JP2001181600A - 汚れ防止剤 - Google Patents
汚れ防止剤Info
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Abstract
いて生ずる汚れを効果的に防止することができる汚れ防
止剤を提供する。 【解決手段】N−置換アミノ基を有する複素環式化合物
を有効成分とすることを特徴とする汚れ防止剤及びN−
置換アミノ基を有する複素環式化合物とヒドロキシベン
ゼン誘導体とを含有することを特徴とする汚れ防止剤。
Description
る。さらに詳しくは、本発明は、ナフサの分解によるエ
チレン製造プロセスにおいて生ずる汚れを防止するため
に用いる汚れ防止剤に関する。
ては、通常ナフサをスチームクラッキングする方法が用
いられる。まず、ナフサは、水蒸気とともに熟分解炉で
800℃前後に加熱され、分解される。この熱分解炉の
出口で重合防止のために300℃程度まで急冷された後
に第一分留塔に入り、ここでC1〜C8の軽質炭化水素
とC9以上の燃料油とに分けられる。さらに、軽質炭化
水素は、コンプレッサで圧縮した後に脱硫し、凝縮液蒸
留塔で沸点差を利用して主にC1〜C2ガスを分留し、
乾燥塔で脱水したのち深冷分離槽、脱メタン塔、脱エタ
ン塔を経て、エチレン分離塔にてエチレンを分離する。
一方、凝縮液蒸留塔の残留物及び脱エタン塔の残留物
は、脱プロパン塔に導かれてプロパン及びプロピレンが
分離され、さらに次の脱ブタン塔にてブタン及びブタジ
エンが分離される。そして、脱ブタン塔の下部からはC
5〜C8の分解ガソリンが得られる。これらの脱プロパ
ン塔、脱ブタン塔などには、加熱源として下部にリボイ
ラーが設置されている。このようなエチレン製造プロセ
スにおいて汚れが生じる箇所は、脱プロパン塔の下部、
リボイラー、脱ブタン塔への配管などで、特にリボイラ
ーの伝熱面にはひどい汚れが付きやすく、この汚れはブ
タジエンの重合生成物であると考えられる。この汚れを
防止するために、4−tert−ブチルカテコール、β−ナ
フチルアミン、N−ニトロソジフェニルアミンなどが、
汚れの激しいリボイラーや脱プロパン塔の前に注入され
ている。しかし、4−tert−ブチルカテコール、β−ナ
フチルアミン、N−ニトロソジフェニルアミンなどは、
無添加時に比べると汚れを抑制するが、その効果は十分
ではなく、しばしば装置を止めて汚れを除去するために
洗浄を行わなければならないという問題がある。そのた
めに、より効果的に汚れを防止し、装置の操業時間を大
幅に伸ばすことができる優れた汚れ防止剤が求められて
いる。
解によるエチレン製造プロセスにおいて生ずる汚れを効
果的に防止することができる汚れ防止剤を提供すること
を目的としてなされたものである。
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、N−置換アミノ
基を有する複素環式化合物が優れた汚れ防止作用を有
し、さらにN−置換アミノ基を有する複素環式化合物と
ヒドロキシベンゼン誘導体とを併用することにより、そ
の作用がいっそう増強されることを見いだし、この知見
に基づいて本発明を完成するに至った。すなわち、本発
明は、(1)N−置換アミノ基を有する複素環式化合物
を有効成分とすることを特徴とする汚れ防止剤、及び、
(2)N−置換アミノ基を有する複素環式化合物とヒド
ロキシベンゼン誘導体とを含有することを特徴とする汚
れ防止剤、を提供するものである。さらに、本発明の好
ましい態様として、(3)N−置換アミノ基を有する複
素環式化合物1重量部に対して、ヒドロキシベンゼン誘
導体0.0001〜10重量部を含有する第2項記載の
汚れ防止剤、を挙げることができる。
は、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物を有効成
分とするものである。本発明の汚れ防止剤の第2の態様
は、N−置換アミノ基を有する複素環式化合物とヒドロ
キシベンゼン誘導体とを含有するものである。本発明の
汚れ防止剤は、エチレン製造プロセスにおける汚れの発
生の防止に特に好適に用いることができる。本発明に用
いるN−置換アミノ基を有する複素環式化合物に特に制
限はなく、例えば、1−アミノピロリジン、1−アミノ
−4−メチルピペラジン、1−アミノピペリジン、1−
アミノホモピペリジン、1,4−ジアミノピぺラジン、
N−アミノモルホリン、モルホリノビグアニドなどを挙
げることができる。これらのN−置換アミノ基を有する
複素環式化合物は、1種を単独で用いることができ、あ
るいは、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
本発明に用いるヒドロキシベンゼン誘導体に特に制限は
なく、例えば、ハイドロキノン、4−tert−ブチルカテ
コール、2,3−ジメチルハイドロキノン、カテコー
ル、ピロガロール、1,2,4−トリヒドロキシベンゼ
ン、没食子酸、2−アミノフェノール、2,4−ジアミ
ノフェノールなどを挙げることができる。これらのヒド
ロキシベンゼン誘導体は、1種を単独で用いることがで
き、あるいは、2種以上を組み合わせて用いることもで
きる。本発明のN−置換アミノ基を有する複素環式化合
物とヒドロキシベンゼン誘導体とを含有する汚れ防止剤
は、両者を含有する1剤型の汚れ防止剤とすることがで
き、あるいは、N−置換アミノ基を有する複素環式化合
