JP2001206933A - Resin composition for sealing use and semiconductor- sealed device - Google Patents

Resin composition for sealing use and semiconductor- sealed device

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JP2001206933A
JP2001206933A JP2000015127A JP2000015127A JP2001206933A JP 2001206933 A JP2001206933 A JP 2001206933A JP 2000015127 A JP2000015127 A JP 2000015127A JP 2000015127 A JP2000015127 A JP 2000015127A JP 2001206933 A JP2001206933 A JP 2001206933A
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semiconductor
resin
inorganic filler
polycyclic aromatic
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Yuzuru Wada
譲 和田
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Toshiba Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the subject resin composition having a good flowability/ formability and soldering heat resistance in its mounting, causing no resin cracking, high in adhesivity, excellent in moisture resistance after mounted, and securing its long-term reliability, and to provide semiconductor-sealed devices using the above resin composition. SOLUTION: This resin composition for sealing use essentially comprises (A) a phenolic resin curing agent modified with a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon such as naphthalene or anthracene, (B) an epoxy resin, (C) 25-95 wt.% of an inorganic filler and (D) a curing promoter. The other objective semiconductor-sealed devices are such that the semiconductor chips are sealed with the cured product of the above resin composition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高密着性、高強
度、低吸水で、成形性、半田耐熱性に優れた封止用樹脂
組成物および半導体封止装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing resin composition having high adhesion, high strength, low water absorption, excellent moldability and soldering heat resistance, and a semiconductor sealing device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路などを機械的、化学的作
用から保護するために、封止用樹脂組成物が開発されて
きた。近年、ICは高集積化に伴う大型化、多極化が進
む一方で、パッケージの外径寸法は小型化している。そ
のため、市場に大きなニーズのある表面実装対応デバイ
ス用には高い半田耐熱性が要求される。半田耐熱性につ
いて重要なことは、パッケージ内部の各種の部材に対す
る密着力と、樹脂組成物自体の強度の向上である。そこ
で封止用樹脂組成物は問題解決のために高密着化、高強
度化、低吸水化のために無機質充填剤の高充填化、密着
付与剤の添加等を行ってきた。しかし、反面、成形時に
おける不具合を生じやすいという結果が起きてきた。例
えば、外部巣、内部巣の増加、ボンディングワイヤの変
形、薄型パッケージにおける充填性不足という欠点であ
る。
2. Description of the Related Art In order to protect semiconductor integrated circuits and the like from mechanical and chemical actions, sealing resin compositions have been developed. In recent years, ICs have become larger and more multi-polarized due to higher integration, while the outer diameter of packages has been reduced. Therefore, high solder heat resistance is required for a device for surface mounting, which has a great need in the market. What is important for the solder heat resistance is the improvement of the adhesion to various members inside the package and the strength of the resin composition itself. In order to solve the problems, the sealing resin composition has been made to have high adhesion, high strength, and low water absorption by increasing the amount of an inorganic filler and adding an adhesion promoter. However, on the other hand, there has been a result that defects at the time of molding are likely to occur. For example, there are disadvantages such as an increase in outer nests and inner nests, deformation of bonding wires, and insufficient filling in thin packages.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解消するためになされたもので、実装時の高い半田耐
熱性を維持し、また、流動性、成形性が良好でワイヤの
変形を起こさない、封止用樹脂組成物と半導体封止装置
を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks. The present invention maintains high solder heat resistance during mounting, and has good fluidity and moldability, and is capable of deforming a wire. It is an object of the present invention to provide a sealing resin composition and a semiconductor sealing device which do not cause the problem.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定のフェノー
ル樹脂をエポキシ樹脂組成物の硬化剤として用いること
によって、その熱膨張係数を低減し、流動性が高く、機
械的特性に優れ、得られた半導体封止装置は半田浸漬、
半田リフロー後の樹脂クラックの発生がないことを見出
し、本発明を完成したものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, by using a specific phenol resin as a curing agent for an epoxy resin composition, the coefficient of thermal expansion thereof has been reduced. Reduced, high fluidity, excellent mechanical properties, the resulting semiconductor encapsulation device is solder immersion,
The inventors have found that there is no occurrence of resin cracks after solder reflow, and have completed the present invention.

