JP2001170574A - Cleaning device - Google Patents

Cleaning device

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JP2001170574A
JP2001170574A JP36267199A JP36267199A JP2001170574A JP 2001170574 A JP2001170574 A JP 2001170574A JP 36267199 A JP36267199 A JP 36267199A JP 36267199 A JP36267199 A JP 36267199A JP 2001170574 A JP2001170574 A JP 2001170574A
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cleaning
regenerator
rinsing
liquid
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Takashi Hara
孝志 原
Masato Yada
誠人 矢田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning device capable of efficiently removing sediments from the inside of a devices. SOLUTION: This cleaning device 1 is a device for cleaning a work as an object intended for cleaning using a cleaning liquid. The cleaning device 1 comprises a cleaning tank 3 to which a second pressure adjusting means 35 is connected a sedimentation tank 4 to which a first pressure adjusting means 45 is connected, a circulation line L10 consisting of a buffer tank 5, a regenerator 6 a storage tank 7, a rinsing tank 8 and piping, a waste liquid line L40 connected to the sedimentation tank 4, a drying line L90 having a drying tank 9, a line L60 for connecting the regenerator 6 to the sedimentation tank 4, a second waste liquor line L100 having a waste liquor device 10, a line L80 for connecting the rinsing tank 8 to the buffer tank 5 and a second connecting pipe 49 for connecting the cleaning tank 3 to the sedimentation tank 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning device.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、腕時計の製造を例に取ると、腕
時計を組み立てる前に、各種の腕時計部品を製造する必
要がある。このような腕時計部品の中には、製造途中
で、研磨工程を行う必要のあるものがある。そして、腕
時計部品に対して研磨を行った場合、かかる部品には、
研磨剤が付着することとなる。当然、かかる研磨剤は、
洗浄により、除去される。
2. Description of the Related Art For example, in the manufacture of a wristwatch, it is necessary to manufacture various wristwatch parts before assembling the wristwatch. Some of such wristwatch components require a polishing step during manufacture. And, when polishing is performed on watch parts,
The abrasive will adhere. Of course, such abrasives
It is removed by washing.

【0003】はるか昔、このような洗浄に用いられる洗
浄液には、トリエタンが使用されていた。しかし、トリ
エタンは、オゾン層を破壊する懸念がでてきたため、使
用されなくなった。
[0003] For a long time, triethane was used as a cleaning liquid for such cleaning. However, triethane is no longer used due to concerns about destruction of the ozone layer.

【0004】そして、トリエタンの代わりに、洗浄液に
は、トリクロロエチレンが用いられるようになった。し
かし、トリクロロエチレンも環境に優しい洗浄液とはい
えず、なるべくなら使用しない方が好ましい。
[0004] Instead of triethane, trichloroethylene has come to be used as a cleaning solution. However, trichloroethylene is not an environmentally friendly cleaning solution, and it is preferable not to use it if possible.

【0005】ところが、本発明者の実験から、トリクロ
ロエチレンの代替洗浄液の多くは、洗浄液中に大量の研
磨剤成分を溶解させることができないことが分かった。
したがって、代替洗浄液を用いて洗浄を行った場合、洗
浄液中に溶解しきれなかった研磨剤成分は、大量に洗浄
槽内に沈殿、堆積することとなる。その後の洗浄を円滑
に行うためには、かかる沈殿物を槽内から除去する必要
がある。
However, experiments conducted by the present inventors have revealed that many of the alternative cleaning solutions for trichlorethylene cannot dissolve a large amount of abrasive components in the cleaning solution.
Therefore, when the cleaning is performed using the alternative cleaning liquid, a large amount of the abrasive component that cannot be dissolved in the cleaning liquid precipitates and deposits in the cleaning tank. In order to perform subsequent washing smoothly, it is necessary to remove such precipitates from the tank.

【0006】このような沈殿物を除去する方法として
は、例えば、フィルターを用いて沈殿物を除去する方法
が考えられる。ところが、本発明者の実験から、フィル
ターに代替洗浄液を通過させて沈殿物を除去しようとす
ると、短時間でフィルターが目詰まりを起こしてしまう
ことが分かった。したがって、フィルターを用いて沈殿
物を除去するような方式の洗浄装置は、沈殿物が大量に
生じる場合、実用的でない。
As a method of removing such a precipitate, for example, a method of removing the precipitate using a filter is considered. However, from the experiment of the present inventors, it was found that the filter was clogged in a short time when trying to remove the precipitate by passing an alternative washing solution through the filter. Therefore, a washing apparatus that removes a precipitate using a filter is not practical when a large amount of the precipitate is generated.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、装置
内の沈殿物を効率よく除去できる洗浄装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cleaning apparatus capable of efficiently removing sediment in the apparatus.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(16)の本発明により達成される。
This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (16).

【0009】(1) 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽
と、該洗浄槽に通液可能に接続され、洗浄に供された洗
浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる沈殿槽とを有する
ことを特徴とする洗浄装置。
(1) A cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, and a sedimentation tank connected to the cleaning tank so as to be able to flow and sedimenting a precipitation component contained in the cleaning liquid used for cleaning. Cleaning equipment.

【0010】(2) 前記洗浄槽に通液可能に接続さ
れ、前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス
槽を有する上記(1)に記載の洗浄装置。
(2) The cleaning apparatus according to the above (1), further comprising a rinsing tank connected to the cleaning tank so as to be able to pass the liquid and rinsing the work cleaned in the cleaning tank.

【0011】(3) 前記リンス槽の底部近傍は、配管
で前記洗浄槽の上部側に接続されている上記(2)に記
載の洗浄装置。
(3) The cleaning apparatus according to (2), wherein a portion near the bottom of the rinsing tank is connected to an upper side of the cleaning tank by a pipe.

【0012】(4) 前記沈殿槽に通液可能に接続さ
れ、前記洗浄液を再生する再生器を有する上記(1)な
いし(3)のいずれかに記載の洗浄装置。
(4) The cleaning apparatus according to any one of (1) to (3), further including a regenerator connected to the settling tank so as to be able to pass the liquid and regenerating the cleaning liquid.

【0013】(5) 前記再生器は、配管で前記沈殿槽
の底部近傍に接続されている上記(4)に記載の洗浄装
置。
(5) The cleaning apparatus according to the above (4), wherein the regenerator is connected to the vicinity of the bottom of the settling tank by a pipe.

【0014】(6) 前記沈殿槽に通液可能に接続さ
れ、前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ槽を有する
上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の洗浄装置。
(6) The cleaning apparatus according to any one of (1) to (5), further including a buffer tank that is connected to the sedimentation tank so as to be able to flow and temporarily stores the cleaning liquid.

【0015】(7) 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽
と、洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿さ
せる沈殿槽と、前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ
槽と、前記洗浄液を再生する再生器と、前記洗浄槽で洗
浄されたワークをリンスするリンス槽とを有する循環ラ
インと、前記再生器と前記沈殿槽とを接続するラインと
を有することを特徴とする洗浄装置。
(7) A washing tank for washing a workpiece with a washing liquid, a sedimentation tank for sedimenting a sediment component contained in the washing liquid used for washing, a buffer tank for temporarily storing the washing liquid, and a regeneration of the washing liquid. A cleaning apparatus, comprising: a circulating line having a regenerator for cleaning, a rinsing tank for rinsing the work cleaned in the cleaning tank, and a line connecting the regenerator and the sedimentation tank.

【0016】(8) 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽
と、洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿さ
せる沈殿槽と、前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ
槽と、前記洗浄液を再生する再生器と、前記再生器で再
生された洗浄液を貯留する貯留槽と、前記洗浄槽で洗浄
されたワークをリンスするリンス槽とを有する循環ライ
ンと、前記再生器と前記沈殿槽とを接続するラインとを
有することを特徴とする洗浄装置。
(8) A washing tank for washing a workpiece with a washing liquid, a sedimentation tank for sedimenting a sediment component contained in the washing liquid used for washing, a buffer tank for temporarily storing the washing liquid, and regenerating the washing liquid Connecting the regenerator and the settling tank with a circulation line having a regenerator, a storage tank for storing the cleaning liquid regenerated by the regenerator, and a rinsing tank for rinsing the work cleaned in the cleaning tank. A cleaning line, comprising:

【0017】(9) 前記リンス槽の底部近傍が、配管
で前記洗浄槽の上部側に接続されている上記(7)また
は(8)に記載の洗浄装置。
(9) The cleaning device according to the above (7) or (8), wherein the vicinity of the bottom of the rinsing tank is connected to the upper side of the cleaning tank by a pipe.

【0018】(10) 前記再生器と前記沈殿槽とを接
続するラインは、前記沈殿槽の底部近傍に接続されてい
る上記(7)ないし(9)のいずれかに記載の洗浄装
置。
(10) The washing apparatus according to any one of (7) to (9), wherein a line connecting the regenerator and the sedimentation tank is connected near a bottom of the sedimentation tank.

【0019】(11) 前記ワークの洗浄時に、前記洗
浄液は、前記リンス槽、前記洗浄槽、前記沈殿槽の順に
流れる上記(7)ないし(10)のいずれかに記載の洗
浄装置。
(11) The cleaning apparatus according to any one of the above (7) to (10), wherein at the time of cleaning the work, the cleaning liquid flows in the order of the rinsing tank, the cleaning tank, and the sedimentation tank.

【0020】(12) 前記ワークの洗浄時に、前記ワ
ークは、前記洗浄槽、前記リンス槽の順に移動する上記
(7)ないし(11)のいずれかに記載の洗浄装置。
(12) The cleaning apparatus according to any one of (7) to (11), wherein at the time of cleaning the work, the work moves in the order of the cleaning tank and the rinsing tank.

【0021】(13) 前記バッファ槽は、配管で前記
沈殿槽の上部側に接続されている上記(6)ないし(1
2)のいずれかに記載の洗浄装置。
(13) The buffer tank is connected to the upper part of the sedimentation tank by a pipe.
The cleaning device according to any one of 2).

【0022】(14) 前記沈殿槽の底部近傍が、配管
で前記洗浄槽の底部近傍に接続されている上記(1)な
いし(13)のいずれかに記載の洗浄装置。
(14) The cleaning apparatus according to any one of (1) to (13), wherein the vicinity of the bottom of the settling tank is connected to the vicinity of the bottom of the washing tank by a pipe.

【0023】(15) 前記沈殿槽内および/または前
記洗浄槽内の圧力を調整する圧力調整手段を有する上記
(1)ないし(14)のいずれかに記載の洗浄装置。
(15) The cleaning apparatus according to any one of the above (1) to (14), further comprising pressure adjusting means for adjusting the pressure in the settling tank and / or the cleaning tank.

【0024】(16) 前記沈殿槽、前記洗浄槽、前記
リンス槽のうちの少なくとも1つは、底部が、水平方向
に対して傾斜している上記(1)ないし(15)のいず
れかに記載の洗浄装置。
(16) The at least one of the sedimentation tank, the washing tank, and the rinsing tank has a bottom portion inclined with respect to a horizontal direction, according to any one of the above (1) to (15). Cleaning equipment.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に示す好
適実施形態に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明
の洗浄装置の実施形態を示す回路図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the cleaning apparatus of the present invention.

【0026】洗浄装置1は、洗浄液を用いて洗浄対象物
であるワークを洗浄する装置である。同図に示すよう
に、洗浄装置1は、第2圧力調整手段35が接続された
洗浄槽3と第1圧力調整手段45が接続された沈殿槽4
とバッファ槽5と再生器6と貯留槽7とリンス槽8と配
管とを有する循環ラインL10と、沈殿槽4に接続され
た廃液ラインL40と、乾燥槽9を有する乾燥ラインL
90と、再生器沈殿槽接続ラインL60と、廃液器10
を有する第2廃液ラインL100と、リンス槽バッファ
槽接続ラインL80と、洗浄槽沈殿槽第2接続管49と
で構成されている。以下、これらを各構成要素毎に説明
する。
The cleaning device 1 is a device for cleaning a workpiece to be cleaned using a cleaning liquid. As shown in the figure, the cleaning apparatus 1 comprises a cleaning tank 3 to which a second pressure adjusting means 35 is connected and a sedimentation tank 4 to which a first pressure adjusting means 45 is connected.
A circulation line L10 having a buffer tank 5, a regenerator 6, a storage tank 7, a rinsing tank 8, and a pipe, a waste liquid line L40 connected to the sedimentation tank 4, and a drying line L having a drying tank 9.
90, a regenerator sedimentation tank connection line L60, and a waste liquid container 10
Rinsing tank buffer tank connection line L80, and washing tank sedimentation tank second connection pipe 49. Hereinafter, these will be described for each component.

