JP2001246626A - Mold and method for manufacturing anisotropic conductive sheet - Google Patents

Mold and method for manufacturing anisotropic conductive sheet

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JP2001246626A
JP2001246626A JP2000063424A JP2000063424A JP2001246626A JP 2001246626 A JP2001246626 A JP 2001246626A JP 2000063424 A JP2000063424 A JP 2000063424A JP 2000063424 A JP2000063424 A JP 2000063424A JP 2001246626 A JP2001246626 A JP 2001246626A
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magnetic
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conductive
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Kazumi Hanawa
一美 塙
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JSR Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold capable of molding an anisotropic conductive sheet wherein a conductive part is filled with a required amount of conductive particles and conductive particles are not present in an insulating part or present therein in an extremely small amount and a method for manufacturing the anisotropic conductive sheet. SOLUTION: The mold is equipped with upper and lower molds and a molding space is formed between the upper and lower molds. A plurality of high magnetic field forming parts forming magnetic fields high in magnetic flux density in the thickness direction of the molding space, a medium magnetic field forming part provided around the high magnetic field forming parts and forming a magnetic field of which the magnetic flux density is lower than that of the high magnetic field forming parts in the thickness direction of the molding space and the low magnetic field forming part provided around the medium magnetic field forming part and forming a magnetic field of which the magnetic flux density is lower than that of the medium magnetic field forming part in the thickness direction of the molding space are provided to at least one of the upper and lower molds so as to be spaced apart from each other in the surface direction thereof.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子部品な
どの回路装置相互間の電気的接続や、プリント回路基
板、半導体集積回路などの回路装置の電気的検査に用い
られるコネクターとして好適な異方導電性シートを成形
するために好ましく用いられる金型および異方導電性シ
ートの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic connector suitable for use in electrical connection between circuit devices such as electronic components and for electrical inspection of circuit devices such as printed circuit boards and semiconductor integrated circuits. The present invention relates to a mold preferably used for forming a conductive sheet and a method for producing an anisotropic conductive sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】異方導電性シートは、厚み方向にのみ導
電性を示すもの、または厚み方向に加圧されたときに厚
み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電部を有するも
のであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合などの手段を
用いずにコンパクトな電気的接続を達成することが可能
であること、機械的な衝撃やひずみを吸収してソフトな
接続が可能であることなどの特長を有するため、このよ
うな特長を利用して、例えば電子計算機、電子式デジタ
ル時計、電子カメラ、コンピューターキーボードなどの
分野において、回路装置、例えばプリント回路基板とリ
ードレスチップキャリアー、液晶パネルなどとの相互間
の電気的な接続を達成するためのコネクターとして広く
用いられている。
2. Description of the Related Art An anisotropic conductive sheet is a sheet having conductivity only in a thickness direction or a pressurized conductive portion having conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. Yes, compact electrical connection can be achieved without using means such as soldering or mechanical fitting, and soft connection is possible by absorbing mechanical shock and strain Utilizing such features, circuit devices such as printed circuit boards and leadless chip carriers, liquid crystal panels, etc., in the fields of electronic calculators, electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc. It is widely used as a connector for achieving an electrical connection between the two.

【0003】また、プリント回路基板や半導体集積回路
などの回路装置の電気的検査においては、検査対象であ
る回路装置の一面に形成された被検査電極と、検査用回
路基板の表面に形成された検査用電極との電気的な接続
を達成するために、回路装置の被検査電極領域と検査用
回路基板の検査用電極領域との間に異方導電性シートを
介在させることが行われている。
In electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board or a semiconductor integrated circuit, an electrode to be inspected formed on one surface of a circuit device to be inspected and an electrode formed on the surface of the inspection circuit substrate. In order to achieve electrical connection with the test electrode, an anisotropic conductive sheet is interposed between the test electrode region of the circuit device and the test electrode region of the test circuit board. .

【0004】従来、このような異方導電性シートとして
は、種々の構造のものが知られており、例えば特開昭5
1−93393号公報等には、金属粒子をエラストマー
中に均一に分散して得られる異方導電性シート(以下、
これを「分散型異方導電性シート」という。)が開示さ
れ、また、特開昭53−147772号公報等には、導
電性磁性体粒子をエラストマー中に不均一に分布させる
ことにより、厚み方向に伸びる多数の導電部と、これら
を相互に絶縁する絶縁部とが形成されてなる異方導電性
シート(以下、これを「偏在型異方導電性シート」とい
う。)が開示され、更に、特開昭61−250906号
公報等には、導電部の表面と絶縁部との間に段差が形成
された偏在型異方導電性シートが開示されている。そし
て、偏在型異方導電性シートは、接続すべき回路装置の
電極パターンと対掌のパターンに従って導電部が形成さ
れているため、分散型異方導電性エラストマーシートに
比較して、接続すべき電極が小さいピッチで配置されて
いる回路装置などに対しても電極間の電気的接続を高い
信頼性で達成することができる点で、有利である。
Conventionally, as such an anisotropic conductive sheet, those having various structures are known.
Patent Document 1-93393 discloses an anisotropic conductive sheet obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer (hereinafter, referred to as an anisotropic conductive sheet).
This is called a “dispersed anisotropic conductive sheet”. JP-A-53-147772 discloses that a large number of conductive portions extending in the thickness direction are formed by distributing conductive magnetic particles unevenly in an elastomer. An anisotropic conductive sheet formed with an insulating portion to be insulated (hereinafter referred to as an “eccentrically-distributed anisotropic conductive sheet”) is disclosed. Further, JP-A-61-250906 discloses a sheet. An unevenly distributed anisotropic conductive sheet in which a step is formed between a surface of a conductive portion and an insulating portion is disclosed. Then, since the unevenly distributed anisotropic conductive sheet has a conductive portion formed in accordance with the pattern opposite to the electrode pattern of the circuit device to be connected, it should be connected compared to the dispersed type anisotropic conductive elastomer sheet. This is advantageous in that electrical connection between the electrodes can be achieved with high reliability even in a circuit device in which the electrodes are arranged at a small pitch.

【0005】上記のような偏在型異方導電性シートを製
造する方法としては、特殊な異方導電性シート成形用金
型を用い、この異方導電性シート成形用金型の成形空間
内に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質用材
料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなるシート成
形材料層を形成し、このシート成形材料層に対してその
厚み方向に強度分布を有する磁場を作用させ、その磁力
の作用によって導電性粒子を移動させて導電部となる部
分に集合させ、更には導電性粒子を厚み方向に並ぶよう
配向させ、その状態で当該シート成形材料層を硬化する
方法が知られている。
[0005] As a method of manufacturing the above-described unevenly distributed anisotropic conductive sheet, a special anisotropic conductive sheet molding die is used, and a molding space of the anisotropic conductive sheet molding die is provided. Forming a sheet molding material layer in which conductive particles exhibiting magnetism are contained in a polymer substance material that is cured to become an elastic polymer substance, and the strength distribution in the thickness direction with respect to the sheet molding material layer is formed. A magnetic field having the following properties, the conductive particles are moved by the action of the magnetic force, and are aggregated in a portion to be a conductive part, and further the conductive particles are oriented so as to be aligned in the thickness direction. A method for curing is known.

【0006】上記の異方導電性シートの製造方法に用い
られる異方導電性シート成形用金型は、それぞれ全体の
形状が略平板状であって互いに対応する上型と下型とよ
りなり、上型および下型が電磁石に装着可能に構成され
るか、若しくは電磁石と一体的に構成され、シート成形
材料層に磁場を作用させながら当該シート成形材料層を
加熱硬化することができる構造のものである。また、シ
ート成形材料層に磁場を作用させて適正な位置に導電部
を形成するために、異方導電性シート成形用金型におけ
る上型および下型のいずれか一方または両方は、鉄、ニ
ッケル等の強磁性体からなる基板上に、金型の成形空間
内の高い強度の磁場を形成するための鉄、ニッケル等よ
りなる強磁性体部分と、銅等の非磁性金属若しくは樹脂
等よりなる非磁性体部分とをモザイク状に配列した層
(以下、「モザイク層」という。)を有する構成のもの
であり、上型および下型の成形面は、平坦であるか若し
くは形成すべき異方導電性シートの導電部に対応してわ
ずかな凹凸を有するものである。
[0006] The anisotropic conductive sheet molding die used in the above-described method for producing an anisotropic conductive sheet is formed of an upper plate and a lower die, each of which has a substantially flat plate shape and corresponds to each other. The upper mold and the lower mold are configured to be attachable to the electromagnet, or are configured integrally with the electromagnet, so that the sheet molding material layer can be heated and cured while applying a magnetic field to the sheet molding material layer. It is. Further, in order to form a conductive portion at an appropriate position by applying a magnetic field to the sheet molding material layer, one or both of the upper mold and the lower mold in the anisotropic conductive sheet molding mold is made of iron, nickel, or the like. On a substrate made of a ferromagnetic material such as iron, a ferromagnetic material portion made of iron, nickel, etc. for forming a high-intensity magnetic field in a molding space of a mold, and made of a nonmagnetic metal such as copper or a resin, etc. It has a configuration having a layer in which nonmagnetic portions are arranged in a mosaic pattern (hereinafter, referred to as a “mosaic layer”), and the molding surfaces of the upper mold and the lower mold are flat or anisotropic to be formed. The sheet has slight irregularities corresponding to the conductive portions of the conductive sheet.

【0007】上記の異方導電性シート成形用金型によれ
ば、電磁石を作動させることにより、上型と下型との間
の成形空間において、強磁性体部分が位置する領域に
は、非磁性体部分が位置する領域よりも磁束密度の高い
磁場が形成され、従って、当該成形空間内に形成された
シート成形材料層に対して強度分布を有する磁場を作用
させることができる。このような異方導電性シート成形
金型において、モザイク層における強磁性体よりなる部
分と非磁性体よりなる部分との配置、形状等は、成形す
べき異方導電性シートに基づいて決定される。すなわ
ち、異方導電性シートの導電部に相当する箇所に強磁性
体よりなる部分が配置され、その強磁性体よりなる部分
の形状が導電部の断面形状に適合したものである。
According to the above-described mold for forming an anisotropic conductive sheet, by operating the electromagnet, the non-magnetic region is located in the region where the ferromagnetic portion is located in the molding space between the upper and lower dies. A magnetic field having a higher magnetic flux density than the region where the magnetic material portion is located is formed, so that a magnetic field having an intensity distribution can act on the sheet molding material layer formed in the molding space. In such an anisotropic conductive sheet forming mold, the arrangement, shape, and the like of the ferromagnetic material portion and the nonmagnetic material portion in the mosaic layer are determined based on the anisotropic conductive sheet to be formed. You. That is, a portion made of a ferromagnetic material is arranged at a portion corresponding to the conductive portion of the anisotropic conductive sheet, and the shape of the portion made of the ferromagnetic material matches the cross-sectional shape of the conductive portion.

