JP2001237351A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JP2001237351A
JP2001237351A JP2000044139A JP2000044139A JP2001237351A JP 2001237351 A JP2001237351 A JP 2001237351A JP 2000044139 A JP2000044139 A JP 2000044139A JP 2000044139 A JP2000044139 A JP 2000044139A JP 2001237351 A JP2001237351 A JP 2001237351A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
semiconductor device
module
absorbing layer
contact type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000044139A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinobu Sueyoshi
俊信 末吉
Susumu Imai
奨 今井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Holdings Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
Priority to JP2000044139A priority Critical patent/JP2001237351A/en
Publication of JP2001237351A publication Critical patent/JP2001237351A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable semiconductor device which is superior in mechanical strength and can protect an IC chip when a shock is given. SOLUTION: A semiconductor device has an IC chip on which a circuit transferring data with an outer part without a contact is loaded, a supporting body on which the IC chip is loaded, a shock absorbing layer coating the surface side of the IC chip on a side which is not supported by the supporting body, and an overcoat layer covering the shock absorbing layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置に関
し、詳しくは、きわめて機械的強度に優れ、衝撃を受け
たときにICチップあるいはこれと外付け部品との接続
を保護することができ、信頼性の高い非接触型でデータ
の授受を行うような半導体装置の構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a semiconductor device having extremely high mechanical strength, capable of protecting an IC chip or a connection between the IC chip and external components when subjected to an impact, and providing a reliable device. The present invention relates to a structure of a semiconductor device which transmits and receives data in a highly contactless manner.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、非接触でデータの読出しが可能な
ICチップが注目されている。こうした非接触型ICチ
ップは、アンテナ等に接続され、非接触で外部とデータ
の授受を行う回路を有するものであり、光ディスク等の
記録媒体に埋め込むことによって、新たな応用の可能性
が期待されている。例えぱ、特開平8−161790号
公報においては、光ディスクの光学的記録部の内側の未
記録部分に情報記録メモリを含む電子回路等を搭載し
て、非接触でデータの送受信を行う技術が開示されてい
る。これには、電波を受信して動作電源を生成するため
にアンテナコイルか埋め込まれており、それにより電力
を得て動作することで、光ディスク装置において二次的
な情報記憶部として機能する。また、特売平6−309
840号公報にあっては、再生専用の光ディスクの一部
にデジタルデータ記憶手段を形成してデータを記録再生
する技術が示されている。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to IC chips capable of reading data without contact. Such a non-contact type IC chip is connected to an antenna or the like and has a circuit for exchanging data with the outside in a non-contact manner. By embedding it in a recording medium such as an optical disk, a new application possibility is expected. ing. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-161790 discloses a technology in which an electronic circuit including an information recording memory is mounted in an unrecorded portion inside an optical recording portion of an optical disc and data is transmitted and received in a non-contact manner. Have been. In this, an antenna coil is embedded for receiving radio waves and generating an operation power supply, and operates by obtaining electric power thereby to function as a secondary information storage unit in the optical disk device. In addition, bargain sale 6-309
Japanese Patent Publication No. 840 discloses a technique for recording and reproducing data by forming digital data storage means on a part of a read-only optical disk.

【0003】[0003]

