JP2001162238A - ディスク洗浄用メガソニック共振器およびその使用方法 - Google Patents

ディスク洗浄用メガソニック共振器およびその使用方法

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JP2001162238A JP2000331156A JP2000331156A JP2001162238A JP 2001162238 A JP2001162238 A JP 2001162238A JP 2000331156 A JP2000331156 A JP 2000331156A JP 2000331156 A JP2000331156 A JP 2000331156A JP 2001162238 A JP2001162238 A JP 2001162238A
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フィシュキン ボリス
Alexander Lerner
ラーナー アレクサンダー
Jianshe Tang
タン ジアンシェ
Brian J Brown
ジェイ． ブラウン ブライアン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハをメガソニック洗浄する改良方法お
よび装置を提供する。 【解決手段】 少なくとも一つの反射器を持ち、浪費さ
れがちな洗浄エネルギーを集めるように配置され、ウェ
ーハエッジの一または複数の位置へこのエネルギーを方
向転換するメガソニック洗浄装置が提供される。ある実
施形態は、複合パラボラ反射器５１を含んでいる。この
パラボラ反射器は、ウェーハの幅よりも大きくウェーハ
の直径にほぼ等しい望ましい長さの幅を持ち、パラボラ
反射器の長さに沿って変化する焦点を提供するよう形成
され、反射器の長さに沿った異なる点５４〜５９で反射
器に当たるエネルギーが、ウェーハエッジに沿った複数
の異なる点８４〜８９に向けられるようになる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、全体として、半導
体ウェーハ、コンパクトディスク、フラットパネルディ
スプレイ、ガラス基板等（即ち、ウェーハ）の薄ディス
クを洗浄する装置に関する。本発明は、特に、このよう
なウェーハのメガソニック洗浄に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造のために、半導体
材料の薄いスライスまたはウェーハは、ウェーハの表面
に研磨スラリーを供給するプロセスによるポリシングを
必要とする。ポリシング後、スラリー残渣は、一般に、
機械式スクラブ装置によってウェーハ表面から洗浄また
はスクラブされる。同様のポリシングステップは、後続
の装置が半導体ウェーハに処理を施している間に、誘電
体膜または金属膜を平坦化するためにも行われる。
【０００３】ポリシング後、ウェーハまたはデバイスの
処理中に、従来、スラリー残渣は、音波励振された洗浄
流体のタンクにウェーハを沈めることにより、または音
波励振された洗浄流体またはリンス流体を噴霧すること
により、またはポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）ブラシ等のブ
ラシを使用するスクラブ装置でウェーハを機械的に洗浄
することにより、または前述の組み合わせにより、ウェ
ーハ表面から洗浄される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来の洗浄装
置が、ウェーハ表面に付着しているスラリー残渣の大部
分を取り除くとはいえ、スラリー粒子はそれでもなお残
って後続の処理中に欠陥を生じさせる。特に、後続の処
理がスラリー残渣をウェーハエッジからウェーハの前面
へ再散布し、欠陥を招くことが判明した。
【０００５】かなりの数の装置が、ウェーハエッジ洗浄
を改善するために開発されてきた。ほとんどの装置は主
要面の洗浄に続く単独の洗浄ステップ中に使用される。
しかしながら、ウェーハの主要面およびエッジ面の両方
