法。 （８）ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒中に
硫酸銅５水塩などの結晶水を有する塩とトリメチルアル
ミニウムとを添加して約−４０〜４０℃の温度条件下に
反応させる方法。
【００４７】アルモキサンを調製する際に使用する水の
量は、トリメチルアルミニウムに対するモル比で通常
０．５〜１．５である。上記の方法で得られたメチルア
ルモキサンは、線状または環状の有機アルミニウムの重
合体である。一般式（IX) で表される化合物は、一種類
のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアル
キルアルミニウムと次の一般式（Ｘ）で表されるアルキ
ルボロン酸とを、１０：１〜１：１（モル比）で反応さ
せることにより得ることが出来る。一般式（Ｘ）中、Ｒ
7 は、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６の炭化
水素残基またはハロゲン化炭化水素残基を示す。
量は、トリメチルアルミニウムに対するモル比で通常
０．５〜１．５である。上記の方法で得られたメチルア
ルモキサンは、線状または環状の有機アルミニウムの重
合体である。一般式（IX) で表される化合物は、一種類
のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアル
キルアルミニウムと次の一般式（Ｘ）で表されるアルキ
ルボロン酸とを、１０：１〜１：１（モル比）で反応さ
せることにより得ることが出来る。一般式（Ｘ）中、Ｒ
7 は、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６の炭化
水素残基またはハロゲン化炭化水素残基を示す。
【００４８】
【化１２】 Ｒ7 Ｂ（ＯＨ）2 （Ｘ）
【００４９】一般式（Ｘ）の化合物としては、具体的に
は以下の様な反応生成物が例示できる。 （ａ）トリメチルアルミニウムとメチルボロン酸の２：
１の反応物 （ｂ）トリイソブチルアルミニウムとメチルボロン酸の
２：１反応物 （ｃ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミ
ニウムとメチルボロン酸の１：１：１反応物 （ｄ）トリメチルアルミニウムとエチルボロン酸の２：
１反応物 （ｅ）トリエチルアルミニウムとブチルボロン酸の２：
１反応物
は以下の様な反応生成物が例示できる。 （ａ）トリメチルアルミニウムとメチルボロン酸の２：
１の反応物 （ｂ）トリイソブチルアルミニウムとメチルボロン酸の
２：１反応物 （ｃ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミ
ニウムとメチルボロン酸の１：１：１反応物 （ｄ）トリメチルアルミニウムとエチルボロン酸の２：
１反応物 （ｅ）トリエチルアルミニウムとブチルボロン酸の２：
１反応物
【００５０】また、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）を
カチオンに変換することが可能なイオン性化合物として
は、一般式（XI）で表される化合物が挙げられる。
カチオンに変換することが可能なイオン性化合物として
は、一般式（XI）で表される化合物が挙げられる。
【００５１】
【化１３】〔Ｋ〕ｅ+ 〔Ｚ〕ｅ- （XI）
【００５２】一般式（XI）中、Ｋはカチオン成分であっ
て、例えば、カルボニウムカチオン、トロピリウムカチ
オン、アンモニウムカチオン、オキソニウムカチオン、
スルホニウムカチオン、ホスフォニウムカチオン等が挙
げられる。また、それ自身が還元され易い金属の陽イオ
ンや有機金属の陽イオン等も挙げられる。上記のカチオ
ンの具体例としては、トリフェニルカルボニウム、ジフ
ェニルカルボニウム、シクロヘプタトリエニウム、イン
デニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアン
モニウム、トリブチルアンモニウム、Ｎ, Ｎ−ジメチル
アニリニウム、ジプロピルアンモニウム、ジシクロヘキ
シルアンモニウム、トリフェニルホスホニウム、トリメ
チルホスホニウム、トリス（ジメチルフェニル）ホスホ
ニウム、トリス（メチルフェニル）ホスホニウム、トリ
フェニルスルホニウム、トリフェニルオキソニウム、ト
リエチルオキソニウム、ピリリウム、銀イオン、金イオ
ン、白金イオン、銅イオン、パラジウムイオン、水銀イ
オン、フェロセニウムイオン等が挙げられる。
て、例えば、カルボニウムカチオン、トロピリウムカチ
オン、アンモニウムカチオン、オキソニウムカチオン、
スルホニウムカチオン、ホスフォニウムカチオン等が挙
げられる。また、それ自身が還元され易い金属の陽イオ
ンや有機金属の陽イオン等も挙げられる。上記のカチオ
ンの具体例としては、トリフェニルカルボニウム、ジフ
ェニルカルボニウム、シクロヘプタトリエニウム、イン
デニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアン
モニウム、トリブチルアンモニウム、Ｎ, Ｎ−ジメチル
アニリニウム、ジプロピルアンモニウム、ジシクロヘキ
シルアンモニウム、トリフェニルホスホニウム、トリメ
チルホスホニウム、トリス（ジメチルフェニル）ホスホ
ニウム、トリス（メチルフェニル）ホスホニウム、トリ
フェニルスルホニウム、トリフェニルオキソニウム、ト
リエチルオキソニウム、ピリリウム、銀イオン、金イオ
ン、白金イオン、銅イオン、パラジウムイオン、水銀イ
オン、フェロセニウムイオン等が挙げられる。
【００５３】上記の一般式（XI）中、Ｚは、アニオン成
分であり、成分（Ａ）が変換されたカチオン種に対して
対アニオンとなる成分（一般には非配位の成分）であ
る。Ｚとしては、例えば、有機ホウ素化合物アニオン、
有機アルミニウム化合物アニオン、有機ガリウム化合物
アニオン、有機リン化合物アニオン、有機ヒ素化合物ア
ニオン、有機アンチモン化合物アニオン等が挙げられ、
Ｚの具体例としては次のアニオンが挙げられる。
分であり、成分（Ａ）が変換されたカチオン種に対して
対アニオンとなる成分（一般には非配位の成分）であ
る。Ｚとしては、例えば、有機ホウ素化合物アニオン、
有機アルミニウム化合物アニオン、有機ガリウム化合物
アニオン、有機リン化合物アニオン、有機ヒ素化合物ア
ニオン、有機アンチモン化合物アニオン等が挙げられ、
Ｚの具体例としては次のアニオンが挙げられる。
【００５４】（ａ）テトラフェニルホウ素、テトラキス
（３, ４, ５−トリフルオロフェニル）ホウ素、テトラ
キス｛３, ５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝
ホウ素、テトラキス｛３, ５−ジ（ｔ−ブチル）フェニ
ル｝ホウ素、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホ
ウ素など （ｂ）テトラフェニルアルミニウム、テトラキス（３,
４, ５−トリフルオロフェニル）アルミニウム、テトラ
キス｛３, ５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝
アルミニウム、テトラキス｛３, ５−ジ（ｔ−ブチル）
フェニル｝アルミニウム、テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）アルミニウム等
（３, ４, ５−トリフルオロフェニル）ホウ素、テトラ
キス｛３, ５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝
ホウ素、テトラキス｛３, ５−ジ（ｔ−ブチル）フェニ
ル｝ホウ素、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホ
ウ素など （ｂ）テトラフェニルアルミニウム、テトラキス（３,
４, ５−トリフルオロフェニル）アルミニウム、テトラ
キス｛３, ５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝
アルミニウム、テトラキス｛３, ５−ジ（ｔ−ブチル）
フェニル｝アルミニウム、テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）アルミニウム等
【００５５】（ｃ）テトラフェニルガリウム、テトラキ
ス（３, ４, ５−トリフルオロフェニル）ガリウム、テ
トラキス｛３, ５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル｝ガリウム、テトラキス｛３, ５−ジ（ｔ−ブチル）
フェニル｝ガリウム、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ガリウム等 （ｄ）テトラフェニルリン、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）リン等 （ｅ）テトラフェニルヒ素、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ヒ素など （ｆ）テトラフェニルアンチモン、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）アンチモン等 （ｇ）デカボレート、ウンデカボレート、カルバドデカ
ボレート、デカクロロデカボレート等
ス（３, ４, ５−トリフルオロフェニル）ガリウム、テ
トラキス｛３, ５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル｝ガリウム、テトラキス｛３, ５−ジ（ｔ−ブチル）