【発明か解決しようとする課題】非接触型ICチップを
搭載した半導体装置は、小型化および薄形化の方向で開
発が進められてきているが、そのためには機械的強度を
高く保つ必要がある。しかしながら、上記の従来技術に
おいては、非接触型ICチップの機械的強度、特に、外
部から衝撃を受けたときに集積回路あるいは集積回路と
外付け部品との接続を保護し、信頼性を高く保つための
技術の記載はない。このような課題はそれらには取り扱
われていない。しかし、ディスクのような部材に非接触
型ICチップを搭載するような場合には、特に、周辺外
部と接触した際に外部から衝撃力を受けたり、点圧力を
受けるので非接触型ICチップが破壊され、あるいはダ
メージを受ける確率が高くなる。また、非接触型ICチ
ップでは、チップがアンテナに接続されて外部と交信す
るが、外部から衝撃力や歪みが加わると、アンテナある
いは電力蓄積用の外付けコンデンサとの接続不良や断線
が発生し易い問題がある。さらに、光ディスク等の記録
媒体では、デッキに装填されたり、取出されたりする場
合に部分的に衝撃が加わり易く、それによる歪みが非接
触型ICチップに加わる危険性が高く、同様な問題が発
生し易い。この発明の目的は、きわめて機械的強度に優
れ、衝撃を受けたときにICチップあるいはこれと外付
け部品との接続を保護することができ、信頼性の高い半
導体装置を提供することにある。
A semiconductor device equipped with a non-contact type IC chip has been developed in the direction of miniaturization and thinning. For that purpose, it is necessary to keep high mechanical strength. is there. However, in the above-described conventional technology, the mechanical strength of the non-contact type IC chip, particularly, the protection of the integrated circuit or the connection between the integrated circuit and external components when subjected to an external shock, maintains high reliability. There is no description of the technology for this. Such issues are not addressed by them. However, when a non-contact IC chip is mounted on a member such as a disk, the non-contact IC chip receives an impact force or a point pressure from the outside when it comes into contact with the surrounding outside. Increases the probability of being destroyed or damaged. In a non-contact type IC chip, the chip is connected to an antenna and communicates with the outside. However, if an external impact or distortion is applied, poor connection or disconnection to the antenna or an external capacitor for power storage may occur. There is an easy problem. Furthermore, in the case of recording media such as optical discs, when a disc is loaded or unloaded from a deck, a partial impact is likely to be applied, and the risk of distortion being applied to a non-contact type IC chip is high. Easy to do. An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor device which is extremely excellent in mechanical strength, can protect an IC chip or a connection between the IC chip and an external component when subjected to an impact, and has high reliability.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためのこの発明の特徴は、非接触で外部とデータの授
受を行うための回路が集積化されたICチップと、この
ICチップを搭載する支持体と、この支持体に支持され
ていない側のICチップの表面側を被覆する衝撃吸収層
と、この衝撃吸収層を覆うオーバーコート層とを有する
ものである。特に、このICチップとこれが接続される
外付け部品とをICモジュールとして一体化して、この
非接触型ICモジュールのヤング率がE0としたとき、
衝撃吸収層のヤング率がE1であり、オーバーコート層
のヤング率がE2であるときに、 E1<E0かつ<E1<E2 の関係を満たす構成とすることによって、点圧強度と衝
撃強度のいずれにも優れた半導体装置を実現することが
可能になる。さらに、非接触型ICモジュールの厚みを
d0、衝撃吸収層の厚みをd1とすれば、 d0<d1 の関係が満たされるように各構成要素の厚みを設定して
点圧強度と衝撃強度を向上させることが可能となる。さ
らにまた、非接触型ICモジュールの厚みd0が、d0≦
0.5mmとし、非接触モジュールを薄型化することに
よって、半導体装置全体の厚みを薄くすることができ、
きわめて好ましいものとなる。さらに、このような条件
のときには、衝撃吸収層の厚みd1をd1≧0.3mmと
すれば、衝撃吸収層が厚くなるので、衝撃強度の向上が
図れ、好ましい構造となる。そして、半導体装置の全厚
が、1mm以下てあれば、各種アプリケーションシステ
ムにこの発明の半導体装置を用いることが容易となり、
回転するようなディスクに搭載する場合にも好ましい。
このように厚さの薄い半導体装置は、とりわけ、ロール
供給により製造することが有利であり、また、印刷特性
の上からも望ましいものとなる。
A feature of the present invention to achieve the above object is to provide an IC chip in which a circuit for transmitting and receiving data to and from the outside without contact is integrated, It has a support to be mounted, a shock absorbing layer that covers the surface side of the IC chip that is not supported by the support, and an overcoat layer that covers the shock absorbing layer. In particular, when the IC chip and an external component to which the IC chip is connected are integrated as an IC module and the Young's modulus of the non-contact IC module is E0,
When the Young's modulus of the impact-absorbing layer is E1 and the Young's modulus of the overcoat layer is E2, by satisfying the relationship of E1 <E0 and <E1 <E2, either the point pressure strength or the impact strength can be improved. It is possible to realize a semiconductor device which is excellent in the above. Furthermore, assuming that the thickness of the non-contact type IC module is d0 and the thickness of the shock absorbing layer is d1, the thickness of each component is set so that the relationship of d0 <d1 is satisfied to improve the point pressure strength and the impact strength. It is possible to do. Furthermore, the thickness d0 of the non-contact type IC module is d0 ≦
By reducing the thickness of the non-contact module to 0.5 mm, the thickness of the entire semiconductor device can be reduced,
It will be very favorable. Further, under such conditions, if the thickness d1 of the shock absorbing layer is set to d1 ≧ 0.3 mm, the shock absorbing layer becomes thicker, so that the impact strength can be improved and a preferable structure can be obtained. If the total thickness of the semiconductor device is 1 mm or less, it becomes easy to use the semiconductor device of the present invention in various application systems,
It is also preferable when mounting on a rotating disk.
Such a thin semiconductor device is particularly advantageous to be manufactured by roll supply, and is also desirable from the viewpoint of printing characteristics.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】前記のE1<E0かつ<E1<E2と
いう二重の条件を満たすことで非接触型ICチップを保
護することができる。非接触型ICチップ自体の大きさ
は、通常、数ミリ角であり、大きくても5ミリ前後のも
のであるので、非接触型ICチップ自体に直接加わる衝
撃力や点圧力はあまり大きくはならない。その結果、た
とえ、ICチップに対してアンテナあるいは電力蓄積用
のコンデンサ等の、接続される外付け部品が別に存在
し、ICチップとそれらが接続されていたとしても断線
や接続不良が発生し難く、信頼性の高い半導体装置を実
現することができる。特に、ディスクのような部材に非
接触型ICチップ5を搭載するような場合には、周辺外
部と接触した際に外部から衝撃力を受けたり、点圧力を
受けるので非接触型ICチップが破壊され、あるいはダ
メージを受ける確率が高くなるが、前記のような薄い衝
撃吸収層を設けるだけであっても、その保護ができる。
さらに、光ディスク等の記録媒体では、デッキに装填さ
れたり、取出されたりする場合に部分的に衝撃が加わり
易く、それによる歪みが非接触型ICチップに加わる危
険性が高いが、非接触モジュールにアンテナとともに搭
載されるICチップの大きさからみて十分な保護が可能
になる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A non-contact type IC chip can be protected by satisfying the double conditions of E1 <E0 and <E1 <E2. The size of the non-contact type IC chip itself is usually several millimeters square, and is at most about 5 mm. Therefore, the impact force and the point pressure directly applied to the non-contact type IC chip itself do not become so large. . As a result, even if an external component such as an antenna or a capacitor for power storage is separately connected to the IC chip, and even if the IC chip is connected to the IC chip, disconnection or poor connection hardly occurs. Thus, a highly reliable semiconductor device can be realized. In particular, when the non-contact type IC chip 5 is mounted on a member such as a disc, the non-contact type IC chip 5 is subjected to an impact force or a point pressure from the outside when it comes into contact with the surrounding outside, so that the non-contact type IC chip is broken. However, even if only a thin shock absorbing layer as described above is provided, the protection can be achieved.
Furthermore, in the case of a recording medium such as an optical disk, a shock is easily applied to a part when the medium is loaded or unloaded from the deck, and there is a high risk that distortion due to the impact is applied to the non-contact type IC chip. Sufficient protection is possible in view of the size of the IC chip mounted together with the antenna.

