JP2001163877A - (thio)epoxy compound removed from high molecular material and its purifying method - Google Patents

(thio)epoxy compound removed from high molecular material and its purifying method

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the stability with time of a (thio)epoxy compound, capable of giving an optical resin excellent in physical properties and having a very high refractivity. SOLUTION: This method for obtaining a (thio)epoxy compound having an improved stability with time is provided by mixing and agitating an inert hydrocarbon-based solvent with the (thio)epoxy compound having >=1 structures expressed by the following formula (1), wherein, R1, R2, R3 are each a 1-10C hydrocarbon group or H; and X is O or S or (2), wherein, R4, R5, R6 are each a 1-10C hydrocarbon group or H; R7 is a 1-10C divalent hydrocarbon group; and X is O or S) in its molecule, separating it to the hydrocarbon-based solvent layer and the high molecular weight material layer after standing still, removing the high molecular weight material layer and then distilling off the solvent from the hydrocarbon-based solvent layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高い屈折率および
高い透明性が要求されるプラスチックレンズ、プリズ
ム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、発光ダ
イオード等の光学材料等の樹脂分野に好適に使用される
重合性組成物、特に眼鏡用プラスチックレンズの原料と
して好適に使用される(チオ)エポキシ化合物及びその
精製方法に関する。
The present invention is suitably used in the resin field of optical materials such as plastic lenses, prisms, optical fibers, information recording substrates, filters, light emitting diodes, etc., which require high refractive index and high transparency. The present invention relates to a (thio) epoxy compound suitably used as a raw material for a polymerizable composition, particularly a plastic lens for spectacles, and a method for purifying the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチックレンズは、無機レンズに比
べ、軽量で割れにくく、染色が可能なため、近年、眼鏡
レンズ、カメラレンズ等の光学素子に急速に普及してき
ている。これらのプラスチックレンズに要求され続けて
いる性能は光学性能としては高屈折率、高アッべ数、物
理的性質としては高耐熱性、低比重である。
2. Description of the Related Art Plastic lenses are light weight, hard to break, and can be dyed compared to inorganic lenses. Therefore, plastic lenses have recently been rapidly used in optical elements such as spectacle lenses and camera lenses. The performances required of these plastic lenses are high refractive index and high Abbe number as optical performance, high heat resistance and low specific gravity as physical properties.

【0003】これらの性能の内、高耐熱性、低比重につ
いては現在の高屈折率プラスチックレンズでも高いレベ
ルで実現されてきている。現在、これらの目的に広く用
いられる樹脂としては、ジエチレングリコールビス(ア
リルカーボネート)(以下、D.A.Cと称す)をラジ
カル重合させたものがある。この樹脂は、耐衝撃性に優
れていること、軽量であること、染色性に優れているこ
と、切削性および研磨性等の加工性が良好であること
等、種々の特長を有している。しかしながら、この樹脂
は、屈折率ndが1.50前後と低く、レンズの中心厚
やコバ厚が厚くなってしまい、より屈折率の高いレンズ
用樹脂が望まれていた。
[0003] Among these performances, high heat resistance and low specific gravity have been realized at a high level even with current high refractive index plastic lenses. At present, as a resin widely used for these purposes, there is a resin obtained by radical polymerization of diethylene glycol bis (allyl carbonate) (hereinafter, referred to as DAC). This resin has various features, such as being excellent in impact resistance, being lightweight, being excellent in dyeability, being excellent in workability such as cutting property and polishing property, and the like. . However, this resin has a refractive index nd as low as about 1.50, and the center thickness and the edge thickness of the lens are increased. Therefore, a lens resin having a higher refractive index has been desired.

【0004】D.A.C樹脂よりも屈折率を高くしたも
のとして、樹脂中に硫黄原子を導入した、ポリウレタン
樹脂(特開昭63−46213号公報等)や含硫O-
(メタ)アクリレ-ト樹脂(特開平1−128966号
公報、特開平3−217412号公報、特開平4−16
1410号公報等)やチオ(メタ)アクリレ-ト樹脂
(特開昭63−188660号公報、特開平3−590
60号公報等)が知られている。ポリチオウレタン樹脂
は、高屈折率で耐衝撃性が良好である等、バランスの優
れた樹脂である。
D. A. As a resin having a higher refractive index than the C resin, a polyurethane resin (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-46213) or a sulfur-containing O-
(Meth) acrylate resin (JP-A-1-128966, JP-A-3-217412, JP-A-4-16)
No. 1410) and thio (meth) acrylate resins (JP-A-63-188660, JP-A-3-590).
No. 60 publication) is known. The polythiourethane resin is a resin having an excellent balance, such as a high refractive index and good impact resistance.

【0005】しかしながら、屈折率とアッベ数に関して
屈折率が上昇するほどアッベ数が低くなると言った相反
する物性であるため両方を同時に向上させることは非常
に困難である。そこで、アッベ数の低下を抑えながら、
高屈折率化を行う検討が盛んに行われている。
However, it is very difficult to improve both the refractive index and the Abbe number at the same time because they have conflicting physical properties such that the Abbe number decreases as the refractive index increases. Therefore, while suppressing the decrease in Abbe number,
Investigations to increase the refractive index have been actively conducted.

【0006】これらの検討の中で最も代表的な提案は、
WO−89/10575、特開平9−110979号公
報及び、特開平9−71580号公報及び、特開平9−
255781号公報及び、特開平11−183702号
公報及び、特開平11−189592号公報及び、特願
平11−068448公報で(チオ)エポキシ化合物を
使用する方法である。
The most typical proposal in these studies is:
WO-89 / 10575, JP-A-9-111079, JP-A-9-71580, and JP-A-9-105580
This is a method in which a (thio) epoxy compound is used in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2557581, 11-183702, 11-189592, and 11-068448.

【0007】ところで、これらに開示された方法で製造
した(チオ)エポキシ化合物は、自己重合して経時的劣
化を起こす場合があり、長期保存することが困難になる
場合がある。また経時的劣化を起こした時は増粘して粘
度が高くなり、作業性が著しく低下する場合がある。例
えばプラスチックレンズの場合、一般に常温での粘度が
100Pa・s以下でなければ、モノマーの成形モール
ドへの注入作業に支障をきたすと言われている。(チ
オ)エポキシ化合物は高屈折率、低比重、透明性が要求
されるプラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、
情報記録基板、フィルター、発光ダイオード等の光学材
料等の樹脂分野に大きく期待されている(チオ)エポキ
シ硬化樹脂の原料であるため、経時的劣化の問題を早急
に解決する必要があった。
[0007] Incidentally, the (thio) epoxy compounds produced by the methods disclosed therein may self-polymerize and cause deterioration over time, which may make it difficult to store them for a long period of time. Further, when deterioration occurs with time, the viscosity increases and the viscosity increases, and the workability may be significantly reduced. For example, in the case of a plastic lens, it is generally said that if the viscosity at room temperature is not less than 100 Pa · s, the operation of injecting a monomer into a molding mold will be hindered. (Thio) epoxy compounds are required to have high refractive index, low specific gravity and transparency, plastic lenses, prisms, optical fibers,
Since it is a raw material of (thio) epoxy-cured resin which is greatly expected in the field of resins such as information recording substrates, filters, and optical materials such as light-emitting diodes, it was necessary to immediately resolve the problem of deterioration over time.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の光学物
性に優れ、非常に高い屈折率を有する光学用樹脂を与え
る(チオ)エポキシ化合物の経時的安定性を向上させる
ことを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the temporal stability of a (thio) epoxy compound which gives an optical resin having excellent optical properties and a very high refractive index. It is.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を行ってきた。その結果、(チオ)
エポキシ化合物中に存在する、当該化合物の高分子量化
した不純物が(チオ)エポキシ化合物の経時的劣化を引
き起こし、その安定性を損なう原因となっていることを
見出し、さらに(チオ)エポキシ化合物を炭化水素系の
溶媒で抽出することにより、(チオ)エポキシ化合物か
ら当該高分子量化不純物を除去できることを見出し、本
発明に至った。
The present inventors have intensively studied to solve the above-mentioned problems. As a result, (thio)
It has been found that the impurities present in the epoxy compound, which have a high molecular weight, cause deterioration of the (thio) epoxy compound with time and impair its stability. The inventors have found that by extracting with a hydrogen-based solvent, the high molecular weight impurities can be removed from the (thio) epoxy compound, and the present invention has been accomplished.

【0010】即ち、本発明は1分子内に下記式(1)又
は(2)
That is, the present invention provides the following formula (1) or (2) in one molecule.

【0011】[0011]

【化7】 Embedded image

【0012】(式中、R1、R2、R3、はそれぞれ炭素
数1〜10の炭化水素基または水素原子を示し、Xは酸
素原子または硫黄原子を示す。)
(Wherein, R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom.)

