JP2001183203A - フローセンサ - Google Patents
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Abstract
定限界を高める。 【解決手段】 基板1上に設けられたブリッジ2に、ヒ
ータ3、測温体5が形成され、基板1におけるブリッジ
2の上流側に流体温度計4が形成されている。ヒータ3
は、流体温度計4から得られる流体温度よりも一定温度
高い温度になるように加熱制御される。そして、測温体
5で測定された温度と流体温度計4で測定された温度と
の差に基づいて流体の流量が測定される。ヒータ3に
は、中間端子Hm1が設けられており、高流量になった
ときに中間端子Hm1に所定の電圧が印加される。この
ことにより、ヒータ3の上流部の温度が上がり、測定限
界を高めることができる。
Description
するフローセンサに関する。
熱体)と測温体を設けて、ヒータおよび測温体に流れる
流体の流量を測定するようにしたフローセンサが種々提
案されている(特公平6−43906号公報、特開平7
−174600号公報、特開平9−243423号公報
など)。
す。基板1に空洞部6が形成され、この空洞部6を橋絡
するように空洞部6上に薄膜構造のブリッジ2が設けら
れている。このブリッジ2には、中央にヒータ3が形成
され、その両側に上流側測温体51、下流側測温体52
が形成されている。また、ブリッジ2以外の基板1上で
図中の白抜き矢印で示す流体の流れの上流側には、流体
の温度を検出するための流体温度計4が形成されてい
る。
度計4から得られる流体温度よりも一定温度高い温度に
なるようにヒータ3を加熱駆動する。流体が流れること
により、上流側測温体51は熱を奪われて温度が下が
り、下流側測温体52はヒータ3から熱が運ばれて温度
が上昇し、上流側測温体51と下流側測温体52の温度
差から流体の流速が計測(検出)される。
センサにおいて、上流側測温体51と下流側測温体52
の温度差は、図21に示すようになる。この図21から
わかるように、低流量域では直線性が良いが、高流量域
では直線性が悪化している。これは上流側測温体51で
は流速が増すと流体温度程度まで冷却されて流速に対し
て温度変化が少なくなり、下流側測温体52では流れに
よるヒータ3からの加熱よりも流れによる冷却が強まる
ため、結果として温度差が生じなくなるためである。こ
のため、高流量側で測定に限界が生じる。
側の測定限界を高めることを目的とする。
め、請求項1に記載の発明では、発熱体と測温体を有
し、発熱体の発熱時における測温体の測定値に基づいて
流体の流量を検出するようにしたフローセンサにおい
て、流体の流量に応じて発熱体の温度分布を変更するよ
うに構成したことを特徴としている。
の温度分布を一定としていたため、高流量側で測定限界
が生じやすかったが、この発明のように流量に応じて発
熱体の温度分布を変更し、特に高流量になったときに測
温体への温度分布を高くするようにすれば、高流量側の
測定限界を高めることができる。
態のように、測温体を発熱体の上流側に配置する、また
は測温体を発熱体の下流側に配置する、あるいは測温体
を発熱体の両側に配置するという、形態をとることがで
きる。また、発熱体と測温体は、空洞部を有する基板に
設けられた薄膜構造のブリッジもしくはダイアフラムに
形成するのが好ましい。
項2に記載の発明のように、測温体の測定値に基づいて
行うようにすることができる。
3に記載の発明のように、高流量域では、低流量域に比
べて、発熱体のうち測温体に近い部分の発熱量を多くす
るようにするのが好ましい。
なくとも高流量域において、発熱体の発熱量を測温体に
向かって段階的に多くなるようすれば、消費電力の無駄
を少なくしつつ流量の測定限界を高めることができる。
温体の測定値が流量に比例するように、流体の流量に応
じて発熱体の温度分布を変更するようにすれば、測温体
の温度の線形性を上げることができる。
熱体の中間端子に印可する電圧を制御するようにすれ
ば、発熱体全体の発熱量を多くした場合に比べ消費電力
を低減しつつ発熱体の温度分布を変更することができ
る。
に記載の発明のように、1つの連続した抵抗体の配線パ
ターンで形成することができる。この場合、請求項8に
記載の発明のように、抵抗体の配線パターンに複数の端
子を接続し、それら複数の端子を選択するようにすれ
ば、抵抗体を、発熱体として利用する部分と測温体とし
て利用する部分に、製造後に使い分けることができる。
抗体の配線パターンの一部を未使用領域とすれば、消費