【0006】[0006]

【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
して詳細に説明する。図1は、この発明の半導体装置の
一実施例の断面からみた構成図である。図1に示すよう
に、実施例の半導体装置9には、支持体1に搭載した非
接触型ICモジュール2の上部に、衝撃吸収性構造を有
する衝撃吸収層3が設けられ、さらに衝撃吸収層3がオ
ーバーコート層4で被覆されている。この非接触型IC
モジュール2は、図3に示されるように、非接触でデー
タの読出しあるいはデータの授受が可能な非接触型IC
チップ5、バンプ6、コイル7、基板8より構成され
る。これは、基板8に、銀ペースト印刷または金属箔エ
ッチング法で形成されたコイル7と、このコイル7にバ
ンプ6を介してフェイスダウン方式で、非接触型ICチ
ップ5が接続されて形成される。なお、この場合、フェ
イスダウン方式ではなく、例えば、ワイヤーボンディン
グのようなフェイスアップ方式を用いて、非接触型IC
チツブ5とコイル7とを接続しても構わない。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention as viewed from a cross section. As shown in FIG. 1, in the semiconductor device 9 of the embodiment, a shock absorbing layer 3 having a shock absorbing structure is provided above a non-contact type IC module 2 mounted on a support 1, 3 is covered with an overcoat layer 4. This non-contact type IC
As shown in FIG. 3, the module 2 is a non-contact type IC capable of reading out data and transmitting / receiving data in a non-contact manner.
It comprises a chip 5, bumps 6, coils 7, and a substrate 8. This is formed by connecting a coil 7 formed on a substrate 8 by silver paste printing or metal foil etching and a non-contact IC chip 5 to the coil 7 via a bump 6 in a face-down manner. . In this case, instead of the face-down method, for example, a non-contact type IC is
The chip 5 and the coil 7 may be connected.

【0007】その製造方法としては、0.1mm乃至
0.2mm程度の厚さのフィルムあるいはプラスチック
カードのような支持体1に非接触型ICモジュール2を
搭載し、0.3mm〜0.5mm程度の衝撃吸収層3の
フィルムを熱圧着によりコーティングする。その後に
0.1mm乃至0.2mm程度の厚さのオーバーコート
層4を熱被着する。なお、衝撃吸収層3とオーバーコー
ト層4との被着は、塗布あるいは蒸着などの、他の各種
のコーティング方法を採ることができる。衝撃吸収層3
の材料としては、ポリオレフェイン系の樹脂、オーバー
コート層4としてポリエチレンテレフタレート系を用い
るとよい。
As a manufacturing method, a non-contact type IC module 2 is mounted on a support 1 such as a film or a plastic card having a thickness of about 0.1 mm to 0.2 mm, and about 0.3 mm to 0.5 mm. Is coated by thermocompression bonding. Thereafter, an overcoat layer 4 having a thickness of about 0.1 mm to 0.2 mm is thermally applied. The impact absorbing layer 3 and the overcoat layer 4 can be adhered by any of various other coating methods such as coating or vapor deposition. Shock absorbing layer 3
It is preferable to use a polyolefin resin as the material and polyethylene terephthalate as the overcoat layer 4.

【0008】この発明においては、非接触型ICモジュ
ール2のヤング率がE0のとき、衝撃吸収層3のヤング
率をE1とし、オーバーコート層4のヤング率をE2とす
れば 、 E1<E0かつ<E1<E2 ………(1) の関係を満たすように、各層を選択する。そのことによ
って、点圧強度と衝撃強度のいずれにも優れた半導体装
置9が実現可能となる。それは、前記の式(1)に示すよ
うに、点圧強度に関しては、衝撃吸収層3のヤング率E
1より、オーバーコート層4のヤング率E2を大きくする
ことによって、外部からの点圧に対する強度を高めるこ
とが可能となるからであり、そのための条件がE1<E2
である。一方、衝撃強度に関しては、衝撃吸収層3のヤ
ング率E1が非接触型ICモジュール2のヤング率E0よ
り小さくすることによって、外部からの衝撃が加わった
際に衝撃吸収層が弾性的な変形を行うことで衝撃エネル
ギーを吸収することが可能となるからである。それを満
足させるための条件がE1<E0である。
In the present invention, when the Young's modulus of the non-contact type IC module 2 is E0 and the Young's modulus of the shock absorbing layer 3 is E1 and the Young's modulus of the overcoat layer 4 is E2, E1 <E0 and <E1 <E2 ... Each layer is selected so as to satisfy the relationship of (1). Thereby, the semiconductor device 9 excellent in both the point pressure strength and the impact strength can be realized. As shown in the above equation (1), as for the point pressure strength, the Young's modulus E of the shock absorbing layer 3 is
This is because by increasing the Young's modulus E2 of the overcoat layer 4, the strength against external point pressure can be increased, and the condition for this is E1 <E2.
It is. On the other hand, with respect to the impact strength, by making the Young's modulus E1 of the shock absorbing layer 3 smaller than the Young's modulus E0 of the non-contact type IC module 2, the shock absorbing layer does not elastically deform when an external impact is applied. By doing so, it becomes possible to absorb impact energy. The condition for satisfying this is E1 <E0.

