JP2001227916A - 膜厚測定方法および干渉膜厚測定装置 - Google Patents
膜厚測定方法および干渉膜厚測定装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜の屈折率に分散性がある場合に、膜厚を正
確に測定することができる膜厚測定方法、および膜厚を
正確に測定することができる干渉膜厚測定装置を得る。 【解決手段】 干渉膜厚測定装置１０は白色光源１２を
含み、白色光源１２から試料膜１６に光を照射する。試
料膜１６で反射した光をビームスプリッタ１４で分光器
１８に導き、単色化するとともに、受光器２０で電気信
号に変換する。分光器１８および受光器２０の出力をデ
ータ処理用コンピュータ２２で処理し、試料膜の膜厚を
算出する。膜厚の算出は、膜の屈折率の分散性を考慮し
た所定の算出式を用いることにより行う。
確に測定することができる膜厚測定方法、および膜厚を
正確に測定することができる干渉膜厚測定装置を得る。 【解決手段】 干渉膜厚測定装置１０は白色光源１２を
含み、白色光源１２から試料膜１６に光を照射する。試
料膜１６で反射した光をビームスプリッタ１４で分光器
１８に導き、単色化するとともに、受光器２０で電気信
号に変換する。分光器１８および受光器２０の出力をデ
ータ処理用コンピュータ２２で処理し、試料膜の膜厚を
算出する。膜厚の算出は、膜の屈折率の分散性を考慮し
た所定の算出式を用いることにより行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は膜厚測定方法およ
び干渉膜厚測定装置に関し、特にたとえば、膜の屈折率
に分散性がある場合における膜厚測定方法、および膜厚
を測定するための干渉膜厚測定装置に関する。
び干渉膜厚測定装置に関し、特にたとえば、膜の屈折率
に分散性がある場合における膜厚測定方法、および膜厚
を測定するための干渉膜厚測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、薄膜の膜厚を測定するため
に、さまざまな方法が提案されてきた。なかでも、干渉
膜厚測定装置は、簡単な装置により膜厚を測定すること
が可能であり、広く用いられているものの一つである。
この方法では、測定試料に白色のプローブ光を照射し、
反射光の波長の逆数に比例する波数に対する分光曲線を
フーリエ変換することにより、膜厚を求めている。
に、さまざまな方法が提案されてきた。なかでも、干渉
膜厚測定装置は、簡単な装置により膜厚を測定すること
が可能であり、広く用いられているものの一つである。
この方法では、測定試料に白色のプローブ光を照射し、
反射光の波長の逆数に比例する波数に対する分光曲線を
フーリエ変換することにより、膜厚を求めている。
【０００３】この場合、たとえばハロゲンランプなどの
白色光源を用いて、試料膜に光が照射される。そして、
試料膜で反射した光が分光器で単色化され、受光器で検
出されて電気信号に変換される。分光器および受光器は
データ処理用コンピュータに接続され、ある波長λにお
ける反射率Ｒが測定される。波長λを変化させることに
より、たとえば図３に示すように、反射光の分光特性が
わかる。図３において、横軸は波数ｋ＝２π／λであ
り、縦軸は反射率Ｒである。膜による等厚反射が生じる
結果、図３に示すように、反射率は波数に対して振動す
る。膜による屈折率に分散性（屈折率が波長あるいは波
数によって異なること）がない場合、この振動は完全に
周期的になり、反射率が極大になる条件または極小にな
る条件を考慮することで、数式９となる。
白色光源を用いて、試料膜に光が照射される。そして、
試料膜で反射した光が分光器で単色化され、受光器で検
出されて電気信号に変換される。分光器および受光器は
データ処理用コンピュータに接続され、ある波長λにお
ける反射率Ｒが測定される。波長λを変化させることに
より、たとえば図３に示すように、反射光の分光特性が
わかる。図３において、横軸は波数ｋ＝２π／λであ
り、縦軸は反射率Ｒである。膜による等厚反射が生じる
