JP2001235755A

JP2001235755A - 液晶パネル体

Info

Publication number: JP2001235755A
Application number: JP2000378510A
Authority: JP
Inventors: Junji Kajita; 純司梶田; Yukiko Miyamoto; 由紀子宮本; Mizuyo Oku; 瑞世奥; Tomohiko Hatano; 智彦幡野
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-12-17
Filing date: 2000-12-13
Publication date: 2001-08-31

Abstract

(57)【要約】【課題】表示品位に優れ、生産性に優れる液晶パネル体
を作製する。【解決手段】一対の基板を基板間隔支持部材で介した液
晶パネル枠に、液晶を保持する液晶パネル体において、
該基板間隔支持部材が遮光剤を分散した樹脂からなるこ
とを特徴とする液晶パネル体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は家庭用、事務用、あ
るいは産業用の情報表示端末として使われる液晶ディス
プレイや、光通信や光情報処理の分野において情報処理
装置として使われる液晶を用いた空間変調素子液晶パネ
ル体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、使用されている液晶表示装置は、
液晶層の厚み（セルギャップ）を保持するために、一般
に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や複数の走査電極など
を具備した電極基板とカラーフィルタ基板との間にプラ
スチックビーズまたはガラス繊維をスペーサーとして有
する。このスペーサ部材は基板上に篩で散布する乾式
法、或いはアルコールやクロロホルム中にスペーサ部材
を分散し塗布する湿式法等により出来るだけ均一に散布
される。

【０００３】この方式の問題点を列挙すると、（１）液晶浸透時にスペーサ部材が動いてしまい分布が
偏り、ギャップムラが生じ表示ムラの原因となる。（２）スペーサが存在する位置が制御できないので、非
表示部のみならず表示部上にも乗ってしまい画質の低下
を招く。これは投射型ディスプレイのライトバルブとし
て用いたり、空間変調素子として用いるとスペーサが拡
大され著しく画質が低下する。（３）一般にスペーサと液晶の表面張力及びガラスの剛
性によりセルギャップが一定に規制されるが、１５イン
チ以上の大面積ではセルギャップのムラが大きくなり、
表示ムラの原因となる。となる。

【０００４】これらの問題点を解決する方法として、フ
ォトリソ法により基板上に適切な形状のスペーサを形成
することが特開平５−１９６９４６号公報、特開平１０
−８２９０９号公報、特開平１０−２０３１４号公報等
に提案されている。

【０００５】特開平５−１９６９４６号公報にはカラー
フィルタの着色層を重ね合わせた構造のスペーサを用い
た液晶表示装置が提案されている。また、特開平１０−
８２９０９号公報、特開平１０−２０３１４号公報では
ポリイミド樹脂、ポリビニールアルコール樹脂、アクリ
ル樹脂、ネガ型レジストを主成分とした材料によりスペ
ーサを形成することを提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】レジスト材料を用いフ
ォトリソ法により基板上にスペーサーを形成する方法が
あるが、スペーサー形成位置のズレ、サイズのズレ、対
向する基板との貼り合わせズレ等により、液晶パネル体
の開口部にスペーサーが現れ、表示品位が低下すること
があった。特に近年液晶パネル体の高開口率化や省プロ
セス化によりスペーサーの形成できる領域が著しく狭く
なり、必然的に、実際に液晶パネル体を作製した時にス
ペーサーが開口部に現れることが多くなった。また最近
の液晶ディスプレイは斜め視野からの表示特性を求めら
れることがあり、基板間隔支持部材周辺に発生した液晶
ディスクリネーションによって表示品位が低下すること
がある。表示品位の低下とはすなわち、スペーサー部分
からの光漏れであり、これによりコントラストが著しく
低下する。またこの光漏れ量は視角方向に依存性があ
り、同様にコントラストの視角依存性が大きくなること
があった。これを防止するためカラーフィルターやＴＦ
Ｔの設計マージンが狭くなるとともに、製品の性能向上
に制限が生じた。

【０００７】一方、特開平５−１９６９４６号公報にあ
るような着色層を重ね合わせた構造をスペーサーとする
場合には、ツイステッドネマチック方式の液晶パネル体
を作製した場合、スペーサー形成後カラーフィルター上
に電極形成した際にスペーサー上部にも電極が形成され
る。この場合スペーサー上の電極が対向する基板上に形
成された液晶表示装置駆動用の配線と短絡する恐れがあ
る。これは表示品位が著しく低下する点とカラーフィル
ターやＴＦＴの設計マージンが狭くなる点等の問題があ
った。

【０００８】したがって、本発明の目的は、表示品位に
優れ、生産性に優れる液晶パネル体を提供することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成する本発明の液晶パネル体は以下の構成からな
る。すなわち、（１）一対の基板を基板間隔支持部材で介した液晶パネ
ル枠に、液晶を保持する液晶パネル体において、該基板
間隔支持部材が遮光剤を分散した樹脂からなることを特
徴とする液晶パネル体。

【００１０】（２）基板間隔支持部材の遮光剤として黒
色金属酸化物を含有することを特徴とする前記（１）記
載の液晶パネル体。

【００１１】（３）黒色金属酸化物がチタンブラック粉
末および／またはマンガン酸化物粉末であることを特徴
とする前記（２）に記載の液晶パネル体。

【００１２】（４）前記チタンブラック粉末がＴｉＮｘ
Ｏｙ（ただし、０≦ｘ＜１．５、０．１＜ｙ＜１．８）
の組成からなることを特徴とする前記（３）記載の液晶
パネル体。

【００１３】（５）前記マンガン酸化物粉末がＭｎＯｘ
（ただし、１＜ｘ≦２）の組成からなることを特徴とす
る前記（３）記載の液晶パネル体。

【００１４】（６）前記基板間隔支持部材が基板上にド
ット状に配置されていることを特徴とする前記（１）か
ら（５）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００１５】（７）前記基板間隔支持部材が、ブラック
マトリクス層上および／またはカラーフィルタの着色層
上に形成されていることを特徴とする前記（１）から
（６）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００１６】（８）前記基板間隔支持部材が、ブラック
マトリクス層上にカラーフィルタの着色層を積層した上
に形成されていることを特徴とする前記（１）から
（６）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００１７】（９）前記基板間隔支持部材が、カラーフ
ィルタの着色層を複数色重ねた上に形成されていること
を特徴とする前記（１）から（６）のいずれかに記載の
液晶パネル体。

【００１８】（１０）前記基板間隔支持部材が、ブラッ
クマトリックス層上にカラーフィルタの着色層を複数色
重ねた上に形成されていることを特徴とする前記（１）
から（６）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００１９】（１１）前記基板間隔支持部材が、カラー
フィルター基板上の着色層およびブラックマトリックス
層の設けられていない箇所に形成されていることを特徴
とする前記（１）から（６）のいずれかに記載の液晶パ
ネル体。

【００２０】（１２）透明保護膜を基板上に設けた後
に、基板間隔支持部材を形成したことを特徴とする前記
（１）から（１１）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００２１】（１３）基板間隔支持部材を形成した後
に、透明保護膜を基板上に設けたことを特徴とする前記
（１）から（１１）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００２２】（１４）前記基板間隔支持部材が、液晶パ
ネル駆動用の補助容量上に形成されていることを特徴と
する前記（１）から（６）のいずれかに記載の液晶パネ
ル体。

【００２３】（１５）前記基板間隔支持部材の体積抵抗
値が１０⁷Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする前記
（１）から（１４）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００２４】（１６）前記基板間隔支持部材を画面内お
よび画面外に有することを特徴とする前記（１）から
（１５）のいずれかに記載の液晶パネル体。

【００２５】（１７）遮光剤を分散した樹脂を用いて形
成したブラックマトリックス層を有することを特徴とす
る前記（１）から（１６）のいずれかに記載の液晶パネ
ル体。

【００２６】（１８）ブラックマトリックス層が基板間
隔支持部材と同種の遮光剤成分を含有することを特徴と
する（１７）記載の液晶パネル体。

【００２７】（１９）ブラックマトリックス層が基板間
隔支持部材と同時に形成されることを特徴とする（１
８）の液晶パネル体。

【００２８】かかる液晶パネル体により、品位の高い表
示が得られる。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき
説明する。

【００３０】本液晶パネル体の表示方式には特に限定は
ないが、セルギャップ精度の要求される表示方式の液晶
パネル体（例えばインプレインスイッチング方式に代表
される横電界方式や、垂直配向方式、光学補償型視野角
拡大フィルムを用いるツイステッドネマチック方式、反
射型液晶ディスプレイ等々）に特に好ましい。反射型液
晶ディスプレイ向け液晶パネル体では、反射板により液
晶層を２度通過する。つまり液晶層を２度通過する光が
表示を主につかさどる。一方透過型液晶ディスプレイ向
け液晶パネル体では、液晶層を１度通過する光が表示を
主につかさどる。２度液晶層を通過する分反射型液晶デ
ィスプレイの方が要求されるギャップ精度が高い。また
上記表示方式で開口率（１画素当たりの表示域の割合）
の高いもの、６０％以上、好ましくは７０％以上、より
好ましくは８０％以上のものについて、本発明の液晶パ
ネル体は好適に用いられる。

【００３１】基板間隔支持部材は、遮光剤を分散した樹
脂である。

【００３２】遮光剤を分散しない樹脂を用いた基板間隔
支持部材は、樹脂が有彩色であった場合、液晶パネル体
の表示部（すなわち開口部）に現れると表示品位が著し
く低下することがある。また化学構造、高次構造によっ
て複屈折性を持つ場合がある。基板間隔支持部材が複屈
折性をもつと、液晶パネル体の基板間隔支持部材を通過
してきた光はその屈折率の波長分散に応じ、また屈折率
楕円体の光軸に応じ、着色する場合がある。このような
着色を防止するため遮光剤の添加が好ましい。

【００３３】基板間隔支持部材用の遮光剤としては、カ
ーボンブラック、チタンブラック、マンガン酸化物など
の黒色金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉、赤、青、
緑色の顔料の混合物などを用いることができるが、なか
でも黒色金属酸化物を含有することが好ましい。黒色金
属酸化物としては特に限定されないが、樹脂組成物中で
の保存安定性、汎用性、コスト、分散性に鑑みてチタン
ブラック粉末および／またはマンガン酸化物粉末が好ま
しい。なかでも遮光性、電気特性に鑑みて、該チタンブ
ラック粉末は、ＴｉＮｘＯｙ（ただし、０≦ｘ＜１．
５、０．１＜ｙ＜１．８）の組成からなることが好まし
く、該マンガン酸化物粉末はＭｎＯｘ（但し、１＜ｘ≦
２）の組成からなることが好ましい。樹脂に添加する黒
色金属酸化物は、樹脂等で被覆してもしなくてもよい。
樹脂等で被覆すると黒色金属酸化物からの不純物イオン
の流出が低減できる。

【００３４】なお黒色金属酸化物は、基板間隔支持部材
用樹脂組成物を作製する際に、粉体をそのまま樹脂溶液
に添加することが可能である。

【００３５】黒色金属酸化物は基板間隔支持部材用の樹
脂組成物内で、凝集してフィラーの２次粒子を形成する
場合があり、この粒子径の平均を平均２次粒子径とする
と、平均２次粒子径が小さくなるよう微分散させること
が好ましく、２次粒子を形成せず１次粒子で安定性よく
分散させるのがより好ましい。平均２次粒子径として
は、５〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは６〜１
００ｎｍ、さらに好ましくは８〜８８ｎｍである。これ
より大きければ突起表面に凹凸が生じ、液晶配向の乱れ
により表示不良を引き起し、好ましくない。平均１次粒
子径、平均２次粒子径の求め方としては、例えば透過型
もしくは走査型電子顕微鏡等で黒色金属酸化物を観察
し、ＪＩＳ−Ｒ６００２に準じて平均粒径を求める。

【００３６】本発明において、基板間隔支持部材を構成
する樹脂としては、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹
脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ノボラック樹脂等の感光
性又は非感光性のものが好ましく用いられるが、これら
に限られるものではない。

