JP2001200370A - Method for forming plating on high polymer forming material - Google Patents

Method for forming plating on high polymer forming material

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JP2001200370A
JP2001200370A JP2000009809A JP2000009809A JP2001200370A JP 2001200370 A JP2001200370 A JP 2001200370A JP 2000009809 A JP2000009809 A JP 2000009809A JP 2000009809 A JP2000009809 A JP 2000009809A JP 2001200370 A JP2001200370 A JP 2001200370A
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fluence
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Satoshi Hirono
聡 廣野
Hirokazu Tanaka
宏和 田中
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Omron Corp
Omron Tateisi Electronics Co
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming plating on a high polymer forming material by which the adhesion between the high polymer forming material and the plating film is improved. SOLUTION: A high polymer material obtained by filling a high polymer material with an inorganic filler is irradiated with a laser of high fluence as a first stage, and the irradiated part is irradiated with a laser of low fluence as a second stage to increase its surface roughness.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高分子成形材、例
えば、基板、電子部品のパッケージ等にレーザ照射した
後、無電解及び電解メッキを施すメッキ形成方法に係
り、特に、高分子成形材とメッキ膜との間の密着性を向
上させる高分子成形材のメッキ形成方法に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plating method for applying electroless and electrolytic plating after irradiating a polymer molding material, for example, a substrate or a package of electronic parts with a laser, and more particularly to a polymer molding material. The present invention relates to a method for forming a plating of a polymer molding material for improving the adhesion between a metal and a plating film.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、高分子材料からなる成形品に
は、表面を化学薬品によって粗面化し、Pdを吸着させ
た後、無電解メッキを施すようにしている。但し、Pd
のみの吸着は困難であるので、錫パラジウム化合物を吸
着させた後、還元する必要がある。
2. Description of the Related Art In general, a molded article made of a polymer material is subjected to electroless plating after the surface is roughened by a chemical and Pd is adsorbed. However, Pd
Since it is difficult to adsorb only the tin-palladium compound, it is necessary to reduce it after adsorbing the tin palladium compound.

【0003】ところで、化学薬品による粗面化は選択的
に行うことができないため、特定箇所のみをメッキする
場合には、一旦、全面をメッキした後、フォトレジスト
による露光・現像処理を行う必要があった。このため、
簡単に高分子成形品の表面にメッキ形成する方法が嘱望
されていた。
However, since surface roughening by chemicals cannot be performed selectively, when plating only a specific portion, it is necessary to first perform plating and exposure and development processing with a photoresist after plating the entire surface. there were. For this reason,
There has been a demand for a method of easily forming a plating on the surface of a polymer molded article.

【0004】そこで、特開平4−183873号公報に
示すように、高分子材料からなる成形品に紫外線レーザ
を照射することにより、特定箇所へのメッキを可能にす
る方法が提案された。
Therefore, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-183873, there has been proposed a method of irradiating a molded article made of a polymer material with an ultraviolet laser so that plating can be performed on a specific portion.

【0005】この方法によれば、高分子材料からなる成
形品に紫外線レーザを照射し、この成形品をPdコロイ
ド水溶液に浸漬した後、無電解メッキを行うだけで特定
箇所のみをメッキすることが可能である。すなわち、紫
外線レーザの照射により、照射領域のみが正に帯電する
ので、陰イオン性のPdコロイド水溶液に浸漬すると、
簡単に照射領域のみにPdコロイドを付着させることが
できる。そして、Pdコロイド水溶液に還元剤を含有さ
せておくことにより、無電解メッキの触媒となるPdの
みを析出させることが可能である。
According to this method, a molded article made of a polymer material is irradiated with an ultraviolet laser, and the molded article is immersed in an aqueous solution of Pd colloid. It is possible. That is, only the irradiated area is positively charged by the irradiation of the ultraviolet laser, so that when immersed in an anionic Pd colloid aqueous solution,
The Pd colloid can be easily attached only to the irradiation area. By including a reducing agent in the aqueous Pd colloid solution, it is possible to precipitate only Pd which serves as a catalyst for electroless plating.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たレーザ照射による方法では、次のような問題点があり
採用されるに至っていないのが現状である。
However, at present, the above-described method using laser irradiation has not been adopted because of the following problems.