【0013】[0013]

【化8】 Embedded image

【0014】(式中、R4、R5、R6、はそれぞれ炭素
数1〜10の炭化水素基または水素原子、R7は炭素数
1〜10の2価の炭化水素基を示し、Xは酸素原子また
は硫黄原子を示す。)で示される構造を1個以上有する
(チオ)エポキシ化合物であって、該(チオ)エポキシ
化合物由来の高分子量化物の含有量が20質量%以下で
あることを特徴とする(チオ)エポキシ化合物、前記式
(1)又は(2)で示される構造を1個以上有する(チ
オ)エポキシ化合物を炭化水素類系の溶媒で抽出するこ
とにより、高分子量化物を取り除くことを特徴とする
(チオ)エポキシ化合物の精製方法及び、前記(チオ)
エポキシ化合物が下記式(3)で表される化合物である
上記記載の(チオ)エポキシ化合物、その精製方法に関
するものである。
(Wherein R 4 , R 5 and R 6 each represent a hydrocarbon group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, R 7 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms; Represents an oxygen atom or a sulfur atom.) (Thio) epoxy compound having at least one structure represented by the formula: wherein the content of the high molecular weight compound derived from the (thio) epoxy compound is 20% by mass or less. By extracting a (thio) epoxy compound, a (thio) epoxy compound having at least one structure represented by the above formula (1) or (2) with a hydrocarbon-based solvent, a high molecular weight compound is obtained. A method for purifying a (thio) epoxy compound, characterized in that the compound is removed.
The present invention relates to the above-mentioned (thio) epoxy compound, wherein the epoxy compound is a compound represented by the following formula (3), and a purification method thereof.

【0015】[0015]

【化9】 (式中、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。)Embedded image (In the formula, X represents an oxygen atom or a sulfur atom.)

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0017】本発明でいう「高分子量化物」とは、本発
明の(チオ)エポキシ化合物由来の高分子量化物であ
り、(チオ)エポキシ化合物の構造により一概には言え
ないが、例えば、次のような方法で規定できる。つま
り、まず、得られた(チオ)エポキシ化合物を以下の液
体クロマトグラフィーの分析条件で測定する。次に、目
的の(チオ)エポキシ化合物のピークを特定した後、内
標法により純度を算出する。その他のピークは目的の
(チオ)エポキシ化合物以外の低分子量の副生物であ
る。従って、その他ピークとして検出できない全ての残
分が本発明でいう「高分子量化物」に対応する。
The "high molecular weight compound" in the present invention is a high molecular weight compound derived from the (thio) epoxy compound of the present invention, and cannot be said unconditionally depending on the structure of the (thio) epoxy compound. It can be defined in such a manner. That is, first, the obtained (thio) epoxy compound is measured under the following liquid chromatography analysis conditions. Next, after identifying the peak of the target (thio) epoxy compound, the purity is calculated by the internal standard method. Other peaks are low molecular weight by-products other than the desired (thio) epoxy compound. Therefore, all other residues that cannot be detected as peaks correspond to “high molecular weight compounds” in the present invention.

【0018】分析条件 ・HPLCポンプ:島津「LC−10AD」 ・検出器:島津「SPD−10A」 UV−254nm ・オーブン:島津「CTO−10A」 40℃ ・カラム:YMC 「A−312 S−5 ODS」 ・溶離液:アセトニトリル−水混合溶媒 ・流速:1ml/分 ・分析試料:(チオ)エポキシ化合物(約40mg)+
フタル酸ジイソブチル(約30mg、内標用)/アセト
ニトリル(5ml)
Analysis conditions ・ HPLC pump: Shimadzu “LC-10AD” ・ Detector: Shimadzu “SPD-10A” UV-254 nm ・ Oven: Shimadzu “CTO-10A” 40 ° C. ・ Column: YMC “A-312 S-5” ODS "・ Eluent: acetonitrile-water mixed solvent ・ Flow rate: 1 ml / min ・ Analytical sample: (thio) epoxy compound (about 40 mg) +
Diisobutyl phthalate (about 30 mg, for internal standard) / acetonitrile (5 ml)

【0019】本発明で(チオ)エポキシ化合物を抽出す
るために用いられる炭化水素系の溶媒としては、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、n−ヘプタン、
n−オクタン、イソオクタン、n−ノナン、n−デカ
ン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、シクロオクタンなどの脂肪族炭化水素化合物、また
はベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジ
エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ナフタリン、
テトラリン、ビフェニルなどの芳香族炭化水素化合物、
または塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化
エチレン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ペ
ンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ジクロロエチ
レン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジ
クロロプロパン、トリクロロプロパン、塩化イソプロピ
ル、塩化ブチル、塩化ヘキシル、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロトルエン、
クロロナフタリンなどのハロゲン化炭化水素化合物など
である。
The hydrocarbon solvent used for extracting the (thio) epoxy compound in the present invention includes n-pentane, n-hexane, isohexane, n-heptane,
aliphatic hydrocarbon compounds such as n-octane, isooctane, n-nonane, n-decane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, or benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, isopropylbenzene, naphthalene,
Aromatic hydrocarbon compounds such as tetralin and biphenyl,
Or methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, ethylene chloride, trichloroethane, tetrachloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, dichloroethylene, trichloroethylene, tetrachloroethylene, dichloropropane, trichloropropane, isopropyl chloride, butyl chloride, hexyl chloride, chlorobenzene, dichlorobenzene, Trichlorobenzene, chlorotoluene,
Halogenated hydrocarbon compounds such as chloronaphthalene.

【0020】(チオ)エポキシ化合物の構造により一概
には言えないが、これら溶媒は単独でも2種類以上を混
合しても使用することができる。単独で用いられるもの
中で好ましいものは脂肪族炭化水素化合物であり、より
好ましいのはシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
ヘプタンなどが挙げられる。2種類以上を混合して用い
られるものの中で好ましいものは、脂肪族炭化水素化合
物に芳香族炭化水素化合物或いはハロゲン化炭化水素化
合物を混合したものである。
Although it cannot be said unconditionally depending on the structure of the (thio) epoxy compound, these solvents can be used alone or in combination of two or more. Among those used alone, preferred are aliphatic hydrocarbon compounds, and more preferred are cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and the like. Among the compounds used in combination of two or more, a compound obtained by mixing an aromatic hydrocarbon compound or a halogenated hydrocarbon compound with an aliphatic hydrocarbon compound is preferable.

【0021】使用する炭化水素系の溶媒の量は、(チ
オ)エポキシ化合物の総重量に対して、0.1〜100
倍の重量比の範囲で用いられ、好ましくは0.5〜20
倍の重量比の範囲で用いられる。0.1倍以下の重量比
の範囲においては、(チオ)エポキシ化合物の抽出効率
が悪く、また100倍以上の範囲においては作業性、経
済性が悪い。
The amount of the hydrocarbon solvent to be used is 0.1 to 100 with respect to the total weight of the (thio) epoxy compound.
It is used in the range of twice the weight ratio, preferably 0.5 to 20 times.
It is used in the range of twice the weight ratio. When the weight ratio is 0.1 times or less, the extraction efficiency of the (thio) epoxy compound is poor. When the weight ratio is 100 times or more, workability and economy are poor.

【0022】炭化水素系の溶媒を用いて高分子量化物を
取り除く精製方法としては以下の方法が挙げられる。
(チオ)エポキシ化合物に上記記載の炭化水素系の溶媒
を混合し撹拌する。撹拌温度は−20℃〜50℃であ
り、好ましくは10℃〜30℃である。−20℃以下の
範囲においては(チオ)エポキシ化合物の抽出効率が悪
く、50℃以上の範囲においては(チオ)エポキシ化合
物の劣化が促進され、収率及び純度が低下する場合があ
る。撹拌時間は温度、化合物の組成、不純物等の様々な
要因により異なるが、約1分〜24時間である。静置
後、炭化水素系の溶媒層と高分子量化物の層に分液し、
高分子量化物の層を除去する。炭化水素系の溶媒層から
溶媒を留去することにより、安定性がより向上した(チ
オ)エポキシ化合物が得られる。
As a purification method for removing high molecular weight compounds using a hydrocarbon-based solvent, the following method can be mentioned.
The hydrocarbon solvent described above is mixed with the (thio) epoxy compound and stirred. The stirring temperature is from -20C to 50C, preferably from 10C to 30C. In the range of −20 ° C. or lower, the extraction efficiency of the (thio) epoxy compound is poor, and in the range of 50 ° C. or higher, the deterioration of the (thio) epoxy compound is promoted, and the yield and the purity may decrease. The stirring time varies depending on various factors such as temperature, compound composition, impurities and the like, but is about 1 minute to 24 hours. After standing, liquid is separated into a hydrocarbon solvent layer and a high molecular weight compound layer,
The layer of high molecular weight compound is removed. By distilling off the solvent from the hydrocarbon solvent layer, a (thio) epoxy compound with further improved stability can be obtained.

