JP2004335450A - Anisotropic conductive connector and electric inspection device for circuit device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、異方導電性コネクターおよびこの異方導電性コネクターを具えた回路装置の電気的検査装置に関し、更に詳しくは例えばクロック周波数が1GHz以上である回路装置の電気的検査に好適に用いることができる異方導電性コネクターおよび回路装置の電気的検査装置に関する。 The present invention relates to an anisotropically conductive connector and an electrical inspection device for a circuit device provided with the anisotropically conductive connector, and more particularly to a device suitably used for electrical inspection of a circuit device having a clock frequency of 1 GHz or more. The present invention relates to an anisotropic conductive connector and an electrical inspection device for a circuit device.
異方導電性エラストマーシートは、厚み方向にのみ導電性を示すもの、または厚み方向に加圧されたときに厚み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電部を有するものであり、かかる異方導電性エラストマーシートとしては、従来、種々の構造のものが知られている。
例えば無加圧の状態で厚み方向にのみ導電性を示す異方導電性エラストマーとしては、絶縁性ゴムよりなるシート基体中に、導電性繊維が厚み方向に伸びるよう配向した状態で配列されてなるもの、カーボンブラックや金属粉末が配合されてなる導電性ゴムと絶縁性ゴムとが面方向において交互に積層されてなるもの(例えば特許文献1参照。)などが知られている。
一方、厚み方向に加圧されたときに厚み方向にのみ導電性を示す異方導電性エラストマーシートとしては、金属粒子をエラストマー中に均一に分散して得られるもの(例えば特許文献2参照。)、導電性磁性体粒子をエラストマー中に不均一に分布させることにより、厚み方向に伸びる多数の導電部と、これらを相互に絶縁する絶縁部とが形成されてなるもの(例えば特許文献3参照。)、導電部の表面と絶縁部との間に段差が形成されてなるもの(例えば特許文献4参照。)が知られている。
The anisotropic conductive elastomer sheet is one having conductivity only in the thickness direction or having a pressurized conductive portion which is conductive only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. As the electroconductive elastomer sheet, those having various structures are conventionally known.
For example, as an anisotropic conductive elastomer exhibiting conductivity only in the thickness direction in a non-pressurized state, in a sheet substrate made of insulating rubber, conductive fibers are arranged in a state of being oriented to extend in the thickness direction. There has been known a conductive rubber and a rubber in which conductive rubber containing carbon black or metal powder and insulating rubber are alternately laminated in the plane direction (for example, see Patent Document 1).
On the other hand, an anisotropic conductive elastomer sheet that exhibits conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction is obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer (for example, see Patent Document 2). By dispersing conductive magnetic particles unevenly in an elastomer, a large number of conductive portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed (for example, see Patent Document 3). ), And those in which a step is formed between the surface of the conductive portion and the insulating portion (for example, see Patent Document 4).
このような異方導電性エラストマーシートは、ハンダ付けあるいは機械的嵌合などの手段を用いずにコンパクトな電気的接続を達成することが可能であること、機械的な衝撃やひずみを吸収してソフトな接続が可能であることなどの特長を有するため、このような特長を利用して、例えば電子計算機、電子式デジタル時計、電子カメラ、コンピューターキーボードなどの分野において、回路装置、例えばプリント回路基板とリードレスチップキャリアー、液晶パネルなどとの相互間の電気的な接続を達成するためのコネクターとして広く用いられている。 Such an anisotropic conductive elastomer sheet is capable of achieving a compact electrical connection without using means such as soldering or mechanical fitting, and absorbs mechanical shock and strain. Since it has features such as being capable of soft connection, circuit devices such as printed circuit boards are used in the fields of, for example, electronic calculators, electronic digital watches, electronic cameras, and computer keyboards by utilizing such features. It is widely used as a connector for achieving an electrical connection between the device and a leadless chip carrier, a liquid crystal panel, or the like.
また、パッケージIC、MCM等の半導体集積回路装置、集積回路が形成されたウエハ、プリント回路基板などの回路装置の電気的検査においては、検査対象である回路装置の一面に形成された被検査電極と、検査用回路基板の表面に形成された検査用電極との電気的な接続を達成するためのコネクターとして、異方導電性エラストマーシートが使用されている。
この回路装置の電気的検査においては、回路装置における電源電流、入出力電圧、入出力電流等を測定する直流特性試験、回路装置における入出力端子間の伝搬遅延時間、出力波形の遷移時間、最大クロック周波数等を測定する交流特性試験などが行われている。
In the electrical inspection of circuit devices such as packaged ICs, semiconductor integrated circuit devices such as MCMs, wafers on which integrated circuits are formed, and printed circuit boards, electrodes to be inspected formed on one surface of the circuit device to be inspected In addition, an anisotropic conductive elastomer sheet is used as a connector for achieving electrical connection with the test electrode formed on the surface of the test circuit board.
In the electrical inspection of this circuit device, a DC characteristic test for measuring power supply current, input / output voltage, input / output current, etc. in the circuit device, propagation delay time between input / output terminals in the circuit device, transition time of output waveform, maximum An AC characteristic test for measuring a clock frequency and the like is performed.
近年、コンピュータなどの電子機器における演算処理の高速化の要請に伴って、当該電子機器に搭載されるCPUなどの回路装置として、クロック周波数の高いものが使用されている。このような回路装置の電気的検査において、誤作動が生じることなしに所期の交流特性試験を行うためには、高周波信号に対するノイズを十分に抑制することが肝要である。
そして、回路装置の電気的検査に用いられる異方導電性エラストマーシートにおいて、高周波信号に対するノイズを抑制する手段としては、導電性を有するフレーム板によって異方導電性エラストマーシートを支持し、当該フレーム板をアースに接続する手段が提案されている(例えば特許文献5および特許文献6参照。)。
しかしながら、このような手段では、クロック周波数が例えば1GHz以上の回路装置についての電気的検査を行う場合に、高周波信号に対するノイズを十分に抑制することが困難である。
2. Description of the Related Art In recent years, with a demand for faster arithmetic processing in electronic devices such as computers, a circuit device such as a CPU mounted on the electronic device has a higher clock frequency. In the electrical inspection of such a circuit device, in order to perform a desired AC characteristic test without causing a malfunction, it is important to sufficiently suppress noise with respect to a high-frequency signal.
In the anisotropic conductive elastomer sheet used for the electrical inspection of the circuit device, as means for suppressing noise with respect to a high-frequency signal, the anisotropic conductive elastomer sheet is supported by a conductive frame plate. Has been proposed for connecting to a ground (for example, see Patent Documents 5 and 6).
However, with such means, it is difficult to sufficiently suppress noise with respect to a high-frequency signal when performing an electrical test on a circuit device having a clock frequency of, for example, 1 GHz or more.
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その第1の目的は、クロック周波数が例えば1GHz以上の回路装置についても所期の電気的検査を行うことができる異方導電性コネクターを提供することにある。
本発明の第2の目的は、クロック周波数が例えば1GHz以上の回路装置についても所期の電気的検査を行うことができる回路装置の電気的検査装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide an anisotropic device capable of performing an intended electrical test even on a circuit device having a clock frequency of, for example, 1 GHz or more. An object of the present invention is to provide a conductive connector.
A second object of the present invention is to provide an electrical inspection device for a circuit device capable of performing an intended electrical inspection even for a circuit device having a clock frequency of, for example, 1 GHz or more.
本発明の異方導電性コネクターは、接続すべき電極に対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部およびこれらの接続用導電部を相互に絶縁する絶縁部を有する弾性異方導電膜を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜には、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする。
The anisotropic conductive connector of the present invention is an elastic anisotropic connector having a plurality of connecting conductive portions arranged in a pattern corresponding to an electrode to be connected and extending in a thickness direction and an insulating portion for insulating these connecting conductive portions from each other. In an anisotropic conductive connector comprising a conductive film,
The elastic anisotropic conductive film is formed with a high-frequency shield conductive portion extending in the thickness direction.
また、本発明の異方導電性コネクターは、接続すべき電極に対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部およびこれらの接続用導電部を相互に絶縁する絶縁部を有する弾性異方導電膜を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜には、個々の接続用導電部を取り囲むよう配置された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする。
Further, the anisotropic conductive connector of the present invention has a plurality of connecting conductive portions extending in the thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected, and an insulating portion for insulating these connecting conductive portions from each other. An anisotropic conductive connector comprising an elastic anisotropic conductive film,
The elastic anisotropic conductive film is formed with a high-frequency shielding conductive portion that is arranged so as to surround each connection conductive portion and extends in the thickness direction.
また、本発明の異方導電性コネクターは、接続すべき電極に対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部およびこれらの接続用導電部を相互に絶縁する絶縁部を有する弾性異方導電膜を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜には、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする。
Further, the anisotropic conductive connector of the present invention has a plurality of connecting conductive portions extending in the thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected, and an insulating portion for insulating these connecting conductive portions from each other. An anisotropic conductive connector comprising an elastic anisotropic conductive film,
The elastic anisotropic conductive film is characterized in that a high-frequency shield conductive portion extending in the thickness direction is formed so as to surround a conductive portion group including a plurality of connection conductive portions.
また、本発明の異方導電性コネクターは、接続すべき電極に対応するパターンに従って複数の開口が形成された導電性を有するフレーム板と、
このフレーム板の各開口に配置された、厚み方向に伸びる接続用導電部およびその周囲に一体に形成された絶縁部よりなる複数の機能部、並びにこれらの機能部の周囲に一体に形成され、前記フレーム板に積重されて固定された被支持部よりなる弾性異方導電膜と
を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜における被支持部には、個々の接続用導電部を取り囲むよう配置され、前記フレーム板に電気的に接続された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする。
Further, the anisotropic conductive connector of the present invention has a conductive frame plate having a plurality of openings formed according to a pattern corresponding to an electrode to be connected,
A plurality of functional portions including a conductive portion for connection extending in the thickness direction and an insulating portion integrally formed therearound, and a plurality of functional portions formed integrally with the conductive portion for connection arranged around each opening of the frame plate, and integrally formed around these functional portions, An anisotropic conductive connector comprising an elastic anisotropic conductive film formed of a supported portion stacked and fixed on the frame plate,
In the supported portion of the elastic anisotropic conductive film, a high-frequency shielding conductive portion extending in the thickness direction, which is disposed so as to surround the individual connecting conductive portions and is electrically connected to the frame plate, is formed. It is characterized by the following.
また、本発明の異方導電性コネクターは、厚み方向に貫通する開口が形成された導電性を有するフレーム板と、
このフレーム板の開口に配置された、接続すべき電極に対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部およびこれらの接続用導電部を相互に絶縁する絶縁部を有する機能部、並びにこの機能部の周囲に一体に形成され、前記フレーム板に積重されて固定された被支持部よりなる弾性異方導電膜と
を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜における被支持部には、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置され、前記フレーム板に電気的に接続された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする。
Further, the anisotropic conductive connector of the present invention, a conductive frame plate having an opening formed therethrough in the thickness direction,
A functional part having a plurality of connecting conductive parts arranged in an opening of the frame plate and extending in the thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected, and an insulating part for mutually insulating these connecting conductive parts; And an anisotropically conductive connector formed integrally with the periphery of the functional portion and comprising an elastic anisotropic conductive film composed of a supported portion stacked and fixed on the frame plate,
The supported portion of the elastic anisotropic conductive film is disposed so as to surround a conductive portion group including a plurality of conductive portions for connection, and is electrically connected to the frame plate, and is a conductive portion for a high-frequency shield extending in the thickness direction and electrically connected to the frame plate. Is formed.
また、本発明の異方導電性コネクターは、接続すべき電極に対応するパターンに従って複数の開口が形成された導電性を有するフレーム板と、
このフレーム板の各開口に配置された、厚み方向に伸びる接続用導電部およびその周囲に一体に形成された絶縁部よりなる複数の機能部、並びにこれらの機能部の周囲に一体に形成され、前記フレーム板に積重されて固定された被支持部よりなる弾性異方導電膜と
を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜における被支持部には、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置され、前記フレーム板に電気的に接続された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする。
Further, the anisotropic conductive connector of the present invention has a conductive frame plate having a plurality of openings formed according to a pattern corresponding to an electrode to be connected,
A plurality of functional portions including a conductive portion for connection extending in the thickness direction and an insulating portion integrally formed therearound, and a plurality of functional portions formed integrally with the conductive portion for connection arranged around each opening of the frame plate, and integrally formed around these functional portions, An anisotropic conductive connector comprising an elastic anisotropic conductive film formed of a supported portion stacked and fixed on the frame plate,
The supported portion of the elastic anisotropic conductive film is disposed so as to surround a conductive portion group including a plurality of conductive portions for connection, and is electrically connected to the frame plate, and is a conductive portion for a high-frequency shield extending in the thickness direction and electrically connected to the frame plate. Is formed.