【００３７】感光性の樹脂（フォトレジスト）には、ポ
ジ型とネガ型の２種類あるが、本発明における基板間隔
支持部材としては、どちらでもよい。

【００３８】本発明において使用可能となるポジ型レジ
ストとしては、ノボラック樹脂とナフトキノンジアジス
ルホン酸エステルドとの混合物が好ましく用いられる。
これは光照射によりアルカリ可溶性になった部分が溶出
し、後に残った部分を支持部材とするものが考えられる
（例えば文献「レジスト材料プロセス技術」第１章、技
術情報協会発行１９９１年参照）。

【００３９】一方、ネガ型フォトレジストとしては、
（１）環化ゴムービスアジド系（２）フェノール樹脂ー
アジド系（３）アクリル系樹脂（４）化学増感系等があ
る（前記文献参照）。

【００４０】非感光性の樹脂としては、上記の各種ポリ
マーなどで現像処理が可能なものが好ましく用いられる
が、透明導電層の製膜工程や液晶表示装置の製造工程で
かかる熱に耐えられるような耐熱性を有する樹脂が好ま
しく、また、液晶表示装置の製造工程で使用される有機
溶剤への耐性を持つ樹脂が好ましく、中でもポリイミド
系樹脂が特に好ましい。

【００４１】基板間隔支持部材に好ましく用いられるポ
リイミド系樹脂としては、特に限定されるものではない
が、通常下記一般式（１）で表される構造単位を主成分
とするポリイミド前駆体を、加熱又は適当な触媒によっ
てイミド化したものが好適に用いられる。

【００４２】

【化１】

【００４３】ここで上記一般式（１）のｎは０あるいは
１〜４の数である。Ｒ₁は酸成分残基であり、Ｒ₁ は少
なくとも２個の炭素原子を有する３価または４価の有機
基を示す。耐熱性の面から、Ｒ₁ は環状炭化水素、芳香
族環または芳香族複素環を含有し、かつ炭素数６から３
０の３価または４価の基が好ましい。Ｒ₁ の例として、
フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフタレ
ン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェニル
スルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノン
基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、シクロブチル
基、シクロペンチル基などから誘導された基が挙げられ
るがこれらに限定されるものではない。

【００４４】Ｒ₂は少なくなくとも２個の炭素原子を有
する２価の有機基を示す。耐熱性の面から、Ｒ₂は環状
炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ
炭素数６から３０の２価の基が好ましい。Ｒ₂の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェ
ノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニ
ルメタン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導され
た基が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポ
リマーはＲ¹、Ｒ²がこれらの内各々１個から構成されて
いても良いし、各々２種以上から構成される共重合体で
あっても良い。

【００４５】基板間隔支持部材として好ましく用いられ
るとしてアクリル系樹脂も挙げられる。アクリル系樹脂
は、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、
メチルメタクリレートなどのアルキルアクリレートまた
はアルキルメタクリレート、環状のアクリレートまたは
メタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレートまた
は、メタクリレートなどの内から３〜５種類程度のモノ
マを用いて、分子量５０００〜２０００００程度に重合
した樹脂を用いるのが好ましい。アクリル系樹脂を含む
場合、基板間隔支持部材用の樹脂組成物が感光性か非感
光性は制限されないが、基板間隔支持部材の微細加工の
しやすさの点から感光性の材料が好ましく用いられる。
感光性樹脂の場合には、アクリル系樹脂と光重合性モノ
マ、光重合開始剤を配合した組成物が好ましく用いられ
る。

【００４６】アクリル系樹脂用の光重合性モノマとして
は、２官能、３官能、多官能モノマがあり、２官能モノ
マとして、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールアクリ
レートなどがあり、３官能モノマとして、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソ
シアネートなどがあり、多官能モノマとしてジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタおよびヘキサアクリレートなどがある。ま
た、光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、チオキサ
ントン、イミダゾール、トリアジン系などが単独もしく
は混合で用いられる。

【００４７】また基板間隔支持部材として好ましく用い
られる他の樹脂としてエポキシ樹脂が挙げられる。エポ
キシ樹脂としては、具体的には、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノール
Ｆ型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、脂肪族ポ
リグリシジルエーテルなどを硬化剤により硬化したもの
を使用することができる。

【００４８】また基板間隔支持部材として好ましく用い
られる他の樹脂としてノボラック樹脂が挙げられる。ノ
ボラック樹脂は、ナフトキノンジアジスルホン酸エステ
ルドと混合したポジ型レジストとして用いられる。

【００４９】黒色金属酸化物と樹脂との重量比は１：１
９〜１８：２であることが好ましく、より好ましくは
２：１８〜１７：３である。黒色金属酸化物の重量比が
少なすぎると、遮光性が充分でなくなる。また、黒色金
属酸化物の重量比が多すぎると、黒色金属酸化物の凝集
が起きたり、液晶パネル体を構成する２枚の液晶表示装
置用基板間が短絡したり、あるいは基板間隔支持部材用
樹脂溶液を所望の粘度に調整することが困難になり好ま
しくない。

【００５０】基板間隔支持部材用樹脂溶液を液晶表示装
置用基板上に形成する方法としては、まず基板間隔支持
部材を基板上に、塗布、乾燥した後に、パターニングを
行う。基板間隔支持部材用樹脂溶液を塗布する方法とし
ては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダ
イコーティング法、ワイヤバーコーティング法などが好
適に用いられるが、均一な高さの形状を形成する点から
はダイコーティング法が好ましく、設備投資額の低減の
点からはロールコータ法が好ましい。この後、オーブン
やホットプレートを用いて加熱乾燥を行う。加熱乾燥条
件は、使用する樹脂、溶媒、樹脂溶液塗布量により異な
るが、通常６０〜２００℃で１〜６０分加熱することが
好ましい。加熱乾燥後、樹脂が非感光性の樹脂である場
合は、その上にフォトレジスト膜を形成した後に、ま
た、樹脂が感光性の樹脂である場合は、そのままかある
いは酸素遮断膜を形成した後に、露光、現像を行う。必
要に応じて、フォトレジスト膜または酸素遮断膜を除去
し、再度加熱乾燥する。加熱乾燥条件は、樹脂種によっ
て大きく異なる。ポリイミド前駆体からポリイミド系樹
脂を得る場合には、塗布量により若干異なるが、通常２
００〜３００℃で１〜６０分加熱するのが一般的であ
る。アクリル系樹脂の場合には、本キュア条件は、通常
１５０〜３００℃で１〜６０分加熱するのが一般的であ
る。以上のプロセスにより、基板表面に基板間隔支持部
材が形成される。

【００５１】上記のように、樹脂が非感光性の樹脂であ
る場合は、その上にフォトレジスト膜を形成後、露光・
現像によりパターニングするが、該フォトレジストはポ
ジ型フォトレジストが好ましい。ポジ型フォトレジスト
はネガ型フォトレジストに比べて露光光源に対して高感
度・高い加工安定性を保つことがわかってきた。特に感
度が高いことから、ポジ型フォトレジストを用いるとネ
ガ型フォトレジストに比べて露光タクトを短くできる。
その結果、設備投資の低減、製造コストの低減をするこ
とができる。

【００５２】転写法によって基板間隔支持部材を形成し
てもよい。すなわち、あらかじめ基材上に基板間隔支持
部材用樹脂膜を形成した転写基板を準備し、これを必要
に応じ熱や圧力を加えつつ基板の上に重ね合わせ、露光
・現像し、その後に基材を剥離して基板間隔支持部材を
基板表面に形成する方法、もしくはあらかじめフォトリ
ソグラフィーにて転写基板上に基板間隔支持部材を形成
した後、熱や圧力を加えて基板上に基板間隔支持部材を
転写する方法である。

【００５３】本発明の液晶パネル体の基板間隔支持部材
の膜厚は、液晶表示装置の表示方式や対向する基板上の
形状（高さ）によって異なるが、１μｍ〜６μｍである
ことが好ましい。基板間隔支持部材の膜厚が１μｍ未満
であると、基板間隔の保持や遮光性保持が困難になる。
基板間隔支持部材の膜厚が６μｍより大きくなると、基
板間隔支持部材の加工性が困難になる。

【００５４】基板間隔支持部材上に液晶配向膜が形成さ
れる際には、さらに高い耐熱性、耐溶剤性が要求され
る。また基板間隔支持部材は、直接または極めて薄い液
晶配向膜を介して接する。したがって基板間隔支持部材
には、イオン性不純物の溶出が少なく、また優れた電気
特性が要求される。

【００５５】基板間隔支持部材形成材料には後述のブラ
ックマトリックス層を形成する材料と同種の遮光剤成分
を含んでもよい。同種の遮光剤成分を含むことで、材料
製造に用いる遮光剤の種類を少なくすることができ、材
料購入費の削減が易しくなり、本発明の液晶パネル体を
安く提供できる。ブラックマトリックス層と基板間隔支
持部材は、同時に形成しても良いし、別々に形成しても
良い。通過工程数を減らし製造コストを低減することが
できるので、ブラックマトリックス層と基板間隔支持部
材は、同時に形成した方が好ましい。

【００５６】基板間隔支持部材をパターニングによって
得る際に、その形状がいびつになったり、不必要な領域
にも基板間隔支持部材料が残る場合がある。パターニン
グ性の改良するために、後述する樹脂ブラックマトリッ
クスや着色層に用いられる遮光剤や着色剤、分散剤、レ
ベリング剤、界面活性剤などの種々の添加剤を添加して
も良い。具体的には、例えば無機粒子としては、シリ
カ、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、タ
ルクなどの体質顔料、および黒、赤、青、緑などの着色
顔料、およびアルミナ、ジルコニア、マグネシア、ベリ
リア、ムライト、コージライトなどのセラミック粉末、
およびガラス−セラミックス複合粉末などが用いられ
る。体質顔料のうち、バライト、硫酸バリウム、炭酸カ
ルシウム、シリカおよびタルクが好ましいが、なかでも
基板間隔支持部材の寸法安定性の向上をする点から硫酸
バリウムが好ましい。またよりよい表示品位を得るため
に、遮光剤と補色となる遮光剤や着色剤を添加すること
が好ましい。

【００５７】基板間隔支持部材形成前後に、基板間隔支
持部材を形成する基板を研磨してもよい。基板間隔支持
部材形成前に研磨することで、基板間隔支持部材と該基
板との密着性が良くなる。基板間隔支持部材形成後に研
磨することで、基板間隔支持部材をパターニング時に生
じた、基板上のパターニング残さや、パターン形状を調
えることができる。

【００５８】基板間隔支持部材を透過または反射する光
をニュートラルにするために後述する樹脂ブラックマト
リックスや着色層に用いられる遮光剤や着色剤が有効で
ある。つまり基板間隔支持部材は全波長に渡って反射率
が低く、また、反射率の波長依存性も極めて小さい、い
わゆる“ニュートラルブラック”（着色しない黒）が好
ましい。基板間隔支持部材内の遮光剤がニュートラルブ
ラックでない場合には補色の顔料を基板間隔支持部材内
に添加することが好ましい。例えば遮光剤としてチタン
ブラックを主として用いる場合には、チタンブラックは
やや青みを帯びているので、基板間隔支持部材内に赤顔
料や茶色がかった遮光剤（例えばマンガン酸化物）を添
加することでニュートラルブラックに調色することが好
ましい。また遮光剤としてマンガン酸化物を主として用
いる場合には、チタンブラックはやや赤みを帯びている
ので、基板間隔支持部材内に青顔料や青みがかった遮光
剤（例えばチタンブラック）を添加することで調色する
ことが好ましい。

