JP2001192369A - フッ素含有複素環式芳香族化合物の製造方法および新規ピラゾール環化合物 - Google Patents
フッ素含有複素環式芳香族化合物の製造方法および新規ピラゾール環化合物Info
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- JP2001192369A JP2001192369A JP2000003172A JP2000003172A JP2001192369A JP 2001192369 A JP2001192369 A JP 2001192369A JP 2000003172 A JP2000003172 A JP 2000003172A JP 2000003172 A JP2000003172 A JP 2000003172A JP 2001192369 A JP2001192369 A JP 2001192369A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規なフッ素含有複素環式芳香族化合物の製
造方法、および新規なピラゾール環化合物及びその製造
方法を提供する。 【解決手段】一般式（１） 【化１】 で表されるフッ素化剤と一般式（２） 【化２】 で表される複素環式芳香族化合物とを反応させて、フッ
素含有複素環式芳香族化合物を製造する。
造方法、および新規なピラゾール環化合物及びその製造
方法を提供する。 【解決手段】一般式（１） 【化１】 で表されるフッ素化剤と一般式（２） 【化２】 で表される複素環式芳香族化合物とを反応させて、フッ
素含有複素環式芳香族化合物を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素含有複素環
式芳香族化合物の製造方法、ならびに新規なピラゾール
化合物に関する。
式芳香族化合物の製造方法、ならびに新規なピラゾール
化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】トリフ
ルオロメチル基（ＣＦ3基）を有する複素環式芳香族化
合物は、トリフルオロメチル基に起因する特異な性質を
示すため医農薬および機能性材料の分野等において極め
て重要な化合物であり、それらの製造方法について近年
多くの検討が進められてきている。
ルオロメチル基（ＣＦ3基）を有する複素環式芳香族化
合物は、トリフルオロメチル基に起因する特異な性質を
示すため医農薬および機能性材料の分野等において極め
て重要な化合物であり、それらの製造方法について近年
多くの検討が進められてきている。
【０００３】例えばトリフルオロメチル基を有する複素
環式芳香族化合物の製造方法の一つとしては、トリフル
オロメチル基を含有する化合物群を出発原料として用い
る方法があるが、これらの化合物は通常極めて高価であ
るため、製造コストが高額になることを避け得ない。
環式芳香族化合物の製造方法の一つとしては、トリフル
オロメチル基を含有する化合物群を出発原料として用い
る方法があるが、これらの化合物は通常極めて高価であ
るため、製造コストが高額になることを避け得ない。
【０００４】もう一つの方法は複素環式芳香族化合物上
のトリハロゲノメチル基（ただしトリフルオロメチル基
を除く）をフッ素化剤を用いてトリフルオロメチル基に
変換する方法である。
のトリハロゲノメチル基（ただしトリフルオロメチル基
を除く）をフッ素化剤を用いてトリフルオロメチル基に
変換する方法である。
【０００５】例えば、２，４，６−トリス−（トリクロ
ロメチル）−１，３，５−トリアジンを三塩化アンチモ
ンと塩素の存在下、三フッ化アンチモンによってハロゲ
ン交換することによって２，４，６−トリス−（トリフ
ルオロメチル）−１，３，５−トリアジンを得る方法が
知られている（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７２，
３５２７（１９５０））。
ロメチル）−１，３，５−トリアジンを三塩化アンチモ
ンと塩素の存在下、三フッ化アンチモンによってハロゲ
ン交換することによって２，４，６−トリス−（トリフ
ルオロメチル）−１，３，５−トリアジンを得る方法が
知られている（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７２，
３５２７（１９５０））。
【０００６】また特公平８−５８６８号公報には、５−
トリクロロメチル−イソキサゾールを五塩化アンチモン
存在下、三フッ化アンチモンでフッ素化することによっ
て５−トリフルオロメチル−イソキサゾールを得る方法
が記載されている。更に特開平６−７３０２３号公報に
は、２，４−ジクロロ−５−トリクロロメチル−ピリミ
ジンを五塩化アンチモン存在下、無水ＨＦもしくは三フ
ッ化アンチモンでフッ素化することによって２，４−ジ
ハロゲノ−５−トリフルオロメチル−ピリミジンを得る
方法が記載されている。
トリクロロメチル−イソキサゾールを五塩化アンチモン
存在下、三フッ化アンチモンでフッ素化することによっ
て５−トリフルオロメチル−イソキサゾールを得る方法
が記載されている。更に特開平６−７３０２３号公報に
は、２，４−ジクロロ−５−トリクロロメチル−ピリミ
ジンを五塩化アンチモン存在下、無水ＨＦもしくは三フ
ッ化アンチモンでフッ素化することによって２，４−ジ
ハロゲノ−５−トリフルオロメチル−ピリミジンを得る
方法が記載されている。
【０００７】しかしこれらの例では高価な五塩化アンチ
モンや三フッ化アンチモンを使用するため、やはり製造
コストは高いものとなる。その中で、前述の特公平８−
５８６８号公報には、安価なＨＦのみをフッ素化剤とし
て用いた例が記載されているが、その場合はフルオロジ
クロロメチル化物が得られ、トリフルオロメチル化まで
反応が進行していない。
モンや三フッ化アンチモンを使用するため、やはり製造
コストは高いものとなる。その中で、前述の特公平８−
５８６８号公報には、安価なＨＦのみをフッ素化剤とし
て用いた例が記載されているが、その場合はフルオロジ
クロロメチル化物が得られ、トリフルオロメチル化まで
反応が進行していない。
【０００８】２つのトリフルオロメチル基を有するピラ
ゾール環化合物の合成については、米国特許第３，２８
４，４６４号明細書に、１，１，１，５，５，５−ヘキ
サフルオロ−２，４−ペンタンジオンとヒドラジンの脱
水縮合によって３，５−ビス［トリフルオロメチル］ピ
ラゾールを合成する例が開示してある。
ゾール環化合物の合成については、米国特許第３，２８
４，４６４号明細書に、１，１，１，５，５，５−ヘキ
サフルオロ−２，４−ペンタンジオンとヒドラジンの脱
水縮合によって３，５−ビス［トリフルオロメチル］ピ
ラゾールを合成する例が開示してある。
【０００９】しかしながら、これも出発原料が高価であ
り、また収率が９．２％と非常に低い、という問題点を
有している。その後、この技術には改良が加えられ、収
率６３％に達したという報告例もある［Ｈｅｌｖｅｔｉ
ｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ、７８巻（１９９
５）、９９３−１０００］が、依然、出発原料の価格の
問題は残されたままである。
り、また収率が９．２％と非常に低い、という問題点を
有している。その後、この技術には改良が加えられ、収
率６３％に達したという報告例もある［Ｈｅｌｖｅｔｉ
ｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ、７８巻（１９９
５）、９９３−１０００］が、依然、出発原料の価格の
問題は残されたままである。
【００１０】トリフルオロ化合物の工業的な製造方法の
一般例として、ポリハロゲン化物の無水フッ化水素（Ｈ
Ｆ）によるハロゲン交換反応を挙げることが出来る。例
えば、トリクロロメチル（−ＣＣｌ3）基の無水フッ化
水素（ＨＦ）によるハロゲン交換反応によりトリフルオ
ロ化合物を製造する方法は、トリフルオロ化合物の工業
