JP2001183536A - 光ファイバにグレーティングを施す方法 - Google Patents
光ファイバにグレーティングを施す方法Info
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- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
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- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
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- G02B6/02142—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating based on illuminating or irradiating an amplitude mask, i.e. a mask having a repetitive intensity modulating pattern
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Abstract
(57)【要約】
【課題】偏波依存(偏光依存)性損失がほぼ排除される
ように、光ファイバに対して長周期のグレーティングを
施す方法および装置を提供すること。 【解決手段】本発明は、放射線源と、V字形状の溝が形
成された支持体と、溝に設置された光ファイバとを備え
る。該溝に含まれる面は、前記放射線源から光ファイバ
に向かって入射する放射線の伝搬方向に対して60°の
角度をなして傾斜し、前記放射線に対して高い反射率特
性を具備する。光ファイバのコアは、前記放射線源から
直接入射する放射線と、前記放射線源から放射され前記
溝の側面によって反射された後に得られる放射線とによ
って作用を受けグレーティングが施される。
ように、光ファイバに対して長周期のグレーティングを
施す方法および装置を提供すること。 【解決手段】本発明は、放射線源と、V字形状の溝が形
成された支持体と、溝に設置された光ファイバとを備え
る。該溝に含まれる面は、前記放射線源から光ファイバ
に向かって入射する放射線の伝搬方向に対して60°の
角度をなして傾斜し、前記放射線に対して高い反射率特
性を具備する。光ファイバのコアは、前記放射線源から
直接入射する放射線と、前記放射線源から放射され前記
溝の側面によって反射された後に得られる放射線とによ
って作用を受けグレーティングが施される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバに施さ
れるグレーティングに関するものであり、とりわけ、長
周期グレーティングと呼ばれるタイプのグレーティング
に関するものである。これらは、例えば、温度依存性の
低い、周期が数十マイクロメートル(一般に30〜40
マイクロメートル)のグレーティングとすることが可能
である。
れるグレーティングに関するものであり、とりわけ、長
周期グレーティングと呼ばれるタイプのグレーティング
に関するものである。これらは、例えば、温度依存性の
低い、周期が数十マイクロメートル(一般に30〜40
マイクロメートル)のグレーティングとすることが可能
である。
【0002】
【従来の技術】このタイプの装置は、例えば、1996
年2月29日に開催されたOFC Optical F
iber Communication ’96 co
nferenceのthe Postdeadline
PapersページPD1−2〜PD1−5に発表さ
れたJ.B.Judkins他による論文「低温度依存
型 長周期ファイバグレーティング(Temparat
ure−insensitive long−peri
od fiber gratings)」、または、0
pt.Eng.36(7),pp.1872−1876
(1997年7月)に発表された、V.Bhatia他
による論文「低温度依存型−低張力依存型グレーティン
グセンサ(Temparature−insensit
ive and strain−insensitiv
e grating sensors for sma
rt structures)」によって例証されてい
るように、当該技術において既知のところである。