【0023】本発明によって精製した(チオ)エポキシ
化合物は、光学物性に優れ、非常に高い屈折率を有する
光学用樹脂を与える。その(チオ)エポキシ化合物とし
ては、例えばビス(β−エピチオプロピル)スルフィ
ド、ビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィド、ビス
(β−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス
(β−エピチオプロピルチオ)エタン、1,2−ビス
(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,3−ビス
(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,3−ビス
(β−エピチオプロピルチオ)−2−メチルプロパン、
1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ブタン、
1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2−メチ
ルブタン、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオ)
ブタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ペ
ンタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−
2−メチルペンタン、1,5−ビス(β−エピチオプロ
ピルチオ)−3−チアペンタン、1,6−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)ヘキサン、1,6−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)−2−メチルヘキサン、3,8−
ビス(β−エピチオプロピルチオ)−3,6−ジチアオ
クタン、1,2,3−トリス(β−エピチオプロピルチ
オ)プロパン、2,2−ビス(β−エピチオプロピルチ
オ)−1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)プロパン、2,2−ビス(β−エピチオプロピルチ
オメチル)−1−(β−エピチオプロピルチオ)ブタ
ン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2−
(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタ
ン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,
4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チ
アペンタン、1−(β−エピチオプロピルチオ)−2,
2−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−4−チ
アヘキサン、1,5,6−トリス(β−エピチオプロピ
ルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチル)−
3−チアヘキサン、1,8−ビス(β−エピチオプロピ
ルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチル)−
3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオ
プロピルチオ)−4,5−ビス(β−エピチオプロピル
チオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス
(β−エピチオプロピルチオ)−4,4−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタ
ン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,
5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6
−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピ
ルチオ)−2,4,5−トリス(β−エピチオプロピル
チオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,1,1−
トリス[{2−(β−エピチオプロピルチオ)エチル}
チオメチル]−2−(β−エピチオプロピルチオ)エタ
ン、1,1,2,2−テトラキス[{2−(β−エピチ
オプロピルチオ)エチル}チオメチル]エタン、1,1
1−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,8−ビス
(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−ト
リチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロ
ピルチオ)−4,7−ビス(β−エピチオプロピルチオ
メチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11
−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,7−ビス
(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−ト
リチアウンデカン等の鎖状脂肪族のβ−エピチオプロピ
ルチオ化合物、及び、1,3−ビス(β−エピチオプロ
ピルチオ)シクロヘキサン、1,4−ビス(β−エピチ
オプロピルチオ)シクロヘキサン、1,3−ビス(β−
エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキサン、1,4
−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキ
サン、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス[{2−(β−
エピチオプロピルチオ)エチル}チオメチル]−1,4
−ジチアン等の環状脂肪族のβ−エピチオプロピルチオ
化合物、及び、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチ
オ)ベンゼン、1,4−ビス(β−エピチオプロピルチ
オ)ベンゼン、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチ
オメチル)ベンゼン、1,4−ビス(β−エピチオプロ
ピルチオメチル)ベンゼン、ビス{4−(β−エピチオ
プロピルチオ)フェニル}メタン、2,2−ビス{4−
(β−エピチオプロピルチオ)フェニル}プロパン、ビ
ス{4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル}スル
フィド、ビス{4−(β−エピチオプロピルチオ)フェ
ニル}スルフォン、4,4’−ビス(β−エピチオプロ
ピルチオ)ビフェニル等の芳香族β−エピチオプロピル
チオ化合物等を挙げることができる。これらの例示化合
物のみに限定されるものではない。これらの化合物は単
独でも2種類以上を混合して使用しても良い。
The (thio) epoxy compound purified according to the present invention has excellent optical properties and gives an optical resin having a very high refractive index. Examples of the (thio) epoxy compound include bis (β-epithiopropyl) sulfide, bis (β-epithiopropyl) disulfide, bis (β-epithiopropylthio) methane, and 1,2-bis (β-epithio). Thiopropylthio) ethane, 1,2-bis (β-epithiopropylthio) propane, 1,3-bis (β-epithiopropylthio) propane, 1,3-bis (β-epithiopropylthio)- 2-methylpropane,
1,4-bis (β-epithiopropylthio) butane,
1,4-bis (β-epithiopropylthio) -2-methylbutane, 1,3-bis (β-epithiopropylthio)
Butane, 1,5-bis (β-epithiopropylthio) pentane, 1,5-bis (β-epithiopropylthio)-
2-methylpentane, 1,5-bis (β-epithiopropylthio) -3-thiapentane, 1,6-bis (β-epithiopropylthio) hexane, 1,6-bis (β-epithiopropylthio) ) -2-Methylhexane, 3,8-
Bis (β-epithiopropylthio) -3,6-dithiaoctane, 1,2,3-tris (β-epithiopropylthio) propane, 2,2-bis (β-epithiopropylthio) -1,3 -Bis (β-epithiopropylthiomethyl) propane, 2,2-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -1- (β-epithiopropylthio) butane, 1,5-bis (β-epithio Propylthio) -2-
(Β-epithiopropylthiomethyl) -3-thiapentane, 1,5-bis (β-epithiopropylthio) -2,
4-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3-thiapentane, 1- (β-epithiopropylthio) -2,
2-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -4-thiahexane, 1,5,6-tris (β-epithiopropylthio) -4- (β-epithiopropylthiomethyl)-
3-thiahexane, 1,8-bis (β-epithiopropylthio) -4- (β-epithiopropylthiomethyl)-
3,6-dithiaoctane, 1,8-bis (β-epithiopropylthio) -4,5-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6-dithiaoctane, 1,8-bis (β-epithio Thiopropylthio) -4,4-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6-dithiaoctane, 1,8-bis (β-epithiopropylthio) -2,
5-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6
-Dithiaoctane, 1,8-bis (β-epithiopropylthio) -2,4,5-tris (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6-dithiaoctane, 1,1,1-
Tris [{2- (β-epithiopropylthio) ethyl}
Thiomethyl] -2- (β-epithiopropylthio) ethane, 1,1,2,2-tetrakis [{2- (β-epithiopropylthio) ethyl} thiomethyl] ethane, 1,1
1-bis (β-epithiopropylthio) -4,8-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6,9-trithiaundecane, 1,11-bis (β-epithiopropylthio) -4,7-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6,9-trithiaundecane, 1,11
Linear aliphatic β-epithiopropylthio compounds such as -bis (β-epithiopropylthio) -5,7-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -3,6,9-trithiaundecane; And 1,3-bis (β-epithiopropylthio) cyclohexane, 1,4-bis (β-epithiopropylthio) cyclohexane, 1,3-bis (β-
Epithiopropylthiomethyl) cyclohexane, 1,4
-Bis (β-epithiopropylthiomethyl) cyclohexane, 2,5-bis (β-epithiopropylthiomethyl) -1,4-dithiane, 2,5-bis [{2- (β-
Epithiopropylthio) ethyl {thiomethyl] -1,4
-Cycloaliphatic β-epithiopropylthio compounds such as dithiane, and 1,3-bis (β-epithiopropylthio) benzene, 1,4-bis (β-epithiopropylthio) benzene, 3-bis (β-epithiopropylthiomethyl) benzene, 1,4-bis (β-epithiopropylthiomethyl) benzene, bis {4- (β-epithiopropylthio) phenyl} methane, 2,2- Screw $ 4-
(Β-epithiopropylthio) phenyl} propane, bis {4- (β-epithiopropylthio) phenyl} sulfide, bis {4- (β-epithiopropylthio) phenyl} sulfone, 4,4′-bis And aromatic β-epithiopropylthio compounds such as (β-epithiopropylthio) biphenyl. It is not limited only to these exemplified compounds. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0024】又、上記エピスルフィド化合物のエピチオ
基の一部又は全部がエポキシ基で置換された化合物も使
用することができる。
Further, a compound in which part or all of the epithio group of the episulfide compound is substituted with an epoxy group can also be used.

【0025】本発明に関わる(チオ)エポキシ化合物を
含む重合性組成物とは、分子内に1つ以上の(チオ)エ
ポキシ基を有する(チオ)エポキシ化合物を少なくとも
1種類含有する組成物である。なお、本発明の重合性組
成物では、高屈折率及び高アッベ数を発現させるために
は、上記(チオ)エポキシ化合物中のエピチオ基が組成
物中のエピチオ及びエポキシ基の合計に対して平均で5
0%以上となるように配合する。これらの組成物には、
これら化合物の2量体、3量体、4量体などのポリスル
フィドオリゴマ−類、重合抑制剤として添加した無機酸
類及び有機酸類、溶媒その他副生物等の有機化合物、無
機化合物も問題にならない範囲で含まれる。
The polymerizable composition containing a (thio) epoxy compound according to the present invention is a composition containing at least one (thio) epoxy compound having one or more (thio) epoxy groups in a molecule. . In the polymerizable composition of the present invention, in order to exhibit a high refractive index and a high Abbe number, the epithio group in the (thio) epoxy compound is averaged with respect to the total of the epithio and epoxy groups in the composition. At 5
It is blended so as to be 0% or more. These compositions include:
Polysulfide oligomers such as dimers, trimers and tetramers of these compounds, inorganic and organic acids added as polymerization inhibitors, organic compounds such as solvents and other by-products, and inorganic compounds are also within a range that does not pose a problem. included.

【0026】本発明に関わる(チオ)エポキシ化合物を
含む重合性組成物は、主に得られる樹脂の屈折率等の光
学物性の調節や耐衝撃性、比重等の諸物性を調節するた
めや、モノマーの粘度、その他の取扱い性を調整するた
めなど、樹脂の改良をする目的で、樹脂改質剤を加える
ことができる。
The polymerizable composition containing the (thio) epoxy compound according to the present invention is mainly used for controlling optical properties such as the refractive index of the obtained resin and for controlling various properties such as impact resistance and specific gravity. A resin modifier can be added for the purpose of improving the resin such as adjusting the viscosity of the monomer and other handling properties.

【0027】樹脂の改質剤としては、本発明に関わる
(チオ)エポキシ化合物以外のエポキシ化合物類、エポ
キシ樹脂、チオール化合物、メルカプト有機酸類、有機
酸類及び無水物類、アミノ酸及びメルカプトアミン類、
アミン類、(メタ)アクリレート類等を含むオレフィン
類が挙げられる。
Examples of the resin modifier include epoxy compounds other than the (thio) epoxy compound according to the present invention, epoxy resins, thiol compounds, mercapto organic acids, organic acids and anhydrides, amino acids and mercaptoamines,
Olefins including amines, (meth) acrylates and the like can be mentioned.

