JP2001208993A - レーザ描画方法及び描画装置 - Google Patents
レーザ描画方法及び描画装置Info
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- JP2001208993A JP2001208993A JP2000016066A JP2000016066A JP2001208993A JP 2001208993 A JP2001208993 A JP 2001208993A JP 2000016066 A JP2000016066 A JP 2000016066A JP 2000016066 A JP2000016066 A JP 2000016066A JP 2001208993 A JP2001208993 A JP 2001208993A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 回転ドラムの外周に装着されたワークに対し
てクロストークを生じることなく描画を行うことのでき
るレーザ描画装置を提供すること。 【解決手段】 レーザビームを発生する複数の半導体レ
ーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビームを、
回転ドラム２０の外周に巻かれたワーク２２における互
いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画装置
であり、回転ドラムの回転量を検出するための回転検出
器２３と、複数のレーザビームに対応する複数のセルを
有し、レーザビームの通過、阻止をレーザビーム毎に行
うことのできる液晶マスクと、回転ドラムの１回転毎に
レーザアレイ及び液晶マスクを所定のピッチだけ回転ド
ラムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構３０
と、回転検出器からの検出信号を受け、回転ドラムの回
転に応じて液晶マスク及び移動機構を制御するための制
御装置２４とを含む。
てクロストークを生じることなく描画を行うことのでき
るレーザ描画装置を提供すること。 【解決手段】 レーザビームを発生する複数の半導体レ
ーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビームを、
回転ドラム２０の外周に巻かれたワーク２２における互
いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画装置
であり、回転ドラムの回転量を検出するための回転検出
器２３と、複数のレーザビームに対応する複数のセルを
有し、レーザビームの通過、阻止をレーザビーム毎に行
うことのできる液晶マスクと、回転ドラムの１回転毎に
レーザアレイ及び液晶マスクを所定のピッチだけ回転ド
ラムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構３０
と、回転検出器からの検出信号を受け、回転ドラムの回
転に応じて液晶マスク及び移動機構を制御するための制
御装置２４とを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、回転ドラムの外周
に装着されたワークに、レーザによりパターニングを行
うのに適したレーザ描画方法及び描画装置に関する。
に装着されたワークに、レーザによりパターニングを行
うのに適したレーザ描画方法及び描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の描画装置として、図６に示すよ
うに、回転ドラム５１上に可撓性のワーク５２を巻き、
回転ドラム５１の外周に隣接してその中心軸方向に延び
るガイド機構５３を設け、このガイド機構５３に沿って
移動可能にレーザアレイ５４を含む移動機構を設けたも
のが知られている。
うに、回転ドラム５１上に可撓性のワーク５２を巻き、
回転ドラム５１の外周に隣接してその中心軸方向に延び
るガイド機構５３を設け、このガイド機構５３に沿って
移動可能にレーザアレイ５４を含む移動機構を設けたも
のが知られている。
【０００３】レーザアレイ５４は、図７に示すように、
複数の半導体レーザ５４−１を一列のアレイ状に配列し
て成り、半導体レーザ５４−１を個別にオン、オフ制御
することができる。ワーク５２が、例えば樹脂基板の全
面に銅パターンを形成しているようなものである場合、
図８に示すように、レーザビームを照射された箇所が除
去される。図８は、回転ドラム５１の回転角度がθ１の
領域について、これを平面に延ばした状態にて示してい
る。
複数の半導体レーザ５４−１を一列のアレイ状に配列し
て成り、半導体レーザ５４−１を個別にオン、オフ制御
