JP2001158757A - ポリプレノール類の製造方法 - Google Patents
ポリプレノール類の製造方法Info
- Publication number
- JP2001158757A JP2001158757A JP34207099A JP34207099A JP2001158757A JP 2001158757 A JP2001158757 A JP 2001158757A JP 34207099 A JP34207099 A JP 34207099A JP 34207099 A JP34207099 A JP 34207099A JP 2001158757 A JP2001158757 A JP 2001158757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- heptamethyl
- carbon
- general formula
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
- C07C41/24—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by elimination of halogens, e.g. elimination of HCl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/09—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis
- C07C29/10—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis of ethers, including cyclic ethers, e.g. oxiranes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/58—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by elimination of halogen, e.g. by hydrogenolysis, splitting-off
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/297—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ポリプレノール類を温和な条件で生産性良
く、高収率、高選択率で工業的に有利に製造する方法の
提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ） で示されるアリルハライド化合物に、一般式（ＩＩＩ） M1AHpL1 4-p （ＩＩＩ） で示されるアルミニウム化合物または一般式（ＩＶ） M2BHqL2 4-q （ＩＶ） で示されるホウ素化合物を接触させることを特徴とする
一般式（ＩＩ） 具体的には、例えば１−ベンジルオキシ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンで
示されるポリプレノール類の製造方法。
く、高収率、高選択率で工業的に有利に製造する方法の
提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ） で示されるアリルハライド化合物に、一般式（ＩＩＩ） M1AHpL1 4-p （ＩＩＩ） で示されるアルミニウム化合物または一般式（ＩＶ） M2BHqL2 4-q （ＩＶ） で示されるホウ素化合物を接触させることを特徴とする
一般式（ＩＩ） 具体的には、例えば１−ベンジルオキシ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンで
示されるポリプレノール類の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリプレノール類
の製造方法に関する。本発明により製造されるポリプレ
ノール類は、医薬またはその合成中間体として有用であ
り、例えば３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オク
タコサヘキサエン−１−オールは、ヒトまたは動物の免
疫機能不全による疾患の予防薬または治療薬として有用
である（特開昭６２−１６９７２４号参照）。
の製造方法に関する。本発明により製造されるポリプレ
ノール類は、医薬またはその合成中間体として有用であ
り、例えば３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オク
タコサヘキサエン−１−オールは、ヒトまたは動物の免
疫機能不全による疾患の予防薬または治療薬として有用
である（特開昭６２−１６９７２４号参照）。
【０００２】
【従来の技術】アリル位末端の還元法としては、ジメ
チルスルホキシドを溶媒とし、ハイドロボレーション阻
害剤として１，５−ヘキサジインの共存下に、ＮａＢＨ
4を作用させる方法［ジャーナル・オブ・ジ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．）、９２巻、４４６３頁（１９７０年）参照］、
ＬｉＡｌＨ4を作用させる方法［ジャーナル・オブ・
ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、９５巻、５５３頁（１９７３
年）参照］、パラジウム触媒の存在下、ぎ酸ナトリウ
ムを水素源として用いる方法［ケミストリー・レターズ
（Ｃｈｅｍ Ｌｅｔｔ．）、１４６３頁（１９８６年）
参照］、パラジウム触媒の存在下、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムを水素源として用いる方法［ジャーナル