【0027】まず、循環ラインL10を中心に説明す
る。循環ラインL10は、洗浄液が通液・循環する主ラ
インである。この循環ラインL10は、前述したよう
に、第2圧力調整手段35が接続された洗浄槽3と、第
1圧力調整手段45が接続された沈殿槽4と、バッファ
槽5と、再生器6と、貯留槽7と、リンス槽8と、配管
(洗浄槽沈殿槽接続管39、沈殿槽バッファ槽接続管4
7、バッファ槽再生器接続管59、再生器貯留槽接続管
69、貯留槽リンス槽接続管79、およびリンス槽洗浄
槽接続管89)とを有している。
First, the circulation line L10 will be mainly described. The circulation line L10 is a main line through which the cleaning liquid flows and circulates. The circulation line L10 includes, as described above, the washing tank 3 to which the second pressure adjusting means 35 is connected, the settling tank 4 to which the first pressure adjusting means 45 is connected, the buffer tank 5, and the regenerator 6. , Storage tank 7, rinsing tank 8, pipes (washing tank settling tank connecting pipe 39, settling tank buffer tank connecting pipe 4)
7, a buffer tank regenerator connection pipe 59, a regenerator storage tank connection pipe 69, a storage tank rinse tank connection pipe 79, and a rinse tank cleaning tank connection pipe 89).

【0028】洗浄槽(第1洗浄槽)3は、洗浄槽3内に
入れられた(供給された)洗浄液によりワークの洗浄を
行う槽である。この洗浄槽3の上部側には、例えばポン
プ等で構成され、洗浄槽3内の圧力を調整する第2圧力
調整手段35が、バルブ361を備えた配管36を介し
て接続されている。かかる洗浄槽3内は、例えば密閉可
能となっている。したがって、洗浄槽3内を密閉して、
圧力調整手段35を作動させることにより、洗浄槽3内
の圧力を変化させることができる。
The cleaning tank (first cleaning tank) 3 is a tank for cleaning the work with the cleaning liquid contained (supplied) in the cleaning tank 3. On the upper side of the cleaning tank 3, a second pressure adjusting means 35 configured by, for example, a pump or the like and adjusting the pressure in the cleaning tank 3 is connected via a pipe 36 having a valve 361. The inside of the washing tank 3 can be sealed, for example. Therefore, the inside of the washing tank 3 is closed,
By operating the pressure adjusting means 35, the pressure in the cleaning tank 3 can be changed.

【0029】この洗浄槽3の底部31は、水平方向に対
して傾斜している。すなわち、洗浄槽3の底部31に
は、深さが漸増するような傾斜が設けられている。この
底部31の最深部近傍には、バルブ391を備え、洗浄
槽3と沈殿槽4とを接続する洗浄槽沈殿槽接続管(配
管)39の一端(洗浄槽接続口)が接続されている。
The bottom 31 of the washing tank 3 is inclined with respect to the horizontal direction. That is, the bottom 31 of the cleaning tank 3 is provided with an inclination such that the depth gradually increases. A valve 391 is provided in the vicinity of the deepest portion of the bottom 31, and one end (washing tank connection port) of a washing tank sedimentation tank connection pipe (pipe) 39 connecting the washing tank 3 and the sedimentation tank 4 is connected.

【0030】この洗浄槽沈殿槽接続管(洗浄槽沈殿槽第
1接続管)39の他端(沈殿槽接続口)は、沈殿槽4の
底部41近傍に接続されている。すなわち、洗浄槽沈殿
槽接続管39を介して、洗浄槽3には、沈殿槽4が通液
可能に接続されている。このような洗浄槽沈殿槽接続管
39では、沈殿槽接続口は、洗浄槽接続口よりも低いと
ころに位置している。
The other end (connection port of the sedimentation tank) of this washing tank sedimentation tank connection pipe (the first connection pipe of the cleaning tank sedimentation tank) 39 is connected to the vicinity of the bottom 41 of the sedimentation tank 4. That is, the sedimentation tank 4 is connected to the washing tank 3 through the washing tank sedimentation tank connection pipe 39 so as to be able to flow. In such a washing tank settling tank connection pipe 39, the settling tank connection port is located lower than the washing tank connection port.

【0031】沈殿槽4は、洗浄に供された洗浄液等が含
有する沈殿成分を沈殿、堆積させるためなどに用いられ
る。この沈殿槽4の上部側には、例えばポンプ等で構成
され、沈殿槽4内の圧力を調整する圧力調整手段45
が、バルブ461を備えた配管46を介して接続されて
いる。この沈殿槽4内は、例えば密閉可能となってい
る。したがって、沈殿槽4内を密閉して、圧力調整手段
45を作動させることにより、沈殿槽4内の圧力を変化
させることができる。
The sedimentation tank 4 is used for, for example, precipitating and depositing a sediment component contained in the cleaning liquid or the like provided for the cleaning. On the upper side of the sedimentation tank 4, for example, a pressure adjusting means 45 configured by a pump or the like to adjust the pressure in the sedimentation tank 4.
Are connected via a pipe 46 provided with a valve 461. The inside of the sedimentation tank 4 can be sealed, for example. Therefore, the pressure in the sedimentation tank 4 can be changed by closing the sedimentation tank 4 and operating the pressure adjusting means 45.

【0032】この沈殿槽4の底部41は、水平方向に対
して傾斜している。すなわち、沈殿槽4の底部41に
は、深さが漸増するような傾斜が設けられている。例え
ば、底部41の最浅部近傍には、前述した洗浄槽沈殿槽
接続管39が接続されている。また、底部41の最深部
近傍には、沈殿槽4の底部41に沈殿、堆積した沈殿物
を排出する廃液ラインL40が接続されている。なお、
この廃液ラインL40には、バルブ481が設けられて
いる。
The bottom 41 of the settling tank 4 is inclined with respect to the horizontal direction. That is, the bottom 41 of the sedimentation tank 4 is provided with an inclination such that the depth gradually increases. For example, in the vicinity of the bottommost portion of the bottom portion 41, the above-described washing tank settling tank connection pipe 39 is connected. In the vicinity of the deepest portion of the bottom portion 41, a waste liquid line L40 for discharging sediment deposited and deposited on the bottom portion 41 of the settling tank 4 is connected. In addition,
A valve 481 is provided in the waste liquid line L40.

【0033】沈殿槽4の上部側には、バルブ491を備
えた洗浄槽沈殿槽第2接続管49の一端(沈殿槽接続
口)が接続されている。この洗浄槽沈殿槽第2接続管4
9の他端(洗浄槽接続口)は、洗浄槽3の上部側に接続
されている。なお、本明細書における槽の「上部側」と
は、例えば、底部よりも高いところを意味する。
An upper end of the sedimentation tank 4 is connected to one end (sedimentation tank connection port) of a washing tank sedimentation tank second connection pipe 49 having a valve 491. This washing tank sedimentation tank second connection pipe 4
The other end 9 (the cleaning tank connection port) is connected to the upper side of the cleaning tank 3. In addition, the "upper side" of the tank in this specification means a place higher than the bottom, for example.

【0034】また、沈殿槽4の上部側には、バルブ47
1を備え、沈殿槽4とバッファ槽5とを接続する沈殿槽
バッファ槽接続管(配管)47の一端(沈殿槽接続口)
が接続されている。
Further, a valve 47 is provided above the sedimentation tank 4.
1 and one end (sedimentation tank connection port) of a sedimentation tank buffer tank connection pipe (pipe) 47 for connecting the sedimentation tank 4 and the buffer tank 5
Is connected.

【0035】この沈殿槽バッファ槽接続管47の他端
(バッファ槽接続口)は、バッファ槽5の上部側に接続
されている。すなわち、沈殿槽バッファ槽接続管47を
介して、沈殿槽4には、バッファ槽5が通液可能に接続
されている。このバッファ槽5には、洗浄液が一時的に
貯留される。これにより、循環ラインL10内への液の
供給量、循環量を容易に調整できるようになり、洗浄装
置1が有する各槽等で、洗浄液が溢れるのを、好適に防
止することができる。このバッファ槽5の底部51近傍
には、バルブ591を備え、バッファ槽5と再生器6と
を接続するバッファ槽再生器接続管(配管)59の一端
(バッファ槽接続口)が接続されている。
The other end (buffer tank connection port) of the settling tank buffer tank connection pipe 47 is connected to the upper side of the buffer tank 5. That is, the buffer tank 5 is connected to the sedimentation tank 4 via the sedimentation tank buffer tank connection pipe 47 so that the liquid can pass therethrough. The cleaning liquid is temporarily stored in the buffer tank 5. Thereby, the supply amount and the circulation amount of the liquid into the circulation line L10 can be easily adjusted, and the overflow of the cleaning liquid in each tank or the like of the cleaning device 1 can be suitably prevented. A valve 591 is provided near the bottom 51 of the buffer tank 5, and one end (buffer tank connection port) of a buffer tank regenerator connection pipe (pipe) 59 connecting the buffer tank 5 and the regenerator 6 is connected. .

【0036】このバッファ槽再生器接続管59の他端
(再生器接続口)は、再生器6の上部側に接続されてい
る。すなわち、バッファ槽再生器接続管59を介して、
バッファ槽5には、再生器6が通液可能に接続されてい
る。この再生器6では、洗浄液を蒸留、再生する処理を
行うことができる。この再生器6の上部側には、バルブ
691を備え、再生器6と貯留槽7とを接続する再生器
貯留槽接続管(配管)69の一端(再生器接続口)が接
続されている。
The other end (regenerator connection port) of the buffer tank regenerator connection pipe 59 is connected to the upper side of the regenerator 6. That is, through the buffer tank regenerator connection pipe 59,
A regenerator 6 is connected to the buffer tank 5 so that the liquid can pass through. In the regenerator 6, a process of distilling and regenerating the cleaning liquid can be performed. A valve 691 is provided on the upper side of the regenerator 6, and one end (regenerator connection port) of a regenerator storage tank connection pipe (pipe) 69 for connecting the regenerator 6 and the storage tank 7 is connected.

【0037】この再生器貯留槽接続管69の他端(貯留
槽接続口)は、貯留槽7の上部側に接続されている。す
なわち、再生器貯留槽接続管69を介して、再生器6に
は、貯留槽7が、通気、通液可能に接続されている。こ
の貯留槽7には、再生器6で蒸留、再生処理が施された
洗浄液が貯留される。この貯留槽7の上部側には、バル
ブ791を備え、貯留槽7とリンス槽8とを接続する貯
留槽リンス槽接続管(配管)79の一端(貯留槽接続
口)が接続されている。
The other end (reservoir connection port) of the regenerator storage tank connection pipe 69 is connected to the upper side of the storage tank 7. That is, the storage tank 7 is connected to the regenerator 6 via the regenerator storage tank connection pipe 69 so as to allow ventilation and liquid flow. In the storage tank 7, a cleaning liquid that has been subjected to distillation and regeneration processing by the regenerator 6 is stored. On the upper side of the storage tank 7, a valve 791 is provided, and one end (storage tank connection port) of a storage tank rinsing tank connection pipe (pipe) 79 for connecting the storage tank 7 and the rinsing tank 8 is connected.

【0038】この貯留槽リンス槽接続管79の他端(リ
ンス槽接続口)は、リンス槽8の上部側に接続されてい
る。すなわち、貯留槽リンス槽接続管79を介して、貯
留槽7には、リンス槽(第2洗浄槽)8が、通液可能に
接続されている。このリンス槽8では、貯留槽7から供
給された洗浄液を用いて、ワークのリンスが行われる。
もしくは、このリンス槽8で、洗浄槽3で洗浄されたワ
ークの最終洗浄が行われる。このリンス槽8の底部81
は、水平方向に対して傾斜している。すなわち、リンス
槽8の底部81には、深さが漸増するような傾斜が設け
られている。この底部81の最深部近傍には、バルブ8
91を備え、リンス槽8と洗浄槽3とを接続するリンス
槽洗浄槽接続管(配管)89の一端(リンス槽接続口)
が接続されている。
The other end (rinse tank connection port) of the storage tank rinse tank connection pipe 79 is connected to the upper side of the rinse tank 8. That is, the rinsing tank (second cleaning tank) 8 is connected to the storage tank 7 via the storage tank rinsing tank connection pipe 79 so that the liquid can pass therethrough. In the rinsing tank 8, the work is rinsed using the cleaning liquid supplied from the storage tank 7.
Alternatively, in the rinsing bath 8, the final cleaning of the work cleaned in the cleaning bath 3 is performed. The bottom 81 of this rinsing tank 8
Are inclined with respect to the horizontal direction. That is, the bottom 81 of the rinsing tank 8 is provided with a slope such that the depth gradually increases. Near the deepest portion of the bottom portion 81,
One end (rinse tank connection port) of a rinse tank cleaning tank connection pipe (pipe) 89 that is provided with 91 and connects the rinse tank 8 and the cleaning tank 3
Is connected.