結果、図３に示すように、反射率は波数に対して振動す
る。膜による屈折率に分散性（屈折率が波長あるいは波
数によって異なること）がない場合、この振動は完全に
周期的になり、反射率が極大になる条件または極小にな
る条件を考慮することで、数式９となる。
【０００４】
【数９】
【０００５】数式９において、ｎf は膜の屈折率、ｄは
膜厚、ｆは振動する反射光の分光曲線の周波数である。
したがって、図３に示す反射率の分光曲線をフーリエ変
換すると、図４のようになる。ただし、図４において、
横軸はｆではなく、定数倍してｆπとした。これは、数
式９によれば、光学膜厚（屈折率と膜厚とをかけたも
の）の次元を持つ。したがって、図４は光学膜厚スペク
トルと呼べるものであり、縦軸の振幅強度がピークとな
る横軸の位置が、膜の光学膜厚を与える。ピーク位置
は、コンピュータのピークサーチにより容易に検出する
ことができる。このようにして得られた光学膜厚を既知
の膜の屈折率ｎf で割れば、膜厚を知ることができる。
膜厚、ｆは振動する反射光の分光曲線の周波数である。
したがって、図３に示す反射率の分光曲線をフーリエ変
換すると、図４のようになる。ただし、図４において、
横軸はｆではなく、定数倍してｆπとした。これは、数
式９によれば、光学膜厚（屈折率と膜厚とをかけたも
の）の次元を持つ。したがって、図４は光学膜厚スペク
トルと呼べるものであり、縦軸の振幅強度がピークとな
る横軸の位置が、膜の光学膜厚を与える。ピーク位置
は、コンピュータのピークサーチにより容易に検出する
ことができる。このようにして得られた光学膜厚を既知
の膜の屈折率ｎf で割れば、膜厚を知ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、膜の屈
折率に分散性がある場合、数式９は成り立たないことが
わかった。そのため、膜の屈折率に分散性がある場合、
従来の干渉膜厚測定装置では、膜厚を正確に測定するこ
とができない。
折率に分散性がある場合、数式９は成り立たないことが
わかった。そのため、膜の屈折率に分散性がある場合、
従来の干渉膜厚測定装置では、膜厚を正確に測定するこ
とができない。
【０００７】それゆえに、この発明の主たる目的は、膜
の屈折率に分散性がある場合に、膜厚を正確に測定する
ことができる膜厚測定方法、および膜厚を正確に測定す
ることができる干渉膜厚測定装置を提供することであ
る。
の屈折率に分散性がある場合に、膜厚を正確に測定する
ことができる膜厚測定方法、および膜厚を正確に測定す
ることができる干渉膜厚測定装置を提供することであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、屈折率の分
散性を有する膜の膜厚測定方法であって、膜に光を照射
する工程と、膜で反射した光から分光特性を測定する工
程と、分光特性から膜の膜厚を算出する工程とを含み、
膜の膜厚をｄ、膜の屈折率をｎf 、膜へ光が入射する側
の媒質の屈折率をｎ0 、膜から透過光が出射する側の媒
質の屈折率をｎ 2 、振動する反射光の分光曲線の周波数
をｆ、光の波長がλであるときに２π／λで表される波
数をｋとしたとき、次の数式１０（数式１０において、
ｄθ／ｄｋは数式１１で表され、数式１１において、α
は数式１２、βは数式１３で表される）から膜厚ｄを求
めることを特徴とする、膜厚測定方法である。
散性を有する膜の膜厚測定方法であって、膜に光を照射
する工程と、膜で反射した光から分光特性を測定する工
程と、分光特性から膜の膜厚を算出する工程とを含み、
膜の膜厚をｄ、膜の屈折率をｎf 、膜へ光が入射する側
の媒質の屈折率をｎ0 、膜から透過光が出射する側の媒
質の屈折率をｎ 2 、振動する反射光の分光曲線の周波数
をｆ、光の波長がλであるときに２π／λで表される波
数をｋとしたとき、次の数式１０（数式１０において、
ｄθ／ｄｋは数式１１で表され、数式１１において、α
は数式１２、βは数式１３で表される）から膜厚ｄを求
めることを特徴とする、膜厚測定方法である。
【数１０】
【数１１】
【数１２】
