JP2001233622A - Ｓｂ低含有ガラスの製造方法 - Google Patents
Ｓｂ低含有ガラスの製造方法Info
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- JP2001233622A JP2001233622A JP2000047773A JP2000047773A JP2001233622A JP 2001233622 A JP2001233622 A JP 2001233622A JP 2000047773 A JP2000047773 A JP 2000047773A JP 2000047773 A JP2000047773 A JP 2000047773A JP 2001233622 A JP2001233622 A JP 2001233622A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
- C03B5/2252—Refining under reduced pressure, e.g. with vacuum refiners
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】泡とアッシュ欠点とを同時に低減できるＳｂ低
含有ガラスの製造方法の提供。 【解決手段】Ｓｂ2Ｏ3：０．０３〜０．２５％のＳｂ低
含有ガラスを、原料溶解後、減圧脱泡槽１０内において
溶融ガラスＧが、粘度が１０００ポアズ以下、圧力が
（大気圧−０．５）気圧以下の状態にある時間が０．１
時間以上とする、Ｓｂ低含有ガラスの製造方法。
含有ガラスの製造方法の提供。 【解決手段】Ｓｂ2Ｏ3：０．０３〜０．２５％のＳｂ低
含有ガラスを、原料溶解後、減圧脱泡槽１０内において
溶融ガラスＧが、粘度が１０００ポアズ以下、圧力が
（大気圧−０．５）気圧以下の状態にある時間が０．１
時間以上とする、Ｓｂ低含有ガラスの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、テレビジョン受信
やコンピュータ端末ディスプレイ等に用いられる陰極線
管のパネル等に用いられるＳｂ低含有ガラスに関する。
やコンピュータ端末ディスプレイ等に用いられる陰極線
管のパネル等に用いられるＳｂ低含有ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】陰極線管は、画像を映し出すパネル、電
子銃を収納するネック、およびこれら両者を接続するフ
ァンネルにより構成されている。これら三つの部分はそ
れぞれ別の工程で所望の形状に作られた後、接合されて
一つの陰極線管に形成される。
子銃を収納するネック、およびこれら両者を接続するフ
ァンネルにより構成されている。これら三つの部分はそ
れぞれ別の工程で所望の形状に作られた後、接合されて
一つの陰極線管に形成される。
【０００３】陰極線管では、パネル内面に塗布された蛍
光体を発光させるために、陽極に高電圧を印加して電子
を放出し蛍光体に照射する。この際にＸ線が発生するた
め、陰極線管に用いられるガラスにはＸ線吸収機能が要
求される。しかし、これら三つの部分のガラスにはＸ線
吸収機能以外にそれぞれ異なった特性が要求されるた
め、それぞれ異なった組成のガラスで作られている。
光体を発光させるために、陽極に高電圧を印加して電子
を放出し蛍光体に照射する。この際にＸ線が発生するた
め、陰極線管に用いられるガラスにはＸ線吸収機能が要
求される。しかし、これら三つの部分のガラスにはＸ線
吸収機能以外にそれぞれ異なった特性が要求されるた
め、それぞれ異なった組成のガラスで作られている。
【０００４】前記三つの部分のうち、パネルは画像を映
し出す部分であり、このパネルに泡が存在すると画質が
低下する。したがって、パネルガラスには泡が存在しな
いことが求められる。この問題を解決するために、従来
はパネルガラスにＳｂを含有させ、Ｓｂの清澄作用によ
ってパネルガラス中の泡の低減を図っていた。前記Ｓｂ
のＳｂ2Ｏ3換算含有量は質量百分率表示で０．３〜０．
６％である。
し出す部分であり、このパネルに泡が存在すると画質が
低下する。したがって、パネルガラスには泡が存在しな
いことが求められる。この問題を解決するために、従来
はパネルガラスにＳｂを含有させ、Ｓｂの清澄作用によ
ってパネルガラス中の泡の低減を図っていた。前記Ｓｂ
のＳｂ2Ｏ3換算含有量は質量百分率表示で０．３〜０．
６％である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、パネルガラスの
大型化および高品質化に伴って、泡以外にも画質を低下
させる画像欠点の問題が顕在化してきた。そのような画
像欠点の一つに、アッシュ欠点がある。ここでいうアッ
シュ欠点とは、画質を低下させる白濁状の不透明物また
は白濁状の半透明物であり、その大きさは典型的には
０．１〜１ｍｍ程度である。本発明は、上記課題を解決
し、泡とアッシュ欠点とを同時に低減できるＳｂ低含有
ガラスの製造方法の提供を目的とする。
大型化および高品質化に伴って、泡以外にも画質を低下
させる画像欠点の問題が顕在化してきた。そのような画
像欠点の一つに、アッシュ欠点がある。ここでいうアッ
シュ欠点とは、画質を低下させる白濁状の不透明物また
は白濁状の半透明物であり、その大きさは典型的には
０．１〜１ｍｍ程度である。本発明は、上記課題を解決
し、泡とアッシュ欠点とを同時に低減できるＳｂ低含有
ガラスの製造方法の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｓｂを含有