フェニル｝ガリウム、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ガリウム等 （ｄ）テトラフェニルリン、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）リン等 （ｅ）テトラフェニルヒ素、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ヒ素など （ｆ）テトラフェニルアンチモン、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）アンチモン等 （ｇ）デカボレート、ウンデカボレート、カルバドデカ
ボレート、デカクロロデカボレート等
【００５６】また、ルイス酸、特に成分（Ａ）をカチオ
ンに変換可能なルイス酸としては、種々の有機ホウ素化
合物、金属ハロゲン化合物、固体酸などが例示され、そ
の具体的例としては次の化合物が挙げられる。 （ａ）トリフェニルホウ素、トリス（３, ５−ジフルオ
ロフェニル）ホウ素、トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）ホウ素等の有機ホウ素化合物 （ｂ）塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化ア
ルミニウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨ
ウ化マグネシウム、塩化臭化マグネシウム、塩化ヨウ化
マグネシウム、臭化ヨウ化マグネシウム、塩化マグネシ
ウムハイドライド、塩化マグネシウムハイドロオキシ
ド、臭化マグネシウムハイドロオキシド、塩化マグネシ
ウムアルコキシド、臭化マグネシウムアルコキシド等の
金属ハロゲン化合物
ンに変換可能なルイス酸としては、種々の有機ホウ素化
合物、金属ハロゲン化合物、固体酸などが例示され、そ
の具体的例としては次の化合物が挙げられる。 （ａ）トリフェニルホウ素、トリス（３, ５−ジフルオ
ロフェニル）ホウ素、トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）ホウ素等の有機ホウ素化合物 （ｂ）塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化ア
ルミニウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨ
ウ化マグネシウム、塩化臭化マグネシウム、塩化ヨウ化
マグネシウム、臭化ヨウ化マグネシウム、塩化マグネシ
ウムハイドライド、塩化マグネシウムハイドロオキシ
ド、臭化マグネシウムハイドロオキシド、塩化マグネシ
ウムアルコキシド、臭化マグネシウムアルコキシド等の
金属ハロゲン化合物
【００５７】本発明においては、用いる金属錯体の種類
にもよるが、成分（Ｂ）としては、上述した中でも、メ
チルアルモキサン又は、テトラキス（３，４，５−トリ
フルオロフェニル）ホウ素、テトラキス｛３，５−ジ
（ｔ−ブチル）フェニル｝ホウ素、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ホウ素等のテトラアリールホウ素ア
ニオンをＺとして有する一般式(IX)の化合物を採用する
のが、入手の容易さ、活性化能の高さから好ましい。本
発明のα−オレフィン重合用触媒において、アルミニウ
ムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカ
チオンに変換することが可能なイオン性化合物またはル
イス酸は、成分（Ｂ）として、それぞれ単独使用される
他、これらの３成分を適宜組み合わせて使用することが
出来る。また、上記の低級アルキルアルミニウム、ハロ
ゲン含有アルキルアルミニウム、アルキルアルミニウム
ヒドリド、アルコキシ含有アルキルアルミニウム、アリ
ールオキシ含有アルキルアルミニウムの１種または２種
以上は、任意成分ではあるが、アルミニウムオキシ化合
物、イオン性化合物またはルイス酸と併用してα−オレ
フィン重合用触媒中に含有させるのが好ましい。
にもよるが、成分（Ｂ）としては、上述した中でも、メ
チルアルモキサン又は、テトラキス（３，４，５−トリ
フルオロフェニル）ホウ素、テトラキス｛３，５−ジ
（ｔ−ブチル）フェニル｝ホウ素、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ホウ素等のテトラアリールホウ素ア
ニオンをＺとして有する一般式(IX)の化合物を採用する
のが、入手の容易さ、活性化能の高さから好ましい。本
発明のα−オレフィン重合用触媒において、アルミニウ
ムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカ
チオンに変換することが可能なイオン性化合物またはル
イス酸は、成分（Ｂ）として、それぞれ単独使用される
他、これらの３成分を適宜組み合わせて使用することが
出来る。また、上記の低級アルキルアルミニウム、ハロ
ゲン含有アルキルアルミニウム、アルキルアルミニウム
ヒドリド、アルコキシ含有アルキルアルミニウム、アリ
ールオキシ含有アルキルアルミニウムの１種または２種
以上は、任意成分ではあるが、アルミニウムオキシ化合
物、イオン性化合物またはルイス酸と併用してα−オレ
フィン重合用触媒中に含有させるのが好ましい。
【００５８】本発明のα−オレフィン重合用触媒は、重
合槽の内外において、重合させるべきモノマーの存在下
または不存在下、上記の成分（Ａ）及び（Ｂ）を接触さ
せることにより調製することが出来る。すなわち、成分
（Ａ）及び（Ｂ）を予め接触させた後に重合槽に導入し
てもよい。
合槽の内外において、重合させるべきモノマーの存在下
または不存在下、上記の成分（Ａ）及び（Ｂ）を接触さ
せることにより調製することが出来る。すなわち、成分
（Ａ）及び（Ｂ）を予め接触させた後に重合槽に導入し
てもよい。
【００５９】上記の各成分の接触は、窒素などの不活性
ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キ
シレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。接触
温度は、−２０℃から溶媒の沸点の範囲の温度、特に、
室温から溶媒の沸点の範囲の温度が好ましい。この様に
して調製された触媒は、調製後に洗浄せずに使用しても
よく、また、洗浄した後に使用してもよい。更には、調
製後に必要に応じて新たに成分を組み合わせて使用して
もよい。
ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キ
シレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。接触
温度は、−２０℃から溶媒の沸点の範囲の温度、特に、
室温から溶媒の沸点の範囲の温度が好ましい。この様に
して調製された触媒は、調製後に洗浄せずに使用しても
よく、また、洗浄した後に使用してもよい。更には、調
製後に必要に応じて新たに成分を組み合わせて使用して
もよい。
【００６０】成分（Ａ）及び（Ｂ）の使用量は任意であ
る。例えば、溶媒重合の場合、成分（Ａ）の使用量は、
遷移金属原子として、通常１０-7〜１０2 mmol／L 、好
ましくは１０-4〜１ mmol ／L の範囲とされる。成分
（Ｂ）の使用量は、アルミニウムオキシ化合物の場合、
Ａｌ／遷移金属Ｍのモル比は、通常１０〜１０5 、好ま
しくは１００〜２×１０4 、更に好ましくは１００〜１
０4 の範囲とされる。一方、成分（Ｂ）としてイオン性
化合物またはルイス酸を使用した場合、遷移金属Ｍに対
するこれらのモル比は、通常０．１〜１０００、好まし
くは０．５〜１００、更に好ましくは１〜５０の範囲と
される。
る。例えば、溶媒重合の場合、成分（Ａ）の使用量は、
遷移金属原子として、通常１０-7〜１０2 mmol／L 、好
ましくは１０-4〜１ mmol ／L の範囲とされる。成分
（Ｂ）の使用量は、アルミニウムオキシ化合物の場合、
Ａｌ／遷移金属Ｍのモル比は、通常１０〜１０5 、好ま
しくは１００〜２×１０4 、更に好ましくは１００〜１
０4 の範囲とされる。一方、成分（Ｂ）としてイオン性
化合物またはルイス酸を使用した場合、遷移金属Ｍに対
するこれらのモル比は、通常０．１〜１０００、好まし
くは０．５〜１００、更に好ましくは１〜５０の範囲と
される。
【００６１】原料のα−オレフィンとしては、炭素数が
通常２〜２０、好ましくは２〜１０のα−オレフィンが
使用され、その具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキ
セン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−
テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、
１−エイコセン等が挙げられる。本発明の触媒は、エチ
レンの重合に好適に使用される。
通常２〜２０、好ましくは２〜１０のα−オレフィンが
使用され、その具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキ
セン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−
テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、
１−エイコセン等が挙げられる。本発明の触媒は、エチ
レンの重合に好適に使用される。