【0008】しかしながら、従来の異方導電性シート成
形用金型においては、以下のような問題があることが判
明した。例えばQFP(Quad Flat Pack
age)等の電極が矩形の四辺に沿って枠状に配置され
てなる半導体素子や、複数の集積回路が形成されたウエ
ハなどの電子部品は、電極が密に配置された領域(以
下、「電極配置領域」という。)と、電極が配置されて
いない領域(以下、「非電極配置領域」という。)とを
有する。このような電子部品の電気的検査を行う場合に
は、異方導電性シートとして、電子部品における電極配
置領域の電極のパターンに対応するパターンに従って導
電部が配置された領域(以下、「機能領域」ともい
う。)と、非電極配置領域に対応して形成された、導電
部が全く存在しない領域(以下、「非機能領域」ともい
う。)とを有するものが用いられる。然るに、このよう
な異方導電性シートの製造においては、シート成形材料
層における非機能領域となるべき部分に存在する導電性
粒子を、導電部となるべき部分に移動させることが必要
となるが、異方導電性シートの非機能領域の面積が相当
に大きいものである場合には、非機能領域となるべき部
分に存在する導電性粒子の移動距離が極めて長いものと
なるため、当該シート成形材料層に強度分布を有する磁
場を作用させても、導電性粒子を導電部となるべき部分
に確実に集合させることは困難である。その結果、形成
される導電部には、所要の量の導電性粒子が充填されな
いために高い導電性が得られず、しかも、非機能領域に
は、相当な量の導電性粒子が残存するため、当該非機能
領域における所期の絶縁性を確実に達成することが困難
である。
[0008] However, it has been found that the following problems exist in the conventional anisotropic conductive sheet molding die. For example, QFP (Quad Flat Pack)
(Age) and other electronic components such as a wafer having a plurality of integrated circuits formed thereon in which electrodes are arranged in a frame shape along four sides of a rectangle. And a region where no electrode is disposed (hereinafter referred to as a “non-electrode disposed region”). When performing an electrical inspection of such an electronic component, a region where a conductive portion is arranged according to a pattern corresponding to an electrode pattern of an electrode arrangement region in the electronic component (hereinafter referred to as a “functional region”) is used as an anisotropic conductive sheet. ), And a region (hereinafter, also referred to as a “non-functional region”) formed corresponding to the non-electrode arrangement region and having no conductive portion at all. However, in the production of such an anisotropic conductive sheet, it is necessary to move the conductive particles present in a portion to be a non-functional region in the sheet molding material layer to a portion to be a conductive portion. In the case where the area of the non-functional region of the anisotropic conductive sheet is considerably large, the moving distance of the conductive particles existing in the portion to be the non-functional region becomes extremely long, so that the sheet molding is performed. Even when a magnetic field having an intensity distribution is applied to the material layer, it is difficult to surely assemble the conductive particles at a portion to be a conductive portion. As a result, the conductive portion to be formed is not filled with a required amount of conductive particles, so that high conductivity cannot be obtained.Moreover, a considerable amount of conductive particles remain in the non-functional region. However, it is difficult to reliably achieve the desired insulation in the non-functional region.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その第1の目
的は、導電部に所要の量の導電性粒子が充填され、か
つ、絶縁部に存在する導電性粒子がないまたは極めて少
ない異方導電性シートを成形することが可能な金型を提
供することにある。本発明の第2の目的は、導電部に所
要の量の導電性粒子が充填され、かつ、絶縁部に存在す
る導電性粒子がないまたは極めて少ない異方導電性シー
トを確実に製造することができる方法を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made under the above circumstances, and a first object of the present invention is to fill a conductive portion with a required amount of conductive particles, and It is another object of the present invention to provide a mold capable of forming an anisotropic conductive sheet having no or very few conductive particles existing in an insulating portion. A second object of the present invention is to reliably produce an anisotropic conductive sheet in which a conductive portion is filled with a required amount of conductive particles and has no or very few conductive particles present in an insulating portion. It is to provide a method that can be performed.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の金型は、上型お
よびこれと対となる下型を具えてなり、当該上型と当該
下型との間に成形空間が形成される金型であって、前記
上型および前記下型の少なくとも一方は、その面方向に
沿って互いに離間して設けられた、磁束密度の高い磁場
を成形空間の厚み方向に形成する複数の高磁場形成部
と、この高磁場形成部の周囲に設けられた、当該高磁場
形成部よりも磁束密度の低い磁場を成形空間の厚み方向
に形成する中磁場形成部と、この中磁場形成部の周囲に
設けられた、当該中磁場形成部よりも磁束密度の低い磁
場を成形空間の厚み方向に形成する低磁場形成部とを有
することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A mold according to the present invention comprises an upper mold and a lower mold to be paired with the upper mold, wherein a molding space is formed between the upper mold and the lower mold. Wherein at least one of the upper mold and the lower mold is provided with a plurality of high magnetic field forming portions that are provided apart from each other along the surface direction and form a magnetic field having a high magnetic flux density in the thickness direction of the molding space. And a medium magnetic field forming section provided around the high magnetic field forming section, for forming a magnetic field having a lower magnetic flux density than the high magnetic field forming section in the thickness direction of the molding space, and provided around the medium magnetic field forming section. And a low magnetic field forming section for forming a magnetic field having a lower magnetic flux density than the medium magnetic field forming section in the thickness direction of the molding space.

【0011】本発明の金型は、異方導電性シートを成形
するための金型として好ましく用いることができる。ま
た、本発明の金型においては、前記中磁場形成部におけ
る面方向の断面積が、前記高磁場形成部における面方向
の断面積の1.2〜30倍であることが好ましい。ま
た、本発明の金型においては、磁性体基板と、この磁性
体基板における前記高磁場形成部および前記中磁場形成
部が位置する部分に当該磁性体基板の表面から突出する
よう設けられた第1の突出磁性体部と、この第1の突出
磁性体部における前記高磁場形成部が位置する部分に当
該第1の突出磁性体部の表面から突出するよう設けられ
た第2の突出磁性体部とを備えてなることが好ましい。
The mold of the present invention can be preferably used as a mold for forming an anisotropic conductive sheet. In the mold of the present invention, it is preferable that a cross-sectional area in a plane direction in the medium magnetic field forming section is 1.2 to 30 times a cross-sectional area in a plane direction in the high magnetic field forming section. Further, in the mold of the present invention, a magnetic substrate, and a second portion provided on the portion of the magnetic substrate where the high magnetic field forming portion and the medium magnetic field forming portion are located so as to protrude from the surface of the magnetic substrate. A first protruding magnetic body portion and a second protruding magnetic body provided at a portion of the first protruding magnetic body portion where the high magnetic field forming portion is located so as to protrude from a surface of the first protruding magnetic body portion. It is preferable to include a part.

【0012】本発明の異方導電性シートの製造方法は、
厚み方向に伸びる複数の導電部が絶縁部によって相互に
絶縁された状態で配置されてなる異方導電性シートを製
造する方法であって、硬化されて弾性高分子物質となる
弾性高分子用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有され
てなるシート成形材料層に対し、強度分布を有する磁場
を当該成形材料の厚み方向に作用させると共に、当該シ
ート成形材料層を硬化処理する工程を有し、この工程に
おいて、前記シート成形材料層の導電部を形成すべき部
分における磁束密度をBH 、当該導電部を形成すべき部
分の周辺部分における磁束密度をB M 、当該導電部を形
成すべき部分およびその周辺部分以外の部分における磁
束密度をBL としたとき、BH >BM >BL を満足する
ことを特徴とする。
[0012] The method for producing an anisotropic conductive sheet of the present invention comprises:
Multiple conductive parts extending in the thickness direction are mutually connected by insulating parts.
Manufactures an anisotropic conductive sheet placed in an insulated state
Is a method of manufacturing, which is cured into an elastic polymer material
Conductive particles exhibiting magnetism are contained in the elastic polymer material
Magnetic field with intensity distribution
In the thickness direction of the molding material, and
A step of curing the sheet molding material layer.
A part where a conductive part of the sheet molding material layer is to be formed.
The magnetic flux density in minutesHThe part where the conductive part is to be formed
The magnetic flux density around the M, Shape the conductive part
Magnetism in the part other than the part to be formed and its surroundings
Bundle density BLAnd BH> BM> BLSatisfy
It is characterized by the following.

【0013】本発明の異方導電性シートの製造方法にお
いては、磁束密度BM が磁束密度B H の30〜90%で
あることが好ましく、また、磁束密度BL が磁束密度B
M の80%以下であることが好ましい。また、本発明の
異方導電性シートの製造方法においては、上記の金型を
用い、この金型内にシート成形材料層を形成し、このシ
ート成形材料層に当該金型を介して強度分布を有する磁
場を作用させることが好ましい。
[0013] The method for producing an anisotropic conductive sheet of the present invention.
The magnetic flux density BMIs the magnetic flux density B H30-90% of
And the magnetic flux density BLIs the magnetic flux density B
MIs preferably 80% or less. In addition, the present invention
In the method of manufacturing an anisotropic conductive sheet, the above mold is used.
To form a sheet molding material layer in this mold,
The magnetic material having strength distribution on the sheet molding material layer through the mold.
Preferably, a field is applied.

【0014】[0014]

【作用】上記の構成の金型によれば、高磁場形成部の周
囲に中磁場形成部を介して低磁場形成部が設けられてい
るため、その成形空間内に形成された導電性粒子が分散
されてなるシート成形材料層において、当該シート成形
材料層における低磁場形成部上に位置する部分に存在す
る導電性粒子は、当該部分より磁束密度の高い磁場が作
用する中磁場形成部上に位置する部分に移動し、その
後、当該部分より磁束密度の高い磁場が作用する高磁場
形成部上に位置する部分に移動する。従って、高磁場形
成部上に位置する部分までの移動距離が相当に長くて
も、当該部分に導電性粒子を確実に集合させることがで
きる。
According to the above-described mold, since the low magnetic field forming section is provided around the high magnetic field forming section via the medium magnetic field forming section, the conductive particles formed in the molding space are not provided. In the dispersed sheet forming material layer, the conductive particles present in the portion of the sheet forming material layer located on the low magnetic field forming portion are located on the medium magnetic field forming portion where a magnetic field having a higher magnetic flux density acts than the portion. It moves to a part located, and after that, it moves to a part located on a high magnetic field formation part where a magnetic field with a higher magnetic flux density acts than the part concerned. Therefore, even if the moving distance to the part located on the high magnetic field forming part is considerably long, the conductive particles can be surely aggregated in the part.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。 〈金型〉図1は、本発明に係る異方導電性シート成形用
金型の一例における下型の要部の構成を示す説明用断面
図である。この異方導電性シート成形用金型は、図1に
示す下型およびこれと対となる上型により構成され、上
型と下型とが互いに対抗するよう配置されることによ
り、当該上型および当該下型の間に成形空間が形成され
る。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. <Mold> FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a lower mold in an example of a mold for forming an anisotropic conductive sheet according to the present invention. This mold for forming an anisotropic conductive sheet is composed of a lower mold shown in FIG. 1 and an upper mold that is paired with the lower mold, and the upper mold and the lower mold are arranged so as to oppose each other. And a molding space is formed between the lower molds.

【0016】図1に示す下型においては、下型と上型と
の間に形成される成形空間の厚み方向に磁束密度の高い
磁場を形成する複数の高磁場形成部Hが、当該下型の面
方向に沿って互いに離間して設けられている。この高磁
場形成部Hのパターンは、成形すべき異方導電性シート
の導電部のパターンに対応するパターンである。高磁場
形成部Hの各々の周囲には、当該高磁場形成部Hよりも
磁束密度の低い磁場を成形空間の厚み方向に形成する中
磁場形成部Mが設けられ、中磁場形成部Mの周囲すなわ
ち高磁場形成部Hおよび中磁場形成部M以外の個所に
は、中磁場形成部Mよりも低い磁束密度の磁場を成形空
間の厚み方向に形成する低磁場形成部Lが設けられてい
る。
In the lower mold shown in FIG. 1, a plurality of high magnetic field forming portions H for forming a magnetic field having a high magnetic flux density in a thickness direction of a molding space formed between the lower mold and the upper mold are provided. Are provided apart from each other along the surface direction of the. The pattern of the high magnetic field forming portion H is a pattern corresponding to the pattern of the conductive portion of the anisotropic conductive sheet to be formed. Around each of the high magnetic field forming sections H, there is provided a medium magnetic field forming section M for forming a magnetic field having a lower magnetic flux density than the high magnetic field forming section H in the thickness direction of the molding space. That is, a low magnetic field forming part L that forms a magnetic field having a lower magnetic flux density than the medium magnetic field forming part M in the thickness direction of the molding space is provided at a portion other than the high magnetic field forming part H and the medium magnetic field forming part M.

【0017】具体的に説明すると、この下型は磁性体基
板10を有し、この磁性体基板10における高磁場形成
部Hおよび中磁場形成部Mが位置する部分には、当該磁
性体基板10の表面から突出する第1の突出磁性体部1
5が形成され、この第1の突出磁性体部15における高
磁場形成部Hが位置する部分には、当該第1の突出磁性
体部15の表面から突出する複数の第2の突出磁性体部
20が、成形すべき異方導電性シートの導電部のパター
ンに対応するパターンに従って形成されている。磁性体
基板10の表面および第1の突出磁性体部15の表面上
には、非磁性体層30が形成されており、この非磁性体
層30の表面は、第2の突出磁性体部20の表面と実質
上同一平面上に位置されている。また、この例における
異方導電性シート成形用金型は、絶縁部の表面から突出
する導電部を有する異方導電性シートを成形するための
ものであって、非磁性体層30の表面上に、第2の突出
磁性体部20上に位置する個所に孔36を有するキャビ
ティ形成層35が一体的に形成されている。このキャビ
ティ形成層35における孔36は、絶縁部の表面から突
出する導電部を形成するためのものである。
More specifically, the lower die has a magnetic substrate 10, and a portion of the magnetic substrate 10 where the high magnetic field forming section H and the medium magnetic field forming section M are located is provided with the magnetic substrate 10. First protruding magnetic body portion 1 protruding from the surface of
5 is formed, and a plurality of second protruding magnetic body portions protruding from the surface of the first protruding magnetic body portion 15 are provided in a portion of the first protruding magnetic body portion 15 where the high magnetic field forming portion H is located. 20 are formed according to the pattern corresponding to the pattern of the conductive portion of the anisotropic conductive sheet to be formed. A nonmagnetic layer 30 is formed on the surface of the magnetic substrate 10 and the surface of the first protruding magnetic body portion 15, and the surface of the nonmagnetic layer 30 is formed on the second protruding magnetic body portion 20. Are substantially coplanar with the surface of. The mold for forming an anisotropic conductive sheet in this example is for forming an anisotropic conductive sheet having a conductive part protruding from the surface of the insulating part. Further, a cavity forming layer 35 having a hole 36 at a position located on the second protruding magnetic body portion 20 is integrally formed. The hole 36 in the cavity forming layer 35 is for forming a conductive part protruding from the surface of the insulating part.