的な製造方法の一つとして重要である。
一般例として、ポリハロゲン化物の無水フッ化水素（Ｈ
Ｆ）によるハロゲン交換反応を挙げることが出来る。例
えば、トリクロロメチル（−ＣＣｌ3）基の無水フッ化
水素（ＨＦ）によるハロゲン交換反応によりトリフルオ
ロ化合物を製造する方法は、トリフルオロ化合物の工業
的な製造方法の一つとして重要である。
【００１１】しかし、ＨＦは低沸点（ｂｐ１９．５℃）
であり、また強い毒性や腐食性のため取り扱いにくく、
工業的に容易に用いることは非常な困難を伴う。
であり、また強い毒性や腐食性のため取り扱いにくく、
工業的に容易に用いることは非常な困難を伴う。
【００１２】この問題点を解決した取り扱い易いＨＦ様
フッ素化剤として、ＨＦとルイス塩基の錯体が開発され
ており、その代表例として、ピリジン−７０ｗｔ％（Ｈ
Ｆ）ｎ（Ｏｌａｈ試薬）（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４
４，３８７２（１９７９））や、ＮＥｔ3−３ＨＦ（Ａ
ｌｄｒｉｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ，２８，３１（１９
９５））を挙げることが出来る。しかしながら、これら
のフッ素化剤は、その製造においてかなりの発熱を伴う
ため制御が難しく、また回収再利用が難しいことから、
工業的に用いることは容易ではない。
フッ素化剤として、ＨＦとルイス塩基の錯体が開発され
ており、その代表例として、ピリジン−７０ｗｔ％（Ｈ
Ｆ）ｎ（Ｏｌａｈ試薬）（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４
４，３８７２（１９７９））や、ＮＥｔ3−３ＨＦ（Ａ
ｌｄｒｉｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ，２８，３１（１９
９５））を挙げることが出来る。しかしながら、これら
のフッ素化剤は、その製造においてかなりの発熱を伴う
ため制御が難しく、また回収再利用が難しいことから、
工業的に用いることは容易ではない。
【００１３】他方、ＨＦはフッ素化学工業において重要
なフッ素源である。その取扱い上の問題点を克服して幅
広い分野で簡便に使用できるようにするため、改良型Ｈ
Ｆ様フッ素化剤を開発し、それらを用いて含フッ素化合
物を簡便に合成できる技術を確立することは、フッ素化
学の分野において非常に意義深いことである。
なフッ素源である。その取扱い上の問題点を克服して幅
広い分野で簡便に使用できるようにするため、改良型Ｈ
Ｆ様フッ素化剤を開発し、それらを用いて含フッ素化合
物を簡便に合成できる技術を確立することは、フッ素化
学の分野において非常に意義深いことである。
【００１４】本発明の目的は新規なフッ素含有複素環式
芳香族化合物の製造方法、および新規なピラゾール環化
合物及びその製造方法を提供することにある。
芳香族化合物の製造方法、および新規なピラゾール環化
合物及びその製造方法を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、この課題
を解決するために鋭意検討を行った結果、一般式（１）
を解決するために鋭意検討を行った結果、一般式（１）
【００１６】
【化９】
【００１７】（式中、ｎは０より大きい数値を示す。Ｒ
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表される組成
物が、ＨＦ様新規フッ素化剤として優れていること、さ
らにフッ素化反応における使用が何ら特殊な装置や技術
を必要とすることなく、極めて安全かつ容易に行えるこ
とを見出した。
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表される組成
物が、ＨＦ様新規フッ素化剤として優れていること、さ
らにフッ素化反応における使用が何ら特殊な装置や技術
を必要とすることなく、極めて安全かつ容易に行えるこ
とを見出した。
【００１８】また、一般式（１）で表されるフッ素化剤
は、フッ素化反応後には、一般式（１）の原料であるテ
トラアルキルウレアとして回収、再利用できるために経
済的であることも見出した。
は、フッ素化反応後には、一般式（１）の原料であるテ
トラアルキルウレアとして回収、再利用できるために経
済的であることも見出した。
【００１９】更に、一般式（１）を用いてトリフルオロ
メチル基を有する化合物の製造を、特殊な装置や技術を
必要とすることなく、極めて安全かつ容易に行えること
を見出した。
メチル基を有する化合物の製造を、特殊な装置や技術を
必要とすることなく、極めて安全かつ容易に行えること
を見出した。
【００２０】即ち、本発明は、 １）一般式（１）
【００２１】
【化１０】
【００２２】（式中、ｎは０より大きい数値を示す。Ｒ
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表されるフッ
素化剤と一般式（２）
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表されるフッ
素化剤と一般式（２）
【００２３】
【化１１】
【００２４】（式中、Ｒ5は置換または無置換の複素環
式芳香族基を示す。Ｘ1は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素
原子のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。
但し、３つともフッ素原子であることはない。またｐは
１〜９の整数を示す。）で表される複素環式芳香族化合
物とを反応させることを特徴とする、一般式（３）
式芳香族基を示す。Ｘ1は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素
原子のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。
但し、３つともフッ素原子であることはない。またｐは
１〜９の整数を示す。）で表される複素環式芳香族化合
物とを反応させることを特徴とする、一般式（３）
【００２５】
【化１２】
【００２６】（式中、Ｒ5は前記と同じ意味を示す。Ｘ2
は塩素、臭素、ヨウ素原子のいずれかを示し、同一でも
異なっていてもよい。またｑは１〜３の整数を示し、ｐ
は１〜９の整数を示す。）で表されるフッ素含有複素環
式芳香族化合物の製造方法。 ２）一般式（２）で表される複素環式芳香族化合物が、
窒素、酸素、硫黄からなる元素群の、いずれかまたは２
種ないし３種を１〜４個含有する環式化合物であること
を特徴とする１）記載の製造方法。
は塩素、臭素、ヨウ素原子のいずれかを示し、同一でも
異なっていてもよい。またｑは１〜３の整数を示し、ｐ
は１〜９の整数を示す。）で表されるフッ素含有複素環
式芳香族化合物の製造方法。 ２）一般式（２）で表される複素環式芳香族化合物が、
窒素、酸素、硫黄からなる元素群の、いずれかまたは２
種ないし３種を１〜４個含有する環式化合物であること
を特徴とする１）記載の製造方法。
【００２７】３） 一般式（２）で表される複素環式芳
香族化合物が、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾ
ール、イミダゾール、イソキサゾール、チアゾール、チ
アジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピ
ラジン、トリアジン、ベンゾフラン、インドール、チア
ナフテン、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾール、ベ
ンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、キノリ
ン、イソキノリン、チノリン、キノキサリン、ジベンゾ
チオフェン、アクリジン、フェナントロリンから選ばれ