することができる。ワーク５２が、例えば樹脂基板の全
面に銅パターンを形成しているようなものである場合、
図８に示すように、レーザビームを照射された箇所が除
去される。図８は、回転ドラム５１の回転角度がθ１の
領域について、これを平面に延ばした状態にて示してい
る。
【０００４】また、各半導体レーザ５４−１からワーク
５２に照射されるレーザビームのスポットの直径Ｄ１が
１０μｍ、半導体レーザ５４−１の数Ｎ１が４８個であ
るとし、これらが互いに隣接して一列状に照射される
と、ワーク５２に対しその１回転当たり、Ｄ１×Ｎ１＝
１０×４８μｍの幅（これが１ピッチとなる）内での部
分パターニングを行うことができる。そして、ワーク５
２が１回転すると、レーザアレイ５４を含む移動機構は
ガイド機構５３に沿って１ピッチ分だけ移動され、次の
部分パターニングが行われる。以下、同様の動作を繰返
すことでワーク５２の全面に所望のパターニングが行わ
れる。
５２に照射されるレーザビームのスポットの直径Ｄ１が
１０μｍ、半導体レーザ５４−１の数Ｎ１が４８個であ
るとし、これらが互いに隣接して一列状に照射される
と、ワーク５２に対しその１回転当たり、Ｄ１×Ｎ１＝
１０×４８μｍの幅（これが１ピッチとなる）内での部
分パターニングを行うことができる。そして、ワーク５
２が１回転すると、レーザアレイ５４を含む移動機構は
ガイド機構５３に沿って１ピッチ分だけ移動され、次の
部分パターニングが行われる。以下、同様の動作を繰返
すことでワーク５２の全面に所望のパターニングが行わ
れる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の描画
装置においては、複数の半導体レーザ５４−１を個別に
オン、オフ制御する場合、オン、オフ制御用の複数の制
御信号線がフラットケーブルにより構成されていて隣接
しているために、クロストークによる誤動作が生じ易
い。すなわち、ある半導体レーザの制御信号線にオン用
の信号電流が流れている場合、それに隣接する制御信号
線がオフであっても、ある制御信号線に流れているオン
用の信号電流による磁界によって、オフとされるべき制
御信号線に電流が発生することがある。その結果、オフ
とされるべき制御信号線に対応する半導体レーザがオン
となる場合がある。
装置においては、複数の半導体レーザ５４−１を個別に
オン、オフ制御する場合、オン、オフ制御用の複数の制
御信号線がフラットケーブルにより構成されていて隣接
しているために、クロストークによる誤動作が生じ易
い。すなわち、ある半導体レーザの制御信号線にオン用
の信号電流が流れている場合、それに隣接する制御信号
線がオフであっても、ある制御信号線に流れているオン
用の信号電流による磁界によって、オフとされるべき制
御信号線に電流が発生することがある。その結果、オフ
とされるべき制御信号線に対応する半導体レーザがオン
となる場合がある。
【０００６】そこで、本発明の課題は、回転ドラムの外
周に装着されたワークに対してクロストークを生じるこ
となく描画を行うことのできるレーザ描画方法及び描画
装置を提供することにある。
周に装着されたワークに対してクロストークを生じるこ
となく描画を行うことのできるレーザ描画方法及び描画
装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様によ
るレーザ描画方法は、連続してレーザビームを発生する
複数の半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレ
ーザビームを、回転ドラムの外周に巻かれたワークにお
ける互いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描
画方法において、前記複数のレーザビームに対応する複
数のセルを有して、レーザビームの通過、阻止をレーザ
ビーム毎に行うことのできる液晶マスクを配置し、前記
回転ドラムの回転に同期させて１回転毎に、前記液晶マ
スクを通過したレーザビームの照射領域を所定のピッチ
だけ前記回転ドラムの中心軸方向に沿ってシフトさせる
ことにより、前記ワークに所望の描画を行うことを特徴
とする。
るレーザ描画方法は、連続してレーザビームを発生する
複数の半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレ
ーザビームを、回転ドラムの外周に巻かれたワークにお
ける互いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描
画方法において、前記複数のレーザビームに対応する複
数のセルを有して、レーザビームの通過、阻止をレーザ
