JP2001232152A - Decomposition treating method of fluorine-containing compound, catalyst and decomposition treating device - Google Patents

Decomposition treating method of fluorine-containing compound, catalyst and decomposition treating device

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JP2001232152A
JP2001232152A JP2001016496A JP2001016496A JP2001232152A JP 2001232152 A JP2001232152 A JP 2001232152A JP 2001016496 A JP2001016496 A JP 2001016496A JP 2001016496 A JP2001016496 A JP 2001016496A JP 2001232152 A JP2001232152 A JP 2001232152A
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fluorine
catalyst
compound
gas stream
decomposition
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JP2001016496A
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Japanese (ja)
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Shuichi Sugano
周一 菅野
Shinzo Ikeda
伸三 池田
Takeshi Yasuda
健 安田
Hisao Yamashita
寿生 山下
Shigeru Azuhata
茂 小豆畑
Shin Tamada
玉田  慎
Kazuyoshi Irie
一芳 入江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • Y02C20/30Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently decompose a fluorine-containing compound such as CF4, C2F6 containing only fluorine as halogen. SOLUTION: Fluorine in a gas flow containing the fluorine-containing compound containing only fluorine as halogen is converted to hydrogen fluoride by allowing the gas flow to contact with a catalyst consisting of Al and Ni, Al and Zn, or Al and Ti in the presence of steam at about 200-800 deg.C. As a result, the fluorine-containing compound containing only fluorine as halogen is efficiently decomposed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CF4 ,C26
SF6,NF3などのようにハロゲンとしてフッ素を含有
する化合物を低温で効率良く分解処理する方法及び触媒
並びに分解処理装置に関する。
The present invention relates to CF 4 , C 2 F 6 ,
The present invention relates to a method and a catalyst for efficiently decomposing a compound containing fluorine as a halogen, such as SF 6 and NF 3 , at a low temperature, and a decomposition apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】CF4 ,C26,SF6,NF3などのよ
うにハロゲンとしてフッ素のみを含有するフッ素化合物
ガスは、半導体エッチング剤,半導体洗浄剤などに大量
に使用されている。しかし、これらの物質は大気中に放
出されると、地球の温暖化を引き起こすことが判明し
た。
2. Description of the Related Art Fluorine compound gases containing only fluorine as halogen, such as CF 4 , C 2 F 6 , SF 6 and NF 3, are used in large quantities in semiconductor etching agents, semiconductor cleaning agents and the like. However, these substances have been found to cause global warming when released into the atmosphere.

【0003】CF4 ,C26,SF6,NF3などのガス
は、分子構成成分としてフッ素(F)を多く含有してい
る。フッ素はすべての元素の中でもっとも電気陰性度が
高く、化学的に非常に安定な物質を形成する。特にCF
4 ,C26などは分子内力が強く、反応性に乏しい物質
である。この性質から、燃焼などで分解するには高温に
加熱する必要があり、大量のエネルギを消費する。ま
た、高温での分解反応は生成するフッ化水素などのガス
による装置材料の腐食速度が大きく、適切な分解処理方
法がないのが現状である。
Gases such as CF 4 , C 2 F 6 , SF 6 and NF 3 contain a large amount of fluorine (F) as a molecular constituent. Fluorine has the highest electronegativity of all elements and forms a very chemically stable substance. Especially CF
4 , C 2 F 6 and the like are substances having strong intramolecular forces and poor reactivity. Due to this property, heating to a high temperature is necessary to decompose by combustion or the like, and a large amount of energy is consumed. Further, in the decomposition reaction at a high temperature, the rate of corrosion of the device material by the generated gas such as hydrogen fluoride is high, and at present, there is no appropriate decomposition treatment method.

【0004】分解処理方法として、現在、提案されつつ
あるのは、高温での燃焼技術である。しかしながらこの
方法では、プロパンなどの可燃ガスを使用するため、燃
焼により大量のCO2 及び有害物質であるNOxが生成
する。また、プロパンなどの可燃ガスを使用するため爆
発の危険性がある。また、1000℃近くで燃焼するた
め、ハロゲン化合物の分解で生成する腐食性ガスによっ
て炉壁が損傷し、メンテナンスの頻度が高くなり運転コ
ストが大きくなる。従って、より低温でかつ有害物質を
生成しないで分解できる技術が必要である。
[0004] As a decomposition treatment method, a combustion technique at a high temperature is currently being proposed. However, in this method, since a combustible gas such as propane is used, a large amount of CO 2 and NOx which is a harmful substance are generated by combustion. In addition, there is a danger of explosion because flammable gas such as propane is used. Further, since the fuel is burned at about 1000 ° C., the furnace wall is damaged by corrosive gas generated by the decomposition of the halogen compound, the frequency of maintenance increases, and the operating cost increases. Therefore, there is a need for a technology that can be decomposed at lower temperatures and without generating harmful substances.

【0005】ハロゲン化合物の分解触媒について、これ
までに様々な特許が出願されているが、本発明の対象ガ
スであるハロゲンとしてフッ素のみを含有するハロゲン
化合物を分解したという報告は少ない。特開平3−66388
号公報には、チタニアを含む触媒によるハロゲン化合物
の加水分解について記載されているが、ハロゲンとして
フッ素のみを含有するCF4 に対しては分解性能を示さ
ないと記述されている。また、Chem.Lett. (1989)pp.19
01−1904に記載されているように、岡崎らは、Fe23
/活性炭を用いてCFC−14(CF4)を加水分解する
ことを試みたが、分解しなかった。ハロゲンとしてフッ
素のみを含有するフッ素化合物の分解については、特開
平7−116466 号公報に、フッ化水素処理無機酸化物から
なる分解剤を用いた例が報告されている程度である。
Various patents have been filed for the catalyst for decomposing a halogen compound, but there are few reports that a halogen compound containing only fluorine as a halogen, which is the target gas of the present invention, was decomposed. JP-A-3-66388
The publication describes hydrolysis of a halogen compound by a catalyst containing titania, but describes that the compound does not exhibit decomposition performance with respect to CF 4 containing only fluorine as a halogen. Also, Chem. Lett. (1989) pp. 19
Okazaki et al. Reported that Fe 2 O 3
An attempt was made to hydrolyze CFC-14 (CF 4 ) using activated carbon, but did not. Regarding the decomposition of a fluorine compound containing only fluorine as halogen, an example using a decomposing agent composed of a hydrogen fluoride-treated inorganic oxide is reported in JP-A-7-116466.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、CF
4 ,C26,SF6,NF3などのようにハロゲンとして
フッ素のみを含有するフッ素化合物を低温で効率良く分
解する分解処理方法、及び高い分解率と長い触媒寿命を
持つ分解触媒及び分解処理装置を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a CF
4 , a decomposition method for efficiently decomposing a fluorine compound containing only fluorine as a halogen, such as C 2 F 6 , SF 6 , NF 3, etc. at a low temperature; a decomposition catalyst having a high decomposition rate and a long catalyst life; A processing device is provided.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、CF4
26,SF6,NF3などのようにハロゲンとしてフッ
素のみを含有する化合物を低温でかつ高効率で分解が可
能であり、また分解ガス中の腐食性ガスによる装置の腐
食が生じにくい分解処理方法の検討を詳細に進めた結
果、本発明に至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have proposed CF 4 ,
Compounds containing only fluorine as a halogen, such as C 2 F 6 , SF 6 , NF 3, etc., can be decomposed at low temperature and with high efficiency, and the apparatus is hardly corroded by corrosive gas in the decomposition gas. As a result of studying the decomposition method in detail, the present invention has been achieved.

【0008】即ち、ハロゲンとしてフッ素のみを含有
し、該フッ素を炭素,硫黄及び窒素から選ばれた元素と
の化合物にて含むガス流を、水蒸気の存在下でAlを含
んでなる触媒と約200〜800℃で接触させ前記フッ
素化合物を加水分解して、ガス流中の前記フッ素化合物
をフッ化水素に転化する方法を見いだした。
That is, a gas stream containing only fluorine as a halogen and containing the fluorine as a compound of an element selected from carbon, sulfur and nitrogen is mixed with a catalyst containing Al in the presence of water vapor for about 200 hours. A method of converting the fluorine compound in a gas stream to hydrogen fluoride by contacting at ~ 800 ° C to hydrolyze the fluorine compound was found.

【0009】対象ガスであるCF4 ,C26等のように
ハロゲンとしてフッ素のみを含有するハロゲン化合物
は、電気陰性度の高いフッ素の性質から分子内力が強
く、反応性の乏しい物質であり、酸素との反応ではほと
んど分解しない。すなわちH2Oを添加して初めて高い
分解率が得られる。
A halogen compound containing only fluorine as a halogen, such as CF 4 or C 2 F 6 which is a target gas, is a substance having a strong intramolecular force due to the high electronegativity of fluorine and a poor reactivity. Hardly decomposes in reaction with oxygen. That is, a high decomposition rate can be obtained only by adding H 2 O.