し、そのＳｂ2Ｏ3換算含有量が質量百分率表示で０．０
３〜０．２５％であるＳｂ低含有ガラスを、圧力がＰ気
圧である大気環境下で製造する方法であって、原料を溶
解して溶融ガラスとする工程と、圧力がＰ気圧未満であ
る減圧脱泡槽内で該溶融ガラスを減圧脱泡する工程とを
有し、該減圧脱泡槽内における溶融ガラスが、粘度が５
０〜１０００ポアズ、かつ圧力が（Ｐ−０．５）気圧以
下の状態にある時間が０．１時間以上であるＳｂ低含有
ガラスの製造方法を提供する。
し、そのＳｂ2Ｏ3換算含有量が質量百分率表示で０．０
３〜０．２５％であるＳｂ低含有ガラスを、圧力がＰ気
圧である大気環境下で製造する方法であって、原料を溶
解して溶融ガラスとする工程と、圧力がＰ気圧未満であ
る減圧脱泡槽内で該溶融ガラスを減圧脱泡する工程とを
有し、該減圧脱泡槽内における溶融ガラスが、粘度が５
０〜１０００ポアズ、かつ圧力が（Ｐ−０．５）気圧以
下の状態にある時間が０．１時間以上であるＳｂ低含有
ガラスの製造方法を提供する。
【０００７】本発明者は、前記アッシュ欠点が次のよう
にして発生することを見出し、本発明に至った。すなわ
ち、Ｓｂを含有する溶融ガラスの表面から揮散したＳｂ
は、溶融ガラス上方に位置する構造物の低温部に凝縮
し、その凝縮物が溶融ガラス中に落下しアッシュ欠点と
なる。
にして発生することを見出し、本発明に至った。すなわ
ち、Ｓｂを含有する溶融ガラスの表面から揮散したＳｂ
は、溶融ガラス上方に位置する構造物の低温部に凝縮
し、その凝縮物が溶融ガラス中に落下しアッシュ欠点と
なる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明におけるＳｂ低含有ガラス
はＳｂを必須成分として含有する。ＳｂのＳｂ2Ｏ3換算
含有量が質量百分率表示で０．０３％未満では、泡が多
くなりすぎる。好ましくは０．０４％以上、より好まし
くは０．０６％以上、特に好ましくは０．０８％以上で
ある。０．２５％超ではアッシュ欠点が多くなりすぎ
る。好ましくは０．２０％以下、より好ましくは０．１
５％以下である。
はＳｂを必須成分として含有する。ＳｂのＳｂ2Ｏ3換算
含有量が質量百分率表示で０．０３％未満では、泡が多
くなりすぎる。好ましくは０．０４％以上、より好まし
くは０．０６％以上、特に好ましくは０．０８％以上で
ある。０．２５％超ではアッシュ欠点が多くなりすぎ
る。好ましくは０．２０％以下、より好ましくは０．１
５％以下である。
【０００９】以下では、前記Ｓｂ低含有ガラスが陰極線
管のパネルに用いられる場合、すなわち前記Ｓｂ低含有
ガラスが陰極線管パネルガラスである場合について説明
する。なお、本発明は陰極線管パネルガラスに限定され
ず、たとえば液晶ディスプレイ基板に用いられるＳｂ低
含有ガラスにも適用できる。
管のパネルに用いられる場合、すなわち前記Ｓｂ低含有
ガラスが陰極線管パネルガラスである場合について説明
する。なお、本発明は陰極線管パネルガラスに限定され
ず、たとえば液晶ディスプレイ基板に用いられるＳｂ低
含有ガラスにも適用できる。
【００１０】本発明の陰極線管パネルガラス（以下本発
明のパネルガラスという。）は大気環境下で製造され
る。該大気環境の圧力（Ｐ気圧）は標高その他によって
変化するが、典型的には１気圧である。
明のパネルガラスという。）は大気環境下で製造され
る。該大気環境の圧力（Ｐ気圧）は標高その他によって
変化するが、典型的には１気圧である。
【００１１】本発明における溶解工程、すなわち原料を
溶解して溶融ガラスとする工程は特に限定されない。た
とえば通常のタンク窯に原料を投入し、重油、都市ガ
ス、電気等を用いてこの原料を加熱・溶解して溶融ガラ
スとする。ここでいう原料は屑ガラス（ガラスカレッ
ト）も含む。また、ここでいう溶融ガラスとは未溶解原
料のない溶融状態のガラスである。
溶解して溶融ガラスとする工程は特に限定されない。た
とえば通常のタンク窯に原料を投入し、重油、都市ガ
ス、電気等を用いてこの原料を加熱・溶解して溶融ガラ
スとする。ここでいう原料は屑ガラス（ガラスカレッ
ト）も含む。また、ここでいう溶融ガラスとは未溶解原
料のない溶融状態のガラスである。
【００１２】本発明における減圧脱泡工程、すなわち前
記溶融ガラスを減圧脱泡槽内で減圧脱泡する工程におい
ては、該溶融ガラス中に存在する泡を低減する。ここで
いう減圧脱泡槽は溶融ガラスの圧力をＰ気圧未満とする
溶融ガラス槽であって、溶融ガラスを導入する導入口お
よび溶融ガラスを排出する排出口を有する。なお、前記
圧力がＰ気圧では、前記泡を低減する効果が現れない。
記溶融ガラスを減圧脱泡槽内で減圧脱泡する工程におい
ては、該溶融ガラス中に存在する泡を低減する。ここで
いう減圧脱泡槽は溶融ガラスの圧力をＰ気圧未満とする
溶融ガラス槽であって、溶融ガラスを導入する導入口お
よび溶融ガラスを排出する排出口を有する。なお、前記
圧力がＰ気圧では、前記泡を低減する効果が現れない。
【００１３】溶融ガラスは前記導入口から減圧脱泡槽内
に入り前記排出口から排出されるが、導入口は常に該溶
融ガラスによってシールされており、また排出口も常に
該溶融ガラスによってシールされている。これにより、
前記溶融ガラスの圧力をＰ気圧未満に維持できる。減圧
脱泡槽の形状は限定されないが、いわゆる門型形状が好
ましい。
に入り前記排出口から排出されるが、導入口は常に該溶
融ガラスによってシールされており、また排出口も常に
該溶融ガラスによってシールされている。これにより、