【0005】即ち、本発明は、(A)次式で示される、
縮合多環芳香族炭化水素で変性をしたフェノール樹脂硬
化剤、
That is, the present invention provides (A) the following formula:
Phenolic resin curing agent modified with condensed polycyclic aromatic hydrocarbon,

【化3】 (但し、式中、Rはナフタレン、アントラセン等任意の
縮合多環芳香環を、nは1以上の整数を表し、nが2以
上の場合にRは同一であっても異なっていてもよい)
(B)エポキシ樹脂、(C)無機質充填剤および(D)
硬化促進剤を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記
(C)無機質充填剤を25〜95重量%の割合で含有す
ることを特徴とする封止用樹脂組成物であり、また、こ
の封止用樹脂組成物の硬化物で、半導体チップが封止さ
れてなることを特徴とする半導体封止装置である。
Embedded image (However, in the formula, R represents any condensed polycyclic aromatic ring such as naphthalene or anthracene, n represents an integer of 1 or more, and when n is 2 or more, Rs may be the same or different.)
(B) epoxy resin, (C) inorganic filler and (D)
A sealing resin composition comprising a curing accelerator as an essential component and the inorganic filler (C) in a proportion of 25 to 95% by weight based on the resin composition. A semiconductor sealing device, wherein a semiconductor chip is sealed with a cured product of a resin composition for stopping.

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0007】本発明に用いる(A)縮合多環芳香族炭化
水素で変性をしたフェノール樹脂硬化剤としては、前記
の一般式化3で示されたものが使用される。具体的に
は、例えば、
As the (A) phenol resin curing agent modified with the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon used in the present invention, those represented by the above-mentioned general formula 3 are used. Specifically, for example,

【化4】 等があげられ、これらは単独又は2種以上混合して使用
することができる。また、この変性フェノール樹脂に
は、ノボラック系フェノール樹脂やアラルキル系フェノ
ール樹脂、その他の公知のフェノール樹脂を併用でき
る。
Embedded image These can be used alone or in combination of two or more. In addition, a novolak phenol resin, an aralkyl phenol resin, and other known phenol resins can be used in combination with the modified phenol resin.

【0008】本発明に用いる(B)エポキシ樹脂として
は、ノボラック系エポキシ樹脂やビフェニル系エポキシ
樹脂、その他の公知のエポキシ樹脂を併用することがで
きる。
As the epoxy resin (B) used in the present invention, novolak epoxy resins, biphenyl epoxy resins, and other known epoxy resins can be used in combination.

【0009】本発明に用いる(C)無機質充填剤として
は、一般に公知されているものが広く使用されるが、そ
れらの中でも不純物濃度が低く、平均粒径30μm以下
のシリカ粉末が好ましく使用することができる。平均粒
径が30μmを超えると耐湿性および成形性が劣り好ま
しくない。無機質充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成
物に対して25〜95重量%の割合で含有することが望
ましい。その割合が25重量%未満では、樹脂組成物の
吸湿率が大きくなり、はんだ浸漬後の耐湿性に劣り、ま
た、95重量%を超えると極端に流動性が悪くなり、成
形性に劣り好ましくない。
As the inorganic filler (C) used in the present invention, generally known inorganic fillers are widely used. Among them, silica powder having a low impurity concentration and an average particle diameter of 30 μm or less is preferably used. Can be. If the average particle size exceeds 30 μm, the moisture resistance and the moldability are poor, which is not preferable. The inorganic filler is desirably contained in a proportion of 25 to 95% by weight based on the whole resin composition. If the proportion is less than 25% by weight, the moisture absorption of the resin composition becomes large, and the moisture resistance after solder immersion is inferior. If it exceeds 95% by weight, the fluidity becomes extremely poor, and the moldability deteriorates, which is not preferable. .

【0010】本発明に用いる(D)硬化促進剤として
は、DBU系硬化促進剤、リン系硬化促進剤、イミダゾ
ール系硬化促進剤、その他の硬化促進剤等が広く使用さ
れ、これらは単独又は2種以上併用することができる。
硬化促進剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して
0.01〜5重量%含有するように配合することが望ま
しい。その割合が0.01重量%未満では、樹脂組成物
のゲルタイムが長く、硬化特性も悪くなり、また、5重
量%を超えると極端に流動性が悪くなって成形性に劣
り、さらに電気特性が悪くなり耐湿性にも劣り好ましく
ない。
As the (D) curing accelerator used in the present invention, DBU-based curing accelerators, phosphorus-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, and other curing accelerators are widely used. More than one species can be used in combination.
It is desirable to mix the curing accelerator so that it is contained in an amount of 0.01 to 5% by weight based on the entire resin composition. If the proportion is less than 0.01% by weight, the gel time of the resin composition will be long and the curing properties will be poor. It is unfavorable because it deteriorates and has poor moisture resistance.