【0009】このような二重の条件を満たすことで非接
触型ICモジュール2の内部に設けられたICチップあ
るいはこれと外付け部品との接続を保護することができ
る。特に、ディスクのような部材に非接触型ICチップ
5を搭載するような場合には、周辺外部と接触した際に
外部から衝撃力を受けたり、点圧力を受けるので非接触
型ICチップが破壊され、あるいはダメージを受ける確
率が高くなるが、前記のような薄い衝撃吸収層を設ける
だけであっても、非接触型ICチップ5自体の大きさ
が、通常、数ミリ角であり、大きくてみ5ミリ前後のも
のであるので、容易に保護される。なお、非接触型IC
モジュール2のサイズとしては、5mm×10mm乃至
10mm×20mm程度のものである。ICチップに対
してアンテナあるいは電力蓄積用のコンデンサ等の接続
される電気部品あるいは電子部品が別に存在し、ICチ
ップとそれらが接続されていたとしても断線や接続不良
が発生し難く、信頼性の高い半導体装置を実現すること
ができる。
By satisfying such a double condition, it is possible to protect the IC chip provided inside the non-contact type IC module 2 or the connection between the IC chip and external components. In particular, when the non-contact type IC chip 5 is mounted on a member such as a disc, the non-contact type IC chip 5 is subjected to an impact force or a point pressure from the outside when it comes into contact with the surrounding outside, so that the non-contact type IC chip is broken. However, even if only a thin shock absorbing layer as described above is provided, the size of the non-contact type IC chip 5 itself is usually several mm square, Since it is only about 5 mm, it is easily protected. In addition, non-contact type IC
The size of the module 2 is about 5 mm × 10 mm to 10 mm × 20 mm. There is a separate electrical or electronic component connected to the IC chip, such as an antenna or a capacitor for power storage. Even if the IC chip is connected to the IC chip, disconnection or poor connection hardly occurs and reliability is low. A high semiconductor device can be realized.

【0010】さらに、光ディスク等の記録媒体では、デ
ッキに装填されたり、取出されたりする場合に部分的に
衝撃が加わり易く、それによる歪みが非接触型ICチッ
プに加わる危険性が高いが、このような場合にあっても
信頼性の高い半導体装置を提供することができる。な
お、非接触型ICチップ5は、図3に示すように、基板
8に対して中心から偏心した位置に設けるとよい。それ
により大きな曲げ力や歪み力が受けにくくなる。
Further, in the case of a recording medium such as an optical disk, when a recording medium is loaded or unloaded from a deck, a partial impact is likely to be applied to the recording medium, and there is a high risk that distortion due to the impact is applied to a non-contact type IC chip. Even in such a case, a highly reliable semiconductor device can be provided. The non-contact type IC chip 5 may be provided at a position eccentric from the center with respect to the substrate 8 as shown in FIG. This makes it difficult to receive large bending and distortion forces.

【0011】さて、非接触型ICモジュール2に関して
は、断線、接続不良を防止するために、バンプ6を介し
た非接触型ICチップ5とコイル7の接続部の機械的強
度を高く保つ必要がある。それには、非接触型ICモジ
ュール2の周辺外部からの外力に対して変形しにくい方
が好ましい。そこで、前記の式(1)に示すように、非接
触型ICモジュール2のヤング率E0を大きく設定して
たが、各ヤング率の具体的な数値としては、図1の構造
で、ヤング率E0=100GPaの非接触型ICモジュ
ール2を、ヤング率E1=60MPaの衝撃吸収層で被
覆した上、ヤング率E2=50GPaのオーバーコート
層で被覆した半導体装置を作製したところ、点圧強度お
よび衝撃強度の優れた半導体装置を作製できた。
Now, regarding the non-contact type IC module 2, it is necessary to keep the mechanical strength of the connection between the non-contact type IC chip 5 and the coil 7 via the bump 6 high in order to prevent disconnection and connection failure. is there. For that purpose, it is preferable that the non-contact type IC module 2 is not easily deformed by an external force from the periphery and the outside. Therefore, as shown in the above equation (1), the Young's modulus E0 of the non-contact type IC module 2 is set to be large, but the specific numerical value of each Young's modulus is the structure shown in FIG. A non-contact type IC module 2 with E0 = 100 GPa was coated with an impact absorbing layer with Young's modulus E1 = 60 MPa, and a semiconductor device was coated with an overcoat layer with Young's modulus E2 = 50 GPa. A semiconductor device having excellent strength was manufactured.