【００６２】本発明のオレフィン重合体製造反応の実施
形態は、溶媒を利用する溶液重合、実質的に溶媒を使用
せずにオレフィン原料自体を液相として行う液相無溶媒
重合、気相重合、溶融重合のいずれでも行うことが出来
る。また反応の方法としては、回分式、連続式のいずれ
の方法も採用することができる。反応条件は採用する反
応方法、用いるモノマーの種類などによって異なるが、
通常以下の通りである。反応温度は−１００〜１５０
℃、好ましくは−８０〜１００℃である。反応圧力は常
圧〜１００気圧、好ましくは常圧〜６０気圧である。生
成するポリマーは通常１０００≦Ｍｗ≦１００万の分子
量、１≦Ｍｗ／Ｍｎ≦２００となる分子量分布、０．１
〜１０００（ｇ／１０分）で表されるメルトフローイン
デックス（ＭＩ）、３０〜２００℃の融点を有する。
形態は、溶媒を利用する溶液重合、実質的に溶媒を使用
せずにオレフィン原料自体を液相として行う液相無溶媒
重合、気相重合、溶融重合のいずれでも行うことが出来
る。また反応の方法としては、回分式、連続式のいずれ
の方法も採用することができる。反応条件は採用する反
応方法、用いるモノマーの種類などによって異なるが、
通常以下の通りである。反応温度は−１００〜１５０
℃、好ましくは−８０〜１００℃である。反応圧力は常
圧〜１００気圧、好ましくは常圧〜６０気圧である。生
成するポリマーは通常１０００≦Ｍｗ≦１００万の分子
量、１≦Ｍｗ／Ｍｎ≦２００となる分子量分布、０．１
〜１０００（ｇ／１０分）で表されるメルトフローイン
デックス（ＭＩ）、３０〜２００℃の融点を有する。
【００６３】また、本発明の触媒は、上記の各α−オレ
フィン同志またはα−オレフィンとの他の単量体との共
重合にも適用可能である。α−オレフィンと共重合可能
な他の単量体としては、例えば、ブタジエン、１, ４−
ヘキサジエン、１, ５−ヘキサジエン、７−メチル−
１, ６−オクタジエン、１, ８−ノナジエン、１, ９−
デカジエンの様な共役および非共役ジエン類、シクロプ
ロペン、シクロブテン、シクロペンテン、ノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエンの様な環状オレフィンが挙げ
られる。
フィン同志またはα−オレフィンとの他の単量体との共
重合にも適用可能である。α−オレフィンと共重合可能
な他の単量体としては、例えば、ブタジエン、１, ４−
ヘキサジエン、１, ５−ヘキサジエン、７−メチル−
１, ６−オクタジエン、１, ８−ノナジエン、１, ９−
デカジエンの様な共役および非共役ジエン類、シクロプ
ロペン、シクロブテン、シクロペンテン、ノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエンの様な環状オレフィンが挙げ
られる。
【００６４】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。なお、以下の諸例
において、触媒合成工程および重合工程は、全て精製窒
素雰囲気下で行い、溶媒は、ＭＳ−４Ａで脱水した後に
精製窒素でバブリングして脱気して使用した。分子量及
び分子量分布の測定は、ＧＰＣにより得られた重量平均
分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝Ｑ値）により決定した。ＧＰＣ装置は、Ｗａｔｅｒ
ｓ社製「１５０ＣＶ型」を使用した。溶媒はオルトジク
ロルベンゼンを使用し、測定温度は１３５℃とした。
説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。なお、以下の諸例
において、触媒合成工程および重合工程は、全て精製窒
素雰囲気下で行い、溶媒は、ＭＳ−４Ａで脱水した後に
精製窒素でバブリングして脱気して使用した。分子量及
び分子量分布の測定は、ＧＰＣにより得られた重量平均
分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝Ｑ値）により決定した。ＧＰＣ装置は、Ｗａｔｅｒ
ｓ社製「１５０ＣＶ型」を使用した。溶媒はオルトジク
ロルベンゼンを使用し、測定温度は１３５℃とした。
【００６５】実施例１（iminomethylpyrrolyl)2Zr(NE
t2)2型錯体の合成法） アルゴン雰囲気下、Ｚｒ（ＮＥｔ2 ）4 （１．９９ｇ、
５．３２ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍＬ）溶液に、−
２０℃で２当量の（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒｒ）
Ｈ（１ｃ；１．９３ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）のトルエン
（１０ｍＬ）溶液を加えた。室温に昇温し、６時間反応
させた。トルエンを留去するとオイルが得られた。ヘキ
サン６０ｍＬで抽出した。ヘキサンを留去しはじめると
黄色粉末がおちてきたので、ヘキサンを５ｍＬ残すほど
まで留去し、上澄みを取り除いた。減圧乾燥して黄色粉
末（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒｒ）2 Ｚｒ（ＮＥｔ
2）2 （２ｃ；２．９７ｇ，４．９３ｍｍｏｌ）を得
た。収率９２．７％。 1ＨＮＭＲで同定した。その他の
錯体２ａ，２ｂ，２ｄ，２ｅについても同様の合成法で
合成した。
t2)2型錯体の合成法） アルゴン雰囲気下、Ｚｒ（ＮＥｔ2 ）4 （１．９９ｇ、
５．３２ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍＬ）溶液に、−
２０℃で２当量の（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒｒ）
Ｈ（１ｃ；１．９３ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）のトルエン
（１０ｍＬ）溶液を加えた。室温に昇温し、６時間反応
させた。トルエンを留去するとオイルが得られた。ヘキ
サン６０ｍＬで抽出した。ヘキサンを留去しはじめると
黄色粉末がおちてきたので、ヘキサンを５ｍＬ残すほど
まで留去し、上澄みを取り除いた。減圧乾燥して黄色粉
末（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒｒ）2 Ｚｒ（ＮＥｔ
2）2 （２ｃ；２．９７ｇ，４．９３ｍｍｏｌ）を得
た。収率９２．７％。 1ＨＮＭＲで同定した。その他の
錯体２ａ，２ｂ，２ｄ，２ｅについても同様の合成法で
合成した。
【００６６】
【化１４】
【００６７】（iminomethylpyrrolyl)2Zr(NEt2)2型錯体
の分析データ） （ｉｍｉｎｏｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｙｌ）2 Ｚｒ
（ＮＥｔ2 ）2 型錯体のうち、２ａ，２ｂ，２ｃは、溶
液中、室温ではＳｃｈｅｍｅ２のような異性化がおこっ
ている。これらの錯体の室温での 1ＨＮＭＲスペクトル
では、ブロードなシグナルが観測され、高温での 1ＨＮ
ＭＲスペクトルでは、シャープなシグナルが観測され
る。
の分析データ） （ｉｍｉｎｏｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｙｌ）2 Ｚｒ
（ＮＥｔ2 ）2 型錯体のうち、２ａ，２ｂ，２ｃは、溶
液中、室温ではＳｃｈｅｍｅ２のような異性化がおこっ
ている。これらの錯体の室温での 1ＨＮＭＲスペクトル
では、ブロードなシグナルが観測され、高温での 1ＨＮ
ＭＲスペクトルでは、シャープなシグナルが観測され
る。
【００６８】
【化１５】
【００６９】(mono-p-MeOC6H4-pyrr)2Zr(NEt2)2(2a) の
分析データ ７８．２％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ6 Ｄ6 ，３５℃）：δ
０．９２（ｂｒ ｓ，１２Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），３．３１（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3 ），３．６
４（ｂｒ ｓ，８Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），６．５
２（ｂｒ ｓ，２Ｈ，ｐｙｒｒ），６．６９（ｂｒ
ｓ，４Ｈ，ｍ−Ｃ6 Ｈ4 ），６．７５（ｂｒ ｓ，２
Ｈ，ｐｙｒｒ），６．７８（ｂｒ ｓ，４Ｈ，ｏ−Ｃ6
Ｈ4 ），７．５９（ｂｒ ｓ，２Ｈ，ｐｙｒｒ），７．
６９（ｂｒ ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）． (mono-p-tol-pyrr)2Zr(NEt2)2(2b) の分析データ ９０．６％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ8 ，８
０℃）：δ０．８７（ｔ，１２Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）
2 ），２．０６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3 ），３．５６（ｑ，
８Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），６．３６（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．６５（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒ
