JP2001209921A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JP2001209921A JP2001209921A JP2000017140A JP2000017140A JP2001209921A JP 2001209921 A JP2001209921 A JP 2001209921A JP 2000017140 A JP2000017140 A JP 2000017140A JP 2000017140 A JP2000017140 A JP 2000017140A JP 2001209921 A JP2001209921 A JP 2001209921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic layer
- layer
- medium
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】非晶質磁性層を備え、磁気ヘッドで情報の記録
・再生が可能な、低ノイズ，高面記録密度の磁気記録媒
体を提供する。 【解決手段】非磁性基板１上に遷移金属希土類合金から
なり保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶質磁性薄膜の磁性層
２を備えてなる磁気記録媒体。
・再生が可能な、低ノイズ，高面記録密度の磁気記録媒
体を提供する。 【解決手段】非磁性基板１上に遷移金属希土類合金から
なり保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶質磁性薄膜の磁性層
２を備えてなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、磁気ヘッドで情
報の記録・再生を行うことが可能で、しかも高面記録密
度，低ノイズの垂直磁気記録媒体に関する。
報の記録・再生を行うことが可能で、しかも高面記録密
度，低ノイズの垂直磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピューターなどの記憶装置として用
いられる固定磁気ディスク装置やフロッピイディスク装
置では、磁気記録媒体に磁気ヘッドで磁区を書き込み，
読み出すことにより情報の記録・再生を行っている。書
き込みには電磁誘導を利用した薄膜磁気ヘッドなどが用
いられ、読み出しには薄膜磁気ヘッドあるいは磁気抵抗
効果を用いたＭＲヘッドなどが用いられている。磁気記
録媒体（以下、単に媒体とも称する）は、アルミニウム
合金，ガラス，プラスチックなどの非磁性材料からなる
基板上に薄膜の磁性層をスパッタ法あるいは塗布法など
により成膜した層構成を基本とする。
いられる固定磁気ディスク装置やフロッピイディスク装
置では、磁気記録媒体に磁気ヘッドで磁区を書き込み，
読み出すことにより情報の記録・再生を行っている。書
き込みには電磁誘導を利用した薄膜磁気ヘッドなどが用
いられ、読み出しには薄膜磁気ヘッドあるいは磁気抵抗
効果を用いたＭＲヘッドなどが用いられている。磁気記
録媒体（以下、単に媒体とも称する）は、アルミニウム
合金，ガラス，プラスチックなどの非磁性材料からなる
基板上に薄膜の磁性層をスパッタ法あるいは塗布法など
により成膜した層構成を基本とする。
【０００３】これら記憶装置用の垂直磁気記録媒体とし
ては、磁性層にＣｏ系合金単層を用いたもの、あるいは
下地の軟磁性膜上にＣｏ系合金を積層した二層膜のも
の、あるいはＢａフェライトなどのフェライトを用いた
ものが研究開発されている。これらのＣｏ系合金やフェ
ライトからなる磁性層、あるいはフロッピイディスクで
用いられているその他の磁性層は多結晶の薄膜である。
このため、磁性層中には結晶粒界が存在し、粒界が磁区
の形成，反転に影響を及ぼし、粒界が媒体ノイズ発生の
原因の一つとなっている。
ては、磁性層にＣｏ系合金単層を用いたもの、あるいは
下地の軟磁性膜上にＣｏ系合金を積層した二層膜のも
の、あるいはＢａフェライトなどのフェライトを用いた
ものが研究開発されている。これらのＣｏ系合金やフェ
ライトからなる磁性層、あるいはフロッピイディスクで
用いられているその他の磁性層は多結晶の薄膜である。
このため、磁性層中には結晶粒界が存在し、粒界が磁区
の形成，反転に影響を及ぼし、粒界が媒体ノイズ発生の
原因の一つとなっている。
【０００４】記憶装置は記憶容量を大きくすることが要
請され、そのために、面記録密度を高めることが重要で
ある。面記録密度を高めるためには磁気ヘッドと媒体の
両者を改善していくことが必要であり、媒体では、保磁
力の増大など磁気特性の向上とともに、媒体ノイズを低
減してＳＮ比あるいはエラーレイトを向上させることが
必要である。
請され、そのために、面記録密度を高めることが重要で
ある。面記録密度を高めるためには磁気ヘッドと媒体の