物を含有する剤と、ヒドロキシベンゼン誘導体を含有す
る剤からなる2剤型の汚れ防止剤とすることもできる。
制限はなく、例えば、エチレン製造プロセスにおいて
は、特に汚れの発生しやすい脱プロパン塔、リボイラ
ー、脱ブタン塔などの前に添加することができる。本発
明の汚れ防止剤は、そのまま添加することができ、ある
いは、灯油や、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの有
機溶媒に溶解又は希釈して添加することもできる。本発
明の汚れ防止剤の添加量に特に制限はなく、対象となる
プラントや運転状況などに応じて適宜選択することがで
きるが、通常は、プロセス流れに対して、汚れ防止剤の
有効成分として0.01〜1,000mg/Lであることが
好ましく、0.1〜500mg/Lであることがより好ま
しく、1〜100mg/Lであることがさらに好ましい。
本発明のN−置換アミノ基を有する複素環式化合物とヒ
ドロキシベンゼン誘導体とを含有する汚れ防止剤におい
て、両者の比率に特に制限はないが、通常はN−置換ア
ミノ基を有する複素環式化合物1重量部に対して、ヒド
ロキシベンゼン誘導体が0.0001〜10重量部であ
ることが好ましく、0.01〜1重量部であることがよ
り好ましい。N−置換アミノ基を有する複素環式化合物
1重量部に対するヒドロキシベンゼン誘導体の量が、
0.0001重量部未満であっても、10重量部を超え
ても、汚れ防止に対する両者の相乗効果が発現しなくな
るおそれがある。本発明の汚れ防止剤は、必要に応じ
て、β−ナフチルアミン、N−ニトロソジフェニルアミ
ンなどの公知の汚れ防止剤と併用することができる。本
発明の汚れ防止剤をエチレン製造プロセスに添加するこ
とにより、従来の汚れ防止剤よりも少ない添加量で、エ
チレン製造プロセスにおいて生じる汚れを効果的に抑制
することができ、これにより、プラントの操業時間を大
幅に伸ばすことが可能となる。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例1 エチレン製造の実プラントにおける脱プロパン塔、リボ
イラーでの飽和炭化水素を除いた流体に相当する混合物
として、プロピレン30重量%、ブテン30重量%、ブ
タジエン30重量%、ブチン5重量%及びプロピン5重
量%からなる混合ガスを用いた。容量200mLのオート
クレーブの容量に対して、1−アミノピロリジン10mg
/Lを仕込み、上記の混合ガスを圧力0.7MPaで圧入
し、密封した。このオートクレーブを105℃で15時
間加熱したのち、室温まで冷却して開いた。オートクレ
ーブ内に残留する重合物は、1,200mg/Lであっ
た。 実施例2 1−アミノピロリジンの仕込み量を30mg/Lとした以
外は、実施例1と同じ操作を繰り返した。オートクレー
ブ内に残留する重合物は、850mg/Lであった。 実施例3 1−アミノピロリジンの仕込み量を60mg/Lとした以
外は、実施例1と同じ操作を繰り返した。オートクレー
ブ内に残留する重合物は、450mg/Lであった。 実施例4 1−アミノピロリジンの代わりに、1−アミノ−4−メ
チルピペラジン10mg/Lを仕込んだ以外は、実施例1
と同じ操作を繰り返した。オートクレーブ内に残留する
重合物は、1,450mg/Lであった。 実施例5 1−アミノ−4−メチルピペラジンの仕込み量を30mg
/Lとした以外は、実施例4と同じ操作を繰り返した。
オートクレーブ内に残留する重合物は、900mg/Lで
あった。 実施例6 1−アミノ−4−メチルピペラジンの仕込み量を60mg
/Lとした以外は、実施例4と同じ操作を繰り返した。
オートクレーブ内に残留する重合物は、500mg/Lで
あった。 実施例7 容量200mLのオートクレーブに、1−アミノピロリジ
ン30mg/Lと4−tert−ブチルカテコール5mg/Lを
仕込み、実施例1と同様にして、実施例1と同じ混合ガ
スを圧入し、105℃で15時間加熱した。オートクレ
ーブ内に残留する重合物は、200mg/Lであった。 実施例8 オートクレーブに、1−アミノ−4−メチルピペラジン
30mg/Lと4−tert−ブチルカテコール5mg/Lを仕
込んだ以外は、実施例7と同じ操作を繰り返した。オー
トクレーブ内に残留する重合物は、250mg/Lであっ
た。 実施例9 オートクレーブに、1−アミノピロリジン30mg/Lと
ハイドロキノン5mg/Lを仕込んだ以外は、実施例7と
同じ操作を繰り返した。オートクレーブ内に残留する重
合物は、250mg/Lであった。 実施例10 オートクレーブに、1−アミノ−4−メチルピペラジン
30mg/Lとハイドロキノン5mg/Lを仕込んだ以外
は、実施例7と同じ操作を繰り返した。オートクレーブ
内に残留する重合物は、250mg/Lであった。 比較例1 容量200mLのオートクレーブに、薬剤を仕込まない以
外は、実施例1と同様にして、実施例1と同じ混合ガス
を圧入し、105℃で15時間加熱した。オートクレー
ブ内に残留する重合物は、12,800mg/Lであっ
た。 比較例2 1−アミノピロリジンの代わりに、N−ニトロソジフェ
ニルアミン60mg/Lを仕込んだ以外は、実施例1と同
じ操作を繰り返した。オートクレーブ内に残留する重合
物は、5,350mgであった。 比較例3 1−アミノピロリジンの代わりに、β−ナフチルアミン
