JPH0386792A - エチレン製造プロセスにおける希釈水蒸気発生系の汚れ防止剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ナフサ分解によるエチレン製造プロセスの希
釈水蒸気発生系の汚れ防止剤に関するものである。

（従来の技術及び問題点） エチレン製造は、通常ナフサのスチームクラッキングに
よって行われる。まずナフサは、後述の希釈水蒸気と共
に熱分解炉で８００°Ｃ前後に加熱されて分解される０
分解ガスは分解炉出口で約４００°Ｃまで急冷されてそ
の後、ガソリン蒸留塔にはいる。ここで重質油が分離さ
れ、次に水急冷基に入り、約４０°Ｃまで冷却されて分
解ガソリン留分と希釈スチームが凝縮され、静置槽で分
離される。これらを分離した分解ガスはコンプレッサー
で圧縮された後、脱硫され、脱水塔で脱水された後、深
冷分離塔、脱メタン塔、脱エタン塔を経て、エチレン分
離塔にてエチレンを分離する。水急冷塔下部の液は油水
分離槽で分離され、油分はガソリン蒸留塔へ戻され、凝
縮水は、コアレッサー及びストリッパーを経て希釈水蒸
気発生装置に導かれ、再び希釈水蒸気として熱分解炉へ
注入される。

エチレン製造プロセスの蒸気を回収し、給水する希釈水
蒸気発生系では、ストリッパーのトレイやリボイラーの
伝熱面に汚れが付着し、伝熱効率が低下したり、閉塞の
ため差圧が上昇するという障害がある。このため、定期
的にまたは所定の差圧に達したときに、装置の運転を停
止し、リボイラー等の洗浄をして付着した汚れを除去し
ている。

なお、石油化学プロセスの蒸気発生系、たとえばストリ
ッパーのトレイやリボイラ等の汚れ防止剤としてポリス
チレンスルホン酸またはその塩の使用が開示されている
（特公昭６２−５９７５２号公報参照）が、このものは
化合物の重合を抑制するのではなく、重合体を粒子状に
分散させる分散剤であって、伝熱面への汚れ付着押割が
不充分である。

したがって上記系の汚れを防止する満足すべき汚れ防止
剤や汚れ防止方法は未開発の状態にある。

（発明の目的） 本発明は、エチレン製造プロセスにおける希釈水蒸気発
生系の汚れを抑制する薬剤を提供することを目的とする
。

（問題点を解決するための手段） 本発明者らは、この汚れは前述の水急冷塔塔底液中に含
まれるスチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン
、ジビニルベンゼン、インデン等の不安定な化合物の重
合により生成するとの知見から、これらの不安定な化合
物の重合防止を鋭意研究した結果、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明は、亜硝酸塩及びＮ、Ｎ−ジアル
キルヒドロキシルアミンを有効成分として含有すること
を特徴とするエチレン製造プロセスにおける希釈水蒸気
発生系の汚れ防止剤である。

亜硝酸塩は、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に、Ｒｂ）の
亜硝−酸塩または亜硝酸アンモニウム塩であり、Ｎ、Ｎ
−ジアルキルヒドロキシルアミンのアルキル基炭素数は
１ないし８の整数である。

亜硝酸塩とＮ、Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの配
合比は重量比で約１＝９〜９：１好ましくは約１：３〜
７：１が適当である０本発明の汚れ防止剤は、上記成分
以外の他の成分、たとえば腐食防止剤、油水分離剤、酸
化防止剤、エマルジツンブレーカー等を含んでいてもよ
い。なお本発明の構成成分である亜硝酸塩とＮ、Ｎ−ジ
アルキルヒドロキシルアミンは通常、水または有機溶剤
たとえばアルコール、アセトン等に溶解させて製剤化し
た汚れ防止剤として使用するが、製剤中に不溶物が存在
しても汚れ防止効果に悪影響を及ぼさない。

