JP2001208631A - 差圧測定装置 - Google Patents
差圧測定装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 構造が簡潔になり、部品点数が削減出来て、
製造コストが低減出来、安価に出来る差圧測定装置を提
供する。 【解決手段】 ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部
が溶接固定されるシールダイアフラムを具備する差圧測
定装置において、前記シールダイアフラムの前記一方の
面の周縁を前記受圧部にリング状に所定の断続的な短時
間電気パルスにより溶接形成された抵抗溶接部を具備し
たことを特徴とする差圧測定装置である。
製造コストが低減出来、安価に出来る差圧測定装置を提
供する。 【解決手段】 ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部
が溶接固定されるシールダイアフラムを具備する差圧測
定装置において、前記シールダイアフラムの前記一方の
面の周縁を前記受圧部にリング状に所定の断続的な短時
間電気パルスにより溶接形成された抵抗溶接部を具備し
たことを特徴とする差圧測定装置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、構造が簡潔にな
り、部品点数が削減出来て、製造コストが低減出来、安
価に出来る差圧測定装置に関するものである。
り、部品点数が削減出来て、製造コストが低減出来、安
価に出来る差圧測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図９は、従来より一般に使用されている
従来例の構成説明図で、例えば、実開昭６０―１８１６
４２号に示されている。
従来例の構成説明図で、例えば、実開昭６０―１８１６
４２号に示されている。
【０００３】図において、１はハウジングで、円柱状の
首部１Ａと、首部１Ａの端部外周縁部１Ｃにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部１Ｂとよりなる。首部１
Ａと受圧部１Ｂとは、この場合は、ステンレス材よりな
る。
首部１Ａと、首部１Ａの端部外周縁部１Ｃにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部１Ｂとよりなる。首部１
Ａと受圧部１Ｂとは、この場合は、ステンレス材よりな
る。
【０００４】ハウジング１の両側に高圧側カバーフラン
ジ２、低圧側カバーフランジ３が溶接等によって固定さ
れており、両カバーフランジ２，３には測定せんとする
圧力ＰH の高圧流体の導入口４、圧力ＰLの低圧流体の
導入口５が設けられている。
ジ２、低圧側カバーフランジ３が溶接等によって固定さ
れており、両カバーフランジ２，３には測定せんとする
圧力ＰH の高圧流体の導入口４、圧力ＰLの低圧流体の
導入口５が設けられている。
【０００５】ハウジング１内に圧力測定室６が形成され
ており、この圧力測定室６内にセンタダイアフラム７と
シリコンダイアフラム８が設けられている。
ており、この圧力測定室６内にセンタダイアフラム７と
シリコンダイアフラム８が設けられている。
【０００６】センタダイアフラム７とシリコンダイアフ
ラム８とは、それぞれ別個に圧力測定室６の壁に固定さ
れており、センタダイアフラム７とシリコンダイアフラ
ム８の両者でもって圧力測定室６を２分している。
ラム８とは、それぞれ別個に圧力測定室６の壁に固定さ
れており、センタダイアフラム７とシリコンダイアフラ
ム８の両者でもって圧力測定室６を２分している。
【０００７】センタダイアフラム７と対向する圧力測定
室６の壁には、バックプレ―ト６Ａ，６Ｂが形成されて
いる。センタダイアフラム７は周縁部をハウジング１に
溶接されている。
室６の壁には、バックプレ―ト６Ａ，６Ｂが形成されて
いる。センタダイアフラム７は周縁部をハウジング１に
溶接されている。
【０００８】シリコンダイアフラム８は、全体が単結晶
のシリコン基板から形成されている。シリコン基板の一
方の面にボロン等の不純物を選択拡散して４っのストレ
ンゲ―ジ８０を形成し、他方の面を機械加工、エッチン
グし、全体が凹形のダイアフラムを形成する。
のシリコン基板から形成されている。シリコン基板の一
方の面にボロン等の不純物を選択拡散して４っのストレ
ンゲ―ジ８０を形成し、他方の面を機械加工、エッチン
グし、全体が凹形のダイアフラムを形成する。
【０００９】４っのストレインゲ―ジ８０は、シリコン
ダイアフラム８が差圧ΔＰを受けて撓む時、２つが引張