【0010】本発明の対象とするフッ素化合物は、ハロ
ゲンとしてフッ素のみを含有するハロゲン化合物であ
る。化合物の構成成分としては、フッ素,炭素,酸素,
硫黄,窒素などであり、化合物の一例としてはCF4
CHF3,CH22,CH3F,C26,C2HF5,C2
24,C233,C242,C25F,C38,C
3OCF2CF3,C48,C58,SF6,NF3等で
ある。
The fluorine compound to be used in the present invention is a halogen compound containing only fluorine as halogen. The components of the compound include fluorine, carbon, oxygen,
Sulfur, nitrogen and the like; examples of the compound include CF 4 ,
CHF 3 , CH 2 F 2 , CH 3 F, C 2 F 6 , C 2 HF 5 , C 2
H 2 F 4, C 2 H 3 F 3, C 2 H 4 F 2, C 2 H 5 F, C 3 F 8, C
H 3 is OCF 2 CF 3, C 4 F 8, C 5 F 8, SF 6, NF 3 and the like.

【0011】本発明のフッ素化合物分解処理方法におい
ては、Alを含んでなる触媒を用いる。Alは酸化物の
形で用いられる。Alは単独で用いることができるが、
そのほかに、Zn,Ni,Ti,Fe,Sn,Pt,C
o,Zr,Ce,Siのうちの少なくとも一成分と組合
せて用いることが出来る。さらに、これらの触媒にSを
添加して触媒の分解活性を高めることができる。
In the fluorine compound decomposition treatment method of the present invention, a catalyst containing Al is used. Al is used in the form of an oxide. Al can be used alone,
In addition, Zn, Ni, Ti, Fe, Sn, Pt, C
It can be used in combination with at least one of o, Zr, Ce, and Si. Further, S can be added to these catalysts to increase the decomposition activity of the catalyst.

【0012】触媒性能として必要なのは、高い分解率と
長い触媒寿命を持つことである。これらの性能を示す触
媒を詳細に検討した結果、Al23単体でも使用する原
料によって高い分解性能を持たすことができることを見
出した。
What is required for the catalyst performance is to have a high decomposition rate and a long catalyst life. As a result of examining the catalysts exhibiting these performances in detail, it has been found that high decomposition performance can be obtained even with Al 2 O 3 alone depending on the raw material used.

【0013】Alと、Zn,Ni,Ti,Fe,Sn,
Pt,Co,Zr,Ce,Siのうちの少なくとも一成
分とからなる触媒を用いることによって、Alを単独で
使用する場合よりも分解率を高めることができる。これ
らの触媒中では、AlはAl23、または添加した金属
成分と複合酸化物の状態で存在する。Zn,Ni,T
i,Fe,Sn,Co,Zr,Ce,Siは酸化物、ま
たはAlとの複合酸化物の状態で存在する。これらの触
媒では、Al:M(=Zn,Ni,Ti,Fe,Sn,
Co,Zr,Ce,Siの少なくとも1つ)の原子比が
Alが50〜99モル%でMが50〜1モル%であるこ
とが好ましい。またはAlとPtからなる触媒において
は、Ptを0.1 〜2wt%含有することが好ましい。
Al以外の添加成分の量を前記範囲内にすることによっ
て高い分解率が得られる。
Al, Zn, Ni, Ti, Fe, Sn,
By using a catalyst comprising at least one of Pt, Co, Zr, Ce, and Si, the decomposition rate can be increased as compared with the case where Al is used alone. In these catalysts, Al exists in the form of Al 2 O 3 or a composite oxide with the added metal component. Zn, Ni, T
i, Fe, Sn, Co, Zr, Ce, and Si exist in the form of oxides or composite oxides with Al. In these catalysts, Al: M (= Zn, Ni, Ti, Fe, Sn,
It is preferable that the atomic ratio of Al (at least one of Co, Zr, Ce, and Si) is 50 to 99 mol% and M is 50 to 1 mol%. Alternatively, the catalyst comprising Al and Pt preferably contains Pt in an amount of 0.1 to 2% by weight.
By setting the amount of the additional component other than Al within the above range, a high decomposition rate can be obtained.

【0014】長い触媒寿命を得るには触媒中のAl23
の結晶化を抑制することが有効であり、Ni,Znなど
を含有してNiAl24,ZnAl24などのように、
添加した金属成分とAlとを複合酸化物化することが望
ましい。触媒性能向上の方法としては、触媒中にSを添
加する方法がある。Sの添加方法としては、触媒調製時
に硫酸塩を使用する、あるいは硫酸を使用する、などの
方法を適用できる。触媒中のSはSO4 イオンの形など
で存在し、触媒の酸性質を強める働きをする。Sの量は
0.1 〜20重量%が好ましい。
To obtain a long catalyst life, Al 2 O 3
It is effective to suppress the crystallization of NiAl 2 O 4 and ZnAl 2 O 4 containing Ni, Zn and the like.
It is desirable to convert the added metal component and Al into a complex oxide. As a method of improving the catalyst performance, there is a method of adding S to the catalyst. As a method for adding S, a method such as using a sulfate at the time of preparing the catalyst or using sulfuric acid can be applied. S in the catalyst exists in the form of SO 4 ions or the like, and functions to enhance the acidity of the catalyst. The amount of S is preferably from 0.1 to 20% by weight.

【0015】本発明の分解処理方法では、CF4 ,C2
6などのフッ素化合物を含むガス流中に酸素を添加し
てもよい。分解ガス中のCOなどの酸化反応に使うこと
ができる。
In the decomposition method according to the present invention, CF 4 , C 2
Oxygen in the gas stream containing fluorine compounds such as F 6 may be added. It can be used for the oxidation reaction of CO and the like in the decomposition gas.

【0016】フッ素化合物の分解反応の代表的な反応に
は次のようなものがある。
The following are typical reactions of the decomposition reaction of the fluorine compound.

【0017】 CF4+2H2O→CO2+4HF …(式1) C26+3H2O→CO+CO2+6HF …(式2) CHF3+H2O→CO+3HF …(式3) (式2)及び(式3)の反応ではCOが生成するが、本
発明の触媒はCO酸化性能も有するため、酸素が存在す
ればCOをCO2 にすることができる。
CF 4 + 2H 2 O → CO 2 + 4HF (Formula 1) C 2 F 6 + 3H 2 O → CO + CO 2 + 6HF (Formula 2) CHF 3 + H 2 O → CO + 3HF (Formula 3) (Formula 2) and Although CO is generated in the reaction of (Equation 3), since the catalyst of the present invention also has CO oxidation performance, CO can be converted to CO 2 if oxygen is present.

【0018】添加する水蒸気の量は、処理するフッ素化
合物中のF数と少なくとも同等の水素分子が存在するよ
う調節する必要がある。これにより、化合物中のフッ素
をフッ化水素に転化することができ、後処理しやすい形
態にできる。
The amount of steam to be added must be adjusted so that hydrogen molecules at least equivalent to the F number in the fluorine compound to be treated are present. As a result, fluorine in the compound can be converted into hydrogen fluoride, and a form that can be easily post-treated can be obtained.

【0019】フッ素化合物を加水分解する反応温度は、
約200〜800℃が好ましい。炭素とフッ素と水素か
ら少なくとも構成されるフッ素化合物を処理する場合の
反応温度は、約500〜800℃が好ましい。これ以上
の高温で使用すると、高分解率は得られるが、触媒の劣
化が速い。また、装置材料の腐食が進みやすくなる。
The reaction temperature for hydrolyzing the fluorine compound is as follows:
About 200-800 ° C is preferred. The reaction temperature when treating a fluorine compound composed of at least carbon, fluorine and hydrogen is preferably about 500 to 800 ° C. When used at higher temperatures, a high decomposition rate can be obtained, but the catalyst deteriorates quickly. In addition, corrosion of the device material is likely to progress.

【0020】ハロゲンとしてフッ素のみを含有し該フッ
素を炭素,硫黄及び窒素から選ばれた元素との化合物に
て含むガス流を触媒と接触させるに当たっては、ガス流
中のフッ素化合物の含有量を0.1〜10vol%とするこ
とが好ましく、さらに好ましくは0.1〜3vol%であ
る。また、空間速度は、100毎時〜10,000 毎時
が好ましく、さらに好ましくは100毎時〜3,000
毎時である。空間速度(h-1)は反応ガス流量(ml/
h)/触媒量(ml)で求められる。
In contacting a gas stream containing only fluorine as a halogen and a compound of the fluorine with an element selected from carbon, sulfur and nitrogen with the catalyst, the content of the fluorine compound in the gas stream is reduced to 0%. It is preferably 0.1 to 10 vol%, and more preferably 0.1 to 3 vol%. The space velocity is preferably from 100 per hour to 10,000 per hour, more preferably from 100 per hour to 3,000 per hour.
Hourly. The space velocity (h -1 ) is determined by the reaction gas flow rate (ml /
h) / catalyst amount (ml).