年2月29日に開催されたOFC Optical F
iber Communication ’96 co
nferenceのthe Postdeadline
PapersページPD1−2〜PD1−5に発表さ
れたJ.B.Judkins他による論文「低温度依存
型 長周期ファイバグレーティング(Temparat
ure−insensitive long−peri
od fiber gratings)」、または、0
pt.Eng.36(7),pp.1872−1876
(1997年7月)に発表された、V.Bhatia他
による論文「低温度依存型−低張力依存型グレーティン
グセンサ(Temparature−insensit
ive and strain−insensitiv
e grating sensors for sma
rt structures)」によって例証されてい
るように、当該技術において既知のところである。
【0003】これらのグレーティングは、その働きが、
主としてクラッディング内の伝搬モードに対する光ファ
イバのコア内の導波モードの結合に基づくものであり、
例えば、帯域阻止フィルタまたは光増幅器用の利得等化
器に用いられるようなセンサ・テクノロジ及び光遠隔通
信における用途に役立つようになってきた。短周期グレ
ーティングとは異なり、長周期グレーティングは、共振
波長の後方散乱が生じない。
主としてクラッディング内の伝搬モードに対する光ファ
イバのコア内の導波モードの結合に基づくものであり、
例えば、帯域阻止フィルタまたは光増幅器用の利得等化
器に用いられるようなセンサ・テクノロジ及び光遠隔通
信における用途に役立つようになってきた。短周期グレ
ーティングとは異なり、長周期グレーティングは、共振
波長の後方散乱が生じない。
【0004】グレーティングは、所要の長さの光ファイ
バにおいて、該光ファイバのコアに屈折率の局部的変化
を生じさせることが可能な周波数倍加アルゴン・レーザ
のような放射線源の作用によって形成される。該作用に
よって誘発される屈折率の変化のプロファイル(一般
に、周期的なもの)は、放射線源と光ファイバの間に挿
入される書き込みマスクの特性によって決まる。一般に
フォトリソグラフィまたは同様の方法によって得られる
マスクは、屈折率を変更するか不変の状態に保つべく、
光ファイバのコアに対して、放射線を照射するか遮蔽す
る。
バにおいて、該光ファイバのコアに屈折率の局部的変化
を生じさせることが可能な周波数倍加アルゴン・レーザ
のような放射線源の作用によって形成される。該作用に
よって誘発される屈折率の変化のプロファイル(一般
に、周期的なもの)は、放射線源と光ファイバの間に挿
入される書き込みマスクの特性によって決まる。一般に
フォトリソグラフィまたは同様の方法によって得られる
マスクは、屈折率を変更するか不変の状態に保つべく、
光ファイバのコアに対して、放射線を照射するか遮蔽す
る。
【0005】図1において、曲線Aは、既知の技術によ
って施された長周期グレーティングの伝搬特性(減衰特
性)である。ここで、減衰量は縦軸に示され、単位をデ
シベル(dB)とする。曲線Aで表される該特性は、無
偏波(無偏光)の放射線に対する波長(λ)の関数とし
て示されている。ここで、波長は横軸に示され、単位を
ナノメートル(nm)とする。図1より、ほぼ1510
〜1530nmの範囲内にある領域において、グレーテ
ィングは明らかに帯域阻止フィルタの特性を示すことが
実証されている。曲線Aにおいて、前述の領域外におい
ても見受けられる約2dBの減衰は、単に、この図の作
成に用いられた実験環境に起因しているものである。
って施された長周期グレーティングの伝搬特性(減衰特
性)である。ここで、減衰量は縦軸に示され、単位をデ
シベル(dB)とする。曲線Aで表される該特性は、無
偏波(無偏光)の放射線に対する波長(λ)の関数とし
て示されている。ここで、波長は横軸に示され、単位を
ナノメートル(nm)とする。図1より、ほぼ1510
〜1530nmの範囲内にある領域において、グレーテ
ィングは明らかに帯域阻止フィルタの特性を示すことが
実証されている。曲線Aにおいて、前述の領域外におい
ても見受けられる約2dBの減衰は、単に、この図の作
成に用いられた実験環境に起因しているものである。
【0006】一方、同じグレーティングに関する曲線B
のグラフは、「偏波依存性損失(偏光依存損失)」の略
語であるPDLとして知られるパラメータの変化(やは