【0039】このリンス槽洗浄槽接続管89の他端(洗
浄槽接続口)は、洗浄槽3の上部側に接続されている。
すなわち、リンス槽洗浄槽接続管89を介して、洗浄槽
3には、リンス槽8が通液可能に接続されている。
The other end of the rinse tank connecting pipe 89 (the connecting port of the cleaning tank) is connected to the upper side of the cleaning tank 3.
That is, the rinsing tank 8 is connected to the cleaning tank 3 through the rinsing tank cleaning tank connection pipe 89 so as to allow the liquid to pass therethrough.

【0040】また、リンス槽8は、リンス槽バッファ槽
接続ラインL80を介して、バッファ槽5に通液可能に
接続されている。このリンス槽バッファ槽接続ラインL
80は、バルブ881を備えたリンス槽バッファ槽接続
管88を有しており、このリンス槽バッファ槽接続管8
8の一端(リンス槽接続口)はリンス槽8の上部側に、
他端(バッファ槽接続口)はバッファ槽5の上部側に、
それぞれ接続されている。リンス槽バッファ槽接続ライ
ンL80は、例えば洗浄液の迂回路などとして機能す
る。例えば、バルブ891が閉じられている場合、リン
ス槽8内の洗浄液は、オーバーフローして、リンス槽バ
ッファ槽接続ラインL80を通り、バッファ槽5内に流
れる。これにより、リンス槽8で洗浄液が溢れること
が、好適に防止される。
The rinsing tank 8 is connected to the buffer tank 5 through a rinsing tank buffer tank connection line L80 so as to allow the liquid to pass therethrough. This rinse tank buffer tank connection line L
80 has a rinse tank buffer tank connection pipe 88 provided with a valve 881;
One end of the rinsing tank 8 (rinse tank connection port)
The other end (buffer tank connection port) is on the upper side of the buffer tank 5,
Each is connected. The rinse tank buffer tank connection line L80 functions as, for example, a bypass for the cleaning liquid. For example, when the valve 891 is closed, the cleaning liquid in the rinsing tank 8 overflows and flows into the buffer tank 5 through the rinsing tank buffer tank connection line L80. Thus, overflow of the cleaning liquid in the rinsing tank 8 is suitably prevented.

【0041】このような循環ラインL10では、例え
ば、貯留槽リンス槽接続管79の貯留槽接続口は、沈殿
槽バッファ槽接続管47の沈殿槽接続口(またはリンス
槽洗浄槽接続管89の洗浄槽接続口)よりも高いところ
に位置している。また、例えば、バッファ槽再生器接続
管59では、バッファ槽接続口は、再生器接続口よりも
高いところに位置している。
In such a circulation line L10, for example, the storage tank connection port of the storage tank rinse tank connection pipe 79 is connected to the settling tank connection port of the settling tank buffer tank connection pipe 47 (or the cleaning of the rinse tank cleaning tank connection pipe 89). (Tank connection port). Further, for example, in the buffer tank regenerator connection pipe 59, the buffer tank connection port is positioned higher than the regenerator connection port.

【0042】以下、再生器6に接続された乾燥ラインL
90、再生器沈殿槽接続ラインL60、第2廃液ライン
L100について説明する。
Hereinafter, the drying line L connected to the regenerator 6
90, the regenerator sedimentation tank connection line L60, and the second waste liquid line L100 will be described.

【0043】再生器6には、乾燥ラインL90が接続さ
れている。この乾燥ラインL90は、貯留槽7にも接続
されている。この乾燥ラインL90は、乾燥槽9と、バ
ルブ991を備え、再生器6と乾燥槽9とを通気可能に
接続する再生器乾燥槽接続管99と、バルブ981を備
え、乾燥槽9と貯留槽7とを通気(または通液)可能に
接続する乾燥槽貯留槽接続管98とを有している。再生
器乾燥槽接続管99の一端(再生器接続口)は、再生器
6の上部側に接続されており、他端(乾燥槽接続口)
は、乾燥槽9の上部側に接続されている。乾燥槽貯留槽
接続管98の一端(乾燥槽接続口)は、乾燥槽9の底部
側に接続されており、他端(貯留槽接続口)は、貯留槽
7の上部側に接続されている。
The regenerator 6 is connected to a drying line L90. This drying line L90 is also connected to the storage tank 7. The drying line L90 includes a drying tank 9 and a valve 991, and includes a regenerator drying tank connecting pipe 99 that connects the regenerator 6 and the drying tank 9 in a permeable manner, and a valve 981, and the drying tank 9 and the storage tank. 7 and a drying tank storage tank connecting pipe 98 for connecting the gas to the drying tank 7 in a ventilating (or liquid passing) manner. One end (regenerator connection port) of the regenerator drying tank connection pipe 99 is connected to the upper side of the regenerator 6, and the other end (drying tank connection port).
Is connected to the upper side of the drying tank 9. One end (drying tank connection port) of the drying tank storage tank connection pipe 98 is connected to the bottom side of the drying tank 9, and the other end (storage tank connection port) is connected to the upper side of the storage tank 7. .

【0044】乾燥槽9は、例えば、内部の圧力を調整す
る手段(ポンプ等(図示せず))、あるいは、内部の温
度を調整する手段(ヒーター等(図示せず))を備えて
おり、これにより、ワークの乾燥を行うことができる。
また、乾燥槽9では、再生器6から供給された洗浄液の
蒸気をワークに接触させることも可能である。これによ
り、ワークに対して仕上リンスを施すこともできる。
The drying tank 9 includes, for example, means for adjusting the internal pressure (pump or the like (not shown)) or means for adjusting the internal temperature (heater or the like (not shown)). Thereby, the work can be dried.
Further, in the drying tank 9, the vapor of the cleaning liquid supplied from the regenerator 6 can be brought into contact with the work. Thereby, finish rinsing can also be performed on the workpiece.

【0045】再生器6には、再生器6と沈殿槽4とを接
続する再生器沈殿槽接続ラインL60が接続されてい
る。この再生器沈殿槽接続ラインL60は、バルブ68
1を備えた再生器沈殿槽接続管(配管)68を有してい
る。この再生器沈殿槽接続管68の一端(再生器接続
口)は、再生器6の底部61近傍に接続されており、他
端(沈殿槽接続口)は、沈殿槽4の底部41近傍に接続
されている。
The regenerator 6 is connected to a regenerator sedimentation tank connection line L60 for connecting the regenerator 6 and the sedimentation tank 4. The regenerator sedimentation tank connection line L60 is connected to a valve 68
1 is provided with a regenerator sedimentation tank connection pipe (pipe) 68. One end (regenerator connection port) of the regenerator sedimentation tank connection pipe 68 is connected near the bottom 61 of the regenerator 6, and the other end (sedimentation tank connection port) is connected near the bottom 41 of the sedimentation tank 4. Have been.

【0046】再生器6には、第2廃液ラインL100が
接続されている。この第2廃液ラインL100によって
も、再生器6内に溜まった廃液を排出することができ
る。この第2廃液ラインL100は、廃液を貯留する廃
液器10と、再生器6と廃液器10とを接続する再生器
廃液器接続管109と、廃液器10の流入側(再生器廃
液器接続管109の流路)に設けられたバルブ108
と、廃液器10の流出側に設けられたバルブ107とを
有している。
The second waste liquid line L100 is connected to the regenerator 6. The waste liquid accumulated in the regenerator 6 can also be discharged by the second waste liquid line L100. The second waste liquid line L100 includes a waste liquid device 10 for storing a waste liquid, a regenerator waste liquid device connection pipe 109 connecting the regenerator 6 and the waste liquid device 10, and an inflow side of the waste liquid device 10 (a regenerator waste liquid device connection pipe). 109 provided in the flow path 109)
And a valve 107 provided on the outflow side of the waste liquid container 10.

【0047】なお、洗浄装置1では、上記各配管(ライ
ン)に設けられたバルブの開閉、開放量の設定等を適宜
行うことにより、それぞれの流路の開閉、流速・流量の
調整等を行うことができる。例えば、バッファ槽再生器
接続管59に設けられたバルブ591により、バッファ
槽5から再生器6への洗浄液の供給量、流量を、調整す
ることができる。
In the cleaning apparatus 1, by opening and closing valves provided in each of the pipes (lines) and setting the amount of opening as appropriate, the respective channels are opened and closed, and the flow rate and flow rate are adjusted. be able to. For example, the supply amount and flow rate of the cleaning liquid from the buffer tank 5 to the regenerator 6 can be adjusted by a valve 591 provided in the buffer tank regenerator connection pipe 59.

【0048】以下、洗浄装置1の作用(使用方法)を説
明する。 I.ワーク洗浄 まず、洗浄装置1がワークを洗浄する場合の作用を説明
する。まず、図1に示すように、貯留槽7、リンス槽
8、洗浄槽3、沈殿槽4、バッファ槽5、および再生器
6内に、所定量の洗浄液Wを入れておく。
Hereinafter, the operation (use method) of the cleaning device 1 will be described. I. Work Cleaning First, the operation when the cleaning apparatus 1 cleans a work will be described. First, as shown in FIG. 1, a predetermined amount of the cleaning liquid W is put in the storage tank 7, the rinsing tank 8, the cleaning tank 3, the sedimentation tank 4, the buffer tank 5, and the regenerator 6.

【0049】そして、バルブ691、591、471、
391、891、および791を所定量開き、再生器6
を作動させる。なお、バルブ461、481、491、
681、108、107、991、981、881およ
び361は、閉じておく。
Then, the valves 691, 591, 471,
391, 891, and 791 are opened by a predetermined amount, and the regenerator 6
Activate The valves 461, 481, 491,
681, 108, 107, 991, 981, 881 and 361 are closed.

【0050】これにより、貯留槽7では、貯留槽リンス
槽接続管79の貯留槽接続口よりも高いところに位置す
る洗浄液Wがオーバーフローし、貯留槽リンス槽接続管
79を通り、リンス槽8内に流入する。リンス槽8内に
流入した洗浄液Wの一部はオーバーフローし、リンス槽
洗浄槽接続管89を通って洗浄槽3内に流入する。洗浄
槽3内に流入した洗浄液Wの一部はオーバーフローし、
洗浄槽沈殿槽接続管39を通って沈殿槽4内に流入す
る。沈殿槽4では、沈殿槽バッファ槽接続管47の貯留
槽接続口よりも高いところに位置する洗浄液Wがオーバ
ーフローし、沈殿槽バッファ槽接続管47を通り、バッ
ファ槽5内に流入する。バッファ槽5内の洗浄液Wは、
高低差により、バッファ槽再生器接続管59内に所定流
速(流量)で流入し、バッファ槽再生器接続管59を通
り、再生器6内に、流入する。再生器6内では、洗浄液
Wが加熱され、これにより、洗浄液Wの一部が気化す
る。この気化した洗浄液Wは、再生器貯留槽接続管69
内に入り、再生器貯留槽接続管69を通り、貯留槽7内
に入る。このとき、気化した洗浄液Wは、再生器貯留槽
接続管69内および貯留槽7内で冷却され、再び液化す
る。これにより、貯留槽7内には、蒸留再生された洗浄
液Wが供給される。
As a result, in the storage tank 7, the cleaning liquid W located at a position higher than the storage tank connection port of the storage tank rinse tank connection pipe 79 overflows, passes through the storage tank rinse tank connection pipe 79, and enters the rinse tank 8. Flows into. A part of the cleaning liquid W flowing into the rinsing tank 8 overflows and flows into the cleaning tank 3 through the rinsing tank cleaning tank connection pipe 89. Part of the cleaning liquid W flowing into the cleaning tank 3 overflows,
It flows into the sedimentation tank 4 through the washing tank sedimentation tank connection pipe 39. In the sedimentation tank 4, the cleaning liquid W located at a position higher than the storage tank connection port of the sedimentation tank buffer tank connection pipe 47 overflows, flows through the sedimentation tank buffer tank connection pipe 47, and flows into the buffer tank 5. The cleaning liquid W in the buffer tank 5 is
Due to the height difference, the gas flows into the buffer tank regenerator connection pipe 59 at a predetermined flow rate (flow rate), passes through the buffer tank regenerator connection pipe 59, and flows into the regenerator 6. In the regenerator 6, the cleaning liquid W is heated, and thereby a part of the cleaning liquid W is vaporized. The vaporized cleaning liquid W is supplied to the regenerator storage tank connection pipe 69.
And enters the storage tank 7 through the regenerator storage tank connection pipe 69. At this time, the vaporized cleaning liquid W is cooled in the regenerator storage tank connection pipe 69 and the storage tank 7 and liquefied again. As a result, the cleaning liquid W that has been distilled and regenerated is supplied into the storage tank 7.