前記溶融ガラスの圧力をＰ気圧未満に維持できる。減圧
脱泡槽の形状は限定されないが、いわゆる門型形状が好
ましい。
【００１４】図１は本発明の実施に好適な陰極線管パネ
ルガラスの製造装置の概略図であり、これを用いて本発
明を説明する。なお、図１における減圧脱泡槽は門型形
状である。タンク窯２０（上部構造物等詳細は図示せ
ず）において原料（図示せず）が溶解され、溶融ガラス
Ｇとされる。溶融ガラスＧは、矢印で示されるように、
上流側ピット２２に導かれ、導入口１１から減圧脱泡槽
１０に入る。導入口１１における溶融ガラスの圧力はＰ
気圧である。減圧脱泡槽１０は、上昇管１６、水平槽１
４および下降管１８からなる。上昇管１６の一部、下降
管１８の一部および水平槽１４は減圧容器１２に収容さ
れる。
ルガラスの製造装置の概略図であり、これを用いて本発
明を説明する。なお、図１における減圧脱泡槽は門型形
状である。タンク窯２０（上部構造物等詳細は図示せ
ず）において原料（図示せず）が溶解され、溶融ガラス
Ｇとされる。溶融ガラスＧは、矢印で示されるように、
上流側ピット２２に導かれ、導入口１１から減圧脱泡槽
１０に入る。導入口１１における溶融ガラスの圧力はＰ
気圧である。減圧脱泡槽１０は、上昇管１６、水平槽１
４および下降管１８からなる。上昇管１６の一部、下降
管１８の一部および水平槽１４は減圧容器１２に収容さ
れる。
【００１５】減圧容器１２は、たとえば耐熱鋼製のケー
シングであり、その内部は真空ポンプ（図示せず）によ
り孔４１から排気され、減圧容器１２内部の圧力は（Ｐ
−０．５）気圧以下とされる。（Ｐ−０．５）気圧超で
は泡を低減する効果が小さくなりすぎる。該圧力は、好
ましくは（Ｐ−０．６）気圧以下、より好ましくは（Ｐ
−０．７）気圧以下、特に好ましくは（Ｐ−０．８５）
気圧以下である。また、該圧力は０．０１気圧以上であ
ることが好ましい。０．０１気圧未満にしても前記泡低
減効果が飽和する可能性があるからである。より好まし
くは０．０３気圧以上、特に好ましくは０．０５気圧以
上である。
シングであり、その内部は真空ポンプ（図示せず）によ
り孔４１から排気され、減圧容器１２内部の圧力は（Ｐ
−０．５）気圧以下とされる。（Ｐ−０．５）気圧超で
は泡を低減する効果が小さくなりすぎる。該圧力は、好
ましくは（Ｐ−０．６）気圧以下、より好ましくは（Ｐ
−０．７）気圧以下、特に好ましくは（Ｐ−０．８５）
気圧以下である。また、該圧力は０．０１気圧以上であ
ることが好ましい。０．０１気圧未満にしても前記泡低
減効果が飽和する可能性があるからである。より好まし
くは０．０３気圧以上、特に好ましくは０．０５気圧以
上である。
【００１６】減圧脱泡槽１０内部をＰ気圧未満とするた
めに、水平槽１４の上部には孔４２が設けられている。
減圧容器１２内における減圧脱泡槽１０の周囲の空間は
通常、断熱煉瓦３０によって充填される。
めに、水平槽１４の上部には孔４２が設けられている。
減圧容器１２内における減圧脱泡槽１０の周囲の空間は
通常、断熱煉瓦３０によって充填される。
【００１７】溶融ガラスＧは減圧脱泡槽１０内におい
て、矢印で示されるように、上昇管１６、水平槽１４、
下降管１８の順に流れる。上昇管１６、水平槽１４およ
び下降管１８は、耐熱性、溶融ガラスに対する耐蝕性、
等が優れた材料によって構成される。このような材料と
して、白金、白金合金、Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2系
電鋳煉瓦、ＺｒＯ2系電鋳煉瓦、等が例示される。な
お、減圧脱泡槽１０内の溶融ガラスＧの温度を上昇させ
るためにヒータを設けてもよい。たとえば、減圧脱泡槽
１０の溶融ガラスＧと接触する部分に白金または白金合
金を用い、この白金または白金合金に電流を流してこれ
をヒータとしてもよい。
て、矢印で示されるように、上昇管１６、水平槽１４、
下降管１８の順に流れる。上昇管１６、水平槽１４およ
び下降管１８は、耐熱性、溶融ガラスに対する耐蝕性、
等が優れた材料によって構成される。このような材料と
して、白金、白金合金、Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2系
電鋳煉瓦、ＺｒＯ2系電鋳煉瓦、等が例示される。な
お、減圧脱泡槽１０内の溶融ガラスＧの温度を上昇させ
るためにヒータを設けてもよい。たとえば、減圧脱泡槽
１０の溶融ガラスＧと接触する部分に白金または白金合
金を用い、この白金または白金合金に電流を流してこれ
をヒータとしてもよい。
【００１８】溶融ガラスＧは排出口１９から下流側ピッ
ト２４に排出され、パネルガラスのプレス装置（図示せ
ず）に送られる。排出口１９における溶融ガラスの圧力
はＰ気圧である。溶融ガラスＧが減圧脱泡槽１０内を流
れることによって発生する圧損に対応して、上流側ピッ
ト２２における溶融ガラスＧの表面と下流側ピット２４
における溶融ガラスＧの表面との間にはΔＨのレベル差
が生じる。導入口１１における溶融ガラスＧの粘度は５
０〜１０００ポアズであることが好ましい。より好まし
くは１００〜２００ポアズである。
ト２４に排出され、パネルガラスのプレス装置（図示せ
ず）に送られる。排出口１９における溶融ガラスの圧力
はＰ気圧である。溶融ガラスＧが減圧脱泡槽１０内を流
れることによって発生する圧損に対応して、上流側ピッ
ト２２における溶融ガラスＧの表面と下流側ピット２４
における溶融ガラスＧの表面との間にはΔＨのレベル差
が生じる。導入口１１における溶融ガラスＧの粘度は５
０〜１０００ポアズであることが好ましい。より好まし