【0028】樹脂改質剤として添加を可能とするアミン
化合物の好ましいものの具体例としては、エチルアミ
ン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチル
アミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルア
ミン、オクチルアミン、デシルアミン、ラウリルアミ
ン、ミリスチルアミン、3−ペンチルアミン、2−エチ
ルヘキシルアミン、1,2−ジメチルヘキシルアミン、
アリルアミン、アミノメチルビシクロヘプタン、シクロ
ペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、2,3−ジメ
チルシクロヘキシルアミン、アミノメチルシクロヘキサ
ン、アニリン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、
2,3−、あるいは4−メチルベンジルアミン、o−、
m−、あるいはp−メチルアニリン、o−、m−、ある
いはp−エチルアニリン、アミノモルホリン、ナフチル
アミン、フルフリルアミン、α−アミノジフェニルメタ
ン、トルイジン、アミノピリジン、アミノフェノール、
アミノエタノール、1−アミノプロパノール、2−アミ
ノプロパノール、アミノブタノール、アミノペンタノー
ル、アミノヘキサノール、メトキシエチルアミン、2−
(2−アミノエトキシ)エタノール、3−エトキシプロ
ピルアミン、3−プロポキシプロピルアミン、3−ブト
キシプロピルアミン、3−イソプロポキシプロピルアミ
ン、3−イソブトキシプロピルアミン、2,2−ジエト
キシエチルアミン等の単官能1級アミン化合物、エチレ
ンジアミン、1,2−、あるいは1,3−ジアミノプロ
パン、1,2−、1,3−、あるいは1,4−ジアミノ
ブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノ
ヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミ
ノオクタン、1,10−ジアミノデカン、1,2−、
1,3−、あるいは1,4−ジアミノシクロヘキサン、
o−、m−あるいはp−ジアミノベンゼン、3,4−あ
るいは4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,4−あ
るいは4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルスルフィド、3,3’−、あるいは4,4’
−ジアミノジフェニルスルフォン、2,7−ジアミノフ
ルオレン、1,5−、1,8−、あるいは2,3−ジア
ミノナフタレン、2,3−、2,6−、あるいは3,4
−ジアミノピリジン、2,4−、あるいは2,6−ジア
ミノトルエン、m−、あるいはp−キシリレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、ジアミノメチルビシクロヘプ
タン、1,3−、あるいは1,4−ジアミノメチルシク
ロヘキサン、2−、あるいは4−アミノピペリジン、2
−、あるいは4−アミノメチルピペリジン、2−、ある
いは4−アミノエチルピペリジン、N−アミノエチルモ
ルホリン、N−アミノプロピルモルホリン等の1級ポリ
アミン化合物、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ
−n−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、ジイ
ソブチルアミン、ジ−n−ペンチルアミン、ジ−3−ペ
ンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、
ジ(2−エチルヘキシル)アミン、メチルヘキシルアミ
ン、ジアリルアミン、N−メチルアリルアミン、ピペリ
ジン、ピロリジン、ジフェニルアミン、N−メチルアミ
ン、N−エチルアミン、ジベンジルアミン、N−メチル
ベンジルアミン、N−エチルベンジルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、N−メチルアニリン、N−エチルアニ
リン、ジナフチルアミン、1−メチルピペラジン、モル
ホリン等の単官能2級アミン化合物、N,N’−ジメチ
ルエチレンジアミン、N,N’−ジメチル−1,2−ジ
アミノプロパン、N,N’−ジメチル−1,3−ジアミ
ノプロパン、N,N’−ジメチル−1,2−ジアミノブ
タン、N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノブタン、
N,N’−ジメチル−1,4−ジアミノブタン、N,
N’−ジメチル−1,5−ジアミノペンタン、N,N’
−ジメチル−1,6−ジアミノヘキサン、N,N’−ジ
メチル−1,7−ジアミノヘプタン、N,N’−ジエチ
ルエチレンジアミン、N,N’−ジエチル−1,2−ジ
アミノプロパン、N,N’−ジエチル−1,3−ジアミ
ノプロパン、N,N’−ジエチル−1,2−ジアミノブ
タン、N,N’−ジエチル−1,3−ジアミノブタン、
N,N’−ジエチル−1,4−ジアミノブタン、N,
N’−ジエチル−1,5−ジアミノペンタン、N,N’
−ジエチル−1,6−ジアミノヘキサン、N,N’−ジ
エチル−1,7−ジアミノヘプタン、ピペラジン、2−
メチルピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン、2,
6−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、1,1−ジ
−(4−ピペリジル)メタン、1,2−ジ−(4−ピペ
リジル)エタン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)プロ
パン、1,4−ジ−(4−ピペリジル)ブタン、テトラ
メチルグアニジン等の2級ポリアミン化合物等を挙げる
ことができるが、これらの例示化合物のみに限定される
ものではない。また、これらは単独でも、2種類以上を
混合して使用してもかまわない。これら例示化合物の
内、より好ましいものは、ベンジルアミン、ピペラジン
類である。
Specific examples of preferred amine compounds which can be added as a resin modifier include ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, pentylamine, and hexylamine. , Heptylamine, octylamine, decylamine, laurylamine, myristylamine, 3-pentylamine, 2-ethylhexylamine, 1,2-dimethylhexylamine,
Allylamine, aminomethylbicycloheptane, cyclopentylamine, cyclohexylamine, 2,3-dimethylcyclohexylamine, aminomethylcyclohexane, aniline, benzylamine, phenethylamine,
2,3- or 4-methylbenzylamine, o-,
m- or p-methylaniline, o-, m- or p-ethylaniline, aminomorpholine, naphthylamine, furfurylamine, α-aminodiphenylmethane, toluidine, aminopyridine, aminophenol,
Aminoethanol, 1-aminopropanol, 2-aminopropanol, aminobutanol, aminopentanol, aminohexanol, methoxyethylamine,
(2-aminoethoxy) ethanol, 3-ethoxypropylamine, 3-propoxypropylamine, 3-butoxypropylamine, 3-isopropoxypropylamine, 3-isobutoxypropylamine, 2,2-diethoxyethylamine and the like Functional primary amine compound, ethylenediamine, 1,2- or 1,3-diaminopropane, 1,2-, 1,3- or 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6- Diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1,10-diaminodecane, 1,2-,
1,3- or 1,4-diaminocyclohexane,
o-, m- or p-diaminobenzene, 3,4- or 4,4'-diaminobenzophenone, 3,4- or 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,
4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-, or 4,4 '
-Diaminodiphenylsulfone, 2,7-diaminofluorene, 1,5-, 1,8- or 2,3-diaminonaphthalene, 2,3-, 2,6- or 3,4
-Diaminopyridine, 2,4- or 2,6-diaminotoluene, m- or p-xylylenediamine, isophoronediamine, diaminomethylbicycloheptane, 1,3- or 1,4-diaminomethylcyclohexane, -Or 4-aminopiperidine, 2
A primary polyamine compound such as-or 4-aminomethylpiperidine, 2- or 4-aminoethylpiperidine, N-aminoethylmorpholine, N-aminopropylmorpholine, diethylamine, dipropylamine, di-n-butylamine, -Sec-butylamine, diisobutylamine, di-n-pentylamine, di-3-pentylamine, dihexylamine, dioctylamine,
Di (2-ethylhexyl) amine, methylhexylamine, diallylamine, N-methylallylamine, piperidine, pyrrolidine, diphenylamine, N-methylamine, N-ethylamine, dibenzylamine, N-methylbenzylamine, N-ethylbenzylamine, Monofunctional secondary amine compounds such as dicyclohexylamine, N-methylaniline, N-ethylaniline, dinaphthylamine, 1-methylpiperazine, morpholine, N, N′-dimethylethylenediamine, N, N′-dimethyl-1,2- Diaminopropane, N, N′-dimethyl-1,3-diaminopropane, N, N′-dimethyl-1,2-diaminobutane, N, N′-dimethyl-1,3-diaminobutane,
N, N′-dimethyl-1,4-diaminobutane, N,
N'-dimethyl-1,5-diaminopentane, N, N '
-Dimethyl-1,6-diaminohexane, N, N'-dimethyl-1,7-diaminoheptane, N, N'-diethylethylenediamine, N, N'-diethyl-1,2-diaminopropane, N, N ' -Diethyl-1,3-diaminopropane, N, N′-diethyl-1,2-diaminobutane, N, N′-diethyl-1,3-diaminobutane,
N, N′-diethyl-1,4-diaminobutane, N,
N'-diethyl-1,5-diaminopentane, N, N '
-Diethyl-1,6-diaminohexane, N, N'-diethyl-1,7-diaminoheptane, piperazine, 2-
Methylpiperazine, 2,5-dimethylpiperazine, 2,
6-dimethylpiperazine, homopiperazine, 1,1-di- (4-piperidyl) methane, 1,2-di- (4-piperidyl) ethane, 1,3-di- (4-piperidyl) propane, 1,4 Examples thereof include secondary polyamine compounds such as -di- (4-piperidyl) butane and tetramethylguanidine, but are not limited to these exemplified compounds. These may be used alone or in combination of two or more. Among these exemplified compounds, more preferred are benzylamine and piperazines.