た環を有する複素環式芳香族化合物である１）記載の製
造方法。 ４）一般式（２）で表される複素環式芳香族化合物が、
一般式（４）
香族化合物が、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾ
ール、イミダゾール、イソキサゾール、チアゾール、チ
アジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピ
ラジン、トリアジン、ベンゾフラン、インドール、チア
ナフテン、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾール、ベ
ンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、キノリ
ン、イソキノリン、チノリン、キノキサリン、ジベンゾ
チオフェン、アクリジン、フェナントロリンから選ばれ
た環を有する複素環式芳香族化合物である１）記載の製
造方法。 ４）一般式（２）で表される複素環式芳香族化合物が、
一般式（４）
【００２８】
【化１３】
【００２９】（式中、Ｒ6は水素原子またはＣ1〜Ｃ4の
低級アルキル基を示す。）で表される化合物である１）
記載の製造方法。 ５）一般式（２）で表される複素環式芳香族化合物が、
式（５）
低級アルキル基を示す。）で表される化合物である１）
記載の製造方法。 ５）一般式（２）で表される複素環式芳香族化合物が、
式（５）
【００３０】
【化１４】
【００３１】で表される４−クロロ−３，５−ビス［ト
リクロロメチル］ピラゾールである１）記載の製造方
法。 ６）一般式（１）で表されるフッ素化剤が式（６）
リクロロメチル］ピラゾールである１）記載の製造方
法。 ６）一般式（１）で表されるフッ素化剤が式（６）
【００３２】
【化１５】
【００３３】（式中、ｎは０より大きな数値を示す。）
で表されるフッ素化剤であることを特徴とする１）〜
５）記載の製造方法。 ７）一般式（７）
で表されるフッ素化剤であることを特徴とする１）〜
５）記載の製造方法。 ７）一般式（７）
【００３４】
【化１６】
【００３５】（式中、Ｒ6は前記と同じ意味を示す。）
で表される新規ピラゾール環化合物。 ８）式（８）
で表される新規ピラゾール環化合物。 ８）式（８）
【００３６】
【化１７】
【００３７】で表される４−クロロ−３，５ビス［トリ
フルオロメチル］ピラゾールに関するものである。
フルオロメチル］ピラゾールに関するものである。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【００３９】本発明に関するフッ素化剤は、一般式
（１）
（１）
【００４０】
【化１８】
【００４１】（式中、ｎは０より大きい数値を示す。Ｒ
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表される組成
物である。
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表される組成
物である。
【００４２】式中、Ｒ1〜Ｒ4は同一または異なって、置
換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。
好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基またはアリール
基であり、アルキル基は直鎖状または分岐状であっても
よい。すなわち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基、フェニル基等である。
換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。
好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基またはアリール
基であり、アルキル基は直鎖状または分岐状であっても
よい。すなわち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基、フェニル基等である。
【００４３】また、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4がそれぞれ結合
して、炭素数３〜５の環を構成していてもよい。このよ
うな環の例としては、ピロリジン環、ピペリジン環が挙
げられる。
して、炭素数３〜５の環を構成していてもよい。このよ
うな環の例としては、ピロリジン環、ピペリジン環が挙
げられる。
【００４４】更には、Ｒ１とＲ３が結合して、窒素原
子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含んだ５員環ま
たは６員環を構成してもよい。このような環の例として
は、イミダゾリジン環が挙げられる。
子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含んだ５員環ま
たは６員環を構成してもよい。このような環の例として
は、イミダゾリジン環が挙げられる。
【００４５】また、一般式（１）において、ｎはテトラ
アルキルウレアに対するフッ化水素（ＨＦ）の付加モル
比を示す数値であり、０より大きい数値を示す。好まし
くは、ｎは０．５〜２０、より好ましくは２〜１８の数
値である。
アルキルウレアに対するフッ化水素（ＨＦ）の付加モル
比を示す数値であり、０より大きい数値を示す。好まし
くは、ｎは０．５〜２０、より好ましくは２〜１８の数
値である。
【００４６】このｎの数値は、テトラアルキルウレアに
対するＨＦの付加条件、すなわち、ＨＦの使用量、テト
ラアルキルウレアの種類や温度などにより異なる値とな
る。
対するＨＦの付加条件、すなわち、ＨＦの使用量、テト
ラアルキルウレアの種類や温度などにより異なる値とな
る。
【００４７】一般式（１）で表される組成物を構成す
る、テトラアルキルウレアの具体例として以下の化合物
を挙げることができる。
る、テトラアルキルウレアの具体例として以下の化合物
を挙げることができる。
【００４８】テトラメチルウレア、テトラエチルウレ
ア、テトラ（ｎ−プロピル）ウレア、テトラ（イソプロ
ピル）ウレア、テトラ（ｎ−ブチル）ウレア、テトラ
（ｎ−ペンチル）ウレア、テトラ（ｎ−ヘキシル）ウレ
ア、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３
−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ（ｎ−
プロピル）−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ（イソ
プロピル）−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ（ｎ−
ブチル）−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−２（Ｈ）−ピリミジノ
ン等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンは特に好まし
く、その場合一般式（１）で表わされるフッ素化剤は、
下記式（６）のようになる。
ア、テトラ（ｎ−プロピル）ウレア、テトラ（イソプロ
ピル）ウレア、テトラ（ｎ−ブチル）ウレア、テトラ
（ｎ−ペンチル）ウレア、テトラ（ｎ−ヘキシル）ウレ
ア、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３
−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ（ｎ−
プロピル）−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ（イソ
プロピル）−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ（ｎ−