【００５９】一般的なカラー表示をする液晶パネル体
は、視認性向上のためのバックライト光源が設けられて
おり、通常赤色、青色、緑色画素の透過スペクトルのピ
ークにエネルギーが集中する３波長光源が用いられてい
る。基板間隔支持部材は、Ｃ光源またはＦ１０光源にお
ける該基板間隔支持部材部の透過光および／または反射
光のＸＹＺ表色系における色度座標（ｘ，ｙ）が、該光
源の色度座標（ｘ０、ｙ０）に対して、（ｘ−ｘ０）²
＋（ｙ−ｙ０）²≦０．０１が好ましい。またはバック
ライト光源照射時における該基板間隔支持部材部からの
透過光のＸＹＺ表色系における色度座標（ｘ，ｙ）が、
該光源の色度座標（ｘ０、ｙ０）に対して、（ｘ−ｘ
０）²＋（ｙ−ｙ０）²≦０．０１であることが好まし
く、さらに好ましくは（ｘ−ｘ０）²＋（ｙ−ｙ0）²＜
０．００２５、更に最も好ましくは（ｘ−ｘ０）²＋
（ｙ−ｙ０）²＜０．０００４である。これらの透過
光、反射光の測色方法としては、顕微分光光度計で透過
率、反射率を測定する方法がある。これらのスペクトル
からＣ光源またはＦ１０光源における原刺激値Ｘ、Ｙ、
Ｚを計算し、色度座標が求められる。市販の顕微分光高
度計、例えば大塚電子ＭＣＰＤ−２０００にはこれらの
計算プログラムが組み込まれている。３波長光源は、可
視域（４００〜７００ｎｍ）において特定の３波長にお
いて光のエネルギーの強いピークがあり、これを主波長
と呼ぶ。主波長の定義としては、波長４００〜４９０ｎ
ｍの範囲における青系色の光エネルギーの最も高いピー
クを中心に±１０ｎｍの範囲、波長４９０〜５８０ｎｍ
の範囲における緑系色にて、エネルギーの最も高いピー
クを中心に±１０ｎｍの範囲、波長５８０〜６７５ｎｍ
の範囲における赤系色の光において、エネルギーの最も
高いピークを中心に±１０ｎｍの範囲とする。通常、４
４０〜４６０ｎｍ、５３０〜５５０ｎｍ、６００〜６２
０ｎｍの範囲である。各主波長における基板間隔支持部
材部の透過率としては、エネルギーの最も高いピークを
中心に＋１０ｎｍ、−１０ｎｍの３点における平均値と
する。これらの各主波長での基板間隔支持部材部の透過
率のうち、最大値が最小値の４倍を超えないことが好ま
しく、より好ましくは２倍を超えないこと、さらに好ま
しくは1.5倍を超えないことが好ましい。これ以上差が
大きくなると、三波長光源を通して漏れてきた光が着色
し、画像表示品位を損ねてしまう。

【００６０】また、基板間隔支持部材は、波長４３０〜
６４０ｎｍの可視光域においての光学濃度が２．３以上
の遮光性を有しているのが好ましい。より好ましくは
３．１以上、さらに好ましくは３．５以上である。以
下、波長４３０〜６４０ｎｍの可視光域においての光学
濃度を遮光性と定義する。遮光性を向上させるために
は、基板間隔支持部材内の遮光剤の分散および分散安定
性を向上させるのが重要である。また、波長4００〜７
００ｎｍの可視光域における基板間隔支持部材部のＸＹ
Ｚ表色系における原刺激Ｙは、０．５０以下であること
が好ましく、より好ましくは０．０７９以下、さらに好
ましくは０．０２５以下である。

【００６１】添加する材料によっては、材料の抵抗値が
大きく変化する。基板間隔支持部材の体積抵抗値（ρ）
はガードリング付きの３端子法で基板間隔支持部材被膜
（電極面積（Ｓ）、膜厚（ｄ））の上下に設けられた電
極面に電圧（Ｖ）を印加し、流れた電流（Ｉ）から、ρ
＝（Ｖ／Ｉ）・（Ｓ／ｄ）で求められる。本発明の基板
間隔支持部材の体積抵抗値は１０⁷Ωｃｍ以上であるこ
とが好ましい。基板間隔支持部材の体積抵抗値が１０⁷
Ωｃｍ未満であると、突き当て部での導通が生じ、表示
不良を引き起こすので好ましくない。該体積抵抗値は１
０⁹Ωｃｍ以上であることがさらに好ましい。基板間隔
支持部材の体積抵抗値は１０⁷Ωｃｍ以上であることが
好ましい。体積抵抗値が１０⁷Ωｃｍ未満であると、液
晶に十分な電圧が印可されず表示不良を引き起こすので
好ましくない。該体積抵抗値は１０⁹Ωｃｍ以上である
ことがさらに好ましく、１０¹⁰Ωｃｍ以上であること
がより好ましい。遮光剤の添加量によって抵抗値は大き
くかわることがある。特にカーボンブラックは体積抵抗
値を低下させるので、添加量は少ない方が好ましい。樹
脂に添加するカーボンブラックの割合を増やしていく
と、ある割合でカーボンブラック粒子間のホッピング伝
導がおこり、急激に基板間隔支持材の体積抵抗値が低下
する。樹脂に添加するカーボンブラックは、樹脂等で被
覆してもしなくてもよい。樹脂等で被覆するとカーボン
ブラックからの不純物イオンの流出が低減できる。カー
ボンと樹脂との重量比は０：１０〜３：７であることが
好ましく、より好ましくは０：１０〜２：８、最も好ま
しくは０：１０〜１：９である。一方前記チタンブラッ
ク粉末やマンガン酸化物はその遮光性に比べて抵抗値が
高いため、基板間隔支持部材に添加する遮光剤としてよ
り好ましい。

【００６２】この基板間隔支持部材と、着色層またはブ
ラックマトリックス層または補助容量との間には、導電
膜や透明保護膜、絶縁膜等が介在してもよい。導電膜や
透明保護膜、絶縁膜等により、着色層またはブラックマ
トリックス層または補助容量から液晶中への表示不良を
引き起こす不純物の流出を防止できる。

【００６３】本発明の基板間隔支持部材により、基板間
隔が均一な液晶パネル体が得られる。基板間隔は、上下
の基板によって決まる液晶層の厚みである。マルチギャ
ップ方式と呼ばれる画素色によって基板間隔が異なる表
示方式の場合には、基板間隔は各色の平均の基板間隔を
さす。

【００６４】良好な表示品位を得るために、液晶パネル
体内の基板間隔の公差は、１５インチの液晶パネル体で
０．５μｍ以下、２０インチの液晶パネル体で０．８μ
ｍ以下が好ましい。

【００６５】基板間隔は、基板間隔支持部材の厚みと、
基板間隔支持部材を形成した箇所の高さ、基板間隔支持
部材を突き当てる箇所の高さ、およびパネル体作製時の
荷重によるそれぞれの潰れ量によって決まる。

【００６６】本発明における基板間隔支持部材の形状と
しては、ドット状が望ましい。この理由は、基板間隔支
持部材がドット状の方が安定であることである。ストラ
イプ状の基板間隔支持部材の場合には、ストライプ形状
が加熱後にうねることがあった。すなわち基板間隔支持
部材によって形成される基板間隔の安定性は、図１に示
すように基板間隔支持部材の横断面形状の短軸長さｘと
長軸長さｙとの比（すなわちｙ／ｘ）と相関があり、
１≦ｙ／ｘ＜１０が好ましく、より好ましくは１≦ｙ／
ｘ＜５であり、さらに好ましくは１≦ｙ／ｘ＜２．５で
ある。セルギャップ精度の要求される表示方式の液晶パ
ネル体、例えばインプレインスイッチング（ＩｎＰｌ
ａｎｅＳｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式や垂直配向（Ｖｅｒ
ｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、光学補償型視
野角拡大フィルム（液晶の視角による光学異方性を、デ
ィスコチックネマチック液晶等を配向させたフィルムの
光学異方性で補償し、視野角を広げるタイプのもの。例
えば富士写真フィルム（株）製ワイドビューフィルム）
を用いるツイステッドネマチック（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅ
ｍａｔｉｃ）方式の液晶パネル体や反射型液晶ディスプ
レイ向け液晶パネル体においても、１≦ｙ／ｘ＜２．５
が好ましい。

【００６７】また基板間隔支持部材の上面積は下面積と
等しいか小さいことが安定した基板間隔を得る点で好ま
しい。基板間隔支持部材の下面積が上面積より小さい場
合には、液晶パネル体を作製する際に上面積の周辺にク
ラックが生じる場合がある。ここで、該樹脂層の形状の
一例をあげて、上面積と下面積を説明すると、図２に示
すようになる（図２において、２が上面積、３が下面積
を示す）。

【００６８】また基板間隔支持部材と隣り合う、着色層
またはブラックマトリックス層または補助容量との対向
する面の面積が互いに異なることが好ましい。対向する
面の面積が互いに異なると基板間隔支持部材の位置ずれ
による基板間隔支持部材の面積のばらつきを防止するこ
とができる。加えて基板間隔支持部材が当接する対向基
板上の箇所のパターンも、基板間隔支持部材と面積が互
いに異なることが好ましい。

【００６９】本発明の液晶パネル体は、一対の基板によ
り形成される。一対の基板の少なくとも一方の上には、
液晶を駆動するための電極や、必要に応じて、薄膜トラ
ンジスタ（ＴＦＴ）やメタル・インシュレーター・メタ
ル（ＭＩＭ）やバリスタやダイオード（例えば薄膜ダイ
オード（ＴＦＤ））などのアクティブ素子、補助容量、
ブラックマトリックス層、カラー表示のための赤青緑等
の着色層が形成されている。

【００７０】本発明の基板間隔支持部材を形成する基板
上の箇所としては、次の５つの態様が好ましい。すなわ
ち、（１）基板間隔支持部材を、ブラックマトリクス層
上および／またはカラーフィルタの着色層上に形成、
（２）基板間隔支持部材を、ブラックマトリクス層上に
カラーフィルタの着色層を積層した上に形成、（３）前
記基板間隔支持部材を、カラーフィルタの着色層を複数
色重ねた上に形成、（４）基板間隔支持部材を、ブラッ
クマトリックス層上にカラーフィルタの着色層を複数色
重ねた上に形成、（５）基板間隔支持部材を、液晶パネ
ル駆動用の補助容量上に形成、（６）基板間隔支持部材
をカラーフィルター基板上の着色層およびブラックマト
リックス層の設けられていない箇所に形成するともので
ある。上記第（１）〜第（６）の態様の縦断面図を図３
〜図８、図１４、図１５に示す。図３〜図８、図１４、
図１５にある透明保護膜５や透明導電膜４は表示方式に
応じて形成してもしなくても良い。

【００７１】図３および図４は、前記第（１）の態様の
例を示すものであり、第（１）の態様においては、基板
間隔支持部材１を、ブラックマトリックス層８上に（図
３）および／またはカラーフィルタ着色層６、７（図
４）上に形成するため、基板間隔支持部材１の高さが揃
えやすい。

【００７２】図５は前記第（２）の態様の例を示すもの
であり、第（２）の態様においては、基板間隔支持部材
１を、ブラックマトリクス層８上にカラーフィルタの着
色層６、７を積層した上に形成するため、所望の基板間
隔を得やすい。すなわち第（１）の態様に比べて、およ
そ着色層の厚み分またはブラックマトリックスの厚み分
だけ基板間隔支持部材の厚みが薄くても、同程度の基板
間隔のパネル体を得ることができる。基板間隔支持部材
は厚みが厚くなるほど、その加工が困難になる。

【００７３】図６は、前記第（３）の態様の例を示すも
のであり、第（３）の態様においては、前記基板間隔支
持部材１を、カラーフィルタの着色層６、７を複数色重
ねた上に形成するため、所望の基板間隔を得やすい。す
なわち第（１）のカラーフィルタ着色層上に形成する態
様に比べて、およそ積層した着色層厚み分だけ基板間隔
支持部材の厚みが薄くても、第（１）の態様と同程度の
基板間隔のパネル体を得ることができる。また着色層を
積み重ねた部分が遮光性を持つことになるから、黒色遮
光膜の必要性が比較的高くない液晶パネル体、特にノー
マリーブラック方式の液晶パネル体には好適である。ま
た高開口率が求められる反射型液晶ディスプレイ向け液
晶パネル体においても、基板間隔支持部材を形成する基
板上に黒色遮光膜の少ない、または無い場合もあること
から、第（３）の態様は好ましく用いられる。