【0011】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した
特定のフェノール樹脂硬化剤、エポキシ樹脂、無機質充
填剤および硬化促進剤を必須成分とするが、本発明の目
的に反しない限度において、また必要に応じて、例えば
天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属
塩、酸アミド類、エステル類、パラフィン類等の離型
剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、
ベンガラ等の着色剤、シランカップリング剤、ゴム系や
シリコーン系の低応力付与剤等を適宜、添加配合するこ
とができる。
The epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned specific phenolic resin curing agent, epoxy resin, inorganic filler and curing accelerator as essential components. Depending on, for example, natural waxes, synthetic waxes, metal salts of linear fatty acids, acid amides, esters, release agents such as paraffins, flame retardants such as antimony trioxide, carbon black,
A coloring agent such as redwood, a silane coupling agent, a rubber-based or silicone-based low-stress imparting agent, and the like can be appropriately added and blended.

【0012】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て調製する場合の一般的な方法としては、前述した特定
のフェノール樹脂硬化剤、エポキシ樹脂、無機質充填剤
および硬化促進剤、その他成分を所定の組成比に選択し
た原料成分を配合し、ミキサー等によって十分均一に混
合した後、さらに熱ロールによる溶融混合処理又はニー
ダ等による混練処理を行い、次いで冷却固化させ、適当
な大きさに粉砕して成形材料とすることができる。こう
して得られた成形材料は、半導体装置をはじめとする電
子部品あるいは電気部品の、被覆、絶縁等に適用すれ
ば、優れた特性と信頼性を付与させることができる。
As a general method for preparing the encapsulating resin composition of the present invention as a molding material, the above-mentioned specific phenol resin curing agent, epoxy resin, inorganic filler and curing accelerator, and other components are used. After mixing the raw materials selected in a predetermined composition ratio and mixing them sufficiently uniformly with a mixer or the like, further performing a melt-mixing treatment with a hot roll or a kneading treatment with a kneader or the like, and then solidifying by cooling and pulverizing to an appropriate size. To form a molding material. If the molding material thus obtained is applied to coating, insulation, etc. of electronic parts or electric parts such as semiconductor devices, excellent properties and reliability can be imparted.

【0013】本発明の半導体封止装置は、上述した成形
材料を用いて、半導体チップを封止することにより容易
に製造することができる。封止を行う半導体チップとし
ては、例えば、集積回路、大規模集積回路、トランジス
タ、サイリスタ、ダイオード等で特に限定されるもので
はない。封止の最も一般的な方法としては、低圧トラン
スファー成形法があるが、射出成形、圧縮成形、注型等
による封止も可能である。成形材料は封止の際に加熱し
て硬化させ、最終的にはこの硬化物によって封止された
半導体封止装置が得られる。加熱による硬化は、150
℃以上に加熱して硬化させるのが望ましい。チップを搭
載する基板としては、セラミックス、プラスティック、
ポリイミドフィルム、リードフレームなどであるがこれ
らに限定されるものではない。
The semiconductor encapsulation device of the present invention can be easily manufactured by encapsulating a semiconductor chip using the above-mentioned molding material. The semiconductor chip to be sealed is not particularly limited to, for example, an integrated circuit, a large-scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode, and the like. The most common sealing method is a low-pressure transfer molding method, but sealing by injection molding, compression molding, casting or the like is also possible. The molding material is heated and cured at the time of sealing, and finally a semiconductor sealing device sealed with the cured product is obtained. Curing by heating is 150
Desirably, the composition is cured by heating to a temperature of at least ℃. Substrates for mounting chips include ceramics, plastics,
Examples include, but are not limited to, polyimide films and lead frames.

【0014】[0014]

【作用】本発明の封止用樹脂組成物および半導体封止装
置は、前述した特定のフェノール樹脂を用いたことによ
り、樹脂組成物の熱膨張係数を低減し、且つ、無機質充
填剤を高充填化しても高流動性を兼ね備えることによっ
て、熱機械特性が向上して、半田浸漬、半田リフロー後
の樹脂クラックの発生がなくなり、耐湿性劣化が少なく
なるものである。
The sealing resin composition and the semiconductor sealing device of the present invention use the above-mentioned specific phenol resin to reduce the coefficient of thermal expansion of the resin composition and to fill the inorganic filler with a high amount. By having high fluidity even after the formation, the thermo-mechanical properties are improved, the occurrence of resin cracks after solder immersion and solder reflow is eliminated, and deterioration of moisture resistance is reduced.

【0015】[0015]

【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。以下の実施例及び比較例において「%」とは
「重量%」を意味する。
Next, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following Examples and Comparative Examples, “%” means “% by weight”.