を同時にスクラブすることができる洗浄装置が幾つか開
発されている。このような装置の一つが、図１の側面図
に示されている。図１のスクラブ装置１１は、１対のＰ
ＶＡブラシ１３ａ、１３ｂを含む。各ブラシは、ブラシ
の表面全体に渡って複数の隆起した瘤１５を備えてい
る。また、このスクラバは、ウェーハＷを支持するプラ
ットフォーム１９、ウェーハＷを回転させる回転機構１
９ａ〜１９ｃ、およびＰＶＡブラシ１３ａ、１３ｂを回
転させる機構（図示せず）を含んでいる。スクラブ中
は、流体供給機構Ｆが、ウェーハの両主要面に流体を供
給し、粒子を取り除き、残渣をウェーハおよびブラシ１
３ａ、１３ｂから洗浄する。望ましくは、ウェーハＷの
エッジを容易に洗浄するために、１対のＰＶＡブラシ１
３ａ、１３ｂがウェーハエッジを越えて延在するように
配置される。図示のシステムは更に、別個のエッジブラ
シ２１を使用する。これは、エッジブラシを回転させる
別個のモータ（図示せず）により駆動される。このエッ
ジブラシは、ウェーハＷのエッジを覆うように装着さ
れ、効果的なウェーハエッジ洗浄を行う。
【０００６】上述の機械的手段は、スラリー残渣をウェ
ーハエッジから洗浄する必要性に対処するものである
が、スクラバの複雑さとコストの増加という犠牲を払っ
ており、過度の機械的磨耗のために頻繁にエッジブラシ
を交換することを必要とする。多くの場合、沈下タンク
内でのメガソニックウェーハ洗浄がスクラバタイプ洗浄
よりも好まれる。これは、上述したコストを考慮したた
めであり、また、洗浄溶液の化学的性質を変更すること
が望ましい場合があるためである。スクラブブラシに通
常用いられる材料は、化学的互換性を制限し、特定の化
学薬品としか共に用いることができない。このような場
合、メガソニック洗浄に続く従来のエッジスクラバの必
要性が、著しくウェーハ洗浄時間を増加させ、生産性を
減少させ、ウェーハ処理のコストを増加させる。しかし
ながら、メガソニック洗浄の欠点は、主要面が効果的に
メガソニックエネルギーにさらされる一方で、面取りウ
ェーハエッジの残渣が効果的に除去されないことであっ
た。
【０００７】従って、ウェーハをメガソニック洗浄する
改良された方法と装置を提供することが本発明の目的で
ある。
【０００８】ウェーハのメガソニック洗浄を最適化する
改良装置を提供することが本発明のもう一つの目的であ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の前述およびその
他の目的は、少なくとも一つの反射器を有するメガソニ
ック洗浄装置を備える本発明によって達成される。この
反射器は、浪費されがちな洗浄エネルギーを集め、その
エネルギーをウェーハエッジ上の一または複数の点に向
けて方向転換するように配置されている。
【００１０】本発明の第１の態様は、集められた全ての
エネルギーをウェーハエッジの単一の点に集束するよう
な形状を有する反射器（好ましくは、放物面反射器）を
備えている。トランスデューサにより生成されウェーハ
を通過するエネルギーは、反射器によって集められ、ウ
ェーハエッジ上の単一の点に向けて方向転換される。こ
のような単一焦点反射器を複数使用してもよい。
【００１１】本発明の別の態様は、その長さに沿って変
化する複数の焦点を提供するような形状の複合パラボラ
反射器を備えており、反射器長に沿った異なる点で反射
器に当たるエネルギーが、ウェーハエッジに沿った複数
の異なる点に向けられるようになっている。パラボラ反
射器がそこに沿って合焦するエッジ表面領域が大きくな
るにつれて、本発明の洗浄装置が受けるエッジ洗浄デュ
ーティサイクルが長くなる。従って、洗浄効率およびス
ループットを増加させるには、より長い反射器の方が好
ましい。反射器がウェーハの外周の半分に沿った複数の
焦点を提供するように構成されていることが最も好まし
い。
【００１２】更に別の態様は、ウェーハの表面に沿った
コード上に合焦するように設けられた単純なパラボラ反
射器を備えており、洗浄エネルギーをウェーハエッジに
沿った２つの点に任意の時間に効率良く集束させる。
【００１３】本発明の他の目的、特徴および利点は、好