ビーム毎に行うことのできる液晶マスクを配置し、前記
回転ドラムの回転に同期させて１回転毎に、前記液晶マ
スクを通過したレーザビームの照射領域を所定のピッチ
だけ前記回転ドラムの中心軸方向に沿ってシフトさせる
ことにより、前記ワークに所望の描画を行うことを特徴
とする。
【０００８】この場合のレーザ描画装置は、前記回転ド
ラムの回転量を検出するための検出器と、前記複数のレ
ーザビームに対応する複数のセルを有し、レーザビーム
の通過、阻止をレーザビーム毎に行うことのできる液晶
マスクと、前記回転ドラムの１回転毎に前記レーザアレ
イ及び前記液晶マスクを所定のピッチだけ前記回転ドラ
ムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構と、前記
検出器からの検出信号を受け、前記回転ドラムの回転に
応じて前記液晶マスク及び前記移動機構を制御するため
の制御装置とを含むことにより、前記ワークに所望の描
画を行うことを特徴とする。
ラムの回転量を検出するための検出器と、前記複数のレ
ーザビームに対応する複数のセルを有し、レーザビーム
の通過、阻止をレーザビーム毎に行うことのできる液晶
マスクと、前記回転ドラムの１回転毎に前記レーザアレ
イ及び前記液晶マスクを所定のピッチだけ前記回転ドラ
ムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構と、前記
検出器からの検出信号を受け、前記回転ドラムの回転に
応じて前記液晶マスク及び前記移動機構を制御するため
の制御装置とを含むことにより、前記ワークに所望の描
画を行うことを特徴とする。
【０００９】本発明の第２の態様によるレーザ描画方法
は、レーザ発振器からのレーザビームを回転ドラムの外
周に巻かれたワークに照射して描画を行うレーザ描画方
法であって、前記レーザビームの断面形状を長尺形状に
変換し、前記長尺形状に対応するように配列された複数
のセルを有し、セル毎にこれに対応する前記断面長尺形
状のレーザビームの通過、阻止を部分的に行うための液
晶マスクを配置し、前記回転ドラムの回転に同期させて
１回転毎に前記液晶マスクを通過したレーザビームの照
射領域を所定のピッチだけ前記回転ドラムの中心軸方向
に沿ってシフトさせることにより、前記ワークに所望の
描画を行うことを特徴とする。
は、レーザ発振器からのレーザビームを回転ドラムの外
周に巻かれたワークに照射して描画を行うレーザ描画方
法であって、前記レーザビームの断面形状を長尺形状に
変換し、前記長尺形状に対応するように配列された複数
のセルを有し、セル毎にこれに対応する前記断面長尺形
状のレーザビームの通過、阻止を部分的に行うための液
晶マスクを配置し、前記回転ドラムの回転に同期させて
１回転毎に前記液晶マスクを通過したレーザビームの照
射領域を所定のピッチだけ前記回転ドラムの中心軸方向
に沿ってシフトさせることにより、前記ワークに所望の
描画を行うことを特徴とする。
【００１０】この場合のレーザ描画装置は、前記回転ド
ラムの回転量を検出するための検出器と、前記レーザビ
ームの断面形状を長尺形状に変換するための光学手段
と、前記長尺形状に対応するように配列された複数のセ
ルを有して、セル毎にこれに対応する前記断面長尺形状
のレーザビームの通過、阻止を部分的に行うための液晶
マスクと、前記回転ドラムの１回転毎に前記レーザアレ
イ及び前記液晶マスクを所定のピッチだけ前記回転ドラ
ムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構と、前記
検出器からの検出信号を受け、前記回転ドラムの回転に
応じて前記液晶マスク及び前記移動機構を制御するため
の制御装置とを含むことにより、前記ワークに所望の描
画を行うことを特徴とする。
ラムの回転量を検出するための検出器と、前記レーザビ
ームの断面形状を長尺形状に変換するための光学手段
と、前記長尺形状に対応するように配列された複数のセ
ルを有して、セル毎にこれに対応する前記断面長尺形状
のレーザビームの通過、阻止を部分的に行うための液晶
マスクと、前記回転ドラムの１回転毎に前記レーザアレ
イ及び前記液晶マスクを所定のピッチだけ前記回転ドラ
ムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構と、前記
検出器からの検出信号を受け、前記回転ドラムの回転に
応じて前記液晶マスク及び前記移動機構を制御するため
の制御装置とを含むことにより、前記ワークに所望の描
画を行うことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１〜図３を参照して、本発明の
第１の実施の形態について説明する。図２において、本