【0016】実施例1 前述した化3の縮合多環芳香族変性フェノール樹脂とし
てFPI−5127(鹿島石油株式会社製、商品名)
4.0%、ビフェニルエポキシ樹脂5.0%、シリカ粉
末90%、硬化促進剤0.2%、エステルワックス0.
3%及びシランカップリング剤0.5%を常温で混合
し、さらに90〜95℃で混練してこれを冷却固化して
成形材料(A)を製造した。
Example 1 FPI-5127 (trade name, manufactured by Kashima Oil Co., Ltd.) as the above-mentioned condensed polycyclic aromatic modified phenolic resin of Chemical Formula 3
4.0%, biphenyl epoxy resin 5.0%, silica powder 90%, curing accelerator 0.2%, ester wax 0.
3% and 0.5% of the silane coupling agent were mixed at room temperature, kneaded at 90 to 95 ° C, and cooled and solidified to produce a molding material (A).

【0017】実施例2 実施例1と同じく、化3の縮合多環芳香族変性フェノー
ル樹脂としてFPI−5127(鹿島石油株式会社製、
商品名)4.0%、ノボラックエポキシ樹脂5.0%、
シリカ粉末90%、硬化促進剤0.2%、エステルワッ
クス0.3%及びシランカップリング剤0.5%を常温
で混合し、さらに90〜95℃で混練してこれを冷却固
化して成形材料(B)を製造した。
Example 2 As in Example 1, FPI-5127 (manufactured by Kashima Oil Co., Ltd.) was used as the condensed polycyclic aromatic modified phenol resin of Chemical Formula 3.
Trade name) 4.0%, Novolak epoxy resin 5.0%,
90% of silica powder, 0.2% of curing accelerator, 0.3% of ester wax and 0.5% of silane coupling agent are mixed at room temperature, kneaded at 90-95 ° C, solidified by cooling and molding. Material (B) was produced.

【0018】比較例1 フェノールアラルキル樹脂4.0%、ビフェニルエポキ
シ樹脂5.0%、シリカ粉末90%、硬化促進剤0.2
%、エステルワックス0.3%及びシランカップリング
剤0.5%を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練
してこれを冷却固化して成形材料(C)を製造した。
Comparative Example 1 4.0% phenol aralkyl resin, 5.0% biphenyl epoxy resin, 90% silica powder, 0.2 curing accelerator
%, Ester wax 0.3% and silane coupling agent 0.5% were mixed at room temperature, kneaded at 90-95 ° C., and cooled and solidified to produce a molding material (C).

【0019】比較例2 フェノールアラルキル樹脂4.0%、ノボラックエポキ
シ樹脂5.0%、シリカ粉末90%、硬化促進剤0.2
%、エステルワックス0.3%及びシランカップリング
剤0.5%を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練
してこれを冷却固化して成形材料(D)を製造した。
Comparative Example 2 Phenol aralkyl resin 4.0%, novolak epoxy resin 5.0%, silica powder 90%, curing accelerator 0.2
%, Ester wax 0.3% and silane coupling agent 0.5% were mixed at room temperature, kneaded at 90-95 ° C., and cooled and solidified to produce a molding material (D).

【0020】こうして製造した成形材料(A)〜(D)
を用いて、180℃に加熱した金型内にトランスファー
注入し、硬化させて半導体チップを封止して半導体封止
装置を製造した。これらの半導体封止装置について、諸
試験を行ったのでその結果を表1に示したが、本発明の
エポキシ樹脂組成物及び半導体封止装置は、流動性、耐
湿性、半田耐熱性に優れており、本発明の顕著な効果を
確認することができた。
The molding materials (A) to (D) thus produced
Was transferred into a mold heated to 180 ° C. and cured to seal a semiconductor chip, thereby manufacturing a semiconductor sealing device. Various tests were performed on these semiconductor sealing devices, and the results are shown in Table 1. The epoxy resin composition and the semiconductor sealing device of the present invention have excellent fluidity, moisture resistance, and solder heat resistance. Thus, a remarkable effect of the present invention could be confirmed.

【0021】[0021]

【表1】 *1:トランスファー成形によって直径50mm、厚さ
3mmの成形品を作り、これを127℃,2.5気圧の
飽和水蒸気中に24時間放置し、増加した重量によって
測定した。
[Table 1] * 1: A molded article having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was prepared by transfer molding, left in a saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm for 24 hours, and measured by the increased weight.

【0022】*2:吸水率の場合と同様な成形品を作
り、175℃で8時間の後硬化を行い、適当な大きさの
試験片とし、熱機械分析装置を用いて測定した。
* 2: A molded article was prepared in the same manner as in the case of the water absorption rate, post-cured at 175 ° C. for 8 hours, and a test piece having an appropriate size was measured using a thermomechanical analyzer.