【0018】磁性体基板10、第1の突出磁性体部15
および第2の突出磁性体部20を構成する磁性体材料と
しては、鉄、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金な
どの強磁性体を用いることができる。磁性体基板10、
第1の突出磁性体部15および第2の突出磁性体部20
は、それぞれ同じ磁性体材料により構成されていても、
異なる磁性体材料により構成されていてもよい。また、
磁性体基板10、第1の突出磁性体部15および第2の
突出磁性体部20は、それぞれ一体のものであっても別
体のものであってもよい。
Magnetic substrate 10, first protruding magnetic portion 15
As the magnetic material constituting the second protruding magnetic body portion 20, a ferromagnetic material such as iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used. Magnetic substrate 10,
First protruding magnetic body 15 and second protruding magnetic body 20
Are made of the same magnetic material,
It may be made of a different magnetic material. Also,
The magnetic substrate 10, the first protruding magnetic body 15, and the second protruding magnetic body 20 may be integrated or separate.

【0019】磁性体基板10の厚みDは、好ましくは
0.05〜500mm、より好ましくは0.2〜200
mmである。また、第1の突出磁性体部15の突出高さ
h1および第2の突出磁性体部20の突出高さh2は、
成形すべき異方導電性シートの導電部の寸法および配置
ピッチを考慮して適宜設計されるが、第1の突出磁性体
部15の突出高さh1は、好ましくは50μm以上、よ
り好ましくは150μm以上、更に好ましくは250μ
m以上、特に好ましくは350μm以上であり、第2の
突出磁性体部20の突出高さh2は、好ましくは0.0
1〜0.5mm、より好ましくは0.02〜0.2mm
である。
The thickness D of the magnetic substrate 10 is preferably 0.05 to 500 mm, more preferably 0.2 to 200 mm.
mm. The protrusion height h1 of the first protrusion magnetic body 15 and the protrusion height h2 of the second protrusion magnetic body 20 are:
It is appropriately designed in consideration of the dimensions and the arrangement pitch of the conductive parts of the anisotropic conductive sheet to be formed. The protrusion height h1 of the first protruding magnetic body part 15 is preferably 50 μm or more, more preferably 150 μm. Above, more preferably 250μ
m or more, more preferably 350 μm or more, and the protrusion height h2 of the second protrusion magnetic body 20 is preferably 0.0
1 to 0.5 mm, more preferably 0.02 to 0.2 mm
It is.

【0020】以上において、第1の突出磁性体部15の
突出高さh1が過小である場合には、中磁場形成部Mに
よる磁場の磁束密度が、低磁場形成部Lによる磁場の磁
束密度よりも十分に高いものとならず、そのため、成形
空間に形成されるシート成形材料層において、その低磁
場形成部上に位置する部分に存在する導電性粒子を、中
磁場形成部上に位置する部分に確実に移動させることが
困難となることがある。また、第2の突出磁性体部20
の突出高さh2が過小である場合には、高磁場形成部M
による磁場の磁束密度が、中磁場形成部Mによる磁場の
磁束密度よりも十分に高いものとならず、そのため、成
形空間に形成されるシート成形材料層において、その中
磁場形成部上に位置する部分に存在する導電性粒子を、
高磁場形成部上に位置する部分に確実に移動させること
が困難となることがある。一方、第2の突出磁性体部2
0の突出高さh2が過大である場合には、中磁場形成部
Mによる磁場の磁束密度が相対的に低いものとなるた
め、成形空間に形成されるシート成形材料層において、
その低磁場形成部上に位置する部分に存在する導電性粒
子を、中磁場形成部上に位置する部分に確実に移動させ
ることが困難となることがある。
In the above description, when the protrusion height h1 of the first protruding magnetic body portion 15 is too small, the magnetic flux density of the magnetic field by the medium magnetic field forming portion M is smaller than the magnetic flux density of the magnetic field by the low magnetic field forming portion L. Is not sufficiently high, and therefore, in the sheet molding material layer formed in the molding space, the conductive particles present in the portion located on the low magnetic field forming portion are removed from the portion located on the medium magnetic field forming portion. It may be difficult to reliably move it. The second protruding magnetic body 20
If the protrusion height h2 is too small, the high magnetic field forming portion M
Is not sufficiently higher than the magnetic flux density of the magnetic field generated by the middle magnetic field forming unit M. Therefore, in the sheet forming material layer formed in the forming space, the magnetic flux density is located on the medium magnetic field forming unit. The conductive particles present in the part,
It may be difficult to reliably move to a portion located on the high magnetic field forming portion. On the other hand, the second protruding magnetic body 2
When the protrusion height h2 of 0 is excessive, the magnetic flux density of the magnetic field by the middle magnetic field forming unit M becomes relatively low, so that in the sheet forming material layer formed in the forming space,
In some cases, it may be difficult to reliably move the conductive particles present in the portion located on the low magnetic field forming portion to the portion located on the medium magnetic field forming portion.

【0021】また、第1の突出磁性体部15の突出高さ
h1と第2の突出磁性体部20の突出高さh2との比
(h1/h2)は、0.1〜5であることが好ましく、
より好ましくは0.2〜3である。この比(h1/h
2)が過小である場合には、中磁場形成部Mによる磁場
の磁束密度が相対的に低いものとなるため、成形空間に
形成されるシート成形材料層において、その低磁場形成
部上に位置する部分に存在する導電性粒子を、中磁場形
成部上に位置する部分に確実に移動させることが困難と
なることがある。一方、この比(h1/h2)が過大で
ある場合には、高磁場形成部Mによる磁場の磁束密度
が、中磁場形成部Mによる磁場の磁束密度よりも十分に
高いものとならず、そのため、成形空間に形成されるシ
ート成形材料層において、その中磁場形成部上に位置す
る部分に存在する導電性粒子を、高磁場形成部上に位置
する部分に確実に移動させることが困難となることがあ
る。
The ratio (h1 / h2) of the protrusion height h1 of the first protrusion magnetic member 15 to the protrusion height h2 of the second protrusion magnetic member 20 is 0.1 to 5. Is preferred,
More preferably, it is 0.2 to 3. This ratio (h1 / h
If 2) is too small, the magnetic flux density of the magnetic field generated by the medium magnetic field forming unit M is relatively low, so that the sheet forming material layer formed in the forming space is positioned above the low magnetic field forming unit. In some cases, it may be difficult to reliably move the conductive particles present in the portion where the magnetic field is formed to the portion located on the medium magnetic field forming portion. On the other hand, when this ratio (h1 / h2) is excessive, the magnetic flux density of the magnetic field by the high magnetic field forming unit M is not sufficiently higher than the magnetic flux density of the magnetic field by the medium magnetic field forming unit M, and therefore, In the sheet molding material layer formed in the molding space, it is difficult to reliably move the conductive particles present in the portion located on the medium magnetic field forming portion to the portion located on the high magnetic field forming portion. Sometimes.

【0022】非磁性体層30を構成する材料としては、
当該非磁性体層30を容易に形成することができる点
で、硬化樹脂材料を用いることが好ましい。このような
樹脂材料の具体例としては、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、ポリイミドなどが挙げられる。
The material constituting the non-magnetic layer 30 is as follows.
It is preferable to use a cured resin material in that the nonmagnetic layer 30 can be easily formed. Specific examples of such a resin material include an acrylic resin, an epoxy resin, and polyimide.

【0023】キャビティ形成層35を構成する材料は、
フォトリソグラフィーの手法により、孔36を有するキ
ャビティ形成層35を高い寸法精度で形成することがで
きる点で、放射線によって硬化された樹脂材料であるこ
とが好ましい。キャビティ形成層35を形成するための
感放射線性樹脂材料としては、アクリル系のドライフィ
ルムレジスト、エポキシ系の液状レジスト、ポリイミド
系の液状レジストなどのフォトレジストを用いることが
できる。キャビティ形成層35の厚みは、成形すべき異
方導電性シートにおける導電部の突出高さに応じて設計
されるが、好ましくは5〜200μm、より好ましくは
10〜100μmである。
The material forming the cavity forming layer 35 is as follows:
A resin material cured by radiation is preferable because the cavity forming layer 35 having the holes 36 can be formed with high dimensional accuracy by a photolithography technique. As the radiation-sensitive resin material for forming the cavity forming layer 35, a photoresist such as an acrylic dry film resist, an epoxy liquid resist, or a polyimide liquid resist can be used. The thickness of the cavity forming layer 35 is designed according to the protruding height of the conductive portion in the anisotropic conductive sheet to be formed, but is preferably 5 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm.

【0024】本発明の金型においては、中磁場形成部M
における面方向の断面積が、高磁場形成部Lにおける面
方向の断面積の1.2〜30倍であることが好ましく、
より好ましくは2〜20倍である。中磁場形成部Mにお
ける面方向の断面積が過小である場合には、低磁場形成
部Lにおける面方向の断面積が相対的に大きくなるた
め、シート成形材料層における低磁場形成部L上に位置
する部分に存在する導電性粒子を、中磁場形成部M上に
位置する部分に確実に移動させることが困難となること
がある。一方、中磁場形成部Mにおける面方向の断面積
が過大である場合には、中磁場形成部Mの周縁と高磁場
形成部Hの周縁との距離が相当に長くなるため、シート
成形材料層における中磁場形成部Mの周縁付近に存在す
る導電性粒子を、高磁場形成部M上に位置する部分に移
動させることが困難となることがある。
In the mold of the present invention, the medium magnetic field forming portion M
Is preferably 1.2 to 30 times the cross-sectional area in the plane direction in the high magnetic field forming portion L,
More preferably, it is 2 to 20 times. When the cross-sectional area in the plane direction in the middle magnetic field forming section M is too small, the cross-sectional area in the plane direction in the low magnetic field forming section L becomes relatively large. In some cases, it may be difficult to reliably move the conductive particles present in the located portion to the portion located on the medium magnetic field forming portion M. On the other hand, when the cross-sectional area in the plane direction in the middle magnetic field forming section M is excessively large, the distance between the periphery of the middle magnetic field forming section M and the periphery of the high magnetic field forming section H becomes considerably long. In some cases, it may be difficult to move the conductive particles existing near the periphery of the middle magnetic field forming portion M to a portion located on the high magnetic field forming portion M.

【0025】上記の異方導電性シート成形用金型は、例
えば以下の第1の方法または第2のい方法によって製造
することができる。 〔第1の方法〕この第1の方法においては、先ず、図2
に示すように、磁性体よりなる板状体11を用意する。
この板状体11の厚みD1は、製造すべき金型における
磁性体基板10の厚みDと、第1の突出磁性体部15の
突出高さh1と、第2の突出磁性体部20の突出高さh
2との合計と同等のものである。そして、図3に示すよ
うに、フォトリソグラフィーの手法により、板状体11
の一面に、形成すべき第2の突出磁性体部20のパター
ンに対応するパターンに従ってレジスト層21を形成
し、当該板状体11の一面に対してエッチング処理を行
うことにより、図4に示すように、突出高さがh2であ
る第2の突出磁性体部20が形成される。次いで、第2
の突出磁性体部20の表面からレジスト層21を除去
し、その後、図5に示すように、フォトリソグラフィー
の手法により、板状体11における第2の突出磁性体部
20の表面およびその周辺部の表面に、レジスト層22
を形成し、当該レジスト層22が形成された個所以外の
個所をエッチング処理することより、図6に示すよう
に、突出高さがh1である第1の突出磁性体部15が形
成されると共に、厚みがDである磁性体基板10が形成
される。
The above-mentioned mold for forming an anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, by the following first method or second method. [First Method] In this first method, first, FIG.
As shown in (1), a plate-like body 11 made of a magnetic material is prepared.
The thickness D1 of the plate-like body 11 is determined by the thickness D of the magnetic substrate 10 in the mold to be manufactured, the height h1 of the first protruding magnetic member 15, and the protrusion H2 of the second protruding magnetic member 20. Height h
It is equivalent to the sum of 2. Then, as shown in FIG. 3, the plate-like body 11 is formed by photolithography.
A resist layer 21 is formed on one surface according to a pattern corresponding to the pattern of the second protruding magnetic body portion 20 to be formed, and an etching process is performed on one surface of the plate-shaped body 11 to thereby obtain a structure shown in FIG. Thus, the second protruding magnetic body portion 20 having the protruding height h2 is formed. Then the second
Then, the resist layer 21 is removed from the surface of the protruding magnetic body portion 20, and then, as shown in FIG. 5, the surface of the second protruding magnetic body portion 20 on the plate-like body 11 and its peripheral portion are formed by photolithography. On the surface of the resist layer 22
Is formed, and a portion other than the portion where the resist layer 22 is formed is etched to form a first protruding magnetic body portion 15 having a protruding height h1 as shown in FIG. The magnetic substrate 10 having a thickness D is formed.

