JP2001253916A - Fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers, method of producing the same and their use - Google Patents

Fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers, method of producing the same and their use

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JP2001253916A
JP2001253916A JP2000066292A JP2000066292A JP2001253916A JP 2001253916 A JP2001253916 A JP 2001253916A JP 2000066292 A JP2000066292 A JP 2000066292A JP 2000066292 A JP2000066292 A JP 2000066292A JP 2001253916 A JP2001253916 A JP 2001253916A
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Hideo Sawada
英夫 沢田
Tadashi Sugiya
杉矢  正
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Nippon Chemical Industrial Co Ltd
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Nippon Chemical Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having an excellent ionic conductance, useful as a nonaqueous surfactant. SOLUTION: This fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer is represented by general formula (1) (R1 and R2 are each a (CF2)m1Y or a CF (CF3)-[OCF2CF(CF3)]m2-OC3F7; Y is hydrogen atom, fluorine atom or chlorine atom; m1 is an integer of 1-10; m2 is an integer of 0-10; R3 is hydrogen atom or methyl group; B is an alkylene group; n is an integer of 1-1,000).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフルオロア
ルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類およびその製造方
法、並びに非水系の界面活性剤、優れたイオン伝導度を
有する高分子固体電解質に関するものである。
The present invention relates to a novel fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer and a method for producing the same, a non-aqueous surfactant, and a polymer solid electrolyte having excellent ionic conductivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】フルオロアルキル基を含有する化合物
は、耐光性、撥水撥油性、更には生理活性等の有用な性
質を示す化合物として注目を集めている。従来よりペル
フルオロオクタン酸等のフルオロアルキル基含有カルボ
ン酸が、水溶液中において高い界面特性を示すことは、
広く知られており、フッ素系界面活性剤として利用され
ている。
2. Description of the Related Art Fluoroalkyl group-containing compounds have attracted attention as compounds exhibiting useful properties such as light resistance, water / oil repellency, and physiological activity. Conventionally, fluoroalkyl group-containing carboxylic acids such as perfluorooctanoic acid show high interface properties in an aqueous solution,
It is widely known and used as a fluorine-based surfactant.

【0003】しかしながら、公知のフッ素系界面活性剤
は、親水性基及び撥水性基のみにより構成された化合物
であるため、撥水撥油性等のフッ素原子に起因する優れ
た特性と、親水性とを種々の環境下において交互に発現
させることが困難であった。
[0003] However, since the known fluorine-based surfactant is a compound composed of only a hydrophilic group and a water-repellent group, it has excellent properties such as water repellency and oil repellency due to fluorine atoms and hydrophilicity. Was difficult to express alternately in various environments.

【0004】界面活性剤の分野において、フッ素、特に
長鎖のフルオロアルキル基が導入された界面活性剤は、
従来の炭化水素系界面活性剤に比べて、フッ素に起因し
た優れた性能を有することがことが注目され、低分子量
界面活性剤についてその報告は非常に多い。しかしなが
ら、フルオロアルキル基を導入した高分子量界面活性剤
の知見はほとんどない。
In the field of surfactants, surfactants into which fluorine, especially a long-chain fluoroalkyl group has been introduced,
It is noted that it has superior performance due to fluorine as compared with conventional hydrocarbon-based surfactants, and there are numerous reports on low-molecular-weight surfactants. However, there is almost no knowledge of a high molecular weight surfactant into which a fluoroalkyl group has been introduced.

【0005】近年、イオン伝導度の高い高分子材料が注
目され、固体状態でイオン伝導度の高い高分子材料は、
高分子固体電解質と呼ばれ、次世代のリチウムイオン二
次電池用電解質として、特に注目されている。
[0005] In recent years, polymer materials having high ionic conductivity have attracted attention.
It is called a polymer solid electrolyte, and is particularly attracting attention as an electrolyte for next-generation lithium ion secondary batteries.

【0006】また、高性能電池として電解質に電解質溶
液ではなくポリマーを利用したポリマー電池が注目を集
めている。(芦田勝二「電子材料」No.11、109
頁、1993年)例えば、下記の化学式における高分子
固体電解質中のイオン移動に示すように、ポリマー電池
中では、ポリエチレンオキシドに代表される高分子固体
電解質のイオン伝導はリチウムイオンなど、カチオンの
イオン伝導をエーテル酸素の非共有電子対が媒体となっ
て行われる。(小野勝道「日本ゴム協会誌」、61
頁、1993年)
[0006] As a high-performance battery, a polymer battery using a polymer instead of an electrolyte solution as an electrolyte has attracted attention. (Katsuji Ashida “Electronic Materials” No. 11, 109
For example, in a polymer battery, the ionic conduction of a polymer solid electrolyte typified by polyethylene oxide is a cation ion such as a lithium ion, as shown by ion transfer in a polymer solid electrolyte in the following chemical formula. Conduction takes place using the lone pair of ether oxygen as a medium. (Katsumichi Ono “The Journal of the Rubber Association of Japan” 9 , 61
P. 1993)

【0007】[0007]

【化12】 Embedded image

【0008】このようなポリマー電池は、高エネルギー
密度であるため電池を小さく薄くすることが可能であ
る。(市野敏弘「高分子」45、868頁、1996
年)また、下記の構造式における高分子ゲル電解質の構
造に示すように、固体の高分子電解質より高いイオン伝
導性を目的として高分子ゲル電解質の開発が最近積極的
に展開されている。(小山昇、波戸崎修「現代化学」N
o.10、34頁、1996年)しかし、液漏れや耐薬
品性、耐候性が低いなどの欠点が指摘されており、これ
らの問題点を解決することが急務となっている。したが
って、これらの問題点を解決するためにもフッ素の機能
が付与された新しい高分子ゲル電解質を開発することは
重要な研究項目である。
Since such a polymer battery has a high energy density, it is possible to make the battery small and thin. (Toshihiro Ichino "Polymer" 45 , p. 868, 1996
As shown in the structure of a polymer gel electrolyte in the following structural formula, the development of a polymer gel electrolyte has been actively developed recently for the purpose of higher ion conductivity than a solid polymer electrolyte. (Noboru Koyama, Osamu Hadozaki "Modern Chemistry" N
o. 10, p. 34, 1996) However, drawbacks such as liquid leakage, low chemical resistance and low weather resistance have been pointed out, and it is urgently necessary to solve these problems. Therefore, to solve these problems, it is an important research item to develop a new polymer gel electrolyte having a fluorine function.

【0009】[0009]

【化13】 Embedded image

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、先にフ
ルオロアルキル基の利点を生かしつつ、新規な機能性材
料を種々提案してきた。例えば、抗菌性を有するフルオ
ロアルキル基含有ホスホニウム塩オリゴマー類(特開平
11−246577号公報、特開平11−246578
号公報、特開平11−246579号公報)、界面活性
剤として有用なフルオロアルキル基含有ホスホネートオ
リゴマー類(特開平11−246573号公報、特開平
11−246574号公報)及びフルオロアルキル基含
有ホスフィン酸オリゴマー類(特願平11−45901
号、特願平11−45915号)を提案した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have previously proposed various new functional materials while taking advantage of the advantages of fluoroalkyl groups. For example, fluoroalkyl group-containing phosphonium salt oligomers having antibacterial properties (JP-A-11-246577, JP-A-11-246578)
JP-A-11-246579), fluoroalkyl group-containing phosphonate oligomers useful as surfactants (JP-A-11-246573 and JP-A-11-246574), and fluoroalkyl group-containing phosphinic acid oligomers (Japanese Patent Application No. 11-45901)
No., Japanese Patent Application No. 11-45915).

【0011】また、これまで本発明者らは、フルオロア
ルキル基が両末端に導入されたオリゴマー類の合成と性
質に関する研究を積極的に行っている。(H.Sawa
da(沢田英夫),“Chem.Rev.”,vol.
96,ppl779、1996年)特に最近、下記に示
す反応により合成された両末端にフルオロアルキル基が
導入されたポリ(オキシエチレン)ユニット含有コオリ
ゴマー類のリチウムイオン存在下におけるキャストフィ
ルムは、イオン伝導性を示すことを報告した。(H.S
awada(沢田英夫) et al.,“J.Jp
n.Oil Chem.Soc.”,vol.47,p
p685、1998年)
The present inventors have been actively conducting research on the synthesis and properties of oligomers having a fluoroalkyl group introduced at both ends. (H. Sawa
da (Hideo Sawada), "Chem. Rev.", vol.
96, ppl779, 1996) In particular, cast films in the presence of lithium ions of poly (oxyethylene) unit-containing co-oligomers having fluoroalkyl groups introduced at both ends synthesized by the following reaction are particularly suitable for ion conduction. Reported that (HS
awada (Hideo Sawada) et al. , "J. Jp
n. Oil Chem. Soc. 47, p.
p685, 1998)

【0012】[0012]

【化14】 Embedded image

【0013】また、下記に示す反応により、両末端にフ
ルオロアルキル基が導入されたオリゴマーにおいて、ベ
タインセグメントあるいはトリオールセグメントを導入
させることにより、フルオロアルキル基の凝集作用以外
にベタインセグメント間のイオン的相互作用あるいはト
リオールセグメント間の水素結合が相乗的に作用し、架
橋剤を用いない系にも関わらず水さらには極性有機溶媒
中にてゲルを形成することを報告した。(H.Sawa
da(沢田英夫) et al.,“Polyme
r”,vol.38,pp743、1998年)、
(H.Sawada(沢田英夫) et al.,“B
ull.Chem.Soc.Jpn.”,vol.7
0,pp2839、1997年)
In addition, by introducing a betaine segment or a triol segment into an oligomer having a fluoroalkyl group introduced at both ends by the reaction shown below, ionic interaction between betaine segments can be achieved in addition to the aggregation effect of the fluoroalkyl group. It was reported that the action or the hydrogen bond between the triol segments acted synergistically to form a gel in water or even a polar organic solvent in spite of the system without using a crosslinking agent. (H. Sawa
da (Hideo Sawada) et al. , “Polyme
r ", vol. 38, pp 743, 1998),
(H. Sawada (Hideo Sawada) et al., "B.
ull. Chem. Soc. Jpn. ", Vol.
0, pp2839, 1997)

【0014】[0014]

【化15】 Embedded image

【0015】そこで本発明は、フッ素の優れた機能が付
与された新規な高分子ゲル電解質を開発するため、両末
端にフルオロアルキル基が導入されたベタインセグメン
トあるいはトリオールセグメントを有するポリ(オキシ
エチレン)ユニット含有コオリゴマー類の合成と性質、
特にこれらオリゴマー類のゲル化能について検討を行っ
た。さらに高分子ゲル電解質への応用についても検討を
行った。
Accordingly, the present invention provides a poly (oxyethylene) having a betaine segment or a triol segment having a fluoroalkyl group introduced at both ends in order to develop a novel polymer gel electrolyte provided with an excellent function of fluorine. Synthesis and properties of unit-containing cooligomers,
In particular, the gelling ability of these oligomers was examined. Furthermore, application to polymer gel electrolyte was also studied.