電力を少なくすることができる。
発熱体を1つの連続した抵抗体の配線パターンで形成
し、その一部を未使用領域とすることもできる。この場
合も、抵抗体の配線パターンの一部を未使用領域とする
ことによって、消費電力を少なくすることができる。ま
た、請求項11に記載の発明のように、抵抗体の配線パ
ターンに複数の端子を接続し、それら複数の端子を選択
するようにすれば、抵抗体を、発熱体用として利用する
部分と未使用領域用として利用する部分に、製造後に使
い分けることができる。
3個以上の複数の端子を有するものであって、発熱体が
複数の抵抗体に分割されてそれぞれに電流が流れるよう
に、複数の端子に印加する電圧を設定したことを特徴と
している。
を流すようにすることによって発熱量を多くすることが
でき、発熱体の温度を上げて高流量側の測定限界を高め
ることができる。
流側と下流側の両方に発熱体を配設したことを特徴とし
ている。
ことができるため、高流量側の測定限界を高めることが
可能である。
に、測温体および発熱体を、1つの連続した抵抗体の配
線パターンで形成し、測温体として用いられる抵抗体の
上流側と下流側の両方に発熱体として用いられる抵抗体
を位置させるようにすることができ、さらに請求項15
に記載の発明のように、抵抗体の配線パターンに複数の
端子を接続し、それら複数の端子を選択するようにすれ
ば、抵抗体を、発熱体として利用する部分と測温体とし
て利用する部分に、製造後に使い分けることができる。
の第1実施形態に係る感熱式フローセンサの斜視図を示
し、図2に図1のA−A線に沿った断面図を示す。
Siを用いた半導体基板)には、空洞部6が形成され、
この空洞部6を橋架するように電気的絶縁膜でブリッジ
2が設けられている。ブリッジ2には、中央に発熱体を
なすヒータ3が形成され、その片脇に測温体5が形成さ
れている。ヒータ3および測温体5は、Ptなどの金属
膜により形成されている。また、基板1上で図中の白抜
き矢印で示す流体(例えば、空気)の流れの上流側に
は、流体の温度を検出するための流体温度計4が形成さ
れている。なお、図中のTR1、TR2、T1、T2、
H1、Hm1、H2は、流体温度計4、測温体5、ヒー
タ3それぞれの電極端子を示している。
1つの測温体5と1つのヒータ3を有し、測温体5がヒ
ータ3よりも上流に配置されたもの(以下、上流側2線
式フローセンサという)になっている。
され、その抵抗値変動から温度が測定される。この流体
温度計4によって測定された流体温度をもとに、その流
体温度よりもΔTだけ高い温度になるように、ヒータ3
が加熱制御される。具体的には、ヒータ3の両端端子H
1、H2に印加する電圧が、図示しない制御回路によっ
て制御される。通常、ヒータ3は、その両端端子H1、
H2に電圧をかけ、ヒータ3を流れる電流のジュール熱
によって、加熱される。なお、上記したΔTの値は、例
えば200℃程度の温度である。
下、図示しない処理回路において、上流測温体5で測定
された温度(上流測温体5の測定値、すなわち上流測温
体5の抵抗値から求められたもの)と流体温度計4で測
定された温度との差に基づいて流体の流量が測定(検
出)される。
に上流測温体5で温度T0が測定され、低流量時には図
3(b)に示すように上流測温体5で温度TLが測定さ
れ、高流量時には図3(c)に示すように上流測温体5
で温度THが測定される。しかし、高流量時には測定さ
れる温度THは、低流量時に測定される温度TLより低い
ため、その測定に限界が生じる。このようなフローセン
サの流量の測定限界は、上流測温体5が流体温度程度ま
で冷却されて、流速に対して温度変化がなくなることに
よって決まる。
間端子Hm1を設け、その中間端子Hm1に印加する電
圧を制御して、流量の測定限界を高めることができるよ
うにしている。
(以下、低流量域という)では、中間端子Hm1を、例
えばフローティングもしくはヒータ3全体の電流が一様
となるような電圧にして、通常の場合と同様、ヒータ3
全体に一様な電流が流れるようにする。この場合、流量
がある閾値よりも低いか否かは、例えば測温体5によっ
て測定された温度がある閾値より高いか否かによって判
定することができる。
(以下、高流量域という)では、中間端子Hm1に所定
の電圧を与えることによって、ヒータ3の温度分布を変
更し、ヒータ3の上流部の温度を上げる。ここで、流量
の測定限界は、測温体5の温度が流体温度付近まで冷却
されることによって生じるので、ヒータ3の上流部の温
度を上げる(すなわち高流量時の測定温度を図3(d)
