JP2001232182A - 微粒子の配列方法 - Google Patents
微粒子の配列方法Info
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- JP2001232182A JP2001232182A JP2000047444A JP2000047444A JP2001232182A JP 2001232182 A JP2001232182 A JP 2001232182A JP 2000047444 A JP2000047444 A JP 2000047444A JP 2000047444 A JP2000047444 A JP 2000047444A JP 2001232182 A JP2001232182 A JP 2001232182A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 周囲の媒質より低屈折率の微粒子や光を反射
する微粒子を包含する微粒子ついて、複数同時に移動、
配列させることができる方法を提供する。 【解決手段】 散在する多数の微粒子に対して、２本の
放射圧発生ビームを同期走査して照射し、ビームの空洞
を形成し、２本のビームの間に存在する複数の微粒子を
ビームの放射圧により同時に前記空洞内に捕捉し、所定
の位置に配列させる。
する微粒子を包含する微粒子ついて、複数同時に移動、
配列させることができる方法を提供する。 【解決手段】 散在する多数の微粒子に対して、２本の
放射圧発生ビームを同期走査して照射し、ビームの空洞
を形成し、２本のビームの間に存在する複数の微粒子を
ビームの放射圧により同時に前記空洞内に捕捉し、所定
の位置に配列させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビームの放射圧を
利用して複数の微粒子を配列させる方法、さらに詳しく
いえば、本発明は、生物工学、化学、医用工学、材料工
学等の諸分野において使用可能な、マイクロメートルサ
イズの複数微粒子を非接触で同時に制御しながら配列す
る方法に関するものである。
利用して複数の微粒子を配列させる方法、さらに詳しく
いえば、本発明は、生物工学、化学、医用工学、材料工
学等の諸分野において使用可能な、マイクロメートルサ
イズの複数微粒子を非接触で同時に制御しながら配列す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近、マイクロマシン、μ‐ＴＡＳ、バ
イオ技術における細胞操作など各分野において、微小対
象物を取り扱う技術が求められている。この微小対象物
の取り扱い技術には、接触型と非接触型があるが、非接
触型のなかの光の放射圧を利用する方法は、分子生物学
における重要なツール、例えば光ピンセットとして実用
化されている。
イオ技術における細胞操作など各分野において、微小対
象物を取り扱う技術が求められている。この微小対象物
の取り扱い技術には、接触型と非接触型があるが、非接
触型のなかの光の放射圧を利用する方法は、分子生物学
における重要なツール、例えば光ピンセットとして実用
化されている。
【０００３】ところで、この光ピンセットは、原理的に
周囲の媒質より低屈折率の微粒子や、光を反射、吸収す
る微粒子を捕捉できないという欠点があったが、その後
にレーザ走査型マニピュレーション法により光を反射す
る金属微粒子や低屈折率の微粒子も取り扱うことが可能
となった。
周囲の媒質より低屈折率の微粒子や、光を反射、吸収す
る微粒子を捕捉できないという欠点があったが、その後
にレーザ走査型マニピュレーション法により光を反射す
る金属微粒子や低屈折率の微粒子も取り扱うことが可能
となった。
【０００４】他方、レーザ走査型マニピュレーション法
を利用して、周囲の媒質より高屈折率の微粒子を任意の
パターンに配置することも知られており、生物工学にお
ける細胞操作、分子生物学における遣伝子操作、化学分
野における微粒子の改質などに対しての応用が考えられ
ている。
を利用して、周囲の媒質より高屈折率の微粒子を任意の
パターンに配置することも知られており、生物工学にお
ける細胞操作、分子生物学における遣伝子操作、化学分
野における微粒子の改質などに対しての応用が考えられ
ている。
【０００５】しかしながら、周囲の媒質より低屈折率の
微粒子やレーザ光を反射する金属微粒子を任意のパター
ンに配置制御したり、複数の微粒子を同時に操作する方