【0021】本発明によるフッ素化合物分解処理方法に
おいては、分解生成物としてフッ化水素,二酸化炭素な
どが生成する。このほかにSO2,SO3等の硫黄酸化物
及びNO,NO2 等の窒素酸化物が生成する場合もあ
る。これらの分解生成物を除去するためにアルカリ溶液
で洗浄したり或いは水で洗浄することが好ましい。水で
洗浄する方法は、装置の腐食を抑制しつつフッ化水素を
除去する方法として好ましい。ただし、水洗浄の場合に
は、その後、フッ化水素を含む水をアルカリで中和する
ことが望ましい。アルカリとしては、水酸化カルシウム
や水酸化ナトリウムの水溶液,スラリ液などの一般のア
ルカリ試薬を使用することができる。
In the fluorine compound decomposition treatment method according to the present invention, hydrogen fluoride, carbon dioxide and the like are generated as decomposition products. In addition, sulfur oxides such as SO 2 and SO 3 and nitrogen oxides such as NO and NO 2 may be generated. In order to remove these decomposition products, it is preferable to wash with an alkaline solution or with water. The method of washing with water is preferable as a method of removing hydrogen fluoride while suppressing corrosion of the apparatus. However, in the case of washing with water, it is desirable that the water containing hydrogen fluoride is subsequently neutralized with an alkali. As the alkali, a common alkali reagent such as an aqueous solution of calcium hydroxide or sodium hydroxide or a slurry solution can be used.

【0022】本発明の触媒を調製するためのAl原料と
しては、γ−アルミナ,γ−アルミナとδ−アルミナの
混合物などを使用することができる。特にベーマイトを
Al原料として用い、焼成により酸化物を形成したもの
は高い分解活性を示す。
As the Al raw material for preparing the catalyst of the present invention, γ-alumina, a mixture of γ-alumina and δ-alumina, and the like can be used. In particular, those using boehmite as an Al raw material and forming an oxide by firing show high decomposition activity.

【0023】本発明の触媒を調製するための各種金属成
分の原料としては、硝酸塩,硫酸塩,アンモニウム塩,
塩化物などを用いることができる。Ni原料としては硝
酸ニッケルや硫酸ニッケルなどを使用することができ
る。これらの水和物も使用できる。Ti原料としては、
硫酸チタン,チタニアゾルなどを使用することができ
る。
The raw materials of various metal components for preparing the catalyst of the present invention include nitrates, sulfates, ammonium salts,
Chloride or the like can be used. Nickel nitrate or nickel sulfate can be used as the Ni raw material. These hydrates can also be used. As Ti raw material,
Titanium sulfate, titania sol and the like can be used.

【0024】本発明の触媒の製造法は通常の触媒の製造
に用いられる沈殿法,含浸法,混練法、などいずれも使
用できる。
As the method for producing the catalyst of the present invention, any of a precipitation method, an impregnation method, a kneading method and the like used in the production of ordinary catalysts can be used.

【0025】また、本発明における触媒は、そのまま粒
状,ハニカム状などに成形して使用することができる。
成形法としては、押し出し成形法,打錠成形法,転動造
粒法など目的に応じ任意の方法を採用できる。また、セ
ラミックスや金属製のハニカムや板にコーティングして
使用することもできる。
The catalyst according to the present invention can be used as it is in the form of granules, honeycombs or the like.
As the molding method, any method such as an extrusion molding method, a tablet molding method, and a tumbling granulation method can be adopted according to the purpose. Further, it can be used after being coated on a honeycomb or plate made of ceramics or metal.

【0026】本発明の処理方法を実施するために使用さ
れる反応器は、通常の固定床,移動床あるいは流動床型
のものでよいが、分解生成ガスとしてHFなどの腐食性
のガスが発生するので、これらの腐食性のガスによって
損傷しにくい材料で反応器を構成すべきである。
The reactor used for carrying out the treatment method of the present invention may be of a usual fixed bed, moving bed or fluidized bed type, but a corrosive gas such as HF is generated as a decomposition product gas. Therefore, the reactor should be made of a material that is not easily damaged by these corrosive gases.

【0027】本発明の処理方法を実施するために使用さ
れる処理装置は、前述の反応器の他に、ガス流中のフッ
素化合物の濃度を調節する手段例えばガス流に対して窒
素あるいは空気あるいは酸素を供給する手段、ガス流と
前記触媒とを200〜800℃の温度で接触させるため
に少なくとも一方を加熱する手段、前記フッ素化合物を
分解するために水蒸気あるいは水を前記ガス流に対して
添加する手段、前記反応器に充填された触媒に前記ガス
流が接触することによって生成した分解生成物を水及び
/あるいはアルカリ水溶液で洗浄して該分解生成物中の
二酸化炭素の一部とSO2,SO3等の硫黄酸化物の一部
とNO,NO2 等の窒素酸化物の一部とフッ化水素とを
除去する排ガス洗浄槽とを具備する。排ガス洗浄槽の後
段に除去されなかった前記分解生成物中の一酸化炭素,
硫黄酸化物,窒素酸化物を吸着剤などによって吸着する
手段を設けることは更に好ましい。
The processing apparatus used for carrying out the processing method of the present invention is, in addition to the above-mentioned reactor, means for adjusting the concentration of the fluorine compound in the gas stream, for example, nitrogen or air or A means for supplying oxygen, a means for heating at least one of the gas stream and the catalyst in order to contact the catalyst at a temperature of 200 to 800 ° C., and adding steam or water to the gas stream to decompose the fluorine compound Means for cleaning the decomposition product produced by contacting the gas stream with the catalyst packed in the reactor with water and / or an aqueous alkaline solution to remove a part of carbon dioxide in the decomposition product and SO 2 An exhaust gas cleaning tank is provided for removing a part of sulfur oxides such as SO 3 and SO 3 , a part of nitrogen oxides such as NO and NO 2 , and hydrogen fluoride. Carbon monoxide in the decomposition product that was not removed after the exhaust gas cleaning tank,
It is further preferable to provide a means for adsorbing sulfur oxides and nitrogen oxides with an adsorbent or the like.

【0028】既設の半導体工場へ本発明のフッ素化合物
含有ガスの処理方法を適用することもできる。半導体工
場には一般に酸成分ガスの排ガス処理装置があるため、
これを利用し、本発明の触媒のみをCF4 などのフッ素
化合物の排ガスラインに設置し、水蒸気を添加して加熱
すれば、フッ素化合物を分解処理することができる。
The method for treating a fluorine compound-containing gas of the present invention can be applied to an existing semiconductor factory. Since semiconductor factories generally have exhaust gas treatment equipment for acid component gases,
By utilizing this and installing only the catalyst of the present invention in an exhaust gas line of a fluorine compound such as CF 4 and adding steam to heat, the fluorine compound can be decomposed.

【0029】また、本発明の装置全体あるいは一部をト
ラック等に積載し、廃棄されたフッ素化合物詰めボンベ
を貯蔵している場所へ移動して、含有されているフッ素
化合物を抜き出し、直接処理することもできる。また、
排ガス洗浄槽内の洗浄液を循環する循環ポンプや、排ガ
ス中の一酸化炭素などを吸着する排ガス吸着槽を同時に
搭載してもよい。また、発電機などを搭載してもよい。
Further, the whole or a part of the apparatus of the present invention is loaded on a truck or the like and moved to a place where the discarded fluorine compound cylinder is stored, and the contained fluorine compound is extracted and directly treated. You can also. Also,
A circulation pump for circulating the cleaning liquid in the exhaust gas cleaning tank and an exhaust gas adsorption tank for adsorbing carbon monoxide and the like in the exhaust gas may be simultaneously mounted. Further, a generator or the like may be mounted.

【0030】本発明のフッ素化合物の分解処理方法によ
れば、低温でフッ素化合物を分解することができ、運転
コストを低減できる。
According to the method for decomposing a fluorine compound of the present invention, the fluorine compound can be decomposed at a low temperature, and the operating cost can be reduced.

【0031】フッ素化合物含有ガスを処理する場合、分
解して生成するHFなどの酸成分による装置材料の腐食
が問題となるが、本発明によれば、使用する温度が低温
であるため腐食速度が小さく、装置のメンテナンス頻度
を減少できる。
When a fluorine compound-containing gas is treated, corrosion of equipment materials due to acid components such as HF generated by decomposition becomes a problem. According to the present invention, however, the corrosion rate is low because the temperature used is low. It is small and can reduce the maintenance frequency of the device.