【0016】更に、本発明者らは、フルオロアルキル基
を有する新規な機能性材料について鋭意研究を重ねた結
果、フルオロアルキル基を有するオリゴマー類にホスホ
ン酸セグメントを導入することにより、非水系の界面活
性剤として有用であり、更には、高いイオン伝導度を持
ち高分子固体電解質としても有用なオリゴマー類となる
ことを知見し、本発明を完成させるに至った。
Further, the present inventors have conducted intensive studies on a novel functional material having a fluoroalkyl group. As a result, by introducing a phosphonic acid segment into an oligomer having a fluoroalkyl group, a non-aqueous interface was obtained. The inventors have found that they are useful as an activator, and furthermore, are oligomers having high ionic conductivity and also useful as a solid polymer electrolyte, and have completed the present invention.

【0017】即ち、本発明は、優れたイオン伝導度を有
する新規なフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマ
ー類およびその製造方法、並びにその用途として非水系
の界面活性剤、高分子固体電解質を提供することを目的
とする。
That is, the present invention provides a novel fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having excellent ionic conductivity, a process for producing the same, and a non-aqueous surfactant and a solid polymer electrolyte as uses thereof. With the goal.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明が提供しようとす
るフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類は、
下記一般式(1)
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer comprising:
The following general formula (1)

【0019】[0019]

【化16】 Embedded image

【0020】(式中、R1 、R2 は−(CF2m1Y又
は−CF(CF3 )−〔OCF2 CF(CF3 )〕m2
OC37 を示す。{但し、Yは水素原子、フッ素原子
又は塩素原子を示す。m1は1〜10の整数、m2は0
〜10の整数を示す。} R3は水素原子又はメチル基を示す。Bはアルキレン基
を示す。nは1〜1000の整数を示す。)で表される
ことを構成上の特徴とする。
(Wherein, R 1 and R 2 are — (CF 2 ) m1 Y or —CF (CF 3 ) — [OCF 2 CF (CF 3 )] m 2
Shows OC 3 F 7 . {Wherein, Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom. m1 is an integer of 1 to 10, m2 is 0
And an integer of 10 to 10. } R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. B represents an alkylene group. n shows the integer of 1-1000. ) Is a structural feature.

【0021】また、本発明が提供しようとするフルオロ
アルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類は、下記一般式
(2)
The fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers to be provided by the present invention are represented by the following general formula (2):

【0022】[0022]

【化17】 Embedded image

【0023】(式中、R1 、R2 は−(CF2m1Y又
は−CF(CF3 )−〔OCF2 CF(CF3 )〕m2
OC37 を示す。{但し、Yは水素原子、フッ素原子
又は塩素原子を示す。m1は1〜10の整数、m2は0
〜10の整数を示す。} R3、R4は水素原子又はメチル基を示す。Bはアルキレ
ン基を示す。
(Wherein R 1 and R 2 represent — (CF 2 ) m1 Y or —CF (CF 3 ) — [OCF 2 CF (CF 3 )] m 2
Shows OC 3 F 7 . {Wherein, Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom. m1 is an integer of 1 to 10, m2 is 0
And an integer of 10 to 10. } R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a methyl group. B represents an alkylene group.

【0024】Aは、下記一般式(3)A is the following general formula (3)

【0025】[0025]

【化18】 Embedded image

【0026】{式中、X1 は水素原子又はメチル基、X
2 は炭素数1〜6のアルキル基を示し、tは、2〜30
0の整数を示す。}で表されるエステル結合を有するア
ルキレンオキシド基、又は下記一般式(4)
Wherein X 1 is a hydrogen atom or a methyl group;
2 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and t represents 2 to 30.
Indicates an integer of 0. An alkylene oxide group having an ester bond represented by}, or the following general formula (4)

【0027】[0027]

【化19】 Embedded image

【0028】{式中、Zはアルキレン基を示す。}で表
されるスルホン酸基を示す。nは1〜1000の整数を
示す。a:bのモルは1:99〜99:1である。)で
表されることを構成上の特徴とする。
In the formula, Z represents an alkylene group.ス ル ホ ン represents a sulfonic acid group. n shows the integer of 1-1000. The moles of a: b are from 1:99 to 99: 1. ) Is a structural feature.

【0029】さらに、本発明が提供しようとする上記の
一般式(1)で表されるフルオロアルキル基含有ホスホ
ン酸オリゴマー類の製造方法は、下記一般式(5)
Further, the process for producing the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the above general formula (1) to be provided by the present invention is described by the following general formula (5)

【0030】[0030]

【化20】 (式中、R1 、R2 は前記と同義。)で表される過酸化
フルオロアルカノイル類と、下記一般式(6)
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are as defined above), and a fluoroalkanoyl peroxide represented by the following general formula (6)

【0031】[0031]

【化21】 (式中、R3 、Bは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有するホスホン酸化合物とを反応させるこ
とを構成上の特徴とする。
Embedded image (Wherein, R 3 and B are as defined above).
It is characterized by reacting with a phosphonic acid compound having an acrylic group.

【0032】さらに、本発明が提供しようとする上記一
般式(2)で表されるフルオロアルキル基含有ホスホン
酸オリゴマー類の製造方法は、下記一般式(5)
Further, the process for producing the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the above general formula (2) to be provided by the present invention is described by the following general formula (5)

【0033】[0033]

【化22】 (式中、R1 、R2 は前記と同義。)で表される過酸化
フルオロアルカノイル類と、下記一般式(6)
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are as defined above), and a fluoroalkanoyl peroxide represented by the following general formula (6)

【0034】[0034]

【化23】 (式中、R3 、Bは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有するホスホン酸化合物と、下記一般式
(7)
Embedded image (Wherein, R 3 and B are as defined above).
A phosphonic acid compound having an acrylic group, and the following general formula (7)

【0035】[0035]

【化24】 (式中、R4 、Aは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有する化合物とを反応させることを構成上
の特徴とする。
Embedded image (Wherein, R 4 and A are as defined above).
It is characterized by reacting with a compound having an acrylic group.

【0036】また、本発明が提供しようとする界面活性
剤は、上記の一般式(1)または(2)で表されるフル
オロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類を有効成分
とすることを構成上の特徴とするものである。
The surfactant provided by the present invention comprises, as an active ingredient, a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the above general formula (1) or (2). It is a feature.

【0037】また、本発明が提供しようとする高分子固
体電解質は、上記の一般式(1)または(2)で表され
るフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類を含
有することを構成上の特徴とするものである。
The solid polymer electrolyte to be provided by the present invention is characterized by containing a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the above general formula (1) or (2). It is assumed that.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係るフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴ
マー類は、下記一般式(1)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer according to the present invention has the following general formula (1)

【0039】[0039]

【化25】 及び、下記一般式(2)Embedded image And the following general formula (2)

【0040】[0040]

【化26】 で表されるフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマ
ー類である。
Embedded image And a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the formula:

【0041】前記一般式(1)及び(2)で示されるフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類の式中、
1 およびR2 は、下記一般式(8)
In the formulas of the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers represented by the above general formulas (1) and (2),
R 1 and R 2 are represented by the following general formula (8)

【0042】[0042]

【化27】 (式中、Yは、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示
す。m1は1〜10の整数を示す)で表されるフルオロ
アルキル基、又は、下記一般式(9)
Embedded image (Wherein, Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom. M1 represents an integer of 1 to 10), or a fluoroalkyl group represented by the following general formula (9)

【0043】[0043]

【化28】 (式中、m2は0〜10の整数を示す)で表されるフル
オロアルキル基である。R1 、R2 は同一であっても異
なる基であってもよい。
Embedded image (Wherein, m2 represents an integer of 0 to 10). R 1 and R 2 may be the same or different groups.

【0044】前記一般式(1)又は(2)の式中のR
3 、R4 は、水素原子又はメチル基である。Bは、直鎖
状または分岐状のアルキレン基であり、具体的には炭素
数1〜10の直鎖状または分岐状のアルキレン基が好ま
しく、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、エチルエチ
レン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、デ
シレン基等が挙げられる。nは1〜1000、好ましく
は1〜50、特に好ましくは1〜20の整数である。
R in the formula (1) or (2)
3 , R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. B is a linear or branched alkylene group, specifically, a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, and a tetramethylene group. Pentamethylene group, ethylethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group, decylene group and the like. n is an integer of 1 to 1000, preferably 1 to 50, particularly preferably 1 to 20.

【0045】前記一般式(2)の式中、Aは、下記一般
式(3)
In the above formula (2), A represents the following formula (3)

【0046】[0046]

【化29】 で表されるエステル結合を有するアルキレンオキシド
基、又は下記一般式(4)
Embedded image Or an alkylene oxide group having an ester bond represented by the following general formula (4):

【0047】[0047]

【化30】 で表されるスルホン酸基である。Embedded image Is a sulfonic acid group represented by

【0048】前記一般式(3)で表させるエステル結合
を有するアルキレンオキシド基の式中、X1 は、水素原
子またはメチル基を示す。X2 は、炭素数1〜6の低級
アルキルを示す。低級アルキル基としては、具体的に
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙
げられる。tは2〜300の整数を示す。
In the formula of the alkylene oxide group having an ester bond represented by the general formula (3), X 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X 2 represents lower alkyl having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. t shows the integer of 2-300.

【0049】また、前記一般式(4)で表されるスルホ
ン酸基の式中、Zは具体的には、炭素数1〜10の直鎖
状又は分岐状のアルキレン基であり、具体的には、メチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキ
シレン基、オクチレン基、デシレン基、2−メチルプロ
ピレン基、2−メチルブチレン基、3−メチルブチレン
基等が挙げられる。
In the formula of the sulfonic acid group represented by the general formula (4), Z is specifically a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, an octylene group, a decylene group, a 2-methylpropylene group, a 2-methylbutylene group, and a 3-methylbutylene group.