り、２つが圧縮を受けるようになっており、これらがホ
イ―トストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が差
圧ΔＰの変化として検出される。
ダイアフラム８が差圧ΔＰを受けて撓む時、２つが引張
り、２つが圧縮を受けるようになっており、これらがホ
イ―トストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が差
圧ΔＰの変化として検出される。
【００１０】シリコンダイアフラム８は、首部１Ａを２
個のセンサ室８１，８２に分ける。支持体９の圧力測定
室６側端面に、低融点ガラス接続等の方法でシリコンダ
イアフラム８が接着固定されている。
個のセンサ室８１，８２に分ける。支持体９の圧力測定
室６側端面に、低融点ガラス接続等の方法でシリコンダ
イアフラム８が接着固定されている。
【００１１】ハウジング１と高圧側カバーフランジ２、
および低圧側カバーフランジ３との間に、圧力導入室１
０，１１が形成されている。この圧力導入室１０，１１
内にシールダイアフラム１２，１３を設け、このシール
ダイアフラム１２，１３と対向するハウジング１の壁１
０Ａ，１１Ａに、シールダイアフラム１２，１３と類似
の形状のバックプレ―トが形成されている。
および低圧側カバーフランジ３との間に、圧力導入室１
０，１１が形成されている。この圧力導入室１０，１１
内にシールダイアフラム１２，１３を設け、このシール
ダイアフラム１２，１３と対向するハウジング１の壁１
０Ａ，１１Ａに、シールダイアフラム１２，１３と類似
の形状のバックプレ―トが形成されている。
【００１２】シールダイアフラム１２，１３は、受圧部
１Ｂに、シールリング１２１，１３１により周縁部が溶
接されている。この場合は、シールダイアフラム１２，
１３と、シールリング１２１，１３１とはステンレス材
よりなる。
１Ｂに、シールリング１２１，１３１により周縁部が溶
接されている。この場合は、シールダイアフラム１２，
１３と、シールリング１２１，１３１とはステンレス材
よりなる。
【００１３】シールダイアフラム１２，１３とバックプ
レ―ト１０Ａ，１１Ａとで形成される空間と圧力測定室
６とは、連通孔１４，１５を介して導通している。
レ―ト１０Ａ，１１Ａとで形成される空間と圧力測定室
６とは、連通孔１４，１５を介して導通している。
【００１４】そして、シールダイアフラム１２，１３間
にシリコンオイル等の封入液１０１，１０２が満たさ
れ、この封入液が連通孔１６，１７を介してシリコンダ
イアフラム８の上下面にまで至っている。
にシリコンオイル等の封入液１０１，１０２が満たさ
れ、この封入液が連通孔１６，１７を介してシリコンダ
イアフラム８の上下面にまで至っている。
【００１５】封入液１０１，１０２は、センタダイアフ
ラム７とシリコンダイアフラム８とによって２分されて
いるが、その量が、ほぼ均等になるように配慮されてい
る。１８は、受圧部１Ｂとカバーフランジ２，３との間
に設けられたガスケットで、この場合は、Ｏリングが使
用されている。
ラム７とシリコンダイアフラム８とによって２分されて
いるが、その量が、ほぼ均等になるように配慮されてい
る。１８は、受圧部１Ｂとカバーフランジ２，３との間
に設けられたガスケットで、この場合は、Ｏリングが使
用されている。
【００１６】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、シールダイアフラム１２に作用する圧力
が、封入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝
達される。一方、低圧側から圧力が作用した場合、シー
ルダイアフラム１３に作用する圧力が封入液１０２によ
ってシリコンダイアフラム８に伝達される。
用した場合、シールダイアフラム１２に作用する圧力
が、封入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝
達される。一方、低圧側から圧力が作用した場合、シー
ルダイアフラム１３に作用する圧力が封入液１０２によ
ってシリコンダイアフラム８に伝達される。
【００１７】この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応
じてシリコンダイアフラム８が歪む。この歪み量がスト
レインゲ―ジ８０によって電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
じてシリコンダイアフラム８が歪む。この歪み量がスト