【0026】次いで、第1の突出磁性体部15の表面お
よび第2の突出磁性体部20の表面からレジスト層22
を除去し、その後、磁性体基板10の表面および第1の
突出磁性体部15の表面に熱硬化性樹脂材料層を形成
し、当該熱硬化性樹脂材料層の硬化処理を行うことによ
り、図7に示すように、非磁性体層30が形成される。
その後、図8に示すように、非磁性体層30の表面およ
び第2の突出磁性体部20の表面に、フォトレジスト層
37を形成し、このフォトレジスト層37上に、第2の
突出磁性体部20に対応するパターンに従って放射線遮
光部が形成されたマスクを配置し、その後、フォトレジ
スト層37に対して放射線照射処理および現像処理を行
うことにより、キャビティ形成層が形成され、以て図1
に示す構成の下型が製造される。そして、上記の下型の
製造方法と基本的に同様の方法によって上型が製造さ
れ、以て、目的とする異方導電性シート成形用金型が製
造される。
Next, the resist layer 22 is removed from the surface of the first protruding magnetic member 15 and the surface of the second protruding magnetic member 20.
Then, a thermosetting resin material layer is formed on the surface of the magnetic substrate 10 and the surface of the first protruding magnetic body portion 15, and the thermosetting resin material layer is subjected to a hardening treatment. As shown in FIG. 7, the nonmagnetic layer 30 is formed.
Thereafter, as shown in FIG. 8, a photoresist layer 37 is formed on the surface of the nonmagnetic layer 30 and the surface of the second protruding magnetic portion 20, and the second protruding magnetic layer is formed on the photoresist layer 37. A mask in which a radiation shielding portion is formed according to a pattern corresponding to the body portion 20 is arranged, and thereafter, a radiation irradiation process and a development process are performed on the photoresist layer 37 to form a cavity forming layer. 1
Is manufactured. Then, the upper mold is manufactured by basically the same method as the above-described method of manufacturing the lower mold, thereby manufacturing the desired anisotropic conductive sheet molding die.

【0027】〔第2の方法〕この第2の方法において
は、先ず、図9に示すように、磁性体よりなる板状体1
2を用意する。この板状体12の厚みD2は、製造すべ
き金型における磁性体基板10の厚みDと、第1の突出
磁性体部15の突出高さh1との合計と同等のものであ
る。そして、図10に示すように、フォトリソグラフィ
ーの手法により、板状体12の一面に、形成すべき第1
の突出磁性体部15のパターンに対応するパターンに従
ってレジスト層23を形成し、当該板状体12の一面に
対してエッチング処理を行うことにより、図11に示す
ように、突出高さがh1である第1の突出磁性体部15
が形成されると共に、厚みがDである磁性体基板10が
形成される。
[Second Method] In this second method, first, as shown in FIG.
Prepare 2 The thickness D2 of the plate-like body 12 is equal to the sum of the thickness D of the magnetic substrate 10 in the mold to be manufactured and the protrusion height h1 of the first protruding magnetic body portion 15. Then, as shown in FIG. 10, the first surface to be formed is formed on one surface of the plate-shaped body 12 by photolithography.
The resist layer 23 is formed in accordance with a pattern corresponding to the pattern of the protruding magnetic body portion 15 of FIG. Certain first protruding magnetic body 15
Is formed, and the magnetic substrate 10 having the thickness D is formed.

【0028】次いで、第1の突出磁性体部15の表面か
らレジスト層23を除去し、その後、磁性体基板10の
表面に熱硬化性樹脂材料層を形成し、当該熱硬化性樹脂
材料層の硬化処理を行うことにより、図12に示すよう
に、非磁性体基層部分31が形成される。更に、図13
に示すように、非磁性体基層部分31の表面および第2
の突出磁性体部20の表面に、フォトレジスト層32A
を形成し、このフォトレジスト層32A上に、形成すべ
き第2の突出磁性体部20に対応するパターンに従って
放射線遮光部が形成されたマスクを配置し、その後、フ
ォトレジスト層32Aに対して放射線照射処理および現
像処理を行うことにより、図14に示すように、形成す
べき第2の突出磁性体部20に対応するパターンに従っ
て孔33が形成された非磁性体上層部分32が形成さ
れ、以て、非磁性体基層部分31および非磁性体上層部
分32よりなる非磁性体層30が形成される。ここで、
非磁性体上層部分32の厚みは、形成すべき第2の突出
磁性体部20の突出高さh2と同等のものである。そし
て、第1の突出磁性体部分15における非磁性体上層部
分32の貫通孔33から露出する個所に、強磁性体金属
の電解メッキ処理を行って当該非磁性体上層部分32の
貫通孔33内に磁性体金属を堆積させることにより、図
15に示すように、第1の突出磁性体部15の表面から
突出する第2の突出磁性体部20が形成される。
Next, the resist layer 23 is removed from the surface of the first protruding magnetic body portion 15, and thereafter, a thermosetting resin material layer is formed on the surface of the magnetic substrate 10, and the thermosetting resin material layer is formed. By performing the curing treatment, the nonmagnetic base layer portion 31 is formed as shown in FIG. Further, FIG.
As shown in the figure, the surface of the nonmagnetic base layer portion 31 and the second
A photoresist layer 32A is formed on the surface of
Is formed, and a mask on which a radiation shielding portion is formed in accordance with a pattern corresponding to the second protruding magnetic body portion 20 to be formed is arranged on the photoresist layer 32A. By performing the irradiation process and the development process, as shown in FIG. 14, the nonmagnetic upper layer portion 32 in which the holes 33 are formed according to the pattern corresponding to the second protruding magnetic body portion 20 to be formed is formed. Thus, the nonmagnetic layer 30 including the nonmagnetic base layer portion 31 and the nonmagnetic upper layer portion 32 is formed. here,
The thickness of the nonmagnetic upper layer portion 32 is equal to the protrusion height h2 of the second protrusion magnetic member 20 to be formed. Then, a portion of the first protruding magnetic body portion 15 exposed from the through hole 33 of the nonmagnetic upper layer portion 32 is subjected to electrolytic plating of a ferromagnetic metal to thereby form the inside of the through hole 33 of the nonmagnetic upper layer portion 32. As shown in FIG. 15, a second protruding magnetic body portion 20 protruding from the surface of the first protruding magnetic body portion 15 is formed by depositing a magnetic metal on the first magnetic material.

【0029】その後、前述の第1の方法と同様にして、
非磁性体層30の表面および第2の突出磁性体部20の
表面に、フォトレジスト層を形成し、このフォトレジス
ト層上に、第2の突出磁性体部20に対応するパターン
に従って放射線遮光部が形成されたマスクを配置し、そ
の後、フォトレジスト層に対して放射線照射処理および
現像処理を行うことにより、キャビティ形成層が形成さ
れ、以て図1に示す構成の下型が製造される。そして、
上記の下型の製造方法と基本的に同様の方法によって上
型が製造され、以て、目的とする異方導電性シート成形
用金型が製造される。
Thereafter, in the same manner as in the first method described above,
A photoresist layer is formed on the surface of the non-magnetic layer 30 and the surface of the second protruding magnetic body section 20, and a radiation shielding section is formed on the photoresist layer according to a pattern corresponding to the second protruding magnetic body section 20. Is disposed, and then the photoresist layer is irradiated with radiation and developed to form a cavity forming layer. Thus, the lower mold shown in FIG. 1 is manufactured. And
The upper mold is manufactured by a method basically similar to the method of manufacturing the lower mold described above, whereby the intended anisotropic conductive sheet molding die is manufactured.

【0030】以上のような金型によれば、高磁場形成部
Hの周囲に中磁場形成部Mを介して低磁場形成部Lが設
けられているため、その成形空間内に形成された導電性
粒子が分散されてなるシート成形材料層において、当該
シート成形材料層における低磁場形成部L上に位置する
部分に存在する導電性粒子は、当該部分より磁束密度の
高い磁場が作用する中磁場形成部M上に位置する部分に
移動し、その後、当該部分より磁束密度の高い磁場が作
用する高磁場形成部H上に位置する部分、すなわち導電
部を形成すべき部分に移動する。従って、高磁場形成部
上に位置する部分までの距離が相当に長い個所に存在す
る導電性粒子を、当該高磁場形成部上に位置する部分に
確実に移動させることができるので、非機能領域の面積
が大きいものであっても、導電部に所要の量の導電性粒
子が充填され、かつ、絶縁部に存在する導電性粒子がな
いまたは極めて少ない異方導電性シートを成形すること
ができる。
According to the above-described mold, since the low magnetic field forming portion L is provided around the high magnetic field forming portion H via the medium magnetic field forming portion M, the conductive field formed in the molding space is formed. In the sheet molding material layer in which the conductive particles are dispersed, the conductive particles present in the portion of the sheet molding material layer located on the low magnetic field forming portion L are a medium magnetic field in which a magnetic field having a higher magnetic flux density acts than the portion. The part moves to a part located on the formation part M, and then moves to a part located on the high magnetic field formation part H on which a magnetic field having a higher magnetic flux density acts, that is, a part where a conductive part is to be formed. Therefore, the conductive particles present at a location where the distance to the portion located on the high magnetic field forming portion is considerably long can be reliably moved to the portion located on the high magnetic field forming portion, and the non-functional region Even if the area is large, the conductive portion is filled with a required amount of conductive particles, and the anisotropic conductive sheet having no or very few conductive particles present in the insulating portion can be formed. .

【0031】〈異方導電性シートの製造方法〉本発明の
異方導電性シートの製造方法においては、先ず、硬化さ
れて弾性高分子物質となる高分子物質用材料中に磁性を
示す導電性粒子が分散されてなるシート成形材料を調製
し、このシート成形材料を例えば図1に示す異方導電性
シート成形用金型の成形空間に充填することにより、図
16に示すように、当該異方導電性シート成形用金型の
成形空間にシート成形材料層1Aを形成する。
<Method of Manufacturing Anisotropic Conductive Sheet> In the method of manufacturing an anisotropic conductive sheet according to the present invention, first, a conductive material exhibiting magnetism in a material for a polymer material which is cured to be an elastic polymer material. By preparing a sheet molding material in which particles are dispersed and filling this molding material into a molding space of an anisotropic conductive sheet molding die shown in FIG. 1, for example, as shown in FIG. A sheet molding material layer 1A is formed in a molding space of a mold for molding a conductive sheet.

【0032】シート成形材料の調製に用いられる硬化性
の高分子物質用材料としては、種々のものを用いること
ができ、その具体例としては、ポリブタジエンゴム、天
然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共
重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴ
ムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、
スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、
スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック
共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレ
ン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒ
ドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共
重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴ
ムなどが挙げられる。以上において、得られる異方導電
性シートに耐候性が要求される場合には、共役ジエン系
ゴム以外のものを用いることが好ましく、特に、成形加
工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用い
ることが好ましい。
Various materials can be used as the curable polymer material used for preparing the sheet molding material. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, and styrene-butadiene. Conjugated diene rubbers such as copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and hydrogenated products thereof;
Styrene-butadiene-diene block copolymer rubber,
Block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymers and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer And polymer rubber. In the above, when weather resistance is required for the obtained anisotropic conductive sheet, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber, and particularly, from the viewpoint of moldability and electrical characteristics, use of silicone rubber Is preferred.

【0033】シリコーンゴムとしては、液状シリコーン
ゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコ
ーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105
アズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のも
の、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのい
ずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン
生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニ
ルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
As the silicone rubber, those obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber are preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.

【0034】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサン
は、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000の
ものであることが好ましい。また、得られる異方導電性
シートの耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリ
スチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換
算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下
同じ。)が2.0以下のものが好ましい。
Among them, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained anisotropic conductive sheet, the molecular weight distribution index (refers to the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene equivalent number average molecular weight Mn; the same applies hereinafter). Is preferably 2.0 or less.

【0035】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。この
ようなヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンは、
その分子量Mwが10000〜40000のものである
ことが好ましい。また、得られる導電路素子の耐熱性の
観点から、分子量分布指数が2.0以下のものが好まし
い。本発明においては、上記のビニル基含有ポリジメチ
ルシロキサンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシ
ロキサンのいずれか一方を用いることもでき、両者を併
用することもできる。
On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
Further, cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used as a polymerization terminator, and other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) are used. Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane is,
It is preferable that the molecular weight Mw is 10,000 to 40,000. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, those having a molecular weight distribution index of 2.0 or less are preferable. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.

【0036】シート成形材料の調製に用いられる導電性
粒子としては、ニッケル、鉄、コバルトなどの磁性を示
す金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれら
の金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子と
し、当該芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウム
などの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、ある
いは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物
質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の
表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性体のメッ
キを施したもの、あるいは芯粒子に、導電性磁性体およ
び導電性の良好な金属の両方を被覆したものなどが挙げ
られる。これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、
その表面に金や銀などの導電性の良好な金属のメッキを
施したものを用いることが好ましい。芯粒子の表面に導
電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるもの
ではないが、例えば化学メッキまたは無電解メッキによ
り行うことができる。
Examples of the conductive particles used for preparing the sheet molding material include particles of magnetic metals such as nickel, iron, and cobalt, particles of alloys thereof, particles containing these metals, and particles of these metals. The core particles are obtained by plating the surface of the core particles with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, and rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as nonmagnetic metal particles or glass beads. Particles, such as those obtained by plating the surface of the core particles with a conductive magnetic material such as nickel or cobalt, or those in which the core particles are coated with both a conductive magnetic material and a metal having good conductivity. No. In these, nickel particles are used as core particles,
It is preferable to use a material whose surface is plated with a metal having good conductivity such as gold or silver. Means for coating the surface of the core particles with a conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, chemical plating or electroless plating.