【0032】本発明のフッ素化合物の分解処理方法は、
フッ素化合物を分解する触媒反応工程と分解生成ガス中
の酸成分を中和除去する排ガス洗浄工程とからなり、装
置を小型化できる。
The method for decomposing a fluorine compound according to the present invention comprises:
The apparatus includes a catalytic reaction step of decomposing a fluorine compound and an exhaust gas cleaning step of neutralizing and removing an acid component in a decomposition product gas, so that the apparatus can be miniaturized.

【0033】フッ素化合物の分解は水蒸気との反応によ
るため、分解処理方法としての安全性が高く、可燃ガス
を使用した場合のように爆発などの危険性がない。
Since the decomposition of the fluorine compound is caused by the reaction with water vapor, the safety as a decomposition treatment method is high, and there is no danger of explosion as in the case of using a combustible gas.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、実施例にて本発明をさらに
詳細に説明する。本発明は、これら実施例にのみ限定さ
れるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to only these examples.

【0035】図1は、半導体エッチング工程で用いる場
合のハロゲン化合物の分解処理プロセスの一例を示す。
FIG. 1 shows an example of a halogen compound decomposition process when used in a semiconductor etching process.

【0036】エッチング工程では、減圧したエッチング
炉内にCF4 などのフッ素化合物1を入れて、プラズマ
で20分間励起し、半導体と反応させる。その後チャン
バ内をN22で置換し、ハロゲン化合物の濃度を数%に
希釈して約10l/minでエッチング炉内から排出して
いる。
In the etching step, a fluorine compound 1 such as CF 4 is put in an etching furnace which is decompressed, and is excited with plasma for 20 minutes to react with a semiconductor. Thereafter, the inside of the chamber was replaced with N 2 2, the concentration of the halogen compound was diluted to several percent, and the chamber was discharged from the etching furnace at about 10 l / min.

【0037】この排出ガスに空気3を添加しCF4 など
のハロゲン化合物を希釈した。このとき窒素を添加して
希釈してもよい。また、窒素と酸素を添加して希釈して
もよい。この希釈ガスに、さらに水添加器4により水蒸
気を添加した反応ガス5を分解工程に送る。分解工程
は、触媒を充填した反応器を用いて行う。反応ガス中の
ハロゲン化合物の濃度は約0.5 〜1%である。分解工
程では、反応ガス5を、空間速度1,000毎時(空間
速度(h-1)=反応ガス流量(ml/h)/触媒量(m
l))の条件でAlを含んでなる触媒と約200〜80
0℃で接触させる。この場合、反応ガスを加熱してもよ
く、電気炉などにより触媒を加熱してもよい。分解ガス
6は、排ガス洗浄工程に送られる。排ガス洗浄工程で
は、分解ガス6に水7がスプレーされ、分解ガス中の酸
成分が除去された排ガス8が系外に放出される。酸性ガ
スを含んだ酸性排水9は、半導体工場既設の排水処理設
備で処理される。CF4 などのハロゲン化合物の分解率
は、反応ガス5と分解ガス6をFID(Flame Ionization
Detector の略称)ガスクロマトグラフ,TCD(Therm
alConductivity Detector の略称)ガスクロマトグラフ
を用いて分析し、入口及び出口の物質収支により求め
る。
Air 3 was added to the exhaust gas to dilute halogen compounds such as CF 4 . At this time, nitrogen may be added for dilution. Further, nitrogen and oxygen may be added for dilution. The reaction gas 5 obtained by adding steam to the diluted gas by the water adding device 4 is sent to a decomposition step. The decomposition step is performed using a reactor filled with a catalyst. The concentration of the halogen compound in the reaction gas is about 0.5 to 1%. In the decomposition step, the reaction gas 5 is supplied at a space velocity of 1,000 per hour (space velocity (h -1 ) = reaction gas flow rate (ml / h) / catalyst amount (m
l) a catalyst comprising Al under the conditions of
Contact at 0 ° C. In this case, the reaction gas may be heated, or the catalyst may be heated by an electric furnace or the like. The decomposition gas 6 is sent to an exhaust gas cleaning step. In the exhaust gas cleaning step, water 7 is sprayed on the decomposition gas 6 and the exhaust gas 8 from which the acid components in the decomposition gas have been removed is discharged out of the system. Acidic wastewater 9 containing acidic gas is treated by existing wastewater treatment facilities at a semiconductor factory. The decomposition rate of halogen compounds such as CF 4 is determined by using FID (Flame Ionization)
Detector) Gas Chromatograph, TCD (Therm
alConductivity Detector) It is analyzed using gas chromatograph, and it is determined by material balance at inlet and outlet.

【0038】図10に、本発明の処理装置の一例を示
す。エッチング工程からのフッ素化合物ガスは、入口ス
プレー10で水がスプレーされ、ガス中のSiF4 等の
不純物が除去される。このガスと、空気3及びイオン交
換樹脂11等で精製された水7とが予熱器12内でヒー
ター13により加熱されるようになっている。反応器1
5はAlを含む触媒14を充填したものである。又、反
応器15の後段に、水のスプレー手段16を有する冷却
室17及び水のスプレー手段18を有し、充填材19を
含む排ガス洗浄槽20を備えている。排ガス8はブロワ
ー21により引かれ、酸性排水9はポンプ22で引かれ
る。なお、排ガス洗浄槽のフッ化水素を含む水は、イオ
ン交換処理して、純水原料として再利用することが可能
である。
FIG. 10 shows an example of the processing apparatus of the present invention. The fluorine compound gas from the etching step is sprayed with water at the inlet spray 10 to remove impurities such as SiF 4 in the gas. The gas and the water 7 purified by the air 3 and the ion exchange resin 11 are heated by a heater 13 in a preheater 12. Reactor 1
Reference numeral 5 denotes a catalyst filled with Al. Further, a cooling chamber 17 having a water spray means 16 and a water spray means 18 are provided downstream of the reactor 15, and an exhaust gas cleaning tank 20 containing a filler 19 is provided. The exhaust gas 8 is drawn by a blower 21, and the acidic wastewater 9 is drawn by a pump 22. The water containing hydrogen fluoride in the exhaust gas cleaning tank can be subjected to an ion exchange treatment and reused as a pure water raw material.

【0039】(実施例1)本実施例は、各種フッ素化合
物分解触媒の活性を調べた例である。
Example 1 In this example, the activity of various fluorine compound decomposition catalysts was examined.

【0040】純度99%以上のC26ガスに空気を添加
して希釈した。この希釈ガスに、さらに水蒸気を添加し
た。水蒸気は純水を約0.2ml/minで反応管上部へマイ
クロチューブポンプを用いて供給しガス化させた。反応
ガス中のC26濃度は約0.5%であった。この反応ガス
を、電気炉により反応管外部から所定温度に加温した触
媒と空間速度2,000 毎時で接触させた。
Air was added to C 2 F 6 gas having a purity of 99% or more to dilute it. Steam was further added to this dilution gas. Pure water was supplied to the upper part of the reaction tube at a rate of about 0.2 ml / min using a micro tube pump to vaporize the water. The C 2 F 6 concentration in the reaction gas was about 0.5%. The reaction gas was brought into contact with the catalyst heated to a predetermined temperature from the outside of the reaction tube by an electric furnace at a space velocity of 2,000 per hour.

【0041】反応管は内径32mmのインコネル製の反応
管で、触媒層を反応管中央に有しており、内部に外径3
mmのインコネル製の熱電対保護管を有している。触媒層
を通過した分解生成ガスはフッ化カルシウム溶液中にバ
ブリングさせ、系外に放出した。C26の分解率は、F
IDガスクロマトグラフ,TCDガスクロマトグラフに
より、次式で求めた。
The reaction tube is an Inconel reaction tube having an inner diameter of 32 mm, having a catalyst layer at the center of the reaction tube, and having an outer diameter of 3 mm inside.
It has a thermocouple protection tube made of Inconel. The decomposition product gas that passed through the catalyst layer was bubbled into a calcium fluoride solution and released outside the system. The decomposition rate of C 2 F 6 is F
It was determined by the following equation using an ID gas chromatograph and a TCD gas chromatograph.

【0042】[0042]

【数1】 (Equation 1)

【0043】以下に上記条件において試験に供した各触
媒の調製法を示す。
The preparation method of each catalyst subjected to the test under the above conditions is shown below.

【0044】触媒1;市販のベーマイト粉末を120℃
で2時間乾燥した。この乾燥粉末200gを300℃で
0.5 時間焼成し、さらに焼成温度を700℃にあげ2
時間焼成した。得られた粉末を金型に入れ、500kgf
/cm2の圧力で圧縮成型した。成型品を粉砕,篩い分け
して0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後の触
媒はAl23からなる。
Catalyst 1: Commercially available boehmite powder at 120 ° C.
For 2 hours. 200 g of the dried powder is fired at 300 ° C. for 0.5 hours, and the firing temperature is increased to 700 ° C.
Fired for hours. Put the obtained powder in a mold, 500kgf
/ Cm 2 at a pressure of compression molding. The molded product was pulverized and sieved to give a test having a particle size of 0.5-1 mm. The completed catalyst consists of Al 2 O 3 .