レーザ描画装置は、レーザアレイ１１、コリメートレン
ズ１２、液晶マスク１３、加工レンズとしてのｆθレン
ズ１４をケース１０に収容したものを備えている。図１
に示されるように、ケース１０は回転ドラム２０の外周
に隣接してその中心軸方向に延びるように設置されたガ
イド機構２１に沿って移動可能な移動機構３０に搭載さ
れている。移動機構３０は、高精度の位置決めが必要で
あるので、例えばリニアモータのような移動機構が好ま
しく、この場合、ガイド機構２１はリニアガイド機構が
好ましい。このような移動機構、ガイド機構は周知であ
るので詳細な説明は省略する。
第１の実施の形態について説明する。図２において、本
レーザ描画装置は、レーザアレイ１１、コリメートレン
ズ１２、液晶マスク１３、加工レンズとしてのｆθレン
ズ１４をケース１０に収容したものを備えている。図１
に示されるように、ケース１０は回転ドラム２０の外周
に隣接してその中心軸方向に延びるように設置されたガ
イド機構２１に沿って移動可能な移動機構３０に搭載さ
れている。移動機構３０は、高精度の位置決めが必要で
あるので、例えばリニアモータのような移動機構が好ま
しく、この場合、ガイド機構２１はリニアガイド機構が
好ましい。このような移動機構、ガイド機構は周知であ
るので詳細な説明は省略する。
【００１２】レーザアレイ１１は、図７で説明したよう
に、複数の半導体レーザを一列のアレイ状に並べて構成
されたもので良いが、本形態では個別にオン、オフ制御
する必要はなく、連続発振を行う。従って、レーザアレ
イ１１からは、常に複数のレーザビームが互いに隣接し
一列状に連なった状態で出射される。コリメートレンズ
１２は、レーザアレイ１１からの複数のレーザビームの
広がりを抑制して一定幅にして液晶マスク１３に入射さ
せる。液晶マスク１３は、図３（ａ）に示されるよう
に、レーザアレイ１１からの複数のレーザビームに対応
する複数のセル１３−１を有し、レーザビームの通過、
阻止をレーザビーム毎に行うことができる。すなわち、
液晶マスク１３は、後述する制御装置により複数のセル
１３−１が個別にレーザビームを通過あるいは阻止する
ように制御される。図３（ａ）においては、左から２番
目、右から５番目、及び２番目のセル１３−１がレーザ
ビームを阻止するように制御されている状態を示す。そ
の結果、ワークに照射される複数のレーザビームによる
照射パターンは図３（ｂ）に示されるようになる。
に、複数の半導体レーザを一列のアレイ状に並べて構成
されたもので良いが、本形態では個別にオン、オフ制御
する必要はなく、連続発振を行う。従って、レーザアレ
イ１１からは、常に複数のレーザビームが互いに隣接し
一列状に連なった状態で出射される。コリメートレンズ
１２は、レーザアレイ１１からの複数のレーザビームの
広がりを抑制して一定幅にして液晶マスク１３に入射さ
せる。液晶マスク１３は、図３（ａ）に示されるよう
に、レーザアレイ１１からの複数のレーザビームに対応
する複数のセル１３−１を有し、レーザビームの通過、
阻止をレーザビーム毎に行うことができる。すなわち、
液晶マスク１３は、後述する制御装置により複数のセル
１３−１が個別にレーザビームを通過あるいは阻止する
ように制御される。図３（ａ）においては、左から２番
目、右から５番目、及び２番目のセル１３−１がレーザ
ビームを阻止するように制御されている状態を示す。そ
の結果、ワークに照射される複数のレーザビームによる
照射パターンは図３（ｂ）に示されるようになる。
【００１３】前に述べたように、半導体レーザの数がＮ
１で、ワークに照射される１つのレーザビームのスポッ
ト径がＤ１である場合、ワークに照射されるレーザビー
ムの幅Ｗ１はＮ１×Ｄ１で表され、以下これを１ピッチ
と呼ぶ。
１で、ワークに照射される１つのレーザビームのスポッ
ト径がＤ１である場合、ワークに照射されるレーザビー
ムの幅Ｗ１はＮ１×Ｄ１で表され、以下これを１ピッチ
と呼ぶ。
【００１４】図１に戻って、回転ドラム２０の外周には
可撓性のワーク２２が巻かれている。このワーク２２は
例えば、前に述べたように、可撓性を持つ樹脂基板の全
面に銅膜を形成したものであり、レーザ照射によって銅
膜を除去することにより、樹脂基板上に銅による配線パ
ターンが形成されるものである。回転ドラム２０には、
ロータリーエンコーダ等による回転検出器２３が設けら
れている。回転検出器２３からの検出信号は制御装置２
４に送られる。制御装置２４は、図２で説明したよう
に、回転ドラム２０の回転角度に応じて液晶マスク１３
における各セルを個別に制御する。すなわち、制御装置
２４は、図示しない入力装置から与えられるパターニン
グデータに応じて、回転ドラム２０が１回転する間に、
液晶マスク１３における各セルの導通、阻止状態を様々