法については、まだ実現することができず、マイクロマ
シンやμ‐ＴＡＳの分野における重要な課題となってい
た。
微粒子やレーザ光を反射する金属微粒子を任意のパター
ンに配置制御したり、複数の微粒子を同時に操作する方
法については、まだ実現することができず、マイクロマ
シンやμ‐ＴＡＳの分野における重要な課題となってい
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、周囲の媒質
より低屈折率の微粒子や光を反射する微粒子を包含する
微粒子ついて、複数同時に移動、配列させることができ
る方法を提供することを目的としてなされたものであ
る。
より低屈折率の微粒子や光を反射する微粒子を包含する
微粒子ついて、複数同時に移動、配列させることができ
る方法を提供することを目的としてなされたものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ビームの
放射圧を利用して微粒子を配列する方法について種々研
究を重ねた結果、単一光を分割したり、あるいは複数の
光源を用いて得られる２本のビームを同期走査して照射
し、ビームの空洞を形成させ、２本のビームの間に存在
する複数の微粒子をビームの放射圧により同時にこの空
間に捕捉することにより、屈折率の高低や反射に関係な
く微粒子を配列しうることを見出し、この知見に基づい
て本発明をなすに至った。
放射圧を利用して微粒子を配列する方法について種々研
究を重ねた結果、単一光を分割したり、あるいは複数の
光源を用いて得られる２本のビームを同期走査して照射
し、ビームの空洞を形成させ、２本のビームの間に存在
する複数の微粒子をビームの放射圧により同時にこの空
間に捕捉することにより、屈折率の高低や反射に関係な
く微粒子を配列しうることを見出し、この知見に基づい
て本発明をなすに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、散在する多数の微粒
子に対して、２本の放射圧発生ビームを同期走査して照
射し、ビームの空洞を形成し、２本のビームの間に存在
する複数の微粒子をビームの放射圧により同時に前記空
洞内に捕捉し、所定の位置に配列させることを特徴とす
る微粒子の配列方法を提供するものである。この際の微
粒子は二次元的に散在していてもよいし、また三次元的
に散在していてもよい。
子に対して、２本の放射圧発生ビームを同期走査して照
射し、ビームの空洞を形成し、２本のビームの間に存在
する複数の微粒子をビームの放射圧により同時に前記空
洞内に捕捉し、所定の位置に配列させることを特徴とす
る微粒子の配列方法を提供するものである。この際の微
粒子は二次元的に散在していてもよいし、また三次元的
に散在していてもよい。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、添付図面に従って、さらに
詳細に説明する。図１は、放射圧発生ビーム、例えば光
に対し反射性の金属微粒子に光を対物レンズで集光して
照射した場合に発生する放射圧の作用を模式的に示した
説明図であって、フォトンの衝突により生じる力Ｆａ及
びＦｂが微粒子を押し出すように作用する状態を示して
いる。そして、光線が走査されていない場合は、これら
の合成力Ｆｔにより微粒子は一瞬にして弾き飛ばされる
ことになる。周囲の媒質より低屈折率の微粒子に光を集
光して照射した場合も同様に、光の屈折による運動量の
変化により光の焦点位置から微粒子の中心方向に微粒子
を押すような力が作用し、微粒子は光から遠ざかる方向
に移動する。
詳細に説明する。図１は、放射圧発生ビーム、例えば光
に対し反射性の金属微粒子に光を対物レンズで集光して
照射した場合に発生する放射圧の作用を模式的に示した
説明図であって、フォトンの衝突により生じる力Ｆａ及
びＦｂが微粒子を押し出すように作用する状態を示して
いる。そして、光線が走査されていない場合は、これら
の合成力Ｆｔにより微粒子は一瞬にして弾き飛ばされる
ことになる。周囲の媒質より低屈折率の微粒子に光を集
光して照射した場合も同様に、光の屈折による運動量の
変化により光の焦点位置から微粒子の中心方向に微粒子
を押すような力が作用し、微粒子は光から遠ざかる方向
に移動する。
【００１０】図２は、対物レンズにより集光された２本
の放射圧発生ビーム（ビーム１、ビーム２）をＹ方向に
同期して、平行に直線状の走査を行った場合の模式図で
ある。この場合、集光して同期走査される２本の放射圧