に示すようにTH’に上げる)ことにより、流量の測定
限界を高めることができる。
は、中間端子Hm1への電圧印加状態を考慮して、低流
量および高流量のいずれの場合においても正確に流量検
出ができるようにしている。なお、以下に示す実施形態
においても、中間端子に電圧を印加して高流量側の測定
限界を高めるようにした場合には、それを考慮して流量
検出を行うようにしている。
中間端子Hm1を設けて流量の測定限界を高めるものを
示したが、流量がある閾値以上になったときにヒータ3
の両端H1、H2にかける電圧を大きくし、ヒータ3全
体に流れる電流を大きくして、ヒータ3全体の温度を上
げるようにしてもよい。このようにしても、上流測温体
5が冷やされるのを防ぐことができるため、流量の測定
限界を高めることができる。但し、この方法と上記した
中間端子Hm1を用いる方法とを比較すると、中間端子
Hm1を用いる方法の方が消費電力が少なくなるため、
中間端子Hm1を用いる方法の方が好ましい。
おいて、ヒータ3全体に流れる電流を一定にし、ヒータ
3の温度分布をほぼ一様にするものを示したが、ヒータ
3の温度分布を変えるようにしてもよい。例えば、上流
側の端子H1と中間端子Hm1との間の電圧と下流側の
端子H2と中間端子Hm1との間の電圧の比を、低流量
のときも上流側の温度が下流側の温度よりも高くなるよ
うに設定してもよい。この場合、高流量域においては、
上流側の温度と下流側の温度の差がさらに大きくなるよ
うに、上流側の端子H1と中間端子Hm1との間の電圧
と下流側の端子H2と中間端子Hm1との間の電圧の比
を変化させる。具体的には、上流側の端子H1と中間端
子Hm1との間の電圧を、下流側の端子H2と中間端子
Hm1との間の電圧より大きくする。
m1を1つ設けるものを示したが、中間端子を複数設け
て、高流量時の温度分布を細かく制御できるようにして
もよい。図4に、複数個の中間端子Hm1、Hm2、H
m3を設けた例を示す。この場合、高流量時に上流側か
ら下流側に向かって電圧端子間で発生する熱量が段々低
くなる、言い換えればヒータ3の発熱量が測温体5に向
かって段階的に多くなるように制御すれば、消費電力の
無駄を少なくしつつ、流量の測定限界を高めることがで
きる。なお、高流量時だけでなく、低流量時にも同じよ
うな制御をしてもよい。
る測温体5の温度の線形性が最も良くなるように、中間
端子に印加する電圧を細かく制御するようにしてもよ
い。ここで、測温体5の温度の線形性を上げることに
は、次のようなメリットがある。一般に、フローセンサ
には、流体の脈動を検出することが要求される。脈動と
は、流体の流量が周期的に変化することをいう。脈動が
存在する場合のフローセンサの挙動を示す図5を用い
て、線形性のメリットを説明する。
存在するため、実際の脈動による流量の変化と比較して
必ず信号がなまる(脈動の振幅よりも、検出される振幅
が小さくなる)。このとき、脈動の平均流量を正しく検
出することが重要となる。これは、脈動の平均流量さえ
正しく検出できれば、流れた流体の全流量を正しく検出
することが可能だからである。図5(a)に、温度が流
量に比例する場合の特性を示す。この場合には、実際の
平均流量と見かけの平均流量(センサが検出する平均流
量)が一致している。図5(b)に、温度が流量に比例
しない場合の特性を示す。この場合は、見かけの平均流
量が実際の平均流量を下まわっている。なお、見かけの
平均流量が実際の平均流量を下まわるのは、温度−流量
曲線が上に凸だからである。逆に、温度−流量曲線が下
に凸の場合は、見かけの平均流量が実際の平均流量を上
まわる。従って、温度が流量に比例する線形なフローセ
ンサが好ましい。
の場合、厳密には一定にならず、中心部付近で最も高く
なり、端部で最も低くなる。しかし、上記した多端子抵
抗体構造とすることによって、温度分布を一様にするこ
ともできる。すなわち、多くの抵抗体の端部のみ若干電
圧を高くして、端部の発熱量が中心部の発熱量に対して
大きくなるように設定すれば、温度分布を一様にするこ
とができる。
造のものに限らず、例えば図6および図7(図6のB−
B線に沿った断面図)に示すように、ダイアフラム20
を有するダイアフラム構造のものであってもよい。以下
の実施形態においては、ブリッジ構造のフローセンサに
ついて説明するが、それをダイアフラム構造に変更する
ことは可能である。 (第2実施形態)上記した第1実施形態では、測温体5
をヒータ3の上流側に設けるものを示したが、図8に示