ブチル）−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−２（Ｈ）−ピリミジノ
ン等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンは特に好まし
く、その場合一般式（１）で表わされるフッ素化剤は、
下記式（６）のようになる。
【００４９】
【化１９】
【００５０】（式中、ｎは０より大きな数値を示す。） 一般式（１）で表される組成物は、テトラアルキルウレ
アに、ｎに相当する量の無水フッ化水素を添加すること
によって製造することができる。
アに、ｎに相当する量の無水フッ化水素を添加すること
によって製造することができる。
【００５１】この場合、テトラアルキルウレアに直接、
無水フッ化水素を添加してもよいが、テトラアルキルウ
レアを溶媒に溶解させておいてから、無水フッ化水素を
添加してもよい。
無水フッ化水素を添加してもよいが、テトラアルキルウ
レアを溶媒に溶解させておいてから、無水フッ化水素を
添加してもよい。
【００５２】無水フッ化水素は、液体の状態で添加して
もよいし、また、ガスの状態で吹き込んで添加してもよ
い。
もよいし、また、ガスの状態で吹き込んで添加してもよ
い。
【００５３】無水フッ化水素を添加する際の温度は−２
０〜２０℃、好ましくは−１０〜１０℃である。
０〜２０℃、好ましくは−１０〜１０℃である。
【００５４】無水フッ化水素を添加する際の添加速度
は、ショートパスせず、かつ、激しい発熱等を伴わない
速度であれば良い。通常、１〜５時間であり、好ましく
は、２〜３時間である。
は、ショートパスせず、かつ、激しい発熱等を伴わない
速度であれば良い。通常、１〜５時間であり、好ましく
は、２〜３時間である。
【００５５】溶媒を用いる時は、無水フッ化水素と反応
せず、さらに錯体を形成しない溶媒であれば特に限定は
されない。好ましくはアセトニトリル、ジクロロメタ
ン、エチレンジクロリド等が挙げられる。
せず、さらに錯体を形成しない溶媒であれば特に限定は
されない。好ましくはアセトニトリル、ジクロロメタ
ン、エチレンジクロリド等が挙げられる。
【００５６】本発明に使用される複素環式芳香族有機ハ
ロゲン化物は、一般式（２）
ロゲン化物は、一般式（２）
【００５７】
【化２０】
【００５８】（式中、Ｒ5、Ｘ1、ｐは、前記と同じ意味
を示す）で表される化合物である。
を示す）で表される化合物である。
【００５９】なお、本発明でいう複素環式芳香族化合物
とは、窒素、酸素、硫黄からなる元素群の、いずれかま
たは２種ないし３種を１〜４個含有する環式化合物を示
す。
とは、窒素、酸素、硫黄からなる元素群の、いずれかま
たは２種ないし３種を１〜４個含有する環式化合物を示
す。
【００６０】好ましくは、一般式（２）で表される複素
環式芳香族化合物は、フラン、チオフェン、ピロール、
ピラゾール、イミダゾール、イソキサゾール、チアゾー
ル、チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジン、ベンゾフラン、インドー
ル、チアナフテン、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾ
ール、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール、プリ
ン、キノリン、イソキノリン、チノリン、キノキサリ
ン、ジベンゾチオフェン、アクリジン、フェナントロリ
ンから選ばれた環を有する複素環式芳香族化合物であ
る。
環式芳香族化合物は、フラン、チオフェン、ピロール、
ピラゾール、イミダゾール、イソキサゾール、チアゾー
ル、チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジン、ベンゾフラン、インドー
ル、チアナフテン、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾ
ール、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール、プリ
ン、キノリン、イソキノリン、チノリン、キノキサリ
ン、ジベンゾチオフェン、アクリジン、フェナントロリ
ンから選ばれた環を有する複素環式芳香族化合物であ
る。
【００６１】以下に一般式（２）で表される化合物の例
を示すが、これらの例に特に限定されるものではない。
を示すが、これらの例に特に限定されるものではない。
【００６２】化合物例 酸素含有複素環式芳香族類；３−トリクロロメチルフラ
ン、３−トリブロモメチルフラン、２，３−ビス［トリ
クロロメチル］ベンゾフラン、２，３−ビス［トリブロ
モメチル］ベンゾフラン、 硫黄含有複素環式芳香族類；２−トリクロロメチルチオ
フェン、３−トリクロロメチルチオフェン、２，３−ビ
ス［トリクロロメチル］チオフェン、２，５−ビス［ト
リクロロメチル］チオフェン、３，４−ビス［トリクロ
ロメチル］チオフェン、２−トリブロモメチルチオフェ
ン、３−トリブロモメチルチオフェン、２，３−ビス
［トリブロモメチル］チオフェン、２，５−ビス［トリ
ブロモメチル］チオフェン、３，４−ビス［トリブロモ
メチル］チオフェン、２−トリクロロメチルチアナフテ
ン、２−トリブロモメチルチアナフテン ４，６−ビス［トリクロロメチル］ジベンゾチオフェ
ン、４，６−ビス［トリブロモメチル］ジベンゾチオフ
ェン、
ン、３−トリブロモメチルフラン、２，３−ビス［トリ
クロロメチル］ベンゾフラン、２，３−ビス［トリブロ
モメチル］ベンゾフラン、 硫黄含有複素環式芳香族類；２−トリクロロメチルチオ
フェン、３−トリクロロメチルチオフェン、２，３−ビ
ス［トリクロロメチル］チオフェン、２，５−ビス［ト
リクロロメチル］チオフェン、３，４−ビス［トリクロ
ロメチル］チオフェン、２−トリブロモメチルチオフェ
ン、３−トリブロモメチルチオフェン、２，３−ビス
［トリブロモメチル］チオフェン、２，５−ビス［トリ
ブロモメチル］チオフェン、３，４−ビス［トリブロモ
メチル］チオフェン、２−トリクロロメチルチアナフテ
ン、２−トリブロモメチルチアナフテン ４，６−ビス［トリクロロメチル］ジベンゾチオフェ
ン、４，６−ビス［トリブロモメチル］ジベンゾチオフ
ェン、
【００６３】窒素含有複素環式芳香族類；２−トリクロ
ロメチルピロール、２−トリブロモメチルピロール、４
−クロロ−３−トリクロロメチルピラゾール、４−クロ
ロ−３，５−ビス［トリクロロメチル］ピラゾール、４
−ブロモ−３−トリブロモメチルピラゾール、４−ブロ
モ−３，５−ビス［トリブロモメチル］ピラゾール、
１，２−ビス［トリクロロメチル］イミダゾール、１，
３−ビス［トリクロロメチル］イミダゾール、１，５−
ビス［トリクロロメチル］イミダゾール、２，５−ビス
［トリクロロメチル］イミダゾール、４，５−ビス［ト
リクロロメチル］イミダゾール、１，２，５−トリス
［トリクロロメチル］イミダゾール、２，３，４−トリ
ス［トリクロロメチル］イミダゾール、１，２−ビス
［トリブロモメチル］イミダゾール、１，３−ビス［ト
リブロモメチル］イミダゾール、１，５−ビス［トリブ
ロモメチル］イミダゾール、２，５−ビス［トリブロモ
メチル］イミダゾール、４，５−ビス［トリブロモメチ
ル］イミダゾール、１，２，５−トリス［トリブロモメ
チル］イミダゾール、２，３，４−トリス［トリブロモ
メチル］イミダゾール、
ロメチルピロール、２−トリブロモメチルピロール、４
−クロロ−３−トリクロロメチルピラゾール、４−クロ
ロ−３，５−ビス［トリクロロメチル］ピラゾール、４
−ブロモ−３−トリブロモメチルピラゾール、４−ブロ
モ−３，５−ビス［トリブロモメチル］ピラゾール、
１，２−ビス［トリクロロメチル］イミダゾール、１，
３−ビス［トリクロロメチル］イミダゾール、１，５−
ビス［トリクロロメチル］イミダゾール、２，５−ビス
［トリクロロメチル］イミダゾール、４，５−ビス［ト
リクロロメチル］イミダゾール、１，２，５−トリス
［トリクロロメチル］イミダゾール、２，３，４−トリ