【0012】先に説明したように、この実施例では、衝
撃吸収層3の材料としてポリオレフェイン系の樹脂、オ
ーバーコート層4としてポリエチレンテレフタレート系
を用いたが、E1<E0かつE1<E2を満たす別の材料を
用いても構わない。例えば、衝撃吸収層3の材料とし
て、ポリエステル系樹脂、別のポリオレフィン系樹脂、
ポリウレタン系等を用いることが可能である。また、オ
ーバーコート層4としてば、ポリカーボネート系樹脂、
ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ABS系樹脂、ポ
リ塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリウレタン系等を用いることが可能であ
る。
As described above, in this embodiment, polyolefin resin is used as the material of the shock absorbing layer 3 and polyethylene terephthalate is used as the overcoat layer 4, but E1 <E0 and E1 <E2 are satisfied. Another material that satisfies the conditions may be used. For example, as a material of the shock absorbing layer 3, a polyester resin, another polyolefin resin,
It is possible to use a polyurethane type or the like. Further, as the overcoat layer 4, a polycarbonate resin,
It is possible to use a polyimide resin, an epoxy resin, an ABS resin, a polyvinyl chloride resin, a polyester resin, a polyolefin resin, a polyurethane resin, or the like.

【0013】以上の場合には、非接触型ICモジュール
2の厚みd0は150μm、衝撃吸収層3の厚みd1は4
50μmとした。オーバーコート層4を被覆した後の半
導体装置の全厚は、700μmとした。このように、非
接触型ICモジュール2の厚みd0、衝撃吸収層3の厚
みd1が、 d0<d1 の関係を満たすように各構成要素の厚みを選択して点圧
強度と衝撃強度を向上させることかできた。特に、非接
触型ICモジュール2の厚みd0が、 d0≦0.5mm としているため、非接触型ICモジュール2を薄形化す
ることができる。これによって、半導体装置全体の厚み
を薄くすることかでき、さらに、衝撃吸収層3の厚みd
1を、 d1≧0.3mm とすれば、衝撃吸収層3をその分厚くすることができ、
特に衝撃強度向上が図れる。しかも、半導体装置の全厚
は、1mm以下であるので、各種アブリケーションシス
テムにこの発明の半導体装置を用いることか可能とな
る。そこで、支持体1の厚さとしては、0.1mm乃至
0.2mm程度となり、フィルムあるいはプラスチック
カードのような厚さとなる。そして、この支持体1は、
搭載対象に溶着して搭載する関係で同質の部材がよい。
特に、光ディスクあるいはそのケース、その他の部品に
熱圧着できる材質のものがよい。なお、このように薄い
厚さの半導体装置は、とりわけ、ロール供給により製造
することが有利であり、また、印刷特性の上でも望まし
いものとなる。
In the above case, the thickness d0 of the non-contact type IC module 2 is 150 μm, and the thickness d1 of the shock absorbing layer 3 is 4 μm.
It was 50 μm. The total thickness of the semiconductor device after covering the overcoat layer 4 was 700 μm. As described above, the thickness of each component is selected so that the thickness d0 of the non-contact type IC module 2 and the thickness d1 of the shock absorbing layer 3 satisfy the relationship of d0 <d1, thereby improving the point pressure strength and the impact strength. I was able to do it. In particular, since the thickness d0 of the noncontact IC module 2 is set to d0 ≦ 0.5 mm, the thickness of the noncontact IC module 2 can be reduced. Thereby, the thickness of the entire semiconductor device can be reduced, and the thickness d of the shock absorbing layer 3 can be further reduced.
If 1 is d1 ≧ 0.3 mm, the shock absorbing layer 3 can be made thicker by that amount,
Particularly, the impact strength can be improved. Moreover, since the total thickness of the semiconductor device is 1 mm or less, the semiconductor device of the present invention can be used in various application systems. Therefore, the thickness of the support 1 is about 0.1 mm to 0.2 mm, which is a thickness of a film or a plastic card. And this support 1
A member of the same quality is preferable because it is welded to a mounting target and mounted.
In particular, a material that can be thermocompression-bonded to an optical disk, its case, or other components is preferable. It is to be noted that such a thin semiconductor device is particularly advantageous to be manufactured by roll supply, and is desirable in terms of printing characteristics.

【0014】図1の実施例では、非接触型ICモジュー
ル2は、支持体1に搭載されているので支持体1側から
の衝撃力や点圧力には多少保護されている。そこで、支
持体1と逆側からの外力に対して、機械的強度からみて
信頼性の高い半導体装置を提供できたが、次にこの発明
の別の実施例について説明する。図2に別の実施例によ
る半導体装置の構成断面図を示す。図2に示されるよう
に、非接触型ICモジュール2の両側を、衝撃吸収性構
造を有する衝撃吸収層3で被覆し、さらに衝撃吸収層3
をオーバーコート層4で被覆している。このような構造
とすることで、非接触型ICモジュール2の両側のどち
らからの外力に対しても、機械的強度の信頼性の高い半
導体装置を提供することか可能となる。なお、この図2
の実施例は、非接触型ICモジュール2は、衝撃吸収層
3とオーバーコート層4とで被覆した後に、支持体1に
被覆された非接触型ICモジュール2全体が搭載される
ことになる。
In the embodiment shown in FIG. 1, since the non-contact type IC module 2 is mounted on the support 1, the IC module 2 is somewhat protected from impact force and point pressure from the support 1 side. Thus, a semiconductor device having high reliability in terms of mechanical strength against external force from the side opposite to the support 1 could be provided. Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a sectional view showing the configuration of a semiconductor device according to another embodiment. As shown in FIG. 2, both sides of the non-contact type IC module 2 are covered with a shock absorbing layer 3 having a shock absorbing structure.
Is covered with an overcoat layer 4. With such a structure, it is possible to provide a semiconductor device having high mechanical strength and high reliability against external force from either side of the non-contact type IC module 2. Note that FIG.
In the embodiment, after the non-contact type IC module 2 is covered with the shock absorbing layer 3 and the overcoat layer 4, the whole non-contact type IC module 2 covered with the support 1 is mounted.