り波長λの関数として測定される)を表している。既知
技術に従って施されるグレーティングの場合、PDL
は、通常、互いに直交する偏波(偏光)状態をもつ2つ
の光放射線が存在する状態において顕著に現れる反応の
差により導き出される。図1において、PDLは、グレ
ーティングによって帯域阻止フィルタとしての機能を発
揮する領域において、該領域外と比較して、極めて大き
いものになる(波長λの関数として非常に不規則な変化
を示す)ことが明らかである。
のグラフは、「偏波依存性損失(偏光依存損失)」の略
語であるPDLとして知られるパラメータの変化(やは
り波長λの関数として測定される)を表している。既知
技術に従って施されるグレーティングの場合、PDL
は、通常、互いに直交する偏波(偏光)状態をもつ2つ
の光放射線が存在する状態において顕著に現れる反応の
差により導き出される。図1において、PDLは、グレ
ーティングによって帯域阻止フィルタとしての機能を発
揮する領域において、該領域外と比較して、極めて大き
いものになる(波長λの関数として非常に不規則な変化
を示す)ことが明らかである。
【0007】この問題に関して特定の理論を採る意図は
ないが、グレーティングの書き込み工程において、該反
応(グレーティングがある程度まで偏光子の働きをす
る)は、光ファイバのコアの屈折率がその本質的なスカ
ラ値の特性を失い、テンソル値の特性を帯びるというこ
とに関連しているものと考えられる。
ないが、グレーティングの書き込み工程において、該反
応(グレーティングがある程度まで偏光子の働きをす
る)は、光ファイバのコアの屈折率がその本質的なスカ
ラ値の特性を失い、テンソル値の特性を帯びるというこ
とに関連しているものと考えられる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前述
の偏波依存(偏光依存)の性質がほぼ排除されるよう
に、光ファイバに対して長周期のグレーティングを施す
ことができるようにして、前述の欠点を克服することに
ある。
の偏波依存(偏光依存)の性質がほぼ排除されるよう
に、光ファイバに対して長周期のグレーティングを施す
ことができるようにして、前述の欠点を克服することに
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、この目
的は、光ファイバ内のコアに複数の放射線を照射しグレ
ーティングを施す方法によって実現される。また、本発
明は、該方法の適用例に利用可能な装置に関するもので
ある。
的は、光ファイバ内のコアに複数の放射線を照射しグレ
ーティングを施す方法によって実現される。また、本発
明は、該方法の適用例に利用可能な装置に関するもので
ある。
【0010】次に、本発明を付属の図面に示す実施例に
基づいて説明する。なお、本説明は、本発明に対して何
ら限定を加えるものではない。
基づいて説明する。なお、本説明は、本発明に対して何
ら限定を加えるものではない。
【0011】
【発明の実施の形態】図2において、参照番号10は、
クラッディング1Bによって包囲されたコア1Aを含
む、ある長さの光ファイバFに長周期のグレーティング
を施すために利用可能な装置を全体として示している。
クラッディング1Bによって包囲されたコア1Aを含
む、ある長さの光ファイバFに長周期のグレーティング
を施すために利用可能な装置を全体として示している。
【0012】グレーティングは、既知のように、放射線
源12によって放出される放射線に対して不透明な領域
と透明な領域が連続したマスク14を介して、放射線源
(例えば、周波数倍加アルゴン・レーザ)によって放出
された放射線を、コア1Aに対して照射することによっ
て得られる。
源12によって放出される放射線に対して不透明な領域
と透明な領域が連続したマスク14を介して、放射線源
(例えば、周波数倍加アルゴン・レーザ)によって放出
された放射線を、コア1Aに対して照射することによっ
て得られる。
【0013】本発明による装置10の光ファイバFは、
単に支持体16(例えば、マスクの正反対の位置にある
シリカ・プレート)に支持されているだけではなく、支
持体16に設けられたV字形状のグルーブ18によっ
て、グレーティングの書き込みが施される。
単に支持体16(例えば、マスクの正反対の位置にある
シリカ・プレート)に支持されているだけではなく、支
持体16に設けられたV字形状のグルーブ18によっ