適な実施形態、特許請求の範囲、および添付の図面につ
いての以下の詳細な説明から、より充分に明確になる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下では、添付の図面を特に参照
しながら本発明を詳細に説明する。
【００１５】図２は、メガソニック洗浄タンクの正面図
であり、本発明の装置および方法は、このタンク用に開
発されたものである。１９９８年１１月１１日に出願さ
れ、本譲受人に譲渡された米国特許出願第０９／１９
１，０５７号「Method and Apparatus for Cleaning th
e Edge of a Thin Disc」に詳述されているメガソニッ
ク洗浄装置は、最適にはウェーハの直径と実質的に等し
い長さを持つトランスデューサ２３を含んでおり、この
トランスデューサ２３は、メガソニック洗浄装置２０の
タンク２１の底に配置されている。トランスデューサ２
３の上方には、第１のウェーハ支持体２５および第２の
ウェーハ支持体２７が、トランスデューサ２３に沿って
ウェーハを縦に支持するよう配置されている。ウェーハ
支持体２５および２７は回転可能であり、各々が、ウェ
ーハを最小の接触で支持するためのＶ字型の溝を持つ回
転可能ホイールを備えていることが好ましい。ウェーハ
支持体２５および２７の少なくとも一つが、支持体を回
転させるためのモータ（図示せず）に作用的に結合され
ており、それによってウェーハを回転させる。安定化機
構２８が更に含まれており、ウェーハに接触してウェー
ハを安定させ、ぐらつきを防止するように配置される。
望ましくは、安定化機構２８は、トランスデューサエネ
ルギーのフラックスがウェーハの中心に到達することを
妨げないように、ウェーハの縦径からずらされている。
エネルギー遮蔽を更に最小限に抑えるため、ウェーハ支
持体２５および２７をウェーハの横径の直下に配置して
もよい。
【００１６】動作中、機械式ウェーハハンドラ２６は、
ウェーハをタンク２１に挿入し、ウェーハのエッジをウ
ェーハ支持体２５および２７ならびに安定化機構２８に
係合させる。トランスデューサ２３は、（例えば、図示
しない発振電源により）通電され、メガソニック速度で
発振を開始する。従って、メガソニックエネルギーが流
体に結合され、その結果、流体中にキャビテーションが
生じる。振動キャビテーション、すなわち流体中の泡
は、穏やかにウェーハを洗浄する。音場はアコースティ
ックストリーミングを生じさせ、これは、除去された粒
子をタンク２１から移送するのを助ける。ウェーハ支持
体２５および２７の少なくとも一つに結合されたモータ
（図示せず）が通電され、少なくとも一つのウェーハ支
持体２５および／または２７を回転させ、ウェーハを回
転させる。トランスデューサの長さがウェーハの直径に
ほぼ等しいという事実のために、ウェーハが回転する
と、ウェーハエッジ表面の５０％近くもがトランスデュ
ーサ２３からのメガソニックエネルギーに任意の時間に
接触することができる。しかしながら、ウェーハを通り
過ぎるような方向に向けられると浪費されるトランスデ
ューサエネルギーが相当量存在することが確認された。
【００１７】図３は、１９９８年１１月１１日に出願さ
れ本譲受人に譲渡された米国特許出願第０９／１９１，
０６０号「Improved Megasonic Cleaner」に見られるメ
ガソニック洗浄の改良の側面図を示している。本出願は
この出願の一部係属出願であるが、この出願では、ある
角度関係で集束素子３５に作用的に結合されたトランス
デューサ３３を備えるトランスデューサアセンブリが使
用される。トランスデューサ３３からのトランスデュー
サエネルギーは、集束素子３５によって、ウェーハの表
面に沿って走査される線３６に集束される。ウェーハ全
体に渡ってエネルギーを走査するために望ましくは、ウ
ェーハ表面上の点が集中したエネルギーを受けるよう
に、ある機構によってウェーハＷを回転および／または
縦方向に揺動させる。
【００１８】図４は、本発明のメガソニック洗浄装置の
第１実施形態の側面図である。図４に示される実施形態