両者を改善していくことが必要であり、媒体では、保磁
力の増大など磁気特性の向上とともに、媒体ノイズを低
減してＳＮ比あるいはエラーレイトを向上させることが
必要である。
【０００５】現在得られている多結晶磁性薄膜を磁性層
とする媒体では、保磁力２ｋＯｅ〜３．５ｋＯｅ程度，
ノイズはＳ／Ｎ比３０ｄＢ程度が限度であり、面記録密
度は１０Ｇｂ／ｉｎ2 程度である。媒体ノイズを低減さ
せるために、Ｃｏ合金結晶粒界にＣｒを偏析させたり、
Ｃｏ合金などの結晶粒径を小さくすることが行われてい
るが、従来のレベル以上のＣｒ偏析，Ｃｏ合金などの結
晶粒径の低減は困難となっている。
とする媒体では、保磁力２ｋＯｅ〜３．５ｋＯｅ程度，
ノイズはＳ／Ｎ比３０ｄＢ程度が限度であり、面記録密
度は１０Ｇｂ／ｉｎ2 程度である。媒体ノイズを低減さ
せるために、Ｃｏ合金結晶粒界にＣｒを偏析させたり、
Ｃｏ合金などの結晶粒径を小さくすることが行われてい
るが、従来のレベル以上のＣｒ偏析，Ｃｏ合金などの結
晶粒径の低減は困難となっている。
【０００６】ノイズ対策として、磁性層に非晶質磁性体
を用いることが提案されている。非晶質磁性層は現在光
磁気の分野で用いられているが、通常、保磁力が１０ｋ
Ｏｅを超えて大きく、保磁力の向上自体は望ましいこと
であるが、磁気ヘッドによる磁区の書き込みは困難とな
る。磁性層に非晶質磁性体を用いた媒体に対する情報の
書き込み・読み出しの技術として、光磁気技術と磁気記
録技術の融合技術として、二つの方式が提案されてい
る。一つは、書き込み時に光を照射しながら磁性層の温
度を上げて磁気ヘッドで記録ビットを書き込み、読み出
し時にはＧＭＲヘッドで信号を読み出すもの（Ｈｉｄｅ
ｋｉ Ｓａｇａ ｅｔａｌ．，Ｊ．Ｍａｇｎ．Ｓｏｃ．
Ｊｐｎ．，Ｖｏｌ．２３，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ，Ｎ
ｏ．Ｓ１（１９９９），ｐｐ２２５−２２８）、他の一
つは書き込み時に光を照射しながら、磁性層の温度を上
げて、磁気ヘッドで記録ビットを書き込み、読み出し時
も光を照射しながら、温度を上げて、磁気ヘッドで信号
を読み出すもの（Ｈｉｒｏｙｕｋｉ Ｋａｔａｙａｍａ
ｅｔａｌ．，Ｊ．Ｍａｇｎ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，Ｖｏ
ｌ．２３，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ，Ｎｏ．Ｓ１（１９９
９），ｐｐ２３３−２３６）である。
を用いることが提案されている。非晶質磁性層は現在光
磁気の分野で用いられているが、通常、保磁力が１０ｋ
Ｏｅを超えて大きく、保磁力の向上自体は望ましいこと
であるが、磁気ヘッドによる磁区の書き込みは困難とな
る。磁性層に非晶質磁性体を用いた媒体に対する情報の
書き込み・読み出しの技術として、光磁気技術と磁気記
録技術の融合技術として、二つの方式が提案されてい
る。一つは、書き込み時に光を照射しながら磁性層の温
度を上げて磁気ヘッドで記録ビットを書き込み、読み出
し時にはＧＭＲヘッドで信号を読み出すもの（Ｈｉｄｅ
ｋｉ Ｓａｇａ ｅｔａｌ．，Ｊ．Ｍａｇｎ．Ｓｏｃ．
Ｊｐｎ．，Ｖｏｌ．２３，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ，Ｎ
ｏ．Ｓ１（１９９９），ｐｐ２２５−２２８）、他の一
つは書き込み時に光を照射しながら、磁性層の温度を上
げて、磁気ヘッドで記録ビットを書き込み、読み出し時
も光を照射しながら、温度を上げて、磁気ヘッドで信号
を読み出すもの（Ｈｉｒｏｙｕｋｉ Ｋａｔａｙａｍａ
ｅｔａｌ．，Ｊ．Ｍａｇｎ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，Ｖｏ
ｌ．２３，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ，Ｎｏ．Ｓ１（１９９
９），ｐｐ２３３−２３６）である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな光磁気と磁気記録の融合技術では、光照射用に光ヘ
ッドが必要となり、記憶装置が複雑となるとともに、光
ヘッドが重たいためにアクセスタイムが遅くなるという
問題がある。また、光磁気と磁気記録の融合技術では、
光を照射して磁性層を加熱し磁性層の温度を上げること
により、加熱部分の磁性層の保磁力を下げて磁気ヘッド
で書き込みを行う。加熱しない室温での保磁力は１０ｋ
Ｏｅを超えており、このような大きい保磁力の磁性層
に、加熱なしで磁気ヘッドで書き込みを行うことは、磁
気ヘッドの作る磁場の大きさが弱いために困難である。
読み出しにおいても光照射により加熱したうえで磁気ヘ
ッドで読み出すか、またはＧＭＲを用いる必要がある。