【数１３】 また、この発明は、屈折率の分散性を有する膜の膜厚を
測定するための干渉膜厚測定装置であって、膜に光を照
射するための光源と、光源から照射された光が膜で反射
することにより得られた反射光を単色化するための分光
器と、分光器によって単色化された光を電気信号に変換
するための受光器と、分光器および受光器の出力から膜
の膜厚を算出するための処理装置とを含み、膜の膜厚を
ｄ、膜の屈折率をｎf 、膜へ光が入射する側の媒質の屈
折率をｎ0 、膜から透過光が出射する側の媒質の屈折率
をｎ2 、振動する反射光の分光曲線の周波数をｆ、光の
波長がλであるときに２π／λで表される波数をｋとし
たとき、処理装置によって、次の数式１４（数式１４に
おいて、ｄθ／ｄｋは数式１５で表され、数式１５にお
いて、αは数式１６、βは数式１７で表される）から膜
厚ｄが求められることを特徴とする、干渉膜厚測定装置
である。
測定するための干渉膜厚測定装置であって、膜に光を照
射するための光源と、光源から照射された光が膜で反射
することにより得られた反射光を単色化するための分光
器と、分光器によって単色化された光を電気信号に変換
するための受光器と、分光器および受光器の出力から膜
の膜厚を算出するための処理装置とを含み、膜の膜厚を
ｄ、膜の屈折率をｎf 、膜へ光が入射する側の媒質の屈
折率をｎ0 、膜から透過光が出射する側の媒質の屈折率
をｎ2 、振動する反射光の分光曲線の周波数をｆ、光の
波長がλであるときに２π／λで表される波数をｋとし
たとき、処理装置によって、次の数式１４（数式１４に
おいて、ｄθ／ｄｋは数式１５で表され、数式１５にお
いて、αは数式１６、βは数式１７で表される）から膜
厚ｄが求められることを特徴とする、干渉膜厚測定装置
である。
【数１４】
【数１５】
【数１６】
【数１７】
【０００９】膜の屈折率に分散性がある場合、反射光か
ら得られる分光曲線は完全に周期的とはならず、概周期
的となる。このとき、従来の方法では正確な膜厚を得る
ことができず、補正を行う必要がある。このような補正
の方法として、数式１０あるいは数式１４を用いること
により、正確な膜厚を得ることができる。
ら得られる分光曲線は完全に周期的とはならず、概周期
的となる。このとき、従来の方法では正確な膜厚を得る
ことができず、補正を行う必要がある。このような補正
の方法として、数式１０あるいは数式１４を用いること
により、正確な膜厚を得ることができる。
【００１０】この発明の上述の目的，その他の目的，特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明の実施
の形態の詳細な説明から一層明らかとなろう。
徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明の実施
の形態の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は、この発明の方法を用いて
膜厚を測定するための干渉膜厚測定装置の一例を示す図
解図である。干渉膜厚測定装置１０は、白色光源１２を
含む。白色光源１２としては、通常ハロゲンランプなど
が用いられるが、必ずしもこれに限られるものではな
い。白色光源１２から発射された光は、ビームスプリッ
タ１４を透過して、試料膜１６に垂直入射し、試料膜１
６で反射した光は、ビームスプリッタ１４で反射され
る。そして、分光器１８で単色化され、受光器２０で電
気信号に変換される。分光器１８および受光器２０は、
処理装置としてのデータ処理用コンピュータ２２に接続
され、ある波長λにおける反射率Ｒが測定される。そし
て、波長λを変化させることによって、反射光の分光特
性がわかり、データ処理用コンピュータ２２で数学的に
処理することにより、試料膜１６の膜厚を求めることが
できる。
膜厚を測定するための干渉膜厚測定装置の一例を示す図
解図である。干渉膜厚測定装置１０は、白色光源１２を
含む。白色光源１２としては、通常ハロゲンランプなど
が用いられるが、必ずしもこれに限られるものではな
い。白色光源１２から発射された光は、ビームスプリッ