【0037】導電性粒子として、芯粒子の表面に導電性
金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導
電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金属
の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面
積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに
好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%で
ある。また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜
50重量%であることが好ましく、より好ましくは1〜
30重量%、さらに好ましくは3〜25重量%、特に好
ましくは4〜20重量%である。被覆される導電性金属
が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の2.5〜
30重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜
20重量%、さらに好ましくは3.5〜15重量%であ
る。また、被覆される導電性金属が銀である場合には、
その被覆量は、芯粒子の3〜50重量%であることが好
ましく、より好ましくは4〜40重量%、さらに好まし
くは5〜30重量%、特に好ましくは6〜20重量%で
ある。
When the conductive particles are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, from the viewpoint of obtaining good conductivity, the coverage of the conductive metal on the particle surface (core particle) Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%. Further, the coating amount of the conductive metal is 0.5 to
It is preferably 50% by weight, more preferably 1 to
The content is 30% by weight, more preferably 3 to 25% by weight, particularly preferably 4 to 20% by weight. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is from 2.5 to 2.5
It is preferably 30% by weight, more preferably 3 to
It is 20% by weight, more preferably 3.5 to 15% by weight. When the conductive metal to be coated is silver,
The coating amount is preferably 3 to 50% by weight of the core particles, more preferably 4 to 40% by weight, further preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 6 to 20% by weight.

【0038】また、導電性粒子の粒子径は、1〜100
0μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50
0μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好まし
くは10〜200μmである。また、導電性粒子の粒子
径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好まし
く、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは
1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。この
ような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、
得られる異方導電性シートの導電部は、加圧変形が容易
なものとなり、また、当該導電部において導電性粒子間
に十分な電気的接触が得られる。また、導電性粒子の形
状は、特に限定されるものではないが、高分子物質用材
料中に容易に分散させることができる点で、球状のも
の、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子に
よる塊状のものであることが好ましい。
The conductive particles have a particle size of 1 to 100.
0 μm, more preferably 2 to 50 μm.
0 μm, more preferably 5 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm. Further, the particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, further preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1 to 1. 4. By using conductive particles that satisfy such conditions,
The conductive portion of the obtained anisotropic conductive sheet is easily deformed under pressure, and sufficient electrical contact between the conductive particles is obtained in the conductive portion. In addition, the shape of the conductive particles is not particularly limited. However, since the conductive particles can be easily dispersed in the polymer substance material, the conductive particles have a spherical shape, a star shape, or a secondary shape in which these are aggregated. It is preferably a lump formed by particles.

【0039】また、導電性粒子の含水率は、5%以下で
あることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに
好ましくは2%以下、とくに好ましくは1%以下であ
る。このような条件を満足する導電性粒子を用いること
により、後述する製造方法において、高分子物質用材料
層を硬化処理する際に、当該高分子物質用材料層内に気
泡が生ずることが防止または抑制される。
The water content of the conductive particles is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, particularly preferably 1% or less. By using the conductive particles satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the polymer material layer when the polymer material layer is cured in the manufacturing method described below or Is suppressed.

【0040】また、導電性粒子として、その表面がシラ
ンカップリング剤などのカップリング剤で処理されたも
のを適宜用いることができる。導電性粒子の表面がカッ
プリング剤で処理されることにより、当該導電性粒子と
弾性高分子物質との接着性が高くなり、その結果、得ら
れる異方導電性シートの導電部は、繰り返しの使用にお
ける耐久性が高いものとなる。カップリング剤の使用量
は、導電性粒子の導電性に影響を与えない範囲で適宜選
択されるが、導電性粒子表面におけるカップリング剤の
被覆率(導電性芯粒子の表面積に対するカップリング剤
の被覆面積の割合)が5%以上となる量であることが好
ましく、より好ましくは上記被覆率が7〜100%、さ
らに好ましくは10〜100%、特に好ましくは20〜
100%となる量である。
As the conductive particles, those whose surfaces have been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be used as appropriate. By treating the surface of the conductive particles with the coupling agent, the adhesion between the conductive particles and the elastic polymer material is increased, and as a result, the conductive portion of the obtained anisotropic conductive sheet has a repetitive structure. The durability in use becomes high. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles. However, the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles (the ratio of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles). Is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, more preferably 10 to 100%, and particularly preferably 20 to 100%.
It is an amount that becomes 100%.

【0041】このような導電性粒子は、得られる異方導
電性シートの導電部における導電性粒子の割合が体積分
率で30〜60%、好ましくは35〜50%となる割合
で用いられることが好ましい。この割合が30%未満の
場合には、十分に電気抵抗値の小さい導電部が得られな
いことがある。一方、この割合が60%を超える場合に
は、得られる異方導電性シートの導電部は脆弱なものと
なりやすく、導電部として必要な弾性が得られないこと
がある。
Such conductive particles are used in such a proportion that the proportion of the conductive particles in the conductive portion of the obtained anisotropic conductive sheet is 30 to 60% by volume, preferably 35 to 50%. Is preferred. If this ratio is less than 30%, a conductive portion having a sufficiently low electric resistance may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 60%, the conductive part of the obtained anisotropic conductive sheet tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive part may not be obtained.

【0042】シート成形材料中には、高分子物質用材料
を硬化させるための硬化触媒を含有させることができ
る。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、脂肪
酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いることが
できる。 硬化触媒として用いられる有機過酸化物の具
体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシクロ
ベンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリーブ
チルなどが挙げられる。硬化触媒として用いられる脂肪
酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチロニ
トリルなどが挙げられる。ヒドロシリル化反応の触媒と
して使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸およ
びその塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレック
ス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、白金
と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとのコン
プレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホスファ
イトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテート白
金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックスなど
の公知のものが挙げられる。硬化触媒の使用量は、高分
子物質用材料の種類、硬化触媒の種類、その他の硬化処
理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分子物質
用材料100重量部に対して3〜15重量部である。
The sheet molding material may contain a curing catalyst for curing the polymer material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of the catalyst which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a siloxane complex containing a platinum-unsaturated group, a complex of vinylsiloxane and platinum, and platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane. And a complex of triorganophosphine or phosphite with platinum, acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum. The amount of the curing catalyst used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer material, the type of the curing catalyst, and other curing conditions. 15 parts by weight.

【0043】また、シート成形材料中には、必要に応じ
て、通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシ
リカ、アルミナなどの無機充填材を含有させることがで
きる。このような無機充填材を含有させることにより、
当該シート成形材料のチクソトロピー性が確保され、そ
の粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散安定性が
向上すると共に、得られる異方導電性シートの強度が高
くなる。このような無機充填材の使用量は、特に限定さ
れるものではないが、多量に使用すると、磁場による導
電性粒子の配向を十分に達成することができなくなるた
め、好ましくない。また、シート成形材料の粘度は、温
度25℃において10000〜1000000cpの範
囲内であることが好ましい。
The sheet molding material may contain, if necessary, an ordinary inorganic filler such as silica powder, colloidal silica, airgel silica, and alumina. By including such an inorganic filler,
The thixotropy of the sheet molding material is ensured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the strength of the obtained anisotropic conductive sheet is increased. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but using a large amount is not preferable because the orientation of the conductive particles cannot be sufficiently achieved by the magnetic field. The viscosity of the sheet molding material is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000 cp at a temperature of 25 ° C.

【0044】そして、異方導電性シート成形金型の上型
および下型に電磁石を配置してこれを作動させることに
より、上型および下型を介して、シート成形材料層1A
の厚み方向に強度分布を有する磁場を作用させる。具体
的には、シート成形材料層1Aにおける導電部を形成す
べき部分(以下、「導電部形成部分」ともいう。)すな
わち高磁場形成部H間に位置する部分には、最も大きい
磁束密度BH を有する磁場が作用され、導電部形成部分
の周辺部分すなわち中磁場形成部M間に位置する部分に
は、導電部形成部分における磁束密度BH よりも小さい
磁束密度BM を有する磁場が作用され、導電部形成部分
およひその周辺部分以外の部分すなわち低磁場形成部L
間に位置する部分には、中磁場形成部M間に位置する部
分における磁束密度BM よりも更に小さい磁束密度B L
を有する磁場が形成される。その結果、シート成形材料
層1Aにおいては、当該シート成形材料層1A中に分散
されていた導電性粒子のうち、低磁場形成部L間に位置
する部分に存在する導電性粒子は、中磁場形成部M間に
位置する部分すなわち導電部形成部分の周辺部分に移動
する。また、中磁場形成部M間に位置する部分に存在す
る導電性粒子は、高磁場形成部H間に位置する部分すな
わち導電部形成部分に移動する。このようにして、シー
ト成形材料層1A中に分散されていた導電性粒子の全部
または大部分が、図17に示すように、シート成形材料
層1Aにおける導電部形成部分に集合し、更に好ましく
は当該シート成形材料層1Aの厚み方向に配向する。
Then, the upper die of the mold for forming the anisotropic conductive sheet
And placing an electromagnet on the lower mold to activate it
Through the upper mold and the lower mold to form the sheet molding material layer 1A.
A magnetic field having an intensity distribution in the thickness direction is applied. Concrete
Specifically, a conductive portion in the sheet molding material layer 1A is formed.
Part to be formed (hereinafter, also referred to as “conductive part forming part”)
That is, the portion located between the high magnetic field forming portions H has the largest size.
Magnetic flux density BHA magnetic field having a force is applied, and a conductive portion forming portion is formed.
In the peripheral portion of, that is, the portion located between the middle magnetic field forming portions M
Is the magnetic flux density B at the conductive portion forming portion.HLess than
Magnetic flux density BMA magnetic field having a force is applied, and a conductive portion forming portion is formed.
And a portion other than its peripheral portion, that is, a low magnetic field forming portion L
The part located between them is the part located between the middle magnetic field forming parts M
Flux density B in minutesMEven smaller magnetic flux density B L
Is formed. As a result, the sheet molding material
The layer 1A is dispersed in the sheet forming material layer 1A.
Of the conductive particles that have been positioned between the low magnetic field forming portions L
The conductive particles present in the part where
Move to the part that is located, that is, the peripheral part of the conductive part forming part
I do. Also, it exists in a portion located between the middle magnetic field forming portions M.
Conductive particles are located between the high magnetic field forming portions H.
That is, it moves to the conductive portion forming portion. In this way, the sea
Of the conductive particles dispersed in the molding material layer 1A
Or most of the time, as shown in FIG.
Collected in the conductive portion forming portion of the layer 1A, more preferably
Are oriented in the thickness direction of the sheet forming material layer 1A.

【0045】以上において、シート成形材料層における
導電部形成部分の周辺部分に作用される磁場の磁束密度
M は、当該導電部形成部分に作用される磁場の磁束密
度B H の30〜90%であることが好ましく、より好ま
しくは30〜60%である。また、導電部形成部分およ
びその周辺部分以外の部分に作用される磁場の磁束密度
L は、導電部形成部分の周辺部分に作用される磁場の
磁束密度BM の80%以下であることが好ましい。以上
において、磁束密度BM が磁束密度BH の30%未満で
ある場合には、磁束密度BM と磁束密度BL との差(絶
対値)が過小となるため、シート成形材料層における導
電部形成部分およびその周辺部分以外の部分に存在する
導電性粒子を、導電部形成部分の周辺部分に確実に移動
させることが困難となることがある。一方、磁束密度B
M が磁束密度BH の90%を超える場合には、磁束密度
Hと磁束密度BM との差(絶対値)か過小となるた
め、シート成形材料層における導電部形成部分の周辺部
分に存在する導電性粒子を、導電部形成部分に確実に移
動させることが困難となることがある。また、磁束密度
L が磁束密度BM の80%を超える場合には、磁束密
度BMと磁束密度BL との差(絶対値)が過小となるた
め、シート成形材料層における導電部形成部分およびそ
の周辺部分以外の部分に存在する導電性粒子を、導電部
形成部分の周辺部分に確実に移動させることが困難とな
ることがある。
In the above, in the sheet forming material layer
Magnetic flux density of the magnetic field applied to the periphery of the conductive part
BMIs the magnetic flux density of the magnetic field applied to the conductive part.
Degree B HIs preferably 30% to 90%, more preferably
Or 30 to 60%. In addition, the conductive part forming part and
Density of the magnetic field applied to parts other than the surrounding area
BLIs the magnetic field applied to the periphery of the conductive part.
Magnetic flux density BMIs preferably 80% or less. that's all
, The magnetic flux density BMIs the magnetic flux density BHLess than 30% of
In some cases, the magnetic flux density BMAnd magnetic flux density BLDifference between
Value) is too small, so that the
Exists in parts other than the electrical part forming part and its surrounding parts
Reliable transfer of conductive particles to the area around the conductive part
Can be difficult. On the other hand, the magnetic flux density B
MIs the magnetic flux density BHOver 90% of the magnetic flux density
BHAnd magnetic flux density BMOr the difference (absolute value) is too small
Around the conductive part forming part in the sheet molding material layer
Conductive particles present in the conductive part
Can be difficult to move. Also, the magnetic flux density
BLIs the magnetic flux density BMOver 80% of the magnetic flux density
Degree BMAnd magnetic flux density BLDifference (absolute value) becomes too small
Therefore, the conductive part forming portion and the sheet forming material layer
Conductive particles that are present in areas other than the surrounding area
It is difficult to reliably move to the peripheral part of the forming part.
Sometimes.