て、グレーティングの書き込みが施される。
【0014】その内部に光ファイバFの少なくとも一部
を納めることが可能なグルーブ18は、開口角が120
゜の理想的な二面角を形成する対称的なV字形状をなす
ように製作される。
を納めることが可能なグルーブ18は、開口角が120
゜の理想的な二面角を形成する対称的なV字形状をなす
ように製作される。
【0015】グルーブ18の側面20は、放射線源12
から入射する放射線の伝搬方向X12に対して60゜の
角度αで傾斜した平面内に位置している。
から入射する放射線の伝搬方向X12に対して60゜の
角度αで傾斜した平面内に位置している。
【0016】支持体16は、例えば、グルーブ18の側
面を構成する平面20の一方を形成するように面取りが
施され、次に、面取りを施された領域に隣接する2つの
直線的側面16bが互いに隣り合せに配置される、2つ
のプレート16a(例えば、シリカまたは石英の)から
製作することが可能である。
面を構成する平面20の一方を形成するように面取りが
施され、次に、面取りを施された領域に隣接する2つの
直線的側面16bが互いに隣り合せに配置される、2つ
のプレート16a(例えば、シリカまたは石英の)から
製作することが可能である。
【0017】前記の幾何学的形状および配置が保持され
る場合、グルーブ18の形成手順は、全く異なるものに
することが可能である。すなわち、支持体16は、機械
加工が施された単一の材料から構成することが可能であ
る。
る場合、グルーブ18の形成手順は、全く異なるものに
することが可能である。すなわち、支持体16は、機械
加工が施された単一の材料から構成することが可能であ
る。
【0018】良好な寸法安定性と、側面20の平坦な表
面を形成できる整形可能性と、(とりわけ、高パワーの
放射線源12と組み合わせて用いられる可能性があるた
め)優れた放熱特性とを具備することを条件として、支
持体16の材料に、前述のものとは異なるものを用いる
ことができる。
面を形成できる整形可能性と、(とりわけ、高パワーの
放射線源12と組み合わせて用いられる可能性があるた
め)優れた放熱特性とを具備することを条件として、支
持体16の材料に、前述のものとは異なるものを用いる
ことができる。
【0019】放射線源12によって発生する放射線に対
する優れた抵抗特性を持ち、併せて高い表面反射率を示
すことが可能なコーティング層20aは、少なくともグ
ルーブ18の側面20に形成されるか、または、塗布さ
れることが望ましく、特に側面20が形成される工程の
結果として直接または、ほぼ直接生成されることが望ま
しい。
する優れた抵抗特性を持ち、併せて高い表面反射率を示
すことが可能なコーティング層20aは、少なくともグ
ルーブ18の側面20に形成されるか、または、塗布さ
れることが望ましく、特に側面20が形成される工程の
結果として直接または、ほぼ直接生成されることが望ま
しい。
【0020】放射線源12(図2において、その寸法を
縮小し略示されている)から放射される放射線は、矢印
Aによって示される方向に伝搬し、マスク14を通過
し、さらに、光ファイバF、特にコア1Aに照射され
る。また、グルーブ18の側面20の高い反射率特性に
より、放射線源12から入射する放射線(及び、とりわ
け、光ファイバFに対してすれすれの方向に伝搬するそ
の一部)は、グルーブ18の側面により、図2の矢印B
及びCによって示される伝搬方向に、光ファイバFに向
けて反射される。
縮小し略示されている)から放射される放射線は、矢印
Aによって示される方向に伝搬し、マスク14を通過
し、さらに、光ファイバF、特にコア1Aに照射され
る。また、グルーブ18の側面20の高い反射率特性に
より、放射線源12から入射する放射線(及び、とりわ
け、光ファイバFに対してすれすれの方向に伝搬するそ
の一部)は、グルーブ18の側面により、図2の矢印B
及びCによって示される伝搬方向に、光ファイバFに向
けて反射される。
【0021】従って、マスク14の透明領域に対応する
部分において、120゜の角度だけ互いに離隔した3つ
の異なる方向からコア1Aに向かって伝搬する3つの放
射線の波面は、光ファイバF、特にそのコア1Aにぶつ
かることになる。
部分において、120゜の角度だけ互いに離隔した3つ
の異なる方向からコア1Aに向かって伝搬する3つの放
射線の波面は、光ファイバF、特にそのコア1Aにぶつ
かることになる。
【0022】グルーブ18の側面20の反射率が高いた