【0023】*3:JIS−K−6911に準じて試験
した。
* 3: Tested according to JIS-K-6911.

【0024】*4:成形材料を用いて、2本のアルミニ
ウム配線を有するシリコン製チップを、通常の42アロ
イフレームに接着し、180℃で1分間トランスファー
成形した後、175℃で8時間の後硬化を行った。こう
して得た成形品を127℃,2.5気圧の飽和水蒸気中
で耐湿試験を行い、アルミニウム腐食による50%断線
(不良発生)の起こる時間を評価した。
* 4: Using a molding material, a silicon chip having two aluminum wirings was bonded to a normal 42 alloy frame, transfer-molded at 180 ° C. for 1 minute, and after 8 hours at 175 ° C. Curing was performed. The molded product thus obtained was subjected to a moisture resistance test in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm to evaluate the time at which 50% disconnection (defect occurrence) due to aluminum corrosion occurred.

【0025】*5:6.0×6.0mmダミーチップを
QFP(14×14×1.0mm)パッケージに納め、
成形材料を用いて、180℃で1分間トランスファー成
形した後、175℃で8時間の後硬化を行った。こうし
て製造した半導体封止装置を85℃,85%,168時
間の吸湿処理をした後、240℃のIRリフローを30
秒間行い、パッケージクラックの発生の有無を評価し
た。
* 5: A 6.0 × 6.0 mm dummy chip is placed in a QFP (14 × 14 × 1.0 mm) package.
After transfer molding at 180 ° C. for 1 minute using the molding material, post-curing was performed at 175 ° C. for 8 hours. After the thus-manufactured semiconductor sealing device is subjected to a moisture absorption treatment at 85 ° C. and 85% for 168 hours, IR reflow at 240 ° C. is performed for 30 minutes.
The test was performed for 2 seconds to evaluate whether or not a package crack occurred.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上の説明及び表1から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物及び半導体封止装置は、
流動性が良好で、成形性に優れ、また、実装時の耐湿
性、半田耐熱性に優れ、樹脂クラックもなく、その結
果、長期間の信頼性を保証することができる。
As apparent from the above description and Table 1, the encapsulating resin composition and the semiconductor encapsulating apparatus of the present invention are:
The fluidity is good, the moldability is excellent, the moisture resistance at the time of mounting and the solder heat resistance are excellent, and there is no resin crack. As a result, long-term reliability can be guaranteed.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)次式で示される、縮合多環芳香族
炭化水素で変性をしたフェノール樹脂硬化剤、 【化1】 (但し、式中、Rはナフタレン、アントラセン等任意の
縮合多環芳香環を、nは1以上の整数を表し、nが2以
上の場合にRは同一であっても異なっていてもよい)
(B)エポキシ樹脂、(C)無機質充填剤および(D)
硬化促進剤を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記
(C)無機質充填剤を25〜95重量%の割合で含有す
ることを特徴とする封止用樹脂組成物。
(A) A phenol resin curing agent modified with a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon represented by the following formula: (However, in the formula, R represents any condensed polycyclic aromatic ring such as naphthalene or anthracene, n represents an integer of 1 or more, and when n is 2 or more, Rs may be the same or different.)
(B) epoxy resin, (C) inorganic filler and (D)
A sealing resin composition comprising a curing accelerator as an essential component and the inorganic filler (C) in a proportion of 25 to 95% by weight based on the resin composition.
【請求項2】 (A)次式で示される、縮合多環芳香族
炭化水素で変性をしたフェノール樹脂硬化剤、 【化2】 (但し、式中、Rはナフタレン、アントラセン等任意の
縮合多環芳香環を、nは1以上の整数を表し、nが2以
上の場合にRは同一であっても異なっていてもよい)
(B)エポキシ樹脂、(C)無機質充填剤および(D)
硬化促進剤を必須成分とし、樹脂組成物に対して前記
(C)無機質充填剤を25〜95重量%の割合で含有す
る封止用樹脂組成物の硬化物で、半導体チップが封止さ
れてなることを特徴とする半導体封止装置。
(A) a phenol resin curing agent modified with a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon represented by the following formula: (However, in the formula, R represents any condensed polycyclic aromatic ring such as naphthalene or anthracene, n represents an integer of 1 or more, and when n is 2 or more, Rs may be the same or different.)
(B) epoxy resin, (C) inorganic filler and (D)
A semiconductor chip is sealed with a cured product of a sealing resin composition containing a curing accelerator as an essential component and (C) the inorganic filler in a ratio of 25 to 95% by weight based on the resin composition. A semiconductor encapsulation device, comprising:
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