ス［トリクロロメチル］イミダゾール、１，２−ビス
［トリブロモメチル］イミダゾール、１，３−ビス［ト
リブロモメチル］イミダゾール、１，５−ビス［トリブ
ロモメチル］イミダゾール、２，５−ビス［トリブロモ
メチル］イミダゾール、４，５−ビス［トリブロモメチ
ル］イミダゾール、１，２，５−トリス［トリブロモメ
チル］イミダゾール、２，３，４−トリス［トリブロモ
メチル］イミダゾール、
【００６４】２−トリクロロメチルピリジン、３−トリ
クロロメチルピリジン、４−トリクロロメチルピリジ
ン、２，３−２，５−ビス［トリクロロメチル］ピリジ
ン、２，６−ビス［トリクロロメチル］ピリジン、３，
５−ビス［トリクロロメチル］ピリジン、２−トリブロ
モメチルピリジン、３−トリブロモメチルピリジン、４
−トリブロモメチルピリジン、２，３−２，５−ビス
［トリブロモメチル］ピリジン、２，６−ビス［トリブ
ロモメチル］ピリジン、３，５−ビス［トリブロモメチ
ル］ピリジン、 ３−トリクロロメチルピリダジン、３−トリブロモメチ
ルピリダジン ４−トリクロロメチルピリダジン、４−トリブロモメチ
ルピリダジン ２，４−ビス［トリクロロメチル］ピリミジン、２，６
−ビス［トリクロロメチル］ピリミジン、２，４−ビス
［トリブロモメチル］ピリミジン、２，６−ビス［トリ
ブロモメチル］ピリミジン、２−トリクロロメチルピラ
ジン、２−トリブロモメチルピラジン、１，３，５−ト
リスビス［トリクロロメチル］トリアジン、１，３，５
−トリスビス［トリブロモメチル］トリアジン、４−ト
リクロロメチルインドール、５−トリクロロメチルイン
ドール、４−トリブロモメチルインドール、５−トリブ
ロモメチルインドール、２−トリクロロメチルベンズイ
ミダゾール、２−トリブロモメチルベンズイミダゾー
ル、
クロロメチルピリジン、４−トリクロロメチルピリジ
ン、２，３−２，５−ビス［トリクロロメチル］ピリジ
ン、２，６−ビス［トリクロロメチル］ピリジン、３，
５−ビス［トリクロロメチル］ピリジン、２−トリブロ
モメチルピリジン、３−トリブロモメチルピリジン、４
−トリブロモメチルピリジン、２，３−２，５−ビス
［トリブロモメチル］ピリジン、２，６−ビス［トリブ
ロモメチル］ピリジン、３，５−ビス［トリブロモメチ
ル］ピリジン、 ３−トリクロロメチルピリダジン、３−トリブロモメチ
ルピリダジン ４−トリクロロメチルピリダジン、４−トリブロモメチ
ルピリダジン ２，４−ビス［トリクロロメチル］ピリミジン、２，６
−ビス［トリクロロメチル］ピリミジン、２，４−ビス
［トリブロモメチル］ピリミジン、２，６−ビス［トリ
ブロモメチル］ピリミジン、２−トリクロロメチルピラ
ジン、２−トリブロモメチルピラジン、１，３，５−ト
リスビス［トリクロロメチル］トリアジン、１，３，５
−トリスビス［トリブロモメチル］トリアジン、４−ト
リクロロメチルインドール、５−トリクロロメチルイン
ドール、４−トリブロモメチルインドール、５−トリブ
ロモメチルインドール、２−トリクロロメチルベンズイ
ミダゾール、２−トリブロモメチルベンズイミダゾー
ル、
【００６５】５−トリクロロメチル−１Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、５−トリブロモメチル−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、６−トリクロロメチルプリン、６−トリブロモ
メチルプリン、３−トリクロロメチルキノリン、３−ト
リブロモメチルキノリン、４−トリクロロメチルキノリ
ン、４−トリブロモメチルキノリン、３−トリクロロメ
チルメチルイソキノリン、３−トリブロモメチルイソキ
ノリン、４−トリクロロメチルチノリン、４−トリブロ
モメチルチノリン、２−トリクロロメチルキノキサリ
ン、２−トリブロモメチルキノキサリン、５−トリクロ
ロメチルキノキサリン、５−トリブロモメチルキノキサ
リン、９−トリクロロメチルアクリジン、９−トリブロ
モメチルアクリジン、４−トリクロロメチル−１，１０
−フェナントロリン、４−トリブロモメチル−１，１０
−フェナントリン、５−トリクロロメチル−１，１０−
フェナントロリン、５−トリブロモメチル−１，１０−
フェナントリン、
アゾール、５−トリブロモメチル−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、６−トリクロロメチルプリン、６−トリブロモ
メチルプリン、３−トリクロロメチルキノリン、３−ト
リブロモメチルキノリン、４−トリクロロメチルキノリ
ン、４−トリブロモメチルキノリン、３−トリクロロメ
チルメチルイソキノリン、３−トリブロモメチルイソキ
ノリン、４−トリクロロメチルチノリン、４−トリブロ
モメチルチノリン、２−トリクロロメチルキノキサリ
ン、２−トリブロモメチルキノキサリン、５−トリクロ
ロメチルキノキサリン、５−トリブロモメチルキノキサ
リン、９−トリクロロメチルアクリジン、９−トリブロ
モメチルアクリジン、４−トリクロロメチル−１，１０
−フェナントロリン、４−トリブロモメチル−１，１０
−フェナントリン、５−トリクロロメチル−１，１０−
フェナントロリン、５−トリブロモメチル−１，１０−
フェナントリン、
【００６６】酸素、窒素含有複素環式芳香族類；３，５
−ビス［トリクロロメチル］イソキサゾール、３，５−
ビス［トリブロモメチル］イソキサゾール、２−トリク
ロロメチルベンゾキサゾール、２−トリブロモベンゾキ
サゾール、硫黄、窒素含有複素環式芳香族類；４，５−
ビス［トリクロロメチル］チアゾール、４，５−ビス
［トリブロモメチル］チアゾール、５−トリクロロメチ
ル−チアジアゾール、５−トリブロモメチル−チアジア
ゾール、２−トリクロロメチルベンゾチアゾール、２−
トリブロモメチルベンゾチアゾール。
−ビス［トリクロロメチル］イソキサゾール、３，５−
ビス［トリブロモメチル］イソキサゾール、２−トリク
ロロメチルベンゾキサゾール、２−トリブロモベンゾキ
サゾール、硫黄、窒素含有複素環式芳香族類；４，５−
ビス［トリクロロメチル］チアゾール、４，５−ビス
［トリブロモメチル］チアゾール、５−トリクロロメチ
ル−チアジアゾール、５−トリブロモメチル−チアジア
ゾール、２−トリクロロメチルベンゾチアゾール、２−
トリブロモメチルベンゾチアゾール。
【００６７】本発明方法により、合成される化合物は、
一般式（３）
一般式（３）
【００６８】
【化２１】
【００６９】（式中、Ｒ5は前記と同じ意味を示す。Ｘ2
は塩素、臭素、ヨウ素原子のいずれかを示し、同一でも
異なっていてもよい。またｑは１〜３の整数を示し、ｐ
は１〜９の整数を示す。）で表わされる化合物である。
は塩素、臭素、ヨウ素原子のいずれかを示し、同一でも
異なっていてもよい。またｑは１〜３の整数を示し、ｐ
は１〜９の整数を示す。）で表わされる化合物である。
【００７０】一般式（２）および（３）中のｐは、１〜
９の数字であり、これは、側鎖として配位するトリハロ
メチル基の数である。一般的な複素環式化合物の構造か
ら、配位可能な数には、限界があるため、上限は９程度
である。一般に、ｐの数が多くなるとハロゲン交換の反
応速度が低下する傾向にある。
９の数字であり、これは、側鎖として配位するトリハロ
メチル基の数である。一般的な複素環式化合物の構造か
ら、配位可能な数には、限界があるため、上限は９程度
である。一般に、ｐの数が多くなるとハロゲン交換の反
応速度が低下する傾向にある。
【００７１】一般式（３）で表される化合物を製造する
際の一般式（１）で表されるフッ素化剤の使用量は、置
換する１個のハロゲン原子に対してＨＦが通常１当量以
上になるようにすればよい。
際の一般式（１）で表されるフッ素化剤の使用量は、置
換する１個のハロゲン原子に対してＨＦが通常１当量以
上になるようにすればよい。
【００７２】反応溶媒を用いる場合は、フッ化水素と錯
体を形成しない溶媒であれば特に制限はないが、好まし
くはアセトニトリル、ジクロロメタン、エチレンジクロ