【0029】また、樹脂改質剤として添加を可能とする
エポキシ化合物の好ましいものの具体例としては、ビス
フェノールAグリシジルエーテル等の多価フェノール化
合物とエピハロヒドリン化合物との縮合反応により得ら
れるフェノール系エポキシ化合物、水添ビスフェノール
Aグリシジルエーテル等の多価アルコール化合物とエピ
ハロヒドリン化合物との縮合により得られるアルコール
系エポキシ化合物、3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レートや1,2−ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエ
ステル等の多価有機酸化合物とエピハロヒドリン化合物
との縮合により得られるグリシジルエステル系エポキシ
化合物、一級及び二級ジアミン化合物とエピハロヒドリ
ン化合物との縮合により得られるアミン系エポキシ化合
物等その他、ビニルシクロヘキセンジエポキシド等脂肪
族多価エポキシ化合物等を挙げることができるが、これ
らの例示化合物のみに限定されるものではない。また、
これらは単独でも、2種類以上を混合して使用してもか
まわない。
Specific examples of preferred epoxy compounds which can be added as a resin modifier include phenolic epoxy compounds obtained by a condensation reaction of a polyhydric phenol compound such as bisphenol A glycidyl ether and an epihalohydrin compound, Alcohol-based epoxy compounds obtained by condensation of a polyhydric alcohol compound such as hydrogenated bisphenol A glycidyl ether and an epihalohydrin compound; 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate; For condensation of glycidyl ester epoxy compounds, primary and secondary diamine compounds and epihalohydrin compounds obtained by condensation of polyhalogenated organic acid compounds such as hydrophthalic acid diglycidyl ester and epihalohydrin compounds Ri resulting amine based epoxy compounds, etc. and, there may be mentioned vinyl cyclohexene diepoxide and an aliphatic polyhydric epoxy compound such as, but not limited to only these exemplified compounds. Also,
These may be used alone or in combination of two or more.

【0030】また、チオール化合物の好ましいものの具
体例としてはメチルメルカプタン、エチルメルカプタ
ン、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチ
オール、1,3−プロパンジチオール、2,2−プロパ
ンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,2,3
−トリメルカプトプロパン、テトラキス(メルカプトメ
チル)メタン、1,2−ジメルカプトシクロヘキサン、
ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、2,3−ジ
メルカプト−1−プロパノール、エチレングリコールビ
ス(3−メルカプトプロピオネート)、ジエチレングリ
コールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジエチ
レングリコールビス(2−メルカプトグリコレート)、
ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトチオ
グリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3
−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパ
ントリス(2−メルカプトチオグリコレート)、トリメ
チロールプロパントリス3−メルカプトプロピオネー
ト)、1,1,1−トリメチルメルカプトエタン、1,
1,1−トリメチルメルカプトプロパン、2,5−ジメ
ルカプトメチルチオファン、4−メルカプトメチル−
1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン、2,
5−ジメルカプトメチル−1,4−ジチアン、2,5−
ビス{(2−メルカプトエチル)チオメチル}−1,4
−ジチアン、1,3−シクロヘキサンジチオール、1,
4−シクロヘキサンジチオール、4,8−ジメルカプト
メチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチ
アウンデカン、4,7−ジメルカプトメチル−1,11
−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、
5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト
−3,6,9−トリチアウンデカン等の脂肪族チオー
ル、及び、ベンジルメルカプタン、チオフェノール、
1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプト
ベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,2−ビ
ス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メル
カプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメ
チル)ベンゼン、2,2’−ジメルカプトビフェニル、
4,4’−ジメルカプトビフェニル、ビス(4−メルカ
プトフェニル)メタン、ビス(4−メルカプトフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−メルカプトフェニル)スル
フォン、2,2−ビス(4−メルカプトフェニル)プロ
パン、1,2,3−トリメルカプトベンゼン、1,2,
4−トリメルカプトベンゼン、1,2,5−トリメルカ
プトベンゼン等の芳香族チオールが挙げられるが、これ
らの例示化合物のみに限定されるものではない。また、
これらは単独でも、2種類以上を混合して使用してもか
まわない。
Specific examples of preferable thiol compounds include methyl mercaptan, ethyl mercaptan, 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 2,2-propanedithiol, 4-butanedithiol, 1,2,3
-Trimercaptopropane, tetrakis (mercaptomethyl) methane, 1,2-dimercaptocyclohexane,
Bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 2,3-dimercapto-1-propanol, ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), diethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), diethylene glycol bis (2-mercaptoglycolate) ),
Pentaerythritol tetrakis (2-mercaptothioglycolate), pentaerythritol tetrakis (3
-Mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (2-mercaptothioglycolate), trimethylolpropanetris 3-mercaptopropionate), 1,1,1-trimethylmercaptoethane, 1,
1,1-trimethylmercaptopropane, 2,5-dimercaptomethylthiophane, 4-mercaptomethyl-
1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 2,
5-dimercaptomethyl-1,4-dithiane, 2,5-
Bis {(2-mercaptoethyl) thiomethyl} -1,4
-Dithiane, 1,3-cyclohexanedithiol, 1,
4-cyclohexanedithiol, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11
-Dimercapto-3,6,9-trithiaundecane,
Aliphatic thiols such as 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, and benzylmercaptan, thiophenol;
1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,4- Bis (mercaptomethyl) benzene, 2,2′-dimercaptobiphenyl,
4,4'-dimercaptobiphenyl, bis (4-mercaptophenyl) methane, bis (4-mercaptophenyl) sulfide, bis (4-mercaptophenyl) sulfone, 2,2-bis (4-mercaptophenyl) propane, , 2,3-trimercaptobenzene, 1,2,2
Examples thereof include aromatic thiols such as 4-trimercaptobenzene and 1,2,5-trimercaptobenzene, but are not limited to these exemplified compounds. Also,
These may be used alone or in combination of two or more.

【0031】メルカプト有機酸化合物の好ましいものの
具体例としては、チオグリコール酸、3−メルカプトプ
ロピオン酸、チオ酢酸、チオ乳酸、チオリンゴ酸、チオ
サリチル酸等が挙げられるが、これら例示化合物のみに
限定されるものではない。また、これらは単独でも、2
種類以上を混合して使用してもかまわない。
Specific examples of preferred mercapto organic acid compounds include thioglycolic acid, 3-mercaptopropionic acid, thioacetic acid, thiolactic acid, thiomalic acid, and thiosalicylic acid, but are not limited to these exemplified compounds. Not something. In addition, these may be used alone or 2
More than one kind may be mixed and used.

【0032】有機酸及びその無水物の好ましいものの具
体例としては、チオジグリコール酸、チオジプロピオン
酸、ジチオジプロピオン酸、無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メ
チルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルノルボルネン酸
無水物、メチルナルボルナン酸無水物、無水マレイン
酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げ
られるが、これらの例示化合物のみに限定されるもので
はない。また、これらは単独でも、2種類以上を混合し
て使用してもかまわない。
Specific examples of preferred organic acids and anhydrides thereof include thiodiglycolic acid, thiodipropionic acid, dithiodipropionic acid, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydroacid. Examples thereof include phthalic anhydride, methylnorbornene anhydride, methylnalbornanoic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride, but are not limited to these exemplified compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

【0033】オレフィン類の好ましいものの具体例とし
ては、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタ
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシ
エチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリ
コールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコー
ルビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジ
アクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、
2,2−ビス(4−アクロキシエトキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−メタクロキシエトキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−アクロキシジエトキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクロキ
シジエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールFジ
アクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、
1,1−ビス(4−アクロキシエトキシフェニル)メタ
ン、1,1−ビス(4−メタクロキシエトキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(4−アクロキシジエトキシ
フェニル)メタン、1,1−ビス(4−メタクロキシジ
エトキシフェニル)メタン、ジメチロールトリシクロデ
カンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレ
ート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリ
レート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチ
オールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタク
リレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレー
ト、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の
(メタ)アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテ
ル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジ
アリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合
物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロ
モスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、
3,9−ジビニルスピロビ(m−ジオキサン)等のビニ
ル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる
が、これらの例示化合物のみに限定されるものではな
い。また、これらは単独でも、2種類以上を混合して使
用してもかまわない。
Specific examples of preferred olefins include benzyl acrylate, benzyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, butoxymethyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxymethyl methacrylate, glycidyl acrylate, and glycidyl methacrylate. , Phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate,
Tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene glycol bisglycidyl acrylate, ethylene glycol bisglycidyl methacrylate, bisphenol A diacrylate , Bisphenol A dimethacrylate,
2,2-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2- Bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane, bisphenol F diacrylate, bisphenol F dimethacrylate,
1,1-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) methane, 1,1- Bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) methane, dimethylol tricyclodecane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerol diacrylate, glycerol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate,
Such as pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, methylthioacrylate, methylthiomethacrylate, phenylthioacrylate, benzylthiomethacrylate, xylylenedithiol diacrylate, xylylenedithiol dimethacrylate, mercaptoethyl sulfide diacrylate, mercaptoethyl sulfide dimethacrylate, etc. (Meth) acrylate compounds, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, diallyl carbonate, allyl compounds such as diethylene glycol bisallyl carbonate, styrene, chlorostyrene, methylstyrene, bromostyrene, dibromostyrene, divinylbenzene,
Examples thereof include vinyl compounds such as 3,9-divinylspirobi (m-dioxane), diisopropenylbenzene, and the like, but are not limited to these exemplified compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

【0034】これら、数種の樹脂改質剤はいずれも単独
種でも2種類以上を混合して使用しても良い。
These several types of resin modifiers may be used alone or as a mixture of two or more types.