は、流体に浸漬され、トランスデューサ４３からの全て
の反射エネルギーをタンク４２内のウェーハＷの表面上
の一点４７に集中させるように配置された単一焦点反射
器４１を提供する。図示の通り、単一焦点反射器４１
は、望ましくは、ウェーハの幅より大きくタンクの寸法
のみによって制限された幅を持つ放物面反射器（parabo
loid reflector）である。この反射器幅は、ウェーハを
通り過ぎるトランスデューサ生成エネルギーなら何でも
効果的に集めるように最適化される。単一焦点放物面反
射器４１の長さは、反射器上の全ての位置から同一の焦
点へのエネルギー方向転換を行うために必要な曲率によ
ってのみ制限される。
【００１９】動作中は、トランスデューサ４３が作動
し、その結果、タンク４２中の流体が励振される。この
とき、エネルギーは、ウェーハＷに向かって上方に送ら
れる。そのエネルギーの一部はウェーハを通過し、多く
の場合、洗浄効果をもたらさない。ウェーハを通過した
このエネルギーは、反射器４１に当たり、ウェーハエッ
ジ上の単一の点４７に向けて方向転換される。このよう
に、トランスデューサにより生成された直接洗浄エネル
ギーのほんの一部しか受け取らないウェーハエッジの点
４７は、集束され反射された洗浄エネルギー（即ち、ウ
ェーハを通過しなかった洗浄エネルギー）を受け取るこ
とになる。更に、ウェーハを回転機構（図示せず）によ
って回転させると、ウェーハエッジ上の隣接する複数の
点を、複数の単一点反射器により同時に洗浄することが
できる。例えば、反射器４１の曲率は、ウェーハエッジ
上の点４７におけるエネルギーの最適な集束に備えてい
るが、このような反射器の幅はウェーハの直径よりも短
くなることがあり、その結果、ウェーハを通過した他の
焦点の合っていないエネルギーが集められないままとな
ることある。従って、ウェーハエッジ上の複数の単一点
への集束を行うために複数の単一焦点反射器を提供する
ことが望ましい場合がある。
【００２０】図５（ａ）は、本発明のメガソニック洗浄
装置の他の実施形態の側面図である。この装置では、パ
ラボラ反射器（parabolic reflector）５１がウェーハ
Ｗの上方に配置され、タンク５２内に配された流体に沈
められている。パラボラ反射器５１は、ウェーハの幅よ
り大きくタンク５２の幅によってしか制限されない幅を
有している。この反射器幅は、上述の通り、ウェーハを
通過するトランスデューサ５３によって生成されたエネ
ルギーを効果的に集めるために最適化される。さもなけ
れば、このエネルギーは、浪費されてしまうか、流体表
面からランダムに反射されて、トランスデューサ５３に
より放出された直接洗浄エネルギーに干渉する可能性が
ある。好ましくは、パラボラ反射器５１の長さがウェー
ハＷの直径にほぼ等しく、方向転換されたエネルギーを
任意の時間に受け取るウェーハの外周に沿った点の数を
最大にするようになっているとよい。
【００２１】図５（ｂ）の正面図は、複合パラボラ反射
器５１の形状がカスタマイズされ、それによって、ウェ
ーハエッジに沿った複数の点に反射エネルギーが集束さ
れるように焦点が反射器５１の長さに沿って変化するこ
とを示している。従って、各位置５４〜５９におけるパ
ラボラ（放物線）５１の曲率は、これらの異なる位置の
各々で反射器に当たるエネルギーに異なる焦点を与え
る。図示のために、６個の異なる反射器位置がウェーハ
上の６個の異なる点に反射エネルギーを向けるものとし
て示されているが、当業者であれば分かるように、異な
る焦点を持つ任意の数の位置を複合パラボラ反射器に設
けることができので、ウェーハエッジの一部に沿った各
点にエネルギーを同時に集束させるように焦点を連続的
に調整することができる。図示の装置では、トランスデ
ューサ５３は、タンク５２の底に配置される。トランス
デューサ５３の長さは、全てのウェーハ表面を確実に音
波エネルギーにさらすことができるように、最低でもウ
ェーハの直径と同一であることが好ましい。
【００２２】動作中は、トランスデューサ５３が作動
し、タンク５２中の流体が励振される。このとき、エネ
ルギーは、ウェーハＷに向かって上方に送られる。その