リド等である。
体を形成しない溶媒であれば特に制限はないが、好まし
くはアセトニトリル、ジクロロメタン、エチレンジクロ
リド等である。
【００７３】反応温度は、反応溶媒および反応基質の反
応性によって左右されるが、反応速度とフッ素化剤の安
定性の面から、通常、好ましくは−４０℃〜１６０℃、
特に好ましくは−２０℃〜１５０℃の範囲である。
応性によって左右されるが、反応速度とフッ素化剤の安
定性の面から、通常、好ましくは−４０℃〜１６０℃、
特に好ましくは−２０℃〜１５０℃の範囲である。
【００７４】一般式（２）で表される化合物のハロゲン
交換反応は逐次反応であり、温度、圧力、一般式（１）
で表されるフッ素化剤のｎの数、攪拌条件等を制御する
ことによって、置換するフッ素の数を１から３まで制御
することが可能である。
交換反応は逐次反応であり、温度、圧力、一般式（１）
で表されるフッ素化剤のｎの数、攪拌条件等を制御する
ことによって、置換するフッ素の数を１から３まで制御
することが可能である。
【００７５】なお、本発明に係わるフッ素化剤のフッ素
化能力は、フッ素化剤中に含まれるフッ化水素に準ずる
ものである。よって、取り扱いが不便になる、装置が特
殊化される等の不都合さが生じるものの、無水フッ化水
素を本発明のフッ素化剤の代わりに使用しても、適切な
反応温度、圧力を選択することによって同様の効果を得
ることが出来る。
化能力は、フッ素化剤中に含まれるフッ化水素に準ずる
ものである。よって、取り扱いが不便になる、装置が特
殊化される等の不都合さが生じるものの、無水フッ化水
素を本発明のフッ素化剤の代わりに使用しても、適切な
反応温度、圧力を選択することによって同様の効果を得
ることが出来る。
【００７６】また、反応後のフッ素化物質は、フッ素化
前の物質からの物性の変化を利用して、再結晶、蒸留、
抽出、など一般的な単位操作を通じて、原料となる基質
からの分離が可能である。
前の物質からの物性の変化を利用して、再結晶、蒸留、
抽出、など一般的な単位操作を通じて、原料となる基質
からの分離が可能である。
【００７７】本発明に係わる一般式（７）
【００７８】
【化２２】
【００７９】（式中、Ｒ6は前記と同じ意味を示す。）
で表される化合物は、脱Ｃｌによってｈｙｐｅｒｇｌｙ
ｃｅｍｉｃ ａｇｅｎｔとして働く３，５−ビス［トリ
フルオロメチル］ピラゾールを合成することが出来るな
ど、医薬分野などで有用な化合物であり、次の方法にて
製造できる。
で表される化合物は、脱Ｃｌによってｈｙｐｅｒｇｌｙ
ｃｅｍｉｃ ａｇｅｎｔとして働く３，５−ビス［トリ
フルオロメチル］ピラゾールを合成することが出来るな
ど、医薬分野などで有用な化合物であり、次の方法にて
製造できる。
【００８０】すなわち、一般式（４）
【００８１】
【化２３】
【００８２】（式中、Ｒ6は前記と同じ意味を示す。）
で表される化合物と、一般式（１）
で表される化合物と、一般式（１）
【００８３】
【化２４】
【００８４】（式中、ｎは０より大きい数値を示す。Ｒ
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表されるフッ
素化剤を反応させて得ることが出来る。
1〜Ｒ4は置換または無置換のアルキル基またはアリール
基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1と
Ｒ2またはＲ3とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原
子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよい。また、
Ｒ1とＲ3が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘ
テロ原子を含む環を構成してもよい。）で表されるフッ
素化剤を反応させて得ることが出来る。
【００８５】一般式（４）で表される化合物は、本発明
者らの検討結果によると、一般式（９）
者らの検討結果によると、一般式（９）
【００８６】
【化２５】
【００８７】（式中、Ｒ6は、前記と同じ意味を示す。）
で表される化合物を、適当な溶媒中に溶解させ、塩素を
通気しながら、３００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を含む光
を照射する方法で得ることが出来る。
で表される化合物を、適当な溶媒中に溶解させ、塩素を
通気しながら、３００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を含む光
を照射する方法で得ることが出来る。
【００８８】尚、この一般式（９）で表される化合物
は、通常２，４−ペンタンジオンと、一般式（１０）
は、通常２，４−ペンタンジオンと、一般式（１０）
【００８９】
【化２６】
【００９０】（式中、Ｒ6は前記と同じ意味を示す。）
で表されるヒドラジン化合物を脱水縮合させて得ること
が出来る［合成条件については、例えば、Ｏｒｇａｎｉ
ｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、３１巻（１９５１）、４３，
４４頁 参照 ］。
で表されるヒドラジン化合物を脱水縮合させて得ること
が出来る［合成条件については、例えば、Ｏｒｇａｎｉ
ｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、３１巻（１９５１）、４３，
４４頁 参照 ］。
【００９１】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこの例によってなんら限定されるもの
ではない。 （合成例）ＤＭｉ・ｎＨＦの合成 ＤＭｉ（８５．５ｇ、０．７５ｍｏｌ）をポリエチレン
製容器に装入して０〜５℃に冷却し、これに無水フッ化
水素ＨＦ（２５０．８ｇ、１３．２ｍｏｌ）を窒素と共
にガスの状態で１００分間かけて吹き込み、ＤＭｉ・ｎ
ＨＦ（ｎ＝１７．６）を調製した。
するが、本発明はこの例によってなんら限定されるもの
ではない。 （合成例）ＤＭｉ・ｎＨＦの合成 ＤＭｉ（８５．５ｇ、０．７５ｍｏｌ）をポリエチレン
製容器に装入して０〜５℃に冷却し、これに無水フッ化
水素ＨＦ（２５０．８ｇ、１３．２ｍｏｌ）を窒素と共
にガスの状態で１００分間かけて吹き込み、ＤＭｉ・ｎ
ＨＦ（ｎ＝１７．６）を調製した。
【００９２】得られたＤＭｉ・ｎＨＦ（ｎ＝１７．６）
をアルカリ加水分解して、以下の分析値を得た。
をアルカリ加水分解して、以下の分析値を得た。
【００９３】ＤＭｉ：理論値 ２５．４ｗｔ％ 実測値
２５．５ｗｔ％ Ｈ Ｆ：理論値 ７４．６ｗｔ％ 実測値７４．５ｗｔ
％４−クロロ−３，５−ビス［トリクロロメチル］ピラゾ
ールの合成 試薬グレード（純度９９％）の３，５―ジメチルピラゾ
ール（常温で固体）９．６ｇ（０．１ｍｏｌ）を、試薬
グレードの無水四塩化炭素（純度９９．９％）１８５ｇ
（約１．２ｍｏｌ）に室温で溶解させた。
２５．５ｗｔ％ Ｈ Ｆ：理論値 ７４．６ｗｔ％ 実測値７４．５ｗｔ
％４−クロロ−３，５−ビス［トリクロロメチル］ピラゾ
ールの合成 試薬グレード（純度９９％）の３，５―ジメチルピラゾ
ール（常温で固体）９．６ｇ（０．１ｍｏｌ）を、試薬
グレードの無水四塩化炭素（純度９９．９％）１８５ｇ
（約１．２ｍｏｌ）に室温で溶解させた。
【００９４】この溶液を、温度計、塩素吹き込み管、排
気兼用の環流冷却器および光源冷却用の二重冷却管を有
する内容積５００ｍｌのフラスコ（反応容器）に仕込ん
だ。電磁攪拌器による攪拌を開始し、続いて１００Ｗの
内部照射型高圧水銀灯による光照射を開始し、しかる後
に塩素の通気を開始した。初期の塩素通気量は１０ｇ／
ｈｒとした。塩素開始後、反応容器内温度を徐々に７０
℃に上昇させた。反応器内の温度制御は、反応容器を浸
漬させたウォーターバスの水温の調整により行った。温
度が７０℃に安定した後、塩素の通気量を１５ｇ／ｈｒ
とし、５ｈｒ反応させた。この間の塩素通気量は約１．