発生ビーム（ビーム１、ビーム２）の間にＹ方向のビー
ムの空洞が形成され、この中に微粒子、例えば金属微粒
子が配列されることになる。
の放射圧発生ビーム（ビーム１、ビーム２）をＹ方向に
同期して、平行に直線状の走査を行った場合の模式図で
ある。この場合、集光して同期走査される２本の放射圧
発生ビーム（ビーム１、ビーム２）の間にＹ方向のビー
ムの空洞が形成され、この中に微粒子、例えば金属微粒
子が配列されることになる。
【００１１】この図２においては、２本の放射圧発生ビ
ーム（ビーム１、ビーム２）を用いた例が示されている
が、３本のビームを平行に同期走査することでビームの
空洞を２本形成させ、この中に微粒子を平行に２列配列
させたり、さらにビームの数を増やして微粒子を３列、
４列…等の複数列に配列させることもできる。また、複
数のビームを同心円状に走査して微粒子を同心円状に配
列したり、複数のビーム対を中心から外側に放射状に同
期走査して微粒子を放射状に配列することもでき、さら
にこれらを組み合わせてより複雑な形状の配列を形成さ
せることもできる。
ーム（ビーム１、ビーム２）を用いた例が示されている
が、３本のビームを平行に同期走査することでビームの
空洞を２本形成させ、この中に微粒子を平行に２列配列
させたり、さらにビームの数を増やして微粒子を３列、
４列…等の複数列に配列させることもできる。また、複
数のビームを同心円状に走査して微粒子を同心円状に配
列したり、複数のビーム対を中心から外側に放射状に同
期走査して微粒子を放射状に配列することもでき、さら
にこれらを組み合わせてより複雑な形状の配列を形成さ
せることもできる。
【００１２】本発明方法において用いる放射圧発生ビー
ムは、フォトンのような放射圧を生じるようなものであ
ればどのようなものでもよいが、レーザ、例えばＣＯ2
レーザ、ＹＡＧレーザ、銅蒸気レーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレ
ーザ、Ｎｄ：ＹＶＯ4レーザなどを光源としたレーザ光
が好ましい。そのほか、可視光、紫外光やα線、電子
線、中性子線などの素粒子線も用いることができる。
ムは、フォトンのような放射圧を生じるようなものであ
ればどのようなものでもよいが、レーザ、例えばＣＯ2
レーザ、ＹＡＧレーザ、銅蒸気レーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレ
ーザ、Ｎｄ：ＹＶＯ4レーザなどを光源としたレーザ光
が好ましい。そのほか、可視光、紫外光やα線、電子
線、中性子線などの素粒子線も用いることができる。
【００１３】本発明方法は、さらにコンピュータによる
画像処理によって微粒子の配列状態を計測し、その結果
に基づいてビームの走査位置、走査速度、走査位相差及
び走査パターンを適宜変更することで、微粒子の配列を
維持したままの状態で自動的に位置を移動したり、配列
形状を変更することができる。
画像処理によって微粒子の配列状態を計測し、その結果
に基づいてビームの走査位置、走査速度、走査位相差及
び走査パターンを適宜変更することで、微粒子の配列を
維持したままの状態で自動的に位置を移動したり、配列
形状を変更することができる。
【００１４】次に、図３は、本発明方法の構成の１例を
説明するためのシステム図であり、光源１からのビーム
は、ビームエクスパンダ２で変換され、半波長板３を通
り、第一偏光ビームスプリッタ４，４′により分解さ
れ、それぞれ電磁シャッタ５，５′を介してガルバノミ
ラー６，６′で光軸Ｚと直交するＸ−Ｙ軸平面状を所望
の形状が得られるように、走査位置がコンピュータＣｐ
によって制御される。上記の分解されたビームは、再び
第二偏光ビームスプリッタ７，７′で同軸とされたの
ち、リレーレンズ８により落射照明光の軸と一致させて
顕微鏡９内に導入し、対物レンズ１０により波長サイズ
程度、例えば１μｍ程度のスポットサイズに集光して微
粒子１１，…に照射する。
説明するためのシステム図であり、光源１からのビーム
は、ビームエクスパンダ２で変換され、半波長板３を通
り、第一偏光ビームスプリッタ４，４′により分解さ
れ、それぞれ電磁シャッタ５，５′を介してガルバノミ
ラー６，６′で光軸Ｚと直交するＸ−Ｙ軸平面状を所望
の形状が得られるように、走査位置がコンピュータＣｐ
によって制御される。上記の分解されたビームは、再び
第二偏光ビームスプリッタ７，７′で同軸とされたの
ち、リレーレンズ８により落射照明光の軸と一致させて