め、こうして発生する放射線の波面(1つは、放射線源
12によって直接放射されたものであり、他の2つは、
放射線源12からの放射線が支持体16に設けられたグ
ルーブ18の側面20によって反射されたものであ
る。)の強度レベルは、互いにほぼ同じである。
め、こうして発生する放射線の波面(1つは、放射線源
12によって直接放射されたものであり、他の2つは、
放射線源12からの放射線が支持体16に設けられたグ
ルーブ18の側面20によって反射されたものであ
る。)の強度レベルは、互いにほぼ同じである。
【0023】この実験では、この方法、すなわち、複数
の異なる角方向(空間内に一様または、ほぼ一様に分布
する)からコア1Aに向かって複数の放射線を、光ファ
イバFに照射することによってグレーティングを施す方
法により、光ファイバのコア1Aの屈折率は、その値は
照射の効果によって変化するが、コア1A内部におい
て、ほぼ一様な特性を保持することになる。
の異なる角方向(空間内に一様または、ほぼ一様に分布
する)からコア1Aに向かって複数の放射線を、光ファ
イバFに照射することによってグレーティングを施す方
法により、光ファイバのコア1Aの屈折率は、その値は
照射の効果によって変化するが、コア1A内部におい
て、ほぼ一様な特性を保持することになる。
【0024】本発明による解決策によって実現可能な結
果は、図3に示す曲線によって表されており、図1と同
様に、曲線A及びBによって識別される。図3には、図
1に関連して考察されたものとほぼ同様のグレーティン
グの伝搬特性が示されている。
果は、図3に示す曲線によって表されており、図1と同
様に、曲線A及びBによって識別される。図3には、図
1に関連して考察されたものとほぼ同様のグレーティン
グの伝搬特性が示されている。
【0025】図3に詳細に示された結果によって明らか
なように、図1の場合と対比して、帯域阻止領域内にお
ける測定可能なPDLの最大値は、特に該領域の範囲外
における値と同程度に小さくなっており、帯域阻止フィ
ルタとしての特性(曲線A)はほぼ同等であるが、PD
L(曲線B)の変化は、非常に規則的になっている。
なように、図1の場合と対比して、帯域阻止領域内にお
ける測定可能なPDLの最大値は、特に該領域の範囲外
における値と同程度に小さくなっており、帯域阻止フィ
ルタとしての特性(曲線A)はほぼ同等であるが、PD
L(曲線B)の変化は、非常に規則的になっている。
【0026】また、理論的には、コア1Aに照射される
放射線の数を増大させることが可能である。例えば、異
なる光路間を通じて光ファイバFのコア1Aに向けて照
射されるように、放射線源12から入射する放射線を分
割する機構を利用して、増大させることが可能である。
放射線の数を増大させることが可能である。例えば、異
なる光路間を通じて光ファイバFのコア1Aに向けて照
射されるように、放射線源12から入射する放射線を分
割する機構を利用して、増大させることが可能である。
【0027】しかし、図2に示す解決法は、単純な装置
で優れた結果を得ることが可能になるので、少なくとも
現時点では望ましいであろう。なぜなら、該装置は単純
でありながら、矢印Aによって表示された主波面から直
接的に(単純な反射によって)、図2の矢印B及びCで
示される2つの放射線の波面を得ることができるからで
ある。
で優れた結果を得ることが可能になるので、少なくとも
現時点では望ましいであろう。なぜなら、該装置は単純
でありながら、矢印Aによって表示された主波面から直
接的に(単純な反射によって)、図2の矢印B及びCで
示される2つの放射線の波面を得ることができるからで
ある。
【0028】また、グルーブ18の反射側面20は、必
要があれば、それらに入射する放射線に関してわずかに
集束させる作用を及ぼすことができるように企図された
機械加工および処理のいずれかを受けさせることが可能
である。しかし、出願人の実施した実験によって明らか
なように、この改良は、ほとんどの場合には不要であ
る。
要があれば、それらに入射する放射線に関してわずかに
集束させる作用を及ぼすことができるように企図された
機械加工および処理のいずれかを受けさせることが可能
である。しかし、出願人の実施した実験によって明らか
なように、この改良は、ほとんどの場合には不要であ
る。
【0029】従って、これらの考察に鑑みて明らかなよ
うに、本発明の原理が保持される場合、本発明の範囲を