【0050】また、前記一般式(1)及び(2)で表さ
れるオリゴマー類において、R1 及びR2 で示されるフ
ルオロアルキル基がオリゴマー類の片末端のみに導入さ
れたオリゴマー類を任意の割合で含んでいてもよい。
In addition, in the oligomers represented by the general formulas (1) and (2), an oligomer in which a fluoroalkyl group represented by R 1 and R 2 is introduced into only one terminal of the oligomer may be used. It may be contained in a ratio.

【0051】<製造方法>次いで、本発明に係る一般式
(1)及び(2)で表されるフルオロアルキル基含有ホ
スホン酸オリゴマー類の製造方法について説明する。
<Production Method> Next, a method for producing the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers represented by the general formulas (1) and (2) according to the present invention will be described.

【0052】前記一般式(1)で表されるフルオロアル
キル基含有ホスホン酸オリゴマー類の製造方法は、反応
原料として下記一般式(5)
In the method for producing the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (1), the following general formula (5)

【0053】[0053]

【化31】 (式中、R1、R2は前記と同義。)で表される過酸化フ
ルオロアルカノイル類と、下記一般式(6)
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are as defined above), and a fluoroalkanoyl peroxide represented by the following general formula (6)

【0054】[0054]

【化32】 (式中、R3、Bは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有するホスホン酸化合物とを反応させるこ
とが特徴である。
Embedded image (Wherein, R 3 and B are as defined above).
It is characterized by reacting with a phosphonic acid compound having an acrylic group.

【0055】また、前記一般式(2)で表されるフルオ
ロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類の製造方法
は、反応原料として上記一般式(5)で表される過酸化
フルオロアルカノイル類と、上記一般式(6)で表され
る(メタ)アクリル基を有するホスホン酸化合物及び下
記一般式(7)
Further, the method for producing the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (2) is characterized in that the fluoroalkanoyl peroxide represented by the general formula (5) is used as a reaction raw material, A phosphonic acid compound having a (meth) acrylic group represented by the formula (6) and the following general formula (7)

【0056】[0056]

【化33】 (式中、R4、Aは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有する化合物とを反応させることが特徴で
ある。
Embedded image (Wherein, R 4 and A are as defined above).
It is characterized by reacting with a compound having an acrylic group.

【0057】<過酸化フルオロアルカノイル類>反応原
料となる上記一般式(5)で表される過酸化フルオロア
ルカノイル類の具体的な化合物例としては、過酸化ジペ
ルフルオロ−2−メチル−3−オキサヘキサノイル、過
酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル−3,6−ジオ
キサノナノイル、過酸化ジペルフルオロ−2,5,8−
トリメチル−3,6,9−トリオキサドデカノイル、過
酸化ジペルフルオロブチリル、過酸化ジペルフルオロヘ
プタノイル、過酸化ジペルフルオロオクタノイル等を例
示することができる。
<Fluoroalkanoyl peroxide> Specific examples of the fluoroalkanoyl peroxide represented by the above general formula (5) as a reaction raw material include diperfluoro-2-methyl-3-oxadioxide. Hexanoyl, diperfluoro-2,5-dimethyl-3,6-dioxano nanoyl peroxide, diperfluoro-2,5,8-peroxide
Examples include trimethyl-3,6,9-trioxadodecanoyl, diperfluorobutyryl peroxide, diperfluoroheptanoyl peroxide, diperfluorooctanoyl peroxide, and the like.

【0058】かかる過酸化フルオロアルカノイル類の製
造方法としては、広く公知の方法を用いることができ、
一例を示せば、フルオロアルキル基含有ハロゲン化アシ
ルに、含フッ素芳香族溶媒又は代替フロンのような含フ
ッ素脂肪族溶媒の存在下、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウムなどのアルカリの存在下で過酸化水素を反応させ
る方法等により容易に目的とする過酸化フルオロアルカ
ノイル類を得ることができる。
As a method for producing such fluoroalkanoyl peroxides, widely known methods can be used.
As an example, a fluoroalkyl group-containing acyl halide may be added to a sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium hydrogen carbonate, sodium carbonate or carbonate in the presence of a fluorinated aromatic solvent or a fluorinated aliphatic solvent such as freon. The desired fluoroalkanoyl peroxide can be easily obtained by a method of reacting hydrogen peroxide in the presence of an alkali such as potassium.

【0059】<(メタ)アクリル基を有するホスホン酸
化合物>反応原料となる一般式(6)で表される(メ
タ)アクリル基を有するホスホン酸化合物において、式
中、Bは、直鎖状または分岐状のアルキレン基であり、
具体的には炭素数1〜10の直鎖状または分岐状のアル
キレン基が好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、
トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン
基、エチルエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘ
キシレン基、デシレン基等が挙げられる。
<Phosphonic acid compound having a (meth) acrylic group> In the phosphonic acid compound having a (meth) acrylic group represented by the general formula (6) as a reaction raw material, B represents a linear or A branched alkylene group,
Specifically, a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, for example, a methylene group, an ethylene group,
Examples include a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, an ethylethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, and a decylene group.

【0060】具体的な化合物例としては、アクロイルオ
キシメチルホスホン酸、メタクリロイルオキシメチルホ
スホン酸、2−アクロイルオキシエチルホスホン酸、2
−メタクリロイルオキシエチルホスホン酸、3−アクロ
イルオキシプロピルホスホン酸、3−メタクリロイルオ
キシプロピルホスホン酸、4−アクロイルオキシブチル
ホスホン酸、4−メタクリロイルオキシブチルホスホン
酸、5−アクロイルオキシペンチルホスホン酸、5−メ
タクリロイルオキシペンチルホスホン酸、6−アクロイ
ルオキシヘキシルホスホン酸、6−メタクリロイルオキ
シヘキシルホスホン酸、7−アクロイルオキシヘプチル
ホスホン酸、7−メタクリロイルオキシヘプチルホスホ
ン酸、8−アクロイルオキシオクチルホスホン酸、8−
メタクリロイルオキシオクチルホスホン酸、9−アクロ
イルオキシノニルホスホン酸、9−メタクリロイルオキ
シノニルホスホン酸、10−アクロイルオキシデシルホ
スホン酸、10−メタクリロイルオキシデシルホスホン
酸等を例示することができる。
Specific examples of the compound include acroyloxymethylphosphonic acid, methacryloyloxymethylphosphonic acid, 2-acroyloxyethylphosphonic acid,
-Methacryloyloxyethylphosphonic acid, 3-acryloyloxypropylphosphonic acid, 3-methacryloyloxypropylphosphonic acid, 4-acryloyloxybutylphosphonic acid, 4-methacryloyloxybutylphosphonic acid, 5-acryloyloxypentylphosphonic acid, 5-methacryloyloxypentylphosphonic acid, 6-acryloyloxyhexylphosphonic acid, 6-methacryloyloxyhexylphosphonic acid, 7-acryloyloxyheptylphosphonic acid, 7-methacryloyloxyheptylphosphonic acid, 8-acryloyloxyoctylphosphonic acid , 8-
Examples thereof include methacryloyloxyoctylphosphonic acid, 9-acryloyloxynonylphosphonic acid, 9-methacryloyloxynonylphosphonic acid, 10-acryloyloxydecylphosphonic acid, and 10-methacryloyloxydecylphosphonic acid.

【0061】上記した(メタ)アクリル基を有するホス
ホン酸化合物の製造方法は、特に限定はなく広く公知の
方法を用いることが出来、その一例を示せば、先に、本
出願人らが提案した、次亜リン酸または次亜リン酸塩と
不飽和アルコールとをアルコール溶媒中でラジカル開始
剤の存在下で反応させて、ヒドロキシアルキルホスフィ
ン酸を得、次いで、得られたヒドロキシアルキルホスフ
ィン酸を酸化して、ヒドロキシアルキルホスホン酸を得
た後、該ヒドロキシアルキルホスホン酸と(メタ)アク
リル酸ハロゲン化物とを反応させることにより容易に得
ることが出来る(特願平10−187017号)。
The method for producing the above-mentioned phosphonic acid compound having a (meth) acrylic group is not particularly limited, and widely known methods can be used. One example of which is shown by the present applicant. Reacting hypophosphorous acid or hypophosphite with an unsaturated alcohol in an alcohol solvent in the presence of a radical initiator to obtain hydroxyalkylphosphinic acid, and then oxidizing the resulting hydroxyalkylphosphinic acid Then, after obtaining the hydroxyalkylphosphonic acid, it can be easily obtained by reacting the hydroxyalkylphosphonic acid with a (meth) acrylic acid halide (Japanese Patent Application No. Hei 10-187017).

【0062】<(メタ)アクリル基を有する化合物>前
記一般式(7)で表される(メタ)アクリル基を有する
化合物としては、下記一般式(10)
<Compound having a (meth) acrylic group> The compound having a (meth) acrylic group represented by the general formula (7) is represented by the following general formula (10)

【0063】[0063]

【化34】 で表される(メタ)アクリル基を有するエチレングリコ
ール類、又は、下記一般式(11)
Embedded image Ethylene glycols having a (meth) acrylic group represented by the following general formula (11):

【0064】[0064]

【化35】 で表される(メタ)アクリル基を有するスルホン酸化合
物である。
Embedded image Is a sulfonic acid compound having a (meth) acryl group.

【0065】前記一般式(10)及び(11)で表され
る(メタ)アクリル基を有する化合物の式中、R4 は、
水素原子又はメチル基である。
In the formulas of the compounds having a (meth) acrylic group represented by the general formulas (10) and (11), R 4 is
It is a hydrogen atom or a methyl group.

【0066】前記一般式(10)で表される(メタ)ア
クリル基を有するエチレングリコール類の式中、X1
は、水素原子又はメチル基を示し、X2 は、炭素数1〜
6の低級アルキルを示す。低級アルキル基としては、具
体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等が挙げられる。tは、2〜300、好ましくは2〜1
0である。そのエチレングリコール類は、具体的には、
メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキ
シジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエ
チレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリ
コールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール
メタクリレート等が挙げられ、これらの化合物は、共栄
社化学株式会社;ライトエステルシリーズとして市販さ
れている。
[0066] wherein the ethylene glycols having the formula (meth) acrylic group in the general formula (10), X 1
Represents a hydrogen atom or a methyl group, and X 2 has 1 to 1 carbon atoms.
6 represents lower alkyl. Specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. t is 2 to 300, preferably 2 to 1
0. The ethylene glycols are, specifically,
Methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate, and the like. These compounds are commercially available as Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; light ester series. ing.