【００７４】図１６は、前記第（３）の態様の例をさら
に示すものであり、着色層６、７を複数色重ねた上に形
成する基板間隔支持部材を形成しているが、該基板間隔
支持部材の形成と同時にブラックマトリックスを該材料
を用いて形成したものである。透明保護膜５は基板間隔
支持部材形成後に形成してもしなくても良い。表示方式
によっては、透明導電膜を形成しても良い。

【００７５】図７は、前記第（４）の態様の例を示すも
のであり、第（４）の態様は、基板間隔支持部材１を、
ブラックマトリックス層８上にカラーフィルタの着色層
６、７を複数色重ねた上に形成するため、所望の基板間
隔を得やすい。すなわち第（１）の態様に比べて、およ
そ積層した着色層やブラックマトリックス層の厚み分だ
け基板間隔支持部材の厚みが薄くても、第（１）と同程
度の基板間隔のパネル体を得ることができる。

【００７６】図８は、前記第（５）の態様の例を示すも
のであり、第（５）の態様は、薄膜トランジスタを用い
た液晶パネル体で液晶を駆動させるために形成された基
板上のパターンのうち、補助容量（Ｃｓ：ストレージキ
ャパシターともいう）１１は基板間隔支持部材１を形成
するのに充分な領域を占め、かつ大きな段差形状がない
ため、安定した基板間隔をえる上で好ましい。薄膜トラ
ンジスタを用いた液晶表示素子においては、液晶分子を
保持駆動させるため、画素毎に補助容量が形成されてい
る。この補助容量は、画素電極と補助容量線（Ｃｓ線）
とこれらの間に挟まれた絶縁体で構成されている。液晶
パネル体の開口率を向上するために補助容量を小さくす
ると、補助容量に蓄積される電荷量が減少してしまう。
そのため、補助容量はある程度の領域が必要となると同
時に開口率の低下が問題となっている。一方基板間隔支
持部材を形成する箇所も表示に機能しないため、開口率
の低下が問題となる。従って、開口率より大きく得るた
めには、補助容量１１上に基板間隔支持部材１を形成す
ることが好ましい。

【００７７】図１４および１５は、前記第（６）の態様
の例を示すものであり、第（６）の態様は、基板間隔支
持部材１をブラックマトリックス層８およびカラーフィ
ルターの着色層６、７の設けられていない箇所に形成し
ている。特に基板間隔が狭い液晶パネル体においては、
基板間隔支持部材の膜厚を変えず透明保護膜の膜厚を変
えることで、基板間隔を調節することができる。基板間
隔支持部材の膜厚を変えると基板間隔支持部材の加工性
が大きく変わる。結果支持部材の形状も大きく異なるこ
とがあるため、製造条件検討を要する。本態様にするこ
とで基板間隔支持部材の膜厚を変えずに迅速に製造条件
を検討することができる。

【００７８】さらに前記第（１）〜第（４）の態様およ
び後述の第（６）の態様において、対向する基板上に駆
動用の補助容量が形成されている場合には、開口率をよ
り大きく得る点から基板間隔支持部材を該駆動用の補助
容量に突き当てることが好ましい。また突き当てられる
補助容量の面積は、当接させる基板間隔支持部材の上面
積と異なることが好ましい。

【００７９】加えて第（１）〜第（６）の態様におい
て、対向する基板上にブラックマトリックス層および／
またはカラーフィルターの着色層が形成されている場合
には、基板間隔支持部材の突き当て箇所は、（Ａ）ブラ
ックマトリクス層上および／またはカラーフィルタの着
色層上、（Ｂ）ブラックマトリクス層上にカラーフィル
タの着色層を積層した上、（Ｃ）カラーフィルタの着色
層を複数色重ねた上、（Ｄ）ブラックマトリックス層上
にカラーフィルタの着色層を複数色重ねた上、（Ｅ）ブ
ラックマトリックス層および着色層の形成されていない
箇所が考えられるが、突き当ての安定性・信頼性の点か
ら（Ａ）、（Ｂ）が好ましい。

【００８０】基板間隔支持部材は、画面内だけでなく画
面外にも有することが好ましい。画面内のセルギャップ
の均一性は、画面外の基板間隔の均一性と相関がある。
セルギャップの均一性を高めるために、画面外にも基板
間隔支持部材を有することが好ましい。画面内とは、額
縁部を含めず、それより内側の表示に用いる領域を指
す。表示画面外とは、額縁部を含めた外側の表示に用い
ない領域を指し、シール部やさらに外側の領域も含め
る。

【００８１】画面内に形成される基板間隔支持部材の上
断面積または下断面積は、２５μｍ ²〜４００μｍ²が好
ましい。２５μｍ²より小さくなると基板間隔支持部材
の寸法が不安定性になる。また４００μｍ²を越える
と、パネル体を点灯させたときに視認される可能性が高
くなり、表示品位が生じてくるので好ましくない。画面
外に形成される基板間隔支持部材は視認される可能性は
ないため、２５μｍ²以上であれば問題ない。

【００８２】本発明に用いられる基板としては、特に限
定されるものでないが、石英ガラス、ホウケイ酸ガラ
ス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートした
ソーダライムガラスなどの無機ガラス類、プラスチック
のフィルムまたはシートなどの透明基板が好ましく用い
られる。

【００８３】パネル体には、必要に応じて、ブラックマ
トリックス層が形成されることが好ましい。ここで言う
ブラックマトリクス層は、一般に各画素間に配列された
遮光領域および画面周囲の額縁部を示し、液晶パネル体
の表示コントラストを向上させるために設けられてい
る。液晶パネル体を構成する一対の基板のうち、一方に
のみブラックマトリックス層を形成しても良いし、両方
に形成しても良い。

【００８４】ブラックマトリックス層は、クロムやニッ
ケル等の金属又はそれらの酸化物等で形成してもよい
が、樹脂及び遮光剤から成る樹脂ブラックマトリックス
層を形成することが製造コストや廃棄物処理コストの面
から好ましい。また、樹脂ブラックマトリックス層は、
液晶パネル体の表示に問題のない遮光性能を保ちつつ、
その厚さを０．５μｍ〜２．０μｍの範囲で形成するこ
とができる。そこでブラックマトリックス層上に基板間
隔支持部材を形成する場合やブラックマトリックス層に
基板間隔支持部材を突き当てる場合においては、基板間
隔をブラックマトリックス層の厚さで調節できる。この
点からも樹脂ブラックマトリックスの採用が好ましい。
樹脂ブラックマトリクスに用いられる樹脂としては、特
に限定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、
ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、ゼラチンなどの感光性また
は非感光性の材料が好ましく用いられる。ブラックマト
リクス用樹脂は、カラーフィルタの着色層や保護膜に用
いられる樹脂よりも高い耐熱性を有する樹脂が好まし
く、また、ブラックマトリクス形成後の工程で使用され
る有機溶剤に耐性を持つ樹脂が好ましいことからポリイ
ミド系樹脂が特に好ましく用いられる。

【００８５】ポリイミド系樹脂としては、特に限定され
ないが、通常下記一般式（２）で表される構造単位を主
成分とするポリイミド前駆体（ｎ＝１〜２）を、加熱も
しくは適当な触媒によってイミド化したものが好適に用
いられる。

【００８６】

【化２】

【００８７】また、ポリイミド系樹脂には、イミド結合
の他に、アミド結合、スルホン結合、エーテル結合、カ
ルボニル結合などのイミド結合以外の結合が含まれてい
ても差支えない。

【００８８】上記一般式（２）中、Ｒ₁ は少なくとも２
個以上の炭素原子を有する３価または４価の有機基であ
る。耐熱性の面から、Ｒ₁ は環状炭化水素、芳香族環又
は芳香族複素環を含有し、かつ、炭素数６〜３０の３価
または４価の基が好ましい。

【００８９】Ｒ₁ の例として、フェニル基、ビフェニル
基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフ
ェニルエーテル基、ジフェニルスルホン基、ジフェニル
プロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフルオ
ロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチル基など
が挙げられるが、これらに限定されない。

【００９０】Ｒ₂ は少なくとも２個以上の炭素原子を有
する２価の有機基であるが、耐熱性の面から、Ｒ₂ は環
状炭化水素、芳香族環又は芳香族複素環を含有し、かつ
炭素数６〜３０の２価の基が好ましい。Ｒ₂ の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルホン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノ
ン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニル
メタン基、ジシクロヘキシルメタン基などが挙げられる
が、これらに限定されない。構造単位（１）を主成分と
するポリマは、Ｒ ₁ 、Ｒ₂ がこれらのうち各々１種から
構成されていても良いし、各々２種以上から構成される
共重合体であつてもよい。さらに、基板との接着性を向
上させるために、耐熱性を低下させない範囲でジアミン
成分として、シロキサン構造を有するビス（３−アミノ
プロピル）テトラメチルジシロキサンなどを共重合する
のが好ましい。

【００９１】構造単位（１）を主成分とするポリマーの
具体的な例として、ピロメリット酸二無水物、３、３
´，４、４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、３、３´，４、４´−ビフェニルトリフルオロプロ
パンテトラカルボン酸二無水物、３、３´，４、４´−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，
３，５，−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
などからなる群から選ばれた１種以上のカルボン酸二無
水物と、パラフェニレンジアミン、３、３´−ジアミノ
ジフェニルエーテル、４、４´−ジアミノジフェニルエ
ーテル、３、４´ジアミノジフェニルエーテル、３、３
´−ジアミノジフェニルスルホン、４、４´−ジアミノ
ジフェニルスルホン、４、４´−ジアミノジシクロヘキ
シルメタン、４、４´−ジアミノジフェニメタンなどの
群から選ばれた１種以上のジアミンから合成されたポリ
イミド前駆体が挙げられるが、これらに限定されない。
これらのポリイミド前駆体は公知の方法すなわち、テト
ラカルボン酸二無水物とジアミンを選択的に組み合わ
せ、溶媒中で反応させることにより合成される。

【００９２】ブラックマトリクス用の遮光剤としては、
カーボンブラック、チタンブラック、四酸化鉄などの金
属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉、顔料やこれらの混
合物などを用いることができる。この中でも、特にカー
ボンブラックやチタンブラックは遮光性が優れており、
特に好ましい。分散のよい粒径の小さいカーボンブラッ
クは主として茶系統の色調を呈するので、カーボンブラ
ックに対する補色の顔料を混合させて無彩色にするのが
好ましい。ブラックマトリックスにチタンブラックを用
いる場合のチタンブラックは、基板間隔支持部材と同様
に、ＴｉＮｘＯｙ（ただし、０≦ｘ＜１．５、０．１＜
ｙ＜１．８）の組成からなることが好ましい。

【００９３】ブラックマトリクス用の樹脂がポリイミド
の場合、黒色ペースト溶媒としては、通常、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド系極性溶
媒、γ−ブチロラクトンなどのラクトン系極性溶媒など
が好適に使用される。

【００９４】カーボンブラックやカーボンブラックに対
して補色の顔料等の遮光剤を分散させる方法としては、
例えば、ポリイミド前駆体溶液中に遮光剤や分散剤等を
混合させた後、三本ロール、サンドグラインダー、ボー
ルミル等の分散機中で分散させる方法などがあるが、こ
の方法に特に限定されない。また、カーボンブラックの
分散性向上、あるいは塗布性やレベリング性向上のため
に種々の添加剤が加えられていてもよい。

【００９５】樹脂ブラックマトリクスの製法としては、
例えば黒色樹脂組成物を基板上に塗布・乾燥した後に、
パターニングを行う方法などがある。黒色樹脂組成物を
塗布する方法としては、ディップ法、ロールコータ法、
スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーによる
方法などが好適に用いられ、この後、オーブンやホット
プレートを用いて加熱乾燥を行う。セミキュア条件は、
使用する樹脂、溶媒、ペースト塗布量により異なるが、
通常６０〜２００℃で１〜６０分加熱することが好まし
い。