磁気ヘッドによる書き込み・読み出しを行うためには保
磁力を１０ｋＯｅ以下に抑えることが必要である。
うな光磁気と磁気記録の融合技術では、光照射用に光ヘ
ッドが必要となり、記憶装置が複雑となるとともに、光
ヘッドが重たいためにアクセスタイムが遅くなるという
問題がある。また、光磁気と磁気記録の融合技術では、
光を照射して磁性層を加熱し磁性層の温度を上げること
により、加熱部分の磁性層の保磁力を下げて磁気ヘッド
で書き込みを行う。加熱しない室温での保磁力は１０ｋ
Ｏｅを超えており、このような大きい保磁力の磁性層
に、加熱なしで磁気ヘッドで書き込みを行うことは、磁
気ヘッドの作る磁場の大きさが弱いために困難である。
読み出しにおいても光照射により加熱したうえで磁気ヘ
ッドで読み出すか、またはＧＭＲを用いる必要がある。
磁気ヘッドによる書き込み・読み出しを行うためには保
磁力を１０ｋＯｅ以下に抑えることが必要である。
【０００８】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、非晶質磁性層を備えてなる媒体であり、し
かも、光ヘッドによる光照射により温度を上げることな
しに磁気ヘッドで情報の記録・再生が可能な、低ノイ
ズ，高面記録密度の垂直磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
のであって、非晶質磁性層を備えてなる媒体であり、し
かも、光ヘッドによる光照射により温度を上げることな
しに磁気ヘッドで情報の記録・再生が可能な、低ノイ
ズ，高面記録密度の垂直磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、非磁性基板上に遷移金属希土類合金からなり
保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶質磁性薄膜の磁性層を備
えた磁気記録媒体とすることによって解決される。遷移
金属希土類合金からなる非晶質磁性薄膜は遷移金属元素
と希土類元素から構成される。本発明者は、非晶質磁性
薄膜の保磁力が遷移金属元素と希土類元素の組成により
変化することに着目して研究を進め、この発明をなすに
至ったものである。遷移金属元素と希土類合金元素の組
成を適切に選択することにより、保磁力が１０ｋＯｅ以
下の非晶質磁性薄膜を成膜し、この膜を磁性層とするこ
とにより、磁気ヘッドで情報の書き込み・読み出しが可
能な高面記録密度の媒体を得ることが可能となる。
によれば、非磁性基板上に遷移金属希土類合金からなり
保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶質磁性薄膜の磁性層を備
えた磁気記録媒体とすることによって解決される。遷移
金属希土類合金からなる非晶質磁性薄膜は遷移金属元素
と希土類元素から構成される。本発明者は、非晶質磁性
薄膜の保磁力が遷移金属元素と希土類元素の組成により
変化することに着目して研究を進め、この発明をなすに
至ったものである。遷移金属元素と希土類合金元素の組
成を適切に選択することにより、保磁力が１０ｋＯｅ以
下の非晶質磁性薄膜を成膜し、この膜を磁性層とするこ
とにより、磁気ヘッドで情報の書き込み・読み出しが可
能な高面記録密度の媒体を得ることが可能となる。
【００１０】また、磁性層を多結晶磁性体でなく非晶質
磁性体で成膜することにより、結晶粒界に起因するノイ
ズが除去されて低ノイズとなる。媒体の磁性層として好
適な遷移金属希土類合金として、ＴｂＦｅ，ＴｂＣｏ，
ＴｂＦｅＣｏが挙げられる。また、非磁性基板と非晶質
磁性層との間に保護膜を兼ねた下地層を設けることによ
り磁性層の酸化を防ぐとともに、密着力の向上と保磁力
の調整をすることができる。
磁性体で成膜することにより、結晶粒界に起因するノイ
ズが除去されて低ノイズとなる。媒体の磁性層として好
適な遷移金属希土類合金として、ＴｂＦｅ，ＴｂＣｏ，
ＴｂＦｅＣｏが挙げられる。また、非磁性基板と非晶質
磁性層との間に保護膜を兼ねた下地層を設けることによ
り磁性層の酸化を防ぐとともに、密着力の向上と保磁力
の調整をすることができる。
【００１１】さらに、非磁性基板と非晶質磁性層との間
に軟磁性層を設けることにより、媒体の面記録密度をさ
らに高めることができる。さらにまた、非磁性基板と非
晶質磁性層との間に軟磁性層，下地層を順次設けること
によって、軟磁性層，下地層それぞれの効果を合わせて
得ることも可能である。
に軟磁性層を設けることにより、媒体の面記録密度をさ
らに高めることができる。さらにまた、非磁性基板と非
晶質磁性層との間に軟磁性層，下地層を順次設けること
によって、軟磁性層，下地層それぞれの効果を合わせて
得ることも可能である。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、この発明に係る媒体の層