【0051】このように洗浄液Wは、循環ラインL10
内を循環中、貯留槽7から、リンス槽8、洗浄槽3、沈
殿槽4、そしてバッファ槽5へと、オーバーフローによ
り流れることとなる。したがって、洗浄液Wの循環時に
は、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面は、沈殿槽バッファ槽
接続管47の沈殿槽接続口(またはバッファ槽接続口)
とほぼ対応・一致する。また、洗浄槽3内の洗浄液Wの
液面は、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面とほぼ対応・一致
する。また、リンス槽8内の洗浄液Wの液面は、沈殿槽
3内の洗浄液Wの液面(またはリンス槽洗浄槽接続管8
9の洗浄槽接続口)とほぼ対応・一致する。さらには、
貯留槽7内の洗浄液Wの液面は、貯留槽リンス槽接続管
79の貯留槽接続口(またはリンス槽接続口)とほぼ対
応・一致する。
As described above, the cleaning liquid W is supplied to the circulation line L10.
During the circulation, the water flows from the storage tank 7 to the rinsing tank 8, the washing tank 3, the sedimentation tank 4, and the buffer tank 5 by overflow. Therefore, when the cleaning liquid W is circulated, the level of the cleaning liquid W in the sedimentation tank 4 is set to the settling tank connection port (or the buffer tank connection port) of the settling tank buffer tank connection pipe 47.
Almost correspond and match. Further, the liquid level of the cleaning liquid W in the cleaning tank 3 substantially corresponds to and coincides with the liquid level of the cleaning liquid W in the precipitation tank 4. The level of the cleaning liquid W in the rinsing tank 8 is equal to the level of the cleaning liquid W in the precipitation tank 3 (or the level of the rinsing tank cleaning tank connection pipe 8).
9 cleaning tank connection port). Moreover,
The level of the cleaning liquid W in the storage tank 7 substantially corresponds to or coincides with the storage tank connection port (or the rinse tank connection port) of the storage tank rinse tank connection pipe 79.

【0052】次に、このように洗浄液Wが循環している
際の、ワーク(図示せず)の移動について説明する。洗
浄対象物であるワークは、まず、洗浄槽3内に入れられ
る。この洗浄槽3内で、ワークは、洗浄液Wにより洗浄
され、ワークに付いた汚れが落とされる。
Next, the movement of the work (not shown) when the cleaning liquid W is circulating will be described. The work to be cleaned is first placed in the cleaning tank 3. In the cleaning tank 3, the work is cleaned with the cleaning liquid W to remove dirt attached to the work.

【0053】洗浄槽3で洗浄が終了したワークは、洗浄
槽3内から引き上げられ、リンス槽8内に移動する。こ
のリンス槽8内で、ワークは、洗浄液Wによりリンスさ
れる。また、このとき、洗浄槽3内で完全に落としきれ
なかった汚れがワークに付着していた場合でも、かかる
汚れは、リンス槽8内の洗浄液Wにより落とされる。す
なわち、リンス槽8内で、ワークは最終洗浄が行われる
場合もある。
The work that has been cleaned in the cleaning tank 3 is lifted from the cleaning tank 3 and moves into the rinsing tank 8. In the rinsing tank 8, the work is rinsed with the cleaning liquid W. Further, at this time, even if dirt that has not been completely removed in the cleaning tank 3 adheres to the work, such dirt is removed by the cleaning liquid W in the rinsing tank 8. That is, the work may be finally cleaned in the rinsing tank 8.

【0054】リンス槽8内でリンスが終了したワーク
は、乾燥槽9内に入れられる。ワークを乾燥槽9内に入
れた後、例えば、バルブ991および981を開けるこ
とにより、蒸気状の洗浄液Wを再生器6から乾燥槽9内
に供給することができる。これにより、蒸気状の洗浄液
Wをワークに接触させて、ワークの仕上リンスを行うこ
ともできる。その後、乾燥槽9内を減圧、加熱等するこ
とにより、ワークを乾燥させる。
The work whose rinsing has been completed in the rinsing tank 8 is placed in the drying tank 9. After the work is put into the drying tank 9, for example, by opening the valves 991 and 981, the cleaning liquid W in a vapor state can be supplied from the regenerator 6 into the drying tank 9. Thus, the work rinse can be performed by bringing the vapor-like cleaning liquid W into contact with the work. Thereafter, the work is dried by reducing the pressure and heating the inside of the drying tank 9.

【0055】その後、ワークを乾燥槽9から取り出すこ
とにより、洗浄、リンス、および乾燥が施されたワーク
を得ることができる。
Thereafter, the work is taken out of the drying tank 9 to obtain a work which has been washed, rinsed and dried.

【0056】このように洗浄装置1を稼動させると、再
生器6で蒸留、再生されたきれいな洗浄液Wは、貯留槽
7→リンス槽8→洗浄槽3→沈殿槽4と流れる。これに
対し、ワークは、洗浄槽3→リンス槽8と移動する。し
たがって、ワークは、洗浄槽3で洗浄された後、リンス
槽8でよりきれいな洗浄液Wと接触することとなる。こ
のため、ワークは、洗浄槽3で洗浄された後、リンス槽
8で、さらに清浄化されることとなる。
When the cleaning apparatus 1 is operated as described above, the clean cleaning liquid W distilled and regenerated by the regenerator 6 flows from the storage tank 7 to the rinsing tank 8 to the cleaning tank 3 to the sedimentation tank 4. On the other hand, the work moves from the washing tank 3 to the rinsing tank 8. Therefore, after the work is washed in the washing tank 3, the work comes into contact with the cleaner liquid W in the rinse tank 8. For this reason, the work is further cleaned in the rinsing tank 8 after being cleaned in the cleaning tank 3.

【0057】このようなリンス槽8では、貯留槽リンス
槽接続管79がリンス槽8の上部側に、リンス槽洗浄槽
接続管89がリンス槽8の底部81近傍にそれぞれ接続
されているため、洗浄液Wは、リンス槽8の上部側から
流入し底部81側から流出することとなる。すなわち、
リンス槽8では、洗浄液Wは、基本的に上部側から底部
81側へ流れる。したがって、ワークをリンスすること
により生じた沈殿成分などは、比較的速やかに底部81
に沈殿することとなる。このため、ワークには沈殿成分
が付着しにくく、ワークは、清浄な状態が好適に保たれ
る。
In such a rinsing tank 8, the storage tank rinsing tank connecting pipe 79 is connected to the upper side of the rinsing tank 8, and the rinsing tank cleaning tank connecting pipe 89 is connected near the bottom 81 of the rinsing tank 8. The cleaning liquid W flows in from the upper side of the rinsing tank 8 and flows out from the bottom 81 side. That is,
In the rinsing tank 8, the cleaning liquid W basically flows from the upper side to the bottom 81 side. Therefore, sediment components and the like generated by rinsing the work are relatively quickly formed on the bottom 81.
Will precipitate. For this reason, the precipitation component hardly adheres to the work, and the work is preferably kept in a clean state.

【0058】また、洗浄槽3では、リンス槽洗浄槽接続
管89が洗浄槽3の上部側に、洗浄槽沈殿槽接続管39
が洗浄槽3の底部31近傍にそれぞれ接続されているた
め、洗浄液Wは、洗浄槽3の上部側から流入し底部31
側から流出することとなる。すなわち、洗浄液Wは、基
本的に洗浄槽3の上部側から底部31側へ流れることと
なる。したがって、ワークを洗浄することにより生じた
沈殿成分などは、比較的速やかに底部31に沈殿するこ
ととなる。このため、ワークには沈殿成分が付着しにく
く、ワークは、清浄な状態が好適に保たれる。
In the washing tank 3, a washing tank connecting pipe 89 is provided above the washing tank 3, and a washing tank settling tank connecting pipe 39 is provided above the washing tank 3.
Are connected to the vicinity of the bottom 31 of the cleaning tank 3, so that the cleaning liquid W flows from the upper side of the cleaning tank 3 and flows into the bottom 31.
Will flow out from the side. That is, the cleaning liquid W basically flows from the upper side of the cleaning tank 3 to the bottom 31 side. Therefore, the sediment components and the like generated by washing the work are settled on the bottom 31 relatively quickly. For this reason, the precipitation component hardly adheres to the work, and the work is preferably kept in a clean state.

【0059】さらには、洗浄槽沈殿槽接続管39の沈殿
槽接続口は、洗浄槽接続口よりも低いところに位置して
いる。このため、洗浄槽3の底部31に堆積した沈殿物
Pの一部は、洗浄液Wの流れに乗じて沈殿槽4内に、円
滑に移動する。ゆえに、洗浄装置1が稼動しているとき
に、洗浄槽3の底部に沈殿物Pが大量に溜まることが防
止される。これにより、洗浄槽3では、洗浄液Wが大幅
に汚れるのを防止することができる。
Further, the sedimentation tank connection port of the washing tank sedimentation tank connection pipe 39 is located lower than the cleaning tank connection port. Therefore, part of the precipitate P deposited on the bottom 31 of the cleaning tank 3 moves smoothly into the precipitation tank 4 by multiplying by the flow of the cleaning liquid W. Therefore, it is possible to prevent a large amount of the sediment P from collecting at the bottom of the cleaning tank 3 when the cleaning device 1 is operating. Thereby, in the cleaning tank 3, it is possible to prevent the cleaning liquid W from being significantly contaminated.

【0060】沈殿槽バッファ槽接続管471の沈殿槽接
続口は沈殿槽4の上部側に設けられているため、底部4
1近傍から沈殿槽4内に流入した洗浄液Wは、沈殿槽4
の上部側から流出することとなる。すなわち、沈殿槽4
内では、洗浄液Wは、基本的に底部41側から上部側に
移動する。この間に、洗浄液Wが含有する沈殿成分は、
好適に底部41に沈殿、堆積することとなる。そして、
沈殿槽4からは、洗浄液Wの上澄み部分が流出すること
となる。このため、バッファ槽5内には、沈殿物が好適
に除去された洗浄液Wが流入することとなる。
The settling tank connection port of the settling tank buffer tank connection pipe 471 is provided on the upper side of the settling tank 4,
The washing liquid W flowing into the sedimentation tank 4 from the vicinity of the
Will flow out from the upper side of the That is, the sedimentation tank 4
Inside, the cleaning liquid W basically moves from the bottom 41 side to the upper side. During this time, the precipitation component contained in the cleaning liquid W is:
Preferably, it will settle and deposit on the bottom 41. And
From the sedimentation tank 4, the supernatant of the cleaning liquid W flows out. For this reason, the cleaning liquid W from which the precipitate has been suitably removed flows into the buffer tank 5.

【0061】このような洗浄装置1では、沈殿槽バッフ
ァ槽接続管47のバッファ槽接続口がバッファ槽5の上
部側、特にバッファ槽5内の洗浄液Wの液面(通常時)
よりも高いところに接続されているので、バッファ槽5
内から沈殿槽4内に洗浄液Wが逆流することが好適に防
止される。
In such a washing apparatus 1, the buffer tank connection port of the sedimentation tank buffer tank connection pipe 47 is located on the upper side of the buffer tank 5, especially the liquid level of the cleaning liquid W in the buffer tank 5 (normal time).
Buffer tank 5
The backflow of the cleaning liquid W from inside into the sedimentation tank 4 is suitably prevented.