【００９６】このようにして得られた黒色樹脂組成物の
被膜は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上に
フォトレジスト（好ましくはポジ型フォトレジスト）の
被膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹脂である
場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形成した後
に、露光・現像を行う。必要に応じて、フォトレジスト
または酸素遮断膜を除去し、また、加熱乾燥する。加熱
乾燥条件は、前駆体からポリイミド系樹脂を得る場合に
は、塗布量により若干異なるが、通常２００〜３００℃
で１〜６０分加熱するのが一般的である。以上のプロセ
スにより、基板上にブラックマトリクス層が形成され
る。

【００９７】また、ブラックマトリクスの遮光性は、Ｏ
Ｄ値（透過率の逆数の常用対数）で表されるが、液晶表
示装置の表示品位を向上させるためには、ＯＤ値は好ま
しくは２．０以上であり、より好ましくは２．５以上、
さらに好ましくは３．０以上である。また、樹脂ブラッ
クマトリクスの膜厚の好適な範囲を前述したが、ＯＤ値
の上限は、これとの関係で定められるべきである。なお
ＯＤ値の測定には大塚電子（株）製の顕微分光ＭＣＰＤ
２０００を用い、ブラックマトリックスの形成されてい
ない基板をリファレンスとして測定したものである。

【００９８】ブラックマトリクスの反射率は、反射光に
よる影響を低減し液晶表示装置の表示品位を向上させる
ために、４００〜７００ｎｍの可視領域での視感度補正
された反射率（Ｙ値）で２％以下が好ましく、より好ま
しくは１％以下である。なお、反射率の測定には大塚電
子（株）製の顕微分光ＭＣＰＤ２０００を用い、アルミ
薄膜をリファレンスとして測定したものである。

【００９９】表示画面内のブラックマトリクス間には、
通常（２０〜２００）μｍ×（２０〜３００）μｍの開
口部が設けられるが、液晶パネル体を構成する一対の基
板の内のどちらか一方の開口部に相当する位置に３原色
からなる画素が複数配列される。

【０１００】画素を形成する着色層は、少なくとも３原
色の色彩を含む。すなわち、加色法によりカラー表示を
行う場合は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色が
選ばれ、減色法によりカラー表示を行う場合は、シアン
（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の３原色が選
ばれる。一般には、これらの３原色を含んだ要素を１単
位としてカラー表示の絵素とすることができる。着色層
には、着色剤により着色された樹脂が用いられる。

【０１０１】着色層に用いられる着色剤としては、有機
顔料、無機顔料、染料などを好適に用いることができ、
さらには、紫外線吸収剤、分散剤、レベリング剤などの
種々の添加剤を添加しても良い。有機顔料としては、フ
タロシアニン系、アジレーキ系、縮合アゾ系、キナクリ
ドン系、アントラキノン系、ペリレン系、ペリノン系が
好適に用いられる。

【０１０２】着色層に用いられる樹脂としては、エポキ
シ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹
脂、ゼラチンなどの感光性または非感光性の材料が好ま
しく用いられ、着色剤をこれらの樹脂中に分散あるいは
溶解させて着色することが好ましい。感光性の樹脂とし
ては、光分解型樹脂、光架橋型樹脂光重合型樹脂などの
タイプがあり、特に、エチレン不飽和結合を有するモノ
マ、オリゴマまたはポリマと紫外線によりラジカルを発
生する開始剤とを含む感光性組成物、感光性ポリアミッ
ク酸組成物などが好適に用いられる。非感光性の樹脂と
しては、上記の各種ポリマなどで現像処理が可能なもの
が好ましく用いられるが、透明導電膜の成膜工程や液晶
表示装置の製造工程でかかる熱に耐えられるような耐熱
性を有する樹脂が好ましく、また、液晶表示装置の製造
工程で使用される有機溶剤への耐性を持つ樹脂が好まし
いことから、ポリイミド系樹脂が特に好ましく用いられ
る。

【０１０３】着色層を形成する方法としては、例えば、
着色樹脂組成物を基板上に塗布・乾燥した後に、パター
ニングを行う方法などがある。着色剤を分散または溶解
させ着色樹脂組成物を得る方法としては、溶媒中に樹脂
と着色剤を混合させた後、三本ロール、サンドグライン
ダー、ボールミル等の分散機中で分散させる方法などが
あるが、この方法に特に限定されない。

【０１０４】着色樹脂組成物を塗布する方法としては、
黒色樹脂組成物の場合と同様、ディップ法、ロールコー
タ法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバー
による方法などが好適に用いられ、この後、オーブンや
ホットプレートを用いて加熱乾燥を行う。加熱乾燥条件
は、使用する樹脂、溶媒、樹脂組成物の塗布量によりこ
となるが通常６０〜２００℃で１〜６０分加熱すること
が好ましい。このようにして得られた着色樹脂組成物
の被膜は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上
にフォトレジスト（好ましくはポジ型フォトレジスト）
の被膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹脂であ
る場合は、そのままかあるいはポリビニルアルコールな
どの酸素遮断膜を形成した後に、露光・現像を行う。必
要に応じて、フォトレジストまたは酸素遮断膜を除去
し、また、加熱乾燥する。加熱乾燥条件は、樹脂により
異なるが、前駆体からポリイミド系樹脂を得る場合に
は、通常２００〜３００℃で１〜６０分加熱するのが一
般的である。以上のプロセスにより、基板上にパターニ
ングされた着色層が形成される。

【０１０５】次に基板上に第（１）〜第（４）、第６の
態様において基板間隔支持部材を形成する一例について
記す。

【０１０６】第（１）の態様の例を示す。ブラックマト
リクスを形成した基板上に第１色目の着色層を全面にわ
たって形成した後に、不必要な部分をフォトリソグラフ
ィ法により除去し、所望の第１色目の着色層のパターン
を形成する。第２色目、第３色目も同様な操作を繰り返
す。この後ブラックマトリックス層上におよび／または
カラーフィルタ着色層上に基板間隔支持部材を形成す
る。

【０１０７】次に、第（２）の態様の例を示す。ブラッ
クマトリクスを形成した基板上に第１色目の着色層を全
面にわたって形成した後に、不必要な部分をフォトリソ
グラフィ法により除去し、所望の第１色目の着色層のパ
ターンを形成する。第２色目、第３色目も同様な操作を
繰り返す。ただし、３色の着色層の内少なくとも１色の
着色層はブラックマトリックス層に重なるように形成す
る。基板間隔支持部材を、ブラックマトリクス層上にカ
ラーフィルタの着色層を積層した上に形成する。

【０１０８】第（３）の態様の例を示す。基板上に第１
色目の着色層を全面にわたって形成した後に、不必要な
部分をフォトリソグラフィ法により除去し、所望の第１
色目の着色層のパターンを形成する。第２色目、第３色
目も同様な操作を繰り返す。ただし、３色の着色層の内
２色または３色の着色層を、重なるように形成する。前
記基板間隔支持部材を、カラーフィルタの着色層を複数
色重ねた上に形成する。

【０１０９】第（４）の態様の例を示す。ブラックマト
リクスを形成した基板上に第１色目の着色層を全面にわ
たって形成した後に、不必要な部分をフォトリソグラフ
ィ法により除去し、所望の第１色目の着色層のパターン
を形成する。第２色目、第３色目も同様な操作を繰り返
す。ただし、３色の着色層の内２色または３色の着色層
を、ブラックマトリックス層上に重なるように形成す
る。前記基板間隔支持部材を、ブラックマトリックス層
上にカラーフィルタの着色層を複数色重ねた上に形成す
る。

【０１１０】カラーフィルター製造ラインに基板間隔支
持部材製造ラインを併設する場合においては、カラーフ
ィルターの製造ラインのレジスト加工設備・加工条件
と、基板間隔支持部材の加工設備・加工条件とを類似な
ものとすると、設備の共有化ができ、設備投資額の低減
・製造コスト低減・廃棄物処理コストダウンをすること
ができるので好ましい。製造ラインや加工条件を共有化
するためには、基板間隔支持部材をポジ型フォトレジス
トを用いて製造する際または非感光樹脂をポジ型フォト
レジストを用いて製造する際には、ブラックマトリック
スおよび／または着色層の一部または全部をポジ型フォ
トレジストを用いて製造する、または非感光樹脂をポジ
型フォトレジストを用いて製造することが好ましい。

【０１１１】本発明において基板上に必要に応じて、液
晶を駆動させるために必要な導電膜を形成してもよい。
導電膜は、ディッピング法、化学気相成長、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の方
法を経て作製される。本発明に使用される導電膜として
は、抵抗値が低く、透明性が高く、カラー表示特性を損
なわれないものが好ましい。代表的な透明導電膜の具体
例を示すと、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜
鉛、酸化スズ等及びその合金を用いることができる。こ
のような透明導電膜の厚みは、０．０１〜１μm、好ま
しくは０．０３〜０．５μmである。導電膜の形成順は
特に限定されないが、基板間隔支持部材を有する基板上
に導電膜を形成する場合には、基板間隔支持部材形成前
が液晶を駆動する上で好ましい。

【０１１２】基板上の着色層上および／またはブラック
マトリックス層上に透明保護膜を設けても差支えない。
透明保護膜の形成は、カラーフィルターに透明電極を形
成する場合には、駆動電圧の損出を少なくするために、
透明電極の形成前が好ましい。カラーフィルター基板に
透明保護膜を設けた後に、基板間隔支持部材を設けるこ
とで基板間隔支持部材の密着性が良くなる。たとえばラ
ビング時に基板から基板間隔支持部材の脱落を防止する
ことができる。またカラーフィルター基板に基板間隔支
持部材を形成後に、透明保護膜を設けることも好まし
い。ラビング時に基板から基板間隔支持部材の脱落を防
止することができるし、基板間隔支持部材からの表示品
位を低下させるような不純物が液晶中に溶出するのを防
止することができる。

【０１１３】本発明の着色層やブラックマトリックスに
は、必要に応じて薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子や、
薄膜ダイオード（ＴＦＤ）素子、および走査線、信号線
などを設けてもよい。

【０１１４】薄膜トランジスタ素子を備えた基板の製造
方法の一例を以下に示す。

【０１１５】無アルカリガラス基板上にスパッタリング
によりクロム薄膜を形成し、フォトリソグラフィーにて
ゲート電極をパターニングする。次に、プラズマＣＶＤ
により、絶縁膜として窒化珪素膜、アモルファスシリコ
ン膜およびエッチングストッパとして窒化珪素膜を連続
形成する。次に、フォトリソグラフィーにてエッチング
ストッパの窒化珪素膜をパターニングする。ＴＦＴ端子
が金属電極とオーミックコンタクトをとるためのｎ＋ア
モルファスシリコン膜の成膜とパターニングをした。こ
のとき同時にチャンネル層のアモルファスシリコン膜も
パターニングした。この上に、表示電極となるＩＴＯ膜
を成膜しパターニングする。さらに配線材料としてアル
ミニウムをスパッタリングにより膜付けし、フォトリソ
グラフィーにて信号配線およびＴＦＴの金属電極を作製
する。ドレイン電極とソース電極をマスクとしてチャン
ネル部のｎ＋アモルファスシリコン膜をエッチング除去
し、ＴＦＴ素子備えた電極基板を得る。反射型の液晶表
示素子の場合は、表示電極をアルミニウムや銀などの反
射率の高い材料とする。

【０１１６】次に液晶パネル体について説明する。本発
明の液晶パネル体の一例を図９に示す。基板間隔支持部
材１と着色層６、７とブラックマトリックス層８を形成
した基板９と対向基板９とを貼り合わせて作製する。対
向基板上には、補助容量１１、画素電極１２以外に、薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子やおよび走査線、信号線
などを設ける。一対の基板上には液晶配向膜１３が設け
られ、ラビングなどによる配向処理が施される。配向処
理後にシール剤を用いてカラーフィルタおよび対向基板
を貼り合わせ、シール部に設けられた注入口から液晶を
注入した後に、注入口を封止する。偏光板を基板の外側
に貼り合わせ後にＩＣドライバー等を実装することによ
り液晶パネル体が完成する。