【0067】前記一般式(11)で表される(メタ)ア
クリル基を有するスルホン酸化合物の式中、Zは、炭素
数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、
例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチ
レン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基、2
−メチルプロピレン基、2−メチルブチレン基、3−メ
チルブチレン基等が挙げられる。具体的な化合物として
は、本発明において、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸(AMPS)が好ましく用いられ
る。
In the formula of the sulfonic acid compound having a (meth) acrylic group represented by the general formula (11), Z is a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms;
For example, methylene, ethylene, propylene, butylene, hexylene, octylene, decylene, 2
-Methylpropylene group, 2-methylbutylene group, 3-methylbutylene group and the like. As a specific compound, in the present invention, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid (AMPS) is preferably used.

【0068】次いで、反応条件について説明する。前記
一般式(1)で表されるフルオロアルキル基含有ホスホ
ン酸オリゴマー類の製造方法において、前記一般式
(5)で表される過酸化フルオロアルカノイル類と前記
一般式(6)で表される(メタ)アクリル基を有するホ
スホン酸化合物とのモル比は、通常1:1〜100の範
囲であり、好ましくは1:1〜50の範囲である。
Next, the reaction conditions will be described. In the method for producing a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (1), a fluoroalkanoyl peroxide represented by the general formula (5) and a fluoroalkanoyl peroxide represented by the general formula (6) ( The molar ratio with the phosphonic acid compound having a (meth) acryl group is usually in the range of 1: 1 to 100, and preferably in the range of 1: 1 to 50.

【0069】前記一般式(2)で表されるフルオロアル
キル基含有ホスホン酸オリゴマー類の製造方法におい
て、前記一般式(5)で表される過酸化フルオロアルカ
ノイル類と、前記一般式(6)で表される(メタ)アク
リル基を有するホスホン酸化合物及び前記一般式(7)
で表される(メタ)アクリル基を有する化合物とのモル
比は、通常1:1〜100:1〜100の範囲であり、
好ましくは1:1〜50:1〜50の範囲である。
In the method for producing a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (2), a fluoroalkanoyl peroxide represented by the general formula (5) is combined with a fluoroalkanoyl peroxide represented by the general formula (6). A phosphonic acid compound having a (meth) acrylic group represented by the general formula (7):
The molar ratio with the compound having a (meth) acrylic group represented by is usually in the range of 1: 1 to 100: 1 to 100,
Preferably it is in the range of 1: 1 to 50: 1 to 50.

【0070】上記の反応は常圧で行うことが可能であ
る。反応温度は、通常100℃以下であり、好ましくは
10〜50℃である。反応温度が低すぎると、反応に長
時間要する傾向があり、一方、100℃より大きくなる
と反応系内の圧力が高くなって、反応操作が困難になる
傾向があるので好ましくない。反応時間は、通常、20
時間以内、好ましくは2〜5時間である。
The above reaction can be carried out at normal pressure. The reaction temperature is generally 100 ° C or lower, preferably 10 to 50 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction tends to take a long time. On the other hand, if the temperature is higher than 100 ° C., the pressure in the reaction system increases, and the reaction operation tends to be difficult. The reaction time is usually 20
Within hours, preferably 2 to 5 hours.

【0071】この反応は、無溶媒下で行うこともできる
が、過酸化フルオロアルカノイル類との反応をより円滑
に行うため、溶媒下で反応を行うことが望ましい。反応
溶媒としては、ハロゲン化脂肪族系の溶媒が特に好まし
く用いられ、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、2
−クロロ−1,2−ジブロモ−1,1,2−トリフルオ
ルエタン、1,2−ジブロモヘキサフルオロプロパン、
1,2−ジブロモテトラフルオロエタン、フルオロトリ
クロロメタン、ヘプタフルオロ−2,3,3−トリクロ
ロブタン、1,1,1,3−テトラクロロテトラフルオ
ロプロパン、1,1,2−トリクロロトリフルオロプロ
パン、1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン、
1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオ
ロプロパン、1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3−
ペンタフルオルプロパン等の1種又は2種以上で用いる
ことができる。この中、特に1,1−ジクロロ−2,
2,3,3,3−ペンタフルオロプロパンと1,3−ジ
クロロ−1,2,2,3,3−ペンタフルオルプロパン
との混合溶媒が好ましく用いられる。
This reaction can be carried out in the absence of a solvent. However, in order to carry out the reaction with fluoroalkanoyl peroxides more smoothly, it is desirable to carry out the reaction in a solvent. As the reaction solvent, a halogenated aliphatic solvent is particularly preferably used. For example, methylene chloride, chloroform,
-Chloro-1,2-dibromo-1,1,2-trifluoroethane, 1,2-dibromohexafluoropropane,
1,2-dibromotetrafluoroethane, fluorotrichloromethane, heptafluoro-2,3,3-trichlorobutane, 1,1,1,3-tetrachlorotetrafluoropropane, 1,1,2-trichlorotrifluoropropane, 1,1,2-trichlorotrifluoroethane,
1,1-dichloro-2,2,3,3,3-pentafluoropropane, 1,3-dichloro-1,2,2,3,3-
One or more kinds such as pentafluoropropane can be used. Among them, in particular, 1,1-dichloro-2,
A mixed solvent of 2,3,3,3-pentafluoropropane and 1,3-dichloro-1,2,2,3,3-pentafluoropropane is preferably used.

【0072】過酸化アルカノイル類のこれら溶媒中の濃
度は、0.5〜30重量%の範囲とすることが好まし
い。
The concentration of the alkanoyl peroxide in these solvents is preferably in the range of 0.5 to 30% by weight.

【0073】かくして、目的とするフルオロアルキル基
含有ホスホン酸オリゴマー類が容易に得られるが、本発
明では所望により、透析、再結晶、蒸留、カラムクロマ
トグラフィー等の常法の精製手段により精製することが
できる。
In this way, the desired fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer can be easily obtained, but in the present invention, if desired, purification can be carried out by conventional purification means such as dialysis, recrystallization, distillation, column chromatography and the like. Can be.

【0074】本発明のフルオロアルキル基含有ホスホン
酸オリゴマー類は、非水系の界面活性剤及び優れたイオ
ン伝導性を有することから、高分子固体電解質として有
用であり、リチウムイオンポリマー電池の電解質、可塑
剤として用いることが出来る。
The fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer of the present invention is useful as a solid polymer electrolyte because it has a non-aqueous surfactant and excellent ionic conductivity. It can be used as an agent.

【0075】次いで、本発明の界面活性剤について説明
する。本発明の界面活性剤は、前記一般式(1)または
(2)で表されるフルオロアルキル基含有ホスホン酸オ
リゴマー類を有効成分として含有することを特徴とする
ものである。
Next, the surfactant of the present invention will be described. The surfactant of the present invention is characterized by containing a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (1) or (2) as an active ingredient.

【0076】好ましい化合物としては、前記一般式
(1)または(2)において、式中、R 1 、R2 は、前
記一般式(8)及び前記一般式(9)で表されるフルオ
ロアルキル基中、Yはフッ素原子であり、m1は好まし
くは1〜8であり、m2は、好ましくは1〜10であ
る。
Preferred compounds are those represented by the above general formula
(1) or (2), wherein R 1 , RTwo Is before
Fluorine represented by the general formula (8) and the general formula (9)
In the alkyl group, Y is a fluorine atom, and m1 is preferably
And m2 is preferably 1 to 10.
You.

【0077】界面活性の効果は、R1 、R2 のフルオロ
アルキル基の長さに影響を受け、例えば、前記一般式
(9)で表されるフルオロアルキル基の場合、m2が大
きくなるに従って、界面活性の効果が高くなる傾向があ
る。また、R1 、R2 は同一の基であることが好まし
い。R3 は、水素原子又はメチル基である。nの範囲
は、好ましくは1〜50、特に好ましくは1〜10であ
る。
The effect of surface activity is affected by the length of the fluoroalkyl group of R 1 and R 2. For example, in the case of the fluoroalkyl group represented by the general formula (9), as m2 increases, The effect of surface activity tends to increase. Also, R 1 and R 2 are preferably the same group. R 3 is a hydrogen atom or a methyl group. The range of n is preferably 1 to 50, particularly preferably 1 to 10.

【0078】本発明の界面活性剤においては、濃度が通
常0.5g/dm3 以上、好ましくは1g/dm3 以上
で、優れた界面活性効果を発揮する。
The surfactant of the present invention exhibits an excellent surfactant effect when the concentration is usually 0.5 g / dm 3 or more, preferably 1 g / dm 3 or more.

【0079】本発明の界面活性剤を使用するには、通常
の方法で使用することができ、公知の界面活性剤と併用
することもできる。併用することが出来る界面活性剤と
しては、特に限定はなく陰イオン界面活性剤、非イオン
界面活性剤及び陽イオン界面活性剤が挙げられる。
The surfactant of the present invention can be used in a usual manner, and can be used in combination with a known surfactant. The surfactant that can be used in combination is not particularly limited, and includes an anionic surfactant, a nonionic surfactant, and a cationic surfactant.

【0080】陰イオン界面活性剤としては、例えばスル
ホネート系、スルフェート系、カルボキシレート系等も
のが挙げられる。
Examples of the anionic surfactant include sulfonate, sulfate, carboxylate and the like.