くは１００〜２００ポアズである。
【００１９】導入口１１における溶融ガラスＧの温度
は、後記表１に示されているようなＳｒＯ−ＢａＯ−Ｎ
ａ2Ｏ−Ｋ2Ｏ−ＳｉＯ2系陰極線パネルガラスの場合、
１３５０〜１４５０℃であることが好ましい。以下、
「後記表１に示されているようなＳｒＯ−ＢａＯ−Ｎａ
2Ｏ−Ｋ2Ｏ−ＳｉＯ2系陰極線パネルガラス」を代表的
ガラスという。
は、後記表１に示されているようなＳｒＯ−ＢａＯ−Ｎ
ａ2Ｏ−Ｋ2Ｏ−ＳｉＯ2系陰極線パネルガラスの場合、
１３５０〜１４５０℃であることが好ましい。以下、
「後記表１に示されているようなＳｒＯ−ＢａＯ−Ｎａ
2Ｏ−Ｋ2Ｏ−ＳｉＯ2系陰極線パネルガラス」を代表的
ガラスという。
【００２０】排出口１９における溶融ガラスＧの粘度は
３００〜１０００ポアズであることが好ましい。より好
ましくは４００〜６００ポアズである。排出口１９にお
ける溶融ガラスＧの温度は、代表的ガラスの場合、１２
００〜１３００℃であることが好ましい。
３００〜１０００ポアズであることが好ましい。より好
ましくは４００〜６００ポアズである。排出口１９にお
ける溶融ガラスＧの温度は、代表的ガラスの場合、１２
００〜１３００℃であることが好ましい。
【００２１】減圧脱泡槽１０内における溶融ガラスＧの
粘度は５０ポアズ以上であることが好ましい。より好ま
しくは１００ポアズ以上、特に好ましくは１７５ポアズ
以上である。また、前記粘度は１０００ポアズ以下であ
ることが好ましい。より好ましくは６００ポアズ以下、
特に好ましくは５００ポアズ以下である。
粘度は５０ポアズ以上であることが好ましい。より好ま
しくは１００ポアズ以上、特に好ましくは１７５ポアズ
以上である。また、前記粘度は１０００ポアズ以下であ
ることが好ましい。より好ましくは６００ポアズ以下、
特に好ましくは５００ポアズ以下である。
【００２２】減圧脱泡槽１０内における溶融ガラスＧの
自由表面の圧力、すなわち水平槽１４における溶融ガラ
スＧの自由表面の圧力は、実質的に減圧容器１２内部の
圧力に等しい。
自由表面の圧力、すなわち水平槽１４における溶融ガラ
スＧの自由表面の圧力は、実質的に減圧容器１２内部の
圧力に等しい。
【００２３】減圧脱泡槽１０内のいずれかの部分におい
て、溶融ガラスＧは、粘度および圧力がそれぞれ５０〜
１０００ポアズおよび（Ｐ−０．５）気圧以下である状
態（以下この状態を状態Ａという。）になければならな
い。この条件が満たされないと泡低減効果が小さくなり
すぎる。前記粘度は、好ましくは１００〜５００ポアズ
である。また、前記圧力は好ましくは（Ｐ−０．８５）
気圧以下であり、また０．０１気圧以上であることが好
ましい。より好ましくは０．０３気圧以上、特に好まし
くは０．０５気圧以上である。
て、溶融ガラスＧは、粘度および圧力がそれぞれ５０〜
１０００ポアズおよび（Ｐ−０．５）気圧以下である状
態（以下この状態を状態Ａという。）になければならな
い。この条件が満たされないと泡低減効果が小さくなり
すぎる。前記粘度は、好ましくは１００〜５００ポアズ
である。また、前記圧力は好ましくは（Ｐ−０．８５）
気圧以下であり、また０．０１気圧以上であることが好
ましい。より好ましくは０．０３気圧以上、特に好まし
くは０．０５気圧以上である。
【００２４】溶融ガラスＧが状態Ａにある時間は、０．
１時間以上でなければならない。０．１時間未満では泡
低減効果が小さくなりすぎる。好ましくは０．２時間以
上、より好ましくは０．３時間以上である。また前記時
間は２時間以下であることが好ましい。２時間超では溶
融ガラスＧの流量を小さくしなければならなくなるおそ
れがある、すなわちパネルガラスの生産量が低下するお
それがある。より好ましくは１時間以下、特に好ましく
は０．８時間以下である。
１時間以上でなければならない。０．１時間未満では泡
低減効果が小さくなりすぎる。好ましくは０．２時間以
上、より好ましくは０．３時間以上である。また前記時
間は２時間以下であることが好ましい。２時間超では溶
融ガラスＧの流量を小さくしなければならなくなるおそ
れがある、すなわちパネルガラスの生産量が低下するお
それがある。より好ましくは１時間以下、特に好ましく
は０．８時間以下である。
【００２５】状態Ａにある前記溶融ガラスＧの温度は１
４５０℃以下であることが好ましい。１４５０℃超で
は、減圧脱泡槽１０の耐久性が低下するおそれがある。
より好ましくは１４００℃以下、特に好ましくは１３７
５℃以下である。
４５０℃以下であることが好ましい。１４５０℃超で
は、減圧脱泡槽１０の耐久性が低下するおそれがある。
より好ましくは１４００℃以下、特に好ましくは１３７
５℃以下である。
【００２６】前記溶融ガラスＧが、状態Ａにあり、かつ
温度が１４５０℃以下の状態（以下この状態を状態Ｂと
いう。）にある時間は０．１時間以上であることが好ま
しい。０．１時間未満では泡低減効果が小さくなりすぎ
るおそれがある。より好ましくは０．２時間以上、特に
好ましくは０．３時間以上である。また前記時間は２時
間以下であることが好ましい。２時間超では溶融ガラス
Ｇの流量を小さくしなければならなくなるおそれがあ
る、すなわちパネルガラスの生産量が低下するおそれが
ある。より好ましくは１時間以下、特に好ましくは０．
８時間以下である。
温度が１４５０℃以下の状態（以下この状態を状態Ｂと
いう。）にある時間は０．１時間以上であることが好ま
しい。０．１時間未満では泡低減効果が小さくなりすぎ
るおそれがある。より好ましくは０．２時間以上、特に
好ましくは０．３時間以上である。また前記時間は２時