ｒ），６．６７（ｍ，４Ｈ，Ｃ6 Ｈ4 ），６．８０
（ｍ，４Ｈ，Ｃ6 Ｈ4 ），７．３６（ｂｒ ｓ，２Ｈ，
５−ｐｙｒｒ），７．６６（ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
分析データ ７８．２％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ6 Ｄ6 ，３５℃）：δ
０．９２（ｂｒ ｓ，１２Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），３．３１（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3 ），３．６
４（ｂｒ ｓ，８Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），６．５
２（ｂｒ ｓ，２Ｈ，ｐｙｒｒ），６．６９（ｂｒ
ｓ，４Ｈ，ｍ−Ｃ6 Ｈ4 ），６．７５（ｂｒ ｓ，２
Ｈ，ｐｙｒｒ），６．７８（ｂｒ ｓ，４Ｈ，ｏ−Ｃ6
Ｈ4 ），７．５９（ｂｒ ｓ，２Ｈ，ｐｙｒｒ），７．
６９（ｂｒ ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）． (mono-p-tol-pyrr)2Zr(NEt2)2(2b) の分析データ ９０．６％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ8 ，８
０℃）：δ０．８７（ｔ，１２Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）
2 ），２．０６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3 ），３．５６（ｑ，
８Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），６．３６（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．６５（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒ
ｒ），６．６７（ｍ，４Ｈ，Ｃ6 Ｈ4 ），６．８０
（ｍ，４Ｈ，Ｃ6 Ｈ4 ），７．３６（ｂｒ ｓ，２Ｈ，
５−ｐｙｒｒ），７．６６（ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
【００７０】(mono-o-tol-pyrr)2Zr(NEt2)2(2c) の分析
データ ７６．３％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ6 Ｄ6 ，７０℃）：δ
０．８４（ｂｒ ｓ，１２Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），１．９０（ｂｒ ｓ，６Ｈ，Ａｒ−Ｃ
Ｈ3 ），３．４０（ｂｒ ｓ，８Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 Ｃ
Ｈ3 ）2 ），６．４−７．２（ｂｒ ｍ，１４Ｈ，ｐｙ
ｒｒｏｌｙｌ ａｎｄ ａｒｏｍａｔｉｃ ｐｒｏｔｏ
ｎｓ），７．３３（ｂｒ ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）． Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ Ｆｏｒ Ｃ32Ｈ42Ｃｌ2 Ｎ6 Ｚ
ｒ：Ｃ，６３．８５；Ｈ，７．０３；Ｎ，１３．９６
％．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６３．９４；Ｈ，７．０３；Ｎ，
１３．７４． (mono-xyl-pyrr)2Zr(NEt2)2(2d) の分析データ ７２．８％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ8 ，３
５℃）：δ０．３７（ｔ，６Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），０．８３（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）
2），１．１７（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）2 ），
１．９６（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），１．９７（ｓ，６Ｈ，Ｍ
ｃ），２．０９（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），２．７８（ｍ，２
Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），３．１４（ｍ，２Ｈ，Ｎ
（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2），３．２９（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ
2 ＣＨ3 ）2 ），３．９２（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ
3 ）2 ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．４０（ｂｒ ｓ，１
Ｈ，５ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），
６．４０（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏ
ｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．４４（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙ
ｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５８
（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａ
ｔｅｄ）），６．９２（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．０
−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ6 Ｈ3），７．０９（ｓ，１
Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．４２（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５−ｐｙ
ｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ））．
データ ７６．３％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ6 Ｄ6 ，７０℃）：δ
０．８４（ｂｒ ｓ，１２Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），１．９０（ｂｒ ｓ，６Ｈ，Ａｒ−Ｃ
Ｈ3 ），３．４０（ｂｒ ｓ，８Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 Ｃ
Ｈ3 ）2 ），６．４−７．２（ｂｒ ｍ，１４Ｈ，ｐｙ
ｒｒｏｌｙｌ ａｎｄ ａｒｏｍａｔｉｃ ｐｒｏｔｏ
ｎｓ），７．３３（ｂｒ ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）． Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ Ｆｏｒ Ｃ32Ｈ42Ｃｌ2 Ｎ6 Ｚ
ｒ：Ｃ，６３．８５；Ｈ，７．０３；Ｎ，１３．９６
％．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６３．９４；Ｈ，７．０３；Ｎ，
１３．７４． (mono-xyl-pyrr)2Zr(NEt2)2(2d) の分析データ ７２．８％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ8 ，３
５℃）：δ０．３７（ｔ，６Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），０．８３（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）
2），１．１７（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）2 ），
１．９６（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），１．９７（ｓ，６Ｈ，Ｍ
ｃ），２．０９（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），２．７８（ｍ，２
Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），３．１４（ｍ，２Ｈ，Ｎ