【0045】触媒2;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸亜鉛
6水和物85.38g を溶かした水溶液を添加し、混練
した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥し、7
00℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分けして
0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後の触媒組
成は原子比でAl:Zn=91:9(モル%)であっ
た。この触媒は、Al酸化物,Zn酸化物のほかにZn
Al24の複合酸化物を含む。
Catalyst 2: commercial boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. To 200 g of this dry powder, an aqueous solution in which 85.38 g of zinc nitrate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, dry at 250-300 ° C. for about 2 hours.
Baking was performed at 00 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion was Al: Zn = 91: 9 (mol%) in atomic ratio. This catalyst uses Zn oxide in addition to Al oxide and Zn oxide.
Contains a composite oxide of Al 2 O 4 .

【0046】触媒3;市販のベーマイトを120℃で1
時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硫酸ニッケル
6水和物50.99g を溶かした水溶液を添加し、混練
した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥し、7
00℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分けして
0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後の触媒組
成は原子比でAl:Ni=91:9(モル%)であっ
た。この触媒は、Al酸化物,Ni酸化物,NiAl2
4の複合酸化物及びS酸化物を含む。
Catalyst 3; commercially available boehmite at 120 ° C.
Dried for hours. To 200 g of this dry powder, an aqueous solution in which 50.99 g of nickel sulfate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, dry at 250-300 ° C. for about 2 hours.
Baking was performed at 00 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion was Al: Ni = 91: 9 (mol%) in atomic ratio. This catalyst is composed of Al oxide, Ni oxide, NiAl 2
Composite oxides O 4 and an S oxide.

【0047】触媒4;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末300gに、硝酸ニッ
ケル6水和物125.04g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後
の触媒組成は原子比でAl:Ni=91:9(モル%)
であった。この触媒は、Al酸化物,Ni酸化物及びN
iAl24の複合酸化物を含む。
Catalyst 4: commercial boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. To 300 g of the dried powder, an aqueous solution in which 125.04 g of nickel nitrate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion has an atomic ratio of Al: Ni = 91: 9 (mol%).
Met. This catalyst comprises Al oxide, Ni oxide and N
Contains a composite oxide of iAl 2 O 4 .

【0048】触媒5;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末300gと30%硫酸
チタン溶液354.4g を純水約300gを添加しなが
ら混練した。混練後、250〜300℃で約5時間乾燥
し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分
けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後の
触媒組成は原子比でAl:Ti=91:9(モル%)で
あった。
Catalyst 5: Commercially available boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. 300 g of this dry powder and 354.4 g of a 30% titanium sulfate solution were kneaded while adding about 300 g of pure water. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C for about 5 hours and baked at 700 ° C for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion was Al: Ti = 91: 9 (mol%) in atomic ratio.

【0049】触媒6;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸鉄9
水和物115.95g を溶かした水溶液を添加し、混練
した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥し、7
00℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分けして
0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後の触媒組
成は原子比でAl:Fe=91:9(モル%)であっ
た。
Catalyst 6: Commercial boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. To 200 g of the dried powder, 9 g of iron nitrate was added.
An aqueous solution in which 115.95 g of hydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, dry at 250-300 ° C. for about 2 hours.
Baking was performed at 00 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion was Al: Fe = 91: 9 (mol%) in atomic ratio.

【0050】触媒7;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、塩化第二
すず水和物95.43g を溶かした水溶液を添加し、混
練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥し、
700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分けし
て0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後の触媒
組成は原子比でAl:Sn=91:9(モル%)であっ
た。
Catalyst 7: Commercially available boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. To 200 g of the dried powder, an aqueous solution in which 95.43 g of stannic chloride was dissolved was added and kneaded. After kneading, drying at 250-300 ° C. for about 2 hours,
It was baked at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion was Al: Sn = 91: 9 (mol%) in atomic ratio.

【0051】触媒8;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、ジニトロ
ジアンミンPt(II)硝酸溶液(Pt濃度4.5wt
%)22.2gを純水200mlで希釈した水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後
の触媒はAl23100重量%に対してPtを0.68
重量%含んでいた。
Catalyst 8: Commercial boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. A dinitrodiammine Pt (II) nitric acid solution (Pt concentration 4.5 wt.
%) And an aqueous solution obtained by diluting 22.2 g with 200 ml of pure water was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The completed catalyst had a Pt of 0.68 with respect to 100% by weight of Al 2 O 3.
% By weight.

【0052】触媒9;市販のベーマイト粉末を120℃
で1時間乾燥した。この乾燥粉末300gに、硝酸コバ
ルト6水和物125.87g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後
の触媒組成は原子比でAl:Co=91:9(モル%)
であった。
Catalyst 9: Commercially available boehmite powder at 120 ° C.
For 1 hour. To 300 g of this dry powder, an aqueous solution in which 125.87 g of cobalt nitrate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion has an atomic ratio of Al: Co = 91: 9 (mol%).
Met.

【0053】触媒10;市販のベーマイト粉末を120
℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸ジ
ルコニル2水和物76.70g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後
の触媒組成は原子比でAl:Zr=91:9(モル%)
であった。
Catalyst 10: Commercial boehmite powder was mixed with 120
Dried for 1 hour at ° C. To 200 g of the dried powder, an aqueous solution in which 76.70 g of zirconyl nitrate dihydrate was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion has an atomic ratio of Al: Zr = 91: 9 (mol%).
Met.

【0054】触媒11;市販のベーマイト粉末を120
℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸セ
リウム6水和物124.62g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後
の触媒組成は原子比でAl:Ce=91:9(モル%)
であった。
Catalyst 11: Commercially available boehmite powder was mixed with 120
Dried for 1 hour at ° C. An aqueous solution in which 124.62 g of cerium nitrate hexahydrate was dissolved was added to 200 g of the dried powder and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion is Al: Ce = 91: 9 (mol%) in atomic ratio.
Met.

【0055】触媒12;市販のベーマイト粉末を120
℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末300gに、20w
t%シリカゾル129.19g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径として試験に供した。完成後
の触媒組成は原子比でAl:Si=91:9(モル%)
であった。
Catalyst 12: Commercially available boehmite powder was mixed with 120
Dried for 1 hour at ° C. To 300 g of this dry powder, 20 w
An aqueous solution in which 129.19 g of t% silica sol was dissolved was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to give a 0.5-1 mm particle size for the test. The catalyst composition after completion is Al: Si = 91: 9 (mol%) in atomic ratio.
Met.

【0056】上記触媒1〜12の反応温度700℃での
試験結果を図2に示す。AlとZnからなる触媒及びA
lとNiからなる触媒の分解活性が他にぬきんでて高
い。次いでAlとTiからなる触媒の分解活性が高い。
触媒3が触媒4よりも高活性を有するのは、Sの効果と
思われる。
FIG. 2 shows the test results of the catalysts 1 to 12 at a reaction temperature of 700 ° C. Catalyst consisting of Al and Zn and A
The decomposition activity of the catalyst consisting of 1 and Ni is extremely high. Next, the catalyst composed of Al and Ti has a high decomposition activity.
It is considered that the effect of S is that catalyst 3 has higher activity than catalyst 4.

【0057】(実施例2)本実施例は、実施例1の触媒
4と同じAl原料,Ni原料を用い、AlとNiの組成
を変化させた触媒を調製し、C26の分解活性を調べた
結果である。
(Example 2) In this example, using the same Al raw material and Ni raw material as the catalyst 4 of Example 1, a catalyst was prepared in which the composition of Al and Ni was changed, and the decomposition activity of C 2 F 6 was prepared. It is the result of having investigated.

【0058】触媒4−1;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸
ニッケル6水和物8.52g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成は
原子比でAl:Ni=99:1(モル%)であった。
Catalyst 4-1: Commercial boehmite powder was added to 12
Dry at 0 ° C. for 1 hour. To 200 g of this dry powder, an aqueous solution in which 8.52 g of nickel nitrate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Ni = 99: 1 (mol%) in atomic ratio.

【0059】触媒4−2;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末300gに、硝酸
ニッケル6水和物66.59g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成は
原子比でAl:Ni=95:5(モル%)であった。
Catalyst 4-2: Commercially available boehmite powder was added to 12
Dry at 0 ° C. for 1 hour. An aqueous solution in which 66.59 g of nickel nitrate hexahydrate was dissolved was added to 300 g of the dried powder and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Ni = 95: 5 (mol%) in atomic ratio.

【0060】触媒4−3;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸
ニッケル6水和物210.82g を溶かした水溶液を添
加し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間
乾燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩
い分けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成
は原子比でAl:Ni=80:20(モル%)であっ
た。
Catalyst 4-3: Commercially available boehmite powder was added to 12
Dry at 0 ° C. for 1 hour. To 200 g of this dry powder, an aqueous solution in which 210.82 g of nickel nitrate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Ni = 80: 20 (mol%) in atomic ratio.