間以下であることが好ましい。２時間超では溶融ガラス
Ｇの流量を小さくしなければならなくなるおそれがあ
る、すなわちパネルガラスの生産量が低下するおそれが
ある。より好ましくは１時間以下、特に好ましくは０．
８時間以下である。
【００２７】状態Ａにある前記溶融ガラスＧの温度は１
２５０℃以上であることが好ましい。１２５０℃未満で
は泡低減効果が小さくなりすぎるおそれがある。これ
は、ガラスの粘度が大きくなりすぎ泡の浮上または破泡
が困難になる、Ｓｂの清澄作用が低下する、または該清
澄作用に伴なう酸素のガス拡散が減少するためではない
かと考えられる。より好ましくは１３００℃以上であ
る。
２５０℃以上であることが好ましい。１２５０℃未満で
は泡低減効果が小さくなりすぎるおそれがある。これ
は、ガラスの粘度が大きくなりすぎ泡の浮上または破泡
が困難になる、Ｓｂの清澄作用が低下する、または該清
澄作用に伴なう酸素のガス拡散が減少するためではない
かと考えられる。より好ましくは１３００℃以上であ
る。
【００２８】前記溶融ガラスＧが、状態Ａにあり、かつ
温度が１２５０℃以上の状態（以下この状態を状態Ｃと
いう。）にある時間は０．１時間以上であることが好ま
しい。０．１時間未満では泡低減効果が小さくなりすぎ
るおそれがある。より好ましくは０．２時間以上、特に
好ましくは０．３時間以上である。また前記時間は２時
間以下であることが好ましい。２時間超では溶融ガラス
Ｇの流量を小さくしなければならなくなるおそれがあ
る、すなわちパネルガラスの生産量が低下するおそれが
ある。より好ましくは１時間以下、特に好ましくは０．
８時間以下である。
温度が１２５０℃以上の状態（以下この状態を状態Ｃと
いう。）にある時間は０．１時間以上であることが好ま
しい。０．１時間未満では泡低減効果が小さくなりすぎ
るおそれがある。より好ましくは０．２時間以上、特に
好ましくは０．３時間以上である。また前記時間は２時
間以下であることが好ましい。２時間超では溶融ガラス
Ｇの流量を小さくしなければならなくなるおそれがあ
る、すなわちパネルガラスの生産量が低下するおそれが
ある。より好ましくは１時間以下、特に好ましくは０．
８時間以下である。
【００２９】水平槽１４内の溶融ガラスＧの深さは４０
０ｍｍ以下であることが好ましい。４００ｍｍ超では、
溶融ガラスＧから水平槽１４への放熱量が多くなりす
ぎ、その結果、粘度が大きくなりすぎるおそれがある、
または温度が下がりすぎるおそれがある。すなわち、溶
融ガラスＧを状態Ａ、状態Ｂまたは状態Ｃに保持するこ
とが困難になるおそれがある。より好ましくは３００ｍ
ｍ以下である。また、前記深さは１００ｍｍ以上である
ことが好ましい。１００ｍｍ未満では、所望の溶融ガラ
スＧの流量を得るためには水平槽１４の幅が広くなりす
ぎ、水平槽１４が大きくなりすぎるおそれがある。
０ｍｍ以下であることが好ましい。４００ｍｍ超では、
溶融ガラスＧから水平槽１４への放熱量が多くなりす
ぎ、その結果、粘度が大きくなりすぎるおそれがある、
または温度が下がりすぎるおそれがある。すなわち、溶
融ガラスＧを状態Ａ、状態Ｂまたは状態Ｃに保持するこ
とが困難になるおそれがある。より好ましくは３００ｍ
ｍ以下である。また、前記深さは１００ｍｍ以上である
ことが好ましい。１００ｍｍ未満では、所望の溶融ガラ
スＧの流量を得るためには水平槽１４の幅が広くなりす
ぎ、水平槽１４が大きくなりすぎるおそれがある。
【００３０】本発明のパネルガラスは下記酸化物基準の
質量百分率表示で、 ＳｉＯ2 ４５〜７０％、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜１０％、 Ｎａ2Ｏ １〜１５％、 Ｋ2Ｏ ３〜１５％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１０％、 ＳｒＯ ０〜１３％、 ＢａＯ ０〜１６％、 ＺｎＯ ０〜５％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 ＴｉＯ2 ０〜２％、 ＣｅＯ2 ０〜５％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜５％、 Ｓｂ2Ｏ3 ０．０３〜０．２５％、 から実質的になることが好ましい。Ｓｂ2Ｏ3については
すでに説明したので、それ以外の成分について以下に説
明する。
質量百分率表示で、 ＳｉＯ2 ４５〜７０％、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜１０％、 Ｎａ2Ｏ １〜１５％、 Ｋ2Ｏ ３〜１５％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１０％、 ＳｒＯ ０〜１３％、 ＢａＯ ０〜１６％、 ＺｎＯ ０〜５％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 ＴｉＯ2 ０〜２％、 ＣｅＯ2 ０〜５％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜５％、 Ｓｂ2Ｏ3 ０．０３〜０．２５％、 から実質的になることが好ましい。Ｓｂ2Ｏ3については
すでに説明したので、それ以外の成分について以下に説
明する。
【００３１】ＳｉＯ2はネットワークフォーマであり、
必須である。４５％未満では化学耐久性が悪くなる。好
ましくは５５％以上である。また、７０％超では軟化点
が高くなりすぎる。好ましくは６７％以下である。