【0007】すなわち、レーザを高フルーエンスで照射
した場合、照射領域(特定箇所)の周囲のみ帯電するた
め、低フルーエンスで行う必要があるが、それでは、帯
電量が不十分となり、Pdコロイドが充分に付着しな
い。また、レーザを相当数照射する必要が生じ、作業性
が悪化する。具体的には、レーザを、0.05J/cm
2 /パルスの低フルーエンスで照射した場合、充分な帯
電量を得るためには照射回数を1000回としなければ
ならない。
That is, when a laser is irradiated at a high fluence, only the area around the irradiation area (specific portion) is charged. Therefore, it is necessary to perform the process at a low fluence. However, the amount of charge becomes insufficient, and the Pd colloid becomes insufficient. Does not adhere. In addition, it becomes necessary to irradiate a considerable number of lasers, which deteriorates workability. Specifically, the laser is set to 0.05 J / cm
When irradiation is performed at a low fluence of 2 / pulse, the number of irradiations must be 1,000 times in order to obtain a sufficient charge amount.

【0008】そして、特に、レーザを低フルーエンスで
照射した場合、照射領域の表面粗さが小さくなり、形成
したメッキ膜が剥離しやすい。
[0008] In particular, when the laser beam is irradiated at a low fluence, the surface roughness of the irradiated area becomes small, and the formed plating film is easily peeled off.

【0009】本発明は、上記した問題点を解決するもの
であり、高分子成形材とメッキ膜間の密着性が向上する
高分子成形材のメッキ形成方法を提供することを目的に
している。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a method for forming a plating of a polymer molding material in which the adhesion between the polymer molding material and a plating film is improved.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明に係る高分子成形材のメッキ形成方法は、
高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形材にレ
ーザを照射し、当該照射部にメッキを行う高分子成形材
のメッキ形成方法であって、第1段階として照射部に高
フルーエンスのレーザを照射し、第2段階として、照射
部に低フルーエンスのレーザを照射して表面粗さを増す
ようにしたものである。
In order to achieve the above object, a method for forming a plating of a polymer molding material according to the present invention comprises:
This is a plating method for a polymer molding material in which a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler is irradiated with a laser, and the irradiated portion is plated. As a first step, a high fluence laser is applied to the irradiated portion. Irradiation is performed, and as a second stage, a low fluence laser is applied to the irradiated portion to increase the surface roughness.

【0011】そして、メッキが、高分子材料に無機フィ
ラーを充填した高分子成形材にレーザを照射し、照射部
に正の表面電位を生じさせた後、照射部に無電解メッキ
の触媒を析出させ、その後、高分子成形材を無電解メッ
キ液に浸漬して行われる無電解メッキであり、また、メ
ッキが、高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成
形材にレーザを照射し、照射部に導電性を付与した後、
高分子成形材を電解メッキ液に浸漬して行われる電解メ
ッキである。
[0011] Then, the plating is performed by irradiating a laser to a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler to generate a positive surface potential at an irradiated portion, and then depositing a catalyst for electroless plating at the irradiated portion. Then, the polymer molding material is immersed in an electroless plating solution to perform electroless plating, and the plating is performed by irradiating a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler with laser. After imparting conductivity to the part
This is electrolytic plating performed by immersing a polymer molding material in an electrolytic plating solution.

【0012】そして、レーザが波長600nm以下のレ
ーザであり、高フルーエンスが0.2〜2.0J/cm
2 のフルーエンスであり、低フルーエンスが高フルーエ
ンスの半分以下のフルーエンスであることが好ましい。
And a laser having a wavelength of 600 nm or less, and a high fluence of 0.2 to 2.0 J / cm.
Preferably, the fluence is 2 and the low fluence is less than half of the high fluence.

【0013】このように、第1段階として、高分子材料
に無機フィラーを充填した高分子成形材の表面に高フル
ーエンスのレーザを照射し、第2段階として、当該照射
部に低フルーエンスのレーザを照射して表面粗さを増す
ことができるために、ピール強度値が向上し、高分子成
形材とメッキ膜間の密着性が良好になる。
As described above, as a first step, the surface of a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler is irradiated with a high fluence laser, and as a second step, a low fluence laser is applied to the irradiated portion. Since the surface roughness can be increased by irradiation, the peel strength value is improved, and the adhesion between the polymer molding material and the plating film is improved.