【0061】触媒4−4;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸
ニッケル6水和物361.16g を溶かした水溶液を添
加し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間
乾燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩
い分けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成
は原子比でAl:Ni=70:30(モル%)であっ
た。
Catalyst 4-4: Commercially available boehmite powder was added to 12
Dry at 0 ° C. for 1 hour. An aqueous solution in which 361.16 g of nickel nitrate hexahydrate was dissolved was added to 200 g of the dried powder and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Ni = 70: 30 (mol%) in atomic ratio.

【0062】触媒4−5;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸
ニッケル6水和物562.1g を混ぜ、水を添加しなが
ら混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥
し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分
けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成は原
子比でAl:Ni=60:40(モル%)であった。
Catalyst 4-5: Commercially available boehmite powder was
Dry at 0 ° C. for 1 hour. 562.1 g of nickel nitrate hexahydrate was mixed with 200 g of the dried powder, and kneaded while adding water. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Ni = 60: 40 (mol%) in atomic ratio.

【0063】触媒4,触媒4−1から触媒4−5の活性
を、C26濃度を2%とし、供給する純水の量を約0.
4ml/minとした以外は実施例1と同様の方法で調べ
た。試験開始6時間後の分解率を図3に示す。Ni/
(Ni+Al)のモル%が20−30モル%のときに最
も活性が高く、次いで5〜40モル%のときに活性が高
い。
The activity of the catalysts 4 and 4-1 to 4-5 is set at a C 2 F 6 concentration of 2%, and the amount of pure water to be supplied is about 0.5.
The test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the flow rate was 4 ml / min. FIG. 3 shows the decomposition rate 6 hours after the start of the test. Ni /
The activity is highest when the mole% of (Ni + Al) is 20-30 mole%, and then the activity is high when it is 5-40 mole%.

【0064】(実施例3)本実施例は、実施例1の触媒
2と同じAl原料,Zn原料を用い、AlとZnの組成
を変化させた触媒を調製し、活性を調べたものである。
Example 3 In this example, a catalyst was prepared by changing the composition of Al and Zn using the same Al raw material and Zn raw material as the catalyst 2 of Example 1, and the activity was examined. .

【0065】触媒2−1;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸
亜鉛6水和物215.68g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成は
原子比でAl:Zn=80:20(モル%)であった。
Catalyst 2-1: Commercially available boehmite powder was added to 12
Dry at 0 ° C. for 1 hour. To 200 g of this dry powder, an aqueous solution in which 215.68 g of zinc nitrate hexahydrate was dissolved was added and kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Zn = 80: 20 (mol%) in atomic ratio.

【0066】触媒2−2;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末200gに、硝酸
亜鉛6水和物369.48g を溶かした水溶液を添加
し、混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾
燥し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い
分けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成は
原子比でAl:Zn=70:30(モル%)であった。
Catalyst 2-2: Commercially available boehmite powder was mixed with 12
Dry at 0 ° C. for 1 hour. To 200 g of the dried powder, an aqueous solution in which 369.48 g of zinc nitrate hexahydrate was added was kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Zn = 70: 30 (mol%) in atomic ratio.

【0067】触媒2−3;市販のベーマイト粉末を12
0℃で1時間乾燥した。この乾燥粉末126.65gに、硝酸
亜鉛6水和物96.39g を溶かした水溶液を添加し、
混練した。混練後、250〜300℃で約2時間乾燥
し、700℃で2時間焼成した。焼成物を粉砕,篩い分
けして0.5−1mm 粒径とした。完成後の触媒組成は原
子比でAl:Zn=85:15(モル%)であった。
Catalyst 2-3: 12 parts of commercially available boehmite powder
Dry at 0 ° C. for 1 hour. To 126.65 g of this dry powder, an aqueous solution in which 96.39 g of zinc nitrate hexahydrate was dissolved was added.
Kneaded. After kneading, the mixture was dried at 250 to 300 ° C. for about 2 hours and calcined at 700 ° C. for 2 hours. The fired product was pulverized and sieved to a particle size of 0.5-1 mm. The catalyst composition after completion was Al: Zn = 85: 15 (mol%) in atomic ratio.

【0068】触媒2,触媒2−1から触媒2−3の活性
を、C26濃度を2%とし、供給する純水の量を約0.
4ml/minとした以外は実施例1と同様の方法で調べ
た。試験開始6時間後の分解率を図4に示す。Ni/
(Ni+Al)のモル%が10−30モル%のときに最
も活性が高い。
The activities of the catalysts 2 and 2-1 to 2-3 are set at a C 2 F 6 concentration of 2%, and the amount of pure water to be supplied is about 0.5%.
The test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the flow rate was 4 ml / min. FIG. 4 shows the decomposition rate 6 hours after the start of the test. Ni /
The activity is highest when the mol% of (Ni + Al) is 10-30 mol%.

【0069】(実施例4)本実施例は、CF4,CH
3,C26の分解を反応温度を変えて行った結果であ
る。試験条件は、空間速度1,000 毎時とし、ハロゲ
ン化合物を空気の代わりに窒素で希釈した以外は、実施
例1と同様である。触媒は実施例2中の触媒4−3を用
いた。各反応温度での試験の結果を図5に示す。Alと
Niからなる触媒は、CHF3,CF4に対しても高い分
解活性を有する。又、これらのフッ素化合物に対しては
600℃程度の低い温度でも高い活性を有し、特にCH
3 に対しては、反応ガス中のCHF3濃度が0.1%の
場合、300℃でも35%分解した。
(Embodiment 4) In this embodiment, CF 4 , CH
This is a result of performing decomposition of F 3 and C 2 F 6 at different reaction temperatures. The test conditions were the same as in Example 1 except that the space velocity was 1,000 per hour, and the halogen compound was diluted with nitrogen instead of air. The catalyst used was Catalyst 4-3 in Example 2. The results of the test at each reaction temperature are shown in FIG. The catalyst composed of Al and Ni has a high decomposition activity even for CHF 3 and CF 4 . It has high activity against these fluorine compounds even at temperatures as low as about 600 ° C.
For F 3, CHF 3 concentration in the reaction gas is the case of 0.1%, was decomposed 300 ° C. But 35%.

【0070】(実施例5)本実施例は、C26の分解に
おける水蒸気の影響を調べた結果である。試験条件は、
空間速度1,000 毎時とした以外は、実施例1と同様
である。触媒は実施例1中の触媒4を用い、反応温度は
700℃とした。試験は反応開始から2時間後まで水蒸
気を供給し、その後、水蒸気の供給を停止した。5時間
後再び水蒸気を供給し始めた。試験の結果を図6に示
す。水蒸気の添加時に分解率が高まりC26の分解は加
水分解によることが明らかとなった。
Example 5 This example is a result of examining the effect of water vapor on the decomposition of C 2 F 6 . The test conditions are
Same as Example 1 except that the space velocity was set to 1,000 every hour. The catalyst used was the catalyst 4 in Example 1, and the reaction temperature was 700 ° C. In the test, steam was supplied until 2 hours after the start of the reaction, and then the supply of steam was stopped. Five hours later, steam supply was started again. FIG. 6 shows the results of the test. It became clear that the decomposition rate was increased when steam was added, and that the decomposition of C 2 F 6 was due to hydrolysis.

【0071】(実施例6)本実施例は、AlとNiから
なる触媒4−3を用いて、SF6 ,C38の分解を行っ
た結果である。SF6 の試験条件は、純度99%以上の
SF6 ガスを用い、空間速度1,000毎時とし、SF6
を空気の代わりに窒素で希釈した以外は、実施例1と同
様である。C38の試験条件は実施例1と同じである。
試験結果を図7に示す。反応管入口の反応ガス中のSF
6 量とアルカリ吸収槽通過後の分解ガス中のSF6 量を
TCDガスクロマトグラフにより測定し、次式により分
解率を求めた結果、反応温度550−700℃でのSF
6 分解率は99%以上であった。C38の分解試験で
は、700℃以上の反応温度で高い反応率が得られた。
(Embodiment 6) This embodiment is a result of decomposition of SF 6 and C 3 F 8 using a catalyst 4-3 comprising Al and Ni. Test conditions of SF 6 is used having a purity of 99% or more of the SF 6 gas, a space velocity of 1,000 per hour, SF 6
Was diluted with nitrogen instead of air. The test conditions for C 3 F 8 are the same as in Example 1.
The test results are shown in FIG. SF in the reaction gas at the reaction tube inlet
The amount of SF 6 and the amount of SF 6 in the decomposed gas after passing through the alkali absorption tank were measured by a TCD gas chromatograph, and the decomposition rate was determined by the following equation.
6 The decomposition rate was 99% or more. In the decomposition test of C 3 F 8 , a high conversion was obtained at a reaction temperature of 700 ° C. or higher.