必須である。４５％未満では化学耐久性が悪くなる。好
ましくは５５％以上である。また、７０％超では軟化点
が高くなりすぎる。好ましくは６７％以下である。
【００３２】Ａｌ2Ｏ3は必須成分ではないが、耐アルカ
リ性を向上させるために１０％まで含有してもよい。１
０％超では軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは４％以下である。Ａｌ2Ｏ3を含有する場合、その
含有量は０．５％以上であることが好ましい。
リ性を向上させるために１０％まで含有してもよい。１
０％超では軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは４％以下である。Ａｌ2Ｏ3を含有する場合、その
含有量は０．５％以上であることが好ましい。
【００３３】Ｎａ2Ｏは軟化点を低下させる成分であ
り、必須である。１％未満では軟化点が高くなりすぎ
る。好ましくは５％以上である。１５％超では電気絶縁
性が低下する。好ましくは１０％以下である。
り、必須である。１％未満では軟化点が高くなりすぎ
る。好ましくは５％以上である。１５％超では電気絶縁
性が低下する。好ましくは１０％以下である。
【００３４】Ｋ2Ｏは軟化点を低下させ、またＮａ2Ｏと
の混合アルカリ効果により電気絶縁性を向上させる成分
であり、必須である。３％未満では、軟化点が高くなり
すぎる、または電気絶縁性が低下する。好ましくは５％
以上である。１５％超では熱膨張係数が高くなりすぎ
る。好ましくは１０％以下である。
の混合アルカリ効果により電気絶縁性を向上させる成分
であり、必須である。３％未満では、軟化点が高くなり
すぎる、または電気絶縁性が低下する。好ましくは５％
以上である。１５％超では熱膨張係数が高くなりすぎ
る。好ましくは１０％以下である。
【００３５】ＭｇＯおよびＣａＯはいずれも必須成分で
はないが、軟化点を調整するためにそれぞれ１０％まで
含有してもよい。それぞれ１０％超では軟化点が高くな
りすぎるおそれがある。より好ましくはそれぞれ１％以
下である。ＭｇＯおよび／またはＣａＯは実質的に含有
しない、すなわち含有量が不純物レベル以下であること
が特に好ましい。
はないが、軟化点を調整するためにそれぞれ１０％まで
含有してもよい。それぞれ１０％超では軟化点が高くな
りすぎるおそれがある。より好ましくはそれぞれ１％以
下である。ＭｇＯおよび／またはＣａＯは実質的に含有
しない、すなわち含有量が不純物レベル以下であること
が特に好ましい。
【００３６】ＳｒＯは必須成分ではないが、Ｘ線吸収機
能を増大させるために１３％まで含有してもよい。１３
％超では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは１０％以下である。ＳｒＯを含有する場合、その
含有量は５％以上であることが好ましい。
能を増大させるために１３％まで含有してもよい。１３
％超では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは１０％以下である。ＳｒＯを含有する場合、その
含有量は５％以上であることが好ましい。
【００３７】ＢａＯは必須成分ではないが、Ｘ線吸収機
能を増大させるために１６％まで含有してもよい。１６
％超では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは１３％以下である。ＢａＯを含有する場合、その
含有量は５％以上であることが好ましい。
能を増大させるために１６％まで含有してもよい。１６
％超では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好ま
しくは１３％以下である。ＢａＯを含有する場合、その
含有量は５％以上であることが好ましい。
【００３８】ＳｒＯおよびＢａＯの含有量の合計は１０
〜２５％であることが好ましい。１０％未満ではＸ線吸
収機能が低下するおそれがある。２５％超では失透温度
が高くなりすぎるおそれがある。
〜２５％であることが好ましい。１０％未満ではＸ線吸
収機能が低下するおそれがある。２５％超では失透温度
が高くなりすぎるおそれがある。
【００３９】ＺｎＯは必須成分ではないが、Ｘ線吸収機
能を増大させるために５％まで含有してもよい。５％超
では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましく
は２％以下である。
能を増大させるために５％まで含有してもよい。５％超
では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましく
は２％以下である。
【００４０】ＺｒＯ2は必須成分ではないが、Ｘ線吸収
機能を増大させるために５％まで含有してもよい。５％
超では軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ましく
は３％以下である。
機能を増大させるために５％まで含有してもよい。５％
超では軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ましく
は３％以下である。
【００４１】ＴｉＯ2は必須成分ではないが、１２００
℃以上でのガラスの粘度を調整するために２％まで含有
してもよい。２％超では失透温度が高くなりすぎるおそ
れがある。好ましくは１％以下である。
℃以上でのガラスの粘度を調整するために２％まで含有
してもよい。２％超では失透温度が高くなりすぎるおそ
れがある。好ましくは１％以下である。