【０１１７】

【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。

【０１１８】実施例１第（１）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜カラーフィルタ基板の作製＞まず透明基板上にブラッ
クペースト（ポリイミド系非感光性材料）を塗布し加熱
を行いをポジ型レジストを塗布した。続いて、ブラック
マトリクス部、額縁部のパターンをもつフォトマスクを
介して露光を行い現像、剥離し再度加熱を行いブラック
マトリクス部、額縁部のパターンを有する樹脂ブラック
マトリクス基板を得た。ブラックマトリックスの膜厚は
１．３μｍであった。次に、緑樹脂組成物（ポリイミド
系非感光性材料）を基板上に塗布し加熱を行いをポジ型
レジストを塗布した。続いて、露光、現像、ポジ型レジ
スト剥離を行い再度加熱し緑色画素を形成した。同様に
して青色、赤色画素を形成した。画素の膜厚は１．５μ
ｍであった。さらに、透明保護膜を塗布しスパッタリン
グ法によりＩＴＯ膜を成膜した。透明保護膜の膜厚は１
μｍであった。＜基板間隔支持部材の調整＞（ａ）非感光性ポリイミド系樹脂＋チタンブラックγ−
ブチロラクトン（３８２５ｇ）溶媒中で、ピロメリット
酸二無水物（１４９．６ｇ）、ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物（２２５．５ｇ）、３，３′−ジアミ
ノジフェニルスルフォン（６９．５ｇ）、４，４´−ジ
アミノジフェニルエーテル（２１０．２ｇ）、ビス−３
−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン（１７．
４ｇ）を６０℃、３時間反応させた後、無水マレイン酸
（２．２５ｇ）を添加し、更に６０℃１時間反応させる
ことによって、前駆体であるポリアミック酸溶液（ポリ
マー濃度１５重量％）を得た。

【０１１９】チタンブラック粉末（三菱マテリアル製１
２Ｓ）５．２ｇ、前記のポリマー濃度１５重量％のポリ
アミック酸溶液１８．７ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン５７．２ｇ、ソルフィットアセテート１２．９ｇをガ
ラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用い、７
０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾
過により除去し、顔料濃度１４重量％の顔料分散液を得
た。用いたチタンブラックの一次粒子径は０．０２３μ
mであった。この時のチタンブラック／ポリイミド樹脂の
重量比率は８０／２０であった。

【０１２０】顔料分散液２７．５ｇに、前記のポリマー
濃度１５重量％ポリアミック酸溶液、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ソルフィットアセテ
ートを添加混合し、遮光剤を含む樹脂溶液を作製した。
ここで使用した遮光剤を含む樹脂溶液を−１５℃下で３
０日間保存した後、分散状態を調べたが沈積は認められ
なかった。

【０１２１】次に、遮光剤を含む樹脂溶液をスリットダ
イコータで塗布し真空乾燥し加熱をした。さらに、ポジ
型レジストを塗布、加熱乾燥、現像、ポジ型レジスト剥
離を行い再度加熱した。このとき現像濃度を２．０５％
とした。このパターンニングにより基板間隔支持部材を
画面内のブラックマトリックス上および画面外に形成し
た。このとき基板間隔支持部材の膜厚は４．３μｍであ
り、面積は約１１０μｍ²であった。パターン形成され
た基板間隔支持部材の短軸の長さは１０μｍ、長軸の長
さは１１μｍであった。同様にして基板間隔支持部材の
短軸の長さ、長軸の長さを、（短軸の長さ，長軸の長
さ）＝（９．２，１２），（８．５，１３），（７．
９，１４），（７．３，１５），（６．９，６）の水準
を作製した。

【０１２２】図２で示す基板間隔支持部材１の上面積２
と下面積３で示される形状は上面積＜下面積であった。
またこの基板間隔支持部材の膜厚精度は±０．３μｍ内
に収まっていた。

【０１２３】得られた基板間隔支持部材の電気抵抗値は
２×１０¹²Ω・ｃｍであった。なお、使用したチタンブ
ラックの組成比Ｔｉ：Ｎ：Ｏは１．００：０．７３：
０．９１であった。（ｂ）ネガ型フォトレジスト＋チタンブラック（ａ）と同様のチタンブラック粉末を用いて基板間隔支
持部材を形成した。ただし樹脂はネガ型のフォトレジス
トの感光アクリルを用いた。基板間隔支持部材の形状、
膜厚、電気抵抗値等は、（ａ）とほぼ同等であった。
（ｃ）ネガ型フォトレジスト＋マンガン酸化物（ｂ）と同様の感光アクリル材を用いて基板間隔支持部
材を形成した。ただし遮光剤はマンガン酸化物粉末を用いた。基板間隔支持部
材の形状、膜厚、電気抵抗値等は、（ａ）とほぼ同等で
あった。なお使用したＭｎＯｘのｘ値は１＜ｘ≦２の範
囲にあった。（ｄ）ポジ型フォトレジスト＋チタンブラック（ａ）と同様のチタンブラック粉末を用いて基板間隔支
持部材を形成した。ただし樹脂はポジ型のフォトレジス
トのノボラック樹脂を用いた。基板間隔支持部材の形
状、膜厚、電気抵抗値等は、（ａ）とほぼ同等であっ
た。（ｅ）ポジ型フォトレジスト＋マンガン酸化物（ｄ）と同様のポジ型レジストを用いて基板間隔支持部
材を形成した。ただし遮光剤はマンガン酸化物粉末を用
いた。基板間隔支持部材の形状、膜厚、電気抵抗値等
は、（ａ）とほぼ同等であった。＜液晶パネル体の作製＞（ａ）〜（ｄ）で作製した基板
間隔支持部材付のカラーフィルタ基板上にポリイミド系
の配向膜を塗布加熱させた後、ラビング処理を施した。
薄膜トランジスタ素子を備えた基板上にも同様に配向膜
を設け、ラビング処理をした。配向膜を設けたカラーフ
ィルタと薄膜トランジスタ素子を備えた透明電極基板と
をシール剤を用いて貼り合わせた。基板間隔支持部材の
突き当て部には補助容量が形成されており、画素電極に
比べて０．３μｍ厚い。シール部に設けられた注入口か
ら液晶を注入した。液晶の注入は、空セルを減圧下に放
置後、注入口を液晶槽に浸漬し、常圧に戻すことにより
行った。液晶を注入後、注入口を封止し、さらに視野角
拡大フィルムのついた偏光板を基板の外側に貼り合わせ
第（１）の態様の液晶パネル体を作製した。得られた液
晶パネル体の断面積を図９に示す。得られた液晶表示装
置は、カラーフィルター基板と対向基板との短絡がな
く、また十分なセルギャップが確保でき、良好な表示品
位のものであった。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電
子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３００
０）で測定したところ４．４μｍであった。

【０１２４】実施例２第（１）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。実施例１と同様にブラックマトリックス上に実施
例１と同様の遮光剤と樹脂を用い、基板間隔支持部材を
形成した。このとき基板間隔支持部材の膜厚は２．４μ
ｍ、２．９μｍ、３．４μｍ、３．９μｍ、４．４μ
ｍ、４．９μｍ、５．４μｍ、５．９μｍ、６．４μｍ
の９水準行った（各膜厚水準において実施例１と同様
に、基板間隔支持部材の短軸長さ、長軸長さを振った水
準も作製した）。こうして作製した液晶パネル体の基板
間隔を、大塚電子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥ
ＴＳ−３０００）で測定したところそれぞれ２．５μ
ｍ、３．０μｍ、３．５μ、４．０μｍ、４．５μｍ、
５．０μｍ、５．５μｍ、６．０μｍ、６．４μｍとな
った。これらの液晶パネル体を点灯表示させた。基板間
隔２．５μｍの水準では、表示色が他水準のものと大き
く異なった。各基板間隔水準のものを各１００パネル作
製したところ、基板間隔６．４μｍの水準以外バラツキ
は小さかった。基板間隔６．４μｍの水準では、開口部
の電極に基板間隔支持部材の現像残膜が残り液晶に印可
される実行電圧が低下し、階調表示が他の水準のものと
大きく異なった。また点灯時の輝度が大きく低下した。
基板間隔がその他の水準については、良好な表示品位が
得られた。

【０１２５】実施例３第（１）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。クロム系金属を用いてブラックマトリックスを形
成後、画素、透明保護膜を形成後、透明電極を形成し
た。実施例１と同様な材料を用いて基板間隔支持部材を
形成した。実施例１と同様に液晶パネル体を作製したと
ころ基板間隔支持部材の膜厚は４．３μｍ、液晶パネル
体の基板間隔は３．８μｍであった。良好な表示品位が
得られた。

【０１２６】実施例４第（１）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。クロム系金属を用いてブラックマトリックスを形
成後、画素、透明電極を形成した。透明保護膜の形成は
行わなかった。実施例１と同様な材料を用いて、ブラッ
クマトリックス上に基板間隔支持部材を形成した。実施
例１と同様に液晶パネル体を作製したところ基板間隔支
持部材の膜厚は３．８μｍ、液晶パネル体の基板間隔は
３．３μｍであった。良好な表示品位が得られた。

【０１２７】実施例５第（２）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜カラーフィルタ基板の作製＞まず透明基板上にブラッ
クペースト（ポリイミド系非感光性材料）を塗布し加熱
を行いをポジ型レジスト塗布した。続いて、ブラックマ
トリクス部、額縁部のパターンをもつフォトマスクを介
して露光を行い現像、ポジ型レジストを剥離し再度加熱
を行いブラックマトリクス部、額縁部のパターンを有す
る樹脂ブラックマトリクス基板を得た。ブラックマトリ
ックスの膜厚は１．３μｍであった。次に、緑ペースト
（ポリイミド系非感光性材料）を基板上に塗布し加熱を
行いを塗布したポジ型レジストを塗布した。続いて、露
光、現像、ポジ型レジスト剥離を行い再度加熱し緑色画
素を形成した。同様にして青色、赤色画素を形成した。
緑青赤画素の形成時にはブラックマトリックス層上に重
なるように形成した。画素の膜厚は１．５μｍであっ
た。さらに、透明保護膜を塗布しスパッタリング法によ
りＩＴＯ膜を成膜した。次に、実施例１と同様の材料を
用いて、基板間隔支持部材を画面内のブラックマトリッ
クス上および画面外に形成した。このとき基板間隔支持
部材の膜厚は３．６μｍであり、面積は約１１０μｍ²
であった。パターン形成された基板間隔支持部材の短軸
の長さは１０μｍ、長軸の長さは１１μｍであった。基
板間隔支持部材の形状は上面積＜下面積であった。また
この基板間隔支持部材の膜厚精度は±０．３μｍ内に収
まっていた。＜液晶パネル体の作製＞実施例１と同様にカラーフィル
タ基板と薄膜トランジスタ素子を設けた基板上に配向膜
を設けラビング処理をした後はりあわせた。基板間隔支
持部材の突き当て部には補助容量が形成されており、画
素電極に比べて０．３μｍ厚い。液晶注入後さらに視野
角拡大フィルムのついた偏光板を基板の外側に貼り合わ
せ第２の態様の液晶パネル体を作製した。得られた液晶
パネル体の断面図を図１０に示す。得られた液晶パネル
体は、カラーフィルター基板と対向基板との短絡がな
く、また十分なセルギャップが確保でき、良好な表示品
位のものであった。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電
子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３００
０）を測定したところ４．４μｍであった。

【０１２８】実施例６第（２）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。クロム系金属を用いてブラックマトリックスを形
成後、実施例５と同様に画素、透明保護膜を形成後、透
明電極を形成した。実施例５と同様にブラックマトリッ
クス上にを用いて、実施例１と同様の材料を用い基板間
隔支持部材を形成した。基板間隔支持部材の膜厚は４．
２μｍとした。実施例５と同様に液晶パネル体を作製し
たところ、液晶パネル体の基板間隔は４．４μｍであっ
た。良好な表示品位が得られた。