（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2），３．２９（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ
2 ＣＨ3 ）2 ），３．９２（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ
3 ）2 ），６．０３（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．４０（ｂｒ ｓ，１
Ｈ，５ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），
６．４０（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏ
ｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．４４（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙ
ｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５８
（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａ
ｔｅｄ）），６．９２（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．０
−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ6 Ｈ3），７．０９（ｓ，１
Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．４２（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５−ｐｙ
ｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ））．
【００７１】(mono- iPr2C6H3-pyrr)2Zr(NEt2)2(2e) の
分析データ ７３．８％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ8 ，３
５℃）：δ０．４９（ｔ，６Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），０．５２（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）
2），０．６８（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．
７２（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．８２（ｄ，
３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．９２（ｄ，３Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），０．９５（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），０．９８（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）2 ），
１．００（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．２３
（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．３１（ｄ，３
Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3）2 ），１．７１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），２．４５（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），２．４７（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），
２．９７（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），３．３
１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），３．５９（ｍ，１
Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），３．７１（ｍ，２Ｈ，Ｎ（Ｃ
Ｈ 2 ＣＨ3 ）2 ），４．１４（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 Ｃ
Ｈ3 ）2 ），６．１８（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５６（ｂｒ ｓ，
１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．５６（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５９（ｄ，１Ｈ，
３−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．
７４（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉ
ｎａｔｅｄ）），７．０−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ
6 Ｈ3 ），７．５８（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ（Ｎ ｃｏｏ
ｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．５９（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５
−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），
７．６５（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉ
ｎａｔｅｄ））．
分析データ ７３．８％ ｙｉｅｌｄ1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ8 ，３
５℃）：δ０．４９（ｔ，６Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ 3 ）2 ），０．５２（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）
2），０．６８（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．
７２（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．８２（ｄ，
３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．９２（ｄ，３Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），０．９５（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），０．９８（ｔ，３Ｈ，Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ 3 ）2 ），
１．００（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．２３
（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．３１（ｄ，３
Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3）2 ），１．７１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），２．４５（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），２．４７（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），
２．９７（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 ＣＨ3 ）2 ），３．３
１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），３．５９（ｍ，１
Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），３．７１（ｍ，２Ｈ，Ｎ（Ｃ
Ｈ 2 ＣＨ3 ）2 ），４．１４（ｍ，２Ｈ，Ｎ（ＣＨ 2 Ｃ
Ｈ3 ）2 ），６．１８（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５６（ｂｒ ｓ，
１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．５６（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５９（ｄ，１Ｈ，
３−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．