すように、測温体5をヒータ3の下流側に設け、1つの
測温体5と1つのヒータ3を有し、測温体5がヒータ3
よりも下流に配置されたもの(以下、下流側2線式フロ
ーセンサという)としてもよい。
3の下流に配置した場合には、流れによってヒータ3の
熱が測温体5を加熱する効果よりも、流れによる測温体
5の冷却効果の方が大きくなることにより、高流量側の
流量の測定限界が決まる。そこで、この実施形態では、
次のような制御を行う。 (1)低流量域では、第1実施形態と同様に、中間端子
Hm1を、例えばフローティングもしくはヒータ3全体
の電流が一様となるような電圧にして、ヒータ3全体に
一様な電流を流す。 (2)高流量域では、中間端子Hm1に電圧を与え、ヒ
ータ3の下流部の温度を上げる。このことにより、測温
体5付近の加熱を強めることができ、測定限界を高める
ことができる。 (第3実施形態)上記した第1、第2実施形態では、測
温体5の位置をヒータ3の上流、下流とするものを示し
たが、測温体5はそれ以外の位置に配置することもでき
る。例えば、図9に示すように、測温体5をヒータ3の
真横に配置するようにしてもよい。この場合の制御方法
は、第1実施形態と同様である。 (第4実施形態)第1ないし第3実施形態では、1つの
測温体5と1つのヒータ3を有する2線式のフローセン
サを示したが、2つの測温体と1つのヒータを有し、2
つの測温体をそれぞれヒータの上流と下流に配置したも
の(以下、3線式フローセンサという)とすることもで
きる。
ーセンサの斜視図を示す。
をもとに、その流体温度よりもΔTだけ高い温度になる
ように、ヒータ3が加熱制御される。そして、このよう
なヒータ3の加熱制御の下、図示しない処理回路におい
て、上流測温体51で測定された温度と下流測温体52
で測定された温度との差に基づいて流体の流量が測定さ
れる。
合、流量の測定限界は、上流測温体51の温度が流体温
度付近まで冷却されること、および流れによる下流測温
体52の冷却がヒータ3による下流測温体52の加熱を
上回ることによって決まる。そこで、この実施形態で
は、次のような制御を行う。 (1)低流量域では、中間端子Hm1、Hm2、Hm3
を、例えばフローティングにして、通常の場合と同様、
ヒータ3全体に一様な電流が流れるようにする。 (2)高流量域では、上流中間端子Hm1と下流中間端
子Hm3に所定の電圧を与えることによって、ヒータ3
の温度分布を変更し、ヒータ3の上流部および下流部の
温度を上げる。流量の測定限界は、上記したように、上
流測温体51の温度が流体温度付近まで冷却されるこ
と、および流れによる下流測温体52の冷却がヒータ3
による下流測温体52の加熱を上回ることによっている
ので、ヒータ3の上流部および下流部の温度を上げるこ
とによって、流量の測定限界を高めることができる。
1、52の位置を上流および下流としたが、2つの測温
体51、52が流れに対して完全に真横の状態になけれ
ば、測温体51、52は、図10に示す以外の位置に配
置することもできる。 (第5実施形態)この実施形態では、図11に示すよう
に、ヒータ3に多数の端子H1〜H13を設け、使用で
きる最大電圧をVmax[V]としたときに、端子H
1、H3、H5、H7、H9、H11、H13にVma
x[V]の電位を印加し、端子H2、H4、H6、H
8、H10、H12に0Vの電位を与えるものである。
とき、従来のように、ヒータ3の両端(図11に示すH
1、H12)にVmax[V]の電圧をかけた場合、流
れる電流はVmax/R[A]、発熱量は、Vmax2
/R[W]となる。しかし、図11のように、多数の中
間端子を設けて抵抗体をn等分(図11では12等分)
に分割した場合には、流れる電流はn×Vmax/R
[A]、発熱量は、n2×Vmax2/R[W]となり、
電流値、発熱量は、それぞれ、単に両端H1、H12に
電圧をかけた場合のn倍、n2倍となる。
かつ最大電圧が制限される場合には、この実施形態のよ
うに、多数の端子を設けることによって、ヒータ3の温
度を上げることができ、高流量側の測定限界を高めるこ
とができる。 (第6実施形態)上記した第5実施形態のように、1つ
の連続した配線パターンで形成され多数の端子H1〜H
13を有する抵抗体は、複数の抵抗体と見なし得る。従
って、複数の抵抗体のどれかをヒータとして利用し、他
のどれかを測温体として利用することも可能である。そ
こで、この実施形態では、図12に示すように、上流側
のいくつかの抵抗体を測温体5として利用し、その下流
側のいくつかの抵抗体をヒータ3として利用している。