本発明の汚れ防止剤の添加の場所は、油水分離槽入口ま
たはストリッパー人口が適当である。添加量は、通常給
水量に対して亜硝酸塩とＮ、Ｎ−ジアルキルヒドロキシ
ルアミンを合わせて１〜１１０００ｐｐ好ましくは１〜
ｔｏｏｐｐ−である、給水中のスチレン、メチルスチレ
ン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、インデン
等の量により適宜増減させる。

本発明の汚れ防止剤は、給水に添加されると給水中に含
まれるスチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン
、ジビニルベンゼン、インデン等の不安定な化合物の重
合を抑制して、系内の汚れを防止するものである。

（発明の効果） 本発明の汚れ防止剤によれば、エチレン製造工程の希釈
水蒸気発生装置内の重合体の発生を抑制し、汚れを防止
するため、頻繁な運転停止と、リボイラー等の洗浄を回
避でき、省力、生産合理化及び設備保全に寄与する効果
は大きい。

（実施例） 以下に実施例をあげて本発明を更に具体的に説明するが
、本発明は、もちろん以下の実施例のみに限定されるも
のではない。

実施例　ｌ すり合わせ栓つき三角フラスコに、エチレン製造プロセ
ス油水分離槽中の油分５ｄ、イオン交換水９５ｄ、およ
び表１に示す実施例または比較例の汚れ防止剤を入れ窒
素ガスでフラスコ内を置換した後、液を攪はんしながら
８０°Ｃに保持した。２４時間後フラスコ内の油層を採
取、ＴＬＣ−ＦＩＤ　（注）で油層中の重合物を測定し
た。結果を表１に示す。

これから本発明が卓越した効果を示すことが分かる。

（注）Ｉｌｌクロマトグラフと水素炎イオン化検出器を
組み合わせた装置、ヤトロン社製イアトロスキャンＴｌ
−１０ 表 実ｔＪＦｉｇ４２ 図に示すバッチ式シミュレーションリボイラーを用い、
実施例１と同じエチレン製造プロセス油水分Ｍ槽中の油
分５０１ｄ　、脱イオン交換水５０−および表２に示す
実施例または比較例の汚れ防止剤を用い、窒素雰囲気常
圧下で８時間連続加熱した。加熱部の温度は１００°Ｃ
１本体容器内の液温は約８０℃で、サーモリボイラーに
よる自然液循環方式を採用した。

本体の材質はパイレックスガラスで、本体と加熱部の接
続にはテフロンを使用した。加熱部の材質はパイレック
スガラスｇ（内径２．２ｍ、外径４．０ｍ）であり、長
さは８５ａａ＋で、加熱体は５０回巻きのニクロム線で
あった。

伝熱面の汚れ状態を目視で観察し、その結果を表２に示
す。

表 ＊３； 重合防止剤

【図面の簡単な説明】

図は実施例２において用いたバッチ式シミュレーション
リボイラーの概略断面図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、亜硝酸塩の少なくとも１種とＮ，Ｎ−ジアルキルヒ
   ドロキシルアミンの少なくとも１種を有効成分として含
   有することを特徴とするエチレン製造プロセスにおける
   希釈水蒸気発生系の汚れ防止剤。 ２、亜硝酸塩がアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ）
   の亜硝酸塩または亜硝酸アンモニウム塩である請求項１
   記載の汚れ防止剤。 ３、Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンのアルキル
   基炭素数が１ないし８の整数である請求項１記載の汚れ
   防止剤。 ４、亜硝酸塩とＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン
   との配合比（重量比）が１：９〜９：１である請求項１
   ないし３のいずれかに記載の汚れ防止剤。 ５、請求項１ないし４のいずれかに記載の有効成分を、
   不活性溶剤に実質的に溶解させたエチレン製造プロセス
   における希釈水蒸気発生系の汚れ防止剤。 ６、請求項１ないし５のいずれかに記載の有効成分の合
   量を、給水量に対し１〜１０００ｐｐｍの濃度で連続的
   に添加するエチレン製造プロセスにおける希釈水蒸気発
   生系の汚れ防止剤の使用方法。