【0014】このために、メッキ膜が容易に剥離するこ
とがなくなり、SMT実装(表面実装)にて部品のシェ
ア強度が低下すること、COB実装にてD/Bのシェア
強度が低下すること、といった問題を解消することがで
きる。
For this reason, the plating film is not easily peeled off, and the share strength of components is reduced in SMT mounting (surface mounting), and the D / B share strength is reduced in COB mounting. Such a problem can be solved.

【0015】また、高分子成形材として基板、電子部品
のパッケージを使用して、基板やパッケージにおける導
電パターンを無電解メッキもしくは電解メッキで形成す
ることができる。
Further, using a package of a substrate or an electronic component as a polymer molding material, a conductive pattern on the substrate or the package can be formed by electroless plating or electrolytic plating.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る高分子成形材
のメッキ形成方法の実施の形態を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the method for forming a plating of a polymer molded material according to the present invention will be described below.

【0017】図1はメッキ膜のピール強度値とレーザの
フルーエンスとの関係を示す線図、図2の(a)は高分
子材料としてのLCPに無機フィラーとしてのガラスフ
ィラーを添加し、この材料を射出成形して得られた高分
子成形材の断面図、図2の(b)〜(d)は、表面にレ
ーザの照射によるパターンを施した高分子成形材の断面
図、図3は第1段階として照射部に高フルーエンスのレ
ーザを照射し、第2段階として、照射部に低フルーエン
スのレーザを照射して表面粗さを増した形状包絡線を有
する高分子成形材の断面図である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the peel strength of the plating film and the fluence of the laser. FIG. 2 (a) shows the LCP as a polymer material to which a glass filler as an inorganic filler is added. 2 (b) to 2 (d) are cross-sectional views of a polymer molded material having a surface patterned by laser irradiation, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of a polymer molding material having a shape envelope with increased surface roughness by irradiating a high fluence laser to an irradiation part as one step and irradiating a low fluence laser to the irradiation part as a second step. .

【0018】レーザ照射後無電解メッキを施す方法にお
いて、高分子材料中に無機フィラーを混入することによ
り、それらの加工しきい値の差を利用して表面に凹凸を
形成し、高分子材料とメッキ膜間の密着性を高めるよう
にしたものがあるが、このメッキ形成方法では、例え
ば、無機フィラーとしてφ10μmのガラスフィラーを
30%添加したLCP(Liquid Crystal
Polymer:液晶ポリマ)でのピール強度試験に
よる剥離強度は4〜5N/cmとなる。
In the method of performing electroless plating after laser irradiation, an inorganic filler is mixed into a polymer material to form unevenness on the surface by utilizing a difference in processing threshold value between the inorganic material and the polymer material. There is a method in which the adhesion between the plating films is enhanced. In this plating method, for example, LCP (Liquid Crystal) to which 30% of a glass filler having a diameter of 10 μm is added as an inorganic filler is used.
(Polymer: liquid crystal polymer) has a peel strength of 4 to 5 N / cm by a peel strength test.

【0019】通常の化学薬品(例えば、水酸化カリウム
水溶液)での粗化方法によるLCPへのメッキ形成方法
に比べると未だ弱い。これは、例えば、SMT実装(表
面実装)にて、抵抗、コンデンサといった部品のシェア
強度が低下すること、COB実装にてD/Bのシェア強
度が低下することに繋がる。
It is still weaker than a method of forming a plating on LCP by a roughening method using a normal chemical (eg, an aqueous solution of potassium hydroxide). This leads to, for example, a decrease in the share strength of components such as a resistor and a capacitor in SMT mounting (surface mounting) and a decrease in D / B share strength in COB mounting.

【0020】本発明に係る高分子成形材のメッキ形成方
法は、高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形
材にレーザを照射し、当該照射部にメッキを行う高分子
成形材のメッキ形成方法であって、第1段階として、波
長600nm以下のレーザであって、0.2〜2.0J
/cm2 のフルーエンス(高フルーエンス)で照射部を
照射した後、第2段階として、その半分以下のフルーエ
ンス(低フルーエンス)で照射部を照射して表面粗さを
増すようにしたものである。
The method of forming a plating of a polymer molding material according to the present invention comprises irradiating a laser to a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler, and plating the irradiated portion. A laser having a wavelength of 600 nm or less as a first step;
After irradiating the irradiated part with a fluence (high fluence) of / cm 2 , as a second step, the irradiated part is irradiated with a fluence (low fluence) of half or less of the irradiated part to increase the surface roughness.