０６ｍｏｌであり、理論量の約１５０％である。所与の
時間経過後、乾燥窒素ガスを通じて系内の塩素および塩
化水素ガスを除いた後、容器内には溶液と白色の析出物
が観察された。この析出物を濾過分離した。この白色の
析出物について、ＮＭＲ、ＩＲ、ＭＳ分析および元素分
析を行い、４−クロロ−３，５−ビス［トリクロロメチ
ル］ピラゾールであることを確認した。
気兼用の環流冷却器および光源冷却用の二重冷却管を有
する内容積５００ｍｌのフラスコ（反応容器）に仕込ん
だ。電磁攪拌器による攪拌を開始し、続いて１００Ｗの
内部照射型高圧水銀灯による光照射を開始し、しかる後
に塩素の通気を開始した。初期の塩素通気量は１０ｇ／
ｈｒとした。塩素開始後、反応容器内温度を徐々に７０
℃に上昇させた。反応器内の温度制御は、反応容器を浸
漬させたウォーターバスの水温の調整により行った。温
度が７０℃に安定した後、塩素の通気量を１５ｇ／ｈｒ
とし、５ｈｒ反応させた。この間の塩素通気量は約１．
０６ｍｏｌであり、理論量の約１５０％である。所与の
時間経過後、乾燥窒素ガスを通じて系内の塩素および塩
化水素ガスを除いた後、容器内には溶液と白色の析出物
が観察された。この析出物を濾過分離した。この白色の
析出物について、ＮＭＲ、ＩＲ、ＭＳ分析および元素分
析を行い、４−クロロ−３，５−ビス［トリクロロメチ
ル］ピラゾールであることを確認した。
【００９５】元素分析 （計算値）Ｃｌ：７０．３、
Ｃ：１９．８２、Ｈ：０．６６、Ｎ：９．２５ ［ｗｔ
％］ （分析値）Ｃｌ：７１．６、Ｃ：１８．４７、Ｈ：０．
４９、Ｎ：８．６６ ［ｗｔ％］ ＩＲ 特性吸収 ７９６（Ｃ−Ｃｌ）、３２８９（Ｎ−
Ｈ） ［ｃｍ-1］13 Ｃ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＤＭＳＯ溶媒、ＤＭＳＯ基
準、２５℃）：１０５．８、１０９．７、１４０．０、
１４８．４、１５８．７1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＤＭＳＯ溶媒、ＤＭＳＯ基
準、２５℃）：４．５〜７（Ｎ−Ｈ）
Ｃ：１９．８２、Ｈ：０．６６、Ｎ：９．２５ ［ｗｔ
％］ （分析値）Ｃｌ：７１．６、Ｃ：１８．４７、Ｈ：０．
４９、Ｎ：８．６６ ［ｗｔ％］ ＩＲ 特性吸収 ７９６（Ｃ−Ｃｌ）、３２８９（Ｎ−
Ｈ） ［ｃｍ-1］13 Ｃ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＤＭＳＯ溶媒、ＤＭＳＯ基
準、２５℃）：１０５．８、１０９．７、１４０．０、
１４８．４、１５８．７1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＤＭＳＯ溶媒、ＤＭＳＯ基
準、２５℃）：４．５〜７（Ｎ−Ｈ）
【００９６】（実施例）４−クロロ−３，５−ビス［トリフルオロメチル］ピラ
ゾールの合成 ＤＭｉ・１７．６ＨＦ（２５．４３ｇ、ＨＦ９５９．９
３ｍｍｏｌ）および上記の方法にて合成した４−クロロ
−３，５−ビス［トリクロロメチル］ピラゾールを、密
閉式の反応容器に仕込み、電磁攪拌器による攪拌を継続
しながら、オイルバス中１４０℃で１６時間保持し、ハ
ロゲン交換反応を行った。反応後、反応混合物をＧＣ−
ＭＳにて分析したところ、原料ピークの消失と、質量数
２３８のピークの生成が確認された。反応後の混合液か
らジエチルエーテルによる抽出を行い、脱溶媒後、黄褐
色の油状物質を得た。この油状物を蒸留したところ、無
色の結晶を得た。この結晶の分析を行った結果、４−ク
ロロ−３，５−ビス［トリフルオロメチル］ピラゾール
であることを確認した。
ゾールの合成 ＤＭｉ・１７．６ＨＦ（２５．４３ｇ、ＨＦ９５９．９
３ｍｍｏｌ）および上記の方法にて合成した４−クロロ
−３，５−ビス［トリクロロメチル］ピラゾールを、密
閉式の反応容器に仕込み、電磁攪拌器による攪拌を継続
しながら、オイルバス中１４０℃で１６時間保持し、ハ
ロゲン交換反応を行った。反応後、反応混合物をＧＣ−
ＭＳにて分析したところ、原料ピークの消失と、質量数
２３８のピークの生成が確認された。反応後の混合液か
らジエチルエーテルによる抽出を行い、脱溶媒後、黄褐
色の油状物質を得た。この油状物を蒸留したところ、無
色の結晶を得た。この結晶の分析を行った結果、４−ク
ロロ−３，５−ビス［トリフルオロメチル］ピラゾール
であることを確認した。
【００９７】元素分析 （計算値）Ｆ：４７．７９、Ｃ
ｌ：１４．８６、Ｃ：２５．１８、Ｈ：０．４２、Ｎ：
１１．７５ ［ｗｔ％］ （分析値） Ｆ：４６．５、Ｃｌ：１４．４６、Ｃ：２
６．１１、Ｈ：０．６９、Ｎ：１２．２４ ［ｗｔ％］13 Ｃ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3溶媒、ＣＤＣｌ3
基準、２５℃）：１０９．７、１１５．２、１１７．
９、１２０．５、１２３．２、１３５．５、１３５．
８、１３６．２、１３６．６ カップリング定数：Ｊ（Ｃ−Ｆ）：２７０．２５Ｈｚ Ｊ（Ｃ−Ｃ−Ｆ）：３８．６１Ｈｚ1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3溶媒、ＣＤＣｌ3
基準、２５℃）：８〜１０（Ｎ−Ｈ）
ｌ：１４．８６、Ｃ：２５．１８、Ｈ：０．４２、Ｎ：
１１．７５ ［ｗｔ％］ （分析値） Ｆ：４６．５、Ｃｌ：１４．４６、Ｃ：２
６．１１、Ｈ：０．６９、Ｎ：１２．２４ ［ｗｔ％］13 Ｃ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3溶媒、ＣＤＣｌ3
基準、２５℃）：１０９．７、１１５．２、１１７．
９、１２０．５、１２３．２、１３５．５、１３５．
８、１３６．２、１３６．６ カップリング定数：Ｊ（Ｃ−Ｆ）：２７０．２５Ｈｚ Ｊ（Ｃ−Ｃ−Ｆ）：３８．６１Ｈｚ1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3溶媒、ＣＤＣｌ3
基準、２５℃）：８〜１０（Ｎ−Ｈ）
【００９８】
【発明の効果】第一に、一般式（１）で表わされる組成
物は、改良型ＨＦ様フッ素化剤として安全で取り扱いが
容易であり、ＨＦと同様の反応性を有するフッ素化剤で
ある。第二に、該組成物の使用に当たっては、特殊な装
置や技術を必要とせず、安全かつ容易に使用可能であ
り、工業的に非常に有用である。さらに、該組成物を用
いることにより、トリフルオロメチル基を有する複素環
式化合物を工業的に容易に製造することが可能である。
以上の理由から、フッ素含有化合物製造における特殊要
因を排除して工業的な製法として有効である。更に、本
発明の新規化合物は、脱Ｃｌによってｈｙｐｅｒｇｌｙ
ｃｅｍｉｃａｇｅｎｔとして働く３，５−ビス［トリフ
ルオロメチル］ピラゾールを合成することが出来るな
ど、医薬分野などで有用な化合物である。
物は、改良型ＨＦ様フッ素化剤として安全で取り扱いが
容易であり、ＨＦと同様の反応性を有するフッ素化剤で
ある。第二に、該組成物の使用に当たっては、特殊な装
置や技術を必要とせず、安全かつ容易に使用可能であ
り、工業的に非常に有用である。さらに、該組成物を用
いることにより、トリフルオロメチル基を有する複素環
式化合物を工業的に容易に製造することが可能である。
以上の理由から、フッ素含有化合物製造における特殊要
因を排除して工業的な製法として有効である。更に、本
発明の新規化合物は、脱Ｃｌによってｈｙｐｅｒｇｌｙ
ｃｅｍｉｃａｇｅｎｔとして働く３，５−ビス［トリフ
ルオロメチル］ピラゾールを合成することが出来るな