なお、図中の未使用領域7はあってもなくてもよい。
として用い、低流量域では、端子H3を0V、端子H1
1をVmax、その他の端子をフローティングとして、
流量検出を行い、高流量域では、低流量域の状態に対
し、例えば端子H7に2/3Vmaxの電圧を印加する
ようにすれば、第1実施形態と同様に、流量の測定限界
をあげた流量検出を行うことができる。
温体5とし、上流側をヒータ3として用いるようにする
こともできる。この場合、端子H13を測温体5の測定
端子として用い、低流量域では、端子H3をVmax、
端子H11を0V、その他の端子をフローティングとし
て、流量検出を行い、高流量域では、低流量域の状態に
対し、例えば端子H7に2/3Vmaxの電圧を印加す
るようにすれば、第2実施形態と同様に、流量の測定限
界をあげた流量検出を行うことができる。
間部分をヒータとすることも可能である。このようにす
れば、第4実施形態と同様に制御可能なフローセンサと
なる。
ないし第4施形態と同じであるが、この実施形態の場
合、製造後に、測温体5とヒータ3の長さや位置関係を
変更できるというメリットがある。
センサにおいて、低速低流量のみを測定したい場合に
は、ヒータ3の幅は狭くてもよいことがわかっているた
め、図12に示すように、上流側から測温体5、ヒータ
3、それから未使用領域7というように抵抗体を分配す
る。この場合、測温体5から遠い側の抵抗体を未使用領
域7としヒータ3として用いないため、消費電力の無駄
を省くことができる。逆に、高流量も含めて測定したい
場合には、未使用領域7を少なくあるいは無くして、ヒ
ータ3の幅をできるだけ広くしたり、第1実施形態と同
様の制御をすることによって、高流量側の測定限界を高
めることができる。
判断(例えば、自己診断)するのに利用することもでき
る。すなわち、各端子H1〜H13を同じ間隔で配置
し、抵抗体を同じ幅にしておけば、抵抗体は同じ抵抗値
を持つはずである。従って、未使用領域7が劣化しない
とすると、未使用領域7とヒータ3の抵抗値の差を求め
れば、ヒータ3が劣化したかどうかがわかる。また、各
端子H1〜H13を同じ間隔に配置したり、抵抗体を同
じ幅にしたりしなくても、処理回路側の演算処理で、未
使用領域7とヒータ3の抵抗値を比較すれば、ヒータ3
の劣化を検出することができる。また、未使用領域7を
用いなくても、ヒータ3と測温体5の抵抗値を比較して
ヒータ3の劣化を検出するようにすることも可能であ
る。
5を別の抵抗線で形成してもよい。例えば、図12に示
す実施形態に対し、図14に示すように、構成してもよ
い。この場合、第1実施形態と同様の構成になるが、製
造後に未使用領域7を設定することが可能となり、使用
目的に応じて消費電力の無駄のないフローセンサとして
使用することができる。 (第7実施形態)この実施形態では、図15に示すよう
に、多数の端子H1〜H21を有する抵抗体で構成さ
れ、上流側から第1のヒータ31、測温体5、第2のヒ
ータ32、未使用領域7となっている。このフローセン
サは、上流側2線式フローセンサと同様に働く。
体5のさらに上流にもヒータ31が存在することにあ
る。このことによって、高流量域において、測温体5の
温度が流体温度と同程度にまで、下がってしまうことを
ある程度防ぐことが可能で、高流量側の測定限界を高め
ることが可能である。
には、第1実施形態と同様の制御を行うようにすればよ
い。例えば、端子H4を測温体5の測定端子として用
い、低流量域では、端子H1、H15を0V、端子H
3、H5をVmax、その他の端子をフローティングと
して、流量検出を行い、高流量域では、低流量域の状態
に対し、例えば端子H9に1/2Vmaxの電圧を印加
するようにすれば、第1実施形態と同様に、流量の測定
限界をあげた流量検出を行うことができる。
サに限らず、図16に示すような下流側2線式ヒータに
も同様に適用することができる。この場合、端子H18
を測温体5の測定端子として用い、低流量域では、端子
H17、H19をVmax、端子H7、H21を0V、
その他の端子をフローティングとして、流量検出を行
い、高流量域では、低流量域の状態に対し、例えば端子
H13に1/2Vmaxの電圧を印加するようにすれ
ば、第2実施形態と同様に、流量の測定限界をあげた流
量検出を行うことができる。
ヒータ32(あるいは31)の方が広くなっている必要
はなく、その幅は任意に設定可能である。 (第8実施形態)上記した第7実施形態では、2線式ヒ
ータに適用するものを示したが、3線式ヒータにも同様