【0046】シート成形材料層1Aにおける導電部形成
部分に作用される磁場の磁束密度B H は、平均で0.0
2〜1Wb/m2 であることが好ましい。シート成形材
料層1Aにおける導電部形成部分に作用される磁場の磁
束密度B H と当該導電部形成部分の周辺部分に作用され
る磁場の磁束密度BM との差(絶対値)は、0.01〜
0.09Wb/m2 であることが好ましく、より好まし
くは0.02〜0.09Wb/m2 である。シート成形
材料層1Aにおける導電部形成部分の周辺部分に作用さ
れる磁場の磁束密度BM と導電部形成部分およびその周
辺部分以外の部分に作用される磁場の磁束密度BL との
差(絶対値)は、0.08Wb/m2 以下であることが
好ましく、より好ましくは0.06Wb/m2 以下であ
る。
Formation of conductive part in sheet molding material layer 1A
Flux density B of the magnetic field applied to the part HIs 0.0
2-1 Wb / mTwoIt is preferred that Sheet molding material
Of the magnetic field applied to the conductive portion forming portion in the material layer 1A
Bundle density B HAnd the peripheral portion of the conductive portion forming portion
Flux density B of the magnetic fieldM(Absolute value) is 0.01 to
0.09Wb / mTwoIs preferred, and more preferred
0.02 to 0.09 Wb / mTwoIt is. Sheet molding
Acting on the peripheral portion of the conductive layer forming portion in the material layer 1A
The magnetic flux density B of the magnetic fieldMAnd the conductive part forming part and its periphery
The magnetic flux density B of the magnetic field applied to portions other than the side portionsLWith
The difference (absolute value) is 0.08 Wb / mTwoTo be
Preferably, more preferably, 0.06 Wb / mTwoBelow
You.

【0047】平行磁場を作用させる手段としては、電磁
石の代わりに永久磁石を用いることもできる。このよう
な永久磁石としては、上記の範囲の平行磁場の強度が得
られる点で、アルニコ(Fe−Al−Ni−Co系合
金)、フェライトなどよりなるものが好ましい。
As means for applying a parallel magnetic field, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet. As such a permanent magnet, those made of alnico (Fe-Al-Ni-Co-based alloy), ferrite, or the like are preferable in that a parallel magnetic field strength in the above range can be obtained.

【0048】そして、この状態において、シート成形材
料層1Aを硬化処理して異方導電性シート成形金型から
離型させることにより、図18に示すように、導電性粒
子が密に充填された導電部2と、導電性粒子が全くある
いは殆ど存在しない絶縁部3とを有する異方導電性シー
ト1が得られる。シート成形材料層1Aの硬化処理は、
使用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱
処理によって行われる。加熱によりシート成形材料層1
Aの硬化処理を行う場合において、具体的な加熱温度お
よび加熱時間は、シート成形材料層1Aを構成する高分
子物質用材料などの種類、導電性粒子の移動に要する時
間などを考慮して適宜選定される。また、シート成形材
料層1Aの硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状
態で行うこともできるが、平行磁場の作用を停止させた
後に行うこともできる。このようにして得られる導電部
2は、導電性粒子が異方導電性シート1の厚み方向に並
ぶよう配向しているため、導電性粒子の割合が小さくて
も良好な導電性が得られる。
Then, in this state, the sheet forming material layer 1A was cured and released from the anisotropic conductive sheet forming die, so that the conductive particles were densely filled as shown in FIG. An anisotropic conductive sheet 1 having a conductive portion 2 and an insulating portion 3 having no or almost no conductive particles is obtained. The curing treatment of the sheet molding material layer 1A is as follows.
Although it is appropriately selected depending on the material used, it is usually performed by a heat treatment. Sheet forming material layer 1 by heating
In the case of performing the curing treatment of A, the specific heating temperature and heating time are appropriately determined in consideration of the type of the material for the polymer substance constituting the sheet molding material layer 1A, the time required for the movement of the conductive particles, and the like. Selected. The curing treatment of the sheet molding material layer 1A can be performed in a state where the parallel magnetic field is applied, but can also be performed after stopping the operation of the parallel magnetic field. In the conductive portion 2 thus obtained, since the conductive particles are oriented so as to be arranged in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet 1, good conductivity can be obtained even if the ratio of the conductive particles is small.

【0049】このような方法によれば、シート成形材料
層に作用される磁場は、導電部形成部分の周辺部分にお
ける磁束密度BM が当該導電部形成部分における磁束密
度B H より低く、かつ、導電部形成部分およびその周辺
部分以外の部分における磁束密度BL が当該導電部形成
部分の周辺部分における磁束密度BM より低いため、当
該シート成形材料層における導電部形成部分およびその
周辺部分以外の部分に存在する導電性粒子は、導電部形
成部分の周辺部分に移動させ、その後、導電部形成部分
に移動させることができる。従って、導電部形成部分ま
での距離が相当に長い個所に存在する導電性粒子を、当
該導電部形成部分に確実に移動させることができるの
で、非機能領域の面積が大きいものであっても、導電部
に所要の量の導電性粒子が充填され、かつ、絶縁部に存
在する導電性粒子がないまたは極めて少ない異方導電性
シートを製造することができる。
According to such a method, the sheet molding material
The magnetic field applied to the layer is applied to the area around the conductive part.
Magnetic flux density BMIs the magnetic flux density in the conductive part formation part.
Degree B HLower and conductive part forming part and its periphery
Magnetic flux density B in other partsLIs the conductive part
Flux density B in the peripheral part of the partMLower
Conductive part forming part in the sheet molding material layer and the conductive part forming part
The conductive particles present in the parts other than the peripheral part are
To the periphery of the component, and then
Can be moved. Therefore, the conductive part formation part
Conductive particles located at locations where the distance in the
It can be reliably moved to the conductive part forming part.
Even if the area of the non-functional region is large, the conductive portion
Is filled with the required amount of conductive particles, and
No or very few anisotropic conductive particles
Sheets can be manufactured.

【0050】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明においては、上記の実施の形態に限られず
種々の変更を加えることが可能である。 (1)本発明の金型を製造する方法は、前述の第1の方
法およひ第2の方法に限定されるものではなく、例えば
第1の突出磁性体部の形成方法としては、エッチングに
よる方法の代わりに、磁性体基板の表面をメッキ処理す
る方法、磁性体基板の表面に磁性体よりなる薄板を適宜
の手段により接着する方法などを採用することができ
る。 (2)本発明の金型の具体的構成は、高磁場形成部、中
磁場形成部および低磁場形成部を有するものであれば、
図1に示すものに限定されず、種々の構成を採用するこ
とができる。例えば、非磁性体層およびキャビティ形成
層は、本発明の金型に必須のものではない。また、高磁
場形成部および中磁場形成部は、第1の突出磁性体部お
よび第2の突出磁性体による構成以外の構成であっても
よい。 (3)異方導電性シートの製造方法は、シート成形材料
層に作用される磁場において、導電部形成部分における
磁束密度BH と、当該導電部形成部分の周辺部分におけ
る磁束密度BM と、当該導電部形成部分およびその周辺
部分以外の部分における磁束密度BL とが、BH >BM
>BL となる条件が達成されれば、図1に示す金型を用
いる方法に限定されず、種々の方法を採用することがで
きる。
The embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and various changes can be made. (1) The method of manufacturing the mold of the present invention is not limited to the above-described first method and second method. For example, as a method of forming the first protruding magnetic body, etching may be performed by etching. Instead of the above method, a method of plating the surface of the magnetic substrate, a method of bonding a thin plate made of a magnetic material to the surface of the magnetic substrate by appropriate means, or the like can be adopted. (2) The specific configuration of the mold according to the present invention includes a high magnetic field forming unit, a medium magnetic field forming unit, and a low magnetic field forming unit.
The configuration is not limited to the one shown in FIG. 1, and various configurations can be adopted. For example, the nonmagnetic layer and the cavity forming layer are not essential for the mold of the present invention. Further, the high magnetic field forming section and the medium magnetic field forming section may have a configuration other than the configuration using the first protruding magnetic body section and the second protruding magnetic body. (3) The method for producing an anisotropic conductive sheet is characterized in that, in a magnetic field applied to a sheet forming material layer, a magnetic flux density B H in a conductive portion forming portion, a magnetic flux density B M in a peripheral portion of the conductive portion forming portion, The magnetic flux density B L in the portion other than the conductive portion forming portion and its peripheral portion is B H > B M
As long as the condition of> BL is achieved, the method is not limited to the method using the mold shown in FIG. 1 and various methods can be adopted.

【0051】[0051]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0052】〈実施例1〉 (1)異方導電性シート成形用金型の製造:厚み(D
1)が6mmのA4サイズの鉄板(11)を用意し、こ
の鉄板(11)の一面に、厚みが50μmのドライフィ
ルムレジストをラミネートし、高圧水銀灯を光源として
80mJ/cm2 の露光量で露光処理を行った後、現像
液として1%炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて1分間
スプレー現像することにより、形成すべき第2の突出磁
性体部に対応するパターンに従ってレジスト層(21)
を形成した(図2および図3参照)。そして、エッチン
グ液として塩化第二鉄水溶液(ボーメ濃度40)を用
い、スプレー法により、40℃、1.5分間の条件でエ
ッチング処理することにより、複数の第2の突出磁性体
部(20)を形成した(図4参照)。この第2の突出磁
性体部(20)は、面方向の寸法が350μm×350
μm(面方向の断面積が0.035mm2 )、突出高さ
(h2)が100μmであり、500μmのピッチで、
矩形の四辺に沿って枠状に配列されており、第2の突出
磁性体部(20)によって囲まれる矩形の寸法が8mm
×12mmである。
Example 1 (1) Production of Mold for Forming Anisotropic Conductive Sheet: Thickness (D
1) Prepare an A4 size iron plate (11) having a thickness of 6 mm, laminate a dry film resist having a thickness of 50 μm on one surface of the iron plate (11), and expose with a high pressure mercury lamp as a light source at an exposure amount of 80 mJ / cm 2. After the treatment, the resist layer (21) is spray-developed for 1 minute using a 1% aqueous sodium hydrogencarbonate solution as a developing solution according to a pattern corresponding to the second protruding magnetic body portion to be formed.
Was formed (see FIGS. 2 and 3). Then, by using a ferric chloride aqueous solution (Bohm concentration 40) as an etching solution and performing an etching treatment at 40 ° C. for 1.5 minutes by a spray method, a plurality of second protruding magnetic portions (20) are formed. Was formed (see FIG. 4). The second protruding magnetic body (20) has a dimension in the plane direction of 350 μm × 350.
μm (the cross-sectional area in the plane direction is 0.035 mm 2 ), the protrusion height (h2) is 100 μm, and the pitch is 500 μm.
It is arranged in a frame shape along the four sides of the rectangle, and the size of the rectangle surrounded by the second protruding magnetic body (20) is 8 mm.
× 12 mm.