【0021】このように、第1段階として、高分子材料
に無機フィラーを充填した高分子成形材の表面に高フル
ーエンスのレーザを照射し、第2段階として、当該照射
部に低フルーエンスのレーザを照射して表面粗さを増す
ことができるために、ピール強度値が向上し、高分子成
形材とメッキ膜間の密着性が良好になり、メッキ膜が容
易に剥離することがなくなり、SMT実装(表面実装)
にて部品のシェア強度が低下すること、COB実装にて
D/Bのシェア強度が低下するといったことを防止する
ことができる。
As described above, as a first step, a high fluence laser is applied to the surface of a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler, and as a second step, a low fluence laser is applied to the irradiated portion. Irradiation can increase the surface roughness, thus improving the peel strength value, improving the adhesion between the polymer molding material and the plating film, and preventing the plating film from being easily peeled off. (Surface mount)
Thus, it is possible to prevent the share strength of the component from being reduced and the share strength of the D / B from being reduced by COB mounting.

【0022】そして、メッキが、高分子材料に10〜5
0%の前記無機フィラーを充填した高分子成形材に波長
600nm以下のレーザを照射し、照射部に正の表面電
位を生じさせた後、高分子成形材を陰イオン性のPd化
合物またはPdコロイドを含む水溶液に浸漬して、照射
部に無電解メッキの触媒となるPdのみを析出させた
後、高分子成形材を無電解メッキ液に浸漬して行われる
無電解メッキであり、また、メッキが、高分子材料に1
0〜50%の無機フィラーを充填した高分子成形材に波
長600nm以下のレーザを照射し、照射部に導電性を
付与した後、高分子成形材を電解メッキ液に浸漬して行
われる電解メッキである。
The plating is applied to the polymer material by 10 to 5 times.
After irradiating a laser having a wavelength of 600 nm or less to a polymer molding material filled with 0% of the inorganic filler to generate a positive surface potential at the irradiated portion, the polymer molding material is anionic Pd compound or Pd colloid. Is immersed in an aqueous solution containing Pd to precipitate only Pd, which serves as a catalyst for electroless plating, on the irradiated portion, and then immersed in a polymer molding material in an electroless plating solution. However, 1
Electrolytic plating is performed by irradiating a polymer molding material filled with 0 to 50% of an inorganic filler with a laser having a wavelength of 600 nm or less to impart conductivity to an irradiated portion, and then immersing the polymer molding material in an electrolytic plating solution. It is.

【0023】この場合、高分子材料は、液晶ポリマ(L
CP:Liquid Crystal Polyme
r)等が使用される。無機フィラーとしては、ガラスフ
ィラー、セラミックス粒子等が挙げられ、形状をφ1〜
20μm、長さ10μm以上のファイバー状、または、
φ0.5〜20μmの粒子状で、その高分子材料に対す
る添加量を10〜50重量%とすると、より一層デブリ
ーの飛散を抑制することが可能になる。
In this case, the polymer material is a liquid crystal polymer (L
CP: Liquid Crystal Polymer
r) etc. are used. Examples of the inorganic filler include a glass filler, ceramic particles, and the like.
20 μm, fiber length of 10 μm or more, or
When the particles are 0.5 to 20 μm in particle size and the amount added to the polymer material is 10 to 50% by weight, scattering of debris can be further suppressed.

【0024】また、レーザとしては、エキシマレーザ
(波長λ=193、248、308、351nm)、Y
AG第2高調波(波長λ=532nm)、YAG第3高
調波(波長λ=355nm)等の波長が600nm以下
のものであれば使用できる。
As the laser, an excimer laser (wavelength λ = 193, 248, 308, 351 nm), Y
As long as the wavelength of the second harmonic of the AG (wavelength λ = 532 nm), the third harmonic of the YAG (wavelength λ = 355 nm), or the like is 600 nm or less, it can be used.