本発明の異方導電性コネクターにおいては、筒状の高周波シールド用導電部を有し、当該高周波シールド用導電部が、1つの接続用導電部に対して同心的に位置されることにより当該接続用導電部を取り囲むよう配置されていてもよい。
また、同一の接続用導電部を取り囲む複数の高周波シールド用導電部を有するものであってもよく、このような異方導電性コネクターにおいては、同一の接続用導電部を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部の間の離間距離が測定信号の波長の1/10以下であることが好ましい。
The anisotropic conductive connector according to the present invention has a tubular high-frequency shield conductive portion, and the high-frequency shield conductive portion is concentrically positioned with respect to one connection conductive portion to perform the connection. May be arranged so as to surround the conductive part for use.
Further, it may have a plurality of high-frequency shielding conductive parts surrounding the same connection conductive part. In such an anisotropic conductive connector, adjacent high-frequency shielding conductive parts surrounding the same connection conductive part may be used. It is preferable that the separation distance between the shield conductive portions is 1/10 or less of the wavelength of the measurement signal.
本発明の異方導電性コネクターにおいては、弾性異方導電膜には、接続用導電部の他に1つ以上の非接続用導電部が形成されており、高周波シールド用導電部は、複数の接続用導電部および1つ以上の非接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置されていてもよい。 In the anisotropic conductive connector of the present invention, the elastic anisotropic conductive film has one or more non-connection conductive parts in addition to the connection conductive parts, and the high-frequency shield conductive part has a plurality of conductive parts. It may be arranged so as to surround a conductive part group including a conductive part for connection and one or more conductive parts for non-connection.
本発明の異方導電性コネクターにおいては、筒状の高周波シールド用導電部を有し、当該高周波シールド用導電部が、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置されていてもよい。
また、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲む複数の高周波シールド用導電部を有するものであってもよく、このような異方導電性コネクターにおいては、導電部群を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部の間の離間距離が測定信号の波長の1/10以下であることが好ましい。
The anisotropic conductive connector of the present invention has a cylindrical high-frequency shield conductive portion, and the high-frequency shield conductive portion may be disposed so as to surround a conductive portion group including a plurality of connection conductive portions. Good.
Further, it may have a plurality of high-frequency shielding conductive parts surrounding a conductive part group including a plurality of connection conductive parts, and in such an anisotropic conductive connector, adjacent to each other surrounding the conductive part group. The distance between the high-frequency shield conductive portions is preferably 1/10 or less of the wavelength of the measurement signal.
本発明の異方導電性コネクターにおいては、高周波シールド用導電部はアースに接続されるものであることが好ましい。
また、フレーム板に電気的に接続された高周波シールド用導電部を有する場合には、フレーム板はアースに接続されるものであることが好ましい。
In the anisotropic conductive connector of the present invention, it is preferable that the high-frequency shielding conductive portion is connected to the ground.
In the case where the high-frequency shielding conductive portion is electrically connected to the frame plate, the frame plate is preferably connected to the ground.
本発明の回路装置の電気的検査装置は、上記のいずれかの異方導電性コネクターを具えてなることを特徴とする。 An electrical inspection device for a circuit device according to the present invention includes any one of the anisotropic conductive connectors described above.
また、本発明の回路装置の電気的検査装置は、検査対象である回路装置の被検査電極に対応するパターンに従って検査用電極が形成された検査用回路基板と、この検査用回路基板上に配置された、上記のいずれかの異方導電性コネクターとを具えてなり、
前記検査用回路基板には、前記異方導電性コネクターにおける高周波シールド用導電部に対応するパターンに従って、アースに接続されたアース用電極が形成されていることを特徴とする。
In addition, an electrical inspection apparatus for a circuit device according to the present invention includes an inspection circuit board on which an inspection electrode is formed in accordance with a pattern corresponding to an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected, and an inspection circuit board disposed on the inspection circuit board. And the anisotropic conductive connector of any of the above,
An earth electrode connected to earth is formed on the inspection circuit board in accordance with a pattern corresponding to a conductive part for high-frequency shielding in the anisotropic conductive connector.
また、本発明の回路装置の電気的検査装置は、検査対象である回路装置の被検査電極に対応するパターンに従って検査用電極が形成された検査用回路基板と、この検査用回路基板上に配置された、上記のフレーム板を有する異方導電性コネクターとを具えてなり、
前記異方導電性コネクターにおけるフレーム板は、アースに接続されていることを特徴とする。
In addition, an electrical inspection device for a circuit device according to the present invention includes an inspection circuit board on which an inspection electrode is formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected, And an anisotropic conductive connector having the above-mentioned frame plate,
The frame plate of the anisotropic conductive connector is connected to a ground.
本発明の異方導電性コネクターによれば、弾性異方導電膜には、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部の他に、当該接続用導電部と同方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されているため、当該高周波シールド用導電部をアースに接続することにより、各接続用導電部において、高周波信号に対する外部からのノイズまたは隣接する接続用導電部からのノイズを抑制することができる。従って、本発明の異方導電性コネクターを回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
本発明の回路装置の電気的検査装置によれば、上記の異方導電性コネクターが設けられいるため、当該異方導電性コネクターにおける高周波シールド用導電部をアースに接続することにより、異方導電性コネクターの各接続用導電部において、高周波信号に対する外部からのノイズまたは隣接する接続用導電部からのノイズの両方を抑制することができる。従って、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic conductive connector of the present invention, the elastic anisotropic conductive film has a high-frequency shield extending in the same direction as the connection conductive part, in addition to the connection conductive part electrically connected to the connection target electrode. Since the conductive portion is formed, the high-frequency shield conductive portion is connected to the ground, thereby suppressing the external noise or the noise from the adjacent connection conductive portion with respect to the high-frequency signal in each connection conductive portion. can do. Therefore, when the anisotropic conductive connector of the present invention is used for electrical inspection of a circuit device, even if the clock frequency of the circuit device to be inspected is, for example, 1 GHz or more, the influence of noise on the circuit device is not affected. The intended electrical inspection can be performed without receiving it.
According to the electrical inspection device for a circuit device of the present invention, since the above-described anisotropic conductive connector is provided, by connecting the high-frequency shielding conductive portion of the anisotropic conductive connector to the ground, In each connection conductive portion of the connector, both external noise and high frequency signal noise from the adjacent connection conductive portion can be suppressed. Therefore, even if the clock frequency of the circuit device to be tested is, for example, 1 GHz or more, the intended electrical test can be performed on the circuit device without being affected by noise.
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
〔異方導電性コネクター〕
図1は、本発明の第1の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図2は、第1の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
この第1の例に係る異方導電性コネクター10は、中央に矩形の開口12(図1において破線で示す。)が形成された全体が矩形の枠状のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12には、厚み方向に導電性を有する矩形の弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に支持された状態で配置されている。また、この例におけるフレーム板11における四隅の位置には、接続すべき回路装置に対する位置決めを行うための位置決め孔13が形成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
[Anisotropic conductive connector]
FIG. 1 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a first example of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the first example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、個々の接続用導電部22を取り囲むよう配置された厚み方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26と、各接続用導電部22および各高周波シールド用導電部26を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、この機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。
この例では、接続用導電部22の各々は、円柱状の形状を有し、格子点位置に従って配列されている。また、高周波シールド用導電部26の各々は、接続用導電部22の径より大きい内径を有する円筒状の形状を有し、1つの接続用導電部22に対して同心的に位置されることにより当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。
The elastic anisotropic
In this example, each of the connection
A supported
フレーム板11の厚みは、その材質によって異なるが、20〜600μmであることが好ましく、より好ましくは40〜400μmである。
この厚みが20μm未満である場合には、異方導電性コネクター10を使用する際に必要な強度が得られず、耐久性が低いものとなりやすく、また、当該フレーム板11の形状が維持される程度の剛性が得られず、異方導電性コネクター10の取扱い性が低いものとなる。一方、この厚みが600μmを超える場合には、開口12に配置される弾性異方導電膜20は、その厚みが過大なものとなって、接続用導電部22における良好な導電性および接続用導電部22および高周波シールド用導電部26間における所要の絶縁性を得ることが困難となることがある。
Although the thickness of the
If the thickness is less than 20 μm, the strength required when using the anisotropic
フレーム板11を構成する材料としては、当該フレーム板11が容易に変形せず、その形状が安定に維持される程度の剛性を有するものであれば特に限定されず、例えば、金属材料、セラミックス材料、樹脂材料などの種々の材料を用いることができ、フレーム板11を例えば金属材料により構成する場合には、当該フレーム板11の表面に絶縁性被膜が形成されていてもよい。
フレーム板11を構成する金属材料の具体例としては、鉄、銅、ニッケル、クロム、コバルト、マグネシウム、マンガン、モリブデン、インジウム、鉛、パラジウム、チタン、タングステン、アルミニウム、金、白金、銀などの金属またはこれらを2種以上組み合わせた合金若しくは合金鋼などが挙げられる。
フレーム板11を構成する樹脂材料の具体例としては、液晶ポリマー、ポリイミド樹脂などが挙げられる。
The material constituting the
Specific examples of the metal material constituting the
Specific examples of the resin material forming the
弾性異方導電膜20を構成する弾性高分子物質としては、架橋構造を有する耐熱性の高分子物質が好ましい。かかる架橋高分子物質を得るために用いることができる硬化性の高分子物質形成材料としては、種々のものを用いることができ、その具体例としては、シリコーンゴム、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム、軟質液状エポキシゴムなどが挙げられる。
これらの中では、シリコーンゴムが、成形加工性および電気特性の点で好ましい。
As the elastic polymer material constituting the elastic anisotropic
Among these, silicone rubber is preferred in terms of moldability and electrical properties.
シリコーンゴムとしては、液状シリコーンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105 ポアズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のもの、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのいずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。 As the silicone rubber, one obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber is preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, methyl phenyl vinyl silicone raw rubber and the like can be mentioned.
これらの中で、ビニル基を含有する液状シリコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジアルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたはジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オクタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、その他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。ここで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃である。
このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサンは、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000のものであることが好ましい。また、得られる弾性異方導電膜20の耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同じ。)が2以下のものが好ましい。
Among them, the liquid silicone rubber containing a vinyl group (vinyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane. And a condensation reaction, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation.
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, using dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator, and other reaction conditions. (For example, the amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator) are appropriately selected. Here, as a catalyst for the anionic polymerization, an alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C.
Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained elastic anisotropic
一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリコーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランまたはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下において、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチルヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃である。
On the other hand, liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. For example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation.
Further, the cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and a polymerization terminator such as dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used, and other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) are used. The amount can be obtained by appropriately selecting the amount of the agent). Here, as a catalyst for the anionic polymerization, an alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C.
このようなヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンは、その分子量Mwが10000〜40000のものであることが好ましい。また、得られる弾性異方導電膜20の耐熱性の観点から、分子量分布指数が2以下のものが好ましい。
本発明においては、上記のビニル基含有ポリジメチルシロキサンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンのいずれか一方を用いることもでき、両者を併用することもできる。
Such hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw of 10,000 to 40,000. From the viewpoint of heat resistance of the obtained elastic anisotropic
In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.
高分子物質形成材料中には、当該高分子物質形成材料を硬化させるための硬化触媒を含有させることができる。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、脂肪酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いることができる。
硬化触媒として用いられる有機過酸化物の具体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシクロベンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリーブチルなどが挙げられる。
硬化触媒として用いられる脂肪酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチロニトリルなどが挙げられる。
ヒドロシリル化反応の触媒として使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸およびその塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレックス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、白金と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとのコンプレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホスファイトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテート白金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックスなどの公知のものが挙げられる。
硬化触媒の使用量は、高分子物質形成材料の種類、硬化触媒の種類、その他の硬化処理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分子物質形成材料100重量部に対して3〜15重量部である。
A curing catalyst for curing the polymer substance forming material can be contained in the polymer substance forming material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used.
Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, ditertiary butyl peroxide, and the like.
Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile and the like.
Specific examples of those which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a siloxane complex containing a platinum-unsaturated group, a complex of vinylsiloxane and platinum, and platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane. Known complexes such as a complex of triorganophosphine or phosphite with platinum, an acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum.
The amount of the curing catalyst used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer substance-forming material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions. 15 parts by weight.
高分子物質形成材料中には、必要に応じて、通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシリカ、アルミナなどの無機充填材を含有させることができる。このような無機充填材を含有させることにより、得られる成形材料のチクソトロピー性が確保され、その粘度が高くなり、しかも、導電性粒子Pの分散安定性が向上すると共に、硬化処理されて得られる弾性異方導電膜20の強度が高くなる。
このような無機充填材の使用量は、特に限定されるものではないが、あまり多量に使用すると、後述する製造方法において、磁場による導電性粒子Pの移動が大きく阻害されるため、好ましくない。
If necessary, ordinary fillers such as silica powder, colloidal silica, airgel silica, and alumina can be contained in the polymer substance forming material. By including such an inorganic filler, the thixotropic property of the obtained molding material is ensured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles P is improved, and the molding material is obtained by being subjected to a curing treatment. The strength of the elastic anisotropic
The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but using an excessively large amount is not preferable because the movement of the conductive particles P due to a magnetic field is greatly inhibited in a manufacturing method described later.
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および高周波シールド用導電部26には、図2に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、絶縁部23は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
接続用導電部22および高周波シールド用導電部26に含有される導電性粒子Pとしては、後述する方法によって、当該弾性異方導電膜20を形成するための成形材料中において当該導電性粒子Pを容易に移動させることができる観点から、磁性を示すものを用いることが好ましい。このような磁性を示す導電性粒子Pの具体例としては、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性を示す金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性体のメッキを施したもの、或いは芯粒子に、導電性磁性体および導電性の良好な金属の両方を被覆したものなどが挙げられる。
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に金や銀などの導電性の良好な金属のメッキを施したものを用いることが好ましい。
芯粒子の表面に導電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるものではないが、例えば無電解メッキにより行うことができる。
As shown in FIG. 2, the conductive particles P exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction on the connection
As the conductive particles P contained in the connection
Among them, it is preferable to use nickel particles as core particles, the surfaces of which are plated with a metal having good conductivity such as gold or silver.
Means for coating the surface of the core particles with the conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, electroless plating.
導電性粒子Pとして、芯粒子の表面に導電性金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金属の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%である。
また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の2.5〜50重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜45重量%、さらに好ましくは3.5〜40重量%、特に好ましくは5〜30重量%である。
When the conductive particles P are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, from the viewpoint of obtaining good conductivity, the coverage of the conductive metal on the particle surface (the surface area of the core particle) Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.
Further, the coating amount of the conductive metal is preferably 2.5 to 50% by weight of the core particles, more preferably 3 to 45% by weight, still more preferably 3.5 to 40% by weight, and particularly preferably 5 to 40% by weight. 3030% by weight.
また、導電性粒子Pの粒子径は、1〜500μmであることが好ましく、より好ましくは2〜400μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好ましくは10〜150μmである。
また、導電性粒子Pの粒子径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1〜7、さらに好ましくは1〜5、特に好ましくは1〜4である。
このような条件を満足する導電性粒子Pを用いることにより、得られる弾性異方導電膜20は、加圧変形が容易なものとなり、また、当該弾性異方導電膜における接続用導電部22において導電性粒子P間に十分な電気的接触が得られる。
また、導電性粒子Pの形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材料中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子による塊状のものであることが好ましい。
The particle size of the conductive particles P is preferably 1 to 500 μm, more preferably 2 to 400 μm, further preferably 5 to 300 μm, and particularly preferably 10 to 150 μm.
The particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles P is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 7, further preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 4.
By using the conductive particles P satisfying such a condition, the obtained elastic anisotropic
The shape of the conductive particles P is not particularly limited. However, since the conductive particles P can be easily dispersed in the polymer substance-forming material, they may be spherical, star-shaped, or aggregated. It is preferable that it is a lump composed of secondary particles.
また、導電性粒子Pの含水率は、5%以下であることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下、特に好ましくは1%以下である。このような条件を満足する導電性粒子Pを用いることにより、後述する製造方法において、成形材料層を硬化処理する際に、当該成形材料層内に気泡が生ずることが防止または抑制される。 Further, the water content of the conductive particles P is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. By using the conductive particles P satisfying such conditions, it is possible to prevent or suppress the occurrence of bubbles in the molding material layer when the molding material layer is cured in the manufacturing method described below.
また、導電性粒子Pの表面がシランカップリング剤などのカップリング剤で処理されたものを適宜用いることができる。導電性粒子Pの表面がカップリング剤で処理されることにより、当該導電性粒子Pと弾性高分子物質との接着性が高くなり、その結果、得られる弾性異方導電膜20は、繰り返しの使用における耐久性が高いものとなる。
カップリング剤の使用量は、導電性粒子Pの導電性に影響を与えない範囲で適宜選択されるが、導電性粒子Pの表面におけるカップリング剤の被覆率(導電性芯粒子の表面積に対するカップリング剤の被覆面積の割合)が5%以上となる量であることが好ましく、より好ましくは上記被覆率が7〜100%、さらに好ましくは10〜100%、特に好ましくは20〜100%となる量である。
Further, a material in which the surface of the conductive particles P is treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be appropriately used. When the surface of the conductive particles P is treated with the coupling agent, the adhesiveness between the conductive particles P and the elastic polymer material is increased, and as a result, the obtained elastic anisotropic
The amount of the coupling agent to be used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles P, but the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles P (the coupling ratio with respect to the surface area of the conductive core particles). (The ratio of the coating area of the ring agent) is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, further preferably 10 to 100%, and particularly preferably 20 to 100%. Quantity.
機能部21の接続用導電部22における導電性粒子Pの含有割合は、体積分率で10〜60%、好ましくは15〜50%となる割合で用いられることが好ましい。この割合が10%未満の場合には、十分に電気抵抗値の小さい接続用導電部22が得られないことがある。一方、この割合が60%を超える場合には、得られる接続用導電部22は脆弱なものとなりやすく、接続用導電部22として必要な弾性が得られないことがある。
また、高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの含有割合は、体積分率で5〜60%、好ましくは10〜50%となる割合で用いられることが好ましい。この割合が5%未満の場合には、高周波シールド用導電部26に粗密が生じやすくなり、均一な組成の高周波シールド用導電部26を形成することが困難となることがある。一方、この割合が60%を超える場合には、当該異方導電性シートの製造時に、隣接する高周波シールド用導電部26および接続用導電部22の間に導電性粒子が残存しやすくなり、これらの間の絶縁性が不十分なものとなりやすく、クロック周波数が例えば1GHz以上の回路装置の電気的検査に用いることができる異方導電性シートを得ることが困難となる。
It is preferable that the content ratio of the conductive particles P in the connection
Further, the content ratio of the conductive particles P in the high-frequency shielding
このような異方導電性コネクター10は、例えば以下のようにして製造することができる。
先ず、開口12が形成されたフレーム板11を作製する。ここで、フレーム板11の開口12を形成する方法としては、例えばエッチング法などを利用することができる。
Such an anisotropic
First, the
また、弾性異方導電性膜を成形するための金型を用意する。図3は、弾性異方導電膜成形用の金型の一例における構成を示す説明用断面図である。この金型は、上型30およびこれと対となる下型35が互いに対向するよう配置されて構成されている。
上型30においては、強磁性体基板31の下面に、成形すべき弾性異方導電性膜20の接続用導電部22の配置パターンに対掌なパターンに従って強磁性体層32が形成されると共に、高周波シールド用導電部26の配置パターンに対掌なパターンに従って強磁性体層33が形成され、これらの強磁性体層32,33が形成された領域以外の領域には、非磁性体層34が形成されており、強磁性体層32,33および非磁性体層34によって成形面が形成されている。また、強磁性体層32,33の各々は被磁性体層34の厚みより小さい厚みを有し、これにより、上型30の成形面には、成形すべき弾性異方導電膜20における突出部22a,26aに対応して凹所32a,33aが形成されている。
一方、下型35においては、強磁性体基板36の上面に、成形すべき弾性異方導電膜20の接続用導電部22の配置パターンと同一のパターンに従って強磁性体層37が形成されると共に、高周波シールド用導電部26の配置パターンと同一のパターンに従って強磁性体層38が形成され、これらの強磁性体層37,38が形成された領域以外の領域には、非磁性体層39が形成されており、強磁性体層37,38および非磁性体層39によって成形面が形成されている。また、強磁性体層37,38の各々は非磁性体層39の厚みより小さい厚みを有し、これにより、下型35の成形面には、成形すべき弾性異方導電膜20における突出部22a,26aに対応して凹所37a,38aが形成されている。
In addition, a mold for forming the elastic anisotropic conductive film is prepared. FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of a mold for forming an elastic anisotropic conductive film. This mold is configured such that an upper mold 30 and a lower mold 35 that is a pair with the upper mold 30 are arranged to face each other.
In the upper die 30, a ferromagnetic layer 32 is formed on the lower surface of the ferromagnetic substrate 31 according to a pattern opposite to the arrangement pattern of the connection
On the other hand, in the lower mold 35, the ferromagnetic layer 37 is formed on the upper surface of the ferromagnetic substrate 36 according to the same pattern as the arrangement pattern of the connection
上型30および下型35の各々における強磁性体基板31,36を構成する強磁性体材料としては、鉄、鉄−ニッケル合金、鉄−コバルト合金、ニッケル、コバルトなどの強磁性金属を用いることができる。この強磁性体基板31,36は、その厚みが0.1〜50mmであることが好ましく、表面が平滑で、化学的に脱脂処理され、また、機械的に研磨処理されたものであることが好ましい。 As the ferromagnetic material constituting the ferromagnetic substrates 31 and 36 in each of the upper mold 30 and the lower mold 35, a ferromagnetic metal such as iron, iron-nickel alloy, iron-cobalt alloy, nickel, or cobalt is used. Can be. The ferromagnetic substrates 31 and 36 preferably have a thickness of 0.1 to 50 mm, and have a smooth surface, are chemically degreased, and are mechanically polished. preferable.
また、上型30および下型35の各々における強磁性体層32,33,37,38を構成する強磁性体材料としては、鉄、鉄−ニッケル合金、鉄−コバルト合金、ニッケル、コバルトなどの強磁性金属を用いることができる。これらの強磁性体層32,33,37,38は、その厚みが10μm以上であることが好ましい。この厚みが10μm以上であれば、成形材料層20Aに対して、十分な強度分布を有する磁場を作用させることができ、この結果、当該成形材料層20Aにおける接続用導電部22となるべき部分および高周波シールド用導電部26となるべき部分に導電性粒子を高密度に集合させることができ、良好な導電性を有する接続用導電部22および高周波シールド用導電部26が得られる。
The ferromagnetic material forming the ferromagnetic layers 32, 33, 37, and 38 in each of the upper mold 30 and the lower mold 35 includes iron, an iron-nickel alloy, an iron-cobalt alloy, nickel, and cobalt. Ferromagnetic metals can be used. These ferromagnetic layers 32, 33, 37, and 38 preferably have a thickness of 10 μm or more. When the thickness is 10 μm or more, a magnetic field having a sufficient intensity distribution can be applied to the molding material layer 20A, and as a result, a portion of the molding material layer 20A that should become the connection
また、上型30および下型35の各々における非磁性体層34,39を構成する材料としては、銅などの非磁性金属、耐熱性を有する高分子物質などを用いることができるが、フォトリソグラフィーの手法により容易に非磁性体層34,39を形成することができる点で、放射線によって硬化された高分子物質を好ましく用いることができ、その材料としては、例えばアクリル系のドライフィルムレジスト、エポキシ系の液状レジスト、ポリイミド系の液状レジストなどのフォトレジストを用いることができる。 Further, as a material for forming the nonmagnetic layers 34 and 39 in each of the upper mold 30 and the lower mold 35, a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant polymer substance, or the like can be used. Since the nonmagnetic material layers 34 and 39 can be easily formed by the method described above, a polymer substance cured by radiation can be preferably used. Examples of the material include an acrylic dry film resist and an epoxy resin. A photoresist such as a liquid resist of a system or a liquid resist of a polyimide can be used.