【0035】本発明の重合性組成物は、硬化触媒の存在
下あるいは不存在下に、加熱あるいは常温放置により重
合がなされ、樹脂を製造することができる。ただし、硬
化触媒不存在下では重合が良好に進行せず重合不良とな
るまたは重合しない場合がある。本発明に用いる硬化触
媒としては本発明の樹脂改質剤以外のアミン類、ホスフ
ィン類、ルイス酸類、ラジカル重合触媒類、カチオン重
合触媒類等が通常用いられる。
The polymerizable composition of the present invention can be polymerized by heating or standing at room temperature in the presence or absence of a curing catalyst to produce a resin. However, in the absence of a curing catalyst, the polymerization may not proceed well, resulting in poor polymerization or no polymerization. As the curing catalyst used in the present invention, amines, phosphines, Lewis acids, radical polymerization catalysts, cationic polymerization catalysts and the like other than the resin modifier of the present invention are usually used.

【0036】硬化触媒の好ましいものの具体例として
は、トリエチルアミン、トリn−ブチルアミン、トリn
−ヘキシルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリエチレンジアミン、トリフェニルアミン、N,
N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタ
ノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、
N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジエチルベ
ンジルアミン、トリベンジルアミン、N−メチルジベン
ジルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、
N,N−ジエチルシクロヘキシルアミン、N,N−ジメ
チルブチルアミン、N−メチルジシクロヘキシルアミ
ン、N−メチルモルホリン、N−イソプロピルモルホリ
ン、ピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、α−、β−、あるいはγ−
ピコリン、2,2’−ビピリジル、1,4−ジメチルピ
ペラジン、ジシアンジアミド、テトラメチルエチレンジ
アミン、ヘキサメチレンテトラミン、1,8−ジアザビ
シクロ(5.4.0)−7−ウンデセン、2,4,6−
トリス(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール等
の脂肪族及び芳香族3級アミン類、その他、トリメチル
ホスフィン、トリエチルホスフィン、トリn−プロピル
ホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリn−ブ
チルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジ
ルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)
エタン、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン等
のホスフィン類、ジメチル錫ジクロライド、ジブチル錫
ジクロライド、ジブチル錫ジラウレート、テトラクロロ
錫、ジブチル錫オキサイド、塩化亜鉛、アセチルアセト
ン亜鉛、塩化アルミ、フッ化アルミ、トリフェニルアル
ミ、テトラクロロチタン、酢酸カルシウム等のルイス
酸、2,2’−アゾビス(2−シクロプロピルプロピオ
ニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,
4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)、t−ブチルパー
オキシ−2−エチルヘキサノエート、n−ブチル−4,
4’−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、t−
ブチルパーオキシベンゾエート等のラジカル重合触媒、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロ燐酸、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロ砒酸、ジフェニルヨード
ニウムヘキサフルオロアンチモン、トリフェニルスルフ
ォニウムテトラフルオロ硼酸、トリフェニルスルフォニ
ウムヘキサフルオロ燐酸、トリフェニルスルフォニウム
ヘキサフルオロ砒酸等のカチオン重合触媒が挙げられる
が、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
Specific examples of preferable curing catalysts include triethylamine, tri-n-butylamine, tri-n-butylamine and tri-n-butylamine.
-Hexylamine, N, N-diisopropylethylamine, triethylenediamine, triphenylamine, N,
N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, triethanolamine, N-ethyldiethanolamine,
N, N-dimethylbenzylamine, N, N-diethylbenzylamine, tribenzylamine, N-methyldibenzylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine,
N, N-diethylcyclohexylamine, N, N-dimethylbutylamine, N-methyldicyclohexylamine, N-methylmorpholine, N-isopropylmorpholine, pyridine, quinoline, N, N-dimethylaniline,
N, N-diethylaniline, α-, β-, or γ-
Picoline, 2,2'-bipyridyl, 1,4-dimethylpiperazine, dicyandiamide, tetramethylethylenediamine, hexamethylenetetramine, 1,8-diazabicyclo (5.4.0) -7-undecene, 2,4,6-
Aliphatic and aromatic tertiary amines such as tris (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, and others, trimethylphosphine, triethylphosphine, tri-n-propylphosphine, triisopropylphosphine, tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine , Tribenzylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino)
Phosphines such as ethane and 1,2-bis (dimethylphosphino) ethane, dimethyltin dichloride, dibutyltin dichloride, dibutyltin dilaurate, tetrachlorotin, dibutyltin oxide, zinc chloride, zinc acetylacetone, aluminum chloride, aluminum fluoride , Triphenylaluminum, tetrachlorotitanium, Lewis acids such as calcium acetate, 2,2′-azobis (2-cyclopropylpropionitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,
4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, n-butyl-4,
4'-bis (t-butylperoxy) valerate, t-
Radical polymerization catalysts such as butyl peroxybenzoate,
Cationic polymerization catalysts such as diphenyliodonium hexafluorophosphoric acid, diphenyliodonium hexafluoroarsenate, diphenyliodonium hexafluoroantimony, triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroarsenate, and the like. However, the present invention is not limited only to these exemplified compounds.

【0037】これら硬化触媒は単独でも2種以上を混合
して用いても良い。
These curing catalysts may be used alone or in combination of two or more.

【0038】硬化触媒の添加量は、式(1)で示される
(チオ)エポキシ化合物を含有する組成物の総重量に対
して0.001〜10.0質量%の範囲で用いられ、好
ましくは0.01〜1.0質量%の範囲で使用される。
硬化触媒の添加量が0.001質量%未満であるとその
効果が小さいため重合不良の原因となる場合がある。一
方、10.0質量%を越えてもできるが、ポットライフ
が短くなったり、透明性、光学物性、又は耐候性が低下
するなどの不都合が生じてくる場合がある。
The curing catalyst is used in an amount of 0.001 to 10.0% by mass based on the total weight of the composition containing the (thio) epoxy compound represented by the formula (1), and is preferably used. It is used in the range of 0.01 to 1.0% by mass.
If the addition amount of the curing catalyst is less than 0.001% by mass, the effect is small, which may cause poor polymerization. On the other hand, even if the content exceeds 10.0% by mass, the pot life may be shortened, or inconveniences such as reduction in transparency, optical properties, or weather resistance may occur.

【0039】本発明の樹脂を得るための重合法、重合条
件等は、用いる硬化触媒等の種類や量、単量体の種類や
割合によって、一概に限定する事はできないが、代表的
な重合方法としては、たとえば注型重合が挙げられる。
即ち、ガスケットまたはテープ等で保持された成型モー
ルド間に、本発明の減圧処理された重合性組成物を注入
する。ここで重合性組成物には必要に応じて硬化触媒お
よび樹脂改質剤を混合しておいてもよい。次いで、オー
ブン中や水中など加熱可能装置内で加熱することにより
硬化させ、樹脂を取り出すことができる。
The polymerization method, polymerization conditions and the like for obtaining the resin of the present invention cannot be unequivocally limited by the type and amount of the curing catalyst and the like, and the type and ratio of the monomer used. The method includes, for example, cast polymerization.
That is, the decompressed polymerizable composition of the present invention is injected between molding molds held by gaskets or tapes. Here, the polymerizable composition may be mixed with a curing catalyst and a resin modifier as necessary. Next, the resin is cured by heating in a heatable device such as an oven or water, and the resin can be taken out.

【0040】成型モールドに注入された本発明の重合性
組成物の加熱重合条件は、本発明の一定時間減圧処理さ
れた、上記(1)式で示される化合物、及び樹脂改質剤
の種類、硬化触媒の種類、成型モールドの形状等によっ
て大きく条件が異なるため限定できないが、およそ−5
0〜200℃の温度で0.1〜100時間かけて行われ
る。
The conditions for the heat polymerization of the polymerizable composition of the present invention injected into the molding mold are as follows: the type of the compound represented by the above formula (1) and the resin modifier which have been subjected to a reduced pressure treatment for a certain period of time; The condition cannot be limited because the conditions vary greatly depending on the type of the curing catalyst, the shape of the molding mold, and the like.
The reaction is performed at a temperature of 0 to 200 ° C. for 0.1 to 100 hours.

【0041】場合によっては、10℃から150℃の温
度範囲で保持するかまたは徐々に昇温し、1〜80時間
で重合させれば好ましい結果を与えることがある。
In some cases, preferable results may be obtained by maintaining the temperature in the range of 10 ° C. to 150 ° C. or by gradually increasing the temperature and polymerizing for 1 to 80 hours.

【0042】更には、本発明の重合性組成物は、紫外線
等の照射により重合時間の短縮を図ることも可能であ
る。この際には、ラジカル重合触媒等の硬化触媒等を添
加しても良い。
Further, the polymerization time of the polymerizable composition of the present invention can be reduced by irradiation with ultraviolet rays or the like. At this time, a curing catalyst such as a radical polymerization catalyst may be added.

【0043】[0043]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。実施
例及び比較例については、下記式(4)で示されるビス
(β−エピチオプロピル)ジスルフィド(以下、化合物
Aと略す)に基づく結果を記した。(チオ)エポキシ化
合物の安定性試験は、35℃で(チオ)エポキシ化合物
を2ヶ月間保存し、その後B型粘度計を用いて25℃に
おける粘度を測定することで安定性を評価した。
The present invention will be described below with reference to examples. In Examples and Comparative Examples, results based on bis (β-epithiopropyl) disulfide (hereinafter, abbreviated as compound A) represented by the following formula (4) are described. In the stability test of the (thio) epoxy compound, the (thio) epoxy compound was stored at 35 ° C for 2 months, and then the stability was evaluated by measuring the viscosity at 25 ° C using a B-type viscometer.