逸脱することなく、製造の詳細及び実施態様の形態を解
説され、例示されたものから多様に変化させることが可
能である。以下に、本発明の実施態様を示す。
うに、本発明の原理が保持される場合、本発明の範囲を
逸脱することなく、製造の詳細及び実施態様の形態を解
説され、例示されたものから多様に変化させることが可
能である。以下に、本発明の実施態様を示す。
【0030】(実施態様1)クラッディング(1B)に
よって包囲されたコア(1A)を含む光ファイバ(F)
にグレーティングを施す方法であって、強度が周期変化
する放射線にさらすことによってコア(1A)の屈折率
の局部的周期的変化を誘発するステップと、ほぼ一様に
角分布したそれぞれの方向において、コア(1A)に当
たる複数の放射線をコア(1A)に照射することによっ
て屈折率の前記変化を誘発するステップとを備えること
を特徴とするファイバグレーティングの作成方法。
よって包囲されたコア(1A)を含む光ファイバ(F)
にグレーティングを施す方法であって、強度が周期変化
する放射線にさらすことによってコア(1A)の屈折率
の局部的周期的変化を誘発するステップと、ほぼ一様に
角分布したそれぞれの方向において、コア(1A)に当
たる複数の放射線をコア(1A)に照射することによっ
て屈折率の前記変化を誘発するステップとを備えること
を特徴とするファイバグレーティングの作成方法。
【0031】(実施態様2)前記複数の放射線に、3つ
の放射線(A、B、C)が含まれることを特徴とする、
実施態様1に記載の方法。
の放射線(A、B、C)が含まれることを特徴とする、
実施態様1に記載の方法。
【0032】(実施態様3)前記複数の放射線が単一放
射線源(12)から得られることを特徴とする、実施態
様1または実施態様2に記載の方法。
射線源(12)から得られることを特徴とする、実施態
様1または実施態様2に記載の方法。
【0033】(実施態様4)前記複数の放射線のうち1
つは、光ファイバ(F)に向けて直接送られるが、他の
放射線は、反射された後、光ファイバ(F)に向けて送
られることを特徴とする、実施態様1〜3に記載の方
法。
つは、光ファイバ(F)に向けて直接送られるが、他の
放射線は、反射された後、光ファイバ(F)に向けて送
られることを特徴とする、実施態様1〜3に記載の方
法。
【0034】(実施態様5)前記他の放射線を発生させ
るため、前記第1の放射線(A)が当たると、反射する
ことによって、前記第1の放射線(A)を前記コア(1
A)に向け直すことが可能な反射面(20)を設けるこ
とを特徴とする実施態様3または4に記載の方法。
るため、前記第1の放射線(A)が当たると、反射する
ことによって、前記第1の放射線(A)を前記コア(1
A)に向け直すことが可能な反射面(20)を設けるこ
とを特徴とする実施態様3または4に記載の方法。
【0035】(実施態様6)前記反射面(20)のうち
の2つを設けて、グレーティングが施される光ファイバ
(F)を収容するように溝(18)を形成することを特
徴とする、実施態様5に記載の方法。
の2つを設けて、グレーティングが施される光ファイバ
(F)を収容するように溝(18)を形成することを特
徴とする、実施態様5に記載の方法。
【0036】(実施態様7)前記反射面(20)は、前
記第1の放射線(A)の伝搬方向(X12)に対して6
0゜の角度(α)を形成する平面内にあることを特徴と
する、実施態様5または6に記載の方法。
記第1の放射線(A)の伝搬方向(X12)に対して6
0゜の角度(α)を形成する平面内にあることを特徴と
する、実施態様5または6に記載の方法。
【0037】(実施態様8)前記グレーティングは、長
周期グレーティングであることを特徴とする、実施態様
1〜7に記載の方法。
周期グレーティングであることを特徴とする、実施態様
1〜7に記載の方法。
【0038】(実施態様9)クラッディング(1B)に
よって包囲されたコア(1A)を含む光ファイバ(F)
にグレーティングを施すための装置であって、前記コア
(1A)の対応する屈折率の周期変化を誘発することが
可能な、強度の局部的周期的変化を示す放射線を発生す
るための発生手段(12、14)が含まれており、前記
発生手段(12、14)が、さらなる発生手段(16、
18、20)に関連し、これらと相互作用して、ほぼ一
様に角分布したそれぞれの方向において前記コア(1
A)に当たる複数の放射線を発生することを特徴とす
る、装置。