【0062】このように洗浄装置1を稼動させると、洗
浄槽3および沈殿槽4内には、沈殿物Pが堆積すること
となる。また、リンス槽8内にも、若干量であるが、沈
殿物Pが堆積することとなる。さらには、洗浄装置1の
稼動中に、バッファ槽5内にも若干量であるが沈殿物P
が生じる。このバッファ槽5内の沈殿物Pは、バッファ
槽再生器接続管59が底部51に接続され、かつバッフ
ァ槽再生器接続管59のバッファ槽接続口が再生器接続
口よりも高いところに位置しているので、稼動時(また
は始動時)の循環ラインL10の流れに乗り、バッファ
槽再生器接続管59内に流入し、バッファ槽再生器接続
管59内を移動し、再生器6内に流入する。また、再生
器6で洗浄液Wの再生処理を行うことによっても、沈殿
物Pが生じ得る。このため、再生器6内にも、若干量、
沈殿物Pが堆積する。
When the cleaning device 1 is operated as described above, the precipitate P is deposited in the cleaning tank 3 and the sedimentation tank 4. Further, a small amount of the precipitate P is also deposited in the rinsing tank 8. Further, during the operation of the cleaning device 1, the precipitate P
Occurs. The sediment P in the buffer tank 5 is located such that the buffer tank regenerator connection pipe 59 is connected to the bottom 51 and the buffer tank connection port of the buffer tank regenerator connection pipe 59 is higher than the regenerator connection port. Therefore, the vehicle rides on the flow of the circulation line L10 at the time of operation (or at the time of starting), flows into the buffer tank regenerator connection pipe 59, moves in the buffer tank regenerator connection pipe 59, and flows into the regenerator 6. I do. The precipitate P can also be generated by performing a regeneration process of the cleaning liquid W in the regenerator 6. For this reason, a small amount,
A precipitate P is deposited.

【0063】したがって、洗浄装置1を好適な状態に維
持し、円滑に稼動させるためには、沈殿物Pを各槽(洗
浄槽3、リンス槽8、および再生器6、さらには沈殿槽
4)から除去する必要がある。かかる沈殿物Pは、洗浄
装置1では、以下のようにして除去することができる。
Therefore, in order to maintain the cleaning device 1 in a suitable state and to operate it smoothly, the sediment P is stored in each of the tanks (the cleaning tank 3, the rinsing tank 8, the regenerator 6, and the sedimentation tank 4). Need to be removed from The precipitate P can be removed in the cleaning device 1 as follows.

【0064】II.沈殿物除去 以下、洗浄装置1の各槽(洗浄槽3、沈殿槽4、リンス
槽8および再生器6)内に沈殿、堆積した沈殿物Pの除
去方法について説明する。
II. Hereinafter, a method of removing the precipitate P deposited and deposited in each tank (the cleaning tank 3, the sedimentation tank 4, the rinsing tank 8, and the regenerator 6) of the cleaning device 1 will be described.

【0065】概略としては、洗浄槽3および再生器6内
に堆積した沈殿物Pを沈殿槽4内に集め、この集めた沈
殿物Pを廃液ラインL40から排出することにより、洗
浄装置1の各槽内に沈殿、堆積した沈殿物Pを排出す
る。また、リンス槽8内に堆積した沈殿物Pは、洗浄槽
3内に移動させる。この沈殿物Pは、次回の沈殿物除去
操作(次のバッチ)で、洗浄装置1内から除去されるこ
ととなる。このような沈殿物Pの各槽間の移送は、移送
元の槽内と移送先の槽内との間で圧力差を作り出す(設
ける)ことによりなされる。
In general, the sediment P deposited in the cleaning tank 3 and the regenerator 6 is collected in the sedimentation tank 4, and the collected sediment P is discharged from the waste liquid line L40, whereby each of the cleaning devices 1 The sediment P deposited in the tank is discharged. Further, the sediment P deposited in the rinsing tank 8 is moved into the cleaning tank 3. The precipitate P is removed from the inside of the cleaning device 1 in the next precipitate removal operation (next batch). Such transfer of the sediment P between the tanks is performed by creating (providing) a pressure difference between the transfer source tank and the transfer destination tank.

【0066】(1)洗浄槽3内の沈殿物Pの除去 まず、バルブ391、461以外の沈殿槽4に接続され
た配管のバルブ(バルブ471、481、491および
681)を全て閉じる。また、洗浄槽3は、開放状態
(密閉状態でない状態)にしておく。
(1) Removal of the sediment P in the washing tank 3 First, all valves (valves 471, 481, 491 and 681) of piping connected to the sedimentation tank 4 other than the valves 391 and 461 are closed. Further, the cleaning tank 3 is kept open (not closed).

【0067】次に、バルブ461(および391)を開
き、第1圧力調整手段45を作動させ、沈殿槽4上部側
の空気を配管46から排出し、沈殿槽4内の圧力を減少
させる(減圧する)。
Next, the valve 461 (and 391) is opened, the first pressure adjusting means 45 is operated, and the air above the sedimentation tank 4 is exhausted from the pipe 46 to reduce the pressure in the sedimentation tank 4 (decompression). Do).

【0068】沈殿槽4内の圧力(沈殿槽4内上部側の空
間の圧力)が減少すると、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面
が上昇する。この液面の上昇に伴い、洗浄槽3内の洗浄
液Wが、洗浄槽沈殿槽接続管39を通り、沈殿槽4内に
流入する。このとき、洗浄液Wの移動に伴って、洗浄槽
3の底部31に堆積した沈殿物Pも、沈殿槽4内に移動
する。
When the pressure in the sedimentation tank 4 (the pressure in the upper space in the sedimentation tank 4) decreases, the level of the cleaning liquid W in the sedimentation tank 4 rises. As the liquid level rises, the cleaning liquid W in the cleaning tank 3 flows into the sedimentation tank 4 through the cleaning tank sedimentation tank connection pipe 39. At this time, with the movement of the cleaning liquid W, the sediment P deposited on the bottom 31 of the cleaning tank 3 also moves into the sedimentation tank 4.

【0069】これにより、図2に示すように、洗浄槽3
内の沈殿物Pは、沈殿槽4内に移送され、洗浄槽3から
は沈殿物Pが除去される。また、洗浄槽3内の洗浄液W
の液面は、低下する。最後に、バルブ391を閉じる。
As a result, as shown in FIG.
The sediment P therein is transferred into the sedimentation tank 4, and the sediment P is removed from the washing tank 3. Further, the cleaning liquid W in the cleaning tank 3
Liquid level drops. Finally, the valve 391 is closed.

【0070】このように洗浄槽3内の沈殿物Pを除去す
る場合、沈殿物Pの量によっても若干異なるが、例え
ば、洗浄槽3内の洗浄液Wの3割以上を沈殿槽4内に移
動させると、洗浄槽3内の沈殿物Pをより効果的に除去
できる。
When the sediment P in the washing tank 3 is removed as described above, for example, 30% or more of the washing liquid W in the washing tank 3 is moved into the sediment tank 4 depending on the amount of the sediment P. Then, the precipitate P in the cleaning tank 3 can be more effectively removed.

【0071】また、洗浄槽3のように、底部31が水平
方向に対して傾斜しており、洗浄槽沈殿槽接続管39が
底部31の最深部近傍に接続されていると、洗浄槽3内
の沈殿物Pは、より効率よく除去されるようになる。こ
れは、沈殿物Pが、重力により洗浄槽3の最深部付近ま
で好適に移動し、この最深部付近から、沈殿物Pは、洗
浄槽沈殿槽接続管39内に好適に流入するようになるた
めである。さらには、洗浄槽沈殿槽接続管39の沈殿槽
接続口が洗浄槽接続口よりも低いところに位置している
と、沈殿物Pの移動効率が増大する。
When the bottom 31 is inclined with respect to the horizontal direction as in the washing tank 3 and the connecting pipe 39 for the washing tank settling tank is connected near the deepest portion of the bottom 31, Is more efficiently removed. This is because the sediment P suitably moves to the vicinity of the deepest part of the cleaning tank 3 due to gravity, and the sediment P suitably flows into the cleaning tank sedimentation tank connecting pipe 39 from the vicinity of the deepest part. That's why. Furthermore, if the settling tank connection port of the washing tank settling tank connection pipe 39 is located lower than the washing tank connection port, the transfer efficiency of the sediment P increases.

【0072】なお、洗浄槽3内の洗浄液W、沈殿物P
は、例えば、第2圧力調整手段35で洗浄槽3内を加圧
することにより、沈殿槽4内に移動させてもよい。
The cleaning liquid W and the sediment P in the cleaning tank 3
May be moved into the settling tank 4 by pressurizing the inside of the washing tank 3 with the second pressure adjusting means 35, for example.

【0073】(2)リンス槽8内の沈殿物Pの除去 まず、バルブ891、361以外の洗浄槽3に接続され
た配管のバルブ(バルブ391および491)を全て閉
じる。また、リンス槽8は、開放状態(密閉状態でない
状態)にしておく。
(2) Removal of the sediment P in the rinsing tank 8 First, all valves (valves 391 and 491) of piping connected to the cleaning tank 3 other than the valves 891 and 361 are closed. Further, the rinsing tank 8 is kept open (not closed).

【0074】次に、バルブ361(および891)を開
き、第2圧力調整手段35を作動させ、洗浄槽3上部側
の空気を配管36から排出し、洗浄槽3内の圧力を減少
させる(減圧する)。
Next, the valve 361 (and 891) is opened, the second pressure adjusting means 35 is operated, and the air on the upper side of the cleaning tank 3 is exhausted from the pipe 36 to reduce the pressure in the cleaning tank 3 (decompression). Do).

【0075】洗浄槽3内の圧力(洗浄槽3内上部側の空
間の圧力)が減少すると、リンス槽洗浄槽接続管89内
の洗浄液Wがリンス槽8内に流入する。この流入に伴
い、リンス槽8内の洗浄液Wが、リンス槽洗浄槽接続管
89内に流入し、リンス槽洗浄槽接続管89を通り、洗
浄槽3内に流入する。このとき、洗浄液Wの移動に伴っ
て、リンス槽8の底部81に堆積した沈殿物Pも、洗浄
槽3内に移動する。
When the pressure in the cleaning tank 3 (the pressure in the upper space in the cleaning tank 3) decreases, the cleaning liquid W in the rinsing tank cleaning tank connecting pipe 89 flows into the rinsing tank 8. With this inflow, the cleaning liquid W in the rinsing tank 8 flows into the rinsing tank cleaning tank connection pipe 89, and flows into the cleaning tank 3 through the rinsing tank cleaning tank connection pipe 89. At this time, with the movement of the cleaning liquid W, the sediment P deposited on the bottom 81 of the rinsing tank 8 also moves into the cleaning tank 3.

【0076】これにより、図3に示すように、リンス槽
8内の沈殿物Pは、洗浄槽3内に移送され、リンス槽8
からは沈殿物Pが除去される。また、リンス槽8内の洗
浄液Wの液面は、低下する。また、洗浄槽3内の洗浄液
Wの液面は、上昇する。最後に、バルブ891を閉じ
る。
As a result, as shown in FIG. 3, the sediment P in the rinsing tank 8 is transferred into the washing tank 3 and
Removes the precipitate P. Further, the level of the cleaning liquid W in the rinsing tank 8 decreases. The level of the cleaning liquid W in the cleaning tank 3 rises. Finally, the valve 891 is closed.

【0077】このようにリンス槽8内の沈殿物Pを除去
する場合、沈殿物Pの量によっても若干異なるが、例え
ば、リンス槽8内の洗浄液Wの1割以上を洗浄槽3内に
移動させると、リンス槽8内の沈殿物Pをより効果的に
除去できる。また、リンス槽8の底部81が水平方向に
対して傾斜しており、リンス槽洗浄槽接続管89が底部
81の最深部近傍に接続されていると、前記と同様の効
果が得られる。
When the sediment P in the rinsing tank 8 is removed as described above, for example, 10% or more of the cleaning liquid W in the rinsing tank 8 is moved into the cleaning tank 3 although it differs slightly depending on the amount of the sediment P. Then, the precipitate P in the rinsing tank 8 can be more effectively removed. When the bottom 81 of the rinsing bath 8 is inclined with respect to the horizontal direction, and the rinsing bath cleaning bath connecting pipe 89 is connected near the deepest portion of the bottom 81, the same effect as described above can be obtained.

【0078】なお、リンス槽8内の洗浄液W、沈殿物P
は、例えばリンス槽8に、同槽内の圧力を調整する手段
を付加する構成とし、この手段により、リンス槽8を加
圧することにより、洗浄槽3内に移動させても良い。
The cleaning liquid W and the sediment P in the rinsing tank 8
For example, the rinsing tank 8 may be provided with a means for adjusting the pressure in the rinsing tank 8, and the rinsing tank 8 may be moved into the cleaning tank 3 by pressurizing the rinsing tank 8 with this means.

【0079】(3)再生器6内の沈殿物Pの除去 まず、バルブ681、461以外の沈殿槽4に接続され
た配管のバルブ(バルブ471、481、491および
391)を全て閉じる。また、再生器6は、開放状態
(密閉状態でない状態)にしておく。
(3) Removal of the sediment P in the regenerator 6 First, all valves (valves 471, 481, 491 and 391) connected to the sedimentation tank 4 other than the valves 681 and 461 are closed. In addition, the regenerator 6 is kept in an open state (a state not being a closed state).