【0044】[0044]

【化10】 Embedded image

【0045】実施例1 化合物A100g(72.0質量%,0.34mol;
高分子量化物の含有量:25.0質量%)に1000m
lのシクロヘキサンを加え、30分撹拌した。静置後、
シクロヘキサンに不溶解な成分を除去し、シクロヘキサ
ン溶液からシクロヘキサンを減圧留去することにより、
純度86.3質量%の化合物A(精製品)80.5g
(0.33mol)が得られた(高分子量化物の含有量
10.7質量%)。得られた化合物A(精製品)の粘度
は40Pa・s(25℃)であった。化合物A(精製
品)を窒素下でガラス容器に密閉して35℃で保存し
た。2ヶ月後の粘度は42Pa・s(25℃)であり、
粘度上昇はほとんどなく、経時的劣化は見られなかっ
た。
Example 1 100 g of compound A (72.0% by mass, 0.34 mol;
Content of high molecular weight compound: 25.0% by mass)
l of cyclohexane was added and stirred for 30 minutes. After standing still
By removing components insoluble in cyclohexane and distilling cyclohexane from the cyclohexane solution under reduced pressure,
80.5 g of compound A (purified product) having a purity of 86.3% by mass
(0.33 mol) was obtained (content of high molecular weight compound: 10.7% by mass). The viscosity of the obtained compound A (purified product) was 40 Pa · s (25 ° C.). Compound A (purified product) was sealed in a glass container under nitrogen and stored at 35 ° C. The viscosity after 2 months is 42 Pa · s (25 ° C.)
There was almost no increase in viscosity, and no deterioration with time was observed.

【0046】実施例2 化合物A100g(72.0質量%,0.34mol;
高分子量化物の含有量:25.0質量%)に1000m
lのヘキサンとトルエンの混合溶媒(ヘキサン:トルエ
ン=5:1)を加え、30分撹拌した。静置後、シクロ
ヘキサンに不溶解な成分を除去し、シクロヘキサン溶液
からシクロヘキサンを減圧留去することにより、純度8
0.1質量%の化合物A(精製品)81.3g(0.3
1mol)が得られた(高分子量化物の含有量:16.
9質量%)。得られた化合物A(精製品)の粘度は41
Pa・s(25℃)であった。化合物A(精製品)を窒
素下でガラス容器に密閉して35℃で保存した。2ヶ月
後の粘度は44Pa・s(25℃)であり、粘度上昇は
ほとんどなく、経時的劣化は見られなかった。
Example 2 100 g of compound A (72.0% by mass, 0.34 mol;
Content of high molecular weight compound: 25.0% by mass)
1 of a mixed solvent of hexane and toluene (hexane: toluene = 5: 1) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. After standing, components insoluble in cyclohexane are removed, and cyclohexane is distilled off from the cyclohexane solution under reduced pressure to give a purity of 8%.
81.3 g (0.3 mass%) of compound A (purified product)
1 mol) (content of high molecular weight compound: 16).
9% by mass). The viscosity of the obtained compound A (purified product) is 41.
Pa · s (25 ° C.). Compound A (purified product) was sealed in a glass container under nitrogen and stored at 35 ° C. The viscosity after 2 months was 44 Pa · s (25 ° C.), there was almost no increase in viscosity, and no deterioration with time was observed.

【0047】実施例3 実施例1で得られた化合物A(精製品)20gに、硬化
触媒としてN,N−ジシクロヘキシルメチルアミン0.
02gとN,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.0
08gを添加して攪拌した。この混合溶液を成形モール
ドに注入し、30℃から120℃まで徐々に昇温し、2
4時間かけて重合を終了させた。冷却後、離型すること
で透明性の高いプラスチックレンズが得られた。
Example 3 20 g of the compound A (purified product) obtained in Example 1 was added to 0.2 g of N, N-dicyclohexylmethylamine as a curing catalyst.
02g and N, N-dimethylcyclohexylamine 0.0
08 g was added and stirred. This mixed solution was poured into a molding mold, and the temperature was gradually raised from 30 ° C to 120 ° C.
The polymerization was completed over 4 hours. After cooling, the mold was released to obtain a highly transparent plastic lens.

【0048】比較例1 炭化水素系の溶媒抽出を行わなかった化合物A100g
(粘度57Pa・s)を窒素下でガラス容器に密閉して
35℃で保存した。2ヶ月後の粘度は171Pa・s
(25℃)であり、粘度上昇は大きく、経時的安定性は
なかった。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 100 g of Compound A without extraction with a hydrocarbon solvent
(Viscosity 57 Pa · s) was sealed in a glass container under nitrogen and stored at 35 ° C. The viscosity after 2 months is 171 Pa · s
(25 ° C.), the viscosity increased greatly, and there was no stability over time.

【0049】比較例2 炭化水素系の抽出溶媒にシクロヘキサンの代わりに、メ
タノールを用いて実施例1と同様な処理を行い、純度7
2.7質量%の化合物A(精製品)90.7g(0.3
2mol)が得られた(高分子量化物の含有量:24.
3質量%)。得られた化合物A(精製品)100g(粘
度52Pa・s)を窒素下でガラス容器に密閉して35
℃で保存した。2ヶ月後の粘度は157Pa・s(25
℃)であり、粘度上昇は大きく、経時的安定性はなかっ
た。
Comparative Example 2 The same treatment as in Example 1 was performed by using methanol instead of cyclohexane as the hydrocarbon-based extraction solvent, and the purity was 7%.
90.7 g (0.3%) of 2.7% by mass of compound A (purified product)
2 mol) (content of high molecular weight compound: 24.)
3% by mass). 100 g of the obtained compound A (purified product) (viscosity: 52 Pa · s) was sealed in a glass container under nitrogen, and then sealed.
Stored at ° C. The viscosity after 2 months is 157 Pa · s (25
° C), the viscosity increased greatly, and there was no stability over time.

【0050】比較例3 比較例1の化合物Aを実施例3と同様な方法で樹脂化し
た。(チオ)エポキシ化合物は増粘しており、モノマー
を成形モールドへ注入する際の作業性が著しく低下して
いた。
Comparative Example 3 Compound A of Comparative Example 1 was resinified in the same manner as in Example 3. The viscosity of the (thio) epoxy compound was increased, and the workability at the time of injecting the monomer into the molding mold was significantly reduced.

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明により、光学物性に優れ、非常に
高い屈折率を有する光学用樹脂を与える(チオ)エポキ
シ化合物の経時的安定性を向上させることができ、高い
屈折率及び高い透明性が要求されるプラスチックレン
ズ、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体用基板、フ
ィルター、発光ダイオード等の光学材料等の樹脂分野、
特にメガネレンズの分野に貢献する。
According to the present invention, it is possible to improve the stability over time of a (thio) epoxy compound which gives an optical resin having excellent optical properties and a very high refractive index, and has a high refractive index and high transparency. Resin fields such as plastic lenses, prisms, optical fibers, substrates for information recording media, filters, optical materials such as light-emitting diodes,
In particular, it contributes to the field of spectacle lenses.

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年2月22日(2000.2.2
2)
[Submission date] February 22, 2000 (200.2.2
2)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0046[Correction target item name] 0046

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0046】実施例2 化合物A100g(72.0質量%,0.34mol;
高分子量化物の含有量:25.0質量%)に1000m
lのヘキサンとトルエンの混合溶媒(ヘキサン:トルエ
ン=5:1)を加え、30分撹拌した。静置後、ヘキサ
ンとトルエンの混合溶媒に不溶解な成分を除去し、混合
溶液から溶媒を減圧留去することにより、純度80.1
質量%の化合物A(精製品)81.3g(0.31mo
l)が得られた(高分子量化物の含有量:16.9質量
%)。得られた化合物A(精製品)の粘度は41Pa・
s(25℃)であった。化合物A(精製品)を窒素下で
ガラス容器に密閉して35℃で保存した。2ヶ月後の粘
度は44Pa・s(25℃)であり、粘度上昇はほとん
どなく、経時的劣化は見られなかった。
Example 2 100 g of compound A (72.0% by mass, 0.34 mol;
Content of high molecular weight compound: 25.0% by mass)
1 of a mixed solvent of hexane and toluene (hexane: toluene = 5: 1) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. After standing still, hexa
The components insoluble in the mixed solvent of toluene and toluene were removed, and the solvent was distilled off from the mixed solution under reduced pressure to give a purity of 80.1.
81.3 g (0.31 mol) of Compound A (purified product)
1) was obtained (content of high molecular weight compound: 16.9% by mass). The viscosity of the obtained compound A (purified product) is 41 Pa ·
s (25 ° C.). Compound A (purified product) was sealed in a glass container under nitrogen and stored at 35 ° C. The viscosity after 2 months was 44 Pa · s (25 ° C.), there was almost no increase in viscosity, and no deterioration with time was observed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島川 千年 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 龍 昭憲 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 小林 誠一 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 金村 芳信 福岡県大牟田市浅牟田町30番地 三井化学 株式会社内 Fターム(参考) 4C048 AA01 BB17 CC02 KK05 UU03 UU05 XX03 XX04 4J030 BA05 BA42 BA47 BA48 BA49 BB03 BB67 BG25  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Chinori Shimakawa 30 Asamuta-cho, Omuta-shi, Fukuoka Prefecture Mitsui Chemicals, Inc. 72) Inventor Seiichi Kobayashi 30 Asamuta-cho, Omuta-shi, Fukuoka, Japan Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Yoshinobu Kanamura 30 Asamata-cho, Omuta-shi, Fukuoka, Japan Mitsui Chemicals, Inc. KK05 UU03 UU05 XX03 XX04 4J030 BA05 BA42 BA47 BA48 BA49 BB03 BB67 BG25