構成の一例の模式的断面図で、非磁性基板１の上に、非
晶質磁性層２，保護膜３，潤滑層４が順次形成されてな
る。図２，図３，図４は、この発明に係る媒体の層構成
の他のそれぞれ異なる例の模式的断面図で、図２は非磁
性基板１と非晶質磁性層２の間に下地層５が設けられた
層構成の媒体、図３は非磁性基板１と非晶質磁性層２の
間に軟磁性層６が設けられた層構成の媒体、図４は非磁
性基板１と非晶質磁性層２の間に軟磁性層６，下地層５
が順次設けられた層構成の媒体を示す。
構成の一例の模式的断面図で、非磁性基板１の上に、非
晶質磁性層２，保護膜３，潤滑層４が順次形成されてな
る。図２，図３，図４は、この発明に係る媒体の層構成
の他のそれぞれ異なる例の模式的断面図で、図２は非磁
性基板１と非晶質磁性層２の間に下地層５が設けられた
層構成の媒体、図３は非磁性基板１と非晶質磁性層２の
間に軟磁性層６が設けられた層構成の媒体、図４は非磁
性基板１と非晶質磁性層２の間に軟磁性層６，下地層５
が順次設けられた層構成の媒体を示す。
【００１３】非磁性基板としては、アルミニウム系合金
からなる板の上にＮｉＰ層を形成したＡｌ／ＮｉＰ，ガ
ラス，プラスチックなどが用いられる。このような非磁
性基板の上に遷移金属希土類合金を、例えばスパッタ法
で成膜して、膜厚３０ｎｍ〜１００ｎｍの非晶質磁性層
を設ける。遷移金属希土類合金としては、ＴｂＦｅ，Ｔ
ｂＣｏ，ＴｂＦｅＣｏなどか挙げられる。これらの合金
の組成を適宜選択することにより、非晶質磁性層の保磁
力を１０ｋＯｅ以下とすることができる。
からなる板の上にＮｉＰ層を形成したＡｌ／ＮｉＰ，ガ
ラス，プラスチックなどが用いられる。このような非磁
性基板の上に遷移金属希土類合金を、例えばスパッタ法
で成膜して、膜厚３０ｎｍ〜１００ｎｍの非晶質磁性層
を設ける。遷移金属希土類合金としては、ＴｂＦｅ，Ｔ
ｂＣｏ，ＴｂＦｅＣｏなどか挙げられる。これらの合金
の組成を適宜選択することにより、非晶質磁性層の保磁
力を１０ｋＯｅ以下とすることができる。
【００１４】この非晶質磁性層上に、磁性層の保護膜
を、例えばスパッタ法で成膜する。保護膜の材料として
は、非晶質カーボンやＳｉＯ2 ，ＳｉＯＮ，ＳｉＮ，Ｓ
ｉＯX，ＳｉＮX ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＡｌＯＮ，ＡｌＮ，Ａ
ｌＯX ，ＡｌＮX などのセラミックスが用いられる。保
護膜の膜厚は５ｎｍ〜１５ｎｍとされる。続いてこの保
護膜上に、潤滑剤を塗布して膜厚約２ｎｍの潤滑層を設
けて図１に示した層構成の媒体とする。
を、例えばスパッタ法で成膜する。保護膜の材料として
は、非晶質カーボンやＳｉＯ2 ，ＳｉＯＮ，ＳｉＮ，Ｓ
ｉＯX，ＳｉＮX ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＡｌＯＮ，ＡｌＮ，Ａ
ｌＯX ，ＡｌＮX などのセラミックスが用いられる。保
護膜の膜厚は５ｎｍ〜１５ｎｍとされる。続いてこの保
護膜上に、潤滑剤を塗布して膜厚約２ｎｍの潤滑層を設
けて図１に示した層構成の媒体とする。
【００１５】非磁性基板と非晶質磁性層との間に保護膜
を兼ねた下地層を設け、非晶質磁性層の酸化を防ぐとと
もに密着力の向上と保磁力の調整をすることができる。
下地層の材料としては、非晶質カーボンやＳｉＯ2 ，Ｓ
ｉＯＮ，ＳｉＮ，ＳｉＯX ，ＳｉＮX ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ａ
ｌＯＮ，ＡｌＮ，ＡｌＯX ，ＡｌＮX などのセラミック
ス、あるいはＣｒ，Ｔｉなどの非磁性金属が挙げられ
る。下地層の膜厚は２０ｎｍ程度とされる。
を兼ねた下地層を設け、非晶質磁性層の酸化を防ぐとと
もに密着力の向上と保磁力の調整をすることができる。
下地層の材料としては、非晶質カーボンやＳｉＯ2 ，Ｓ
ｉＯＮ，ＳｉＮ，ＳｉＯX ，ＳｉＮX ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ａ
ｌＯＮ，ＡｌＮ，ＡｌＯX ，ＡｌＮX などのセラミック
ス、あるいはＣｒ，Ｔｉなどの非磁性金属が挙げられ
る。下地層の膜厚は２０ｎｍ程度とされる。
【００１６】また、ＮｉＦｅ，ＣｏＺｒＮｂ，ＦｅＳｉ
Ａｌなどからなり、膜厚３０ｎｍ程度の軟磁性層を非磁
性基板と非晶質磁性層の間に設けることにより、面記録
密度を向上させることができる。さらにまた、非磁性基
板と非晶質磁性層との間に、軟磁性層，下地層を順次設
け、軟磁性層，下地層それぞれの効果を同時に得ること
もできる。
Ａｌなどからなり、膜厚３０ｎｍ程度の軟磁性層を非磁
性基板と非晶質磁性層の間に設けることにより、面記録
密度を向上させることができる。さらにまた、非磁性基
板と非晶質磁性層との間に、軟磁性層，下地層を順次設
け、軟磁性層，下地層それぞれの効果を同時に得ること
もできる。
【００１７】