に適用することができる。この場合のフローセンサの平
面構成を図17に示す。
ーセンサは、多数の端子H1〜H21を有する抵抗体で
構成され、上流側から第1のヒータ31、上流測温体5
1、第2のヒータ32、下流測温体52、第3のヒータ
33、未使用領域7となっている。このフローセンサ
は、3線式フローセンサと同様に働く。
タ32以外に上流測温体51の上流にヒータ31が存在
し下流測温体52の下流にヒータ33が存在することに
ある。このことによって、高流量域において、上流測温
体51、下流測温体52の温度が流体温度と同程度にま
で、下がってしまうことをある程度防ぐことが可能で、
高流量側の測定限界を高めることが可能である。
には、第4実施形態と同様の制御を行うようにすればよ
い。例えば、端子H4、H16を測温体5の測定端子と
して用い、低流量域では、端子H1、H15、H17を
0V、端子H3、H5、H19をVmax、その他の端
子をフローティングとして、流量検出を行い、高流量域
では、低流量域の状態に対し、例えば端子H7に2/3
Vmaxの電圧を、端子H13に1/2Vmaxの電圧
を印加するようにすれば、第4実施形態と同様に、流量
の測定限界をあげた流量検出を行うことができる。
ずしもヒータ32の幅が最も広くなっている必要はな
く、その幅は任意に設定可能である。 (フローセンサの製造方法)上記したフローセンサは、
次に説明する製造方法によって製造することができる。
なお、上記した各実施形態は、ヒータ3(31、32、
33)、流体温度計4、測温体5(51、52)の配線
パターンが異なるのみであるので、第1実施形態を代表
して、その製造方法を説明する。図18に、その製造工
程を示す。 [図18(a)の工程]まず、半導体基板1として単結
晶のシリコン基板を用い、その上に下部膜11を形成す
る。この下部膜11は、Si3N4膜とSiO2膜とを組
み合わせた2層の絶縁膜となっており、圧縮応力膜と引
っ張り応力膜の組み合わせによって下部膜11に生じる
応力を緩和するようにしている。この後、ヒータ3、流
体温度膜4、測温体5を構成する膜として、Pt膜を真
空蒸着機により200℃で2000Å堆積させる。その
とき、接着層としてTi層をPt膜と下部膜11の間に
50Å堆積させる。そして、エッチングにより、ヒータ
3、流体温度計4、測温体5の形状にパターニングす
る。このパターニングにより、ヒータ3、流体温度計
4、測温体5の各端子(図では電極取り出し部12とし
て図示する)も同時に形成される。 [図18(b)の工程]下部膜11と同様に、Si3N4
膜とSiO2膜からなる2層膜の上部膜13を形成す
る。ここで、ヒータ3を膜構造のほぼ膜中心に配置し、
かつ上部膜13および下部膜11における膜構成をヒー
タ3を中心として対称に配置することで、温度変化して
も反り変動が生じず、熱ストレスに対して強い構造が形
成できる。そして、空洞部6を形成する領域、およびヒ
ータ3、流体温度計4、測温体5の電極取り出し部12
をエッチングにより開口する。 [図18(c)の工程]全面に5000ÅのAuを蒸着
した後、エッチングを行い、電極取り出し部12を覆う
ようにエッチング保護膜14を形成する。このエッチン
グ保護膜14は、次工程で用いるSiエッチング溶液に
対して電極取り出し部12を保護し、かつ外部配線とし
てAu線を用いた場合にそれとの密着性を高めるために
用いられる。 [図18(d)の工程]TMAH溶液によって表面側か
らシリコンの異方性エッチングを行い、空洞部6を形成
する。
センサを製造することができる。
示すようなダイアフラム構造のものとする場合には、以
下のような製造方法により製造することができる。図1
9に、その製造工程を示す。 [図19(a)の工程]図18(a)の工程と同様に、
シリコン基板1の上に下部膜11を形成し、その上にヒ
ータ3、流体温度膜4、測温体5をパターニング形成す
る。 [図19(b)の工程]下部膜11と同様に、Si3N4
膜とSiO2膜からなる2層膜の上部膜13を形成し、
ヒータ3、流体温度計4、測温体5の電極取り出し部1
2をエッチングにより開口する。また、シリコン基板1
の裏面に形成された膜の所定の位置をエッチングによっ
て取り除く。 [図19(c)の工程]シリコン基板1の裏面側を下部
膜11が露出するまで異方性エッチングして空洞部6を
形成する。
センサを製造することができる。
いて、ヒータ3、流体温度計4、測温体5を形成する膜
としては、Pt膜以外に、ポリシリコン、NiCr、T
aN、SiC、Wなどを用いることができる。また、下