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子内に下記式(1) 【化1】 (式中、R1、R2、R3はそれぞれ炭素数1〜10の炭
化水素基または水素原子を示し、Xは酸素原子または硫
黄原子を示す。)で示される構造を1個以上有する(チ
オ)エポキシ化合物であって、該(チオ)エポキシ化合
物由来の高分子量化物の含有量が20質量%以下である
ことを特徴とする(チオ)エポキシ化合物。
1. The following formula (1) in one molecule: (Wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom). A (thio) epoxy compound, wherein the content of the high molecular weight compound derived from the (thio) epoxy compound is 20% by mass or less.
【請求項2】 1分子内に下記式(2) 【化2】 (式中、R4、R5、R6、はそれぞれ炭素数1〜10の
炭化水素基または水素原子、R7は炭素数1〜10の2
価の炭化水素基を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を
示す。)で示される構造を1個以上有する(チオ)エポ
キシ化合物であって、該(チオ)エポキシ化合物由来の
高分子量化物の含有量が20質量%以下であることを特
徴とする(チオ)エポキシ化合物。
2. The following formula (2) in one molecule: (Wherein, R 4 , R 5 , and R 6 each represent a hydrocarbon group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and R 7 represents 2 to 2 carbon atoms having 1 to 10 carbon atoms.
X represents a monovalent hydrocarbon group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. (Thio) epoxy compounds having at least one structure represented by the formula (I), wherein the content of the high molecular weight compound derived from the (thio) epoxy compound is 20% by mass or less. .
【請求項3】 前記(チオ)エポキシ化合物が下記式
(3)で表される化合物である請求項1又は2記載の
(チオ)エポキシ化合物。 【化3】 (式中、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。)
3. The (thio) epoxy compound according to claim 1, wherein the (thio) epoxy compound is a compound represented by the following formula (3). Embedded image (In the formula, X represents an oxygen atom or a sulfur atom.)
【請求項4】 1分子内に下記式(1) 【化4】 (式中、R1、R2、R3はそれぞれ炭素数1〜10の炭
化水素基または水素原子を示し、Xは酸素原子または硫
黄原子を示す。)で示される構造を1個以上有する(チ
オ)エポキシ化合物を炭化水素系の溶媒で抽出すること
により、高分子量化物を取り除くことを特徴とする(チ
オ)エポキシ化合物の精製方法。
4. The following formula (1) in one molecule: (Wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom). A method for purifying a (thio) epoxy compound, comprising removing a high molecular weight compound by extracting the thio) epoxy compound with a hydrocarbon-based solvent.
【請求項5】 1分子内に下記式(2) 【化5】 (式中、R4、R5、R6、はそれぞれ炭素数1〜10の
炭化水素基または水素原子、R7は炭素数1〜10の2
価の炭化水素基を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を
示す。)で示される構造を1個以上有する(チオ)エポ
キシ化合物を炭化水素系の溶媒で抽出することにより、
高分子量化物を取り除くことを特徴とする(チオ)エポ
キシ化合物の精製方法。
5. The following formula (2) in one molecule: (Wherein, R 4 , R 5 , and R 6 each represent a hydrocarbon group or a hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and R 7 represents 2 to 2 carbon atoms having 1 to 10 carbon atoms.
X represents a monovalent hydrocarbon group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. By extracting a (thio) epoxy compound having one or more structures represented by the formula) with a hydrocarbon-based solvent,
A method for purifying a (thio) epoxy compound, comprising removing a high molecular weight compound.
【請求項6】 前記(チオ)エポキシ化合物が下記式
(3)で表される化合物である請求項4又は5記載の
(チオ)エポキシ化合物の精製方法。 【化6】 (式中、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。)
6. The method for purifying a (thio) epoxy compound according to claim 4, wherein the (thio) epoxy compound is a compound represented by the following formula (3). Embedded image (In the formula, X represents an oxygen atom or a sulfur atom.)
【請求項7】 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の
(チオ)エポキシ化合物を含む(チオ)エポキシ樹脂組
成物。
7. A (thio) epoxy resin composition containing the (thio) epoxy compound according to any one of claims 1 to 3.
【請求項8】 請求項7記載の(チオ)エポキシ樹脂組
成物を、重合して得られるポリスルフィド系樹脂。
8. A polysulfide resin obtained by polymerizing the (thio) epoxy resin composition according to claim 7.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001163876A (en) * 1999-12-09 2001-06-19 Mitsui Chemicals Inc Method for purifying (thio)epoxy compound
JP2004315458A (en) * 2003-04-17 2004-11-11 Mitsui Chemicals Inc Method for refining episulfide composition

Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6261976A (en) * 1985-09-09 1987-03-18 チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト Stabilizer containing sulfur and hindered phenol group, manufacture and composition
JPH044224A (en) * 1990-04-20 1992-01-08 Shin Etsu Chem Co Ltd Purification of polymer
JPH07330905A (en) * 1994-06-10 1995-12-19 Shin Etsu Chem Co Ltd Production of organopolysiloxane oil containing very low amount of low-molecular siloxane
JPH08193104A (en) * 1994-11-14 1996-07-30 Lion Corp Integrated production of water-soluble sulfonated polymer
JPH0971580A (en) * 1995-09-08 1997-03-18 Mitsubishi Gas Chem Co Inc New branched alkyl sulfide type episulfide compound
JPH09110979A (en) * 1995-08-16 1997-04-28 Mitsubishi Gas Chem Co Inc New linear alkyl sulfide type episulfide compound
JPH1036426A (en) * 1996-07-25 1998-02-10 Tonen Chem Corp Production of propylene polymer
JPH11140070A (en) * 1997-09-03 1999-05-25 Mitsui Chem Inc New (thio)epoxy compound
JPH11180977A (en) * 1997-10-16 1999-07-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc New episulfide compound
JPH11183702A (en) * 1997-12-18 1999-07-09 Mitsui Chem Inc Novel (thio) epoxy resin
JPH11189592A (en) * 1997-12-25 1999-07-13 Mitsui Chem Inc Sulfur-containing epoxy compound and its use
JPH11322930A (en) * 1998-03-13 1999-11-26 Mitsui Chem Inc Polymerizable composition
JP2000186086A (en) * 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Production of episulfide compound
JP2000327677A (en) * 1999-03-16 2000-11-28 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Preservation of episulfide compound
JP2000336087A (en) * 1999-03-19 2000-12-05 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Purification of episulfide compound
JP2001131260A (en) * 1999-11-09 2001-05-15 Nippon Steel Chem Co Ltd Liquid resin molding material
JP2001151888A (en) * 1999-11-22 2001-06-05 Nippon Steel Chem Co Ltd Resin composition for optical material
JP2001163876A (en) * 1999-12-09 2001-06-19 Mitsui Chemicals Inc Method for purifying (thio)epoxy compound

Patent Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6261976A (en) * 1985-09-09 1987-03-18 チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト Stabilizer containing sulfur and hindered phenol group, manufacture and composition
JPH044224A (en) * 1990-04-20 1992-01-08 Shin Etsu Chem Co Ltd Purification of polymer
JPH07330905A (en) * 1994-06-10 1995-12-19 Shin Etsu Chem Co Ltd Production of organopolysiloxane oil containing very low amount of low-molecular siloxane
JPH08193104A (en) * 1994-11-14 1996-07-30 Lion Corp Integrated production of water-soluble sulfonated polymer
JPH09110979A (en) * 1995-08-16 1997-04-28 Mitsubishi Gas Chem Co Inc New linear alkyl sulfide type episulfide compound
JPH0971580A (en) * 1995-09-08 1997-03-18 Mitsubishi Gas Chem Co Inc New branched alkyl sulfide type episulfide compound
JPH1036426A (en) * 1996-07-25 1998-02-10 Tonen Chem Corp Production of propylene polymer
JPH11140070A (en) * 1997-09-03 1999-05-25 Mitsui Chem Inc New (thio)epoxy compound
JPH11180977A (en) * 1997-10-16 1999-07-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc New episulfide compound
JPH11183702A (en) * 1997-12-18 1999-07-09 Mitsui Chem Inc Novel (thio) epoxy resin
JPH11189592A (en) * 1997-12-25 1999-07-13 Mitsui Chem Inc Sulfur-containing epoxy compound and its use
JPH11322930A (en) * 1998-03-13 1999-11-26 Mitsui Chem Inc Polymerizable composition
JP2000186086A (en) * 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Production of episulfide compound
JP2000327677A (en) * 1999-03-16 2000-11-28 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Preservation of episulfide compound
JP2000336087A (en) * 1999-03-19 2000-12-05 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Purification of episulfide compound
JP2001131260A (en) * 1999-11-09 2001-05-15 Nippon Steel Chem Co Ltd Liquid resin molding material
JP2001151888A (en) * 1999-11-22 2001-06-05 Nippon Steel Chem Co Ltd Resin composition for optical material
JP2001163876A (en) * 1999-12-09 2001-06-19 Mitsui Chemicals Inc Method for purifying (thio)epoxy compound

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001163876A (en) * 1999-12-09 2001-06-19 Mitsui Chemicals Inc Method for purifying (thio)epoxy compound
JP2004315458A (en) * 2003-04-17 2004-11-11 Mitsui Chemicals Inc Method for refining episulfide composition
JP4599038B2 (en) * 2003-04-17 2010-12-15 三井化学株式会社 Method for improving the polymerizability of episulfide compositions

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