【実施例】以下、この発明の具体的な実施例について説
明する。 実施例１ Ａｌ／ＮｉＰからなる基板の上に、Ｔｂ20Ｃｏからなる
ターゲットを用いてスパッタ法により膜厚５０ｎｍのＴ
ｂＣｏ非晶質磁性層を成膜した。その上にスパッタ法に
より非晶質カーボンからなる膜厚１０ｎｍの保護膜を成
膜した。その上に潤滑剤のパーフルオロポリエーテルを
浸漬塗布して膜厚２ｎｍの潤滑層を形成して、図１に示
した層構成の媒体を作製した。
明する。 実施例１ Ａｌ／ＮｉＰからなる基板の上に、Ｔｂ20Ｃｏからなる
ターゲットを用いてスパッタ法により膜厚５０ｎｍのＴ
ｂＣｏ非晶質磁性層を成膜した。その上にスパッタ法に
より非晶質カーボンからなる膜厚１０ｎｍの保護膜を成
膜した。その上に潤滑剤のパーフルオロポリエーテルを
浸漬塗布して膜厚２ｎｍの潤滑層を形成して、図１に示
した層構成の媒体を作製した。
【００１８】このようにして得られた媒体の保磁力は５
ｋＯｅであった。この媒体を磁気ヘッドで情報の書き込
み・読み出しを行う固定磁気ディスク装置に搭載したと
ころ、３０Ｇｂ／ｉｎ2 以上の高面記録密度，低ノイズ
（Ｓ／Ｎ比３０ｄＢ以下）で、情報の記録・再生を行う
ことができた。 実施例２ 実施例１において用いたと同様のＡｌ／ＮｉＰからなる
基板の上に、スパッタ法によりＳｉＯ2 からなる膜厚２
０ｎｍの下地層を成膜した。続いてこの下地層上に、実
施例１と同様にして磁性層，保護膜，潤滑層を順次形成
して、図２に示した層構成の媒体を作製した。
ｋＯｅであった。この媒体を磁気ヘッドで情報の書き込
み・読み出しを行う固定磁気ディスク装置に搭載したと
ころ、３０Ｇｂ／ｉｎ2 以上の高面記録密度，低ノイズ
（Ｓ／Ｎ比３０ｄＢ以下）で、情報の記録・再生を行う
ことができた。 実施例２ 実施例１において用いたと同様のＡｌ／ＮｉＰからなる
基板の上に、スパッタ法によりＳｉＯ2 からなる膜厚２
０ｎｍの下地層を成膜した。続いてこの下地層上に、実
施例１と同様にして磁性層，保護膜，潤滑層を順次形成
して、図２に示した層構成の媒体を作製した。
【００１９】このようにして得られた媒体の保磁力は９
ｋＯｅであった。この媒体を実施例１と同様の固定磁気
ディスク装置に搭載したところ、実施例１の媒体と同程
度の低ノイズでより高い面記録密度が得られた。これは
実施例１よりも高い保磁力によるものと考えられる。 実施例３ 実施例１において用いたと同様のＡｌ／ＮｉＰからなる
基板の上に、スパッタ法によりＣｏＺｒＮｂからなる膜
厚３０ｎｍの軟磁性層を成膜した。続いてこの軟磁性層
上に、実施例１と同様にして磁性層，保護膜，潤滑層を
順次形成して、図３に示した層構成の媒体を作製した。
ｋＯｅであった。この媒体を実施例１と同様の固定磁気
ディスク装置に搭載したところ、実施例１の媒体と同程
度の低ノイズでより高い面記録密度が得られた。これは
実施例１よりも高い保磁力によるものと考えられる。 実施例３ 実施例１において用いたと同様のＡｌ／ＮｉＰからなる
基板の上に、スパッタ法によりＣｏＺｒＮｂからなる膜
厚３０ｎｍの軟磁性層を成膜した。続いてこの軟磁性層
上に、実施例１と同様にして磁性層，保護膜，潤滑層を
順次形成して、図３に示した層構成の媒体を作製した。
【００２０】このようにして得られた媒体の保磁力は５
ｋＯｅであった。この媒体を実施例１と同様の固定磁気
ディスク装置に搭載したところ、実施例１の媒体に比し
て同程度のノイズでより高い面記録密度が得られた。 実施例４ 実施例１において用いたと同様のＡｌ／ＮｉＰからなる
基板の上に、実施例３と同様にしてスパッタ法によりＣ
ｏＺｒＮｂからなる膜厚３０ｎｍの軟磁性層を成膜し
た。続いてこの軟磁性層上に、実施例２と同様にしてス
パッタ法によりＳｉＯ2 からなる膜厚２０ｎｍの下地層
を成膜した。続いてこの下地層上に、実施例１と同様に
して磁性層，保護膜，潤滑層を順次形成して、図４に示
した層構成の媒体を作製した。
ｋＯｅであった。この媒体を実施例１と同様の固定磁気
ディスク装置に搭載したところ、実施例１の媒体に比し
て同程度のノイズでより高い面記録密度が得られた。 実施例４ 実施例１において用いたと同様のＡｌ／ＮｉＰからなる
基板の上に、実施例３と同様にしてスパッタ法によりＣ
ｏＺｒＮｂからなる膜厚３０ｎｍの軟磁性層を成膜し
た。続いてこの軟磁性層上に、実施例２と同様にしてス
パッタ法によりＳｉＯ2 からなる膜厚２０ｎｍの下地層
を成膜した。続いてこの下地層上に、実施例１と同様に
して磁性層，保護膜，潤滑層を順次形成して、図４に示
した層構成の媒体を作製した。
【００２１】このようにして得られた媒体の保磁力は９
ｋＯｅであった。この媒体を実施例１と同様の固定磁気
ディスク装置に搭載したところ、実施例２，３の媒体に
比してノイズは同程度で面記録密度は向上していた。
ｋＯｅであった。この媒体を実施例１と同様の固定磁気
ディスク装置に搭載したところ、実施例２，３の媒体に