【0072】[0072]

【数2】 (Equation 2)

【0073】(実施例7)本実施例は、AlとNiから
なる触媒4−3を用いてNF3 の分解を行った結果であ
る。試験条件は、純度99%以上のNF3 ガスを用いた
以外は実施例6と同様である。反応温度を700℃とし
た。反応管入口の反応ガス中のNF3 量とアルカリ吸収
槽通過後の分解ガス中のNF3 量をTCDガスクロマト
グラフにより測定し、次式により分解率を求めた結果、
分解率は99%以上であった。また、700℃以下の分
解率を図8に示す。400℃でも分解率99.9% が得
られた。
Example 7 This example is a result of the decomposition of NF 3 using the catalyst 4-3 composed of Al and Ni. The test conditions were the same as in Example 6 except that NF 3 gas having a purity of 99% or more was used. The reaction temperature was set to 700 ° C. The NF 3 amount of decomposition gas after NF 3 amount and the alkaline absorption tank passage of the reaction gas in the reaction tube inlet was measured by TCD gas chromatography, the results of obtaining the decomposition rate by the following equation,
The decomposition rate was 99% or more. FIG. 8 shows the decomposition rate at 700 ° C. or less. A decomposition rate of 99.9% was obtained even at 400 ° C.

【0074】[0074]

【数3】 (Equation 3)

【0075】(実施例8)AlとZnを原子比でAl:
Zn=85:15(モル%)含む触媒を用いて、CF
4 ,C48,CHF3 の分解を行った。
Example 8 Al and Zn are represented by atomic ratio of Al:
Using a catalyst containing Zn = 85: 15 (mol%), CF
4 , C 4 F 8 and CHF 3 were decomposed.

【0076】CF4 の分解は、純度99%以上のCF4
ガスに空気を添加して希釈し、更に水蒸気を添加し、所
定の反応温度で触媒と接触させることによって行った。
空間速度は1,000 毎時である。
[0076] decomposition of CF 4, the purity of 99% or more of CF 4
This was done by adding air to the gas to dilute it, adding steam, and contacting it with the catalyst at a predetermined reaction temperature.
The space velocity is 1,000 per hour.

【0077】反応ガス中のCF4 濃度は約0.5% であ
る。水蒸気はCF4 ガスの約50倍となるように流量を
調節した。
The CF 4 concentration in the reaction gas is about 0.5%. The flow rate of steam was adjusted so as to be about 50 times that of CF 4 gas.

【0078】CHF3 及びC48の分解も同様にして行
った。
The decomposition of CHF 3 and C 4 H 8 was carried out in the same manner.

【0079】図9の試験結果を示す。AlとZnからな
る触媒はCHF3,CF4に対しても高い分解活性を示
す。C48に対しては、700℃前後あるいはそれ以外
の温度にすれば高い分解活性を示すことが明らかにされ
た。
FIG. 9 shows the test results. The catalyst composed of Al and Zn exhibits high decomposition activity even for CHF 3 and CF 4 . It has been clarified that C 4 F 8 exhibits high decomposition activity at temperatures around 700 ° C. or other temperatures.

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明によれば、CF4 ,C26などの
ようにハロゲンとしてフッ素のみを含有するハロゲン化
合物を効率良く分解処理することができる。
According to the present invention, a halogen compound containing only fluorine as halogen, such as CF 4 , C 2 F 6, etc., can be efficiently decomposed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1の処理プロセスを示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram illustrating a processing process according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の各触媒の性能を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the performance of each catalyst of the present invention.

【図3】本発明のAl−Ni触媒のC26分解性能を示
す図である。
FIG. 3 is a view showing the C 2 F 6 decomposition performance of the Al—Ni catalyst of the present invention.

【図4】本発明のAl−Zn触媒のC26分解活性を示
す図である。
FIG. 4 is a view showing the C 2 F 6 decomposition activity of the Al—Zn catalyst of the present invention.

【図5】本発明のAl−Ni触媒のC26,CHF3
CF4の分解活性を示す図である。
FIG. 5 shows C 2 F 6 , CHF 3 ,
It is a diagram showing a degradation activity of CF 4.

【図6】本発明のAl−Ni触媒のC26分解における
水蒸気の影響を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the effect of water vapor on the C 2 F 6 decomposition of the Al—Ni catalyst of the present invention.

【図7】本発明のAl−Ni触媒のSF6 ,C38の分
解活性を示す図である。
FIG. 7 is a graph showing SF 6 and C 3 F 8 decomposition activity of the Al—Ni catalyst of the present invention.

【図8】本発明のAl−Ni触媒のNF3 分解活性を示
す図である。
FIG. 8 is a graph showing the NF 3 decomposition activity of the Al—Ni catalyst of the present invention.

【図9】本発明のAl−Zn触媒のCF4 ,C48,C
HF3 の分解活性を示す図である。
FIG. 9 shows CF 4 , C 4 F 8 , C of the Al—Zn catalyst of the present invention.
It is a diagram showing a degradation activity of HF 3.

【図10】本発明の一実施例による分解処理装置の概略
構成図である。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a decomposition processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…CF4 などのフッ素化合物、2…N2 、3…空気、
4…水添加器、5…反応ガス、6…分解ガス、7…水、
8…排ガス、9…酸性排水、10…入口スプレー、11
…イオン交換樹脂、12…予熱器、13…ヒーター、1
4…触媒、15…反応器、16,18…スプレー手段、
17…冷却室、19…充填材、20…排ガス洗浄槽、2
1…ブロワー、22…ポンプ。
Fluorine compounds such as 1 ... CF 4, 2 ... N 2, 3 ... air,
4 water addition device, 5 reaction gas, 6 decomposition gas, 7 water
8 ... exhaust gas, 9 ... acid wastewater, 10 ... inlet spray, 11
... Ion exchange resin, 12 ... Preheater, 13 ... Heater, 1
4 ... catalyst, 15 ... reactor, 16, 18 ... spray means,
17: cooling chamber, 19: filler, 20: exhaust gas cleaning tank, 2
1 ... blower, 22 ... pump.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 23/10 B01J 23/14 A 23/14 23/42 A 23/42 C01B 7/19 A 23/745 17/45 G 23/75 21/083 23/755 B01D 53/36 G C01B 7/19 B01J 23/74 301A 17/45 311A 21/083 321A (72)発明者 安田 健 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 山下 寿生 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 小豆畑 茂 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 玉田 慎 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 入江 一芳 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) B01J 23/10 B01J 23/14 A 23/14 23/42 A 23/42 C01B 7/19 A 23/745 17/45 G 23/75 21/083 23/755 B01D 53/36 G C01B 7/19 B01J 23/74 301A 17/45 311A 21/083 321A (72) Inventor Ken Yasuda 7-chome, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1-1 Inside Hitachi, Ltd.Hitachi Research Laboratory (72) Inventor Toshio Yamashita 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi, Ltd.Hitachi Research Laboratory Co., Ltd. (72) Inventor Shigeru Shozuhata Hitachi, Ibaraki Prefecture 7-1-1, Omikacho Hitachi Research Laboratories Hitachi Research Laboratory, Ltd. (72) Inventor Shin Tamada 3-1-1 Sachimachi, Hitachi-shi, Ibaraki Pref. Hitachi, Ltd. Hitachi Plant Hitachi Plant (72) Inventor Kazuyoshi Ko Hitachi City, Ibaraki Prefecture Saiwaicho Third Street No. 1 No. 1 stock company Hitachi, Ltd. Hitachi in the factory