次いで、硬化処理によって弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子が分散されてなる、弾性異方導電膜成形用の成形材料を調製する。
そして、図4に示すように、下型35の成形面上に、スペーサー16を介してフレーム板11を位置合わせして配置すると共に、このフレーム板11上に、スペーサー15を介して上型30を位置合わせして配置することにより、上型30と下型35との間に、成形空間を形成すると共に、この成形空間内に成形材料を充填して成形材料層20Aを形成する。この成形材料層20Aにおいては、導電性粒子Pは成形材料層20A全体に分散された状態で含有されている。
Next, a molding material for molding an elastic anisotropic conductive film is prepared, in which conductive particles exhibiting magnetism are dispersed in a polymer material forming material that becomes an elastic polymer material by a curing treatment.
Then, as shown in FIG. 4, the
その後、上型30における強磁性体基板31の上面および下型35における強磁性体基板36の下面に例えば一対の電磁石を配置してこれを作動させることにより、上型30および下型35が強磁性体層32,33,37,38を有するため、上型30の強磁性体層32とこれに対応する下型35の強磁性体層37との間および上型30の強磁性体層33とこれに対応する下型35の強磁性体層38との間においてその周辺領域より大きい強度を有する磁場が形成される。その結果、成形材料層20Aにおいては、当該成形材料層20A中に分散されていた導電性粒子Pが、図5に示すように、上型30の強磁性体層32とこれに対応する下型35の強磁性体層37との間に位置する接続用導電部22となるべき部分および上型30の強磁性体層33とこれに対応する下型35の強磁性体層38との間に位置する高周波シールド用導電部26となるべき部分に集合して厚み方向に並ぶよう配向する。
After that, for example, a pair of electromagnets are arranged on the upper surface of the ferromagnetic substrate 31 in the upper die 30 and the lower surface of the ferromagnetic substrate 36 in the lower die 35 to operate the upper die 30 and the lower die 35. Because of the presence of the magnetic layers 32, 33, 37, and 38, between the ferromagnetic layer 32 of the upper die 30 and the corresponding ferromagnetic layer 37 of the lower die 35 and the ferromagnetic layer 33 of the upper die 30. A magnetic field having an intensity higher than that of the peripheral region is formed between the ferromagnetic layer 38 of the lower mold 35 and the corresponding ferromagnetic layer 38 of the lower die 35. As a result, in the molding material layer 20A, as shown in FIG. 5, the conductive particles P dispersed in the molding material layer 20A become the ferromagnetic layer 32 of the upper mold 30 and the corresponding lower mold 35 and a portion to be the connecting
そして、この状態において、成形材料層20Aを硬化処理することにより、弾性高分子物質中に導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる複数の接続用導電部22および当該接続用導電部22の各々を取り囲む高周波シールド用導電部26が、導電性粒子Pが全く或いは殆ど存在しない高分子弾性物質よりなる絶縁部23によって相互に絶縁された状態で配置されてなる機能部21と、この機能部21の周辺に連続して一体に形成された弾性高分子物質よりなる被支持部28とよりなる弾性異方導電膜20が、フレーム板11の開口縁部に当該被支持部28が固定された状態で形成され、以て異方導電性コネクター10が製造される。
Then, in this state, by curing the molding material layer 20A, the plurality of connection
以上において、成形材料層20Aにおける接続用導電部22となる部分および高周波シールド用導電部26となる部分に作用させる磁場の強度は、平均で0.1〜2.5テスラとなる大きさが好ましい。
成形材料層20Aの硬化処理は、使用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱処理によって行われる。加熱により成形材料層20Aの硬化処理を行う場合には、電磁石にヒーターを設ければよい。具体的な加熱温度および加熱時間は、成形材料層20Aを構成する高分子物質形成材料などの種類、導電性粒子Pの移動に要する時間などを考慮して適宜選定される。
In the above, the strength of the magnetic field applied to the portion serving as the
The curing treatment of the molding material layer 20A is appropriately selected depending on the material used, but is usually performed by a heat treatment. When the curing treatment of the molding material layer 20A is performed by heating, a heater may be provided to the electromagnet. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the polymer material forming material constituting the molding material layer 20A, the time required for the movement of the conductive particles P, and the like.
第1の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20の機能部21には、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、当該接続用導電部22と同方向に伸びる円筒状の高周波シールド用導電部26が、個々の接続用導電部22に対して同心的に位置されることにより当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されているため、当該高周波シールド用導電部26をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズおよび隣接する接続用導電部22からのノイズの両方を抑制することができる。従って、この第1の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図6は、本発明の第2の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図7は、第2の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第2の例に係る異方導電性コネクター10は、第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12内には、厚み方向に導電性を有する弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に支持された状態で配置されている。
FIG. 6 is a plan view illustrating an anisotropic conductive connector according to a second example of the present invention, and FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the second example. It is sectional drawing.
The anisotropically
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、個々の接続用導電部22を取り囲むよう配置された厚み方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26と、各接続用導電部22および各高周波シールド用導電部26を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、この機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。
この例では、接続用導電部22の各々は、円柱状の形状を有し、格子点位置に従って配列されている。また、高周波シールド用導電部26の各々は、円柱状の形状を有し、複数(図示の例では8つ)の高周波シールド用導電部26が、接続用導電部22の径より大きい径の同心円(図6において二点鎖線で示す。)に沿って当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および高周波シールド用導電部26には、図7に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、絶縁部23は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
In this example, each of the connection
As shown in FIG. 7, the conductive particles P exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction on the connection
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。
A supported
このような異方導電性コネクター10においては、同一の接続用導電部22を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部26の間の離間距離が測定信号の波長の1/10以下であることが好ましい。この離間距離が過大である場合には、隣接する高周波シールド用導電部26の間から高周波ノイズが通過しやすくなるため、高周波シールド用導電部26によるシールド効果が低下し、高周波信号による電気的検査が困難となることがある。
In such an anisotropic
この第2の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、第2の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropically
Further, the anisotropic
第2の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20の機能部21には、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、当該接続用導電部22と同方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26が、個々の接続用導電部22の同心円に沿って当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されているため、当該高周波シールド用導電部26をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズおよび隣接する接続用導電部22からのノイズの両方を抑制することができる。従って、この第2の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図8は、本発明の第3の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図9は、第3の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第3の例に係る異方導電性コネクター10は、第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12には、厚み方向に導電性を有する弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に支持された状態で配置されている。
FIG. 8 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a third example of the present invention, and FIG. 9 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the third example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、複数の接続用導電部22を含む導電部群25を取り囲むよう配置された厚み方向に伸びる1つの高周波シールド用導電部26と、各接続用導電部22および高周波シールド用導電部26を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、この機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。
この例では、接続用導電部22の各々は、円柱状の形状を有し、格子点位置に従って配列されている。また、高周波シールド用導電部26は、矩形の筒状の形状を有すると共に、その筒孔が導電部群25の寸法より大きい寸法を有し、当該筒孔内に導電部群25が収納されて当該導電部群25を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および高周波シールド用導電部26には、図9に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、絶縁部23は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
In this example, each of the connection
As shown in FIG. 9, the conductive particles P exhibiting magnetism are oriented in the thickness direction in the connection
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。
A supported
この第3の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、第3の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropically
Further, the anisotropic
第3の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20の機能部21には、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、当該接続用導電部22と同方向に伸びる矩形の筒状の高周波シールド用導電部26が、その筒孔内に全ての接続用導電部22を含む導電部群25が収納されることにより当該導電部群25を取り囲むよう配置されているため、当該高周波シールド用導電部26をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第3の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図10は、本発明の第4の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図11は、第4の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第4の例に係る異方導電性コネクター10は、第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12には、厚み方向に導電性を有する弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に支持された状態で配置されている。
FIG. 10 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a fourth example of the present invention, and FIG. 11 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the fourth example. It is sectional drawing.
The anisotropically
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、全ての接続用導電部22を含む導電部群25(図10において一点鎖線で示す。)を取り囲むよう配置された厚み方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26と、各接続用導電部22および高周波シールド用導電部26を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。
この例においては、接続用導電部22の各々は、円柱状の形状を有し、格子点位置に従って配列されている。また、高周波シールド用導電部26の各々は、円柱状の形状を有し、複数の高周波シールド用導電部26が、導電部群25の寸法より大きい寸法の矩形の辺に沿って当該導電部群25を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および高周波シールド用導電部26には、図11に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、絶縁部23は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
In this example, each of the connection
As shown in FIG. 11, the conductive particles P having magnetism are aligned in the thickness direction in the connection
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。
A supported
このような異方導電性コネクター10においては、導電部群25を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部26の間の離間距離が測定信号の波長の1/10以下であることが好ましい。この離間距離が過大である場合には、隣接する高周波シールド用導電部26の間から高周波ノイズが通過しやすくなるため、高周波シールド用導電部26によるシールド効果が低下し、高周波信号による電気的検査が困難となることがある。
In such an anisotropic
この第4の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、第4の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
Further, the anisotropic
第4の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20の機能部21には、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、当該接続用導電部22と同方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26が、全ての接続用導電部22を含む導電部群25を取り囲むよう配置されているため、当該高周波シールド用導電部26をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第4の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図12は、本発明の第5の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図13は、第5の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第5の例に係る異方導電性コネクター10は、第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12には、厚み方向に導電性を有する弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に積重されて支持された状態で配置されている。
FIG. 12 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a fifth example of the present invention, and FIG. 13 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the fifth example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、これらの接続用導電部22を含む接続用導電部群(図12において二点鎖線で示す。)の周囲に形成された複数の非接続用導電部24と、全ての接続用導電部22および全ての非接続用導電部24を含む導電部群25(図12において一点鎖線で示す。)を取り囲むよう配置された厚み方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26と、各接続用導電部22および高周波シールド用導電部26を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、この機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。
この例では、接続用導電部22および非接続用導電部24の各々は、円柱状の形状を有し、これらは格子点位置に従って配列されている。また、高周波シールド用導電部26の各々は、円柱状の形状を有し、複数の高周波シールド用導電部26が、導電部群25の寸法より大きい寸法の矩形の辺に沿って当該導電部群25を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および高周波シールド用導電部26には、図13に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、絶縁部23は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
In this example, each of the connecting
As shown in FIG. 13, the conductive particles P exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction on the connection
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。
A supported
この第5の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、導電部群25を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部26の間の離間距離は、前述の第4の例に係る異方導電性コネクター10と同様である。
また、第5の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
The distance between the adjacent high-frequency shield
Further, the anisotropic
第5の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20の機能部21には、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、当該接続用導電部22と同方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26が、全ての接続用導電部22を含む導電部群25を取り囲むよう配置されているため、当該高周波シールド用導電部26をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第5の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図14は、本発明の第6の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図15は、第6の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第6の例に係る異方導電性コネクター10は、接続すべき電極のパターンに対応するパターンに従って複数の円形の開口12(図14において破線で示す。)が形成された全体が矩形のフレーム板11を有し、このフレーム板11には、厚み方向に導電性を有する矩形の弾性異方導電膜20が固定支持されている。また、この例におけるフレーム板11における四隅の位置には、接続すべき回路装置に対する位置決めを行うための位置決め孔13が形成されている。
FIG. 14 is a plan view showing an anisotropically conductive connector according to a sixth example of the present invention, and FIG. 15 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropically conductive connector according to the sixth example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、それぞれ厚み方向に伸びる円柱状の接続用導電部22と、この接続用導電部22の周囲に一体に形成された絶縁部23とよりなる複数の機能部21を有し、これらの機能部21の各々は、フレーム板11の各開口12内に位置するよう配置されている。
各機能部21の周縁には、フレーム板11の両面の各々に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21の各々に一体に連続して形成されている。この被支持部28には、それぞれ厚み方向に伸びてフレーム板11に電気的に接続された複数の高周波シールド用導電部26が形成されている。これらの高周波シールド用導電部26の各々は、接続用導電部22の径より大きい内径を有する円筒状の形状を有し、1つの接続用導電部22に対して同心的に位置されることにより当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および被支持部28における高周波シールド用導電部26には、図15に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、機能部21における絶縁部23および被支持部28における高周波シールド用導電部26以外の部分は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
On the periphery of each
As shown in FIG. 15, conductive particles P exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction on the
フレーム板11を構成する材料としては、導電性を有するものであって、当該フレーム板11が容易に変形せず、その形状が安定に維持される程度の剛性を有するものであれば特に限定されないが、金属材料を用いることが好ましい。
フレーム板11を構成する金属材料の具体例としては、鉄、銅、ニッケル、クロム、コバルト、マグネシウム、マンガン、モリブデン、インジウム、鉛、パラジウム、チタン、タングステン、アルミニウム、金、白金、銀などの金属またはこれらを2種以上組み合わせた合金若しくは合金鋼などが挙げられる。
The material constituting the
Specific examples of the metal material constituting the
この第6の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、第6の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropically
Further, the anisotropic
第6の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20には、機能部21に配置された、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、被支持部28に、接続用導電部22と同方向に伸びる円筒状の高周波シールド用導電部26が、個々の接続用導電部22に対して同心的に位置されることにより当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されており、しかも、高周波シールド用導電部26の各々は、導電性を有するフレーム板11に電気的に接続されているため、当該フレーム板11をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズおよび隣接する接続用導電部22からのノイズの両方を抑制することができる。従って、この第6の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropically
図16は、本発明の第7の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図17は、第7の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第7の例に係る異方導電性コネクター10は、第6の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11には、厚み方向に導電性を有する矩形の弾性異方導電膜20が固定支持されている。
FIG. 16 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a seventh example of the present invention, and FIG. 17 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the seventh example. It is sectional drawing.