に制御することにより、図８に部分的に示したようなパ
ターニングが行われることになる。
可撓性のワーク２２が巻かれている。このワーク２２は
例えば、前に述べたように、可撓性を持つ樹脂基板の全
面に銅膜を形成したものであり、レーザ照射によって銅
膜を除去することにより、樹脂基板上に銅による配線パ
ターンが形成されるものである。回転ドラム２０には、
ロータリーエンコーダ等による回転検出器２３が設けら
れている。回転検出器２３からの検出信号は制御装置２
４に送られる。制御装置２４は、図２で説明したよう
に、回転ドラム２０の回転角度に応じて液晶マスク１３
における各セルを個別に制御する。すなわち、制御装置
２４は、図示しない入力装置から与えられるパターニン
グデータに応じて、回転ドラム２０が１回転する間に、
液晶マスク１３における各セルの導通、阻止状態を様々
に制御することにより、図８に部分的に示したようなパ
ターニングが行われることになる。
【００１５】制御装置２４はまた、回転ドラム２０が１
回転する毎に移動機構３０を制御して、ケース１０を上
記の１ピッチ分だけ図１中、右方向に移動させる。これ
は、液晶マスク１３を通過したレーザビームが一括して
１ピッチ分だけシフトされることを意味する。このシフ
トの間、必要であれば、液晶マスク１３におけるすべて
のセルがレーザビームの通過を阻止するようにして、不
必要なレーザビームの照射が行われないようにする。以
下、上記の動作を繰返して、ワーク２２の加工領域全面
に所望のパターニングを行うことができる。
回転する毎に移動機構３０を制御して、ケース１０を上
記の１ピッチ分だけ図１中、右方向に移動させる。これ
は、液晶マスク１３を通過したレーザビームが一括して
１ピッチ分だけシフトされることを意味する。このシフ
トの間、必要であれば、液晶マスク１３におけるすべて
のセルがレーザビームの通過を阻止するようにして、不
必要なレーザビームの照射が行われないようにする。以
下、上記の動作を繰返して、ワーク２２の加工領域全面
に所望のパターニングを行うことができる。
【００１６】本形態によれば、レーザアレイ１１におけ
る半導体レーザは常時オンにされるので、クロストーク
による誤動作のおそれは無い。
る半導体レーザは常時オンにされるので、クロストーク
による誤動作のおそれは無い。
【００１７】図４、図５を参照して、本発明の第２の実
施の形態について説明する。この第２の実施の形態は、
図２におけるレーザアレイに代えてレーザ発振器１５を
備え、レーザ発振器１５からのレーザ光の断面形状を長
尺の断面形状に変換する変換光学系１６を備えたもので
ある。レーザ発振器１５は、レーザアレイ１１と同程度
以上のエネルギー密度を持つレーザ光を発生できるもの
であれば良く、例えばＹＡＧレーザ発振器、ＹＬＦレー
ザ発振器等があげられる。また、変換光学系１６として
は、例えばシリンドリカルレンズがあげられる。
施の形態について説明する。この第２の実施の形態は、
図２におけるレーザアレイに代えてレーザ発振器１５を
備え、レーザ発振器１５からのレーザ光の断面形状を長
尺の断面形状に変換する変換光学系１６を備えたもので
ある。レーザ発振器１５は、レーザアレイ１１と同程度
以上のエネルギー密度を持つレーザ光を発生できるもの
であれば良く、例えばＹＡＧレーザ発振器、ＹＬＦレー
ザ発振器等があげられる。また、変換光学系１６として
は、例えばシリンドリカルレンズがあげられる。
【００１８】なお、本形態では、変換光学系１６、コリ
メートレンズ１２、液晶マスク１３、ｆθレンズ１４が
ケース１０に収容されている。このため、レーザ発振器
１５からのレーザ光は光ファイバ１７を介して変換光学
系１６に導入される。このようにするのは、レーザ発振
器１５は、レーザアレイ１１に比べて大型であり、これ
を可動とするのは好ましくないからである。光ファイバ
１７は可撓性を持つので、可動部としてのケース１０の
動きに十分に対応できる。
メートレンズ１２、液晶マスク１３、ｆθレンズ１４が
ケース１０に収容されている。このため、レーザ発振器
１５からのレーザ光は光ファイバ１７を介して変換光学
系１６に導入される。このようにするのは、レーザ発振
器１５は、レーザアレイ１１に比べて大型であり、これ
を可動とするのは好ましくないからである。光ファイバ
１７は可撓性を持つので、可動部としてのケース１０の
動きに十分に対応できる。
【００１９】この第２の実施の形態では、液晶マスク１
３には複数のレーザビームではなく断面が長尺形状の１
本のレーザビームが入射する。そして、液晶マスク１３
は、図５に示されるように、レーザビームの断面形状の
長さ方向に対応する数の複数のセル１３−１を持つ。液
晶マスク１３は、第１の実施の形態と同様に、制御装置