【0081】スルホネート系界面活性剤としては、炭素
原子数が9〜15のアルキルベンゼンスルホネート類、
炭素原子数12〜16のアルキルスルホネート類、アル
ケン及びヒドロキシアルカンスルホネート、ジスルホネ
ート、αーオレフィンスルホネート等が挙げられる。ス
ルフェート系界面活性剤としては、獣脂脂肪アルコー
ル、オレインアルコール、ラウリルアルコール、ミリス
チルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコ
ール等の第一アルコール又は/及び炭素原子数10〜2
0のオキソアルコール等の第二アルコールの硫酸モノエ
ステル、ヒドロキシカルボン酸、アミノカルボン酸、ヒ
ドロキシスルホン酸、アミノスルホン酸、アルキルスル
ホコハク酸、スルホコハク酸エステル、スルホコハク酸
アルコール等が挙げられる。また、ラウリル酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ヤシ油、パーム
核油、獣脂脂肪酸等の石鹸も挙げることができる。
Examples of the sulfonate-based surfactant include alkylbenzene sulfonates having 9 to 15 carbon atoms.
Examples thereof include alkyl sulfonates having 12 to 16 carbon atoms, alkenes and hydroxyalkane sulfonates, disulfonates, α-olefin sulfonates, and the like. Examples of the sulfate surfactant include primary alcohols such as tallow fatty alcohol, oleic alcohol, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, and stearyl alcohol, and / or 10 to 2 carbon atoms.
And sulfuric acid monoesters of secondary alcohols such as oxo alcohol of 0, hydroxycarboxylic acid, aminocarboxylic acid, hydroxysulfonic acid, aminosulfonic acid, alkyl sulfosuccinic acid, sulfosuccinate, and sulfosuccinic alcohol. Also, soaps such as lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, coconut oil, palm kernel oil, tallow fatty acid and the like can be mentioned.

【0082】非イオン界面活性剤としては、脂肪アルコ
ール、アルキルフェノール、脂肪酸、脂肪酸アミン、脂
肪酸アミド、エチレンオキシド−プロピレンオキシドブ
ロック共重合体、ポリエチレン化カルボン酸アミド、ア
ミノキシド、スルホキシド系のものも用いることができ
る。
As the nonionic surfactant, fatty alcohols, alkylphenols, fatty acids, fatty acid amines, fatty acid amides, ethylene oxide-propylene oxide block copolymers, polyethylene carboxylic acid amides, amino oxides and sulfoxides can be used. .

【0083】陽イオン界面活性剤としては、少なくとも
1つが炭素原子数12〜18のアルキル基である脂肪族
アミンの有機酸塩又は無機酸塩、およびその4級アンモ
ニウム塩、ベンジル基等のアルキル基を持つ芳香族4級
アンモニウム塩、ピリジウム塩、イミダゾリウム塩など
の複素環4級アンモニウム塩や、スルホニル塩、ホスホ
ニウム塩などのオニウム塩が挙げられる。
Examples of the cationic surfactant include an organic acid salt or an inorganic acid salt of an aliphatic amine having at least one alkyl group having 12 to 18 carbon atoms, and a quaternary ammonium salt and an alkyl group such as a benzyl group. And heterocyclic quaternary ammonium salts such as aromatic quaternary ammonium salts, pyridium salts and imidazolium salts, and onium salts such as sulfonyl salts and phosphonium salts.

【0084】これらの化合物の1種又は2種以上で、ま
たこれら化合物はナトリウム塩、カリウム塩、アンモニ
ウム塩、モノ−、ジ−又はトリエタノールアミン等の有
機酸塩として存在しても差し支えない。
One or more of these compounds, and these compounds may be present as an organic acid salt such as sodium salt, potassium salt, ammonium salt, mono-, di- or triethanolamine.

【0085】また、その他の成分として通常の洗浄剤の
成分、例えば泡安定剤、泡抑制剤、カルシウムの錯化剤
もしくは沈澱剤、柔軟付与剤、アルカリ剤又は電解質、
漂白剤、漂白剤活性剤、再沈着防止剤、腐蝕防止剤、殺
菌性物質、酵素、酵素安定剤、増白剤、着色剤、蛍光剤
等と併用することができる。
Other components of ordinary detergents such as a foam stabilizer, a foam inhibitor, a calcium complexing or precipitating agent, a softening agent, an alkaline agent or an electrolyte,
Bleaching agents, bleach activators, redeposition inhibitors, corrosion inhibitors, bactericidal substances, enzymes, enzyme stabilizers, brighteners, coloring agents, fluorescent agents and the like can be used in combination.

【0086】本発明の界面活性剤は、撥水撥油性等のフ
ッ素原子に起因した優れた特性を有するので、安定性の
高いペシクル剤、医薬農薬の助剤、医療材料、酸素富化
膜、各種潤滑剤の添加剤、塗料、インキのレベリング
剤、ペイントムーバー、レジスト剥離剤、洗浄用起泡
剤、繊維処理剤及びフッ素系樹脂表面改質剤等として利
用することができる。
The surfactant of the present invention has excellent characteristics such as water repellency and oil repellency caused by fluorine atoms, and therefore has a high stability vesicles, auxiliaries for pharmaceuticals and agrochemicals, medical materials, oxygen-enriched films, It can be used as an additive for various lubricants, a leveling agent for paints and inks, a paint mover, a resist remover, a foaming agent for cleaning, a fiber treatment agent, a fluorine resin surface modifier, and the like.

【0087】次いで、本発明の高分子固体電解質につい
て説明する。本発明の高分子固体電解質は、非プロトン
性溶媒に前記一般式(1)で表されるフルオロアルキル
基含有ホスホン酸オリゴマー類を電解質として含有させ
ゲル化したものである。
Next, the solid polymer electrolyte of the present invention will be described. The polymer solid electrolyte of the present invention is obtained by gelling an aprotic solvent containing the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (1) as an electrolyte.

【0088】用いることが出来る非プロトン性溶媒とし
ては、特に制限されないが、例えば、γ−ブチロラクト
ン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキ
シド、1,3−ジオキソラン、スルホラン、ジメチルカ
ーボネート、ジエチルカーボネート、メチルアセテー
ト、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、
プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチ
レンカーボネート、ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、ニトロメタン、蟻酸メチル、酢酸
メチル、リン酸トリエステル、トリメトキシメタン、ス
ルホラン、3−メチル−2−オキサゾリジノン、ジエチ
ルエーテル、1,3−プロパンサルトン等のエーテル化
合物やエステル化合物が挙げられ、これらは1種又は2
種以上で用いられる。
The aprotic solvent that can be used is not particularly limited, but includes, for example, γ-butyrolactone, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, 1,3-dioxolan, sulfolane, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, methyl acetate, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran,
Propylene carbonate, ethylene carbonate, butylene carbonate, formamide, dimethylformamide, acetonitrile, nitromethane, methyl formate, methyl acetate, phosphate triester, trimethoxymethane, sulfolane, 3-methyl-2-oxazolidinone, diethyl ether, 1,3- Ether compounds and ester compounds such as propane sultone;
Used in more than species.

【0089】非プロトン性溶媒に対する前記一般式
(1)または一般式(2)で表されるフルオロアルキル
基含有ホスホン酸オリゴマー類の添加量は、通常0.1
〜80wt%、好ましくは1〜50wt%である。
The addition amount of the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the general formula (1) or (2) to the aprotic solvent is usually 0.1
-80 wt%, preferably 1-50 wt%.

【0090】更に、本発明の高分子固体電解質は、他の
電解質と併用することが出来る。他の電解質としては、
非プロトン性溶媒に溶解するものであれば特に限定され
ないが、例えば、LiClO4 、LiCl、LiBr、
LiI、LiBF4 、LiPF6 、LiCF3 SO3
LiAsF6 、LiAlCl4 、LiB(C66
4 、CF3 SO3 Li、LiSbF6 、LiB10
10、LiSiF6 、LiN(SO2 CF32 、Li
C(SO2 CF32 、LiN(CF3 SO32 、低
級脂肪酸カルボン酸リチウム、クロロボランリチウム及
び4フェニルホウ酸リチウム等が挙げられ、これらのリ
チウム塩は、1種又は2種以上で用いられる。これらの
リチウム塩の好ましい添加量は、上記溶媒1Kgに対し
て0.1〜3モル、好ましくは0.5〜2モルである。
Further, the polymer solid electrolyte of the present invention is
It can be used in combination with an electrolyte. Other electrolytes include:
It is not particularly limited as long as it is soluble in an aprotic solvent.
No, but for example, LiClOFour , LiCl, LiBr,
LiI, LiBFFour , LiPF6 , LiCFThree SOThree,
LiAsF6 , LiAlClFour , LiB (C6 H6 )
Four , CFThreeSOThreeLi, LiSbF6 , LiBTenC
lTen, LiSiF6 , LiN (SOTwo CFThree )Two , Li
C (SOTwo CFThree )Two , LiN (CFThree SOThree )Two , Low
Lithium fatty acid carboxylate, lithium chloroborane and
And lithium 4-phenylborate.
One or more kinds of the titanium salts are used. these
The preferable addition amount of the lithium salt is 1 kg of the solvent.
0.1 to 3 mol, preferably 0.5 to 2 mol.

【0091】本発明の高分子固体電解質は、リチウムイ
オンポリマー電池の電解質や、可塑剤として用いること
が出来る。
The solid polymer electrolyte of the present invention can be used as an electrolyte for a lithium ion polymer battery or as a plasticizer.

【0092】[0092]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0093】実施例1 コンデンサー、温度計、攪拌機、滴下ロートを備えた2
00ml四つ口フラスコに、3−アクロイルオキシプロ
ピルホスホン酸3.65g(19mmol)をAK−2
25(商品名、旭硝子株式会社製、Cl2CHCF2CF
3とCClF2CF2CHClFの1:1混合溶液、以下
同じ)80gに溶解させ、過酸化ジペルフルオロブチリ
ル0.81g(1.9mmol)を先の溶液に室温下、
窒素気流中で、すばやく滴下した。45℃に加熱し、5
時間攪拌させた。反応後、減圧下にて溶媒を留去させ、
得られた粗生成物を水を溶媒として透析精製を行った。
その後、残留物を真空乾燥させることにより、オリゴマ
ー0.36g(収率8%)を得た。FT−IR、1H−
NMR、19F−NMRにより、フルオロアルキル基含有
ホスホン酸オリゴマーの確認を行った。
Example 1 2 equipped with a condenser, a thermometer, a stirrer, and a dropping funnel
In a 00 ml four-necked flask, 3.65 g (19 mmol) of 3-acroyloxypropylphosphonic acid was added to AK-2.
25 (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Cl 2 CHCF 2 CF
3 and CClF 2 CF 2 CHClF 1: 1 mixed solution, hereinafter the same) was dissolved in 80 g, at room temperature peroxide di perfluoroalkyl butyryl 0.81 g (1.9 mmol) in the above solution,
In a nitrogen stream, the solution was quickly dropped. Heat to 45 ° C and 5
Allowed to stir for hours. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure,
The obtained crude product was purified by dialysis using water as a solvent.
Thereafter, the residue was dried under vacuum to obtain 0.36 g (yield: 8%) of an oligomer. FT-IR, 1 H-
The fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer was confirmed by NMR and 19 F-NMR.