部膜11、上部膜13としては、ヒータ3等を保護でき
るものであれば、TiO2、Al2O3、Ta2O5、Mg
O膜などの、単一膜あるいは多層膜を用いることができ
る。また、エッチング保護膜14は、露出した電極取り
出し部12がエッチング溶液に対して耐性があればなく
てもよく、またAu以外の材料でもエッチング耐性があ
り、接続配線と接着できる材料であれば他のものでもよ
い。また、空洞部6を形成するためのエッチングは、空
洞部6が形成できれば、TMAH溶液による異方性エッ
チング以外のものを用いてもよい。
フローセンサは、空気等の気体の流量を検出することの
他、種々の流体の流量検出に適用することができる。ま
た、ブリッジ2もしくはダイアフラム20の上にヒータ
3、測温体5等の配線を構成するものを示したが、必ず
しもそのようなブリッジ構造もしくはダイアフラム構造
としなくても、基板1の上に直接それらを配置するよう
にしてもよい。
サの斜視図である。
を示す図である。
を設けた実施形態を示す図である。
す図である。
造にした感熱式フローセンサの斜視図である。
サの平面図である。
サの平面図である。
ンサの斜視図である。
ンサのブリッジ部分の平面構成を示す図である。
ンサで、上流側を測温体とし下流側をヒータとして用い
たもののブリッジ部分の平面構成を示す図である。
ンサで、下流側を測温体とし上流側をヒータとして用い
たもののブリッジ部分の平面構成を示す図である。
抵抗線で形成した例を示す図である。
ンサで、上流側2線式フローセンサに適用したもののブ
リッジ部分の平面構成を示す図である。
ンサで、下流側2線式フローセンサに適用したもののブ
リッジ部分の平面構成を示す図である。
ンサのブリッジ部分の平面構成を示す図である。
す工程図である。
を示す工程図である。
流側測温体と下流側測温体の温度差の特性を示す図であ
る。
…流体温度計、5、51、52…測温体、6…空洞部、
7…未使用領域。
Claims (15)
- 【請求項1】 発熱体と測温体を有し、前記発熱体の発
熱時における前記測温体の測定値に基づいて流体の流量
を検出するようにしたフローセンサにおいて、 前記流体の流量に応じて前記発熱体の温度分布を変更す
るように構成したことを特徴とするフローセンサ。 - 【請求項2】 前記測温体の測定値に基づいて前記発熱
体の温度分布を変更するように構成したことを特徴とす
る請求項1に記載のフローセンサ。 - 【請求項3】 前記流量が所定の閾値より大きくなる高
流量域では、低流量域に比べて、前記発熱体のうち前記
測温体に近い部分の発熱量が多くなるようにしたことを
特徴とする請求項1または2に記載のフローセンサ。 - 【請求項4】 少なくとも前記高流量域において、前記
発熱体の発熱量を前記測温体に向かって段階的に多くな
るようにしたことを特徴とする請求項3に記載のフロー
センサ。 - 【請求項5】 前記測温体の測定値が前記流量に比例す
るように、前記流体の流量に応じて前記発熱体の温度分
布を変更するようにしたことを特徴とする請求項1ない
し4のいずれか1つに記載のフローセンサ。 - 【請求項6】 前記発熱体は、電圧を印加する両端端子
以外に中間端子を有するものであって、前記中間端子に
印可する電圧を制御して前記発熱体の温度分布を変更す
るように構成したことを特徴とする請求項1ないし5の
いずれか1つに記載のフローセンサ。 - 【請求項7】 前記測温体および前記発熱体は、1つの
連続した抵抗体の配線パターンで形成されていることを
特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載のフ
ローセンサ。 - 【請求項8】 前記抵抗体の配線パターンには、複数の
端子が接続されており、前記複数の端子が、前記発熱体
用および前記測温体用として選択的に用いられているこ
とを特徴とする請求項7に記載のフローセンサ。 - 【請求項9】 前記抵抗体の配線パターンの一部が、電
流を流さない未使用領域となっていることを特徴とする
請求項7または8に記載のフローセンサ。 - 【請求項10】 前記発熱体は、1つの連続した抵抗体
の配線パターンで形成されており、前記抵抗体の配線パ
ターンの一部が、電流を流さない未使用領域となってい
ることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに
記載のフローセンサ。 - 【請求項11】 前記抵抗体の配線パターンには、複数
の端子が接続されており、前記複数の端子が、前記発熱