比してノイズは同程度で面記録密度は向上していた。
【００２２】
【発明の効果】この発明によれば、非磁性基板上に遷移
金属希土類合金からなり保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶
質磁性薄膜の磁性層を備えてなる媒体とすることによ
り、磁気ヘッドでの情報の書き込み・読み出しが可能な
低ノイズ，高面記録密度の磁気記録媒体が得られる。こ
の発明の媒体を用いることにより、光ヘッドを用いる必
要がなくなり、記憶装置の構成が簡単になり低コスト化
できるとともに、アクセスタイムを速くすることができ
る。
金属希土類合金からなり保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶
質磁性薄膜の磁性層を備えてなる媒体とすることによ
り、磁気ヘッドでの情報の書き込み・読み出しが可能な
低ノイズ，高面記録密度の磁気記録媒体が得られる。こ
の発明の媒体を用いることにより、光ヘッドを用いる必
要がなくなり、記憶装置の構成が簡単になり低コスト化
できるとともに、アクセスタイムを速くすることができ
る。
【図１】この発明に係る媒体の層構成の一例の模式的断
面図
面図
【図２】この発明に係る媒体の層構成の異なる例の模式
的断面図
的断面図
【図３】この発明に係る媒体の層構成のさらに異なる例
の模式的断面図
の模式的断面図
【図４】この発明に係る媒体の層構成のさらに異なる例
の模式的断面図
の模式的断面図
１ 非磁性基板 ２ 非晶質磁性層 ３ 保護膜 ４ 潤滑層 ５ 下地層 ６ 軟磁性層
Claims (5)
- 【請求項１】非磁性基板上に遷移金属希土類合金からな
り保磁力が１０ｋＯｅ以下の非晶質磁性薄膜の磁性層を
備えてなり、磁気ヘッドでの情報の書き込み読み出しが
可能なことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】遷移金属希土類合金がＴｂＦｅ，ＴｂＣ
ｏ，ＴｂＦｅＣｏのうちから選ばれた合金であることを
特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】非磁性基板と磁性層との間に軟磁性層を設
けたことを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録
媒体。 - 【請求項４】非磁性基板と磁性層との間に下地層を設け
たことを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項５】非磁性基板上に軟磁性層，下地層を順次設
け、その上に磁性層を設けたことを特徴とする請求項１
または２記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000017140A JP2001209921A (ja) | 2000-01-26 | 2000-01-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000017140A JP2001209921A (ja) | 2000-01-26 | 2000-01-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001209921A true JP2001209921A (ja) | 2001-08-03 |
Family
ID=18544172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000017140A Pending JP2001209921A (ja) | 2000-01-26 | 2000-01-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001209921A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003067911A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Fuji Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| JP2003067909A (ja) * | 2001-08-24 | 2003-03-07 | Fuji Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| JP2003085725A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-20 | Fuji Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-01-26 JP JP2000017140A