【0094】<FT−IR(KBr、cm-1)>347
0(OH)、1725(C=O)、1310(C
3)、1245(CF2) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>1.02〜
1.89(CH2、CH)、1.95〜3.15(C
2)、4.64〜4.73(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−5.60(6F)、−44.12(4
F)、−54.32(4F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 347
0 (OH), 1725 (C = O), 1310 (C
F 3 ), 1245 (CF 2 ) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 1.02-
1.89 (CH 2 , CH), 1.95-3.15 (C
H 2 ), 4.64 to 4.73 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)> − 5.60 (6F), −44.12 (4
F), -54.32 (4F)

【0095】以上の分析結果より、得られた生成物は下
記一般式(1a)で表される表1中の試料Aの構造を有
するフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類で
あることを確認した。
From the above analysis results, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample A in Table 1 represented by the following general formula (1a).

【0096】実施例2 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸5.02g
(25.8mmol)、過酸化ジペルフルオロ−2−メ
チル−3−オキサヘキサノイル1.70g(2.6mm
ol)を用いる以外は実施例1と同様に合成することに
より、オリゴマー0.1g(収率7%)を得た。FT−
IR、1H−NMR、19F−NMRにより、生成物の確
認を行った。
Example 2 5.02 g of 3-acryloyloxypropylphosphonic acid
(25.8 mmol), 1.70 g (2.6 mm) of diperfluoro-2-methyl-3-oxahexanoyl peroxide
ol), except that 0.1 g of the oligomer was obtained (7% yield). FT-
The product was confirmed by IR, 1 H-NMR and 19 F-NMR.

【0097】<FT−IR(KBr、cm-1)>348
3(OH)、1731(C=O)、1308(C
3)、1281(CF2) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>1.00〜
1.91(CH2、CH)、1.93〜3.18(C
2)、4.64〜4.73(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−5.58〜−7.66(16F)、−4
8.18(6F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 348
3 (OH), 1731 (C = O), 1308 (C
F 3), 1281 (CF 2 ) <1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 1.00~
1.91 (CH 2 , CH), 1.93 to 3.18 (C
H 2 ), 4.64 to 4.73 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)>-5.58 to -7.66 (16F), -4
8.18 (6F)

【0098】以上の分析結果より、得られた生成物は下
記一般式(1a)で表される表1中の試料Bの構造を有
するフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類で
あることを確認した。
From the above analysis results, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample B in Table 1 represented by the following general formula (1a).

【0099】実施例3 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸4.06g
(21mmol)、過酸化ジペルフルオロ−2,5−ジ
メチル−3,6−ジオキサノナノイル2.08g(2.
1mmol)を用いる以外は実施例1と同様に合成する
ことにより、オリゴマー0.29g(収率5%)を得
た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRにより、
生成物の確認を行った。
Example 3 4.06 g of 3-acroyloxypropylphosphonic acid
(21 mmol), 2.08 g of diperfluoro-2,5-dimethyl-3,6-dioxananoyl peroxide (2.
Except for using 1 mmol), the synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 0.29 g of an oligomer (yield: 5%). By FT-IR, 1 H-NMR and 19 F-NMR,
The product was confirmed.

【0100】<FT−IR(KBr、cm-1)>346
7(OH)、1635(C=O)、1261(C
3)、1112(CF2) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>1.03〜
1.71(CH2)、2.00(CH)、4.67〜
4.79(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−5.76〜−6.93(26F)、−4
7.51(6F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 346
7 (OH), 1635 (C = O), 1261 (C
F 3 ), 1112 (CF 2 ) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 1.03 to
1.71 (CH 2), 2.00 ( CH), 4.67~
4.79 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)>-5.76 to -6.93 (26F), -4
7.51 (6F)

【0101】以上の分析結果より、得られた生成物は下
記一般式(1a)で表される表1中の試料Cの構造を有
するフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類で
あることを確認した。
From the above analysis results, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample C in Table 1 represented by the following general formula (1a).

【0102】実施例4 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸3.57g
(18mmol)、過酸化ジペルフルオロ−2,5,8
−トリメチル−3,6,9−トリオキサドデカノイル
2.38g(1.8mmol)を用いる以外は実施例1
と同様に合成することにより、オリゴマー0.32g
(収率5%)を得た。FT−IR、1H−NMR、19
−NMRにより、生成物の確認を行った。
Example 4 3.57 g of 3-acroyloxypropylphosphonic acid
(18 mmol), diperfluoro-2,5,8 peroxide
Example 1 except for using 2.38 g (1.8 mmol) of -trimethyl-3,6,9-trioxadodecanoyl
0.32 g of oligomer by synthesizing
(5% yield). FT-IR, 1 H-NMR, 19 F
-The product was confirmed by NMR.

【0103】<FT−IR(KBr、cm-1)>345
3(OH)、1633(C=O)、1248(C
3)、1198(CF2) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>1.02〜
1.86(CH2)、1.97〜2.02(CH)、
3.00〜3.25(CH2)、4.67〜4.73
(CH2)、 <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−4.80〜−8.72(36F)、−4
7.50(6F)、−56.59(4F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 345
3 (OH), 1633 (C = O), 1248 (C
F 3 ), 1198 (CF 2 ) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 1.02-
1.86 (CH 2), 1.97~2.02 ( CH),
3.00~3.25 (CH 2), 4.67~4.73
(CH 2 ), < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)>-4.80 to -8.72 (36F), -4
7.50 (6F), -56.59 (4F)

【0104】以上の分析結果より、得られた生成物は下
記一般式(1a)で表される表1中の試料Dの構造を有
するフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類で
あることを確認した。
From the results of the above analysis, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample D in Table 1 represented by the following general formula (1a).

【0105】比較例1 フッ素過酸化物の代わりに、和光純薬製 V−50
0.68g(2.5mmol)を用い、3−アクロイル
オキシプロピルホスホン酸4.85g(25mmol)
を用いた以外は実施例1に準じて合成を行ったところ、
3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸オリゴマーが
0.57g(収率10.32%)で得られた。なお、精
製はメタノール/水系による再沈澱法により行った。
Comparative Example 1 Instead of fluorine peroxide, V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
Using 0.68 g (2.5 mmol), 4.85 g (25 mmol) of 3-acroyloxypropylphosphonic acid
Synthesis was performed according to Example 1 except that was used,
0.57 g (yield 10.32%) of 3-acryloyloxypropyl phosphonic acid oligomer was obtained. The purification was performed by a reprecipitation method using a methanol / water system.

【0106】上記の生成物の合成反応を下記に示す。The synthesis reaction of the above product is shown below.

【0107】[0107]

【化36】 Embedded image

【0108】[0108]

【表1】 [Table 1]

【0109】実施例5 コンデンサー、温度計、攪拌機、滴下ロートを備えた2
00ml四つ口フラスコに、3−アクロイルオキシプロ
ピルホスホン酸3.65g(19mmol)、メトキシ
ノニルエチレングリコールメタクリレート0.93g
(1.9mmol)を、AK−225溶液100gおよ
び水10gに溶解させ、過酸化ジペルフルオロブチリル
0.85g(1.9mmol)を20gのAK−225
溶液へ室温下、窒素気流中で、すばやく滴下した。45
℃に加熱し、5時間攪拌させた。反応後、減圧下にて溶
媒を留去させ、得られた粗生成物を水を溶媒として透析
精製を行った。その後、残留物を真空乾燥させることに
より、コオリゴマー0.26g(収率5%)を得た。F
T−IR、1H−NMR、19F−NMRにより、生成物
の確認を行った。
Example 5 A condenser equipped with a condenser, a thermometer, a stirrer and a dropping funnel was prepared.
In a 00 ml four-necked flask, 3.65 g (19 mmol) of 3-acryloyloxypropylphosphonic acid, 0.93 g of methoxynonylethylene glycol methacrylate
(1.9 mmol) was dissolved in 100 g of the AK-225 solution and 10 g of water, and 0.85 g (1.9 mmol) of diperfluorobutyryl peroxide was added to 20 g of AK-225.
The solution was quickly added dropwise at room temperature in a nitrogen stream. 45
C. and stirred for 5 hours. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by dialysis using water as a solvent. Thereafter, the residue was dried under vacuum to obtain 0.26 g (yield: 5%) of cooligomers. F
The product was confirmed by T-IR, 1 H-NMR, and 19 F-NMR.

【0110】また、 1H−NMRから求めたモル重合比
(3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸:メトキシ
ノニルエチレングリコールメタクリレート)は、72:
28であった。
The molar polymerization ratio (3-acryloyloxypropylphosphonic acid: methoxynonylethylene glycol methacrylate) determined from 1 H-NMR was 72:
28.

【0111】<FT−IR(KBr、cm-1)>345
0(OH)、1719(C=O)、1315(C
3)、1242(CF2)、1030(−O−) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>0.68(C
3)、0.98〜1.78(CH2)、1.91(C
H)、3.25〜3.40(CH2)、4.70〜4.
73(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−5.65(6F)、−45.01(4
F)、−54.52(4F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 345
0 (OH), 1719 (C = O), 1315 (C
F 3 ), 1242 (CF 2 ), 1030 (—O —) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 0.68 (C
H 3), 0.98~1.78 (CH 2 ), 1.91 (C
H), 3.25~3.40 (CH 2) , 4.70~4.
73 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)> − 5.65 (6F), −45.01 (4
F), -54.52 (4F)

【0112】分析結果より、得られた生成物は下記一般
式(2a)で表される表2中の試料Fの構造を有するフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類であるこ
とを確認した。
From the analysis results, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample F in Table 2 represented by the following general formula (2a).

【0113】実施例6 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸5.02g
(26mmol)、メトキシノニルエチレングリコール
メタクリレート1.41g(2.6mmol)、過酸化
ジペルフルオロ−2−メチル−3−オキサヘキサノイル
1.71g(2.6mmol)を用いる以外は実施例5
と同様に合成することにより、コオリゴマー1.45g
(収率18%)を得た。FT−IR、1H−NMR、19
F−NMRにより、生成物の確認を行った。
Example 6 5.02 g of 3-acryloyloxypropylphosphonic acid
Example 5 except that (26 mmol), 1.41 g (2.6 mmol) of methoxynonylethylene glycol methacrylate, and 1.71 g (2.6 mmol) of diperfluoro-2-methyl-3-oxahexanoyl peroxide were used.
1.45 g of co-oligomer by synthesis
(18% yield). FT-IR, 1 H-NMR, 19
The product was confirmed by F-NMR.