タ１４を透過して、試料膜１６に垂直入射し、試料膜１
６で反射した光は、ビームスプリッタ１４で反射され
る。そして、分光器１８で単色化され、受光器２０で電
気信号に変換される。分光器１８および受光器２０は、
処理装置としてのデータ処理用コンピュータ２２に接続
され、ある波長λにおける反射率Ｒが測定される。そし
て、波長λを変化させることによって、反射光の分光特
性がわかり、データ処理用コンピュータ２２で数学的に
処理することにより、試料膜１６の膜厚を求めることが
できる。
【００１２】なお、分光器１８は、試料膜１６への入射
光の光路中である白色光源１２とビームスプリッタ１４
との間におき、ビームスプリッタ１４を透過してきた反
射光を測定してもよい。また、図１では、光は自由区間
中を伝播するように描いたが、測定試料膜の直近まで光
ファイバなどの導波路中を導波するようにしてもよい。
現実には、測定試料膜上で光プローブが広がりすぎない
ように、レンズなどで集光することが多いが、光プロー
ブのビーム径に比べて極端に焦点距離の短いレンズを用
いると、垂直入射とはみなせなくなり、測定結果に大き
い誤差を含むことになるので注意を要する。
光の光路中である白色光源１２とビームスプリッタ１４
との間におき、ビームスプリッタ１４を透過してきた反
射光を測定してもよい。また、図１では、光は自由区間
中を伝播するように描いたが、測定試料膜の直近まで光
ファイバなどの導波路中を導波するようにしてもよい。
現実には、測定試料膜上で光プローブが広がりすぎない
ように、レンズなどで集光することが多いが、光プロー
ブのビーム径に比べて極端に焦点距離の短いレンズを用
いると、垂直入射とはみなせなくなり、測定結果に大き
い誤差を含むことになるので注意を要する。
【００１３】図１に示す干渉膜厚測定装置１０により試
料膜１６からの反射光を測定することにより、分光特性
を得ることができる。試料膜１６の屈折率に分散性がな
い場合、図３に示すように、分光特性の振動は完全に周
期的となり、フーリエ変換することにより、数式９と図
４に示すような光学膜厚スペクトルとから、正確な膜厚
を測定することができる。しかしながら、試料膜１６の
屈折率に分散性がある場合、正確な膜厚を得ることはで
きず、鋭意検討した結果、数式９は次のような数式１８
に示すように書き直されるべきであることがわかった。
料膜１６からの反射光を測定することにより、分光特性
を得ることができる。試料膜１６の屈折率に分散性がな
い場合、図３に示すように、分光特性の振動は完全に周
期的となり、フーリエ変換することにより、数式９と図
４に示すような光学膜厚スペクトルとから、正確な膜厚
を測定することができる。しかしながら、試料膜１６の
屈折率に分散性がある場合、正確な膜厚を得ることはで
きず、鋭意検討した結果、数式９は次のような数式１８
に示すように書き直されるべきであることがわかった。
【００１４】
【数１８】
【００１５】数式１８において、ｎf は試料膜１６の屈
折率、ｄは試料膜１６の膜厚、ｆは振動する反射光の分
光曲線の周波数である。なお、反射光の分光曲線をフー
リエ変換できるためには、少なくとも分光曲線はその概
周期性が明らかな程度に振動していなければならない。
そのため、極端に薄い膜厚をフーリエ変換による方法で
求めることは、従来の技術および本願発明の方法のいず
れによってもできないことは、あらかじめ知っておく必
要がある。
折率、ｄは試料膜１６の膜厚、ｆは振動する反射光の分
光曲線の周波数である。なお、反射光の分光曲線をフー
リエ変換できるためには、少なくとも分光曲線はその概
周期性が明らかな程度に振動していなければならない。
そのため、極端に薄い膜厚をフーリエ変換による方法で
求めることは、従来の技術および本願発明の方法のいず
れによってもできないことは、あらかじめ知っておく必
要がある。
【００１６】数式１８はｄについての２次方程式であ
り、これを解いてｎf を乗じると、光学膜厚スペクトル
のピーク位置ｆπを用いて、光学膜厚ｎf ｄを次の数式
１９で表すことができる。
り、これを解いてｎf を乗じると、光学膜厚スペクトル