エネルギーの一部はウェーハを通過し、多くの場合、洗
浄効果をもたらさない。ウェーハを通過したこのエネル
ギーは、反射器５１に当たり、ウェーハエッジ上の複数
の点４７に向けて方向転換される。具体的には、位置５
４で反射器に当たるエネルギーは、ウェーハエッジ上の
点８４へ方向転換される。同様に、位置５５〜５９に到
達するエネルギーは、ウェーハエッジに沿った点８５〜
８９にそれぞれ集束される。このように、トランスデュ
ーサにより生成された直接洗浄エネルギーのほんの一部
しか受け取っていなかったウェーハエッジ上の複数の点
５４〜５９が、集束され反射された洗浄エネルギーを受
ける。更に、ウェーハを回転機構（図示せず）によって
回転させると、ウェーハエッジの外周全体が洗浄される
ことになる。
【００２３】図６（ａ）は、本発明の他の実施形態の側
面図を示している。この装置は、単純で安価なパラボラ
６１を含んでいる。パラボラ反射器６１は、反射器の長
さ６６に沿って一定の焦点距離をもたらす一定の曲率を
持った単純な反射器である。パラボラ反射器６１は、タ
ンク６２内に配された流体に沈められたウェーハＷの上
方に配置される。ウェーハはタンク６２内で回転され、
トランスデューサ６３により励振された流体によって洗
浄される。図６（ｂ）の側面図に示されるように、ウェ
ーハＷを通過したトランスデューサ６３からのエネルギ
ーは、反射器の長さ６６に沿った様々な位置でパラボラ
反射器６１に接触する。反射器６１の曲率が一定である
ことから、反射器の長さ６６に沿った任意の位置で反射
器６１に当たるエネルギーは、反射器から一定の距離に
あるコード、即ち線６７に集束される。コード６７に沿
って位置するウェーハ表面上の全ての点と同様に、ウェ
ーハエッジに沿った点６８および６９は、集束されたエ
ネルギーによって洗浄される。
【００２４】前述の説明は、本発明の好適な実施形態を
開示したにすぎず、本発明の範囲内に含まれる前記開示
装置および方法の変形は、当業者にとって容易に明らか
になる。例えば、一または複数のトランスデューサによ
り発生されたエネルギーを集めるために、複数の反射器
（望ましくはパラボラ反射器または放物面反射器）を使
用してもよい。更に、浪費エネルギーのウェーハエッジ
への収集および方向転換を最適化するために、トランス
デューサの好適な位置および向きに応じて、パラボラ反
射器または放物面反射器の位置を修正してもよい。戦略
的に配置された反射器による通過エネルギーの方向転換
に加えて、タンク表面（側壁など）または流体表面で反
射されたエネルギーの方向転換は、メガソニック洗浄の
エネルギー効率を更に最適化することができる。音波エ
ネルギーをウェーハへ向ける反射器、通過音波エネルギ
ーを方向転換する反射器、および反射音波エネルギーを
方向転換する反射器の組み合わせが更に考えられる。反
射器は、ウェーハエッジの上方ではなくウェーハエッジ
の側方に縦に配置することもできる。この場合、反射器
は、タンクの反対側の側壁に沿って配置されたトランス
デューサから洗浄エネルギーを受け取ることができる。
このような実施形態では、ウェーハを完全に沈める必要
はなくなる。反射器は、図３を参照して説明したような
実施形態で使用することもでき、この場合、反射器は、
ウェーハの主要面を通り抜ける洗浄エネルギーを受け取
り、その洗浄エネルギーをウェーハエッジに向けるよう
に、ウェーハの裏面に沿って配置される。つまり、本発
明で使用される反射器は、事実上あらゆるメガソニック
タンク式クリーナ内で好適に使用することができる。従
って、当業者であれば分かるように、本願で提供された
実施形態は単に本発明の現在好適な実施形態の典型例で
あり、これによって本発明が限定されるものではない。
同様に、洗浄エネルギーは、望ましくはウェーハの洗浄
を支援しながらウェーハに接触した後、ウェーハを通過
して持続できることも理解される。従って、通過音波エ
ネルギーという用語は、ウェーハを通り過ぎるエネルギ
ーであって、通過の際にウェーハに接触する可能性もあ
れば接触しない可能性もあるエネルギーを指す。最後
に、単一焦点は、隣接する複数の点からなる一つの領域