【0015】図4は、非接触型ICモジュール2を搭載
した光ディスクの説明図である。図4(a)は、光ディ
スク(CD)10の内側において、非接触型ICモジュ
ール2を有する半導体装置9が直接熱溶着されるもので
あり、支持体1が光ディスク10と同じ材質の部材から
なる。11は、カウンタウエイトであり、光ディスク1
0が回転している場合に芯ぶれや偏心が発生しないよう
に光ディスク10の回転中心Oに対して対称の位置に配
置され、非接触型ICモジュール2と同じ大きさと質量
で設けられた重りである。図4(b)は、光ディスク記
憶媒体(MO)12のケース13に接着剤等により貼付
された非接触型ICモジュール2を有する半導体装置9
である。いずれの場合も、非接触型ICモジュール2を
有する半導体装置9に対して送受信アンテナを有するリ
ーダ側のヘッドが対向する位置に配置されることにな
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an optical disk on which the non-contact type IC module 2 is mounted. FIG. 4A shows that a semiconductor device 9 having a non-contact IC module 2 is directly heat-welded inside an optical disk (CD) 10, and a support 1 is made of a member made of the same material as the optical disk 10. . Reference numeral 11 denotes a counterweight, which is an optical disk 1
A weight provided with the same size and mass as the non-contact type IC module 2 is disposed at a position symmetrical with respect to the rotation center O of the optical disc 10 so as to prevent occurrence of misalignment or eccentricity when 0 rotates. is there. FIG. 4B shows a semiconductor device 9 having a non-contact type IC module 2 attached to a case 13 of an optical disk storage medium (MO) 12 with an adhesive or the like.
It is. In any case, the reader-side head having the transmission / reception antenna is disposed at a position facing the semiconductor device 9 having the non-contact type IC module 2.

【0016】以上説明してきたが、実施例では、支持体
1を介して搭載する対象に溶着等により非接触型ICモ
ジュール2を有する半導体装置9を搭載するようにして
いるが、図2の実施例の支持体1をそのまま搭載する対
象の部材としてもよいことはもちろんである。この場合
には、支持体1そのものが搭載対象部材となる。
As described above, in the embodiment, the semiconductor device 9 having the non-contact type IC module 2 is mounted on an object to be mounted via the support 1 by welding or the like. It goes without saying that the support 1 of the example may be used as a member to be mounted as it is. In this case, the support 1 itself is the mounting target member.

【0017】[0017]

【発明の効果】この発明においては、非接触型ICチッ
プを搭載した半導体装置において、支持体に搭載した非
接触型ICモジュールの上部に、衝撃吸収性構造を有す
る衝撃吸収層を設け、さらに衝撃吸収層を点圧強度の優
れたオーバーコート層で被覆しているので、点圧強度と
衝撃強度のいずれにも優れた半導体装置が実現できる。
その結果、ICチップに対してアンテナあるいは電力蓄
積用のコンデンサ等の接続される部品が別に存在してい
たとしても、ICチップとそれらの接続が保護され、断
線や接続不良が発生し難く、信頼性の高い半導体装置を
実現することができる。
According to the present invention, in a semiconductor device having a non-contact type IC chip mounted thereon, a shock absorbing layer having a shock absorbing structure is provided above a non-contact type IC module mounted on a support. Since the absorbing layer is covered with the overcoat layer having excellent point pressure strength, a semiconductor device having both excellent point pressure strength and impact strength can be realized.
As a result, even if there is a separate component such as an antenna or a capacitor for power storage with respect to the IC chip, the IC chip and its connection are protected, and disconnection and connection failure are unlikely to occur. A highly reliable semiconductor device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、この発明の一実施例に係わる、半薄体
装置の構成を示す構成断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a semi-thin body device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、この発明の他の一実施例に係わる、半
薄体装置の構成を示す構成断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a semi-thin body according to another embodiment of the present invention.