顕微鏡９内に導入し、対物レンズ１０により波長サイズ
程度、例えば１μｍ程度のスポットサイズに集光して微
粒子１１，…に照射する。
【００１５】この際、２本のビームは偏光方向が直交す
るので干渉を起すことはなく、したがって２本のビーム
の相対位置により強度分布が変化することはない。な
お、上記の分解した２本のビームのパワー比は第一偏光
ビームスプリッタ４の手前に配置した半波長板３により
調整することができ、ビームの照射のタイミングは電磁
シャッタ５，５′により別々にコンピュータ制御するこ
とができる。また、２本のビームの走査位置、走査速
度、走査位相差及び走査パターンは、ＣＣＤカメラ１２
からの微粒子の配置状態のモニター画像を画像処理装置
１３で処理することにより、その目的とする配置制御に
応じて自動的に変更することができる。
るので干渉を起すことはなく、したがって２本のビーム
の相対位置により強度分布が変化することはない。な
お、上記の分解した２本のビームのパワー比は第一偏光
ビームスプリッタ４の手前に配置した半波長板３により
調整することができ、ビームの照射のタイミングは電磁
シャッタ５，５′により別々にコンピュータ制御するこ
とができる。また、２本のビームの走査位置、走査速
度、走査位相差及び走査パターンは、ＣＣＤカメラ１２
からの微粒子の配置状態のモニター画像を画像処理装置
１３で処理することにより、その目的とする配置制御に
応じて自動的に変更することができる。
【００１６】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。
明する。
【００１７】実施例１ 図３に示すシステムにおいて、同期走査用の放射圧発生
ビームとして、連続発振のＮｄ：ＹＡＧレーザ（波長１
０６４ｎｍ，直線偏光）を用い、顕微鏡カバーガラス上
に、直径２μｍの銀微粒子と蒸留水とを一緒に滴下した
ものに、倒立顕微鏡の油浸対物レンズ（倍率１００倍）
を通して下方よりレーザ光を照射し、同期照射すること
によって微粒子の配列を行った。すなわち、Ｙ軸方向に
５１μｍの直線走査（繰り返し周波数１２．５Ｈｚ）を
同期して行い、徐々に２本のビームの間隔を狭めていき
ながら、微粒子の配列状態を顕微鏡で観察した結果を図
４に示す。図４における黒い小さな点は銀微粒子１個で
あり、黒い塊は微粒子の凝集体である。また、上下に走
る２本の白い直線は、レーザ光の走査位置を表示したも
のである。図４（ａ）は、２５μｍの間隔で同期走査し
た微粒子の配置状態であり、図４（ｂ）は速度を調整し
ながら２本のレーザ光の間隔を狭めるに従って、２本の
レーザ光の間に存在する凝集した大きな塊の微粒子が自
動的に直線状に配置された状態を示す。
ビームとして、連続発振のＮｄ：ＹＡＧレーザ（波長１
０６４ｎｍ，直線偏光）を用い、顕微鏡カバーガラス上
に、直径２μｍの銀微粒子と蒸留水とを一緒に滴下した
ものに、倒立顕微鏡の油浸対物レンズ（倍率１００倍）
を通して下方よりレーザ光を照射し、同期照射すること
によって微粒子の配列を行った。すなわち、Ｙ軸方向に
５１μｍの直線走査（繰り返し周波数１２．５Ｈｚ）を
同期して行い、徐々に２本のビームの間隔を狭めていき
ながら、微粒子の配列状態を顕微鏡で観察した結果を図
４に示す。図４における黒い小さな点は銀微粒子１個で
あり、黒い塊は微粒子の凝集体である。また、上下に走
る２本の白い直線は、レーザ光の走査位置を表示したも
のである。図４（ａ）は、２５μｍの間隔で同期走査し
た微粒子の配置状態であり、図４（ｂ）は速度を調整し
ながら２本のレーザ光の間隔を狭めるに従って、２本の
レーザ光の間に存在する凝集した大きな塊の微粒子が自
動的に直線状に配置された状態を示す。
【００１８】実施例２ 実施例１と同様のシステムを用い、半径２０μｍと５μ
ｍの同心円を描くように時計方向に同期して繰り返し周
波数７．７Ｈｚで円形走査した。このようにして、２本
のビームに挟まれた領域に終端のないトーラス状の光の
空洞が形成された。図５は、同期走査開始直後（ａ）と
３０秒後（ｂ）における微粒子の配列状態を示す顕微鏡
写真である。これらの図から光の空洞内に閉じこめられ
た、１個あるいは２〜３個の凝集した微粒子が、時間の
経過とともにトーラスの中心付近に円弧状に配置されて
いくこと及び同心円の中心付近を移動することにより、
外側の円の外の微粒子が排除されることが分かる。
ｍの同心円を描くように時計方向に同期して繰り返し周
波数７．７Ｈｚで円形走査した。このようにして、２本