レインゲ―ジ８０によって電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
【００１８】図１０は従来より一般に使用されている他
の従来例の構成説明図で、測定流体が高腐蝕性流体の場
合に使用される。
の従来例の構成説明図で、測定流体が高腐蝕性流体の場
合に使用される。
【００１９】測定流体が高腐蝕性流体の場合は、シール
ダイアフラム１２，１３とシールリング１２１，１３１
とは、高耐腐蝕性材、例えば、タンタル、ハステロイ、
モネル材等が使用される。
ダイアフラム１２，１３とシールリング１２１，１３１
とは、高耐腐蝕性材、例えば、タンタル、ハステロイ、
モネル材等が使用される。
【００２０】この場合、タンタル、ハステロイ、モネル
材等からなるシールダイアフラム１２，１３は、ステン
レスよりなる受圧部１Ｂに溶接固定され難いので、例え
ば、ニッケルよりなる間材リング２１，２２を介して溶
接固定される。
材等からなるシールダイアフラム１２，１３は、ステン
レスよりなる受圧部１Ｂに溶接固定され難いので、例え
ば、ニッケルよりなる間材リング２１，２２を介して溶
接固定される。
【００２１】図１０に示す如く、シールリング１２１，
１３１とシールダイアフラム１２，１３との間には、溶
接部Ｄが設けられている。この場合は、電子ビーム溶接
がされている。
１３１とシールダイアフラム１２，１３との間には、溶
接部Ｄが設けられている。この場合は、電子ビーム溶接
がされている。
【００２２】シールダイアフラム１２，１３と間材リン
グ２１，２２との間には、溶接部Eが設けられている。
この場合は、電子ビーム溶接がされている。間材リング
２１，２２と受圧部１Ｂとの間には、溶接部Fが設けら
れている。この場合は、Ｔｉｇ溶接がされている。
グ２１，２２との間には、溶接部Eが設けられている。
この場合は、電子ビーム溶接がされている。間材リング
２１，２２と受圧部１Ｂとの間には、溶接部Fが設けら
れている。この場合は、Ｔｉｇ溶接がされている。
【００２３】以上の構成において、シールリング１２
１，１３１、シールダイアフラム１２，１３、間材リン
グ２１，２２と受圧部１Ｂとの溶接組立ては、以下の順
序にて行われる。
１，１３１、シールダイアフラム１２，１３、間材リン
グ２１，２２と受圧部１Ｂとの溶接組立ては、以下の順
序にて行われる。
【００２４】（１）シールリング１２１，１３１とシー
ルダイアフラム１２，１３とを電子ビーム溶接Dする。 （２）シールダイアフラム１２，１３と間材リング２
１，２２とを電子ビーム溶接Eする。 （３）間材リング２１，２２と受圧部１ＢとをＴｉｇ溶
接Fする。
ルダイアフラム１２，１３とを電子ビーム溶接Dする。 （２）シールダイアフラム１２，１３と間材リング２
１，２２とを電子ビーム溶接Eする。 （３）間材リング２１，２２と受圧部１ＢとをＴｉｇ溶
接Fする。
【００２５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な差圧測定装置においては、 （１）通常の測定流体に使用される図９従来例におい
て、溶接部が測定流体ＦＬｏに露出するので、溶接部か
ら腐食する恐れがある。
な差圧測定装置においては、 （１）通常の測定流体に使用される図９従来例におい
て、溶接部が測定流体ＦＬｏに露出するので、溶接部か
ら腐食する恐れがある。
【００２６】（２）また、高腐食性の測定流体ＦＬｏに
使用される図１０従来例においては、耐食性等の観点か
ら、接液表面が、高耐腐食性材からなるシールダイアフ
ラム１２，１３の材質そのものであることが要求され，
接液表面に溶接合金部が出ることは許されない。
使用される図１０従来例においては、耐食性等の観点か
ら、接液表面が、高耐腐食性材からなるシールダイアフ
ラム１２，１３の材質そのものであることが要求され，
接液表面に溶接合金部が出ることは許されない。
【００２７】このために、 構造が複雑化し、構成部品点数が多くなり、製造コス
トが高くなる。 ＴＩＧ溶接，電子ビーム溶接では、溶接の溶けこみ量
が多いことにより、溶融金属の偏析により、溶接欠陥が
発生するため，高耐腐食性材のダイアフラム１２，１３
とステンレスの受圧部１Ｂを直接接合することができな
い。
トが高くなる。 ＴＩＧ溶接，電子ビーム溶接では、溶接の溶けこみ量
が多いことにより、溶融金属の偏析により、溶接欠陥が
発生するため，高耐腐食性材のダイアフラム１２，１３
とステンレスの受圧部１Ｂを直接接合することができな
い。
【００２８】従って、例えば、ニッケルよりなる間材リ
ング２１，２２を間に介して、接合しなければならな