２４により複数のセル１３−１が個別にレーザビームを
部分的に導通あるいは阻止するように制御される。図５
（ａ）においても、左から２番目、右から５番目、及び
２番目のセル１３−１がレーザビームを阻止するように
制御されている状態を示す。その結果、ワーク２２に照
射される複数のレーザビームによる照射パターンも図５
（ｂ）に示されるようになる。液晶マスク１３以降の作
用は、第１の実施の形態とまったく同じである。
３には複数のレーザビームではなく断面が長尺形状の１
本のレーザビームが入射する。そして、液晶マスク１３
は、図５に示されるように、レーザビームの断面形状の
長さ方向に対応する数の複数のセル１３−１を持つ。液
晶マスク１３は、第１の実施の形態と同様に、制御装置
２４により複数のセル１３−１が個別にレーザビームを
部分的に導通あるいは阻止するように制御される。図５
（ａ）においても、左から２番目、右から５番目、及び
２番目のセル１３−１がレーザビームを阻止するように
制御されている状態を示す。その結果、ワーク２２に照
射される複数のレーザビームによる照射パターンも図５
（ｂ）に示されるようになる。液晶マスク１３以降の作
用は、第１の実施の形態とまったく同じである。
【００２０】この第２の実施の形態においても、レーザ
アレイを使用していないので、クロストークによる誤動
作のおそれは無い。
アレイを使用していないので、クロストークによる誤動
作のおそれは無い。
【００２１】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、回転ドラムに巻かれたワークに対するパターニング
をクロストークによる誤動作無しに行うことができる。
ば、回転ドラムに巻かれたワークに対するパターニング
をクロストークによる誤動作無しに行うことができる。
【図１】本発明によるレーザ描画装置の基本構成を示し
た図である。
た図である。
【図２】図１におけるケースの内部構成を本発明の第１
の実施の形態について示した図である。
の実施の形態について示した図である。
【図３】図２に示された液晶マスクの作用を説明するた
めの図である。
めの図である。
【図４】図１におけるケースの内部構成を本発明の第２
の実施の形態について示した図である。
の実施の形態について示した図である。
【図５】図４に示された液晶マスクの作用を説明するた
めの図である。
めの図である。
【図６】従来のレーザ描画装置の基本構成を示した図で
ある。
ある。
【図７】図６に示されたレーザ描画装置及び本発明によ
るレーザ描画装置に使用されるレーザアレイの構成を示
した図である。
るレーザ描画装置に使用されるレーザアレイの構成を示
した図である。
【図８】図７に示されたレーザアレイによる描画パター
ンの一例を部分的に示した図である。
ンの一例を部分的に示した図である。
１０ ケース １１、５４ レーザアレイ １２ コリメートレンズ １３ 液晶マスク １４ ｆθレンズ １５ レーザ発振器 １６ 変換光学系 １７ 光ファイバ ２０、５１ 回転ドラム ２１、５３ ガイド機構 ２２、５２ ワーク ２３ 回転検出器 ３０ 移動機構 ５４−１ 半導体レーザ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ４１Ｊ 2/455 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｎ Ｇ０３Ｂ 27/32 Ｂ２３Ｋ 101:38 Ｈ０１Ｓ 3/101 Ｂ４１Ｊ 3/21 Ｌ // Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｂ２３Ｋ 101:38 Ｆターム(参考） 2C162 AE28 AE37 AE48 FA05 FA18 2H045 AG09 BA23 BA32 CA63 CA88 CB24 2H106 BA55 BH00 4E068 AG00 CB05 CC06 CD04 CD05 CD10 DA00 5F072 AB13 KK30 MM04 MM08 YY06
Claims (4)
- 【請求項１】 連続してレーザビームを発生する複数の
半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビ
ームを、回転ドラムの外周に巻かれたワークにおける互
いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画方法
において、 前記複数のレーザビームに対応する複数のセルを有し
て、レーザビームの通過、阻止をレーザビーム毎に行う
ことのできる液晶マスクを配置し、 前記回転ドラムの回転に同期させて１回転毎に、前記液
晶マスクを通過したレーザビームの照射領域を所定のピ