を含むことがあり、また、平行な光線を焦点に集束させ
る反射器（例えば、パラボラ反射器または放物面反射
器）が望ましいものの、光線を焦点に集束させる任意の
反射器を使用することができる。
【００２５】このように、本発明をその好適な実施形態
に関連して開示したが、他の実施形態が、特許請求の範
囲に規定される本発明の趣旨と範囲に含まれることもあ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】ウェーハ洗浄のための従来技術の洗浄装置の平
面図である。
【図２】メガソニックウェーハ洗浄装置の正面図であ
る。
【図３】メガソニック洗浄装置の他の実施形態の側面図
である。
【図４】本発明のメガソニック洗浄装置の第１実施形態
の側面図である。
【図５】（ａ）は、本発明のメガソニック洗浄装置の第
２実施形態の側面図であり、（ｂ）は、（ａ）に図示さ
れた本発明の第２実施形態の側面図である。
【図６】（ａ）は、本発明のメガソニック洗浄装置の第
３実施形態の正面図であり、（ｂ）は、（ａ）に図示さ
れた本発明の第３実施形態の側面図である。
【符号の説明】
４１…単一焦点放物面反射器、４２…タンク、４３…ト
ランスデューサ、５１…放物面反射器、５２…タンク、
５３…トランスデューサ、６１…放物面反射器、６２…
タンク、６３…トランスデューサ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ボリス フィシュキン アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サン カルロス， エグゼター アヴェニ ュー 155 (72)発明者 アレクサンダー ラーナー アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サン ノゼ， ペッブルウッド コート 6661 (72)発明者 ジアンシェ タン アメリカ合衆国， カリフォルニア州， クパティノ， ソレンソン アヴェニュー 19400 (72)発明者 ブライアン ジェイ． ブラウン アメリカ合衆国， カリフォルニア州， パロ アルト， コロラド アヴェニュー 211

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウェーハのエッジ洗浄用のアセンブリで
    あって、 流体を含むタンクを備え、このタンクが、 ウェーハを洗浄するようにウェーハに向かって音波エネ
    ルギーを出力するトランスデューサであって、前記音波
    エネルギーの少なくとも一部が前記ウェーハを通過する
    トランスデューサと、 前記ウェーハを通過する前記音波エネルギーを受け取
    り、この通過音波エネルギを前記ウェーハエッジ上の少
    なくとも一つの点に向けて方向転換する集束部品と、を
    有している、アセンブリ。
  2. 【請求項２】 前記集束部品が、前記通過音波エネルギ
    ーを前記ウェーハエッジ上の複数の位置に向けて方向転
    換する複数の焦点を有するパラボラ反射器を備えてい
    る、請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 前記パラボラ反射器の長さが前記ウェー
    ハの直径にほぼ等しい、請求項２記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記集束部品は、前記ウェーハに集束さ
    れるエネルギーの直線を形成するように通過音波エネル
    ギーを方向転換する一定の焦点距離を有するパラボラ反
    射器を備えている、請求項１記載の装置。
  5. 【請求項５】 前記集束部品は、音波エネルギーを前記
    ウェーハ上の単一の焦点に向けて方向転換する少なくと
    も一つの反射器を備えている、請求項１記載の装置。
  6. 【請求項６】 前記集束部品は、各々が音波エネルギー
    を前記ウェーハ上の単一の焦点に向けて方向転換する複
    数の反射器を備えている、請求項５記載の装置。