い。また、ＴＩＧ，電子ビームで直接接合できたとして
も、溶融合金部が大きく、接液表面に出てしまい耐食性
が悪くなり、やはり、直接接合はできない。
ング２１，２２を間に介して、接合しなければならな
い。また、ＴＩＧ，電子ビームで直接接合できたとして
も、溶融合金部が大きく、接液表面に出てしまい耐食性
が悪くなり、やはり、直接接合はできない。
【００２９】また、従来のシーム溶接で、シールダイア
フラム１２，１３とステンレスよりなる受圧部１Ｂを直
接溶接すると，溶融合金部が大きく、接液表面まで合金
部が出てしまい、耐食性に問題があった。
フラム１２，１３とステンレスよりなる受圧部１Ｂを直
接溶接すると，溶融合金部が大きく、接液表面まで合金
部が出てしまい、耐食性に問題があった。
【００３０】本発明の目的は、上記の課題を解決するも
ので、構造が簡潔になり、部品点数が削減出来て、製造
コストが低減出来、安価に出来る差圧測定装置を提供す
ることにある。
ので、構造が簡潔になり、部品点数が削減出来て、製造
コストが低減出来、安価に出来る差圧測定装置を提供す
ることにある。
【００３１】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明では、請求項１の差圧測定装置におい
ては、ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部が溶接固
定されるシールダイアフラムを具備する差圧測定装置に
おいて、前記シールダイアフラムの前記一方の面の周縁
を前記受圧部にリング状に所定の断続的な短時間電気パ
ルスにより溶接形成された抵抗溶接部を具備したことを
特徴とする。
るために、本発明では、請求項１の差圧測定装置におい
ては、ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部が溶接固
定されるシールダイアフラムを具備する差圧測定装置に
おいて、前記シールダイアフラムの前記一方の面の周縁
を前記受圧部にリング状に所定の断続的な短時間電気パ
ルスにより溶接形成された抵抗溶接部を具備したことを
特徴とする。
【００３２】本発明の請求項２においては、請求項1記
載の差圧測定装置において、前記抵抗溶接としてシーム
溶接が使用されたことを特徴とする。
載の差圧測定装置において、前記抵抗溶接としてシーム
溶接が使用されたことを特徴とする。
【００３３】本発明の請求項３においては、請求項1又
は請求項２記載の差圧測定装置において、前記シールダ
イアフラムに接する面を所定の面租度にされたシーム溶
接機のシールダイアフラム側電極を使用して形成された
シーム溶接部を具備したことを特徴とする。
は請求項２記載の差圧測定装置において、前記シールダ
イアフラムに接する面を所定の面租度にされたシーム溶
接機のシールダイアフラム側電極を使用して形成された
シーム溶接部を具備したことを特徴とする。
【００３４】本発明の請求項４においては、請求項1乃
至請求項3の何れかに記載の差圧測定装置において、前
記シールダイアフラムとして、高耐腐食性材が使用され
たことを特徴とする。
至請求項3の何れかに記載の差圧測定装置において、前
記シールダイアフラムとして、高耐腐食性材が使用され
たことを特徴とする。
【００３５】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明を詳しく
説明する。図１は本発明の一実施例の要部構成説明図、
図2は図１の要部詳細説明図、図３は図１の動作説明図
である。
説明する。図１は本発明の一実施例の要部構成説明図、
図2は図１の要部詳細説明図、図３は図１の動作説明図
である。
【００３６】図において、図９，図１０と同一記号の構
成は同一機能を表す。以下、図９，図１０と相違部分の
み説明する。
成は同一機能を表す。以下、図９，図１０と相違部分の
み説明する。
【００３７】抵抗溶接部３１は、シールダイアフラム１
２，１３の一方の面の周縁を、受圧部１Bにリング状に,
所定の断続的な短時間電気パルスにより溶接形成されて
いる。この場合は、抵抗溶接としてシーム溶接が使用さ
れている。なお、シールダイアフラム１２，１３は高耐
腐食性材が使用されている。
２，１３の一方の面の周縁を、受圧部１Bにリング状に,
所定の断続的な短時間電気パルスにより溶接形成されて
いる。この場合は、抵抗溶接としてシーム溶接が使用さ
れている。なお、シールダイアフラム１２，１３は高耐
腐食性材が使用されている。
【００３８】以上の構成において、図2における周方向
断面Ｇを図3に示す。図３に示す如く、抵抗溶接部３１
を小さくすることにより、接液表面から抵抗溶接部３１