よって包囲されたコア(1A)を含む光ファイバ(F)
にグレーティングを施すための装置であって、前記コア
(1A)の対応する屈折率の周期変化を誘発することが
可能な、強度の局部的周期的変化を示す放射線を発生す
るための発生手段(12、14)が含まれており、前記
発生手段(12、14)が、さらなる発生手段(16、
18、20)に関連し、これらと相互作用して、ほぼ一
様に角分布したそれぞれの方向において前記コア(1
A)に当たる複数の放射線を発生することを特徴とす
る、装置。
【0039】(実施態様10)前記発生手段に、前記複
数の放射線のうち1つの放射線(A)を光ファイバ
(F)に向けて送るための放射線源(12)と、前記放
射線源(12)から前記光ファイバ(F)に向かう前記
放射線(A)の伝搬経路内に挿入されて、前記放射線の
強度の前記局部的周期的変化を発生するためのマスク
(14)とを備えることを特徴とし、また、前記もう1
つの発生手段に、光ファイバ(F)の支持体(16)
と、前記コア(1A)に向けて送られる前記複数の放射
線のうちの他の放射線を、前記放射線源(12)から生
じる放射線の反射によって発生することが可能な反射手
段(20)とを備えることを特徴とする、実施態様9に
記載の装置。
数の放射線のうち1つの放射線(A)を光ファイバ
(F)に向けて送るための放射線源(12)と、前記放
射線源(12)から前記光ファイバ(F)に向かう前記
放射線(A)の伝搬経路内に挿入されて、前記放射線の
強度の前記局部的周期的変化を発生するためのマスク
(14)とを備えることを特徴とし、また、前記もう1
つの発生手段に、光ファイバ(F)の支持体(16)
と、前記コア(1A)に向けて送られる前記複数の放射
線のうちの他の放射線を、前記放射線源(12)から生
じる放射線の反射によって発生することが可能な反射手
段(20)とを備えることを特徴とする、実施態様9に
記載の装置。
【0040】(実施態様11)前記反射手段に、前記第
1の放射線(A)の伝搬方向(X12)に対して60゜
の角度を形成するそれぞれの平面内に位置する反射面
(20)が含まれることを特徴とする、実施態様10に
記載の装置。
1の放射線(A)の伝搬方向(X12)に対して60゜
の角度を形成するそれぞれの平面内に位置する反射面
(20)が含まれることを特徴とする、実施態様10に
記載の装置。
【0041】(実施態様12)前記支持体(16)に、
前記反射面(20)のうち2つが含まれることを特徴と
する、実施態様11に記載の装置。
前記反射面(20)のうち2つが含まれることを特徴と
する、実施態様11に記載の装置。
【0042】(実施態様13)前記反射表面(20)
は、共同で、前記光ファイバ(F)の少なくとも一部を
収容することが可能なように前記支持体に溝を形成する
ことを特徴とする、実施態様12に記載の装置。
は、共同で、前記光ファイバ(F)の少なくとも一部を
収容することが可能なように前記支持体に溝を形成する
ことを特徴とする、実施態様12に記載の装置。
【0043】(実施態様14)前記支持体(16)は、
それぞれに前記反射面(20)が設けられ、前記反射面
(20)が互いに隣接するように配置されている2つの
プレート部材(16a)から構成されることを特徴とす
る、実施態様12または13に記載の装置。
それぞれに前記反射面(20)が設けられ、前記反射面
(20)が互いに隣接するように配置されている2つの
プレート部材(16a)から構成されることを特徴とす
る、実施態様12または13に記載の装置。
【0044】(実施態様15)実施態様1〜8に記載の
いずれかの方法によって施されたグレーティングを有す
る光ファイバ。
いずれかの方法によって施されたグレーティングを有す
る光ファイバ。
【図1】既知技術によって施されたグレーティングの特
性を示す図である。
性を示す図である。
【図2】本発明に従って機能する装置の構造に関する概
略図である。
略図である。
【図3】図1にほぼ対応するやり方で、本発明に従って
施されたグレーティングの特性を示す図である。
施されたグレーティングの特性を示す図である。
1A コア 1B クラッディング 12 放射線源 14 マスク 16 支持体 16a プレート部材 18 収容溝 20 反射表面 F 光ファイバ
フロントページの続き (71)出願人 399117121 395 Page Mill Road P alo Alto,California U.S.A.