【0053】次いで、第2の突出磁性体部(20)の表
面からレジスト層(21)を除去した後、第2の突出磁
性体部(20)の表面およびその周辺部の表面に、厚み
が50μmのドライフィルムレジストをラミネートし、
高圧水銀灯を光源として80mJ/cm2 の露光量で露
光処理を行った後、現像液として1%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を用いて1分間スプレー現像することにより、
形成すべき第1の突出磁性体部に対応してレジスト層
(22)を形成した(図5参照)。そして、エッチング
液として塩化第二鉄水溶液(ボーメ濃度40)を用い、
スプレー法により、40℃、3分間の条件でエッチング
処理することにより、磁性体基板(10)およびこの磁
性体基板(10)の表面から突出する第1の突出磁性体
部(15)を形成した(図6参照)。磁性体基板(1
0)の厚み(D)は4.64mmであり、第1の突出磁
性体部(15)は、矩形の枠状の形状を有し、その外周
の寸法が9mm×13mm、内周の寸法が4mm×8m
m、面方向の断面積が0.75mm2 (第2の突出磁性
体部の断面積の21倍)である。また、磁性体基板(1
0)の厚みは4.64mmである。
Next, after removing the resist layer (21) from the surface of the second protruding magnetic body portion (20), the thickness of the surface of the second protruding magnetic body portion (20) and the peripheral surface thereof is reduced. Laminate 50μm dry film resist,
After performing an exposure process using a high-pressure mercury lamp as a light source at an exposure amount of 80 mJ / cm 2 , spray development is performed for 1 minute using a 1% aqueous sodium hydrogen carbonate solution as a developing solution.
A resist layer (22) was formed corresponding to the first protruding magnetic body to be formed (see FIG. 5). Then, using an aqueous solution of ferric chloride (Bohm concentration 40) as an etching solution,
The magnetic substrate (10) and the first protruding magnetic portion (15) protruding from the surface of the magnetic substrate (10) were formed by etching at 40 ° C. for 3 minutes by a spray method. (See FIG. 6). Magnetic substrate (1
The thickness (D) of (0) is 4.64 mm, the first protruding magnetic body (15) has a rectangular frame shape, the outer dimension is 9 mm × 13 mm, and the inner dimension is 4mm x 8m
m, the cross-sectional area in the plane direction is 0.75 mm 2 (21 times the cross-sectional area of the second protruding magnetic body portion). In addition, the magnetic substrate (1
The thickness of 0) is 4.64 mm.

【0054】次いで、第1の突出磁性体部(15)の表
面および第2の突出磁性体部(20)の表面からレジス
ト層(22)を除去した後、磁性体基板(10)の表面
および第1の突出磁性体部(15)の表面にアクリル系
樹脂材料を塗布して熱硬化性樹脂層を形成し、当該熱硬
化性樹脂材料層を、160℃、120分間の条件で硬化
処理することにより、非磁性体層(30)を形成した
(図7参照)。そして、非磁性体層(30)および第2
の突出磁性体部(20)の表面に、厚みが50μmのド
ライフィルムレジストをラミネートすることにより、フ
ォトレジスト層(37)を形成した。このフォトレジス
ト層(37)の表面に、形成すべきキャビティ形成層の
孔に対応するパターンに従って放射線遮光部が形成され
たマスクを位置合わせして配置し、当該フォトレジスト
層(37)に対して、高圧水銀灯を光源として80mJ
/cm2 の露光量で放射線照射処理を行った後、現像液
として1%炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて1分間ス
プレー現像を行うことにより、キャビティ形成層を形成
して下型を製造した。また、上記の方法と同様にして、
第2の突出磁性体部、第1の突出磁性体部、磁性体基
板、非磁性体層およびキャビティ形成層を形成すること
により、上記の下型と対となる上型を製造し、目的とす
る異方導電性シート成形用金型を製造した。
Next, after the resist layer (22) is removed from the surface of the first protruding magnetic body (15) and the surface of the second protruding magnetic body (20), the surface of the magnetic substrate (10) and An acrylic resin material is applied to the surface of the first protruding magnetic body portion (15) to form a thermosetting resin layer, and the thermosetting resin material layer is cured at 160 ° C. for 120 minutes. Thus, a nonmagnetic layer (30) was formed (see FIG. 7). Then, the nonmagnetic layer (30) and the second
A photoresist layer (37) was formed by laminating a dry film resist having a thickness of 50 μm on the surface of the protruding magnetic body portion (20). On the surface of the photoresist layer (37), a mask on which a radiation shielding portion is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to a hole of a cavity forming layer to be formed. 80mJ using high pressure mercury lamp as light source
After performing a radiation irradiation treatment at an exposure amount of / cm 2 , a lower mold was manufactured by forming a cavity forming layer by performing spray development for 1 minute using a 1% aqueous sodium hydrogen carbonate solution as a developing solution. In the same manner as above,
By forming the second protruding magnetic body portion, the first protruding magnetic body portion, the magnetic substrate, the non-magnetic material layer, and the cavity forming layer, an upper mold paired with the lower mold is manufactured. An anisotropic conductive sheet molding die was manufactured.

【0055】(2)異方導電性シートの製造:上型およ
び下型の成形面に、フッ素系離型剤「ダイフリーA44
1」(ダイキン工業社製)をスプレー塗布した。次い
で、枠状スペーサとして厚みが100μmのポリイミド
シートを用い、室温硬化型シリコーンゴム中に平均粒子
径が40μmのニッケル粒子が25体積%となる割合で
含有されてなるシート成形材料を金型内に注入した。こ
の金型における上型の上面および下型の下面に電磁石を
配置して作動させ、この状態で、120℃で30分間の
条件で加熱処理することにより、絶縁部の表面から突出
した導電部を有する異方導電性シートを製造した。以上
において、上型および下型における第2の突出磁性体部
の間に作用される磁場の磁束密度が0.8Wb/m2
第1の突出磁性体部(第2の突出磁性体部が存在する部
分を除く)の間に作用される磁場の磁束密度が0.4W
b/m2 、磁性体基板(第1の突出磁性体部が存在する
部分を除く)の間に作用される磁場の磁束密度が0.3
Wb/m2 であった。得られた各異方導電性シートは、
厚みが0.18mmの絶縁部を有し、面方向における寸
法が350μm×350μmで、突出高さが50μmの
導電部が、500μmのピッチで矩形の四辺に沿って枠
状に配置されてなるものであった。
(2) Production of anisotropic conductive sheet: A fluorine-based release agent “Daifree A44” was applied to the molding surfaces of the upper and lower molds.
1 "(manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was spray applied. Next, a polyimide sheet having a thickness of 100 μm is used as a frame-shaped spacer, and a sheet molding material in which nickel particles having an average particle diameter of 40 μm are contained in a room-temperature-curable silicone rubber in a ratio of 25% by volume is placed in a mold. Injected. An electromagnet is disposed on the upper surface of the upper die and the lower surface of the lower die in this mold and operated. In this state, the conductive portion protruding from the surface of the insulating portion is heated by heating at 120 ° C. for 30 minutes. An anisotropic conductive sheet having the same was manufactured. As described above, the magnetic flux density of the magnetic field applied between the second protruding magnetic body portions in the upper mold and the lower mold is 0.8 Wb / m 2 ,
The magnetic flux density of the magnetic field applied between the first protruding magnetic body portion (excluding the portion where the second protruding magnetic body portion exists) is 0.4 W
b / m 2 , and the magnetic flux density of the magnetic field applied between the magnetic substrate (excluding the portion where the first protruding magnetic portion exists) is 0.3
Wb / m 2 . Each obtained anisotropic conductive sheet,
Conductive parts having an insulating part with a thickness of 0.18 mm, dimensions in the plane direction of 350 μm × 350 μm, and a protrusion height of 50 μm, are arranged in a frame along the four sides of a rectangle at a pitch of 500 μm. Met.

【0056】(3)異方導電性シートの評価:図19に
示すように、得られた異方導電性シート1について、抵
抗測定器40(日置電機社製「ミリオームハイテスタ
ー」)、プローブピン41、短絡板42、リード線43
により構成された抵抗測定装置を用いて導電部2の電気
抵抗を測定したところ、200mΩであり、高い導電性
を有するものであることが確認された。また、この抵抗
測定装置を用いて絶縁部3の厚み方向の電気抵抗を非機
能領域の10個所において測定したところ、その最小値
が3MΩであった。また、図20に示すように、抵抗測
定器40(日置電機社製「ミリオームハイテスタ
ー」)、一対のプローブピン41、リード線43により
構成された抵抗測定装置を用いて、異方導電性シート1
における隣接する導電部2間の電気抵抗を測定したとこ
ろ、2MΩであった。また、異方導電性シートの非機能
領域を観察したところ、当該非機能領域に存在する導電
性粒子は殆ど認められなかった。
(3) Evaluation of anisotropically conductive sheet: As shown in FIG. 19, the obtained anisotropically conductive sheet 1 was subjected to a resistance measuring instrument 40 (“Milliohm High Tester” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) and a probe pin. 41, short-circuit plate 42, lead wire 43
When the electric resistance of the conductive part 2 was measured using the resistance measuring device constituted by the above, it was 200 mΩ, and it was confirmed that the conductive part 2 had high conductivity. Further, when the electric resistance in the thickness direction of the insulating portion 3 was measured at 10 points in the non-functional region using this resistance measuring apparatus, the minimum value was 3 MΩ. As shown in FIG. 20, an anisotropic conductive sheet is formed by using a resistance measuring device 40 ("Milliohm Hi Tester" manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), a pair of probe pins 41, and a lead wire 43. 1
When the electric resistance between the adjacent conductive parts 2 was measured, it was 2 MΩ. When the non-functional region of the anisotropic conductive sheet was observed, almost no conductive particles were present in the non-functional region.

【0057】〈比較例1〉第1の突出磁性体部および第
2の突出磁性体部の代わりに面方向の寸法が350μm
×350μm、突出高さが360μmの突出磁性体部
が、500μmのピッチで矩形の四辺に沿って枠状に配
列されていること以外は、実施例1に係る異方導電性シ
ート成形金型と同様の構成の異方導電性シート成形用金
型を製造し、実施例1と同様にして異方導電性シートを
製造した。以上において、上型および下型における突出
磁性体部の間に作用される磁場の磁束密度が0.8Wb
/m2 、当該突出磁性体部以外の部分の間に作用される
磁場の磁束密度が0.3Wb/m2 であった。得られた
異方導電性シートについて、実施例1と同様の評価を行
った。その結果、導電部の電気抵抗の値が300mΩ、
絶縁部の厚み方向の電気抵抗の最小値が2MΩ、隣接す
る導電部間の電気抵抗の値が1MΩであった。また、こ
の異方導電性シートの非機能領域を観察したところ、当
該非機能領域に存在する導電性粒子が多数認められた。
<Comparative Example 1> Instead of the first protruding magnetic body and the second protruding magnetic body, the dimension in the plane direction was 350 μm.
The anisotropic conductive sheet molding die according to Example 1, except that the protruding magnetic body portions having a size of × 350 μm and a protruding height of 360 μm are arranged in a frame along four sides of a rectangle at a pitch of 500 μm. A mold for forming an anisotropic conductive sheet having the same configuration was manufactured, and an anisotropic conductive sheet was manufactured in the same manner as in Example 1. As described above, the magnetic flux density of the magnetic field applied between the protruding magnetic body portions in the upper mold and the lower mold is 0.8 Wb.
/ M 2, the magnetic flux density of the magnetic field acting between the parts other than the projecting magnetic portion was 0.3Wb / m 2. The same evaluation as in Example 1 was performed on the obtained anisotropic conductive sheet. As a result, the value of the electric resistance of the conductive portion was 300 mΩ,
The minimum value of the electric resistance in the thickness direction of the insulating part was 2 MΩ, and the value of the electric resistance between adjacent conductive parts was 1 MΩ. When the non-functional region of the anisotropic conductive sheet was observed, a large number of conductive particles existing in the non-functional region were found.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の金型によれば、高磁場形成部の
周囲に中磁場形成部を介して低磁場形成部が設けられて
いるため、その成形空間内に形成された導電性粒子が分
散されてなるシート成形材料層において、当該シート成
形材料層における低磁場形成部上に位置する部分に存在
する導電性粒子は、当該部分より磁束密度の高い磁場が
作用する中磁場形成部Mに位置する部分に移動し、その
後、当該部分より磁束密度の高い磁場が作用する高磁場
形成部上に位置する部分、すなわち導電部を形成すべき
部分に移動する。従って、高磁場形成部上に位置する部
分までの距離が相当に長い個所に存在する導電性粒子
を、当該高磁場形成部上に位置する部分に確実に移動さ
せることができるので、非機能領域の面積が大きいもの
であっても、導電部に所要の量の導電性粒子が充填さ
れ、かつ、絶縁部に存在する導電性粒子がないまたは極
めて少ない異方導電性シートを成形することができる。
According to the mold of the present invention, since the low magnetic field forming portion is provided around the high magnetic field forming portion via the medium magnetic field forming portion, the conductive particles formed in the molding space are provided. Are dispersed in the sheet molding material layer, the conductive particles present in the portion of the sheet molding material layer located on the low magnetic field forming portion are the medium magnetic field forming portions M where a magnetic field having a higher magnetic flux density acts than the portion. Then, it moves to a portion located on the high magnetic field forming portion where a magnetic field having a higher magnetic flux density acts than that portion, that is, a portion where a conductive portion is to be formed. Therefore, the conductive particles present at a location where the distance to the portion located on the high magnetic field forming portion is considerably long can be reliably moved to the portion located on the high magnetic field forming portion, and the non-functional region Even if the area is large, the conductive portion is filled with a required amount of conductive particles, and the anisotropic conductive sheet having no or very few conductive particles present in the insulating portion can be formed. .