ど、医薬分野などで有用な化合物である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福村 考記 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 後藤 謙一 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 成瀬 純子 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 林 秀俊 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 安武 剛 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番地32 三井化学株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、ｎは０より大きい数値を示す。Ｒ1〜Ｒ4は置換
または無置換のアルキル基またはアリール基を示し、同
一でも異なっていてもよい。また、Ｒ1とＲ2またはＲ3
とＲ4が結合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテ
ロ原子を含む環を構成してもよい。また、Ｒ1とＲ3が結
合して窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含
む環を構成してもよい。）で表されるフッ素化剤と一般
式（２） 【化２】 （式中、Ｒ5は置換または無置換の複素環式芳香族基を
示す。Ｘ1は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素原子のいずれ
かを示し、同一でも異なっていてもよい。但し、３つと
もフッ素原子であることはない。またｐは１〜９の整数
を示す。）で表される複素環式芳香族化合物とを反応さ
せることを特徴とする、一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ5は前記と同じ意味を示す。Ｘ2は塩素、臭
素、ヨウ素原子のいずれかを示し、同一でも異なってい
てもよい。またｑは１〜３の整数を示し、ｐは１〜９の
整数を示す。）で表されるフッ素含有複素環式芳香族化
合物の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（２）で表される複素環式芳香族
化合物が、窒素、酸素、硫黄からなる元素群の、いずれ
かまたは２種ないし３種を１〜４個含有する環式化合物
であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（２）で表される複素環式芳香族
化合物が、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾー
ル、イミダゾール、イソキサゾール、チアゾール、チア
ジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラ
ジン、トリアジン、ベンゾフラン、インドール、チアナ
フテン、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾール、ベン
ゾチアゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、キノリ
ン、イソキノリン、チノリン、キノキサリン、ジベンゾ
チオフェン、アクリジン、フェナントロリンから選ばれ
た環を有する複素環式芳香族化合物である請求項１記載
の製造方法。 - 【請求項４】 一般式（２）で表される複素環式芳香族
化合物が、一般式（４） 【化４】 （式中、Ｒ6は水素原子またはＣ1〜Ｃ4の低級アルキル
基を示す。）で表される化合物である請求項１記載の製
造方法。 - 【請求項５】 一般式（２）で表される複素環式芳香族
化合物が、式（５） 【化５】 で表される４−クロロ−３，５−ビス［トリクロロメチ
ル］ピラゾールである請求項１記載の製造方法。 - 【請求項６】 一般式（１）で表されるフッ素化剤が式
（６） 【化６】 （式中、ｎは０より大きな数値を示す。）で表されるフ
ッ素化剤であることを特徴とする請求項１から５記載の
製造方法。 - 【請求項７】 一般式（７） 【化７】 （式中、Ｒ6は前記と同じ意味を示す。）で表される新
規ピラゾール環化合物。 - 【請求項８】 式（８） 【化８】 で表される４−クロロ−３，５ビス［トリフルオロメチ
ル］ピラゾール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000003172A JP2001192369A (ja) | 2000-01-12 | 2000-01-12 | フッ素含有複素環式芳香族化合物の製造方法および新規ピラゾール環化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000003172A JP2001192369A (ja) | 2000-01-12 | 2000-01-12 | フッ素含有複素環式芳香族化合物の製造方法および新規ピラゾール環化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001192369A true JP2001192369A (ja) | 2001-07-17 |
Family
ID=18532159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000003172A Pending JP2001192369A (ja) | 2000-01-12 | 2000-01-12 | フッ素含有複素環式芳香族化合物の製造方法および新規ピラゾール環化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001192369A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2623496A1 (de) * | 2012-02-01 | 2013-08-07 | Bayer CropScience AG | Verfahren zur Herstellung von 3,5-bis (fluoralkyl)-pyrazol-4-carbonsäure-Derivaten und 3,5-bis(fluoralkyl)-pyrazolen |
-
2000
- 2000-01-12 JP JP2000003172A patent/JP2001192369A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2623496A1 (de) * | 2012-02-01 | 2013-08-07 | Bayer CropScience AG | Verfahren zur Herstellung von 3,5-bis (fluoralkyl)-pyrazol-4-carbonsäure-Derivaten und 3,5-bis(fluoralkyl)-pyrazolen |
| CN104245676A (zh) * | 2012-02-01 | 2014-12-24 | 拜耳农作物科学股份公司 | 用于制备3,5-双(氟烷基)吡唑-4-甲酸衍生物和3,5-双(氟烷基)吡唑类化合物的方法 |
| US9309202B2 (en) | 2012-02-01 | 2016-04-12 | Bayer Cropscience Ag | Method for producing 3,5-bis(fluoroalkyl)-pyrazol-4-carboxylic acid derivatives and 3,5-bis(fluoroalkyl)-pyrazoles |
| US10035773B2 (en) | 2012-02-01 | 2018-07-31 | Bayer Cropscience Ag | Method for producing 3,5-bis(fluoroalkyl)-pyrazol-4-carboxylic acid derivatives and 3,5-bis(fluoroalkyl)-pyrazoles |
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