までの距離Lを長くすることが出来る。
断面Ｇを図3に示す。図３に示す如く、抵抗溶接部３１
を小さくすることにより、接液表面から抵抗溶接部３１
までの距離Lを長くすることが出来る。
【００３９】図３の下欄に、抵抗溶接部３１に対応する
電気パルスによる溶接条件を示す。この場合の溶接条件
は、通電時間ｔを１ｍｓと短く，通電ピッチPも１６ｍ
ｓと短くされている。なお、図３の下欄の横軸は時間
Ｔ、縦軸は電力Ｗを示す。
電気パルスによる溶接条件を示す。この場合の溶接条件
は、通電時間ｔを１ｍｓと短く，通電ピッチPも１６ｍ
ｓと短くされている。なお、図３の下欄の横軸は時間
Ｔ、縦軸は電力Ｗを示す。
【００４０】この結果、 （１）抵抗溶接部３１が測定流体に露出しないように出
来るので、抵抗溶接部３１から腐食する恐れが無く、信
頼性が向上された差圧測定装置が得られる。
来るので、抵抗溶接部３１から腐食する恐れが無く、信
頼性が向上された差圧測定装置が得られる。
【００４１】（２）シーム溶接を採用すれば、ほとんど
連続的な溶接部３１が得られるので、更に信頼性が向上
された差圧測定装置が得られる。
連続的な溶接部３１が得られるので、更に信頼性が向上
された差圧測定装置が得られる。
【００４２】（３）測定流体ＦＬｏに直接に接液するシ
ールダイアフラム１２，１３が、高耐腐食性材が使用さ
れ、且つ、受圧部１Ｂにシールダイアフラムが直接接合
出来るようにした。この結果、高耐腐食性を確保するた
めの、構造を簡潔に出来、部品点数が削減出来て、製造
コストが低減出来、安価に出来る差圧測定装置が得られ
る。
ールダイアフラム１２，１３が、高耐腐食性材が使用さ
れ、且つ、受圧部１Ｂにシールダイアフラムが直接接合
出来るようにした。この結果、高耐腐食性を確保するた
めの、構造を簡潔に出来、部品点数が削減出来て、製造
コストが低減出来、安価に出来る差圧測定装置が得られ
る。
【００４３】図４は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。図１実施例において、シーム溶接でシールダ
イアフラム１２，１３とステンレスからなる受圧部１Ｂ
を直接溶接すると，溶接界面から接液表面に局所的な溶
けこみ３１１が発生することがある。
図である。図１実施例において、シーム溶接でシールダ
イアフラム１２，１３とステンレスからなる受圧部１Ｂ
を直接溶接すると，溶接界面から接液表面に局所的な溶
けこみ３１１が発生することがある。
【００４４】これでは、接液表面まで抵抗溶接部３１が
出てしまい、耐食性に問題が発生する。図５に表面散り
３１１の無いシーム溶接の断面図を示し、図６に表面散
り３１１の有るシーム溶接の断面図を示す。
出てしまい、耐食性に問題が発生する。図５に表面散り
３１１の無いシーム溶接の断面図を示し、図６に表面散
り３１１の有るシーム溶接の断面図を示す。
【００４５】図４において、シーム溶接部４１は、シー
ルダイアフラム１２，１３に接する面を所定の面租度に
されたシーム溶接機のシールダイアフラム側電極Hを使
用して形成されている。なお、Kはシーム溶接機の受圧
部側電極である。
ルダイアフラム１２，１３に接する面を所定の面租度に
されたシーム溶接機のシールダイアフラム側電極Hを使
用して形成されている。なお、Kはシーム溶接機の受圧
部側電極である。
【００４６】以上の構成において、図７は図４の要部詳
細図、図８は図７の周方向断面Ｊの図である。図７，図
８において、この場合は、シーム溶接機のシールダイア
フラム側電極Hのシールダイアフラム１２，１３に接す
る接触部表面粗さを２Ｓ以下として、通常の旋削加工電
極に比べて面租度が向上されている。
細図、図８は図７の周方向断面Ｊの図である。図７，図
８において、この場合は、シーム溶接機のシールダイア
フラム側電極Hのシールダイアフラム１２，１３に接す
る接触部表面粗さを２Ｓ以下として、通常の旋削加工電
極に比べて面租度が向上されている。
【００４７】これにより、ダイアフラム側電極Ｈ−シー
ルダイアフラム１２，１３表面間の接触抵抗を小さく
し、接触面内の接触抵抗のかたよりを防ぎ、ダイアフラ
ム側電極H−シールダイアフラム１２，１３表面間での
溶融を抑えることにより、溶接界面から接液表面に向け
て局所的に溶ける表面散り３１１を防止している。
ルダイアフラム１２，１３表面間の接触抵抗を小さく
し、接触面内の接触抵抗のかたよりを防ぎ、ダイアフラ
ム側電極H−シールダイアフラム１２，１３表面間での
溶融を抑えることにより、溶接界面から接液表面に向け
て局所的に溶ける表面散り３１１を防止している。
【００４８】この結果、シーム溶接機のシールダイアフ