  7. 【請求項７】 ウェーハのエッジを洗浄する装置であっ
    て、 ウェーハを少なくとも部分的に沈めることができる流体
    容器と、 音波エネルギーを前記容器内に含まれる流体を介して前
    記容器内に配置されたウェーハへ送るように、前記容器
    に作用的に結合された音波エネルギー源と、 前記容器内に含まれる流体に少なくとも部分的に沈めら
    れたウェーハを支持し、前記音波エネルギー源に対して
    直線的な関係で前記ウェーハを支持するように構成され
    たウェーハ支持体と、 前記ウェーハ支持体に作用的に結合され、前記ウェーハ
    支持体により支持された前記ウェーハを回転させるモー
    タと、 前記ウェーハを通過した音波エネルギーを前記ウェーハ
    のエッジ上の少なくとも一つの位置に向けて方向転換す
    る少なくとも一つの集束部品と、を備える装置。
  8. 【請求項８】 前記集束部品は、前記ウェーハを通過す
    る音波エネルギーを前記ウェーハのエッジ上の複数の位
    置に向けて方向転換する複数の焦点を有するパラボラ反
    射器を含んでいる、請求項７記載の装置。
  9. 【請求項９】 前記パラボラ反射器の長さが前記ウェー
    ハの直径にほぼ等しい、請求項８記載の装置。
  10. 【請求項１０】 前記集束部品は、前記ウェーハ上に集
    束エネルギーの直線を形成するように音波エネルギーを
    方向転換する一定の焦点距離を持つパラボラ反射器を含
    んでいる、請求項７記載の装置。
  11. 【請求項１１】 前記集束部品は、前記ウェーハ上に単
    一の焦点を形成するように音波エネルギーを方向転換す
    る少なくとも一つの反射器を含んでいる、請求項７記載
    の装置。
  12. 【請求項１２】 前記集束部品は、各々が音波エネルギ
    ーを前記ウェーハ上の単一の焦点に向けて方向転換する
    複数の反射器を含んでいる、請求項１１記載の装置。
  13. 【請求項１３】 ウェーハのエッジを洗浄する方法であ
    って、 流体内に少なくとも部分的に沈められるウェーハを支持
    するステップと、 音波エネルギーを前記ウェーハに沿った方向に向け、前
    記流体を通過させるステップと、 前記ウェーハを通過する音波エネルギーを前記ウェーハ
    のエッジ上の少なくとも一つの点に向けて方向転換する
    ステップと、 を備える方法。
  14. 【請求項１４】 前記流体内で前記ウェーハを回転させ
    るステップを更に備える請求項１３記載の方法。
  15. 【請求項１５】 通過音波エネルギーを方向転換する前
    記ステップは、通過音波エネルギーを前記ウェーハのエ
    ッジ上の少なくとも一つの点に向けて方向転換する集束
    部品を用意するステップを含んでいる、請求項１３記載
    の方法。
  16. 【請求項１６】 通過音波エネルギーを方向転換する前
    記ステップは、通過音波エネルギーを前記ウェーハのエ
    ッジ上の複数の位置に集束するステップを含んでいる、
    請求項１５記載の方法。
  17. 【請求項１７】 通過音波エネルギーを方向転換する前
    記ステップは、前記ウェーハに直線状の通過音波エネル
    ギーを集束させるステップを含んでいる、請求項１５記
    載の方法。
  18. 【請求項１８】 通過音波エネルギーを方向転換する前
    記ステップは、単一の焦点を有する少なくとも一つの集
    束部品を用意するステップを含んでいる、請求項１５記
    載の方法。
  19. 【請求項１９】 前記集束部品は、単一の焦点を各々が
    有する複数の反射器を備えており、前記方向転換ステッ
    プは、通過音波エネルギーを前記ウェーハのエッジにお
    ける複数の位置へ集束させるステップを含んでいる、請
    求項１５記載の方法。
  20. 【請求項２０】 前記集束部品が放物面を備えている、
    請求項５、６、１１または１２記載の装置。
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