【0025】また、レーザによる全投入エネルギの総計
を、10〜500J/cm2 とすると、無電解メッキの
場合、レーザの照射領域の帯電状態を貴金属を析出させ
るのに適した状態にすることができるし、また、電解メ
ッキの場合、レーザの照射領域の導電性を電解メッキ膜
の形成に適した状態にすることが可能である。
When the total input energy of the laser is 10 to 500 J / cm 2 , in the case of electroless plating, the charged state of the laser irradiation area can be set to a state suitable for precipitating a noble metal. Alternatively, in the case of electrolytic plating, it is possible to make the conductivity of the laser irradiation area suitable for forming an electrolytic plating film.

【0026】本発明者は、高分子材料に10〜50%の
無機フィラーを充填し、この材料を射出成形し、得られ
た高分子成形材に波長600nm以下のレーザを照射
し、照射部に正の表面電位を生じさせた後、陰イオン性
のPd化合物またはPdコロイドを含む水溶液に浸漬し
た後、無電解メッキを行う方法、及び高分子材料に10
〜50%の無機フィラーを充填した高分子成形材に波長
600nm以下のレーザを照射し、照射部に導電性を付
与した後、直接電解メッキを行うメッキ形成方法におい
て、高分子成形材とメッキ層間の密着性は表面粗さと相
関があり、表面粗さはフルーエンスと相関があるとの新
しい知見を実験から得た。
The inventor of the present invention filled a polymer material with 10 to 50% of an inorganic filler, injection-molded this material, irradiated a polymer having a wavelength of 600 nm or less on the obtained polymer molded material, and irradiated the irradiated portion with the laser. After generating a positive surface potential, immersing it in an aqueous solution containing an anionic Pd compound or Pd colloid, and then performing electroless plating,
In a plating method of irradiating a laser having a wavelength of 600 nm or less to a polymer molding material filled with 50% or less of an inorganic filler to impart conductivity to an irradiated portion, and directly performing electrolytic plating, the polymer molding material and a plating interlayer We have obtained new knowledge from experiments that there is a correlation between the surface roughness and the surface roughness, and that the surface roughness is related to the fluence.

【0027】フルーエンスとピール強度値との関係は図
1に示すようになり、その時の各フルーエンスと表面粗
さの関係は図2の(b)〜(d)に示すようになる。
The relationship between the fluence and the peel strength value is as shown in FIG. 1, and the relationship between each fluence and the surface roughness at that time is as shown in FIGS. 2 (b) to 2 (d).

【0028】図1において、領域・は、メッキ形成に必
要な最低フルーエンスH以上のフルーエンスの増加に伴
いピール強度値が増加する領域であり、領域・はフルー
エンスの増加でピール強度が減少する領域である。な
お、図1において、投入エネルギ量は各フルーエンスで
一定している。
In FIG. 1, a region is a region where the peel strength value increases with an increase in the fluence above the minimum fluence H required for plating, and a region is a region where the peel strength decreases with an increase in the fluence. is there. In FIG. 1, the input energy amount is constant at each fluence.

【0029】図2の(a)は、高分子材料としてのLC
P(Liquid CrystalPolymer:液
晶ポリマ)11に無機フィラーとしてのガラスフィラー
21を添加し、この材料を射出成形して得られた高分子
成形材31であり、この高分子成形材31の表面31A
には、レーザの照射によるパターン形成は行われておら
ず(図1において、フルーエンス0の場合)、表面31
Aは平滑であって、その表面形状包絡線イには凹凸が現
れていないものである。
FIG. 2A shows LC as a polymer material.
A polymer molding material 31 obtained by adding a glass filler 21 as an inorganic filler to P (Liquid Crystal Polymer: liquid crystal polymer) 11 and injection molding the material, and a surface 31A of the polymer molding material 31
Does not have a pattern formed by laser irradiation (in the case of fluence 0 in FIG. 1),
A is smooth, and no irregularities appear on its surface shape envelope A.