ラム側電極Hとシールダイアフラム１２，１３表面間の
接触抵抗を小さくし、接触面内の接触抵抗のかたよりを
防ぎ、電極Hとシールダイアフラム１２，１３表面間で
の溶融を抑えることにより、溶接界面から接液表面に向
けて局所的に溶ける表面散り３１１を防止するようにし
た。
ラム側電極Hとシールダイアフラム１２，１３表面間の
接触抵抗を小さくし、接触面内の接触抵抗のかたよりを
防ぎ、電極Hとシールダイアフラム１２，１３表面間で
の溶融を抑えることにより、溶接界面から接液表面に向
けて局所的に溶ける表面散り３１１を防止するようにし
た。
【００４９】従って、シーム溶接部４１から腐食する恐
れが無く、信頼性が更に向上された差圧測定装置が得ら
れる。
れが無く、信頼性が更に向上された差圧測定装置が得ら
れる。
【００５０】なお、以上の説明は、本発明の説明および
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項１
によれば、次のような効果がある。抵抗溶接部が測定流
体に露出しないように出来るので、抵抗溶接部から腐食
する恐れが無く、信頼性が向上された差圧測定装置が得
られる。
によれば、次のような効果がある。抵抗溶接部が測定流
体に露出しないように出来るので、抵抗溶接部から腐食
する恐れが無く、信頼性が向上された差圧測定装置が得
られる。
【００５２】本発明の請求項２によれば、次のような効
果がある。シーム溶接を採用すれば、ほとんど連続的な
溶接部が得られるので、更に信頼性が向上された差圧測
定装置が得られる。
果がある。シーム溶接を採用すれば、ほとんど連続的な
溶接部が得られるので、更に信頼性が向上された差圧測
定装置が得られる。
【００５３】本発明の請求項３によれば、次のような効
果がある。シーム溶接機のシールダイアフラム側電極と
シールダイアフラム表面間の接触抵抗を小さくし、接触
面内の接触抵抗のかたよりを防ぎ、電極とシールダイア
フラム表面間での溶融を抑えることにより、溶接界面か
ら接液表面に向けて局所的に溶ける表面散りを防止する
ようにした。
果がある。シーム溶接機のシールダイアフラム側電極と
シールダイアフラム表面間の接触抵抗を小さくし、接触
面内の接触抵抗のかたよりを防ぎ、電極とシールダイア
フラム表面間での溶融を抑えることにより、溶接界面か
ら接液表面に向けて局所的に溶ける表面散りを防止する
ようにした。
【００５４】この結果、抵抗溶接部から腐食する恐れが
無く、信頼性が更に向上された差圧測定装置が得られ
る。
無く、信頼性が更に向上された差圧測定装置が得られ
る。
【００５５】本発明の請求項４によれば、次のような効
果がある。測定流体に直接に接液するシールダイアフラ
ムが、高耐腐食性材が使用され、且つ、受圧部にシール
ダイアフラムが直接接合出来るようにした。この結果、
高耐腐食性を確保するための、構造を簡潔に出来、部品
点数が削減出来て、製造コストが低減出来、安価に出来
る差圧測定装置が得られる。
果がある。測定流体に直接に接液するシールダイアフラ
ムが、高耐腐食性材が使用され、且つ、受圧部にシール
ダイアフラムが直接接合出来るようにした。この結果、
高耐腐食性を確保するための、構造を簡潔に出来、部品
点数が削減出来て、製造コストが低減出来、安価に出来
る差圧測定装置が得られる。
【００５６】従って、本発明によれば、構造が簡潔にな
り、部品点数が削減出来て、製造コストが低減出来、安
価に出来る差圧測定装置を実現することが出来る。
り、部品点数が削減出来て、製造コストが低減出来、安
価に出来る差圧測定装置を実現することが出来る。
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】図１の要部詳細説明図である。
【図３】図１の動作説明図である。
【図４】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図５】表面散りの無いシーム溶接の断面図である。
【図６】表面散りの有るシーム溶接の断面図である。
【図７】図４の要部詳細説明図である。
【図８】図４の動作説明図である。
【図９】従来より一般に使用されている従来例の要部構
成説明図である。
成説明図である。
【図１０】従来より一般に使用されている他の従来例の
要部構成説明図である。
要部構成説明図である。
１B 受圧部 ２ 高圧側カバーフランジ ３ 低圧側カバーフランジ １２ シールダイアフラム １２１ シールリング １３ シールダイアフラム １３１ シールリング １８ Ｏリング ２１ 間材リング ２２ 間材リング ３１ 抵抗溶接部 ３１１ 表面散り ４１ シーム溶接部 D 電子ビーム溶接 E 電子ビーム溶接 F Ｔｉｇ溶接 Ｇ 周方向断面 Ｈ シーム溶接機のシールダイアフラム側電極 Ｊ 周方向断面 K シーム溶接機の受圧部側電極 Ｌ 距離 Ｐ 通電ピッチ Ｔ 時間 ｔ 通電時間 Ｗ 電力