【0114】また、 1H−NMRから求めたモル重合比
(3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸:メトキシ
ノニルエチレングリコールメタクリレート)は、68:
32であった。
The molar polymerization ratio (3-acryloyloxypropylphosphonic acid: methoxynonylethylene glycol methacrylate) determined from 1 H-NMR was 68:
32.

【0115】<FT−IR(KBr、cm-1)>345
6(OH)、1731(C=O)、1240(C
3)、1180(CF2)、1016(−O−) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>0.91〜
0.97(CH3)、1.06〜1.32(CH2)、
1.88〜1.99(CH)、3.12〜3.24(C
2)、4.71〜4.77(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−5.71〜−7.66(16F)、−4
8.83(6F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 345
6 (OH), 1731 (C = O), 1240 (C
F 3 ), 1180 (CF 2 ), 1016 (—O —) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 0.91
0.97 (CH 3), 1.06~1.32 ( CH 2),
1.88 to 1.99 (CH), 3.12 to 3.24 (C
H 2 ), 4.71 to 4.77 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)> − 5.71 to −7.66 (16F), −4
8.83 (6F)

【0116】分析結果より、得られた生成物は下記一般
式(2a)で表される表2中の試料Gの構造を有するフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類であるこ
とを確認した。
From the results of the analysis, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample G in Table 2 represented by the following general formula (2a).

【0117】実施例7 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸4.06g
(21mmol)、メトキシノニルエチレングリコール
メタクリレート1.04g(2.1mmol)、過酸化
ジペルフルオロ−2,5−ジメチル−3,6−ジオキサ
ノナノイル2.07g(2.1mmol)を用いる以外
は実施例5と同様に合成することにより、コオリゴマー
0.22g(収率3%)を得た。FT−IR、1H−N
MR、19F−NMRにより、生成物の確認を行った。
Example 7 4.06 g of 3-acryloyloxypropylphosphonic acid
(21 mmol), 1.04 g (2.1 mmol) of methoxynonylethylene glycol methacrylate, and 2.07 g (2.1 mmol) of diperfluoro-2,5-dimethyl-3,6-dioxananoyl peroxide. By synthesizing in the same manner as in Example 5, 0.22 g (yield 3%) of a co-oligomer was obtained. FT-IR, 1 H-N
The product was confirmed by MR and 19 F-NMR.

【0118】また、 1H−NMRから求めたモル重合比
(3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸:メトキシ
ノニルエチレングリコールメタクリレート)は、45:
55であった。
The molar polymerization ratio (3-acryloyloxypropylphosphonic acid: methoxynonylethylene glycol methacrylate) determined from 1 H-NMR was 45:
55.

【0119】<FT−IR(KBr、cm-1)>343
6(OH)、1721(C=O)、1341(C
3)、1245(CF2)、1029(−O−) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>0.73(C
3)、0.99〜1.72(CH2)、1.96(C
H)、3.21〜3.34(CH2)、4.64〜4.
69(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−4.48〜−6.90(26F)、−1
7.37(6F)、−70.76(2F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 343
6 (OH), 1721 (C = O), 1341 (C
F 3 ), 1245 (CF 2 ), 1029 (—O —) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 0.73 (C
H 3), 0.99~1.72 (CH 2 ), 1.96 (C
H), 3.21~3.34 (CH 2) , 4.64~4.
69 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)>-4.48 to -6.90 (26F), -1
7.37 (6F), -70.76 (2F)

【0120】分析結果より、得られた生成物は下記一般
式(2a)で表される表2中の試料Hの構造を有するフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類であるこ
とを確認した。
From the results of the analysis, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample H in Table 2 represented by the following general formula (2a).

【0121】実施例8 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸3.57g
(18mmol)、メトキシノニルエチレングリコール
メタクリレート0.91g(1.8mmol)、過酸化
ジペルフルオロ−2,5,8−トリメチル−3,6,9
−トリオキサドデカノイル2.38g(1.8mmo
l)を用いる以外は実施例5と同様に合成することによ
り、コオリゴマー0.39g(収率6%)を得た。FT
−IR、1H−NMR、19F−NMRにより、生成物の
確認を行った。
Example 8 3.57 g of 3-acryloyloxypropylphosphonic acid
(18 mmol), 0.91 g (1.8 mmol) of methoxynonyl ethylene glycol methacrylate, diperfluoro-2,5,8-trimethyl peroxide 3,6,9
2.38 g of trioxadodecanoyl (1.8 mmo)
Except for using l), the synthesis was carried out in the same manner as in Example 5 to obtain 0.39 g of a co-oligomer (yield 6%). FT
The product was confirmed by -IR, 1 H-NMR and 19 F-NMR.

【0122】また、 1H−NMRから求めたモル重合比
(3−アクロイルオキシプロピルホスフィン酸:メトキ
シノニルエチレングリコールメタクリレート)は、4
5:55であった。
The molar polymerization ratio (3-acryloyloxypropylphosphinic acid: methoxynonylethylene glycol methacrylate) determined from 1 H-NMR was 4
5:55.

【0123】<FT−IR(KBr、cm-1)>346
9(OH)、1731(C=O)、1253(C
3)、1170(CF2)、1024(−O−) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>0.70〜
0.80(CH3)、1.01〜1.84(CH2)、
1.98(CH)、3.23〜3.36(CH2)、
4.60〜4.73(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−6.72〜−8.70(36F)、−4
7.43(6F)、−56.38(4F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 346
9 (OH), 1731 (C = O), 1253 (C
F 3 ), 1170 (CF 2 ), 1024 (—O —) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 0.70
0.80 (CH 3), 1.01~1.84 ( CH 2),
1.98 (CH), 3.23~3.36 (CH 2),
4.60 to 4.73 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)>-6.72 to -8.70 (36F), -4
7.43 (6F), -56.38 (4F)

【0124】分析結果より、得られた生成物は下記一般
式(2a)で表される表2中の試料Iの構造を有するフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類であるこ
とを確認した。
From the results of the analysis, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample I in Table 2 represented by the following general formula (2a).

【0125】[0125]

【化37】 Embedded image

【0126】[0126]

【表2】 [Table 2]

【0127】実施例9 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸0.91g
(4.7mmol)、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸0.97g(4.7mmol)、過
酸化ジペルフルオロ−2−メチル−3−オキサヘキサノ
イル0.62g(1.0mmol)を用いる以外は実施
例5と同様に合成することにより、コオリゴマー1.3
3g(収率51%)を得た。FT−IR、1H−NM
R、19F−NMRにより、生成物の確認を行った。
Example 9 0.91 g of 3-acroyloxypropylphosphonic acid
(4.7 mmol), 0.97 g (4.7 mmol) of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, and 0.62 g (1.0 mmol) of diperfluoro-2-methyl-3-oxahexanoyl peroxide. Was synthesized in the same manner as in Example 5 to give the co-oligomer 1.3.
3 g (51% yield) were obtained. FT-IR, 1 H-NM
The product was confirmed by R, 19 F-NMR.

【0128】また、 1H−NMRから求めたモル重合比
(3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸:2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸)は、3
1:69であった。
Further, the molar polymerization ratio (3-acryloyloxypropylphosphonic acid: 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid) determined from 1 H-NMR is 3
1:69.

【0129】<FT−IR(KBr、cm-1)>342
6(OH,NH)、1641(C=O)、1220(C
3)、1195(CF2) <1H−NMR(δ、D2O+NaOD)>0.81(C
3)、1.04〜1.74(CH)、1.98(C
H)、2.98〜3.42(CH2)、4.59〜4.
67(CH2) <19F−NMR(δ、D2O+NaOD、ext.CF3
COOH)>−5.48〜−7.40(16F)、−4
7.04(6F)
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 342
6 (OH, NH), 1641 (C = O), 1220 (C
F 3 ), 1195 (CF 2 ) < 1 H-NMR (δ, D 2 O + NaOD)> 0.81 (C
H 3), 1.04~1.74 (CH) , 1.98 (C
H), 2.98~3.42 (CH 2) , 4.59~4.
67 (CH 2 ) < 19 F-NMR (δ, D 2 O + NaOD, ext. CF 3
COOH)>-5.48 to -7.40 (16F), -4
7.04 (6F)

【0130】分析結果より、得られた生成物は下記一般
式(2b)で表される表3中の試料Jの構造を有するフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類であるこ
とを確認した。
From the results of the analysis, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample J in Table 3 represented by the following general formula (2b).

【0131】実施例10 3−アクロイルオキシプロピルホスホン酸1.17g
(6.0mmol)、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸1.24g(6.0mmol)、過
酸化ジペルフルオロ−2,5−ジメチル−3,6−ジオ
キサノナノイル1.19g(1.2mmol)を用いる
以外は実施例5と同様に合成することにより、コオリゴ
マー0.27g(収率31%)を得た。FT−IRによ
り、生成物の確認を行った。なお、ゲル形成能が高くN
MR測定は困難であった。
Example 10 1.17 g of 3-acroyloxypropylphosphonic acid
(6.0 mmol), 1.24 g (6.0 mmol) of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 1.19 g of diperfluoro-2,5-dimethyl-3,6-dioxananoyl peroxide (1. Except for using 2 mmol), the synthesis was carried out in the same manner as in Example 5 to obtain 0.27 g of a co-oligomer (31% yield). The product was confirmed by FT-IR. In addition, the gel-forming ability is high and N
MR measurements were difficult.

【0132】<FT−IR(KBr、cm-1)>343
0(OH,NH)、1639(C=O)、1320(C
3)、1218(CF2
<FT-IR (KBr, cm −1 )> 343
0 (OH, NH), 1639 (C = O), 1320 (C
F 3 ), 1218 (CF 2 )

【0133】分析結果より、得られた生成物は下記一般
式(2b)で表される表3中の試料Kの構造を有するフ
ルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類であるこ
とを確認した。
From the results of the analysis, it was confirmed that the obtained product was a fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer having the structure of Sample K in Table 3 represented by the following general formula (2b).