patent/JP2001209921A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003067911A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Fuji Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| JP2003067909A (ja) * | 2001-08-24 | 2003-03-07 | Fuji Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| JP2003085725A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-20 | Fuji Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JP4534402B2 (ja) * | 2001-09-13 | 2010-09-01 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6403203B2 (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same | |
| JP5153575B2 (ja) | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JP2007200548A (ja) | 垂直磁気記録ディスク | |
| US7274626B2 (en) | Magneto-optical recording using a heating element | |
| JP2001344725A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
| US6898158B2 (en) | Information recording medium and information recording and reproducing slider | |
| JP2001209921A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2000155926A (ja) | 磁気記録媒体および磁気再生方法 | |
| JP2001084546A (ja) | 情報記録媒体、情報記録再生方式及び情報記録再生装置 | |
| JP5267938B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2000315310A (ja) | 情報記録媒体及び情報記録再生用スライダ | |
| KR100625706B1 (ko) | 자기 기록 매체 및 그 자기 기록 방법 | |
| Sonobe et al. | Characteristics of high-density recording using a single-layer perpendicular medium and a merged MR head | |
| JP2009059432A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JP2000222715A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2810457B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体およびその記録装置 | |
| WO1999052101A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique et methode d'enregistrement | |
| JP2002334415A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| JP2001060313A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH10334443A (ja) | 垂直磁気記録媒体および記録再生装置 | |
| JP2002170292A (ja) | 光磁気記録媒体及びその再生方法 | |
| JP2000182232A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2004227666A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP4522052B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2002074638A (ja) | 磁気情報記録媒体 |