【0030】図2の(b)は、高分子成形材31の表面
(照射部)31Aに、レーザを、0.1J/cm2 のフ
ルーエンスで照射し、パターン形成が行われたものであ
り、表面31AにはLCP11の凹凸11Bと、ガラス
フィラー21による凹凸21Bとが生じており、その表
面形状包絡線ロに凹凸が現れていて、表面粗さが出現し
ている。
FIG. 2B shows a pattern formed by irradiating the surface (irradiation portion) 31A of the polymer molding material 31 with a laser at a fluence of 0.1 J / cm 2 . The unevenness 11B of the LCP 11 and the unevenness 21B due to the glass filler 21 are generated on the surface 31A, and the unevenness appears on the surface shape envelope B, and the surface roughness appears.

【0031】図2の(c)は、高分子成形材31の表面
(照射部)31Aに、レーザを、0.2J/cm2 のフ
ルーエンスで照射し、パターン形成が行われたものであ
り、表面31AにはLCP11の凹凸11Bと、ガラス
フィラー21による凹凸21Bとが図2の(b)の場合
より大きく生じており、その表面形状包絡線ハには凹凸
が現れていて、表面粗さが出現している。
FIG. 2 (c) shows a pattern formed by irradiating the surface (irradiation part) 31A of the polymer molding material 31 with a laser at a fluence of 0.2 J / cm 2 . The unevenness 11B of the LCP 11 and the unevenness 21B due to the glass filler 21 are larger on the surface 31A than in the case of FIG. 2B, and the unevenness appears on the surface shape envelope c. Has appeared.

【0032】図2の(d)は、高分子成形材31の表面
(照射部)31Aに、レーザを、0.6J/cm2 のフ
ルーエンスで照射し、パターン形成が行われたものであ
り、表面31AにはLCP11の表面は平滑化し、ガラ
スフィラー21による凹凸21Bが生じており、その表
面形状包絡線ニには凹凸21Bのみの表面粗さになって
いる。
FIG. 2D shows a pattern formed by irradiating the surface (irradiation part) 31A of the polymer molding material 31 with a laser at a fluence of 0.6 J / cm 2 . On the surface 31A, the surface of the LCP 11 is smoothed, and irregularities 21B due to the glass filler 21 are generated, and the surface shape envelope d has the surface roughness of only the irregularities 21B.

【0033】すなわち、高分子成形材31の表面(照射
部)31Aに照射するレーザのフルーエンスを0.1J
/cm2 、0.2J/cm2 と増加すると表面粗さは図
2の(b)の形状包絡線ロ、図2の(c)の形状包絡線
ハのように増加し、メッキ形成時のメッキ膜の密着性は
高まる。
That is, the fluence of the laser for irradiating the surface (irradiation part) 31A of the polymer molding material 31 is 0.1 J
/ Cm 2 , 0.2 J / cm 2 , the surface roughness increases as shown in FIG. 2 (b) and FIG. 2 (c). The adhesion of the plating film increases.

【0034】しかしながら、フルーエンスが高分子材料
であるLCP11のアブレーションしきい値より充分大
きいと、図2の(d)の形状包絡線ニのようにガラスフ
ィラー21による凹凸21Bは大きくなるが、高分子成
形材31の表面31AにおけるLCP11の表面は平滑
化されてメッキ形成時のメッキ膜の密着性は低下する。
However, if the fluence is sufficiently larger than the ablation threshold of the polymer material LCP11, the irregularities 21B due to the glass filler 21 become large as shown in FIG. The surface of the LCP 11 on the surface 31A of the molding material 31 is smoothed, and the adhesion of the plating film during plating is reduced.

【0035】このことから、フルーエンスが0.2〜
0.3J/cm2 でピール(剥離)強度は4〜5N/c
mと最大になり、フルーエンスを高めてもメッキ形成時
のメッキ膜の密着性を向上することは困難であることが
分かった。
From this, it can be seen that the fluence is 0.2 to
Peel (peeling) strength of 4 to 5 N / c at 0.3 J / cm 2
m, which indicates that it is difficult to improve the adhesion of the plating film during plating even if the fluence is increased.