【００４２】ＣｅＯ2は必須成分ではないが、電子線ブ
ラウニングを抑制するために５％まで含有してもよい。
５％超では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好
ましくは１％以下である。
ラウニングを抑制するために５％まで含有してもよい。
５％超では失透温度が高くなりすぎるおそれがある。好
ましくは１％以下である。
【００４３】Ｂ2Ｏ3は必須成分ではないが、溶解性向上
のために５％まで含有してもよい。５％超では軟化点が
低くなりすぎるおそれがある。好ましくは１％以下であ
る。実質的に含有しないことが好ましい場合がある。
のために５％まで含有してもよい。５％超では軟化点が
低くなりすぎるおそれがある。好ましくは１％以下であ
る。実質的に含有しないことが好ましい場合がある。
【００４４】好ましい態様の本発明のパネルガラスは実
質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない
範囲でその他の成分を含有してもよい。このような成分
として、たとえばＦｅ2Ｏ3等の着色成分が挙げられる。
前記その他の成分の含有量の合計は１０％以下であるこ
とが好ましい。より好ましくは５％以下である。なお、
ＰｂＯおよびＡｓ2Ｏ3は実質的に含有しないことが好ま
しい。
質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない
範囲でその他の成分を含有してもよい。このような成分
として、たとえばＦｅ2Ｏ3等の着色成分が挙げられる。
前記その他の成分の含有量の合計は１０％以下であるこ
とが好ましい。より好ましくは５％以下である。なお、
ＰｂＯおよびＡｓ2Ｏ3は実質的に含有しないことが好ま
しい。
【００４５】
【実施例】表のＳｉＯ2からＦｅ2Ｏ3までの欄に質量百
分率表示で示す組成となるように原料を調合し、得られ
た調合原料を白金ルツボに入れた。例１および例２は実
施例、例３および例４は比較例である。例１〜４は、Ｓ
ｂ2Ｏ3およびＳｉＯ2の含有量を除き組成は同じであ
る。
分率表示で示す組成となるように原料を調合し、得られ
た調合原料を白金ルツボに入れた。例１および例２は実
施例、例３および例４は比較例である。例１〜４は、Ｓ
ｂ2Ｏ3およびＳｉＯ2の含有量を除き組成は同じであ
る。
【００４６】一方、都市ガスを用いるガス炉をガラス溶
解用に、真空ポンプを用いて内部圧力を大気の圧力（Ｐ
気圧）よりも低くできる電気炉を減圧脱泡用に、それぞ
れ用意した。調合原料を入れた白金ルツボを前記ガス炉
に入れ、表に示す溶解温度（単位：℃）で２時間溶解
し、溶融ガラスとした。
解用に、真空ポンプを用いて内部圧力を大気の圧力（Ｐ
気圧）よりも低くできる電気炉を減圧脱泡用に、それぞ
れ用意した。調合原料を入れた白金ルツボを前記ガス炉
に入れ、表に示す溶解温度（単位：℃）で２時間溶解
し、溶融ガラスとした。
【００４７】例１〜３については、この溶融ガラスが入
った白金ルツボを前記電気炉に入れ、減圧脱泡処理を行
った。該処理条件は、温度：１３５０℃、電気炉内部圧
力：（Ｐ−０．８７）気圧、処理時間：０．５時間であ
る。
った白金ルツボを前記電気炉に入れ、減圧脱泡処理を行
った。該処理条件は、温度：１３５０℃、電気炉内部圧
力：（Ｐ−０．８７）気圧、処理時間：０．５時間であ
る。
【００４８】例１〜３のガラスの１３５０℃における粘
度は２１４ポアズであり、また、１３５０℃における密
度は２．６ｇ／ｃｍ3である。白金ルツボ内の溶融ガラ
スの深さは３０ｍｍであり、したがって溶融ガラスの圧
力は（Ｐ−０．８７）〜（Ｐ−０．８６２）気圧であ
る。例４のガラスについては前記減圧脱泡処理を行わな
かった。
度は２１４ポアズであり、また、１３５０℃における密
度は２．６ｇ／ｃｍ3である。白金ルツボ内の溶融ガラ
スの深さは３０ｍｍであり、したがって溶融ガラスの圧
力は（Ｐ−０．８７）〜（Ｐ−０．８６２）気圧であ
る。例４のガラスについては前記減圧脱泡処理を行わな
かった。
【００４９】このようにして得られたガラスの泡数をカ
ウントした。結果を表に示す（単位：個／ｇ）。泡数は
０．６個／ｇ以下であることが好ましい。例４は泡数は
少ないが、Ｓｂ2Ｏ3含有量が０．３５％と多く、アッシ
ュ欠点が発生するおそれがある。
ウントした。結果を表に示す（単位：個／ｇ）。泡数は
０．６個／ｇ以下であることが好ましい。例４は泡数は
少ないが、Ｓｂ2Ｏ3含有量が０．３５％と多く、アッシ
ュ欠点が発生するおそれがある。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】本発明によれば、前記アッシュ欠点を低
減するためにＳｂの含有量を従来より小さくしても泡は
増加せず、高品質の陰極線管パネルガラスを提供でき
る。また、Ｓｂの含有量が従来より小さいので、以下の
ような効果も期待される。 （１）Ｘ線によるパネルガラスの着色、いわゆるＸ線ブ
ラウニング現象が起りにくい。 （２）パネルガラスの製造に際して溶融ガラスと接触す
る部材に使用されるモリブデンの損傷を抑制できる。
減するためにＳｂの含有量を従来より小さくしても泡は
増加せず、高品質の陰極線管パネルガラスを提供でき
る。また、Ｓｂの含有量が従来より小さいので、以下の
ような効果も期待される。 （１）Ｘ線によるパネルガラスの着色、いわゆるＸ線ブ
ラウニング現象が起りにくい。 （２）パネルガラスの製造に際して溶融ガラスと接触す
る部材に使用されるモリブデンの損傷を抑制できる。
【図１】本発明の実施に好適な陰極線管パネルガラス