The anisotropically
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、それぞれ厚み方向に伸びる円柱状の接続用導電部22と、この接続用導電部22の周囲に一体に形成された絶縁部23とよりなる複数の機能部21を有し、これらの機能部21の各々は、フレーム板11の各開口12内に位置するよう配置されている。
各機能部21の周縁には、フレーム板11の両面の各々に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21の各々に一体に連続して形成されている。この被支持部28には、それぞれ厚み方向に伸びてフレーム板11に電気的に接続された複数の高周波シールド用導電部26が形成されている。これらの高周波シールド用導電部26の各々は、円柱状の形状を有し、複数(図示の例では8つ)の高周波シールド用導電部26が、接続用導電部22の径より大きい径の同心円(図16において二点鎖線で示す。)に沿って当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および被支持部28における高周波シールド用導電部26には、図17に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、機能部21における絶縁部23および被支持部28における高周波シールド用導電部26以外の部分は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
On the periphery of each
As shown in FIG. 17, the conductive particles P exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction on the
この第7の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、接続用導電部25を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部26の間の離間距離は、前述の第2の例に係る異方導電性コネクター10と同様である。
また、第7の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
The distance between adjacent high-frequency shield
The anisotropically
第7の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20には、機能部21に配置された、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、被支持部28に、接続用導電部22と同方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26が、個々の接続用導電部22の同心円に沿って当該接続用導電部22を取り囲むよう配置されており、しかも、高周波シールド用導電部26の各々は、導電性を有するフレーム板11に電気的に接続されているため、当該フレーム板11をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズおよび隣接する接続用導電部22からのノイズの両方を抑制することができる。従って、この第7の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropically
図18は、本発明の第8の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図19は、第8の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第8の例に係る異方導電性コネクター10は、第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12には、厚み方向に導電性を有する弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に支持された状態で配置されている。
FIG. 18 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to an eighth example of the present invention, and FIG. 19 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the eighth example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、各接続用導電部22を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、この機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。この例では、接続用導電部22の各々は、円柱状の形状を有し、格子点位置に従って配列されている。
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。この被支持部28には、厚み方向に伸びてフレーム板11に電気的に接続された高周波シールド用導電部26が形成されている。この例における高周波シールド用導電部26は、矩形の筒状の形状を有すると共に、その筒孔がフレーム板11の開口12の寸法より大きい寸法を有し、当該筒孔内に機能部21における全ての接続用導電部22を含む導電部群25(図18において一点鎖線で示す。)が収納されて当該導電部群25を取り囲むよう配置されている。
また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および被支持部28における高周波シールド用導電部26には、図19に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、機能部21における絶縁部23および被支持部28における高周波シールド用導電部26以外の部分は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
A supported
In addition, on both surfaces of the
As shown in FIG. 19, the conductive particles P exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction on the
この第8の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、第8の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
The anisotropically
第8の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20には、機能部21に配置された、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、被支持部28に、接続用導電部22と同方向に伸びる矩形の筒状の高周波シールド用導電部26が、その筒孔内に全ての接続用導電部22を含む導電部群25が収納されることにより当該導電部群25を取り囲むよう配置されており、しかも、高周波シールド用導電部26は導電性を有するフレーム板11に電気的に接続されているため、当該フレーム板11をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第8の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropically
図20は、本発明の第9の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図21は、第9の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第9の例に係る異方導電性コネクター10は、第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11の開口12には、厚み方向に導電性を有する弾性異方導電膜20が、当該フレーム板11の開口縁部に支持された状態で配置されている。
FIG. 20 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a ninth example of the present invention, and FIG. 21 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the ninth example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、接続すべき回路装置の電極のパターンに対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部22と、各接続用導電部22を相互に絶縁する絶縁部23とよりなる機能部21を有し、機能部21は、フレーム板11の開口12内に位置するよう配置されている。この例では、接続用導電部22の各々は、円柱状の形状を有し、格子点位置に従って配列されている。
機能部21の周縁には、フレーム板11における開口縁部に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21に一体に連続して形成されている。具体的には、この例における被支持部28は、二股状に形成されており、フレーム板11における開口縁部を把持するよう密着した状態で固定支持されている。この被支持部28には、それぞれ厚み方向に伸びてフレーム板11に電気的に接続された複数の円柱状の高周波シールド用導電部26が形成されている。この例における高周波シールド用導電部26の各々は、フレーム板11の開口12の寸法より大きい寸法の矩形の辺に沿って、機能部21における全ての接続用導電部22を含む導電部群25(図20において一点鎖線で示す。)を取り囲むよう配置されている。
また、弾性異方導電膜20における機能部21の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および被支持部28における高周波シールド用導電部26には、図21に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、機能部21における絶縁部23および被支持部28における高周波シールド用導電部26以外の部分は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
A supported
In addition, on both surfaces of the
As shown in FIG. 21, the conductive particles P exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction on the connection
この第9の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、導電部群25を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部26の間の離間距離は、前述の第4の例に係る異方導電性コネクター10と同様である。
また、第9の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
The distance between the adjacent high-frequency shield
Further, the anisotropic
第9の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20には、機能部21に配置された、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、被支持部28に、接続用導電部22と同方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26が、全ての接続用導電部22を含む導電部群25を取り囲むよう配置されており、しかも、高周波シールド用導電部26の各々は、導電性を有するフレーム板11に電気的に接続されているため、当該フレーム板11をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第9の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図22は、本発明の第10の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図23は、第10の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第10の例に係る異方導電性コネクター10は、第6の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11には、厚み方向に導電性を有する矩形の弾性異方導電膜20が固定支持されている。
FIG. 22 is a plan view showing an anisotropic conductive connector according to a tenth example of the present invention, and FIG. 23 is an explanatory diagram showing an enlarged configuration of a main part of the anisotropic conductive connector according to the tenth example. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、それぞれ厚み方向に伸びる円柱状の接続用導電部22と、この接続用導電部22の周囲に一体に形成された絶縁部23とよりなる複数の機能部21を有し、これらの機能部21の各々は、フレーム板11の各開口12内に位置するよう配置されている。
各機能部21の周縁には、フレーム板11の両面の各々に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21の各々に一体に連続して形成されている。この被支持部28には、厚み方向に伸びてフレーム板11に電気的に接続された高周波シールド用導電部26が形成されている。この例の高周波シールド用導電部26は、矩形の筒状の形状を有すると共に、その筒孔が全ての接続用導電部22を含む導電部群25(図22において一点鎖線で示す。)の寸法より大きい寸法を有し、当該筒孔内に導電部群25が収納されて当該導電部群25を取り囲むよう配置されている。また、弾性異方導電膜20の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および被支持部28における高周波シールド用導電部26には、図23に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、機能部21における絶縁部23および被支持部28における高周波シールド用導電部26以外の部分は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
On the periphery of each
As shown in FIG. 23, conductive particles P exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction on the
この第10の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、第10の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
Further, the anisotropic
第10の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20には、機能部21に配置された、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、被支持部28に、接続用導電部22と同方向に伸びる矩形の筒状の高周波シールド用導電部26が、その筒孔内に全ての接続用導電部22を含む導電部群25が収納されることにより当該導電部群25を取り囲むよう配置されており、しかも、高周波シールド用導電部26は導電性を有するフレーム板11に電気的に接続されているため、当該フレーム板11をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第10の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
図24は、本発明の第11の例に係る異方導電性コネクターを示す平面図、図25は、第11の例に係る異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。
第11の例に係る異方導電性コネクター10は、第6の例に係る異方導電性コネクター10と同様の構成のフレーム板11を有し、このフレーム板11には、厚み方向に導電性を有する矩形の弾性異方導電膜20が固定支持されている。
FIG. 24 is a plan view showing an anisotropically conductive connector according to an eleventh example of the present invention, and FIG. It is sectional drawing.
The anisotropic
弾性異方導電膜20は、その基材が弾性高分子物質よりなり、それぞれ厚み方向に伸びる円柱状の接続用導電部22と、この接続用導電部22の周囲に一体に形成された絶縁部23とよりなる複数の機能部21を有し、これらの機能部21の各々は、フレーム板11の各開口12内に位置するよう配置されている。
各機能部21の周縁には、フレーム板11の両面の各々に積重されて固定支持された被支持部28が、当該機能部21の各々に一体に連続して形成されている。この被支持部28には、それぞれ厚み方向に伸びてフレーム板11に電気的に接続された複数の円柱状の高周波シールド用導電部26が形成されている。この例における高周波シールド用導電部26の各々は、全ての接続用導電部22を含む導電部群25(図24において一点鎖線で示す。)の寸法より大きい寸法の矩形の辺に沿って、機能部21における導電部群25を取り囲むよう配置されている。
また、弾性異方導電膜20の両面には、接続用導電部22および高周波シールド用導電部26の各々が位置する個所に、それら以外の表面から突出する突出部22a,26aが形成されている。
弾性異方導電膜20の機能部21における接続用導電部22および被支持部28における高周波シールド用導電部26には、図25に示すように、磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に含有されている。これに対して、機能部21における絶縁部23および被支持部28における高周波シールド用導電部26以外の部分は、導電性粒子Pが全く或いは殆ど含有されていないものである。
The elastic anisotropic
On the periphery of each
Further, on both surfaces of the elastic anisotropic
As shown in FIG. 25, the conductive particles P exhibiting magnetism are arranged in the thickness direction in the connection
この第11の例に係る異方導電性コネクター10において、弾性異方導電膜を構成する弾性高分子物質の材質、並びに接続用導電部22および高周波シールド用導電部26における導電性粒子Pの材質としては、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様のものを用いることができる。
また、導電部群25を取り囲む互いに隣接する高周波用シールド導電部26の間の離間距離は、前述の第4の例に係る異方導電性コネクター10と同様である。
また、第11の例に係る異方導電性コネクター10は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法に準じて製造することができる。
In the anisotropic
The distance between the adjacent high-frequency shield
Further, the anisotropic
第11の例に係る異方導電性コネクター10によれば、弾性異方導電膜20には、機能部21に配置された、接続対象電極に電気的に接続される接続用導電部22の他に、被支持部28に、接続用導電部22と同方向に伸びる複数の高周波シールド用導電部26が、全ての接続用導電部22を含む導電部群25を取り囲むよう配置されており、しかも、高周波シールド用導電部26の各々は、導電性を有するフレーム板11に電気的に接続されているため、当該フレーム板11をアースに接続することにより、各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズを抑制することができる。従って、この第11の例の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the anisotropic
以上、本発明の異方導電性コネクターは上記の第1の例〜第11の例に限定されず、種々の変更を加えることが可能である。
例えば、図26に示すように、弾性異方導電膜20における機能部21には、個々の接続用導電部22を取り囲む高周波シールド用導電部26aに加えて、更に、複数の接続用導電部22を含む導電部群を取り囲む高周波シールド用導電部26bが形成されていてもよく、図27に示すように、機能部21に形成された高周波シールド用導電部26a,26bに加えて、更に、被支持部28に、複数の接続用導電部22を含む導電部群を取り囲む高周波シールド用導電部26cが形成されていてもよい。
また、図28に示すように、機能部21に、それぞれ複数の接続用導電部22を含む、互いに離間して形成された複数の導電部群25(図において一点鎖線で示す。)が形成されている場合には、高周波シールド用導電部26が全ての導電部群25を取り囲むよう形成されていてもよく、また、図29に示すように、高周波シールド用導電部26が個々の導電部群25を取り囲むよう形成されていてもよい。
また、本発明の異方導電性コネクターの用途は、回路装置の電気的検査に限定されるものではなく、電子部品をプリント配線板に実装するために用いられるコネクターとしても有用である。
As described above, the anisotropic conductive connector of the present invention is not limited to the above-described first to eleventh examples, and various modifications can be made.