【０１２９】実施例７第（２）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。クロム系金属を用いてブラックマトリックスを形
成後、実施例５と同様に画素、透明電極を形成した。透
明保護膜の形成は行わなかった。実施例５と同様にブラ
ックマトリックス上に、実施例１と同様の材料を用いて
基板間隔支持部材を形成した。実施例１と同様に液晶パ
ネル体を作製したところ基板間隔支持部材の膜厚は４．
２μｍ、液晶パネル体の基板間隔は４．７μｍであっ
た。良好な表示品位が得られた。

【０１３０】実施例８第（３）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜カラーフィルタ基板の作製＞まず透明基板上に、緑ペ
ースト（ポリイミド系非感光性材料）を基板上に塗布し
加熱を行いポジ型レジストを塗布した。続いて、露光、
現像、ポジ型レジスト剥離を行い再度加熱し緑色画素を
形成した。同様にして青色、赤色画素を形成した。画素
の膜厚は１．５μｍであった。このとき赤画画素と青画
素が重なる箇所を設けた。さらに、実施例１より固形分
濃度の高い透明保護膜を塗布しスパッタリング法により
ＩＴＯ膜を成膜した。透明保護膜の膜厚は１μｍであっ
た。次に、実施例１と同様の材料を用いて基板間隔支持
部材を画面内の青画素と赤画素とを重ねた箇所および画
面外に形成した。このとき基板間隔支持部材の膜厚は
３．０μｍであり、面積は約１５０μｍ²であった。パ
ターン形成された基板間隔支持部材の短軸の長さは１０
μｍ、長軸の長さは１５μｍであった。同様にして基板
間隔支持部材の短軸の長さ、長軸の長さを、（短軸の長
さ，長軸の長さ）＝（９．４，１６），（８．８，１
７），（８．３，１８）（７．９，１９），（７．５，
２０），（１０．７，１４），（１１．５，１３）のも
のを作製した。＜液晶パネル体の作製＞カラーフィルタ基板上にポリイ
ミド系の配向膜を塗布加熱させた後、ラビング処理を施
した。薄膜トランジスタ素子を備えた基板にはブラック
マトリックスも設けてあるものを用いた。薄膜トランジ
スタ素子を備えた基板上の基板間隔支持部材の突き当て
部は、画素電極に比べて０．８μｍ高くなっている。こ
の基板上にも同様に配向膜を設け、ラビング処理をし
た。配向膜を設けたカラーフィルタと薄膜トランジスタ
素子を備えた透明電極基板とをシール剤を用いて貼り合
わせた。実施例１と同様に、液晶の注入等を行い、第
（３）の態様の液晶パネル体を作製した。得られた液晶
パネル体の断面図を図１１に示す。得られた液晶表示装
置は、カラーフィルター基板と対向基板との短絡がな
く、また十分なセルギャップが確保でき、良好な表示品
位のものであった。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電
子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３００
０）を測定したところ４．５μｍであった。同様にして
作製した基板間隔支持部材の短軸の長さ、長軸の長さ
を、（短軸の長さ，長軸の長さ）＝（９．４，１６），
（８．８，１７），（８．３，１８）（７．９，１
９），（７．５，２０），（１０．７，１４），（１
１．５，１３）とした液晶パネル体も良好な表示品位で
あった。

【０１３１】実施例９第（４）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜カラーフィルタ基板の作製＞実施例１と同様に、樹脂
ブラックマトリックスを形成した後、緑色、青色、赤色
画素を形成した。但し画素の形成と同時に、ブラックマ
トリックス上に緑色、青色、赤色画素を積層した箇所を
設けた。透明保護膜を塗布後、ＩＴＯ膜を成膜した。次
に、実施例１と同様の材料を用い基板間隔支持部材を形
成した。基板間隔支持部材の膜厚は１．５μｍであっ
た。＜液晶パネル体の作製＞カラーフィルター上、薄膜トラ
ンジスタ素子を備えた基板上に配向膜を形成し、ラビン
グ処理をした。配向膜を設けたカラーフィルタと薄膜ト
ランジスタ素子を備えた透明電極基板とをシール剤を用
いて貼り合わせた。基板間隔支持部材の突き当て箇所
は、薄膜トランジスタ素子を備えた基板上の補助容量の
箇所にした。実施例４と同様に、液晶の注入等を行い、
第（４）の態様の液晶パネル体を作製した。得られた液
晶パネル体の断面図を図１２に示す。得られた液晶表示
装置は、カラーフィルター基板と対向基板との短絡がな
く、また十分なセルギャップが確保でき、良好な表示品
位のものであった。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電
子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３００
０）を測定したところ４．６μｍであった。

【０１３２】実施例１０第（４）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。クロム系金属を用いてブラックマトリックスを形
成後、実施例９と同様に画素、透明保護膜を形成後、透
明電極を形成した。実施例９と同様にブラックマトリッ
クス上に実施例１と同様の材料を用いて基板間隔支持部
材を形成した。基板間隔支持部材の膜厚は２．１μｍと
した。実施例９と同様に液晶パネル体を作製したとこ
ろ、液晶パネル体の基板間隔は４．６μｍであった。良
好な表示品位が得られた。

【０１３３】実施例１１第４の態様での液晶パネル体の例を次のように作製し
た。クロム系金属を用いてブラックマトリックスを形成
後、実施例９と同様に画素、透明電極を形成した。透明
保護膜の形成は行わなかった。実施例５と同様にブラッ
クマトリックス上に実施例１と同様な材料を用いて基板
間隔支持部材を形成した。実施例１と同様に液晶パネル
体を作製したところ基板間隔支持部材の膜厚は２．１μ
ｍ、液晶パネル体の基板間隔は５．４μｍであった。良
好な表示品位が得られた。

【０１３４】実施例１２第（５）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜補助容量上への基板間隔支持部材の形成＞薄膜トラン
ジスタを備えた基板上の補助容量の位置に、実施例１と
同様な材料を用いてを用いて基板間隔支持部材を形成し
た。材料の塗布、乾燥、現像については、実施例１と同
様に行った。＜カラーフィルタ基板の作製＞実施例１と同様に、樹脂
ブラックマトリックスを形成した後、緑色、青色、赤色
画素を形成した。透明保護膜を塗布後、ＩＴＯ膜を成膜
した。＜液晶パネル体の作製＞カラーフィルター上、薄膜トラ
ンジスタ素子を備えた基板上に配向膜を形成し、ラビン
グ処理をした。配向膜を設けたカラーフィルタと薄膜ト
ランジスタ素子を備えた透明電極基板とをシール剤を用
いて貼り合わせた。基板間隔支持部材の突き当て箇所
は、カラーフィルター上のブラックマトリックスの箇所
にした。実施例１と同様に、液晶の注入等を行い、第
（５）の態様の液晶パネル体を作製した。得られた液晶
パネル体の断面図を図１３に示す。得られた液晶表示装
置は、カラーフィルター基板と対向基板との短絡がな
く、また十分なセルギャップが確保でき、良好な表示品
位のものであった。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電
子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３００
０）を測定したところ４．６μｍであった。

【０１３５】実施例１３第（５）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。

【０１３６】クロム系金属を用いてブラックマトリック
スを形成後、実施例１と同様に画素、透明保護膜を形成
後、透明電極を形成した。実施例１２の薄膜トランジス
タを備えた基板上の補助容量の位置に、実施例１と同様
の材料を用いて基板間隔支持部材を形成した基板を用
い、液晶パネル体を作製した。良好な表示品位が得られ
た。

【０１３７】実施例１４第（５）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。

【０１３８】クロム系金属を用いてブラックマトリック
スを形成後、実施例１と同様に画素を形成後、透明電極
を形成した。透明保護膜の形成は行わなかった。実施例
１２の薄膜トランジスタを備えた基板上の補助容量の位
置に、実施例１と同様な材料を用いて基板間隔支持部材
を形成した基板を用い、液晶パネル体を作製した。良好
な表示品位が得られた。

【０１３９】実施例１５第（６）の態様での液晶パネル体の例を次のように作製
した。＜カラーフィルタ基板の作製＞まず透明基板上に、緑ペ
ースト（ポリイミド系非感光性材料）を基板上に塗布し
加熱を行いポジ型レジストを塗布した。続いて、露光、
現像、ポジ型フォトレジストの剥離を行い再度加熱し緑
色画素を形成した。

【０１４０】同様にして青色、赤色画素を形成した。画
素の膜厚は１．５μｍであった。このとき各色画素が互
いに青画素が重ならない箇所を設けた。さらに透明保護
膜を塗布し、次にスパッタリング法によりＩＴＯ膜を成
膜した。透明保護膜の膜厚は１μｍであった。次に、実
施例１で用いた基板間隔支持部材をスリットダイコータ
で塗布し真空乾燥し加熱をした。さらに、３００mｊ／
ｃｍ²でプロキシ露光し、現像等を行い再度加熱した。
このとき現像濃度を２．０５％とした。このパターンニ
ングにより基板間隔支持部材を画面内の青画素と赤画素
との間および画面外に形成した。このとき基板間隔支持
部材の膜厚は３．０μｍであり、面積は約１５０μｍ²
であった。パターン形成された基板間隔支持部材の短軸
の長さは１０μｍ、長軸の長さは１５μｍであった。＜液晶パネル体の作製＞カラーフィルタ基板上にポリイ
ミド系の配向膜を塗布加熱させた後、ラビング処理を施
した。薄膜トランジスタ素子を備えた基板にはブラック
マトリックスも設けてあるものを用いた。薄膜トランジ
スタ素子を備えた基板上の基板間隔支持部材の突き当て
部は、画素電極に比べて０．８μｍ高くなっている。こ
の基板上にも同様に配向膜を設け、ラビング処理をし
た。配向膜を設けたカラーフィルタと薄膜トランジスタ
素子を備えた透明電極基板とをシール剤を用いて貼り合
わせた。液晶の注入等を行い、第（６）の態様の液晶パ
ネル体を作製した。得られた液晶表示装置は、カラーフ
ィルター基板と対向基板との短絡がなく、また十分なセ
ルギャップが確保でき、良好な表示品位のものであっ
た。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電子（株）製セル
ギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３０００）を測定したと
ころ３．５μｍであった。

【０１４１】実施例１６第（３）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜カラーフィルタ基板の作製＞まず透明基板上に、青ペ
ースト（ポリイミド系非感光性材料）を基板上に塗布し
加熱を行い実施例１で使用した基板間隔支持部材を塗布
した。続いて、露光、現像、ポジ型フォトレジストの剥
離を行い再度加熱し青色画素を形成した。