（Ｓｂ低含有ガラス）の製造装置の概略図。
（Ｓｂ低含有ガラス）の製造装置の概略図。
１０ 減圧脱泡槽 １１ 導入口 １２ 減圧容器 １４ 水平槽 １６ 上昇管 １８ 下降管 １９ 排出口 ２０ タンク窯 ２２ 上流側ピット ２４ 下流側ピット ３０ 断熱煉瓦 ４１、４２ 孔
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA03 BB01 CC04 DA05 DA06 DB01 DB02 DB03 DC01 DC02 DC03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA01 EB03 EB04 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 FL02 FL03 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM12 MM25 NN40 5C032 AA02 BB03
Claims (5)
- 【請求項１】Ｓｂを含有し、そのＳｂ2Ｏ3換算含有量が
質量百分率表示で０．０３〜０．２５％であるＳｂ低含
有ガラスを、圧力がＰ気圧である大気環境下で製造する
方法であって、 原料を溶解して溶融ガラスとする工程と、 圧力がＰ気圧未満である減圧脱泡槽内で該溶融ガラスを
減圧脱泡する工程とを有し、 該減圧脱泡槽内における溶融ガラスが、粘度が１０００
ポアズ以下、かつ圧力が（Ｐ−０．５）気圧以下の状態
にある時間が０．１時間以上であるＳｂ低含有ガラスの
製造方法。 - 【請求項２】請求項１に記載のＳｂ低含有ガラスの製造
方法であって、減圧脱泡槽内における溶融ガラスが、粘
度が１０００ポアズ以下、圧力が（Ｐ−０．５）気圧以
下、かつ温度が１４５０℃以下の状態にある時間が０．
１時間以上であるＳｂ低含有ガラスの製造方法。 - 【請求項３】請求項１または２に記載のＳｂ低含有ガラ
スの製造方法であって、減圧脱泡槽内における溶融ガラ
スが、粘度が１０００ポアズ以下、圧力が（Ｐ−０．
５）気圧以下、かつ温度が１２５０℃以上の状態にある
時間が０．１時間以上であるＳｂ低含有ガラスの製造方
法。 - 【請求項４】Ｓｂ低含有ガラスが陰極線管パネルガラス
である請求項１、２または３に記載のＳｂ低含有ガラス
の製造方法。 - 【請求項５】請求項４に記載のＳｂ低含有ガラスの製造
方法であって、陰極線管パネルガラスが、下記酸化物基
準の質量百分率表示で、 ＳｉＯ2 ４５〜７０％、 Ａｌ2Ｏ3 ０〜１０％、 Ｎａ2Ｏ １〜１５％、 Ｋ2Ｏ ３〜１５％、 ＭｇＯ ０〜１０％、 ＣａＯ ０〜１０％、 ＳｒＯ ０〜１３％、 ＢａＯ ０〜１６％、 ＺｎＯ ０〜５％、 ＺｒＯ2 ０〜５％、 ＴｉＯ2 ０〜２％、 ＣｅＯ2 ０〜５％、 Ｂ2Ｏ3 ０〜５％、 Ｓｂ2Ｏ3 ０．０３〜０．２５％、 から実質的になるＳｂ低含有ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047773A JP2001233622A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | Ｓｂ低含有ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047773A JP2001233622A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | Ｓｂ低含有ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001233622A true JP2001233622A (ja) | 2001-08-28 |
Family
ID=18569969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000047773A Pending JP2001233622A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | Ｓｂ低含有ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001233622A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1306353A1 (de) * | 2001-10-27 | 2003-05-02 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von Glasprodukten durch Läutern unter Unterdruck ohne Zusatz von As2O3 bzw. Sb2O3 |
-
2000
- 2000-02-24 JP JP2000047773A patent/JP2001233622A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1306353A1 (de) * | 2001-10-27 | 2003-05-02 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von Glasprodukten durch Läutern unter Unterdruck ohne Zusatz von As2O3 bzw. Sb2O3 |
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