７４（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉ
ｎａｔｅｄ）），７．０−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ
6 Ｈ3 ），７．５８（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ（Ｎ ｃｏｏ
ｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．５９（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５
−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），
７．６５（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉ
ｎａｔｅｄ））．
【００７２】実施例２（iminomethylpyrrolyl)2ZrCl2型
錯体の合成法） アルゴン雰囲気下、（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒ
ｒ）2 Ｚｒ（ＮＥｔ2 ） 2 （２ｃ；５７０ｍｇ，０．９
４７ｍｍｏｌ）を３．０ｍＬのトルエンに溶かし、室温
で過剰のＭｅ3 ＳｉＣｌ（５．０ｅｑ，０．６０ｍＬ，
４．７３ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１２時間撹拌し
た。トルエンを半分（１．５ｍＬ）留去し、ヘキサンを
３．０ｍＬ加えると、黄色懸濁液が得られた。静置して
黄色固体を沈殿させ、上澄みをとり除いた。黄色沈殿を
減圧乾燥し、黄色粉末（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒ
ｒ）2 ＺｒＣｌ2 （３ｃ；３８２ｍｇ，０．７２３ｍｍ
ｏｌ）を得た。収率７６．３％。その他の錯体３ａ，３
ｂ，３ｄ，３ｅについても同様の合成法で合成した。
錯体の合成法） アルゴン雰囲気下、（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒ
ｒ）2 Ｚｒ（ＮＥｔ2 ） 2 （２ｃ；５７０ｍｇ，０．９
４７ｍｍｏｌ）を３．０ｍＬのトルエンに溶かし、室温
で過剰のＭｅ3 ＳｉＣｌ（５．０ｅｑ，０．６０ｍＬ，
４．７３ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１２時間撹拌し
た。トルエンを半分（１．５ｍＬ）留去し、ヘキサンを
３．０ｍＬ加えると、黄色懸濁液が得られた。静置して
黄色固体を沈殿させ、上澄みをとり除いた。黄色沈殿を
減圧乾燥し、黄色粉末（ｍｏｎｏ−ｏ−ｔｏｌ−ｐｙｒ
ｒ）2 ＺｒＣｌ2 （３ｃ；３８２ｍｇ，０．７２３ｍｍ
ｏｌ）を得た。収率７６．３％。その他の錯体３ａ，３
ｂ，３ｄ，３ｅについても同様の合成法で合成した。
【００７３】（iminomethylpyrrolyl)2ZrCl2型錯体の分
析データ） (mono-p-MeOC6H4-pyrr)2ZrCl2(3a)の分析データ ８８．０％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ１０２−１０４℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
３．７６（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3 ），６．２１（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．６７（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒ
ｒ），６．６９（ｍ，４Ｈ，ｍ−Ｃ6 Ｈ4 ），６．８５
（ｍ，４Ｈ，ｏ−Ｃ6 Ｈ4 ），７．４４（ｄ，２Ｈ，５
−ｐｙｒｒ），７．８２（ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
析データ） (mono-p-MeOC6H4-pyrr)2ZrCl2(3a)の分析データ ８８．０％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ１０２−１０４℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
３．７６（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3 ），６．２１（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．６７（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒ
ｒ），６．６９（ｍ，４Ｈ，ｍ−Ｃ6 Ｈ4 ），６．８５
（ｍ，４Ｈ，ｏ−Ｃ6 Ｈ4 ），７．４４（ｄ，２Ｈ，５
−ｐｙｒｒ），７．８２（ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
【００７４】(mono-p-tol-pyrr)2ZrCl2(3b) の分析デー
タ ７３．４％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ１０５−１０７℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
２．２９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3 ），６．２１（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．６８（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒ
ｒ），６．８１（ｍ，４Ｈ，ｏ−Ｃ6 Ｈ4 ），６．９８
（ｍ，４Ｈ，ｍ−Ｃ 6 Ｈ4 ），７．４６（ｄ，２Ｈ，５
−ｐｙｒｒ），７．８２（ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）． Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ Ｆｏｒ Ｃ24Ｈ22Ｃｌ2 Ｎ4 Ｚ
ｒ：Ｃ，６３．８５；Ｈ，７．０３；Ｎ，１３．９６
％．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６３．９４；Ｈ，７．０３；Ｎ，
１３．７４．
タ ７３．４％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ１０５−１０７℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
２．２９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3 ），６．２１（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．６８（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒ
ｒ），６．８１（ｍ，４Ｈ，ｏ−Ｃ6 Ｈ4 ），６．９８
（ｍ，４Ｈ，ｍ−Ｃ 6 Ｈ4 ），７．４６（ｄ，２Ｈ，５
−ｐｙｒｒ），７．８２（ｓ，２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）． Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ Ｆｏｒ Ｃ24Ｈ22Ｃｌ2 Ｎ4 Ｚ
ｒ：Ｃ，６３．８５；Ｈ，７．０３；Ｎ，１３．９６
％．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６３．９４；Ｈ，７．０３；Ｎ，
１３．７４．
【００７５】(mono-o-tol-pyrr)2ZrCl2(3c) の分析デー
タ ７６．３％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ９８−１０１℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
２．１３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3 ），６．２２（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．５１（ｄ，２Ｈ，６−Ｃ 6 Ｈ
4 ），６．８７（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒｒ），６．９７
（ｔ，２Ｈ，５−Ｃ 6 Ｈ4 ），７．０８（ｔ，２Ｈ，４
−Ｃ6 Ｈ4 ），７．１５（ｄ，２Ｈ，３−Ｃ 6 Ｈ4 ），
７．１５（ｄ，２Ｈ，５−ｐｙｒｒ），７．８６（ｓ，
２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
タ ７６．３％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ９８−１０１℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
２．１３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3 ），６．２２（ｄｄ，２
Ｈ，４−ｐｙｒｒ），６．５１（ｄ，２Ｈ，６−Ｃ 6 Ｈ