のビームに挟まれた領域に終端のないトーラス状の光の
空洞が形成された。図５は、同期走査開始直後（ａ）と
３０秒後（ｂ）における微粒子の配列状態を示す顕微鏡
写真である。これらの図から光の空洞内に閉じこめられ
た、１個あるいは２〜３個の凝集した微粒子が、時間の
経過とともにトーラスの中心付近に円弧状に配置されて
いくこと及び同心円の中心付近を移動することにより、
外側の円の外の微粒子が排除されることが分かる。
【００１９】
【発明の効果】本発明によると、２本のビームの放射圧
を利用して、複数の微粒子を任意の形状に配列すること
ができ、また３本以上のビームを利用すればさらに複雑
な形状の配列も可能になる。さらに、コンピュータによ
る画像処理を組み合わせ、微粒子の配置状態を観測しな
がら、ビームの走査位置、走査速度、走査位相差及び走
査パターンを変更することで、微粒子を配列したままの
状態で自動的に位置を移動したり、配置形状を変更する
ことができる。したがって、本発明を用いれば、マイク
ロマシンやμ‐ＴＡＳを構築するための微粒子の自動的
な配置制御、移動が可能になるばかりでなく、マイクロ
メートルオーダーの化学反応場や生物の生育場を構築し
たり、それによってその反応や成長の制御を行うことが
できる。
を利用して、複数の微粒子を任意の形状に配列すること
ができ、また３本以上のビームを利用すればさらに複雑
な形状の配列も可能になる。さらに、コンピュータによ
る画像処理を組み合わせ、微粒子の配置状態を観測しな
がら、ビームの走査位置、走査速度、走査位相差及び走
査パターンを変更することで、微粒子を配列したままの
状態で自動的に位置を移動したり、配置形状を変更する
ことができる。したがって、本発明を用いれば、マイク
ロマシンやμ‐ＴＡＳを構築するための微粒子の自動的
な配置制御、移動が可能になるばかりでなく、マイクロ
メートルオーダーの化学反応場や生物の生育場を構築し
たり、それによってその反応や成長の制御を行うことが
できる。
【図１】 金属微粒子に光を照射したときの放射圧の作
用を模式的に示した説明図。
用を模式的に示した説明図。
【図２】 ２本のビームを同期して平行に直線状の走査
を行った場合の状態を模式的に示した説明図。
を行った場合の状態を模式的に示した説明図。
【図３】 本発明の構成の１例を示すシステム図。
【図４】 ２本のビームの間の微粒子が直線状に配列す
る過程を示す顕微鏡写真図。
る過程を示す顕微鏡写真図。
【図５】 ２本のビームの間の微粒子が同心円状に配列
する過程を示す顕微鏡写真図。
する過程を示す顕微鏡写真図。
１ ビーム光源 ３ 半波長板 ４，４′ 第一偏光ビームスプリッタ ６，６′ガルバノミラー ７，７′ 第二偏光ビームスプリッタ ９ 顕微鏡 １０ 対物レンズ １１ 微粒子 １２ ＣＣＤカメラ １３ 画像処理装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 住友 敬 香川県高松市林町2217番14 工業技術院四 国工業技術研究所内 (72)発明者 榊原 実雄 香川県高松市林町2217番14 工業技術院四 国工業技術研究所内 Ｆターム(参考） 4G075 AA27 AA70 CA36 EB33 EB34
Claims (7)
- 【請求項１】 散在する多数の微粒子に対して、２本の
放射圧発生ビームを同期走査して照射し、ビームの空洞
を形成し、２本のビームの間に存在する複数の微粒子を
ビームの放射圧により同時に前記空洞内に捕捉し、所定
の位置に配列させることを特徴とする微粒子の配列方
法。 - 【請求項２】 放射圧発生ビームとして単一の発生源か
らのビームを分割したのち、これをさらに同軸化した２
本のビームを用いる請求項１記載の微粒子の配列方法。 - 【請求項３】 放射圧発生ビームとして単一の発生源か
らのビームを偏光し、偏光ビームスプリッターで分割し
たのち、これをさらに同軸化した２本のビームを用いる
請求項２記載の微粒子の配列方法。 - 【請求項４】 放射圧発生ビームがレーザ光である請求
項１，２又は３記載の微粒子の配列方法。 - 【請求項５】 画像処理により微粒子の配列状態を観察
しながら、２本のビームの同期走査速度、走査位置、走
査位相差及び走査パターンの変更を行う請求項１ないし
４のいずれかに記載の微粒子の配列方法。 - 【請求項６】 微粒子が放射圧発生ビームに対し周囲の
媒質より低屈折率のものである請求項１ないし５のいず