【0080】次に、バルブ461(および681)を開
き、第1圧力調整手段45を作動させ、沈殿槽4上部側
の空気を配管46から排出し、沈殿槽4内の圧力を減少
させる(減圧する)。
Next, the valve 461 (and 681) is opened, the first pressure adjusting means 45 is operated, and the air above the sedimentation tank 4 is exhausted from the pipe 46 to reduce the pressure in the sedimentation tank 4 (decompression). Do).

【0081】沈殿槽4内の圧力(沈殿槽4内上部側の空
間の圧力)が減少すると、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面
が上昇する。この液面の上昇に伴い、再生器6内の洗浄
液Wが、再生器沈殿槽接続管68を通り、沈殿槽4内に
流入する。このとき、洗浄液Wの移動に伴って、再生器
6の底部61に堆積した沈殿物Pも、沈殿槽4内に移動
する。
When the pressure in the sedimentation tank 4 (the pressure in the upper space in the sedimentation tank 4) decreases, the level of the cleaning liquid W in the sedimentation tank 4 rises. As the liquid level rises, the cleaning liquid W in the regenerator 6 flows into the sedimentation tank 4 through the regenerator sedimentation tank connection pipe 68. At this time, the sediment P deposited on the bottom 61 of the regenerator 6 also moves into the sedimentation tank 4 with the movement of the cleaning liquid W.

【0082】これにより、図4に示すように、再生器6
内の沈殿物Pは、沈殿槽4内に移送され、再生器3から
は沈殿物Pが除去される。また、再生器6内の洗浄液W
の液面は、低下する(図示の例では、再生器6内の全て
の洗浄液Wが再生器6内から流出している)。最後に、
バルブ681を閉じる。
As a result, as shown in FIG.
The sediment P is transferred into the sedimentation tank 4, and the sediment P is removed from the regenerator 3. Further, the cleaning liquid W in the regenerator 6
Is lowered (in the example shown, all the cleaning liquid W in the regenerator 6 flows out of the regenerator 6). Finally,
The valve 681 is closed.

【0083】このように再生器6内の沈殿物Pを除去す
る場合、沈殿物Pの量によっても若干異なるが、例え
ば、再生器6内の洗浄液Wの5割以上を沈殿槽4内に移
動させると、再生器6内の沈殿物Pをより効果的に除去
できる。また、再生器沈殿槽接続管68が再生器6の底
部61近傍に接続されていると、前記と同様の効果が得
られる。さらには、再生器6が沈殿槽4よりも下方に配
置されている場合、再生器沈殿槽接続管68が沈殿槽4
の底部41近傍に接続されていると、沈殿槽4の底部4
1よりも上方に接続されている状態よりも、両槽の高低
差を減らすことができるため、第1圧力調整手段45に
よる再生器6から沈殿槽4への洗浄液の流入を効率的に
行うことができる。
When the sediment P in the regenerator 6 is removed in this way, although it differs slightly depending on the amount of the sediment P, for example, 50% or more of the cleaning liquid W in the regenerator 6 is moved into the sedimentation tank 4. Then, the precipitate P in the regenerator 6 can be more effectively removed. When the regenerator sedimentation tank connection pipe 68 is connected near the bottom 61 of the regenerator 6, the same effect as described above can be obtained. Further, when the regenerator 6 is disposed below the sedimentation tank 4, the regenerator sedimentation tank connection pipe 68 is connected to the sedimentation tank 4.
Connected to the bottom 41 of the sedimentation tank 4
Since the height difference between the two tanks can be reduced as compared with the state where the cleaning liquid is connected to a position higher than 1, the flow of the cleaning liquid from the regenerator 6 to the sedimentation tank 4 by the first pressure adjusting means 45 can be performed efficiently. Can be.

【0084】(4)沈殿槽4内の沈殿物Pの除去 沈殿槽4内に沈殿物Pを集めたら、図5に示すように、
廃液ラインL40に設けられたバルブ481を開く。こ
れにより、沈殿槽4の底部41付近の洗浄液Wは、廃液
ラインL40へ流出する。このとき、洗浄液Wの流出に
伴って、底部41に堆積した沈殿物も、廃液ラインL4
0へ流出する。これにより、洗浄装置1内から、沈殿物
Pが排出される。
(4) Removal of the sediment P in the sedimentation tank 4 When the sediment P is collected in the sedimentation tank 4, as shown in FIG.
The valve 481 provided in the waste liquid line L40 is opened. Thereby, the cleaning liquid W near the bottom 41 of the settling tank 4 flows out to the waste liquid line L40. At this time, with the outflow of the cleaning liquid W, the sediment deposited on the bottom 41 is also changed to the waste liquid line L4.
Outflow to zero. Thereby, the sediment P is discharged from the inside of the cleaning device 1.

【0085】このとき、沈殿槽4内に沈殿物Pを集める
操作を行ってから、好ましくは1時間以上、より好まし
くは8時間以上経過した後、沈殿槽4内の沈殿物Pを除
去することが好ましい。これにより、洗浄液W内の沈殿
成分がより多量に底部41に沈降、堆積するようにな
り、より多量の沈殿物Pを排出できるようになる。これ
に対応して、洗浄液W中の不純物も減少する。また、廃
液ラインL40が底部41の最深部近傍に接続されてい
ると、沈殿物Pを、より効率よく排出できるようにな
る。
At this time, after the operation of collecting the sediment P in the sedimentation tank 4 is performed, it is preferable that the sediment P in the sedimentation tank 4 be removed after one hour or more, more preferably eight hours or more. Is preferred. As a result, a larger amount of the sediment component in the cleaning liquid W settles and accumulates on the bottom portion 41, so that a larger amount of the sediment P can be discharged. Correspondingly, impurities in the cleaning liquid W also decrease. When the waste liquid line L40 is connected near the deepest portion of the bottom 41, the sediment P can be discharged more efficiently.

【0086】なお、各層の沈殿物Pの移送は、上述した
順番(1)、(2)、(3)の通りに行わなくてもよ
い。ただし、洗浄槽3内の洗浄液Wを沈殿槽4内に移動
させてからリンス槽8内の沈殿物Pを洗浄槽3内に移送
させると、リンス槽8内の洗浄液Wを洗浄槽3内に十分
量容易に移動させることができるようになる。これに伴
い、リンス槽8内の沈殿物Pも、好適に洗浄槽3内に移
送できるという利点が得られる。
The transfer of the precipitate P in each layer does not have to be performed in the order (1), (2), or (3) described above. However, when the cleaning liquid W in the cleaning tank 3 is transferred to the cleaning tank 3 after the cleaning liquid W in the cleaning tank 3 is transferred to the precipitation tank 4, the cleaning liquid W in the rinsing tank 8 is transferred to the cleaning tank 3. A sufficient amount can be easily moved. Accordingly, there is obtained an advantage that the sediment P in the rinsing tank 8 can be preferably transferred to the cleaning tank 3.

【0087】III.その他 前記沈殿物除去操作を行った後、例えばバルブ491を
開くと、沈殿槽4の上部側の洗浄液Wが、洗浄槽3内に
移動する。これにより、洗浄槽3内に洗浄液Wを供給す
ることができる。かかる洗浄液Wは、洗浄液W中の沈殿
成分が沈降した上澄みであり、不純物が少ない。したが
って、かかる洗浄液Wを洗浄槽3に供給すると、ワーク
の洗浄を好適に行えるようになる。
III. Others After performing the precipitate removal operation, for example, when the valve 491 is opened, the cleaning liquid W on the upper side of the precipitation tank 4 moves into the cleaning tank 3. Thereby, the cleaning liquid W can be supplied into the cleaning tank 3. The cleaning liquid W is a supernatant in which the precipitated components in the cleaning liquid W have settled, and has few impurities. Therefore, when the cleaning liquid W is supplied to the cleaning tank 3, the work can be suitably cleaned.

【0088】なお、例えば再生器6を長期間稼動させた
場合、再生器6内で不純物(不揮発性または高沸点性不
純物)が濃縮され、洗浄液Wが多量の不純物を含有する
ようになる場合がある。この場合、例えば、再生器6内
で洗浄液Wを煮詰め、不純物を濃縮して、その後、バル
ブ108を開き、再生器6内の洗浄液Wを廃液器10内
に排出することができる。
For example, when the regenerator 6 is operated for a long period of time, impurities (non-volatile or high-boiling impurities) are concentrated in the regenerator 6, and the cleaning liquid W may contain a large amount of impurities. is there. In this case, for example, the cleaning liquid W can be boiled down in the regenerator 6 to condense impurities, and then the valve 108 is opened, and the cleaning liquid W in the regenerator 6 can be discharged into the waste liquid container 10.

【0089】このような洗浄装置1では、配管の途中
に、沈殿物を除去するフィルターを設ける必要がなくな
る。したがって、フィルターの目詰まりにより装置の稼
動に支障を来たすようなことが、好適に防止される。ま
た、このような洗浄装置1では、循環ラインL10の途
中に、ポンプを設ける必要がない。このため、配管内を
沈殿物が移動する際に、かかる沈殿物が配管途中のポン
プにダメージを与えるおそれもなくなる。
In such a washing apparatus 1, there is no need to provide a filter for removing the precipitate in the middle of the pipe. Therefore, it is possible to preferably prevent the operation of the apparatus from being hindered by clogging of the filter. Further, in such a cleaning device 1, there is no need to provide a pump in the middle of the circulation line L10. Therefore, when the sediment moves in the pipe, there is no possibility that the sediment damages the pump in the middle of the pipe.

【0090】本発明の洗浄装置1は、このような利点を
有しているので、洗浄等により多量の沈殿物が生じるよ
うなワーク、洗浄液、洗浄条件等を選択しても、円滑に
稼動することができる。
Since the cleaning apparatus 1 of the present invention has such advantages, it operates smoothly even when a work, a cleaning liquid, cleaning conditions, and the like that generate a large amount of sediment by cleaning or the like are selected. be able to.

【0091】したがって、例えば、ナフサ系、イソパラ
フィン系、ピロリドン系、テルペン系等の炭化水素系洗
浄液など、比較的沈殿物を生じさせやすい洗浄液を用い
ても、円滑に洗浄装置1を稼動させることができる。ま
た、これにより、多数のワークの洗浄を、好適に連続し
て行うことができる。
Therefore, the cleaning apparatus 1 can be operated smoothly even when a cleaning liquid that easily generates a precipitate, such as a hydrocarbon cleaning liquid such as a naphtha-based, isoparaffin-based, pyrrolidone-based, and terpene-based cleaning liquid, is used. it can. In addition, this allows a large number of workpieces to be cleaned appropriately and continuously.

【0092】そして、このような炭化水素系洗浄液を用
いると、水系洗浄液と異なり、廃水処理設備を設ける必
要がなくなる。このため、洗浄装置の設備を簡易なもの
とすることができる。また、炭化水素系洗浄液は、蒸留
再生等により洗浄液のリサイクルが容易である(前述し
た再生器6)。このため、洗浄液を繰り返し使用するこ
とができるようになり、洗浄液の有効利用を図れる。し
かも、炭化水素系洗浄液は、塩素系洗浄液等に比べて、
自然環境に対して比較的悪影響を及ぼしにくい。このよ
うな性質を炭化水素系洗浄液は有しているため、本発明
で用いる洗浄液に炭化水素系洗浄液を使用すれば、廃液
による自然環境の汚染等を防止しつつ、ワークの洗浄を
行うことができる。
When such a hydrocarbon-based cleaning solution is used, unlike a water-based cleaning solution, there is no need to provide a wastewater treatment facility. Therefore, the equipment of the cleaning device can be simplified. Further, the hydrocarbon-based cleaning liquid can be easily recycled by distillation regeneration or the like (the regenerator 6 described above). For this reason, the cleaning liquid can be used repeatedly, and effective use of the cleaning liquid can be achieved. Moreover, hydrocarbon-based cleaning liquids are more
Relatively hard to adversely affect the natural environment. Since the hydrocarbon-based cleaning liquid has such properties, if the hydrocarbon-based cleaning liquid is used as the cleaning liquid used in the present invention, the work can be cleaned while preventing the natural environment from being contaminated by the waste liquid. it can.

【0093】また、本発明の洗浄装置1を用いれば、洗
浄液に溶解しにくい汚れ(例えば研磨剤など)が多く付
着しているようなワーク(例えば時計の部品等)の洗浄
を、好適に行うことができる。
Further, by using the cleaning apparatus 1 of the present invention, it is possible to suitably clean a work (for example, a watch part or the like) to which a large amount of dirt (for example, an abrasive) that is difficult to dissolve in the cleaning liquid adheres. be able to.