【0036】そこで、高分子成形材31の表面31A
に、第1段階として、高分子成形材31の表面(照射
部)31Aに、レーザを、0.6J/cm2 のフルーエ
ンス(高フルーエンス)で照射して図2の(d)の形状
包絡線ニを作り、第2段階として、高分子成形材31
の、形状包絡線ニを有する表面(照射部)31Aに、レ
ーザを、0.2J/cm2 のフルーエンス(低フルーエ
ンス)で照射して、図3に示す形状包絡線ホにした。
Therefore, the surface 31A of the polymer molding material 31
As a first step, the surface (irradiation part) 31A of the polymer molding material 31 is irradiated with a laser at a fluence (high fluence) of 0.6 J / cm 2 to form a shape envelope shown in FIG. The second step is to make a polymer molding material 31
The surface (irradiation portion) 31A having the shape envelope d was irradiated with a laser at a fluence (low fluence) of 0.2 J / cm 2 to obtain a shape envelope E shown in FIG.

【0037】すなわち、第1段階として、高分子成形材
31の表面(照射部)31Aに高フルーエンスのレーザ
を照射し、第2段階として、低フルーエンスのレーザを
照射することで、図3の形状包絡線ホのように高フルー
エンスのレーザ照射によるガラスフィラー21での大き
な凹凸21Bを残したまま、低フルーエンスのレーザ照
射により、高フルーエンスのレーザ照射時に平滑化され
た箇所11Cを図2の(c)の形状包絡線ハの大きさで
荒らすために、表面粗さを増すことが可能になる。
That is, as a first step, the surface (irradiation portion) 31A of the polymer molding material 31 is irradiated with a high fluence laser, and as a second step, a low fluence laser is irradiated, whereby the shape shown in FIG. As shown in FIG. 2 (c), a portion 11C smoothed by high fluence laser irradiation by low fluence laser irradiation is shown in FIG. The surface roughness can be increased because the shape is roughened by the size of the envelope c.

【0038】なお、本発明に係る高分子成形材のメッキ
形成方法を用いることで、高分子成形材としての基板、
電子部品のパッケージ等における導電パターンを無電解
メッキもしくは電解メッキで形成することが可能にな
る。
By using the plating method for a polymer molding material according to the present invention, a substrate as a polymer molding material,
It becomes possible to form a conductive pattern in a package of an electronic component by electroless plating or electrolytic plating.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る高分
子成形材のメッキ形成方法によれば、第1段階として、
高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形材の表
面に高フルーエンスのレーザを照射し、第2段階とし
て、照射部に低フルーエンスのレーザを照射して表面粗
さを増すことができるために、ピール強度値が向上し、
高分子成形材とメッキ膜間の密着性が良好になる。
As described above, according to the method for forming a plating of a polymer molded material according to the present invention, as a first step,
In order to increase the surface roughness by irradiating the high-fluence laser to the surface of the polymer molding material in which the polymer material is filled with the inorganic filler, and irradiating the irradiation part with the low-fluence laser in the second stage , The peel strength value is improved,
The adhesion between the polymer molding material and the plating film is improved.

【0040】このために、メッキ膜が容易に剥離するこ
とがなくなり、SMT実装(表面実装)にて部品のシェ
ア強度が低下すること、COB実装にてD/Bのシェア
強度が低下すること、といった問題を解消することがで
きる。
For this reason, the plating film is not easily peeled off, and the share strength of components is reduced by SMT mounting (surface mounting), and the share strength of D / B is reduced by COB mounting. Such a problem can be solved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】メッキ膜のピール強度値とレーザのフルーエン
スとの関係を示す線図である。
FIG. 1 is a diagram showing a relationship between a peel strength value of a plating film and a fluence of a laser.

【図2】(a)は高分子材料としてのLCPに無機フィ
ラーとしてのガラスフィラーを添加し、この材料を射出
成形して得られた高分子成形材の断面図である。(b)
〜(d)は、表面にレーザの照射によるパターンを施し
た高分子成形材の断面図である。
FIG. 2A is a cross-sectional view of a polymer molding material obtained by adding a glass filler as an inorganic filler to LCP as a polymer material and injection molding this material. (B)
(D) is a cross-sectional view of a polymer molded material whose surface is patterned by laser irradiation.