ッチだけ前記回転ドラムの中心軸方向に沿ってシフトさ
せることにより、前記ワークに所望の描画を行うことを
特徴とするレーザ描画方法。 - 【請求項２】 連続してレーザビームを発生する複数の
半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビ
ームを、回転ドラムの外周に巻かれたワークにおける互
いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画装置
において、 前記回転ドラムの回転量を検出するための検出器と、 前記複数のレーザビームに対応する複数のセルを有し、
レーザビームの通過、阻止をレーザビーム毎に行うこと
のできる液晶マスクと、 前記回転ドラムの１回転毎に前記レーザアレイ及び前記
液晶マスクを所定のピッチだけ前記回転ドラムの中心軸
方向にシフトさせるための移動機構と、 前記検出器からの検出信号を受け、前記回転ドラムの回
転に応じて前記液晶マスク及び前記移動機構を制御する
ための制御装置とを含むことにより、前記ワークに所望
の描画を行うことを特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項３】 レーザ発振器からのレーザビームを回転
ドラムの外周に巻かれたワークに照射して描画を行うレ
ーザ描画方法であって、 前記レーザビームの断面形状を長尺形状に変換し、 前記長尺形状に対応するように配列された複数のセルを
有し、セル毎にこれに対応する前記断面長尺形状のレー
ザビームの通過、阻止を部分的に行うための液晶マスク
を配置し、 前記回転ドラムの回転に同期させて１回転毎に前記液晶
マスクを通過したレーザビームの照射領域を所定のピッ
チだけ前記回転ドラムの中心軸方向に沿ってシフトさせ
ることにより、前記ワークに所望の描画を行うことを特
徴とするレーザ描画方法。 - 【請求項４】 レーザ発振器からのレーザビームを回転
ドラムの外周に巻かれたワークに照射して描画を行うレ
ーザ描画装置であって、 前記回転ドラムの回転量を検出するための検出器と、 前記レーザビームの断面形状を長尺形状に変換するため
の光学手段と、 前記長尺形状に対応するように配列された複数のセルを
有して、セル毎にこれに対応する前記断面長尺形状のレ
ーザビームの通過、阻止を部分的に行うための液晶マス
クと、 前記回転ドラムの１回転毎に前記レーザアレイ及び前記
液晶マスクを所定のピッチだけ前記回転ドラムの中心軸
方向にシフトさせるための移動機構と、 前記検出器からの検出信号を受け、前記回転ドラムの回
転に応じて前記液晶マスク及び前記移動機構を制御する
ための制御装置とを含むことにより、前記ワークに所望
の描画を行うことを特徴とするレーザ描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000016066A JP2001208993A (ja) | 2000-01-25 | 2000-01-25 | レーザ描画方法及び描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000016066A JP2001208993A (ja) | 2000-01-25 | 2000-01-25 | レーザ描画方法及び描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001208993A true JP2001208993A (ja) | 2001-08-03 |
Family
ID=18543272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000016066A Pending JP2001208993A (ja) | 2000-01-25 | 2000-01-25 | レーザ描画方法及び描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001208993A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| TWI416267B (zh) * | 2006-02-16 | 2013-11-21 | Nat Inst Of Advanced Ind Scien | Laser processing device and processing method thereof |
-
2000
- 2000-01-25 JP JP2000016066A patent/JP2001208993A/ja active Pending
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