【0134】[0134]

【化38】 Embedded image

【0135】[0135]

【表3】 [Table 3]

【0136】<界面活性剤としての評価>1.実施例1
〜10で得られた試料のフルオロアルキル基含有ホスホ
ン酸オリゴマー類について、各種溶剤に対する溶解性を
試験した。その結果を表4に示した。表中の記号は下記
のことを示す。 ○;非常によく溶ける、△;あまりよく溶けない、×;
全く溶けない、 G;ゲル化
<Evaluation as Surfactant> Example 1
With respect to the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers of the samples obtained in Nos. 1 to 10, solubility in various solvents was tested. Table 4 shows the results. The symbols in the table indicate the following. ○; very soluble, △; not very soluble, ×;
Does not dissolve at all, G; gelation

【0137】2.実施例2、3、4及び比較例1で得ら
れたB、C、D、Eの試料を30℃にて一晩放置し、次
いで、m−キシレンに溶かし、種々の濃度の試料を調製
した。各試料につき表面張力計を用いて、30℃恒温下
にて表面張力を測定した。その結果を図1に示した。
2. Samples of B, C, D and E obtained in Examples 2, 3, 4 and Comparative Example 1 were allowed to stand at 30 ° C. overnight, and then dissolved in m-xylene to prepare samples of various concentrations. . The surface tension of each sample was measured at a constant temperature of 30 ° C. using a surface tensiometer. The result is shown in FIG.

【0138】[0138]

【表4】 [Table 4]

【0139】(注)表中の略号は下記のとおりである。 AK−255;Cl2CHCF2CF3とCClF2CF2
CHClFの1:1混合溶液、 THF;テトラヒドロフラン、 DMSO;ジメチルスルホキシド、 DE;ジクロロエタン
(Note) The abbreviations in the table are as follows. AK-255; Cl 2 CHCF 2 CF 3 and CCIF 2 CF 2
CHClF 1: 1 mixed solution, THF; tetrahydrofuran, DMSO; dimethyl sulfoxide, DE; dichloroethane

【0140】<ゲル化特性>実施例1〜4、6、7、
8、9で得られた試料のフルオロアルキル基含有ホスホ
ン酸オリゴマー類について、水及びDMSOに対する3
0℃での最小ゲル化濃度(Cmin)を測定した。その結
果を表5に示した。
<Geling properties> Examples 1-4, 6, 7,
Regarding the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomers of the samples obtained in 8 and 9, 3
The minimum gelling concentration (C min ) at 0 ° C. was measured. Table 5 shows the results.

【0141】[0141]

【表5】 [Table 5]

【0142】<高分子固体電解質>実施例9および実施
例10で得られた試料JおよびKについて、イオン伝導
度を測定した。その結果を表6に示した。
<Polymer Solid Electrolyte> For Samples J and K obtained in Examples 9 and 10, the ionic conductivity was measured. Table 6 shows the results.

【0143】なお、イオン伝導度の測定は、次にように
行った。オリゴマーをゲル化する量のDMSOに、表6
に示す割合でLi塩を加え、さらにオリゴマー0.18
gを加えて測定用ゲルを作製した。測定用ゲルをパイレ
ツクスガラスセルに入れ、真鍮で作成した上部電極と下
部電極ではさみこみ導電率を測定した。また、マイクロ
ヘッドを用いてゲルの厚さを測定し、これらによりイオ
ン伝導度を算出した。
The measurement of the ionic conductivity was performed as follows. Table 6 shows the amount of DMSO to gel the oligomer.
The Li salt was added at the ratio shown in
g was added to prepare a gel for measurement. The gel for measurement was put into a pyrex glass cell, and the conductivity was measured by sandwiching the upper electrode and the lower electrode made of brass. Further, the thickness of the gel was measured using a microhead, and the ionic conductivity was calculated based on the measured thickness.

【0144】[0144]

【表6】 [Table 6]

【0145】(注)Li塩はLiN(CF3 SO3
2 、溶媒はDMSOを用いた。
(Note) Li salt is LiN (CF 3 SO 3 )
2. DMSO was used as the solvent.

【0146】[0146]

【発明の効果】上記したとおり、本発明のフルオロアル
キル基含有ホスホン酸オリゴマー類は、新規な化合物で
あり、非水系の界面活性剤として有用であり、更に、優
れたイオン伝導度を有することから、リチウムイオンポ
リマー電池の電解質や可塑剤として利用することが出来
る。
As described above, the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer of the present invention is a novel compound, is useful as a non-aqueous surfactant, and has excellent ionic conductivity. Can be used as an electrolyte or a plasticizer for lithium ion polymer batteries.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のフルオロアルキル基含有ホスフィン酸
オリゴマー類の濃度と表面張力の関係を示す図である。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the concentration of fluoroalkyl group-containing phosphinic acid oligomers of the present invention and surface tension.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 290/06 C08F 290/06 H01M 10/40 H01M 10/40 B Fターム(参考) 4H050 AA01 AA02 AB68 AB80 AC20 4J015 BA06 4J027 AC03 AC06 AC09 BA07 BA13 BA16 CB03 4J100 AL08P AL08Q BA04Q BA05Q BA08Q BA28Q BA56Q BA64P CA01 CA04 FA03 JA15 JA43 5H029 AM00 AM03 AM04 AM05 AM07 AM16 DJ09 EJ11 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) C08F 290/06 C08F 290/06 H01M 10/40 H01M 10/40 B F term (Reference) 4H050 AA01 AA02 AB68 AB80 AC20 4J015 BA06 4J027 AC03 AC06 AC09 BA07 BA13 BA16 CB03 4J100 AL08P AL08Q BA04Q BA05Q BA08Q BA28Q BA56Q BA64P CA01 CA04 FA03 JA15 JA43 5H029 AM00 AM03 AM04 AM05 AM07 AM16 DJ09 EJ11

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表されることを特徴
とするフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー
類。 【化1】 (式中、R1 、R2 は−(CF2m1Y又は−CF(C
3 )−〔OCF2 CF(CF3 )〕m2−OC37
示す。{但し、Yは水素原子、フッ素原子又は塩素原子
を示す。m1は1〜10の整数、m2は0〜10の整数
を示す。} R3は水素原子又はメチル基を示す。Bはアルキレン基
を示す。nは1〜1000の整数を示す。)
1. A fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the following general formula (1). Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are — (CF 2 ) m1 Y or —CF (C
F 3) - [OCF 2 CF (CF 3)] is an m2 -OC 3 F 7. {Wherein, Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom. m1 represents an integer of 1 to 10, and m2 represents an integer of 0 to 10. } R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. B represents an alkylene group. n shows the integer of 1-1000. )
【請求項2】 下記一般式(2)で表されることを特徴
とするフルオロアルキル基含有ホスホン酸オリゴマー
類。 【化2】 (式中、R1 、R2 は−(CF2m1Y又は−CF(C
3 )−〔OCF2 CF(CF3 )〕m2−OC37
示す。{但し、Yは水素原子、フッ素原子又は塩素原子
を示す。m1は1〜10の整数、m2は0〜10の整数
を示す。} R3、R4は水素原子又はメチル基を示す。Bはアルキレ
ン基を示す。Aは、下記一般式(3) 【化3】 {式中、X1 は水素原子又はメチル基、X2 は炭素数1
〜6のアルキル基を示し、tは、2〜300の整数を示
す。}で表されるエステル結合を有するアルキレンオキ
シド基、又は下記一般式(4) 【化4】 {式中、Zはアルキレン基を示す。}で表されるスルホ
ン酸基を示す。nは1〜1000の整数を示す。a:b
のモルは1:99〜99:1である。)
2. A fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer represented by the following general formula (2). Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are — (CF 2 ) m1 Y or —CF (C
F 3) - [OCF 2 CF (CF 3)] is an m2 -OC 3 F 7. {Wherein, Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom. m1 represents an integer of 1 to 10, and m2 represents an integer of 0 to 10. } R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a methyl group. B represents an alkylene group. A is the following general formula (3): XIn the formula, X 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and X 2 is carbon atom 1
And t represents an integer of 2 to 300. An alkylene oxide group having an ester bond represented by}, or the following general formula (4): ZIn the formula, Z represents an alkylene group.ス ル ホ ン represents a sulfonic acid group. n shows the integer of 1-1000. a: b
Is from 1:99 to 99: 1. )
【請求項3】 下記一般式(5) 【化5】 (式中、R1 、R2 は前記と同義。)で表される過酸化
フルオロアルカノイル類と、下記一般式(6) 【化6】 (式中、R3 、Bは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有するホスホン酸化合物とを反応させるこ
とを特徴とする下記一般式(1) 【化7】 ( 式中、R1 、R2 、R3 、Bおよびnは前記と同
義。)で表される請求項1記載のフルオロアルキル基含
有ホスホン酸オリゴマー類の製造方法。
3. The following general formula (5): (Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above) and a fluoroalkanoyl peroxide represented by the following general formula (6): (Wherein, R 3 and B are as defined above).
Reacting with a phosphonic acid compound having an acrylic group, represented by the following general formula (1): (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , B and n have the same meanings as defined above).
【請求項4】 下記一般式(5) 【化8】 (式中、R1 、R2 は前記と同義。)で表される過酸化
フルオロアルカノイル類と、下記一般式(6) 【化9】 (式中、R3 、Bは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有するホスホン酸化合物と、下記一般式
(7) 【化10】 (式中、R4 、Aは前記と同義。)で表される(メタ)
アクリル基を有する化合物とを反応させることを特徴と
する下記一般式(2) 【化11】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、A、B、a、b及び
nは前記と同義。)で表される請求項2記載のフルオロ
アルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類の製造方法。
4. The following general formula (5): (Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above) and a fluoroalkanoyl peroxide represented by the following general formula (6): (Wherein, R 3 and B are as defined above).
A phosphonic acid compound having an acrylic group, and a compound represented by the following general formula (7): (Wherein, R 4 and A are as defined above).
Reacting a compound having an acryl group with a compound having the following general formula (2): (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , A, B, a, b and n have the same meanings as described above). Method.
【請求項5】 請求項1又は請求項2記載のフルオロア
ルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類を有効成分とする
ことを特徴とする界面活性剤。
5. A surfactant comprising the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer according to claim 1 as an active ingredient.
【請求項6】 請求項1又は請求項2記載のフルオロア
ルキル基含有ホスホン酸オリゴマー類を含有することを
特徴とする高分子固体電解質。
6. A solid polymer electrolyte comprising the fluoroalkyl group-containing phosphonic acid oligomer according to claim 1 or 2.
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