【0094】なお、本発明に用いられる洗浄液には、上
述した炭化水素系洗浄液以外にも、例えば、塩素系、代
替フロン系、アルコール系、テルペン系、シリコーン系
等の他の溶剤系洗浄液も好適に用いることができる。さ
らには、本発明には、例えば、高級アルコール系、炭化
水素+界面活性剤+エーテル等の準水系洗浄液、純水、
アルカリ水溶液、界面活性剤水溶液等の水系洗浄液な
ど、溶剤系洗浄液以外のいずれの洗浄液を用いてもよ
い。
The cleaning liquid used in the present invention may be, in addition to the above-mentioned hydrocarbon cleaning liquids, other solvent-based cleaning liquids such as chlorine-based, alternative fluorocarbon-based, alcohol-based, terpene-based, and silicone-based cleaning liquids. Can be used. Further, the present invention includes, for example, higher alcohols, semi-aqueous washings such as hydrocarbons + surfactants + ethers, pure water,
Any cleaning liquid other than the solvent-based cleaning liquid, such as an aqueous cleaning liquid such as an aqueous alkaline solution or an aqueous surfactant solution, may be used.

【0095】以上、本発明を好適実施形態に基づいて説
明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例
えば、洗浄槽3、沈殿槽4、リンス槽8の底部は、傾斜
していなくてもよい。また、例えば、洗浄槽沈殿槽接続
管39、再生器沈殿槽接続管68等は、沈殿槽4の底部
41近傍に接続されていなくてもよい。また、例えば、
洗浄液は、オーバーフロー以外の他の方法により、循環
ラインL10内を、通液、循環させてもよい。
Although the present invention has been described based on the preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments. For example, the bottoms of the washing tank 3, the sedimentation tank 4, and the rinsing tank 8 need not be inclined. Further, for example, the washing tank settling tank connecting pipe 39, the regenerator settling tank connecting pipe 68, and the like do not need to be connected near the bottom 41 of the settling tank 4. Also, for example,
The cleaning liquid may be passed and circulated in the circulation line L10 by a method other than the overflow.

【0096】[0096]

【実施例】図1に示すような洗浄装置を製造した。な
お、リンス槽の容量は80L、洗浄槽の容量は80L、
沈殿槽の容量は120L、バッファ槽の容量は50L、
再生器の容量は80L、貯留槽の容量は40Lとした。
そして、この洗浄装置を用いて、以下のようにして、多
量の研磨剤が付着した腕時計部品(ワーク)に対して、
洗浄、リンス、乾燥を施した。
EXAMPLE A cleaning apparatus as shown in FIG. 1 was manufactured. The capacity of the rinsing tank was 80 L, the capacity of the washing tank was 80 L,
The capacity of the settling tank is 120L, the capacity of the buffer tank is 50L,
The capacity of the regenerator was 80 L, and the capacity of the storage tank was 40 L.
Then, using this cleaning device, a watch component (work) to which a large amount of abrasive has adhered is
Washing, rinsing and drying were performed.

【0097】まず、洗浄液を循環ライン内で循環させた
(前述参照)。洗浄液には、ソルベントナフサ系(炭化
水素系)洗浄液(昭和電工社製「ソルファインTM」)
を用いた。
First, the cleaning liquid was circulated in the circulation line (see above). Solvent naphtha-based (hydrocarbon-based) cleaning solution (Showa Denko “Solfine ™”)
Was used.

【0098】そして、前述したようにして、腕時計部品
の洗浄、リンス、乾燥を行った。このとき、1回のバッ
チで、腕時計部品を60個処理した。すなわち、腕時計
部品60個を一単位(ひとまとまり)として、腕時計部
品に対して洗浄、リンス、乾燥の操作をそれぞれ行っ
た。
Then, as described above, the watch parts were washed, rinsed and dried. At this time, 60 watch parts were processed in one batch. That is, washing, rinsing, and drying operations were performed on the wristwatch components, respectively, with 60 wristwatch components as one unit (unit).

【0099】さらには、洗浄装置を連続稼動させて、こ
のようなバッチを500回行った。すなわち、100単
位の腕時計部品を、洗浄、リンス、乾燥した。このよう
に洗浄装置を稼動させたところ、洗浄槽および沈殿槽内
に多量の沈殿物が堆積した。また、リンス槽および再生
器内に少量の沈殿物が堆積した。
Further, such a batch was performed 500 times by continuously operating the cleaning apparatus. That is, 100 units of wristwatch parts were washed, rinsed, and dried. When the cleaning apparatus was operated in this manner, a large amount of sediment was deposited in the cleaning tank and the sedimentation tank. In addition, a small amount of sediment was deposited in the rinsing tank and the regenerator.

【0100】そこで、前記(1)〜(4)で述べたよう
にしてかかる沈殿物の除去を行った。まず、沈殿槽内を
減圧にして、洗浄槽内の洗浄液を4分の3程度沈殿槽内
に移動させた。次に、洗浄槽内を減圧にして、リンス槽
内の洗浄液を半分程度洗浄槽内に移動させた。次に、沈
殿槽内を減圧にして、再生器(蒸留再生器)内の液をほ
ぼ全部沈殿槽内に移動させた。次に、この状態で8時間
洗浄装置を停止させて、沈殿槽内に沈殿物を堆積させ
た。その後、沈殿槽内に堆積した沈殿物を、廃液ライン
から排出した。
Thus, the precipitate was removed as described in the above (1) to (4). First, the inside of the settling tank was depressurized, and the washing liquid in the washing tank was moved into the settling tank by about 4. Next, the pressure in the cleaning tank was reduced, and the cleaning liquid in the rinsing tank was moved about half into the cleaning tank. Next, the pressure in the precipitation tank was reduced, and almost all the liquid in the regenerator (distillation regenerator) was moved into the precipitation tank. Next, in this state, the washing device was stopped for 8 hours, and a sediment was deposited in the sedimentation tank. Thereafter, the sediment deposited in the sedimentation tank was discharged from the waste liquid line.

【0101】その結果、沈殿物を廃液ラインから好適に
排出することができ、5kgもの沈殿物を回収できた。さ
らには、各槽の底部を肉眼により確認したところ、リン
ス槽、沈殿槽、再生器内では、沈殿物がほとんど除去さ
れていた。また、洗浄槽内でも、リンス槽から移送され
た沈殿物が少量沈殿していただけであり、洗浄により洗
浄槽内に沈殿、堆積した沈殿物は、ほとんど除去されて
いたことが確認された。
As a result, the precipitate was properly discharged from the waste liquid line, and as much as 5 kg of the precipitate was recovered. Furthermore, when the bottom of each tank was visually confirmed, the sediment was almost completely removed in the rinsing tank, the settling tank, and the regenerator. Also, in the washing tank, only a small amount of the precipitate transferred from the rinsing tank was settled, and it was confirmed that the sediment deposited and deposited in the washing tank by washing was almost completely removed.

【0102】[0102]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、装
置内の沈殿物を効率よく除去できる洗浄装置を提供する
ことができる。したがって、洗浄を行う際の洗浄液の選
択の幅が広がり、自然環境を汚染しにくい洗浄液、人体
に対する毒性が低い洗浄液等を容易に選択することがで
きるようになる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a cleaning apparatus capable of efficiently removing the sediment in the apparatus. Therefore, the range of selection of the cleaning liquid at the time of cleaning is expanded, and a cleaning liquid that does not easily pollute the natural environment, a cleaning liquid that is less toxic to the human body, and the like can be easily selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の洗浄装置の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a cleaning device of the present invention.

【図2】本発明の洗浄装置の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the cleaning device of the present invention.

【図3】本発明の洗浄装置の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an embodiment of the cleaning apparatus of the present invention.

【図4】本発明の洗浄装置の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an embodiment of the cleaning device of the present invention.

【図5】本発明の洗浄装置の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment of the cleaning device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 洗浄装置 L10 循環ライン 3 洗浄槽 31 底部 35 第2圧力調整手段 36 配管 361 バルブ 39 洗浄槽沈殿槽接続管 391 バルブ 4 沈殿槽 41 底部 45 第1圧力調整手段 46 配管 461 バルブ 47 沈殿槽バッファ槽接続管 471 バルブ 481 バルブ 49 洗浄槽沈殿槽第2接続管 491 バルブ L40 廃液ライン 5 バッファ槽 59 バッファ槽再生器接続管 591 バルブ 6 再生器 61 底部 69 再生器貯留槽接続管 691 バルブ L60 再生器沈殿槽接続ライン 68 再生器沈殿槽接続管 681 バルブ 7 貯留槽 79 貯留槽リンス槽接続管 791 バルブ 8 リンス槽 81 底部 89 リンス槽洗浄槽接続管 891 バルブ L80 リンス槽バッファ槽接続ライン 88 リンス槽バッファ槽接続管 881 バルブ L90 乾燥ライン 9 乾燥槽 98 乾燥槽貯留槽接続管 981 バルブ 99 再生器乾燥槽接続管 991 バルブ L100 第2廃液ライン 10 廃液器 109 再生器廃液器接続管 107、108 バルブ P 沈殿物 W 洗浄液 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning apparatus L10 Circulation line 3 Cleaning tank 31 Bottom 35 Second pressure adjusting means 36 Piping 361 Valve 39 Cleaning tank sedimentation tank connection pipe 391 Valve 4 Sedimentation tank 41 Bottom 45 First pressure adjusting means 46 Piping 461 Valve 47 Sedimentation tank buffer tank Connection pipe 471 Valve 481 Valve 49 Washing tank settling tank Second connection pipe 491 Valve L40 Waste liquid line 5 Buffer tank 59 Buffer tank regenerator connection pipe 591 Valve 6 Regenerator 61 Bottom 69 Regenerator storage tank connection pipe 691 Valve L60 Regenerator precipitation Tank connection line 68 Regenerator sedimentation tank connection pipe 681 Valve 7 Storage tank 79 Storage tank rinse tank connection pipe 791 Valve 8 Rinse tank 81 Bottom 89 Rinse tank cleaning tank connection pipe 891 valve L80 Rinse tank buffer tank connection line 88 Rinse tank buffer tank Connection pipe 881 Valve L 0 drying line 9 drying chamber 98 drying chamber reservoir connection pipe 981 the valve 99 regenerator drying chamber connecting tube 991 valve L100 second waste line 10 waste 109 regenerator effluent vessel connecting tube 107, 108 valve P precipitates W washing liquid

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年3月19日(2001.3.1
9)
[Submission date] March 19, 2001 (2001.3.1.
9)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0008[Correction target item name] 0008

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的は下記
(1)〜(16)の本発明により達成される。
This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (16).

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】(1)本発明の洗浄装置は、洗浄液でワー
クを洗浄する洗浄槽と、該洗浄槽に通液可能に接続さ
れ、洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿さ
せる沈殿槽と、前記沈殿槽内の圧力を調整する第1圧力
調整手段とを有し、前記第1圧力調整手段により、前記
沈殿槽内部の圧力が減少されて、前記沈殿槽内部と前記
洗浄槽内部との間で圧力差が生じて、前記洗浄槽内の前
記洗浄液が前記沈殿槽内に流入し、前記洗浄液の移動に
伴って、前記洗浄槽内の沈殿物も、前記沈殿槽内に移動
することを特徴とする。
(1) A cleaning apparatus according to the present invention includes a cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, and a sedimentation tank connected to the cleaning tank so as to be able to pass therethrough and for precipitating a sediment component contained in the cleaning liquid used for cleaning. And first pressure adjusting means for adjusting the pressure in the sedimentation tank, wherein the pressure in the sedimentation tank is reduced by the first pressure adjustment means, and the inside of the sedimentation tank and the inside of the washing tank are reduced. A pressure difference occurs between the cleaning tank and the cleaning liquid in the cleaning tank flows into the sedimentation tank, and with the movement of the cleaning liquid, the sediment in the cleaning tank also moves into the sedimentation tank. It is characterized by.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0010[Correction target item name] 0010

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0010】(2)また、本発明の洗浄装置は、前記洗
浄槽に通液可能に接続され、前記洗浄槽で洗浄されたワ
ークをリンスするリンス槽を有し、前記洗浄槽内の圧力
を調整する第2圧力調整手段とを有し、前記第2圧力調
整手段により、前記洗浄槽内部の圧力が減少されて、前
記洗浄槽内部と前記リンス槽内部との間で圧力差が生じ
て、前記リンス槽内の洗浄液が、前記洗浄槽内に流入
し、前記洗浄液の移動に伴って、前記リンス槽底部の沈
殿物も、前記洗浄槽内に移動することを特徴とする。
(2) Further, the cleaning apparatus of the present invention has a rinsing tank connected to the cleaning tank so as to be able to pass the liquid, and rinsing the work cleaned in the cleaning tank. A second pressure adjusting means for adjusting, the pressure inside the cleaning tank is reduced by the second pressure adjusting means, and a pressure difference is generated between the inside of the cleaning tank and the inside of the rinsing tank, The cleaning liquid in the rinsing tank flows into the cleaning tank, and as the cleaning liquid moves, the sediment at the bottom of the rinsing tank also moves into the cleaning tank.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0011】(3)さらに、本発明の洗浄装置は、前記
リンス槽の底部近傍は、配管で前記洗浄槽の上部側に接
続されていることを特徴とする。
(3) Further, the cleaning apparatus of the present invention is characterized in that the vicinity of the bottom of the rinsing tank is connected to the upper side of the cleaning tank by a pipe.