【図3】図3は、この発明の一実施例に係わる、半導体
装置に搭載された非接離ICモジュールの構成を示す構
成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing a configuration of a non-contact / separation IC module mounted on a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図4】図4は、非接触型ICモジュール2を搭載した
光ディスクの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an optical disc on which the non-contact type IC module 2 is mounted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…支持体、2…非接触型ICモジュール、3…衝撃吸
収層、4…オーバーコート層、5…非接触型ICチツ
ブ、6…バンプ、7…コイル、 8…基板、10…光デ
ィスク、11…カウンタウエイト、12…ケース、20
…リーダ側の送受信ヘッド。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support, 2 ... Non-contact type IC module, 3 ... Shock absorption layer, 4 ... Overcoat layer, 5 ... Non-contact type IC chip, 6 ... Bump, 7 ... Coil, 8 ... Substrate, 10 ... Optical disk, 11 ... Counterweight, 12 ... Case, 20
... Transceiver head on the reader side.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/28 H01L 23/30 B Fターム(参考) 4M109 AA02 BA03 ED01 EE02 GA02 GA10 5B035 AA07 BA05 BB09 CA02 5E314 AA32 AA34 AA36 AA37 BB03 FF01 FF14 FF21 FF23 FF27 GG12 GG19 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/28 H01L 23/30 BF Term (Reference) 4M109 AA02 BA03 ED01 EE02 GA02 GA10 5B035 AA07 BA05 BB09 CA02 5E314 AA32 AA34 AA36 AA37 BB03 FF01 FF14 FF21 FF23 FF27 GG12 GG19

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】非接触で外部とデータの授受を行うための
回路が集積化されたICチップと、このICチップを搭
載する支持体と、この支持体に支持されていない側の前
記ICチップの表面側を被覆する衝撃吸収層と、この衝
撃吸収層を覆うオーバーコート層とを備えることを特徴
とする半導体装装置。
An IC chip in which a circuit for exchanging data with the outside in a non-contact manner is integrated, a support on which the IC chip is mounted, and the IC chip on a side not supported by the support A semiconductor device comprising: a shock-absorbing layer that covers the front side of the device; and an overcoat layer that covers the shock-absorbing layer.
【請求項2】前記ICチップは、電気部品あるいは電子
部品に接続され、この電気部品あるいは電子部品ととも
に搭載されICモジュールとされるものであって、前記
衝撃吸収層は、 前記ICモジュールの表面側を被覆す
るものであり、前記ICモジュールのヤング率がE0、
前記衝撃吸収層のヤング率がE1、そして前記オーバー
コート層のヤング率がE2であるとき、 E1<E0かつ<E1<E2 の関係が満たされていることを特歓とする請求項1記載
の半導体装置。
2. The IC module according to claim 1, wherein the IC chip is connected to an electric component or an electronic component and is mounted together with the electric component or the electronic component to form an IC module. And the Young's modulus of the IC module is E0,
2. The method according to claim 1, wherein when the Young's modulus of the shock absorbing layer is E1 and the Young's modulus of the overcoat layer is E2, the relations of E1 <E0 and <E1 <E2 are satisfied. Semiconductor device.
【請求項3】前記ICチップは、電気部品あるいは電子
部品に接続され、この電気部品あるいは電子部品ととも
に搭載されICモジュールとされるものであって、前記
衝撃吸収層は、前記ICモジュールの表面側を被覆する
ものであり、その厚みがd0、前記衝撃吸収層の厚みが
d1であるとき、 d0<d1 の関係が満たされていることを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。
3. The IC chip is connected to an electric component or an electronic component and mounted together with the electric component or the electronic component to form an IC module, wherein the shock absorbing layer is provided on a surface side of the IC module. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the relationship of d0 <d1 is satisfied when the thickness is d0 and the thickness of the shock absorbing layer is d1.
【請求項4】さらに、前記電気部品あるいは電子部品
は、アンテナであり、前記非接触型ICモジュールの厚
みd0が、 d0≦0.5mm の関係にある請求項3記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the electric component or the electronic component is an antenna, and the thickness d0 of the non-contact type IC module is in a relationship of d0 ≦ 0.5 mm.
【請求項5】前記衝撃吸収層の厚みd1が、 d1≧0.3mm の関係にある請求項3または4記載の半薄体装置。5. The semi-thin body device according to claim 3, wherein a thickness d1 of the shock absorbing layer is in a relationship of d1 ≧ 0.3 mm. 【請求項6】前記半導体装置の全体の厚さが1mm以下
である請求項1から5のいずれかに記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the entire thickness of said semiconductor device is 1 mm or less.
【請求項7】前記ICチップあるいは前記ICモジュー
ルは、前記衝撃吸収層と前記オーバーコート層とで全体
が被覆され、前記支持体は前記ICチップあるいは前記
ICモジュールが搭載される部材である請求項1または
2記載の半導体装置。
7. The IC chip or the IC module is entirely covered with the shock absorbing layer and the overcoat layer, and the support is a member on which the IC chip or the IC module is mounted. 3. The semiconductor device according to 1 or 2.
JP2000044139A 2000-02-22 2000-02-22 Semiconductor device Pending JP2001237351A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000044139A JP2001237351A (en) 2000-02-22 2000-02-22 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000044139A JP2001237351A (en) 2000-02-22 2000-02-22 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001237351A true JP2001237351A (en) 2001-08-31