のピーク位置ｆπを用いて、光学膜厚ｎf ｄを次の数式
１９で表すことができる。
【００１７】
【数１９】
【００１８】なお、数式１９において、ｄθ／ｄｋは数
式２０で表される。また、数式２０において、αは数式
２１で表され、βは数式２２で表される。
式２０で表される。また、数式２０において、αは数式
２１で表され、βは数式２２で表される。
【００１９】
【数２０】
【００２０】
【数２１】
【００２１】
【数２２】
【００２２】ここで、図２に示すように、ｎ0 は試料膜
１６へ光が入射する側の媒質の屈折率、ｎ2 は試料膜１
６から透過光が出射する側の媒質の屈折率である。した
がって、数式１９から、試料膜１６の膜厚ｄを得ること
ができる。
１６へ光が入射する側の媒質の屈折率、ｎ2 は試料膜１
６から透過光が出射する側の媒質の屈折率である。した
がって、数式１９から、試料膜１６の膜厚ｄを得ること
ができる。
【００２３】
【実施例】（実施例１）まず、理論的な数値計算を行っ
た。ここでは、可視域〜近赤外域にかけて屈折率の分散
性の大きい材料であるＹＩＧ（イットリウム・鉄・ガー
ネット）膜の膜厚について計算した。なお、ＹＩＧ膜
は、ＧＧＧ（ガドリニウム・ガリウム・ガーネット）基
板上に形成されている。屈折率の波数分散性をあらわす
のに、セルマイヤーの式がよく用いられる。セルマイヤ
ーの式は、数式２３で表され、数式２３において、ｑ1
＝３．７３９、λ1 ＝０．２８μｍ、ｑ2 ＝０．７９、
λ2＝１０．０μｍである（Huber: Landort-Bernstein
4 p.345）。以下の数値計算において、ＹＩＧ膜の屈折
率の値としてこれを用いる。また、ｎ0 ＝１（空気）、
ｎ2 ＝１．９３（ＧＧＧ基板）で、波長によらず一定と
した。
た。ここでは、可視域〜近赤外域にかけて屈折率の分散
性の大きい材料であるＹＩＧ（イットリウム・鉄・ガー
ネット）膜の膜厚について計算した。なお、ＹＩＧ膜
は、ＧＧＧ（ガドリニウム・ガリウム・ガーネット）基
板上に形成されている。屈折率の波数分散性をあらわす
のに、セルマイヤーの式がよく用いられる。セルマイヤ
ーの式は、数式２３で表され、数式２３において、ｑ1
＝３．７３９、λ1 ＝０．２８μｍ、ｑ2 ＝０．７９、
λ2＝１０．０μｍである（Huber: Landort-Bernstein
4 p.345）。以下の数値計算において、ＹＩＧ膜の屈折
率の値としてこれを用いる。また、ｎ0 ＝１（空気）、
ｎ2 ＝１．９３（ＧＧＧ基板）で、波長によらず一定と
した。
【００２４】
【数２３】
【００２５】数式２３によれば、波長８００ｎｍにおい
て、ＹＩＧ膜の屈折率は２．２９３である。膜厚が１μ
ｍと仮定すると、波長８００ｎｍにおけるＹＩＧ膜の屈
折率ｎf やｄｎf ／ｄｋ、ｄ2 ｎf ／ｄｋ2 を用いて数
式１８により、ｆπ＝２．５７７μｍが得られる。すな
わち、図４に示す光学膜厚スペクトルのｆπ＝２．５７
７μｍの位置にピークが生じる。そして、数式１９〜数
式２２により膜厚ｄを計算すると、仮定どおり１μｍの
膜厚が得られる。それに対して、従来の技術のように、
ｆπ＝２．５７７μｍを波長８００ｎｍにおけるＹＩＧ
膜の屈折率２．２９３で割ると、膜厚ｄは１．１２４μ
ｍとなり、仮定した膜厚よりも１０％以上も厚く見積も
られてしまう。
て、ＹＩＧ膜の屈折率は２．２９３である。膜厚が１μ
ｍと仮定すると、波長８００ｎｍにおけるＹＩＧ膜の屈
折率ｎf やｄｎf ／ｄｋ、ｄ2 ｎf ／ｄｋ2 を用いて数
式１８により、ｆπ＝２．５７７μｍが得られる。すな
わち、図４に示す光学膜厚スペクトルのｆπ＝２．５７
７μｍの位置にピークが生じる。そして、数式１９〜数
式２２により膜厚ｄを計算すると、仮定どおり１μｍの
膜厚が得られる。それに対して、従来の技術のように、
ｆπ＝２．５７７μｍを波長８００ｎｍにおけるＹＩＧ
膜の屈折率２．２９３で割ると、膜厚ｄは１．１２４μ
ｍとなり、仮定した膜厚よりも１０％以上も厚く見積も
られてしまう。
【００２６】（実施例２）次に、実際に干渉膜厚装置を
用いて測定を行った。使用したのは、ドイツのカール・