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0012[Correction target item name] 0012

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0012】(4)また、本発明の洗浄装置は、前記沈
殿槽に通液可能に接続され、前記洗浄液を再生する再生
器を有することを特徴とする。
(4) Further, the cleaning apparatus of the present invention is characterized in that it has a regenerator connected to the settling tank so as to be able to pass the liquid and regenerating the cleaning liquid.

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0013[Correction target item name] 0013

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0013】(5)本発明の洗浄装置は、前記再生器
は、配管で前記沈殿槽の底部近傍に接続されていること
を特徴とする。
(5) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that the regenerator is connected to the vicinity of the bottom of the settling tank by a pipe.

【手続補正8】[Procedure amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0014】(6)本発明の洗浄装置は、前記沈殿槽に
通液可能に接続され、前記洗浄液を一時的に貯留するバ
ッファ槽を有することを特徴とする。
(6) The washing apparatus of the present invention is characterized in that it has a buffer tank which is connected to the settling tank so as to be able to pass through and temporarily stores the washing liquid.

【手続補正9】[Procedure amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Correction target item name] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0015】(7)本発明の洗浄装置は、洗浄液でワー
クを洗浄する洗浄槽と、洗浄に供された洗浄液が含有す
る沈殿成分を沈殿させる沈殿槽と、前記洗浄液を一時的
に貯留するバッファ槽と、前記洗浄液を再生する再生器
と、前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス
槽とを有する循環ラインと、前記再生器と前記沈殿槽と
を接続するラインとを有することを特徴とする。
(7) The cleaning apparatus of the present invention comprises a cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, a precipitation tank for precipitating a sediment component contained in the cleaning liquid used for cleaning, and a buffer for temporarily storing the cleaning liquid. A circulating line having a tank, a regenerator for regenerating the cleaning liquid, a rinsing tank for rinsing the work cleaned in the cleaning tank, and a line connecting the regenerator and the sedimentation tank. And

【手続補正10】[Procedure amendment 10]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0016】(8)本発明の洗浄装置は、洗浄液でワー
クを洗浄する洗浄槽と、洗浄に供された洗浄液が含有す
る沈殿成分を沈殿させる沈殿槽と、前記洗浄液を一時的
に貯留するバッファ槽と、前記洗浄液を再生する再生器
と、前記再生器で再生された洗浄液を貯留する貯留槽
と、前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス
槽とを有する循環ラインと、前記再生器と前記沈殿槽と
を接続するラインとを有することを特徴とする。
(8) The cleaning apparatus of the present invention includes a cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, a precipitation tank for precipitating a precipitation component contained in the cleaning liquid used for cleaning, and a buffer for temporarily storing the cleaning liquid. A circulation line having a tank, a regenerator for regenerating the cleaning liquid, a storage tank for storing the cleaning liquid regenerated by the regenerator, and a rinse tank for rinsing the work cleaned in the cleaning tank; and the regenerator. And a line connecting the sedimentation tank.

【手続補正11】[Procedure amendment 11]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0017】(9)本発明の洗浄装置は、前記リンス槽
の底部近傍が、配管で前記洗浄槽の上部側に接続されて
いることを特徴とする。
(9) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that a portion near the bottom of the rinsing tank is connected to an upper side of the cleaning tank by a pipe.

【手続補正12】[Procedure amendment 12]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0018】(10)本発明の洗浄装置は、前記再生器
と前記沈殿槽とを接続するラインは、前記沈殿槽の底部
近傍に接続されていることを特徴とする。
(10) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that a line connecting the regenerator and the settling tank is connected near a bottom of the settling tank.

【手続補正13】[Procedure amendment 13]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0019[Correction target item name] 0019

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0019】(11)本発明の洗浄装置は、前記ワーク
の洗浄時に、前記洗浄液は、前記リンス槽、前記洗浄
槽、前記沈殿槽の順に流れることを特徴とする。
(11) The cleaning apparatus of the present invention is characterized in that, when cleaning the work, the cleaning liquid flows in the order of the rinsing tank, the cleaning tank, and the sedimentation tank.

【手続補正14】[Procedure amendment 14]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0020[Correction target item name] 0020

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0020】(12)本発明の洗浄装置は、前記ワーク
の洗浄時に、前記ワークは、前記洗浄槽、前記リンス槽
の順に移動することを特徴とする。
(12) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that when cleaning the work, the work moves in the order of the cleaning tank and the rinsing tank.

【手続補正15】[Procedure amendment 15]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0021[Correction target item name] 0021

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0021】(13)本発明の洗浄装置は、前記ワーク
の洗浄時に、前記ワークは、前記洗浄槽、前記リンス槽
の順に移動することを特徴とする。
(13) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that when cleaning the work, the work moves in the order of the cleaning tank and the rinsing tank.

【手続補正16】[Procedure amendment 16]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0022[Correction target item name] 0022

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0022】(14)本発明の洗浄装置は、前記沈殿槽
の底部近傍が、配管で前記洗浄槽の底部近傍に接続され
ていることを特徴とする。
(14) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that the vicinity of the bottom of the settling tank is connected to the vicinity of the bottom of the washing tank by piping.

【手続補正17】[Procedure amendment 17]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Correction target item name] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0023】(15)本発明の洗浄装置は、前記洗浄液
は、炭化水素系であることを特徴とする。
(15) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that the cleaning liquid is of a hydrocarbon type.

【手続補正18】[Procedure amendment 18]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0024】(16)本発明の洗浄装置は、前記沈殿
槽、前記洗浄槽、前記リンス槽のうちの少なくとも1つ
は、底部が、水平方向に対して傾斜していることを特徴
とする。
(16) The cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that at least one of the sedimentation tank, the cleaning tank, and the rinsing tank has a bottom inclined with respect to a horizontal direction.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、 該洗浄槽に通液可能に接続され、洗浄に供された洗浄液
が含有する沈殿成分を沈殿させる沈殿槽とを有すること
を特徴とする洗浄装置。
1. A cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, and a sedimentation tank connected to the cleaning tank so as to be able to pass therethrough and for precipitating a precipitation component contained in the cleaning liquid used for cleaning. Cleaning equipment.
【請求項2】 前記洗浄槽に通液可能に接続され、前記
洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス槽を有す
る請求項1に記載の洗浄装置。
2. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a rinsing tank connected to the cleaning tank so as to be able to pass the liquid, and rinsing the work cleaned in the cleaning tank.
【請求項3】 前記リンス槽の底部近傍は、配管で前記
洗浄槽の上部側に接続されている請求項2に記載の洗浄
装置。
3. The cleaning apparatus according to claim 2, wherein a portion near the bottom of the rinsing tank is connected to an upper side of the cleaning tank by a pipe.
【請求項4】 前記沈殿槽に通液可能に接続され、前記
洗浄液を再生する再生器を有する請求項1ないし3のい
ずれかに記載の洗浄装置。
4. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a regenerator connected to the sedimentation tank so as to be able to pass the liquid and regenerating the cleaning liquid.
【請求項5】 前記再生器は、配管で前記沈殿槽の底部
近傍に接続されている請求項4に記載の洗浄装置。
5. The cleaning apparatus according to claim 4, wherein the regenerator is connected to a vicinity of a bottom of the settling tank by a pipe.
【請求項6】 前記沈殿槽に通液可能に接続され、前記
洗浄液を一時的に貯留するバッファ槽を有する請求項1
ないし5のいずれかに記載の洗浄装置。
6. A buffer tank, which is connected to the settling tank so as to be able to pass therethrough and temporarily stores the washing liquid.
The cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein
【請求項7】 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、 洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる
沈殿槽と、 前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ槽と、 前記洗浄液を再生する再生器と、 前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス槽と
を有する循環ラインと、 前記再生器と前記沈殿槽とを接続するラインとを有する
ことを特徴とする洗浄装置。
7. A cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, a precipitation tank for precipitating a precipitation component contained in the cleaning liquid used for cleaning, a buffer tank for temporarily storing the cleaning liquid, and regenerating the cleaning liquid. A cleaning apparatus, comprising: a recycler; a circulation line having a rinse tank for rinsing the work cleaned in the cleaning tank; and a line connecting the regenerator and the sedimentation tank.
【請求項8】 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、 洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる
沈殿槽と、 前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ槽と、 前記洗浄液を再生する再生器と、 前記再生器で再生された洗浄液を貯留する貯留槽と、 前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス槽と
を有する循環ラインと、 前記再生器と前記沈殿槽とを接続するラインとを有する
ことを特徴とする洗浄装置。
8. A cleaning tank for cleaning a workpiece with a cleaning liquid, a precipitation tank for precipitating a sediment component contained in the cleaning liquid used for cleaning, a buffer tank for temporarily storing the cleaning liquid, and regenerating the cleaning liquid. Connecting a regenerator, a storage tank for storing the cleaning liquid regenerated by the regenerator, a rinsing tank for rinsing the work cleaned in the cleaning tank, and the regenerator and the sedimentation tank A cleaning device comprising a line.
【請求項9】 前記リンス槽の底部近傍が、配管で前記
洗浄槽の上部側に接続されている請求項7または8に記
載の洗浄装置。
9. The cleaning apparatus according to claim 7, wherein a portion near the bottom of the rinsing tank is connected to an upper side of the cleaning tank by a pipe.
【請求項10】 前記再生器と前記沈殿槽とを接続する
ラインは、前記沈殿槽の底部近傍に接続されている請求
項7ないし9のいずれかに記載の洗浄装置。
10. The cleaning apparatus according to claim 7, wherein a line connecting the regenerator and the settling tank is connected near a bottom of the settling tank.
【請求項11】 前記ワークの洗浄時に、前記洗浄液
は、 前記リンス槽、前記洗浄槽、前記沈殿槽の順に流れる請
求項7ないし10のいずれかに記載の洗浄装置。
11. The cleaning apparatus according to claim 7, wherein at the time of cleaning the work, the cleaning liquid flows in the order of the rinsing tank, the cleaning tank, and the sedimentation tank.
【請求項12】 前記ワークの洗浄時に、前記ワーク
は、 前記洗浄槽、前記リンス槽の順に移動する請求項7ない
し11のいずれかに記載の洗浄装置。
12. The cleaning apparatus according to claim 7, wherein at the time of cleaning the work, the work moves in the order of the cleaning tank and the rinsing tank.
【請求項13】 前記バッファ槽は、配管で前記沈殿槽
の上部側に接続されている請求項6ないし12のいずれ
かに記載の洗浄装置。
13. The cleaning apparatus according to claim 6, wherein the buffer tank is connected to an upper side of the settling tank by a pipe.
【請求項14】 前記沈殿槽の底部近傍が、配管で前記
洗浄槽の底部近傍に接続されている請求項1ないし13
のいずれかに記載の洗浄装置。
14. The washing tank according to claim 1, wherein the vicinity of the bottom of said settling tank is connected to the vicinity of the bottom of said washing tank by piping.
The cleaning device according to any one of the above.
【請求項15】 前記沈殿槽内および/または前記洗浄
槽内の圧力を調整する圧力調整手段を有する請求項1な
いし14のいずれかに記載の洗浄装置。
15. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising pressure adjusting means for adjusting the pressure in the settling tank and / or the cleaning tank.
【請求項16】 前記沈殿槽、前記洗浄槽、前記リンス
槽のうちの少なくとも1つは、底部が、水平方向に対し
て傾斜している請求項1ないし15のいずれかに記載の
洗浄装置。
16. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein at least one of the settling tank, the cleaning tank, and the rinsing tank has a bottom inclined with respect to a horizontal direction.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100963950B1 (en) * 2009-09-15 2010-06-17 (주)범용테크놀러지 Cleaning system

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