60mg/Lを仕込んだ以外は、実施例1と同じ操作を繰
り返した。オートクレーブ内に残留する重合物は、4,
550mg/Lであった。 比較例4 1−アミノピロリジンの代わりに、4−tert−ブチルカ
テコール60mg/Lを仕込んだ以外は、実施例1と同じ
操作を繰り返した。オートクレーブ内に残留する重合物
は、2,600mg/Lであった。 比較例5 1−アミノピロリジンの代わりに、ハイドロキノン60
mg/Lを仕込んだ以外は、実施例1と同じ操作を繰り返
した。オートクレーブ内に残留する重合物は、3,15
0mg/Lであった。実施例1〜10及び比較例1〜5の
結果を、第1表に示す。
アミノピロリジン又は1−アミノ−4−メチルピペラジ
ンを添加した実施例1〜6では、残留重合物の量が、薬
剤無添加の比較例1のほぼ10分の1以下に減少してい
る。また、1−アミノピロリジン又は1−アミノ−4−
メチルピペラジンと、4−tert−ブチルカテコール又は
ハイドロキノンを併用した実施例7〜10では、残留重
合物の量が、薬剤無添加の比較例1のほぼ50分の1以
下に減少している。これに対して、従来から汚れ防止剤
として用いられているN−ニトロソジフェニルアミン、
β−ナフチルアミン、4−tert−ブチルカテコール又は
ハイドロキノンを添加した比較例2〜4では、残留重合
物の量は、薬剤無添加の比較例1のたかだか2.5分の
1ないし5分の1程度までしか減少しない。
セスに添加することにより、従来の汚れ防止剤よりも少
ない添加量で、エチレン製造プロセスにおいて生じる汚
れを効果的に抑制することができ、これにより、プラン
トの操業時間を大幅に伸ばすことが可能となる。
Claims (2)
- 【請求項1】N−置換アミノ基を有する複素環式化合物
を有効成分とすることを特徴とする汚れ防止剤。 - 【請求項2】N−置換アミノ基を有する複素環式化合物
とヒドロキシベンゼン誘導体とを含有することを特徴と
する汚れ防止剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36779599A JP2001181600A (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 汚れ防止剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36779599A JP2001181600A (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 汚れ防止剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001181600A true JP2001181600A (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=18490214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36779599A Pending JP2001181600A (ja) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | 汚れ防止剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001181600A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005232122A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | プロピレンの製造方法 |
JP2005232121A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | プロピレンの製造方法 |
CN100352899C (zh) * | 2005-10-11 | 2007-12-05 | 杭州市化工研究院有限公司 | 乙烯压缩机抗垢剂 |
-
1999
- 1999-12-24 JP JP36779599A patent/JP2001181600A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005232122A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | プロピレンの製造方法 |
JP2005232121A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | プロピレンの製造方法 |
JP4604509B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2011-01-05 | 三菱化学株式会社 | プロピレンの製造方法 |
JP4604508B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2011-01-05 | 三菱化学株式会社 | プロピレンの製造方法 |
CN100352899C (zh) * | 2005-10-11 | 2007-12-05 | 杭州市化工研究院有限公司 | 乙烯压缩机抗垢剂 |
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