For example, as shown in FIG. 26, the
Further, as shown in FIG. 28, a plurality of conductive part groups 25 (indicated by dashed lines in the figure) formed apart from each other and including a plurality of connection
Further, the application of the anisotropic conductive connector of the present invention is not limited to electrical inspection of a circuit device, but is also useful as a connector used for mounting an electronic component on a printed wiring board.
〔回路装置の電気的検査装置〕
図30は、本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第1の例における構成を示す説明図である。この回路装置の電気的検査装置は、矩形の検査用回路基板40と、この検査用回路基板40の表面上に配置された、前述の第1の例の異方導電性コネクター10とを有する。
検査用回路基板40の表面には、検査対象である回路装置1の被検査電極2のパターンに対応するパターンに従って複数の円形検査用電極41が配置され、更に、異方導電性コネクター10における高周波シールド用導電部26のパターンに対応するパターンに従って複数のリング状のアース用電極42が配置されている。具体的には、アース用電極42の各々は、1つの検査用電極41に対して同心的に位置されることにより当該検査用電極41を取り囲むよう配置されている。検査用電極41はテスター(図示省略)に電気的に接続され、一方、アース用電極42はアースに接続されている。また、検査用回路基板40の表面の四隅の各々の位置には、当該検査用回路基板40の表面から上方に伸びるガイドピン43が設けられている。
そして、異方導電性コネクター10におけるフレーム板11の位置決め孔13に検査用回路基板40のガイドピン43が挿入されることにより、弾性異方導電膜20における接続用導電部22が検査用電極41上に位置され、高周波シールド用導電部26がアース用電極42上に位置された状態で、当該異方導電性コネクター10が検査用回路基板40の表面上に配置されて固定されている。
[Electrical inspection equipment for circuit devices]
FIG. 30 is an explanatory diagram showing a configuration of a first example of an electrical inspection device for a circuit device according to the present invention. The electrical inspection device of this circuit device has a rectangular inspection circuit board 40 and the anisotropic
A plurality of circular test electrodes 41 are arranged on the surface of the test circuit board 40 in accordance with a pattern corresponding to the pattern of the test electrode 2 of the circuit device 1 to be tested. A plurality of ring-shaped grounding electrodes 42 are arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the shield
Then, by inserting the guide pins 43 of the test circuit board 40 into the positioning holes 13 of the
このような回路装置の電気的検査装置においては、異方導電性コネクター10上に、被検査電極2が接続用導電部22上に位置されるよう回路装置1が配置され、この状態で、例えば回路装置1を下方に押圧することにより、異方導電性コネタクー10における接続用導電部22の各々が、被検査電極2と検査用電極41とにより挟圧された状態となり、これにより、接続用導電部22にその厚み方向に導電路が形成される結果、回路装置1の被検査電極2の各々と検査用回路基板40の検査用電極41の各々との電気的接続が達成され、この状態で、回路装置1に対する所要の電気的検査が行われる。
ここで、検査対象である回路装置1としては、パッケージIC、MCM等の半導体集積回路装置、集積回路が形成されたウエハ、前記半導体集積回路装置を構成するためのプリント回路基板、前記半導体集積回路装置を搭載するためのプリント回路基板などが挙げられる。
In such an electrical inspection device for a circuit device, the circuit device 1 is arranged on the anisotropic
Here, the circuit device 1 to be inspected includes a packaged IC, a semiconductor integrated circuit device such as an MCM, a wafer on which an integrated circuit is formed, a printed circuit board for forming the semiconductor integrated circuit device, and the semiconductor integrated circuit. There is a printed circuit board for mounting the device.
このような回路装置の電気的検査装置によれば、第1の例に係る異方導電性コネクター10が設けられており、当該異方導電性コネクター10における高周波シールド用導電部26の各々が、検査用回路基板40におけるアース用電極42を介してアースに接続されているため、異方導電性コネクター10の各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズおよび隣接する接続用導電部22からのノイズの両方を抑制することができる。従って、検査対象である回路装置1のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置1についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the electrical inspection device for such a circuit device, the anisotropic
図31は、本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第2の例における構成を示す説明図である。この回路装置の電気的検査装置は、矩形の検査用回路基板40と、この検査用回路基板40の表面上に配置された、前述の第6の例の異方導電性コネクター10とを有する。
検査用回路基板40の表面には、検査対象である回路装置1の被検査電極2のパターンに対応するパターンに従って複数の円形の検査用電極41が形成されており、これらの検査用電極41はテスター(図示省略)に電気的に接続されている。検査用回路基板40の表面の四隅の各々の位置には、当該検査用回路基板40の表面から上方に伸びるガイドピン43が設けられており、異方導電性コネクター10におけるフレーム板11の位置決め孔13に検査用回路基板40のガイドピン43が挿入されることにより、弾性異方導電膜20における接続用導電部22が検査用電極41上に位置された状態で、当該異方導電性コネクター10が検査用回路基板40の表面上に配置されて固定されている。
また、異方導電性コネクター10におけるフレーム板11は、アースに接続されている。
FIG. 31 is an explanatory diagram showing the configuration of a second example of the electrical inspection device for a circuit device according to the present invention. The electrical inspection device of this circuit device has a rectangular inspection circuit board 40 and the anisotropic
On the surface of the inspection circuit board 40, a plurality of circular inspection electrodes 41 are formed in accordance with a pattern corresponding to the pattern of the electrode 2 to be inspected of the circuit device 1 to be inspected. It is electrically connected to a tester (not shown). Guide pins 43 extending upward from the surface of the inspection circuit board 40 are provided at each of the four corners of the surface of the inspection circuit board 40, and positioning holes of the
The
このような回路装置の電気的検査装置においては、異方導電性コネクター10上に、被検査電極2が接続用導電部22上に位置されるよう回路装置1が配置され、この状態で、例えば回路装置1を下方に押圧することにより、異方導電性コネタクー10における接続用導電部22の各々が、被検査電極2と検査用電極41とにより挟圧された状態となり、これにより、接続用導電部22にその厚み方向に導電路が形成される結果、回路装置1の被検査電極2の各々と検査用回路基板40の検査用電極41の各々との電気的接続が達成され、この状態で、回路装置1に対する所要の電気的検査が行われる。ここで、検査対象である回路装置1は、図30に示す回路装置の電気的検査装置と同様である。
In such an electrical inspection device for a circuit device, the circuit device 1 is arranged on the anisotropic
このような回路装置の電気的検査装置によれば、第6の例に係る異方導電性コネクター10が設けられており、当該異方導電性コネクター10における高周波シールド用導電部26の各々が、フレーム板11を介してアースに接続されているため、異方導電性コネクター10の各接続用導電部22において、高周波信号に対する外部からのノイズおよび隣接する接続用導電部22からのノイズの両方を抑制することができる。従って、検査対象である回路装置1のクロック周波数が例えば1GHz以上のものであっても、当該回路装置1についてノイズの影響を受けずに所期の電気的検査を行うことができる。
According to the electrical inspection device for such a circuit device, the anisotropic
本発明の回路装置の電気的検査装置においては、上記の例に限定されず種々の変更を加えることが可能である。
例えば、図30に示す回路装置の電気的検査装置において、第1の例に係る異方導電性コネクター10の代わりに、第2の例〜第5の例に係る異方導電性コネクターおよび図26〜図29に示す異方導電性コネクターのいずれかを用いることができる。この場合には、検査用回路基板40におけるアース用電極42は、用いられる異方導電性コネクターにおける弾性異方導電膜の機能部に形成された高周波シールド用導電部のパターンに対応するパターンに従って配置すればよい。また、図27に示す異方導電性コネクターを用いる場合には、フレーム板11をアースに接続することが好ましい。
また、図31に示す回路装置の電気的検査において、第6の例に係る異方導電性コネクター10の代わりに、第7の例〜第11の例に係る異方導電性コネクターのいずれかを用いることができる。
また、図30に示す回路装置の電気的検査装置において、第1の例に係る異方導電性コネクター10の代わりに、第6の例の異方導電性コネクター10を用いることができる。このような構成においては、図32に示すように、検査用回路基板40におけるアース用電極42のみがアースに接続されていてもよいが、図33に示すように、アース用電極42およびフレーム板11の両方がアースに電気的に接続されていることが好ましい。
The electrical inspection device for a circuit device according to the present invention is not limited to the above example, and various changes can be made.
For example, in the electrical inspection apparatus for a circuit device shown in FIG. 30, in place of the anisotropic
In the electrical inspection of the circuit device shown in FIG. 31, any of the anisotropic conductive connectors according to the seventh to eleventh examples is replaced with the anisotropic
Further, in the electrical inspection apparatus for a circuit device shown in FIG. 30, the anisotropic
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.
〈実施例1〉
図14および図15に示す構成に従い、下記の条件により、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。
[フレーム板(11)]
以下の仕様のフレーム板を作製した。
材質:ステンレス鋼(JIS規格記号:SUS304),寸法:10mm×10mm×0.1mm,開口(12)の直径:500μm,開口(12)の数:16個(4個×4個),開口(12)の配置ピッチ:1mm
[弾性異方導電膜成形用金型]
図3に示す構成に従い、下記の仕様の上型(30)および下型(35)よりなる弾性異方導電膜成形用金型を作製した。
強磁性体基板(31,36):材質;鉄鋼材料(JIS規格記号:SS400),厚み;6mm,
強磁性体層(32,37):材質; ニッケル,直径;300μm,厚み;50μm,数;16個(4個×4個),配置ピッチ;1mm,
強磁性体層(33,38):材質;ニッケル,内径;600μm,外径;800μm,厚み;50μm,数;16個(4個×4個),配置ピッチ;1mm,
非磁性体層(34,39):材質;ドライフィルムレジストの硬化物,厚み;100μm
[スペーサー(15,16)]
それぞれ材質がステンレス鋼(JIS規格記号:SUS304)であり、厚みが100μmで、7.5mm×7.5mmの開口を有する2枚のスペーサー(15,16)を作製した。
<Example 1>
According to the configuration shown in FIGS. 14 and 15, the anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was manufactured under the following conditions.
[Frame plate (11)]
A frame plate having the following specifications was produced.
Material: stainless steel (JIS standard symbol: SUS304), dimensions: 10 mm x 10 mm x 0.1 mm, diameter of opening (12): 500 µm, number of openings (12): 16 (4 x 4), opening ( 12) Arrangement pitch: 1 mm
[Mold for forming elastic anisotropic conductive film]
According to the configuration shown in FIG. 3, a mold for molding an elastic anisotropic conductive film having the following specifications (upper die (30) and lower die (35)) was produced.
Ferromagnetic substrate (31, 36): material; steel material (JIS standard symbol: SS400), thickness: 6 mm,
Ferromagnetic layer (32, 37): material; nickel, diameter: 300 μm, thickness: 50 μm, number: 16 (4 × 4), arrangement pitch: 1 mm,
Ferromagnetic layer (33, 38): material; nickel, inner diameter: 600 μm, outer diameter: 800 μm, thickness: 50 μm, number: 16 (4 × 4), arrangement pitch: 1 mm,
Non-magnetic layer (34, 39): material; cured product of dry film resist, thickness: 100 μm
[Spacers (15, 16)]
Two spacers (15, 16) each made of stainless steel (JIS standard symbol: SUS304), having a thickness of 100 μm, and having an opening of 7.5 mm × 7.5 mm were produced.