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ハロゲンとしてフッ素を含み該フッ素を炭
素,窒素及び硫黄から選ばれた元素との化合物にて含む
ガス流を、水蒸気の存在下で、Alを含んでなる触媒と
約200〜800℃の温度で接触させて前記ガス流中の
フッ素化合物を加水分解してフッ化水素に転化すること
を特徴とするフッ素含有化合物の分解処理方法。
A gas stream containing fluorine as a halogen and containing the fluorine in the form of a compound of an element selected from carbon, nitrogen and sulfur in the presence of steam in the presence of a catalyst comprising Al and about 200 to 800 A method for decomposing a fluorine-containing compound, comprising contacting at a temperature of ° C to hydrolyze a fluorine compound in the gas stream to convert it to hydrogen fluoride.
【請求項2】請求項1において、前記フッ素化合物を含
むガス流を、Alを含み、Zn,Ni,Ti,Fe,S
n,Co,Zr,Ce,Si及びPtのうちから選ばれ
た少なくとも1つを含む触媒と触接させることを特徴と
するフッ素含有化合物の分解処理方法。
2. The method according to claim 1, wherein the gas stream containing the fluorine compound contains Al, Zn, Ni, Ti, Fe, S
A method for decomposing a fluorine-containing compound, which is brought into contact with a catalyst containing at least one selected from n, Co, Zr, Ce, Si and Pt.
【請求項3】請求項2に記載の方法において、前記触媒
が更にSを含むことを特徴とするフッ素含有化合物の分
解処理方法。
3. The method according to claim 2, wherein the catalyst further contains S.
【請求項4】請求項2に記載の方法において、前記触媒
を構成する成分が各成分単独の酸化物或いはAlと他の
成分との複合酸化物の状態で含まれていることを特徴と
するフッ素含有化合物の分解処理方法。
4. The method according to claim 2, wherein the components constituting said catalyst are contained in the form of an oxide of each component alone or a composite oxide of Al and other components. A method for decomposing a fluorine-containing compound.
【請求項5】請求項1に記載の方法において、前記フッ
素化合物を含むガス流がCF4 ,CHF3 ,C26,C
38,C48,C58よりなるフッ素化合物の少なくと
も1つを含み、該フッ素化合物をCOとCO2 の少なく
とも一方及びHFとに分解することを特徴とするフッ素
含有化合物の分解処理方法。
5. The method according to claim 1, wherein the gas stream containing the fluorine compound is CF 4 , CHF 3 , C 2 F 6 , C
3 F 8, wherein at least one of C 4 F 8, C 5 consisting of F 8 fluorine compounds, fluorine-containing compounds, characterized by decomposing the fluorine compound and at least one and HF CO and CO 2 Disassembly processing method.
【請求項6】請求項1において、前記フッ素化合物を含
むガス流がSF6 よりなるフッ素化合物を含み、該SF
6 をSO2とSO3の少なくとも一方及びHFとに分解す
ることを特徴とするフッ素含有化合物の分解処理方法。
6. The gas stream according to claim 1, wherein said gas stream containing a fluorine compound contains a fluorine compound comprising SF 6 ,
6. A method for decomposing fluorine-containing compounds, comprising decomposing 6 into at least one of SO 2 and SO 3 and HF.
【請求項7】請求項1において、前記フッ素化合物を含
有するガス流がNF3 よりなるフッ素化合物を含み、該
NF3 をNOとNO2とN2Oの少なくとも一方及びHF
とに分解することを特徴とするフッ素含有化合物の分解
処理方法。
7. A gas flow according to claim 1, wherein said gas stream containing a fluorine compound contains a fluorine compound comprising NF 3 , wherein said NF 3 is formed of at least one of NO, NO 2 and N 2 O and HF.
And a method for decomposing fluorine-containing compounds.
【請求項8】ハロゲンとしてフッ素を含み該フッ素を炭
素,窒素及び硫黄から選ばれた元素との化合物にて含む
ガス流を、水蒸気の存在下で、Alを含んでなる触媒と
約200〜800℃の温度で接触させて前記ガス流中の
フッ素化合物を加水分解してフッ化水素に転化し、その
後、該フッ化水素を含むガス流を水と接触させてフッ化
水素を除去し、このフッ化水素を含む水をアルカリによ
り中和することを特徴とするフッ素含有化合物の分解処
理方法。
8. A gas stream containing fluorine as a halogen and containing the fluorine in the form of a compound with an element selected from carbon, nitrogen and sulfur, in the presence of water vapor, a catalyst comprising Al and a gas stream comprising about 200 to 800 ° C. to hydrolyze the fluorine compounds in the gas stream to convert it to hydrogen fluoride, and then contact the gas stream containing the hydrogen fluoride with water to remove hydrogen fluoride. A method for decomposing a fluorine-containing compound, wherein water containing hydrogen fluoride is neutralized with an alkali.
【請求項9】ハロゲンとしてフッ素のみを含有するハロ
ゲン化合物を加水分解するために使用する触媒であっ
て、Al酸化物を含んでなることを特徴とするフッ素含
有化合物の分解処理用触媒。
9. A catalyst for use in hydrolyzing a halogen compound containing only fluorine as a halogen, said catalyst comprising an Al oxide and being used for decomposing a fluorine-containing compound.
【請求項10】請求項9において、Alと、Zn,N
i,Ti,Fe,Sn,Co,Zr,Ce,Si及びP
tのうちから選ばれた少なくとも1つとからなり、A
l:M(MはZn,Ni,Ti,Fe,Sn,Co,Z
r,Ce,Siの少なくとも1つ)の原子比がAlが5
0〜99モル%で、Mが50〜1モル%であることを特
徴とするフッ素含有化合物の分解処理用触媒。
10. The method according to claim 9, wherein Al, Zn, N
i, Ti, Fe, Sn, Co, Zr, Ce, Si and P
at least one selected from t.
l: M (M is Zn, Ni, Ti, Fe, Sn, Co, Z
r, Ce, Si).
A catalyst for decomposing fluorine-containing compounds, which is 0 to 99 mol% and M is 50 to 1 mol%.
【請求項11】請求項10に記載の触媒において、更に
Sを0.1 〜20重量%含むことを特徴とするフッ素含
有化合物の分解処理用触媒。
11. The catalyst according to claim 10, further comprising 0.1 to 20% by weight of S.
【請求項12】請求項10に記載の触媒において、前記
各成分が各成分単独の酸化物或いはAlと他の成分との
複合酸化物の状態で存在することを特徴とするフッ素含
有化合物の分解処理用触媒。
12. The decomposition of a fluorine-containing compound according to claim 10, wherein each of the components is present in the form of an oxide of each component alone or a composite oxide of Al and other components. Processing catalyst.
【請求項13】請求項10に記載の触媒において、Al
とPtからなり、Ptを0.1 〜2重量%含むことを特
徴とするフッ素含有化合物の分解処理用触媒。
13. The catalyst according to claim 10, wherein
And Pt, wherein Pt is contained in an amount of 0.1 to 2% by weight.
【請求項14】Alを含んでなる触媒を充填した反応器
と、該反応器で処理されるフッ素と炭素,硫黄,窒素の
1つとの化合物を含むガス流に水蒸気を添加する水添加
器と、該反応器に充填された触媒及び該反応器に導入さ
れるフッ素化合物含有ガス流の少なくとも一方をフッ素
化合物が加水分解しうる温度まで加熱するための加熱手
段とを備えたことを特徴とするフッ素含有化合物の分解
処理装置。
14. A reactor filled with a catalyst comprising Al, and a water adder for adding steam to a gas stream containing a compound of fluorine and one of carbon, sulfur and nitrogen to be treated in the reactor. And heating means for heating at least one of the catalyst filled in the reactor and the fluorine compound-containing gas stream introduced into the reactor to a temperature at which the fluorine compound can be hydrolyzed. Decomposition equipment for fluorine-containing compounds.
【請求項15】請求項14に記載の装置において、前記
反応器の後段に該反応器より排出されたガス流を水で洗
浄するための排ガス洗浄槽を備えたことを特徴とするフ
ッ素含有化合物の分解処理装置。
15. The fluorine-containing compound according to claim 14, further comprising an exhaust gas washing tank for washing a gas stream discharged from the reactor with water at a stage subsequent to the reactor. Decomposition equipment.
JP2001016496A 1997-06-20 2001-01-25 Decomposition treating method of fluorine-containing compound, catalyst and decomposition treating device Pending JP2001232152A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006100427A1 (en) * 2005-03-24 2006-09-28 Edwards Limited Apparatus for treating a gas stream
CN114950339A (en) * 2022-05-27 2022-08-30 常州诚鉺正环保技术有限公司 Adsorbent for fluorine-containing gas and preparation method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0365218A (en) * 1989-08-04 1991-03-20 Asahi Glass Co Ltd Removal of harmful effect from nitrogen trifluoride
JPH0649086B2 (en) * 1989-08-05 1994-06-29 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 Catalytic decomposition of chlorofluoroalkanes
JPH10286439A (en) * 1997-04-15 1998-10-27 Ube Ind Ltd Decomposing method of fluorine-containing compound

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0365218A (en) * 1989-08-04 1991-03-20 Asahi Glass Co Ltd Removal of harmful effect from nitrogen trifluoride
JPH0649086B2 (en) * 1989-08-05 1994-06-29 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 Catalytic decomposition of chlorofluoroalkanes
JPH10286439A (en) * 1997-04-15 1998-10-27 Ube Ind Ltd Decomposing method of fluorine-containing compound

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006100427A1 (en) * 2005-03-24 2006-09-28 Edwards Limited Apparatus for treating a gas stream
US7824637B2 (en) * 2005-03-24 2010-11-02 Edwards Limited Apparatus for treating a gas stream
US9061242B2 (en) * 2005-03-24 2015-06-23 Edwards Limited Apparatus for treating a gas stream
CN114950339A (en) * 2022-05-27 2022-08-30 常州诚鉺正环保技术有限公司 Adsorbent for fluorine-containing gas and preparation method thereof

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