れかに記載の微粒子の配列方法。 - 【請求項７】 微粒子が放射圧発生ビームを反射するも
のである請求項１ないし５のいずれかに記載の微粒子の
配列方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047444A JP3458152B2 (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 微粒子の配列方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047444A JP3458152B2 (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 微粒子の配列方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001232182A true JP2001232182A (ja) | 2001-08-28 |
| JP3458152B2 JP3458152B2 (ja) | 2003-10-20 |
Family
ID=18569693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000047444A Expired - Lifetime JP3458152B2 (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 微粒子の配列方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3458152B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004243434A (ja) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 微小棒状物の姿勢制御装置及び姿勢制御方法 |
| JP2005335020A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Nano Photonics Kenkyusho:Kk | 微小物体加工装置 |
| JP2007313378A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Keio Gijuku | 光学的物質操作装置 |
| JP2008509821A (ja) * | 2004-07-23 | 2008-04-03 | ザ サイエンス アンド テクノロジー ファシリティーズ カウンシル | 光制御可能なデバイス |
| JP2012159335A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 微粒子のアレイ化法および装置 |
-
2000
- 2000-02-24 JP JP2000047444A patent/JP3458152B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004243434A (ja) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 微小棒状物の姿勢制御装置及び姿勢制御方法 |
| JP2005335020A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Nano Photonics Kenkyusho:Kk | 微小物体加工装置 |
| JP2008509821A (ja) * | 2004-07-23 | 2008-04-03 | ザ サイエンス アンド テクノロジー ファシリティーズ カウンシル | 光制御可能なデバイス |
| JP2007313378A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Keio Gijuku | 光学的物質操作装置 |
| JP2012159335A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 微粒子のアレイ化法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3458152B2 (ja) | 2003-10-20 |
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