【０１４２】同様にして緑色、赤色画素を形成した。画
素の膜厚は１．５μｍであった。このとき赤と青色画
素、赤と緑色画素、青と緑色画素が重なる箇所をブラッ
クマトリックス（画素間および額縁）に相当する部分に
設けた。額縁の部分には赤と青を重ねた。さらに、透明
保護膜を塗布した後、スパッタリング法によりＩＴＯ膜
を成膜した。透明保護膜の膜厚は１μｍであった。次
に、基板間隔支持部材用材料をスリットダイコータで塗
布し真空乾燥し加熱をした。さらに、プロキシ露光し、
現像を行い再度加熱した。このパターンニングにより基
板間隔支持部材を画面内の青画素と赤画素とを重ねた箇
所および画面外に形成した。このとき基板間隔支持部材
の膜厚は３．０μｍであり、面積は約１１０μｍ²であ
った。パターン形成された基板間隔支持部材の短軸の長
さは１０μｍ、長軸の長さは１１μｍであった。同様
にして基板間隔支持部材の短軸の長さ、長軸の長さを、
（短軸の長さ，長軸の長さ）＝（９．２，１２），
（８．５，１３），（７．９,１４）,（７．３,１５）,
（６．９,６）の水準を作製した。＜液晶パネル体の作製＞カラーフィルタ基板上にポリイ
ミド系の配向膜を塗布加熱させた後、ラビング処理を施
した。薄膜トランジスタ素子を備えた基板にはブラック
マトリックスも設けてあるものを用いた。薄膜トランジ
スタ素子を備えた基板上の基板間隔支持部材の突き当て
部は、画素電極に比べて０．８μｍ高くなっている。こ
の基板上にも同様に配向膜を設け、ラビング処理をし
た。配向膜を設けたカラーフィルタと薄膜トランジスタ
素子を備えた透明電極基板とをシール剤を用いて貼り合
わせた。実施例１と同様に、液晶の注入等を行い、第
（３）の態様の液晶パネル体を作製した。得られた液晶
パネル体の断面図を図１１に示す。得られた液晶表示装
置は、カラーフィルター基板と対向基板との短絡がな
く、また十分なセルギャップが確保でき、良好な表示品
位のものであった。液晶パネル体の基板間隔を、大塚電
子（株）製セルギャップ測定装置（ＲＥＴＳ−３００
０）を測定したところ４．５μｍであった。同様にして
作製した基板間隔支持部材の短軸の長さ、長軸の長さ
を、（短軸の長さ，長軸の長さ）＝（９．２，１２），
（８．５，１３），（７．９,１４）,（７．３,１５）,
（６．９,６）の水準の液晶表示装置の表示品位も良好
であった。

【０１４３】実施例１７実施例１〜１６と同様に、場合によりブラックマトリッ
クス、画素、場合により透明保護膜を形成後、基板間隔
支持部材を形成した。透明導電膜は形成しなかった。対
向基板には薄膜トランジスタを備えたインプレインスイ
ッチング方式用の基板を用いた。両基板をラビング処理
した後、はりあわせ、インプレインスイッチング用の液
晶の注入を行い、液晶パネル体を作製した。良好な表示
品位が得られた。

【０１４４】実施例１８実施例１〜１６と同様に、場合によりブラックマトリッ
クス、画素を形成した。次に実施例１で用いた基板間隔
支持部材用材料を用いて基板間隔支持部材を形成後、透
明保護膜を形成した。ただし透明導電膜は形成しなかっ
た。対向基板には薄膜トランジスタを備えたインプレイ
ンスイッチング方式用の基板を用いた。両基板上に配向
膜を塗布、ラビング処理後、張り合わせ、インプレイン
スイッチング用の液晶の注入を行い、液晶パネル体を作
製した。良好な表示品位が得られた。

【０１４５】実施例１９実施例１〜１６と同様に、場合によりブラックマトリッ
クス、画素、場合により透明保護膜を形成した。次に透
明導電膜を形成後、基板間隔支持部材を形成した。同時
に基板間隔支持部材の材料を用いて垂直配向用配向分割
用突起を形成した。対向基板には薄膜トランジスタを備
えた配向分割型の垂直配向用の基板を用いた。両基板上
に垂直配向膜を形成後、張り合わせ、垂直配向用の負の
誘電異方性をもつ液晶の注入を行い、液晶パネル体を作
製した。非常な良好な表示品位が得られた。

【０１４６】実施例２０実施例１〜１６と同様に、場合によりブラックマトリッ
クス、画素、場合により透明保護膜を形成した。ただし
画素は反射型液晶ディスプレイ用の着色剤を用いた。次
に透明導電膜を形成後、基板間隔支持部材を形成した。
対向基板には薄膜トランジスタを備えた反射型液晶ディ
スプレイ用の基板を用いた。両基板に配向膜を形成後ラ
ビング処理、張り合わせ、液晶注入を行い液晶パネル体
を作製した。非常な良好な表示品位が得られた。

【０１４７】実施例２１第（３）の態様での液晶パネル体の１例を次のように作
製した。＜カラーフィルタ基板の作製＞まず透明基板上に、青ペ
ースト（ポリイミド系非感光性材料）を基板上に塗布し
加熱を行い実施例１で使用した基板間隔支持部材を塗布
した。続いて、露光、現像、ポジ型フォトレジストの剥
離を行い再度加熱し青色画素を形成した。

【０１４８】同様にして緑色、赤色画素を形成した。画
素の膜厚は１．５μｍであった。このとき赤と青色画
素、赤と緑色画素、青と緑色画素が重なる箇所をブラッ
クマトリックス（画素間のみ）に相当する部分に設け
た。額縁の部分にはパターンを設けなかった。次に、基
板間隔支持部材用材料をスリットダイコータで塗布し真
空乾燥し加熱をした。さらに、プロキシ露光し、現像を
行い再度加熱した。基板間隔支持部材形成と同時に基板
間隔支持部材材料を用いてブラックマトリックス額縁部
を形成した。さらに、透明保護膜を塗布した。透明保護
膜の膜厚は１μｍこのとき基板間隔支持部材の膜厚は
１．５μｍであり、面積は約１１０μｍ²であった。パ
ターン形成された基板間隔支持部材の短軸の長さは１０
μｍ、長軸の長さは１１μｍであった。同様にして基
板間隔支持部材の短軸の長さ、長軸の長さを、（短軸の
長さ，長軸の長さ）＝（９．２，１２），（８．５，１
３），（７．９,１４）,（７．３,１５）,（６．９,
６）の水準を作製した。＜液晶パネル体の作製＞対向基板には薄膜トランジスタ
を備えたインプレインスイッチング方式用の基板を用い
た。両基板上に配向膜を塗布、ラビング処理後、張り合
わせ、インプレインスイッチング用の液晶の注入を行
い、液晶パネル体を作製した。どの水準も良好な表示品
位が得られた。

【０１４９】比較例１実施例１と同様にして、ブラックマトリックス、額縁、
赤、青、緑色画素の形成を行い、透明保護膜、ＩＴＯ成
膜を行った。しかし基板間隔支持部材の形成は行わなか
った。上記カラーフィルタを用いてプラスチックビーズ
をセルギャップ制御材料に使用し液晶表示装置を作製し
た。得られた液晶表示装置は明暗のムラが見え表示品位
の低下が視認された。

【０１５０】比較例２実施例１と同様にして、ブラックマトリクス、額縁、
赤、青、緑色画素の形成を行い透明保護膜、ＩＴＯ成膜
を行った。さらにプロキシ露光（基板とフォトマスクと
の間隔を８０μｍとした）を用いて遮光剤を含まないネ
ガ型アクリル樹脂で基板間隔支持部材の形成を行った。
このカラーフィルタは基板間隔支持部材のパターンニン
グがうまくいかずサイズバラツキの大きい柱状体が形成
され使用に耐えるものではなかった。

【０１５１】比較例３比較例２と同様にして、ブラックマトリクス、額縁、
赤、青、緑色画素の形成を行い透明保護膜、ＩＴＯ成膜
を行った。さらに遮光剤を含まない非感光のポジイミド
樹脂で基板間隔支持部材の形成を行った。このカラーフ
ィルタは基板間隔支持部材のパターンニングはうまくい
ったが、液晶パネル体を正面から見た表示コントラスト
と斜めから見た表示コントラストの差が著しく差があっ
た。液晶パネル体を顕微鏡観察したところ、開口部に基
板間隔支持材が現れ、光漏れが確認された。

【０１５２】

【発明の効果】以上に示したように、遮光剤を分散した
樹脂を用いた基板間隔支持部材により表示品位の良好な
液晶パネル体を作製できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】短軸長さｘと長軸長さｙを説明する基板間隔支
持部材の横断面の模式図である。

【図２】上面積と下面積を表す基板間隔支持部材の斜視
図である。

【図３】第（１）の態様の例を示す縦断面図である。

【図４】第（１）の態様の例を示す縦断面図である。

【図５】第（２）の態様の例を示す縦断面図である。

【図６】第（３）の態様の例を示す縦断面図である。

【図７】第（４）の態様の例を示す縦断面図である。

【図８】第（５）の態様の例を示す縦断面図である。

【図９】実施例１により得られる液晶パネル体の断面概
略図である。

【図１０】実施例５により得られる液晶パネル体の断面
概略図である。

【図１１】実施例８により得られる液晶パネル体の断面
概略図である。

【図１２】実施例９により得られる液晶パネル体の断面
概略図である。

【図１３】実施例１２により得られる液晶パネル体の断
面概略図である。

【図１４】第（６）の態様の例を示す縦断面図である。

【図１５】第（６）の態様の例を示す縦断面図である。

【図１６】第（３）の態様の例を示す縦断面図である。

【符号の説明】

１・・・基板間隔支持部材２・・・上面積３・・・下面積４・・・透明電極５・・・透明保護膜６・・・画素７・・・画素８・・・ブラックマトリックス９・・・ガラス基板１０・・・画素１１・・・補助容量１２・・・画素電極１３・・・配向膜１４・・・基板間隔１５・・・基板間隔支持部材材料を用いて作製したブラ
ックマトリックス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者幡野智彦滋賀県大津市園山１丁目１番１号東レ株式会社滋賀事業場内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板を基板間隔支持部材で介した液
晶パネル枠に、液晶を保持する液晶パネル体において、
該基板間隔支持部材が遮光剤を分散した樹脂からなるこ
とを特徴とする液晶パネル体。
【請求項２】基板間隔支持部材の遮光剤として黒色金属
酸化物を含有することを特徴とする請求項１記載の液晶
パネル体。
【請求項３】黒色金属酸化物がチタンブラック粉末およ
び／またはマンガン酸化物粉末であることを特徴とする
請求項２に記載の液晶パネル体。
【請求項４】前記チタンブラック粉末がＴｉＮｘＯｙ
（ただし、０≦ｘ＜１．５、０．１＜ｙ＜１．８）の組
成からなることを特徴とする請求項３記載の液晶パネル
体。
【請求項５】前記マンガン酸化物粉末がＭｎＯｘ（ただ
し、１＜ｘ≦２）の組成からなることを特徴とする請求
項３記載の液晶パネル体。
【請求項６】前記基板間隔支持部材が基板上にドット状
に配置されていることを特徴とする請求項１から５のい
ずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項７】前記基板間隔支持部材が、ブラックマトリ
クス層上および／またはカラーフィルタの着色層上に形
成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれ
かに記載の液晶パネル体。
【請求項８】前記基板間隔支持部材が、ブラックマトリ
クス層上にカラーフィルタの着色層を積層した上に形成
されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか
に記載の液晶パネル体。
【請求項９】前記基板間隔支持部材が、カラーフィルタ
の着色層を複数色重ねた上に形成されていることを特徴
とする請求項１から６のいずれかに記載の液晶パネル
体。
【請求項１０】前記基板間隔支持部材が、ブラックマト
リックス層上にカラーフィルタの着色層を複数色重ねた
上に形成されていることを特徴とする請求項１から６の
いずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１１】前記基板間隔支持部材が、カラーフィル
ター基板上の着色層およびブラックマトリックス層の設
けられていない箇所に形成されていることを特徴とする
請求項１から６のいずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１２】透明保護膜を基板上に設けた後に、基板
間隔支持部材を形成したことを特徴とする請求項１から
１１のいずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１３】基板間隔支持部材を形成した後に、透明
保護膜を基板上に設けたことを特徴とする請求項１から
１１のいずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１４】前記基板間隔支持部材が、液晶パネル駆
動用の補助容量上に形成されていることを特徴とする請
求項１から６のいずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１５】前記基板間隔支持部材の体積抵抗値が１
０⁷Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする請求項１から
１４のいずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１６】前記基板間隔支持部材を画面内および画
面外に有することを特徴とする請求項１から１５のいず
れかに記載の液晶パネル体。
【請求項１７】遮光剤を分散した樹脂を用いて形成した
ブラックマトリックス層を有することを特徴とする請求
項１から１６のいずれかに記載の液晶パネル体。
【請求項１８】ブラックマトリックス層が基板間隔支持
部材と同種の遮光剤成分を含有することを特徴とする請
求項１７記載の液晶パネル体。
【請求項１９】ブラックマトリックス層が基板間隔支持
部材と同時に形成されることを特徴とする請求項１８記
載の液晶パネル体。