・オブ・ジ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．）、５６巻、２９１８頁（１９９１年）
参照］などが知られている。
チルスルホキシドを溶媒とし、ハイドロボレーション阻
害剤として１，５−ヘキサジインの共存下に、ＮａＢＨ
4を作用させる方法［ジャーナル・オブ・ジ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．）、９２巻、４４６３頁（１９７０年）参照］、
ＬｉＡｌＨ4を作用させる方法［ジャーナル・オブ・
ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、９５巻、５５３頁（１９７３
年）参照］、パラジウム触媒の存在下、ぎ酸ナトリウ
ムを水素源として用いる方法［ケミストリー・レターズ
（Ｃｈｅｍ Ｌｅｔｔ．）、１４６３頁（１９８６年）
参照］、パラジウム触媒の存在下、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムを水素源として用いる方法［ジャーナル
・オブ・ジ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．）、５６巻、２９１８頁（１９９１年）
参照］などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】末端アリルハライドよ
りポリプレノール類を合成しようとする場合、単に脱ハ
ロゲン化するだけでなく、位置選択的に炭素−炭素二重
結合を構築すること、また工業的に有利に実施し得るこ
とが必要となる。末端アリルハライドの脱ハロゲン化に
際し、上記の方法は、ハイドロボレーション阻害剤と
して用いる１，５−ヘキサジインが高価であるという問
題点がある。上記の方法はハロゲン化アルキルに適用
した例であるが、収率が低い。上記の方法では、炭素
−炭素二重結合の位置異性体が多く存在するため、選択
性の面で問題がある。また上記の方法では、炭素−炭
素二重結合の位置選択性は高いものの、反応温度として
−７８℃の極低温が必要であり、さらにパラジウム触媒
が高価であるという問題点がある。さらに、これらの方
法を適用して末端アリルハライドよりポリプレノール類
を製造した例はこれまでに知られていない。以上の状況
を鑑み、本発明者らは一般式（Ｖ）
りポリプレノール類を合成しようとする場合、単に脱ハ
ロゲン化するだけでなく、位置選択的に炭素−炭素二重
結合を構築すること、また工業的に有利に実施し得るこ
とが必要となる。末端アリルハライドの脱ハロゲン化に
際し、上記の方法は、ハイドロボレーション阻害剤と
して用いる１，５−ヘキサジインが高価であるという問
題点がある。上記の方法はハロゲン化アルキルに適用
した例であるが、収率が低い。上記の方法では、炭素
−炭素二重結合の位置異性体が多く存在するため、選択
性の面で問題がある。また上記の方法では、炭素−炭
素二重結合の位置選択性は高いものの、反応温度として
−７８℃の極低温が必要であり、さらにパラジウム触媒
が高価であるという問題点がある。さらに、これらの方
法を適用して末端アリルハライドよりポリプレノール類
を製造した例はこれまでに知られていない。以上の状況
を鑑み、本発明者らは一般式（Ｖ）
【０００４】
【化１５】
【０００５】（式中、Ｖ’、Ｗ’およびＸ’は、Ｖ’が
ハロゲン原子を表し、かつＷ’およびＸ’が一緒になっ
て炭素−炭素結合を表すか、またはＸ’がハロゲン原子
を表し、かつＶ’およびＷ’が一緒になって炭素−炭素
結合を表し；Ｙ’およびＺ’はそれぞれ水素原子を表す
か、または一緒になって炭素−炭素結合を表し；Ａは水
酸基の保護基を表し；ｎ’は０または１以上の整数を表
す。）で示される化合物に、アルカリ金属の有機錯体を
接触させることを特徴とするポリプレノール類の製造方
法を開発し、先に出願した（特開平１１−５７５９号公
報参照）。
ハロゲン原子を表し、かつＷ’およびＸ’が一緒になっ
て炭素−炭素結合を表すか、またはＸ’がハロゲン原子
を表し、かつＶ’およびＷ’が一緒になって炭素−炭素
結合を表し；Ｙ’およびＺ’はそれぞれ水素原子を表す
か、または一緒になって炭素−炭素結合を表し；Ａは水
酸基の保護基を表し；ｎ’は０または１以上の整数を表
す。）で示される化合物に、アルカリ金属の有機錯体を
接触させることを特徴とするポリプレノール類の製造方
法を開発し、先に出願した（特開平１１−５７５９号公
報参照）。
【０００６】この方法によれば、ポリプレノール類を選
択的に有利に製造し得る。しかしながら、本発明者らが
さらに検討したところ、かかる方法では反応温度が−２
０℃程度より高温である場合には脱ハロゲン化の選択性
が低下する傾向が認められた。すなわち、高選択的にポ
リプレノール類を製造するためには、反応時に、反応系
を−４０〜−３０℃付近に保つための冷却設備が必要と
なる。また、生産性の向上の観点から、高い原料濃度に
おける反応を詳細に検討したところ、比較例１に示すよ
うに、原料濃度が１５％程度を越えるような反応条件で
は反応収率が低下する傾向も認められた。さらに、本方
法では局所的な発熱が激しく反応系の温度制御が困難で
反応選択性が安定しないこと、アルカリ金属の有機錯体
を調製する際に扱う必要のあるアルカリ金属は常温で固
体である上、少量の水の存在下で発火するなどの危険が
あること、調製したアルカリ金属の有機錯体も粘性が高
いため取り扱いにくく、寿命が短いことなどの問題点を
有しており、これらさまざまな点でなお改良の余地があ
る。しかして、本発明の目的は、ポリプレノール類を温
和な条件で生産性良く、高収率、高選択率で工業的に有
利に製造し得る方法を提供することにある。