Family

ID=18566950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000044139A Pending JP2001237351A (en) 2000-02-22 2000-02-22 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001237351A (en)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003108964A (en) * 2001-09-28 2003-04-11 Nec Tokin Corp Non-contact communication medium
WO2004019405A1 (en) * 2002-08-22 2004-03-04 Infineon Technologies Ag Semiconductor component having a chip scale package (csp) housing
JP2006245989A (en) * 2005-03-03 2006-09-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Surface acoustic wave device
JP2008210344A (en) * 2007-02-28 2008-09-11 Omron Corp Ic tag and manufacturing method therefor
JP2009302517A (en) * 2008-05-12 2009-12-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device
JP2010142470A (en) * 2008-12-19 2010-07-01 Universal Entertainment Corp Id tag integrated type game medium
WO2011158412A1 (en) * 2010-06-15 2011-12-22 パナソニック株式会社 Package structure, method for manufacturing same, and method for repairing package structure
JP2012146769A (en) * 2011-01-11 2012-08-02 Fujikura Ltd Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2015005769A (en) * 2008-04-25 2015-01-08 株式会社半導体エネルギー研究所 Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2016509759A (en) * 2013-02-06 2016-03-31 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ イリノイ Stretchable electronic system with storage room
JP2018098334A (en) * 2016-12-13 2018-06-21 Tdk株式会社 Coil component and manufacturing method thereof, and electronic circuit having coil component
US10192830B2 (en) 2013-02-06 2019-01-29 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Self-similar and fractal design for stretchable electronics
US10497633B2 (en) 2013-02-06 2019-12-03 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Stretchable electronic systems with fluid containment
JP2020081405A (en) * 2018-11-26 2020-06-04 大日本印刷株式会社 Rf tag built-in ball for ball game
US10840536B2 (en) 2013-02-06 2020-11-17 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Stretchable electronic systems with containment chambers

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003108964A (en) * 2001-09-28 2003-04-11 Nec Tokin Corp Non-contact communication medium
WO2004019405A1 (en) * 2002-08-22 2004-03-04 Infineon Technologies Ag Semiconductor component having a chip scale package (csp) housing
US7274110B2 (en) 2002-08-22 2007-09-25 Infineon Technologies Ag Semiconductor component having a CSP housing
JP2006245989A (en) * 2005-03-03 2006-09-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Surface acoustic wave device
JP4645233B2 (en) * 2005-03-03 2011-03-09 パナソニック株式会社 Surface acoustic wave device
JP2008210344A (en) * 2007-02-28 2008-09-11 Omron Corp Ic tag and manufacturing method therefor
JP2015005769A (en) * 2008-04-25 2015-01-08 株式会社半導体エネルギー研究所 Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2016042588A (en) * 2008-04-25 2016-03-31 株式会社半導体エネルギー研究所 Semiconductor device
US9171808B2 (en) 2008-04-25 2015-10-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
JP2009302517A (en) * 2008-05-12 2009-12-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device
US9048277B2 (en) 2008-05-12 2015-06-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2010142470A (en) * 2008-12-19 2010-07-01 Universal Entertainment Corp Id tag integrated type game medium
US8698005B2 (en) 2010-06-15 2014-04-15 Panasonic Corporation Package structure, method for manufacturing same, and method for repairing package structure
CN102598252A (en) * 2010-06-15 2012-07-18 松下电器产业株式会社 Package structure, method for manufacturing same, and method for repairing package structure
WO2011158412A1 (en) * 2010-06-15 2011-12-22 パナソニック株式会社 Package structure, method for manufacturing same, and method for repairing package structure
JP2012146769A (en) * 2011-01-11 2012-08-02 Fujikura Ltd Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2016509759A (en) * 2013-02-06 2016-03-31 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ イリノイ Stretchable electronic system with storage room
US10192830B2 (en) 2013-02-06 2019-01-29 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Self-similar and fractal design for stretchable electronics
US10497633B2 (en) 2013-02-06 2019-12-03 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Stretchable electronic systems with fluid containment
US10840536B2 (en) 2013-02-06 2020-11-17 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Stretchable electronic systems with containment chambers
JP2018098334A (en) * 2016-12-13 2018-06-21 Tdk株式会社 Coil component and manufacturing method thereof, and electronic circuit having coil component
JP2020081405A (en) * 2018-11-26 2020-06-04 大日本印刷株式会社 Rf tag built-in ball for ball game

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001237351A (en) Semiconductor device
JP2814477B2 (en) Non-contact IC card and method of manufacturing the same
US20040052202A1 (en) RFID enabled information disks
JP4108779B2 (en) Circuit chip mounted card and circuit chip module
JP3980697B2 (en) Wireless transponder
US20040052203A1 (en) Light enabled RFID in information disks
JP3201819B2 (en) Micro circuit card
JPH07176646A (en) Semiconductor package
JPH10193848A (en) Circuit chip-mounted card and circuit chip module
US20050179122A1 (en) IC card
JP4676196B2 (en) RFID tag
US5982030A (en) Rigid package with low stress mounting of semiconductor die
JP3468954B2 (en) IC card
JP2000113144A (en) Non-contact type ic card
EP1890288A2 (en) Disc structure and method for manufacturing same
JPS6163498A (en) Integrated circuit card
JP2004264665A (en) Ic label to be stuck on card type cd and card type cd using same
JPH08267973A (en) Ic card
JP2008090693A (en) Ic card and its manufacturing method
JP4518921B2 (en) IC card and manufacturing method thereof
JPH11316811A (en) Data carrier device
JP2005011212A (en) Ic card and its manufacturing method
JPH10193854A (en) Non-contact ic card
JP4513182B2 (en) Card-like information recording medium
JP3145081B2 (en) Manufacturing method of non-contact data carrier

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060719

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081014

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090303