ツァイス・イエナ社のＴＰ−ＳＤＭシリーズである。測
定したのは、ＧＧＧ基板上に形成された膜厚１０．６μ
ｍのＹＩＧ膜である。なお、この膜厚は断面をＳＥＭで
観察することにより求めた。干渉膜厚装置による測定時
の波長範囲は、７００〜９００ｎｍとした。
用いて測定を行った。使用したのは、ドイツのカール・
ツァイス・イエナ社のＴＰ−ＳＤＭシリーズである。測
定したのは、ＧＧＧ基板上に形成された膜厚１０．６μ
ｍのＹＩＧ膜である。なお、この膜厚は断面をＳＥＭで
観察することにより求めた。干渉膜厚装置による測定時
の波長範囲は、７００〜９００ｎｍとした。
【００２７】従来の技術による測定では、膜の屈折率と
して８００ｎｍにおけるセルマイヤーの式による値２．
２９３を採用したところ、膜厚は１１．６８μｍとな
り、ＳＥＭによる実測値より約１１％大きい結果となっ
た。それに対して、波長８００ｎｍにおけるセルマイヤ
ーの式に基づいたＹＩＧ膜の屈折率ｎf やｄｎf ／ｄ
ｋ、ｄ2 ｎf ／ｄｋ2 を用いて数式１９〜数式２２によ
り膜厚を求めたところ、１０．４６μｍとなり、ＳＥＭ
による実測値より約１．３％小さい結果が得られた。こ
れは、この発明による測定値は従来技術による測定値よ
りも、得られる膜厚の誤差が小さく、より正確な測定が
行えることを示している。
して８００ｎｍにおけるセルマイヤーの式による値２．
２９３を採用したところ、膜厚は１１．６８μｍとな
り、ＳＥＭによる実測値より約１１％大きい結果となっ
た。それに対して、波長８００ｎｍにおけるセルマイヤ
ーの式に基づいたＹＩＧ膜の屈折率ｎf やｄｎf ／ｄ
ｋ、ｄ2 ｎf ／ｄｋ2 を用いて数式１９〜数式２２によ
り膜厚を求めたところ、１０．４６μｍとなり、ＳＥＭ
による実測値より約１．３％小さい結果が得られた。こ
れは、この発明による測定値は従来技術による測定値よ
りも、得られる膜厚の誤差が小さく、より正確な測定が
行えることを示している。
【００２８】
【発明の効果】この発明によれば、屈折率の分散性を有
する膜について、正確に膜厚を測定することができる。
する膜について、正確に膜厚を測定することができる。
【図１】この発明の干渉膜厚測定装置の一例を示す図解
図である。
図である。
【図２】試料膜とその周囲の屈折率および光との関係を
示す図解図である。
示す図解図である。
【図３】膜で反射した光から得られる分光特性を示す特
性図である。
性図である。
【図４】図３に示す分光特性から得られる光学膜厚スペ
クトルを示す特性図である。
クトルを示す特性図である。
１０ 干渉膜厚測定装置 １２ 白色光源 １４ ビームスプリッタ １６ 試料膜 １８ 分光器 ２０ 受光器 ２２ データ処理用コンピュータ
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F064 AA00 CC10 EE08 FF03 FF07 GG00 HH01 HH05 JJ04 JJ15 KK04 2F065 AA30 BB00 CC31 DD00 FF51 GG02 GG24 JJ01 LL00 LL46 NN06 UU05
Claims (2)
- 【請求項１】 屈折率の分散性を有する膜の膜厚測定方
法であって、 前記膜に光を照射する工程、 前記膜で反射した光から分光特性を測定する工程、およ
び前記分光特性から前記膜の膜厚を算出する工程を含
み、 前記膜の膜厚をｄ、前記膜の屈折率をｎf 、前記膜へ光
が入射する側の媒質の屈折率をｎ0 、前記膜から透過光
が出射する側の媒質の屈折率をｎ2 、振動する反射光の
分光曲線の周波数をｆ、光の波長がλであるときに２π
／λで表される波数をｋとしたとき、次の数式１（数式
１において、ｄθ／ｄｋは数式２で表され、数式２にお
いて、αは数式３、βは数式４で表される）から膜厚ｄ
を求めることを特徴とする、膜厚測定方法。 【数１】 【数２】 【数３】 【数４】 - 【請求項２】 屈折率の分散性を有する膜の膜厚を測定
するための干渉膜厚測定装置であって、 前記膜に光を照射するための光源、 前記光源から照射された光が前記膜で反射することによ