【0059】本発明の異方導電性シートの製造方法によ
れば、シート成形材料層に作用される磁場は、導電部形
成部分の周辺部分における磁束密度BM が当該導電部形
成部分における磁束密度BH より低く、かつ、導電部形
成部分およびその周辺部分以外の部分における磁束密度
L が当該導電部形成部分の周辺部分における磁束密度
M より低いため、当該シート成形材料層における導電
部形成部分およびその周辺部分以外の部分に存在する導
電性粒子は、導電部形成部分の周辺部分に移動させ、そ
の後、導電部形成部分に移動させることができる。従っ
て、導電部形成部分までの距離が相当に長い個所に存在
する導電性粒子を、当該導電部形成部分に確実に移動さ
せることができるので、非機能領域の面積が大きいもの
であっても、導電部に所要の量の導電性粒子が充填さ
れ、かつ、絶縁部に存在する導電性粒子がないまたは極
めて少ない異方導電性シートを製造することができる。
According to the method for producing an anisotropic conductive sheet of the present invention, the magnetic field applied to the sheet forming material layer is such that the magnetic flux density B M in the peripheral portion of the conductive portion forming portion is the magnetic flux density in the conductive portion forming portion. B H and the magnetic flux density B L in portions other than the conductive portion forming portion and its peripheral portion is lower than the magnetic flux density B M in the peripheral portion of the conductive portion forming portion. The conductive particles present in the portion other than the portion and the peripheral portion thereof can be moved to the peripheral portion of the conductive portion forming portion, and then can be moved to the conductive portion forming portion. Therefore, since the conductive particles present at a place where the distance to the conductive portion forming portion is considerably long can be reliably moved to the conductive portion forming portion, even if the area of the non-functional region is large, It is possible to manufacture an anisotropic conductive sheet in which the conductive portion is filled with a required amount of conductive particles and has no or very few conductive particles existing in the insulating portion.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る異方導電性シート成形用金型の一
例における下型の要部の構成を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a lower mold in an example of a mold for forming an anisotropic conductive sheet according to the present invention.

【図2】図1に示す異方導電性シート成形用金型の製造
に用いられる磁性体の板状体の一例を示す説明用断面図
である。
FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view illustrating an example of a magnetic plate-like body used in manufacturing the anisotropic conductive sheet molding die illustrated in FIG.

【図3】図2に示す板状体の一面にレジスト層が形成さ
れた状態を示す説明用断面図である。
FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a resist layer is formed on one surface of the plate-like body shown in FIG. 2;

【図4】板状体に第2の突出磁性体部が形成された状態
を示す説明用断面図である。
FIG. 4 is an explanatory sectional view showing a state in which a second protruding magnetic body portion is formed on a plate-like body.

【図5】第2の突出磁性体部の表面にレジスト層が形成
された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 5 is an explanatory sectional view showing a state in which a resist layer is formed on the surface of a second protruding magnetic body.

【図6】磁性体基板および第1の突出磁性体部が形成さ
れた状態を示す説明用断面図である。
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a magnetic substrate and a first protruding magnetic body are formed.

【図7】磁性体基板および第1の突出磁性体部の表面に
非磁性体層が形成された状態を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a nonmagnetic layer is formed on the surfaces of a magnetic substrate and a first protruding magnetic body.

【図8】第2の突出磁性体部および非磁性体層の表面に
フォトレジスト層が形成された状態を示す説明用断面図
である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a photoresist layer is formed on the surfaces of a second protruding magnetic body portion and a non-magnetic material layer.

【図9】図1に示す異方導電性シート成形用金型の製造
に用いられる磁性体の板状体の他の例を示す説明用断面
図である。
9 is an explanatory cross-sectional view showing another example of a magnetic plate member used for manufacturing the mold for forming an anisotropic conductive sheet shown in FIG. 1;

【図10】図9に示す板状体の一面にレジスト層が形成
された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a resist layer is formed on one surface of the plate-like body shown in FIG. 9;

【図11】磁性体基板およひ第1の突出磁性体部が形成
された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a magnetic substrate and a first protruding magnetic member are formed.

【図12】磁性体基板の表面に非磁性体基層部分が形成
された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a nonmagnetic base layer portion is formed on the surface of a magnetic substrate.

【図13】非磁性体基層部分および第1の突出磁性体部
の表面にフォトレジス層が形成された状態を示す説明用
断面図である。
FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a photoresist layer is formed on the surface of the nonmagnetic base layer portion and the first protruding magnetic body portion.

【図14】非磁性体層が形成された状態を示す説明用断
面図である。
FIG. 14 is an explanatory sectional view showing a state where a nonmagnetic layer is formed.

【図15】第1の突出磁性体の表面上に第2の突出磁性
体部が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a second protruding magnetic body is formed on the surface of the first protruding magnetic body.

【図16】異方導電性シート成形用金型内に成形材料層
が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a molding material layer is formed in a mold for molding an anisotropic conductive sheet.

【図17】異方導電性シート成形用金型内の成形材料層
に強度分布を有する磁場が作用された状態を示す説明用
断面図である。
FIG. 17 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a magnetic field having an intensity distribution is applied to a molding material layer in a mold for molding an anisotropic conductive sheet.

【図18】本発明の製造方法によって得られる異方導電
性シートの一例における構成を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 18 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of an anisotropic conductive sheet obtained by a manufacturing method of the present invention.

【図19】実施例において製造した異方導電性シートに
おける導電部の抵抗を測定するための装置を示す説明図
である。
FIG. 19 is an explanatory view showing an apparatus for measuring the resistance of a conductive portion in an anisotropic conductive sheet manufactured in an example.

【図20】実施例において製造した異方導電性シートに
おける隣接する導電部間の抵抗を測定するための装置を
示す説明図である。
FIG. 20 is an explanatory view showing an apparatus for measuring a resistance between adjacent conductive portions in an anisotropic conductive sheet manufactured in an example.

【符号の説明】 1 異方導電性シート 1A シート成形材料層 2 導電部 3 絶縁部 10 磁性体基板 11,12 板状体 15 第1の突出磁性体部 20 第2の突出磁性体部 21,22,23 レジスト層 30 非磁性体層 31 非磁性体基層部分 32 非磁性体上層部分 32A フォトレジスト層 33 貫通孔 35 キャビティ形成層 36 孔 37 フォトレジスト層 40 抵抗測定器 41 プローブピン 42 短絡板 43 リード線[Description of Signs] 1 Anisotropic conductive sheet 1A Sheet forming material layer 2 Conductive part 3 Insulating part 10 Magnetic substrate 11, 12 Plate 15 First protruding magnetic body 20 Second protruding magnetic body 21, 22, 23 resist layer 30 nonmagnetic layer 31 nonmagnetic base layer 32 nonmagnetic upper layer 32A photoresist layer 33 through hole 35 cavity forming layer 36 hole 37 photoresist layer 40 resistance measuring instrument 41 probe pin 42 shorting plate 43 Lead

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F202 AA21 AA39 AA40 AE03 AH33 AH34 CA27 CB01 CC10 CK09 CL42 4F211 AA21 AA39 AA40 AE03 AH33 AH34 SC07 SD01 SD16 SG02 SJ01 SK06 SP02 5G323 AA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F202 AA21 AA39 AA40 AE03 AH33 AH34 CA27 CB01 CC10 CK09 CL42 4F211 AA21 AA39 AA40 AE03 AH33 AH34 SC07 SD01 SD16 SG02 SJ01 SK06 SP02 5G323 AA01

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 上型およびこれと対となる下型を具えて
なり、当該上型と当該下型との間に成形空間が形成され
る金型であって、 前記上型および前記下型の少なくとも一方は、その面方
向に沿って互いに離間して設けられた、磁束密度の高い
磁場を成形空間の厚み方向に形成する複数の高磁場形成
部と、 この高磁場形成部の周囲に設けられた、当該高磁場形成
部よりも磁束密度の低い磁場を成形空間の厚み方向に形
成する中磁場形成部と、 この中磁場形成部の周囲に設けられた、当該中磁場形成
部よりも磁束密度の低い磁場を成形空間の厚み方向に形
成する低磁場形成部とを有することを特徴とする金型。
1. A mold comprising an upper mold and a lower mold to be paired with the upper mold, wherein a molding space is formed between the upper mold and the lower mold, wherein the upper mold and the lower mold are provided. At least one of the plurality of high magnetic field forming portions, which are provided apart from each other along the surface direction and form a magnetic field having a high magnetic flux density in the thickness direction of the molding space, and are provided around the high magnetic field forming portion. A medium magnetic field forming section that forms a magnetic field having a lower magnetic flux density than the high magnetic field forming section in the thickness direction of the molding space; and a magnetic flux provided around the medium magnetic field forming section and higher than the medium magnetic field forming section. A mold having a low magnetic field forming section for forming a low density magnetic field in the thickness direction of the molding space.
【請求項2】 異方導電性シート成形用であることを特
徴とする請求項1に記載の金型。
2. The mold according to claim 1, which is used for forming an anisotropic conductive sheet.
【請求項3】 中磁場形成部における面方向の断面積
が、高磁場形成部における面方向の断面積の1.2〜3
0倍であることを特徴とする請求項1または請求項2に
記載の金型。
3. The sectional area in the plane direction in the medium magnetic field forming section is 1.2 to 3 times the sectional area in the plane direction in the high magnetic field forming section.
The mold according to claim 1 or 2, wherein the ratio is zero.
【請求項4】 磁性体基板と、この磁性体基板における
高磁場形成部および中磁場形成部が位置する部分に当該
磁性体基板の表面から突出するよう設けられた第1の突
出磁性体部と、この第1の突出磁性体部における高磁場
形成部が位置する部分に当該第1の突出磁性体部の表面
から突出するよう設けられた第2の突出磁性体部とを備
えてなることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいず
れかに記載の金型。
4. A magnetic substrate, and a first protruding magnetic member provided at a portion of the magnetic substrate where the high magnetic field forming portion and the medium magnetic field forming portion are located so as to protrude from the surface of the magnetic substrate. And a second protruding magnetic body portion provided at a portion of the first protruding magnetic body portion where the high magnetic field forming portion is located so as to protrude from a surface of the first protruding magnetic body portion. The mold according to any one of claims 1 to 3, wherein:
【請求項5】 厚み方向に伸びる複数の導電部が絶縁部
によって相互に絶縁された状態で配置されてなる異方導
電性シートを製造する方法であって、 硬化されて弾性高分子物質となる弾性高分子用材料中に
磁性を示す導電性粒子が含有されてなるシート成形材料
層に対し、強度分布を有する磁場を当該成形材料の厚み
方向に作用させると共に、当該シート成形材料層を硬化
処理する工程を有し、 この工程において、前記シート成形材料層の導電部を形
成すべき部分における磁束密度をBH 、当該導電部を形
成すべき部分の周辺部分における磁束密度をB M 、当該
導電部を形成すべき部分およびその周辺部分以外の部分
における磁束密度をBL としたとき、BH >BM >BL
を満足することを特徴とする異方導電性シートの製造方
法。
5. A plurality of conductive portions extending in a thickness direction are insulating portions.
Anisotropic conductors arranged insulated from each other by
A method for producing an electrically conductive sheet, comprising: curing an elastic polymer material into an elastic polymer material by being cured;
Sheet molding material containing conductive particles exhibiting magnetism
For a layer, a magnetic field having an intensity distribution is applied to the thickness of the molding material.
And cure the sheet molding material layer
Processing step, wherein in this step, the conductive portion of the sheet molding material layer is formed.
The magnetic flux density at the part to be formed is BH, Shape the conductive part
The magnetic flux density around the part to be formed is B M,
A portion other than the portion where the conductive portion is to be formed and its peripheral portion
The magnetic flux density atLAnd BH> BM> BL
For producing an anisotropic conductive sheet characterized by satisfying the following conditions:
Law.
【請求項6】 磁束密度BM が磁束密度BH の30〜9
0%であることを特徴とする請求項5に記載の異方導電
性シートの製造方法。
6. The magnetic flux density B M is 30 to 9 of the magnetic flux density B H.
The method for producing an anisotropic conductive sheet according to claim 5, wherein the content is 0%.
【請求項7】 磁束密度BL が磁束密度BM の80%以
下であることを特徴とする請求項5または請求項6に記
載の異方導電性シートの製造方法。
7. anisotropic conductive sheet manufacturing method according to claim 5 or claim 6 the magnetic flux density B L is equal to or less than 80% of the magnetic flux density B M.
【請求項8】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載
の金型を用い、 この金型内にシート成形材料層を形成し、このシート成
形材料層に当該金型を介して強度分布を有する磁場を作
用させることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいず
れかに記載の異方導電性シートの製造方法。
8. A sheet molding material layer is formed in the mold using the mold according to any one of claims 1 to 4, and a strength distribution is formed on the sheet molding material layer via the mold. The method for producing an anisotropic conductive sheet according to any one of claims 5 to 7, wherein a magnetic field having the following is applied.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111386635A (en) * 2018-10-26 2020-07-07 吴在淑 Signal transmission connector and manufacturing method thereof
US20210359434A1 (en) * 2018-10-11 2021-11-18 Sekisui Polymatech Co., Ltd. Electrical connection sheet and terminal-equipped glass plate structure

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