Claims (1)
- 【請求項1】クラッディングによって包囲されたコアを
含む光ファイバにグレーティングを施す方法であって、
強度が周期変化する放射線にさらすことによって該コア
の屈折率の局部的周期的変化を誘発するステップと、ほ
ぼ一様に角分布したそれぞれの方向において、該コアに
当たる複数の放射線を該コアに照射することによって屈
折率の前記変化を誘発するステップとを備えることを特
徴とするファイバグレーティングの作成方法。
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7298944B2 (en) | 2000-11-28 | 2007-11-20 | Fujikura Ltd. | Method and device for manufacturing optical fiber grating, optical fiber grating, optical module, and optical communication system |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR20030026364A (ko) * | 2001-07-10 | 2003-03-31 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 광도파로형 회절 격자 소자 및 그 제조방법 |
US20080119367A1 (en) * | 2004-12-17 | 2008-05-22 | Mayo Foundation For Medical Education And Research | Prognosis of Renal Cell Carcinoma |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE789176A (fr) * | 1971-09-24 | 1973-01-15 | Siemens Ag | Dispositif pour l'introduction et l'extraction de lumiere dans des guides d'ondes optiques dielectriques et procede pour sa fabrication |
US5559907A (en) * | 1994-02-17 | 1996-09-24 | Lucent Technologies Inc. | Method of controlling polarization properties of a photo-induced device in an optical waveguide and method of investigating structure of an optical waveguide |
US6649143B1 (en) | 1994-07-01 | 2003-11-18 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Non-invasive localization of a light-emitting conjugate in a mammal |
US5650135A (en) | 1994-07-01 | 1997-07-22 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Non-invasive localization of a light-emitting conjugate in a mammal |
EP0830457A1 (en) | 1995-06-07 | 1998-03-25 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Methods for evaluation of antimicrobial targets |
US6020121A (en) | 1995-09-29 | 2000-02-01 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Inhibitors of regulatory pathways |
US8349602B1 (en) | 1996-04-19 | 2013-01-08 | Xenogen Corporation | Biodetectors targeted to specific ligands |
EP0948612A2 (en) | 1997-01-03 | 1999-10-13 | University Technology Corporation | Beta-amyloid toxicity |
WO1998030715A1 (en) | 1997-01-07 | 1998-07-16 | California Institute Of Technology | Optical sensors of cell signaling |
AUPO512697A0 (en) * | 1997-02-14 | 1997-04-11 | Indx Pty Ltd | Improvements in a system for writing gratings |
US5912999A (en) * | 1997-10-02 | 1999-06-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for fabrication of in-line optical waveguide index grating of any length |
DE19835108A1 (de) | 1998-08-04 | 2000-02-17 | Univ Stuttgart Strahlwerkzeuge | Laserverstärkersystem |
CN1325495A (zh) * | 1998-10-30 | 2001-12-05 | 康宁股份有限公司 | 对光致光栅的波长调谐 |
EP1141359B1 (en) | 1998-12-17 | 2006-10-04 | Xenogen Corporation | Non-invasive evaluation of physiological response in a mammal |
US6610503B1 (en) | 1999-03-17 | 2003-08-26 | Xenogen Corporation | Animal models for predicting sepsis mortality |
KR100303284B1 (ko) * | 1999-07-28 | 2001-11-01 | 윤종용 | 편광 의존성이 적은 장주기 광섬유 격자 제작 장치 및 그에 의해 제작된 장주기 광섬유 격자 |
AU2589500A (en) | 1999-09-03 | 2001-04-10 | Xenogen Corporation | Targeting constructs and transgenic animals produced therewith |
EP1728866B1 (en) | 1999-09-08 | 2009-11-11 | Xenogen Corporation | Luciferase expression cassettes and methods of use |
US6614452B1 (en) | 1999-11-15 | 2003-09-02 | Xenogen Corporation | Graphical user interface for in-vivo imaging |
-
1999
- 1999-12-21 IT IT1999TO001125A patent/IT1311335B1/it active
-
2000
- 2000-09-27 DE DE60031831T patent/DE60031831T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-27 EP EP00120971A patent/EP1111415B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-12 US US09/733,962 patent/US6647179B2/en not_active Expired - Fee Related
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- 2000-12-20 CA CA002329107A patent/CA2329107A1/en not_active Abandoned
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7298944B2 (en) | 2000-11-28 | 2007-11-20 | Fujikura Ltd. | Method and device for manufacturing optical fiber grating, optical fiber grating, optical module, and optical communication system |
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A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070320 |