り得られた反射光を単色化するための分光器、 前記分光器によって単色化された光を電気信号に変換す
るための受光器、および前記分光器および前記受光器の
出力から前記膜の膜厚を算出するための処理装置を含
み、 前記膜の膜厚をｄ、前記膜の屈折率をｎf 、前記膜へ光
が入射する側の媒質の屈折率をｎ0 、前記膜から透過光
が出射する側の媒質の屈折率をｎ2 、振動する反射光の
分光曲線の周波数をｆ、光の波長がλであるときに２π
／λで表される波数をｋとしたとき、前記処理装置によ
って、次の数式５（数式５において、ｄθ／ｄｋは数式
６で表され、数式６において、αは数式７、βは数式８
で表される）から膜厚ｄが求められることを特徴とす
る、干渉膜厚測定装置。 【数５】 【数６】 【数７】 【数８】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000039855A JP2001227916A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 膜厚測定方法および干渉膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000039855A JP2001227916A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 膜厚測定方法および干渉膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001227916A true JP2001227916A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18563358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000039855A Pending JP2001227916A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 膜厚測定方法および干渉膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001227916A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008039789A (ja) * | 2003-06-20 | 2008-02-21 | Lg Electron Inc | 光ディスクの厚さ測定方法 |
| JP2010002328A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Otsuka Denshi Co Ltd | 膜厚測定装置 |
| KR100983288B1 (ko) | 2009-07-28 | 2010-09-24 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크의 두께 측정 방법 |
-
2000
- 2000-02-17 JP JP2000039855A patent/JP2001227916A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008039789A (ja) * | 2003-06-20 | 2008-02-21 | Lg Electron Inc | 光ディスクの厚さ測定方法 |
| JP2010002328A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Otsuka Denshi Co Ltd | 膜厚測定装置 |
| KR100983288B1 (ko) | 2009-07-28 | 2010-09-24 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크의 두께 측정 방법 |
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