4 ），６．８７（ｄ，２Ｈ，３−ｐｙｒｒ），６．９７
（ｔ，２Ｈ，５−Ｃ 6 Ｈ4 ），７．０８（ｔ，２Ｈ，４
−Ｃ6 Ｈ4 ），７．１５（ｄ，２Ｈ，３−Ｃ 6 Ｈ4 ），
７．１５（ｄ，２Ｈ，５−ｐｙｒｒ），７．８６（ｓ，
２Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
【００７６】(mono-xyl-pyrr)2ZrCl2(3d) の分析データ ４６．９％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ７６−７９℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
１．４４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），２．３４（ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ），２．５１（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），２．７１（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ），６．３６（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５８（ｂｒ ｓ，
１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．６４（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．９０（ｄ，１Ｈ，
３−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．
００（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉ
ｎａｔｅｄ）），７．０−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ
6 Ｈ3 ），７．６４（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５−ｐｙｒｒ
（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．８４
（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．９０（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝Ｃ
Ｈ）．
１．４４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），２．３４（ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ），２．５１（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ），２．７１（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ），６．３６（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．５８（ｂｒ ｓ，
１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．６４（ｄｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．９０（ｄ，１Ｈ，
３−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．
００（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉ
ｎａｔｅｄ）），７．０−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ
6 Ｈ3 ），７．６４（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５−ｐｙｒｒ
（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．８４
（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．９０（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝Ｃ
Ｈ）．
【００７７】(mono- iPr2C6H3-pyrr)2ZrCl2(3e) の分析
データ ８７．９％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ１３０−１３１℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
０．５５（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．６６
（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．７１（ｄ，３
Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．８１（ｄ，３Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），０．９１（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），０．９９（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．
２０（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．３２（ｄ，
３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ 3 ）2 ），１．５７（ｍ，１Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），２．３２（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），３．２０（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），３．
５２（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），６．１８（ｄ
ｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．３６（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．４２（ｄｄ，１
Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．６９（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏ
ｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．７３（ｄ，１Ｈ，３−ｐ
ｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．０
−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ6 Ｈ3 ），７．４３（ｂｒ
ｓ，１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔ
ｅｄ）），７．６９（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．７３
（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
データ ８７．９％ ｙｉｅｌｄ ｍｐ１３０−１３１℃（ｄｅｃ）．1 ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，３５℃）：δ
０．５５（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．６６
（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．７１（ｄ，３
Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），０．８１（ｄ，３Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），０．９１（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），０．９９（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．
２０（ｄ，３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），１．３２（ｄ，
３Ｈ，ＣＨ（ＣＨ 3 ）2 ），１．５７（ｍ，１Ｈ，ＣＨ
（ＣＨ3 ）2 ），２．３２（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）
2 ），３．２０（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），３．