[弾性異方導電膜の形成]
付加型液状シリコーンゴム100重量部に、平均粒子径が30μmの導電性粒子80重量部を添加して混合し、その後、減圧による脱泡処理を施すことにより、弾性異方導電膜成形用の成形材料を調製した。以上において、導電性粒子としては、ニッケルよりなる芯粒子に金メッキが施されててなるもの(平均被覆量:芯粒子の重量の8%)を用いた。
次いで、上記の金型における上型(30)および下型(35)の各々の成形面に、調製した成形材料をスクリーン印刷によって塗布し、下型(35)の成形面に形成された成形材料の塗布層上に、スペーサー(16)を介してフレーム板(11)を位置合わせして配置し、更に、このフレーム板(11)上に、スペーサー(15)を介して、成形材料の塗布層が形成された上型(30)を位置合わせてして配置することにより、上型(30)および下型(35)の間の成形空間内に成形材料層を形成した。
そして、上型(30)の強磁性体基板(31)の上面および下型(35)の強磁性体基板(36)の下面に電磁石を配置してこれを作動させることにより、成形材料層に対し、上型(30)の強磁性体層(32,33)と下型(35)の強磁性体層(37,38)との間に位置する部分に、その厚み方向に1.3Tの磁場を作用させ、この状態で、100℃、1時間の条件で、成形材料層の硬化処理を行うことにより、フレーム板(11)に弾性異方導電膜(20)を形成して本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。
[Formation of elastic anisotropic conductive film]
To 100 parts by weight of the addition type liquid silicone rubber, 80 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 30 μm are added and mixed, and then subjected to defoaming treatment under reduced pressure to form an elastic anisotropic conductive film. Materials were prepared. In the above, as the conductive particles, those obtained by applying gold plating to core particles made of nickel (average coating amount: 8% of the weight of the core particles) were used.
Next, the prepared molding material is applied by screen printing to each of the molding surfaces of the upper mold (30) and the lower mold (35) in the above mold, and the molding material formed on the molding surface of the lower mold (35). The frame plate (11) is positioned and arranged on the coating layer of (1) via a spacer (16), and the coating layer of a molding material is further placed on the frame plate (11) via a spacer (15). The upper mold (30) on which the was formed was aligned and arranged to form a molding material layer in a molding space between the upper mold (30) and the lower mold (35).
Electromagnets are arranged on the upper surface of the ferromagnetic substrate (31) of the upper die (30) and the lower surface of the ferromagnetic substrate (36) of the lower die (35) and actuated, thereby forming a molding material layer. On the other hand, the portion located between the ferromagnetic layers (32, 33) of the upper die (30) and the ferromagnetic layers (37, 38) of the lower die (35) has a thickness of 1.3T in its thickness direction. By applying a magnetic field and performing a curing treatment of the molding material layer in this state at 100 ° C. for 1 hour, an elastic anisotropic conductive film (20) is formed on the frame plate (11). The anisotropic conductive connector (10) was manufactured.
得られた異方導電性コネクター(10)における弾性異方導電膜(20)には、16個(4個×4個)の接続用導電部(22)が形成され、隣接する接続用導電部(22)間の中心間距離(ピッチ)は1mmである。接続用導電部(22)の各々は、直径が300μm、厚みが400μm、絶縁部の両面からの突出高さがそれぞれ50μmである。高周波シールド用導電部(26)の各々は、内径が600μm、外径が800μm、厚みが150μm、絶縁部(23)の両面からの突出高さがそれぞれ50μmである。絶縁部(23)の厚みは300μmである。
また、接続用導電部(22)中の導電性粒子の割合は体積分率で25%であり、高周波シールド用導電部(26)中の導電性粒子の割合は体積分率で25%であった。
Sixteen (4 × 4) connection conductive portions (22) are formed on the elastic anisotropic conductive film (20) in the obtained anisotropic conductive connector (10), and the adjacent connection conductive portions are formed. The center-to-center distance (pitch) between (22) is 1 mm. Each of the conductive portions for connection (22) has a diameter of 300 μm, a thickness of 400 μm, and a protrusion height from both sides of the insulating portion of 50 μm. Each of the high-frequency shield conductive portions (26) has an inner diameter of 600 μm, an outer diameter of 800 μm, a thickness of 150 μm, and a protrusion height from both surfaces of the insulating portion (23) of 50 μm. The thickness of the insulating part (23) is 300 μm.
The ratio of the conductive particles in the connecting conductive portion (22) was 25% by volume, and the ratio of the conductive particles in the high-frequency shielding conductive portion (26) was 25% by volume. Was.
[検査用回路基板]
図32に示す構成に従い、下記の仕様の検査用回路基板(40)を作製した。
検査用電極(41)は、直径が300μm、数が16個(4個×4個)、配置ピッチが1mm、であり、アース用電極(42)は、内径が600μm、外径が800μm、数が16個(4個×4個)、配置ピッチが1mmである。また、この検査用回路基板(40)は、検査用電極に電気的に接続された外部引出し端子(図示せず)を有し、検査用電極(41)と外部引出し端子との間に形成された各回路および当該外部引出し端子に接続された測定用プローブケーブルのインピーダンスZが50Ωに設計されている。
[Inspection circuit board]
According to the configuration shown in FIG. 32, an inspection circuit board (40) having the following specifications was produced.
The test electrode (41) has a diameter of 300 μm, a number of 16 (4 × 4), an arrangement pitch of 1 mm, and a ground electrode (42) having an inner diameter of 600 μm, an outer diameter of 800 μm, and a number of Are 16 pieces (4 pieces × 4 pieces), and the arrangement pitch is 1 mm. The inspection circuit board (40) has an external lead-out terminal (not shown) electrically connected to the test electrode, and is formed between the test electrode (41) and the external lead-out terminal. The impedance Z of each circuit and the measurement probe cable connected to the external lead-out terminal is designed to be 50Ω.
[異方導電性コネクターの評価]
上記の異方導電性コネクターについて、上記の検査用回路基板を用い、以下のようにして評価を行った。
パルスジェネレーターを検査用回路基板の引出し端子に測定用プローブケーブルを介して電気的に接続すると共に、オシロスコープの測定用端子を検査用回路基板の検査用電極に圧接した。この状態で、パルスジェネレーターによって、検査用回路基板の外部引出し端子に、設定電圧が2Vで下記表1に示す周波数の電気信号を供給し、検査用回路基板の検査用電極から出力された電気信号を、オシロスコープによって検知した。次いで、検知された電気信号の波形において、電圧が設定電圧の10%となる値(0.2V)から設定電圧の90%となる値(1.8V)に達するまでの時間を測定した。この時間を「T0 」とする。
また、検査用回路基板上に異方導電性コネクターを位置合わせてして配置し、パルスジェネレーターを検査用回路基板の引出し端子に測定用プローブケーブルを介して電気的に接続すると共に、オシロスコープの測定用端子を異方導電性コネクターの接続用導電部にその歪み率が20%となるよう圧接した。この状態で、パルスジェネレーターによって、検査用回路基板の外部引出し端子に、設定電圧が2Vで下記表1に示す周波数の電気信号を供給し、異方導電性コネクターの接続用導電部から出力された電気信号を、オシロスコープによって検知した。次いで、検知された電気信号の波形において、電圧が設定電圧の10%となる値(0.2V)から設定電圧の90%となる値(1.8V)に達するまでの時間を測定した。この時間を「T1 」とする。
そして、(T1 −T0 )/T0 の値を算出し、この値が0.05未満の場合をA、この値が0.05〜0.2の場合をB、この値が0.2を超える場合をCとして評価した。
ここで、(T1 −T0 )/T0 の値が0.2を超える場合には、伝送損失が大きいため、高周波特性の試験を行うことは実際上困難である。
また、この(T1 −T0 )/T0 の値の測定は、下記の条件1〜条件3の各々について行った。
条件1:異方導電性コネクターのフレーム板をアースに接続し、検査用回路基板のアース用電極をアースに接続しない。
条件2:異方導電性コネクターのフレーム板をアースに接続せず、検査用回路基板のアース用電極をアースに接続する。
条件3:異方導電性コネクターのフレーム板および検査用回路基板のアース用電極の両方をアースに接続する。
以上、結果を下記表1に示す。
[Evaluation of anisotropic conductive connectors]
The above anisotropic conductive connector was evaluated as follows using the circuit board for inspection.
The pulse generator was electrically connected to a lead-out terminal of the test circuit board via a probe cable for measurement, and the test terminal of the oscilloscope was pressed against the test electrode of the test circuit board. In this state, the pulse generator supplies an electric signal having a set voltage of 2 V and a frequency shown in Table 1 below to the external lead-out terminal of the test circuit board, and the electric signal output from the test electrode of the test circuit board. Was detected by an oscilloscope. Next, in the waveform of the detected electric signal, the time required for the voltage to reach a value (1.8 V) at which the voltage becomes 10% of the set voltage (0.2 V) and 90% of the set voltage was measured. This time is referred to as “T 0 ”.
In addition, the anisotropic conductive connector is aligned and placed on the inspection circuit board, and the pulse generator is electrically connected to the lead-out terminal of the inspection circuit board via the measurement probe cable, and the oscilloscope measurement is performed. Terminal was pressed against the connecting conductive portion of the anisotropic conductive connector so that the distortion rate was 20%. In this state, an electric signal having a set voltage of 2 V and a frequency shown in Table 1 below was supplied to the external lead-out terminal of the inspection circuit board by the pulse generator, and the electric signal was outputted from the connection conductive portion of the anisotropic conductive connector. Electrical signals were detected by an oscilloscope. Next, in the waveform of the detected electric signal, the time required for the voltage to reach a value (1.8 V) at which the voltage becomes 10% of the set voltage (0.2 V) and 90% of the set voltage was measured. This time is referred to as “T 1 ”.
Then, the value of (T 1 −T 0 ) / T 0 is calculated, and when this value is less than 0.05 A, when this value is 0.05 to 0.2, B and this value is 0. A case exceeding 2 was evaluated as C.
Here, when the value of (T 1 −T 0 ) / T 0 exceeds 0.2, it is practically difficult to perform a test of the high-frequency characteristics due to a large transmission loss.
The measurement of the value of (T 1 −T 0 ) / T 0 was performed for each of the following conditions 1 to 3.
Condition 1: The frame plate of the anisotropic conductive connector is connected to ground, and the ground electrode of the test circuit board is not connected to ground.
Condition 2: The frame electrode of the anisotropic conductive connector is not connected to ground, and the ground electrode of the inspection circuit board is connected to ground.
Condition 3: Both the frame plate of the anisotropic conductive connector and the ground electrode of the inspection circuit board are connected to ground.
The results are shown in Table 1 below.
〈比較例1〉
図34および図35に示す構成に従い、下記の条件により、比較用の異方導電性コネクター(50)を製造した。
[フレーム板(51)]
以下の仕様のフレーム板(51)を作製した。
材質:ステンレス鋼(JIS規格記号:SUS304),寸法:10mm×10mm×0.1mm,開口(52)の寸法:5.5mm×5.5mm
[弾性異方導電膜成形用金型]
図36に示す構成に従い、下記の仕様の上型(60)および下型(65)よりなる弾性異方導電膜成形用金型を作製した。
強磁性体基板(61,66):材質;鉄鋼材料(JIS規格記号:SS400),厚み;6mm,
強磁性体層(62,67):材質;ニッケル,直径;300μm,厚み;50μm,数;16個(4個×4個),配置ピッチ;1mm,
非磁性体層(63.68):材質;ドライフィルムレジストの硬化物,厚み;100μm
[スペーサー(70,71)]
それぞれ材質がステンレス鋼(JIS規格記号:SUS304)であり、厚みが100μmで、7.5mm×7.5mmの開口を有する2枚のスペーサー(70,71)を作製した。
<Comparative Example 1>
According to the configuration shown in FIGS. 34 and 35, an anisotropic conductive connector (50) for comparison was manufactured under the following conditions.
[Frame board (51)]
A frame plate (51) having the following specifications was produced.
Material: Stainless steel (JIS standard code: SUS304), Dimensions: 10 mm x 10 mm x 0.1 mm, Dimensions of opening (52): 5.5 mm x 5.5 mm
[Mold for forming elastic anisotropic conductive film]
According to the configuration shown in FIG. 36, a mold for forming an elastic anisotropic conductive film composed of an upper mold (60) and a lower mold (65) having the following specifications was produced.