体用および前記未使用領域用として選択的に用いられて
いることを特徴とする請求項10に記載のフローセン
サ。 - 【請求項12】 発熱体と測温体を有し、前記発熱体の
発熱時における前記測温体の測定値に基づいて流体の流
量を検出するようにしたフローセンサにおいて、 前記発熱体は、3個以上の複数の端子を有するものであ
り、 前記発熱体が複数の抵抗体に分割されてそれぞれに電流
が流れるように、前記複数の端子に印加する電圧を設定
したことを特徴とするフローセンサ。 - 【請求項13】 発熱体と測温体を有し、前記発熱体の
発熱時における前記測温体の測定値に基づいて流体の流
量を検出するようにしたフローセンサにおいて、 前記測温体の上流側と下流側の両方に前記発熱体を配設
したことを特徴とするフローセンサ。 - 【請求項14】 前記測温体および発熱体は、1つの連
続した抵抗体の配線パターンで形成されており、前記測
温体として用いられる抵抗体の上流側と下流側の両方に
前記発熱体として用いられる抵抗体が位置していること
を特徴とする請求項13に記載のフローセンサ。 - 【請求項15】 前記抵抗体の配線パターンには、複数
の端子が接続されており、前記複数の端子が、前記発熱
体用および前記測温体用として選択的に用いられている
ことを特徴とする請求項14に記載のフローセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36646399A JP4253976B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | フローセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP36646399A JP4253976B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | フローセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001183203A true JP2001183203A (ja) | 2001-07-06 |
JP4253976B2 JP4253976B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=18486850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36646399A Expired - Fee Related JP4253976B2 (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | フローセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4253976B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012078228A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-19 | Denso Corp | 空気流量測定装置 |
WO2019239726A1 (ja) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 物理量検出装置 |
-
1999
- 1999-12-24 JP JP36646399A patent/JP4253976B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012078228A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-19 | Denso Corp | 空気流量測定装置 |
WO2019239726A1 (ja) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 物理量検出装置 |
JPWO2019239726A1 (ja) * | 2018-06-13 | 2021-05-13 | 日立Astemo株式会社 | 物理量検出装置 |
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---|---|
JP4253976B2 (ja) | 2009-04-15 |
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