５２（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ），６．１８（ｄ
ｄ，１Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．３６（ｂｒ ｓ，１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ
ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．４２（ｄｄ，１
Ｈ，４−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ
ｄ）），６．６９（ｄ，１Ｈ，３−ｐｙｒｒ（Ｎ ｃｏ
ｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），６．７３（ｄ，１Ｈ，３−ｐ
ｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ）），７．０
−７．２（ｍ，６Ｈ，Ｃ6 Ｈ3 ），７．４３（ｂｒ
ｓ，１Ｈ，５−ｐｙｒｒ（Ｎ，Ｎ ｃｏｏｒｄｉｎａｔ
ｅｄ）），７．６９（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ），７．７３
（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ）．
【００７８】反応例（エチレンの重合方法） エチレン気流下、ジルコニウム−（イミノメチルピロリ
ル）2 錯体を１ｍｇとり、メチルアルミノキサンを加え
た後の濃度が５．０ｍＭとなるようにトルエンを加えて
溶かした。室温（約２３℃）でメチルアルミノキサンを
ジルコニウム錯体に対し１０００ｍｏｌ％加えて重合を
開始した。室温で６時間、１気圧のエチレンガスを導入
し続けた。メタノールと希塩酸により重合を停止させ、
メタノール不溶物をポリエチレンとして自然濾過により
集めた。得られたポリエチレンは真空ポンプで１２時間
減圧にし、乾燥させた。結果を表−２に示す。
ル）2 錯体を１ｍｇとり、メチルアルミノキサンを加え
た後の濃度が５．０ｍＭとなるようにトルエンを加えて
溶かした。室温（約２３℃）でメチルアルミノキサンを
ジルコニウム錯体に対し１０００ｍｏｌ％加えて重合を
開始した。室温で６時間、１気圧のエチレンガスを導入
し続けた。メタノールと希塩酸により重合を停止させ、
メタノール不溶物をポリエチレンとして自然濾過により
集めた。得られたポリエチレンは真空ポンプで１２時間
減圧にし、乾燥させた。結果を表−２に示す。
【００７９】
【表３】
【００８０】
【発明の効果】本発明は新規な遷移金属錯体化合物を提
供するものであり、この化合物を含む触媒をα−オレフ
ィンの重合反応に用いることにより、押出成形や射出成
形が可能な高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体を
高収率で得ることが可能となる。
供するものであり、この化合物を含む触媒をα−オレフ
ィンの重合反応に用いることにより、押出成形や射出成
形が可能な高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体を
高収率で得ることが可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C069 AC07 BB03 BB42 4H049 VN06 VP01 VQ59 VR54 VU14 VW01 4J028 AA01A AB01A AC09A AC19A AC27A BA00A BA01B BB00A BB01B BC00A BC12B BC13B BC25B BC26B BC29B CA15C CA16C CA18C CA19C EA01 EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB12 EB13 EB17 EB18 EC01 EC02 GA01 GA19 4J100 AA02P AA03P AA04P AA15P AA16P AA17P AA19P AA21P AR03Q AR04Q AR11Q AR22Q AS01Q AS02Q CA01 CA04 FA10
Claims (12)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される金属錯体化
合物。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ｎは窒素原子であり、Ｍは周期表の
第３〜１０族の遷移金属、アルミニウム及びランタノイ
ド系列から選ばれる元素であり、Ｘは、Ｍと結合するσ
結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは
同じでも異なっていてもよい。Ｙは、ルイス塩基を示
し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なってい
てもよい。ｎは２又は３であり、ｑは１〜５の整数であ
って、且つ［（Ｍの原子価）−ｎ] の数を表し、ｒは０
〜３の整数を示す。Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有
炭化水素基、１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数
１〜２０の酸素含有炭化水素基、又は炭素数１〜２０の
窒素含有炭化水素基を示す。） - 【請求項２】 Ｍが周期表の第３〜６族から選ばれる遷
移金属元素である請求項１に記載の金属錯体化合物。 - 【請求項３】 Ｍが周期表の第４族から選ばれる遷移金
属元素である請求項２に記載の金属錯体化合物。 - 【請求項４】 Ｍがクロム以外の元素である請求項１〜
３のいずれかに記載の金属錯体化合物。 - 【請求項５】 下記一般式（II）で表される請求項１〜
４のいずれかに記載の金属錯体化合物。 【化２】 （一般式（II）中、Ｍ、Ｎ、Ｘ、Ｙ、ｎ、ｑ、ｒ、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ 5 は前記一般式（Ｉ）と同
義である。） - 【請求項６】 下記一般式（III)で表される請求項１〜
４のいずれかに記載の金属錯体化合物。 【化３】 （一般式（II）中、Ｍ、Ｎ、Ｘ、Ｙ、ｎ、ｑ、ｒ、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ 5 は前記一般式（Ｉ）と同
義である。） - 【請求項７】 一般式（Ｉ）〜(III）において、Ｒ1 が
炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜１８のハロゲ
ン化アリール基、炭素数９〜１８のケイ素含有アリール
基又は炭素数７〜２０の酸素含有アリール基である請求
項１〜６のいずれかに記載の金属錯体化合物。 - 【請求項８】 一般式（Ｉ）〜（III)において、ｎ＝２
である請求項１〜７のいずれかに記載の金属錯体化合
物。 - 【請求項９】 請求項１〜８の何れかに記載の金属錯体
化合物を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触
媒。 - 【請求項１０】 次の成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む請求
項９に記載のα−オレフィン重合用触媒。 成分（Ａ）：請求項１〜８の何れかに記載の金属錯体化
合物。 成分（Ｂ）：アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と
反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能な
イオン性化合物、及びルイス酸からなる群より選ばれる
化合物。 - 【請求項１１】 請求項９又は１０に記載の触媒とα−
オレフィンとを接触させて重合または共重合を行うこと
を特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載の方法により得られ
たα−オレフィン重合体。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000070652A JP2001261639A (ja) | 2000-03-14 | 2000-03-14 | イミノメチルピロール骨格を有する配位子を有する新規金属錯体化合物及びこれを含むα−オレフィン重合用触媒 |
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|---|---|
| JP2001261639A true JP2001261639A (ja) | 2001-09-26 |
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ID=18589357
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001261639A (ja) |
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-
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- 2000-03-14 JP JP2000070652A patent/JP2001261639A/ja active Pending
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