Ferromagnetic substrate (61, 66): material; steel material (JIS standard symbol: SS400), thickness: 6 mm,
Ferromagnetic layer (62, 67): material; nickel, diameter: 300 μm, thickness: 50 μm, number: 16 (4 × 4), arrangement pitch: 1 mm,
Non-magnetic layer (63.68): material; cured product of dry film resist, thickness: 100 μm
[Spacers (70, 71)]
Two spacers (70, 71) each made of stainless steel (JIS standard symbol: SUS304), having a thickness of 100 μm, and having an opening of 7.5 mm × 7.5 mm were produced.
[弾性異方導電膜の形成]
付加型液状シリコーンゴム100重量部に、平均粒子径が30μmの導電性粒子53重量部を添加して混合し、その後、減圧による脱泡処理を施すことにより、弾性異方導電膜成形用の成形材料を調製した。以上において、導電性粒子としては、ニッケルよりなる芯粒子に金メッキが施されててなるもの(平均被覆量:芯粒子の重量の10%)を用いた。 次いで、上記の金型における上型(60)および下型(65)の各々の成形面に、調製した成形材料をスクリーン印刷によって塗布し、下型(65)の成形面に形成された成形材料の塗布層上に、スペーサー(71)を介してフレーム板(51)を位置合わせして配置し、更に、このフレーム板(51)上に、スペーサー(70)を介して、成形材料の塗布層が形成された上型(60)を位置合わせてして配置することにより、上型(60)および下型(65)の間の成形空間内に成形材料層を形成した。
そして、上型(60)の強磁性体基板(61)の上面および下型(65)の強磁性体基板(66)の下面に電磁石を配置してこれを作動させることにより、成形材料層に対し、上型(60)の強磁性体層(62)と下型(65)の強磁性体層(67)との間に位置する部分に、その厚み方向に1.3Tの磁場を作用させ、この状態で、100℃、1時間の条件で、成形材料層の硬化処理を行うことにより、フレーム板(51)に弾性異方導電膜を形成して比較用の異方導電性コネクター(50)を製造した。
[Formation of elastic anisotropic conductive film]
To 100 parts by weight of the addition type liquid silicone rubber, 53 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 30 μm are added and mixed, and then subjected to defoaming treatment under reduced pressure to form an elastic anisotropic conductive film. Materials were prepared. Above, as the conductive particles, those obtained by applying gold plating to core particles made of nickel (average coating amount: 10% of the weight of the core particles) were used. Next, the prepared molding material is applied by screen printing to each of the molding surfaces of the upper mold (60) and the lower mold (65) in the above mold, and the molding material formed on the molding surface of the lower mold (65). The frame plate (51) is positioned and arranged on the coating layer of (1) via a spacer (71), and the coating layer of a molding material is further placed on the frame plate (51) via a spacer (70). The upper mold (60) on which the was formed was aligned and arranged to form a molding material layer in a molding space between the upper mold (60) and the lower mold (65).
Then, an electromagnet is arranged on the upper surface of the ferromagnetic substrate (61) of the upper die (60) and the lower surface of the ferromagnetic substrate (66) of the lower die (65), and the electromagnet is actuated. On the other hand, a magnetic field of 1.3 T is applied to a portion located between the ferromagnetic layer (62) of the upper die (60) and the ferromagnetic layer (67) of the lower die (65) in the thickness direction thereof. In this state, the molding material layer is cured at 100 ° C. for one hour to form an elastic anisotropic conductive film on the frame plate (51), thereby forming a comparative anisotropic conductive connector (50). ) Manufactured.
得られた異方導電性コネクター(50)における弾性異方導電膜(55)の機能部(56)には、16個(4個×4個)の接続用導電部(57)が形成され、隣接する接続用導電部(57)間の中心間距離(ピッチ)は1mmである。接続用導電部(57)の各々は、直径が300μm、厚みが400μm、絶縁部(58)の両面からの突出高さがそれぞれ50μmである。絶縁部(58)の厚みは300μmである。
また、接続用導電部(57)中の導電性粒子の割合は体積分率で25%であった。
In the functional part (56) of the elastic anisotropic conductive film (55) in the obtained anisotropic conductive connector (50), 16 (4 × 4) connection conductive parts (57) are formed, The center-to-center distance (pitch) between adjacent connection conductive portions (57) is 1 mm. Each of the conductive portions for connection (57) has a diameter of 300 μm, a thickness of 400 μm, and a protrusion height from both surfaces of the insulating portion (58) of 50 μm. The thickness of the insulating part (58) is 300 μm.
The ratio of the conductive particles in the connecting conductive portion (57) was 25% by volume.
[異方導電性コネクターの評価]
上記の異方導電性コネクターについて、実施例1で作製した検査用回路基板を用い、異方導電性コネクターのフレーム板および検査用回路基板のアース用電極の両方をアースにしない条件に変更したこと以外は実施例1と同様にして評価を行った。結果を下記表1に示す。
[Evaluation of anisotropic conductive connectors]
With respect to the anisotropically conductive connector described above, using the inspection circuit board prepared in Example 1, the conditions were changed such that both the frame plate of the anisotropically conductive connector and the ground electrode of the inspection circuit board were not grounded. Except for the above, evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1 below.
1 回路装置
2 被検査電極
10 異方導電性コネクター
11 フレーム板
12 開口
13 位置決め孔
15,16 スペーサー
20 弾性異方導電膜
20A 成形材料層
21 機能部
22 接続用導電部
22a 突出部
23 絶縁部
24 非接続用導電部
25 導電部群
26,26a,26b,26c 高周波シールド用導電部
26a 突出部
28 被支持部
30 上型
31 強磁性体基板
32,33 強磁性体層
32a,33a 凹所
34 非磁性体層
35 上型
36 強磁性体基板
37,38 強磁性体層
37a,38a 凹所
39 非磁性体層
40 検査用回路基板
41 検査用電極
42 アース用電極
43 ガイドピン
50 異方導電性コネクター
51 フレーム板
52 開口
55 弾性異方導電膜
56 機能部
57 接続用導電部
58 絶縁部
60 上型
61 強磁性体基板
62 強磁性体層
63 非磁性体層
65 下型
66 強磁性体基板
67 強磁性体層
68 非磁性体層
70,71 スペーサー
P 導電性粒子
REFERENCE SIGNS LIST 1 circuit device 2 electrode under
Claims (18)
前記弾性異方導電膜には、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする異方導電性コネクター。 Anisotropic conductive material comprising an elastic anisotropic conductive film having a plurality of connecting conductive portions extending in a thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected and an insulating portion for insulating these connecting conductive portions from each other. In the sex connector,
An anisotropic conductive connector, wherein a conductive part for high-frequency shielding extending in a thickness direction is formed on the elastic anisotropic conductive film.
前記弾性異方導電膜には、個々の接続用導電部を取り囲むよう配置された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする異方導電性コネクター。 Anisotropic conductive material comprising an elastic anisotropic conductive film having a plurality of connecting conductive portions extending in a thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected and an insulating portion for insulating these connecting conductive portions from each other. In the sex connector,
An anisotropically conductive connector, wherein a conductive portion for high-frequency shielding extending in the thickness direction is formed on the elastic anisotropic conductive film so as to surround each of the conductive portions for connection.
前記弾性異方導電膜には、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする異方導電性コネクター。 Anisotropic conductive material comprising an elastic anisotropic conductive film having a plurality of connecting conductive portions extending in a thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected and an insulating portion for insulating these connecting conductive portions from each other. In the sex connector,
The elastic anisotropic conductive film is formed with a high-frequency shield conductive portion extending in the thickness direction and disposed so as to surround a conductive portion group including a plurality of connection conductive portions. connector.
このフレーム板の各開口に配置された、厚み方向に伸びる接続用導電部およびその周囲に一体に形成された絶縁部よりなる複数の機能部、並びにこれらの機能部の周囲に一体に形成され、前記フレーム板に積重されて固定された被支持部よりなる弾性異方導電膜と
を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜における被支持部には、個々の接続用導電部を取り囲むよう配置され、前記フレーム板に電気的に接続された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする異方導電性コネクター。 A conductive frame plate having a plurality of openings formed according to a pattern corresponding to an electrode to be connected,
A plurality of functional portions including a conductive portion for connection extending in the thickness direction and an insulating portion integrally formed therearound, and a plurality of functional portions formed integrally with the conductive portion for connection arranged around each opening of the frame plate, and integrally formed around these functional portions, An anisotropic conductive connector comprising an elastic anisotropic conductive film formed of a supported portion stacked and fixed on the frame plate,
In the supported portion of the elastic anisotropic conductive film, a high-frequency shielding conductive portion extending in the thickness direction, which is disposed so as to surround the individual connecting conductive portions and is electrically connected to the frame plate, is formed. An anisotropically conductive connector, characterized in that:
このフレーム板の開口に配置された、接続すべき電極に対応するパターンに従って配置された厚み方向に伸びる複数の接続用導電部およびこれらの接続用導電部を相互に絶縁する絶縁部を有する機能部、並びにこの機能部の周囲に一体に形成され、前記フレーム板に積重されて固定された被支持部よりなる弾性異方導電膜と
を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜における被支持部には、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置され、前記フレーム板に電気的に接続された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする異方導電性コネクター。 A conductive frame plate having an opening formed therethrough in the thickness direction,
A functional part having a plurality of connecting conductive parts arranged in an opening of the frame plate and extending in the thickness direction arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be connected, and an insulating part for mutually insulating these connecting conductive parts; And an anisotropically conductive connector formed integrally with the periphery of the functional portion and comprising an elastic anisotropic conductive film composed of a supported portion stacked and fixed on the frame plate,
The supported portion of the elastic anisotropic conductive film is disposed so as to surround a conductive portion group including a plurality of conductive portions for connection, and is electrically connected to the frame plate, and is a conductive portion for a high-frequency shield extending in the thickness direction and electrically connected to the frame plate. An anisotropic conductive connector, characterized in that a connector is formed.
このフレーム板の各開口に配置された、厚み方向に伸びる接続用導電部およびその周囲に一体に形成された絶縁部よりなる複数の機能部、並びにこれらの機能部の周囲に一体に形成され、前記フレーム板に積重されて固定された被支持部よりなる弾性異方導電膜と
を具えてなる異方導電性コネクターにおいて、
前記弾性異方導電膜における被支持部には、複数の接続用導電部を含む導電部群を取り囲むよう配置され、前記フレーム板に電気的に接続された、厚み方向に伸びる高周波シールド用導電部が形成されていることを特徴とする異方導電性コネクター。 A conductive frame plate having a plurality of openings formed according to a pattern corresponding to an electrode to be connected,
A plurality of functional portions including a conductive portion for connection extending in the thickness direction and an insulating portion integrally formed around the conductive portion for connection arranged in each opening of the frame plate, and integrally formed around these functional portions, An anisotropic conductive connector comprising an elastic anisotropic conductive film formed of a supported portion stacked and fixed on the frame plate,
The supported portion of the elastic anisotropic conductive film is disposed so as to surround a conductive portion group including a plurality of connection conductive portions, and is electrically connected to the frame plate and extends in the thickness direction. An anisotropic conductive connector, characterized by having an opening formed thereon.
前記検査用回路基板には、前記異方導電性コネクターにおける高周波シールド用導電部に対応するパターンに従って、アースに接続されたアース用電極が形成されていることを特徴とする回路装置の電気的検査装置。 An inspection circuit board on which an inspection electrode is formed in accordance with a pattern corresponding to an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected, and the anisotropic conductive connector according to claim 14 disposed on the inspection circuit board. With
An electrical inspection of a circuit device, wherein an earth electrode connected to earth is formed on the inspection circuit board in accordance with a pattern corresponding to a high-frequency shielding conductive portion of the anisotropic conductive connector. apparatus.
前記異方導電性コネクターにおけるフレーム板は、アースに接続されていることを特徴とする回路装置の電気的検査装置。 An inspection circuit board on which an inspection electrode is formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected, and the anisotropically conductive connector according to claim 15 disposed on the inspection circuit board. With
An electrical inspection device for a circuit device, wherein a frame plate of the anisotropic conductive connector is connected to a ground.
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