【図3】第1段階として照射部に高フルーエンスのレー
ザを照射し、第2段階として、照射部に低フルーエンス
のレーザを照射して表面粗さを増した形状包絡線を有す
る高分子成形材の断面図である。
FIG. 3 shows a polymer molding material having a shape envelope having a surface roughness increased by irradiating a high fluence laser to an irradiation part as a first step and irradiating a low fluence laser to a irradiation part as a second step. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 LCP(高分子材料) 11B 凹凸 11C 平滑化された箇所 21 ガラスフィラー(無機フィラー) 21B 凹凸 31 高分子成形材 31A 表面 イ 表面形状包絡線 ロ 表面形状包絡線 ハ 表面形状包絡線 ニ 表面形状包絡線 ホ 表面形状包絡線 11 LCP (polymer material) 11B unevenness 11C smoothed portion 21 glass filler (inorganic filler) 21B unevenness 31 polymer molding material 31A surface b surface shape envelope b surface shape envelope c surface shape envelope d surface shape envelope Wire E Surface shape envelope

フロントページの続き Fターム(参考) 4F073 AA01 AA06 BA23 BA47 CA53 4K022 AA26 AA42 AA51 BA35 CA02 CA06 CA08 CA12 CA21 DA01 4K024 AB01 AB08 BA12 BB09 BB11 DA06 DA07 FA01 GA01 Continued on the front page F term (reference) 4F073 AA01 AA06 BA23 BA47 CA53 4K022 AA26 AA42 AA51 BA35 CA02 CA06 CA08 CA12 CA21 DA01 4K024 AB01 AB08 BA12 BB09 BB11 DA06 DA07 FA01 GA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子材料に無機フィラーを充填した高
分子成形材にレーザを照射し、当該照射部にメッキを行
う高分子成形材のメッキ形成方法であって、 第1段階として前記照射部に高フルーエンスの前記レー
ザを照射し、第2段階として、前記照射部に低フルーエ
ンスの前記レーザを照射して表面粗さを増すようにした
ことを特徴とする高分子成形材のメッキ形成方法。
1. A method for forming a plating of a polymer molding material, comprising irradiating a laser to a polymer molding material in which a polymer material is filled with an inorganic filler, and plating the irradiated portion. Irradiating the laser with a high fluence to the laser, and as a second step, irradiating the laser with a low fluence to the irradiation section to increase the surface roughness.
【請求項2】 前記メッキが、前記高分子材料に前記無
機フィラーを充填した前記高分子成形材に前記レーザを
照射し、前記照射部に正の表面電位を生じさせた後、前
記照射部に無電解メッキの触媒を析出させ、その後、前
記高分子成形材を無電解メッキ液に浸漬して行われる無
電解メッキである請求項1に記載の高分子成形材のメッ
キ形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the plating irradiates the laser to the polymer molding material in which the polymer material is filled with the inorganic filler, and generates a positive surface potential at the irradiation unit. The method for forming a plating of a polymer molded material according to claim 1, wherein the electroless plating is performed by precipitating a catalyst for the electroless plating and thereafter immersing the polymer molded material in an electroless plating solution.
【請求項3】 前記メッキが、前記高分子材料に前記無
機フィラーを充填した前記高分子成形材に前記レーザを
照射し、前記照射部に導電性を付与した後、前記高分子
成形材を電解メッキ液に浸漬して行われる電解メッキで
ある請求項1に記載の高分子成形材のメッキ形成方法。
3. The plating is performed by irradiating the laser to the polymer molding material in which the polymer material is filled with the inorganic filler, and imparting conductivity to the irradiated portion. 2. The method for forming a plating of a polymer molded material according to claim 1, wherein the plating is electrolytic plating performed by immersion in a plating solution.
【請求項4】 前記レーザが波長600nm以下のレー
ザであり、前記高フルーエンスが0.2〜2.0J/c
2 のフルーエンスであり、前記低フルーエンスが前記
高フルーエンスの半分以下のフルーエンスである請求項
1乃至請求項3に記載の高分子成形材のメッキ形成方
法。
4. The laser according to claim 1, wherein the laser has a wavelength of 600 nm or less, and the high fluence is 0.2 to 2.0 J / c.
4. The method according to claim 1, wherein the fluence is m 2 and the low fluence is less than half of the high fluence.
【請求項5】 前記高分子成形材が基板、電子部品のパ
ッケージである請求項1乃至請求項4に記載の高分子成
形材のメッキ形成方法。
5. The method according to claim 1, wherein the polymer molding is a package of a substrate and an electronic component.
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