Claims (4)
- 【請求項１】ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部が
溶接固定されるシールダイアフラムを具備する差圧測定
装置において、 前記シールダイアフラムの前記一方の面の周縁を前記受
圧部にリング状に所定の断続的な短時間電気パルスによ
り溶接形成された抵抗溶接部を具備したことを特徴とす
る差圧測定装置。 - 【請求項２】前記抵抗溶接としてシーム溶接が使用され
たことを特徴とする請求項１記載の差圧測定装置。 - 【請求項３】前記シールダイアフラムに接する面を所定
の面租度にされたシーム溶接機のシールダイアフラム側
電極を使用して形成されたシーム溶接部を具備したこと
を特徴とする請求項１又は請求項２記載の差圧測定装
置。 - 【請求項４】前記シールダイアフラムとして、高耐腐食
性材が使用されたことを特徴とする請求項1乃至請求項3
の何れかに記載の差圧測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000018779A JP2001208631A (ja) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | 差圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000018779A JP2001208631A (ja) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | 差圧測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001208631A true JP2001208631A (ja) | 2001-08-03 |
Family
ID=18545576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000018779A Pending JP2001208631A (ja) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | 差圧測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001208631A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012503179A (ja) * | 2008-09-17 | 2012-02-02 | ピー・アイ・コンポーネンツ・コーポレーション | ダイヤフラム構造およびダイヤフラム構造を製造する方法 |
| JP2012184757A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Denso Corp | ダンパ装置およびこれを備えた高圧ポンプ |
-
2000
- 2000-01-27 JP JP2000018779A patent/JP2001208631A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012503179A (ja) * | 2008-09-17 | 2012-02-02 | ピー・アイ・コンポーネンツ・コーポレーション | ダイヤフラム構造およびダイヤフラム構造を製造する方法 |
| JP2012184757A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Denso Corp | ダンパ装置およびこれを備えた高圧ポンプ |
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Legal Events
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060404 |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081216 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090206 |
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