択的に有利に製造し得る。しかしながら、本発明者らが
さらに検討したところ、かかる方法では反応温度が−２
０℃程度より高温である場合には脱ハロゲン化の選択性
が低下する傾向が認められた。すなわち、高選択的にポ
リプレノール類を製造するためには、反応時に、反応系
を−４０〜−３０℃付近に保つための冷却設備が必要と
なる。また、生産性の向上の観点から、高い原料濃度に
おける反応を詳細に検討したところ、比較例１に示すよ
うに、原料濃度が１５％程度を越えるような反応条件で
は反応収率が低下する傾向も認められた。さらに、本方
法では局所的な発熱が激しく反応系の温度制御が困難で
反応選択性が安定しないこと、アルカリ金属の有機錯体
を調製する際に扱う必要のあるアルカリ金属は常温で固
体である上、少量の水の存在下で発火するなどの危険が
あること、調製したアルカリ金属の有機錯体も粘性が高
いため取り扱いにくく、寿命が短いことなどの問題点を
有しており、これらさまざまな点でなお改良の余地があ
る。しかして、本発明の目的は、ポリプレノール類を温
和な条件で生産性良く、高収率、高選択率で工業的に有
利に製造し得る方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、（１）一般式（Ｉ）
目的は、（１）一般式（Ｉ）
【０００８】
【化１６】
【０００９】（式中、Ｖ、ＷおよびＸは、Ｖがハロゲン
原子を表し、かつＷおよびＸが一緒になって炭素−炭素
結合を表すか、またはＸがハロゲン原子を表し、かつＶ
およびＷが一緒になって炭素−炭素結合を表し；Ｙおよ
びＺはそれぞれ水素原子を表すか、または一緒になって
炭素−炭素結合を表し；Ｒ1は水素原子または水酸基の
保護基を表し；ｎは０または１以上の整数を表す。）で
示されるアリルハライド化合物（以下、アリルハライド
（Ｉ）と略称する）に、一般式（ＩＩＩ）
原子を表し、かつＷおよびＸが一緒になって炭素−炭素
結合を表すか、またはＸがハロゲン原子を表し、かつＶ
およびＷが一緒になって炭素−炭素結合を表し；Ｙおよ
びＺはそれぞれ水素原子を表すか、または一緒になって
炭素−炭素結合を表し；Ｒ1は水素原子または水酸基の
保護基を表し；ｎは０または１以上の整数を表す。）で
示されるアリルハライド化合物（以下、アリルハライド
（Ｉ）と略称する）に、一般式（ＩＩＩ）
【００１０】
【化１７】
【００１１】（式中、Ｍ1はアルカリ金属を表し、Ｌ1は
アルキル基またはアルコキシル基を表し、ｐは１〜４の
整数を表す。）で示されるアルミニウム化合物（以下、
アルミニウム化合物（ＩＩＩ）と略称する）または一般
式（ＩＶ）
アルキル基またはアルコキシル基を表し、ｐは１〜４の
整数を表す。）で示されるアルミニウム化合物（以下、
アルミニウム化合物（ＩＩＩ）と略称する）または一般
式（ＩＶ）
【００１２】
【化１８】
【００１３】（式中、Ｍ2はアルカリ金属を表し、Ｌ2は
アルキル基、アルコキシル基、アシルオキシ基またはシ
アノ基を表し、ｑは１〜３の整数を表す。）で示される
ホウ素化合物（以下、ホウ素化合物（ＩＶ）と略称す
る）を接触させることを特徴とする一般式（ＩＩ）
アルキル基、アルコキシル基、アシルオキシ基またはシ
アノ基を表し、ｑは１〜３の整数を表す。）で示される
ホウ素化合物（以下、ホウ素化合物（ＩＶ）と略称す
る）を接触させることを特徴とする一般式（ＩＩ）
【００１４】
【化１９】
【００１５】（式中、Ｙ、Ｚおよびｎは前記定義のとお
りであり、Ｒ2は水素原子または水酸基の保護基を表
す。）で示されるポリプレノール類（以下、ポリプレノ
ール（ＩＩ）と略称する）の製造方法、（２）一般式
（Ｉ−１）
りであり、Ｒ2は水素原子または水酸基の保護基を表
す。）で示されるポリプレノール類（以下、ポリプレノ
ール（ＩＩ）と略称する）の製造方法、（２）一般式
（Ｉ−１）
【００１６】
【化２０】
【００１７】（式中、Ｖ、Ｗ、Ｘ、Ｙ、Ｚおよびｎは前
記定義のとおりであり、Ｒ11は水酸基の保護基を表
す。）で示されるアリルハライド化合物（以下、アリル
ハライド（Ｉ−１）と略称する）に、アルミニウム化合
物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）を接触させ一
般式（ＩＩ−１）
記定義のとおりであり、Ｒ11は水酸基の保護基を表
す。）で示されるアリルハライド化合物（以下、アリル
ハライド（Ｉ−１）と略称する）に、アルミニウム化合
物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）を接触させ一
般式（ＩＩ−１）
【００１８】
【化２１】
【００１９】（式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ11およびｎは前記定義
のとおりである。）で示される化合物（以下、化合物
（ＩＩ−１）と略称する）を得、次いで得られた化合物
（ＩＩ−１）の水酸基の保護基を脱保護することを特徴
とする一般式（ＩＩ−２）
のとおりである。）で示される化合物（以下、化合物
（ＩＩ−１）と略称する）を得、次いで得られた化合物
（ＩＩ−１）の水酸基の保護基を脱保護することを特徴
とする一般式（ＩＩ−２）
【００２０】
【化２２】
【００２１】（式中、Ｙ、Ｚおよびｎは前記定義のとお
りである。）で示されるポリプレノール類（以下、ポリ
プレノール（ＩＩ−２）と略称する）の製造方法、およ
び（３）アリルハライド（Ｉ−１）の水酸基の保護基を
脱保護して一般式（Ｉ−２）
りである。）で示されるポリプレノール類（以下、ポリ
プレノール（ＩＩ−２）と略称する）の製造方法、およ
び（３）アリルハライド（Ｉ−１）の水酸基の保護基を
脱保護して一般式（Ｉ−２）
【００２２】
【化２３】
【００２３】（式中、Ｖ、Ｗ、Ｘ、Ｙ、Ｚおよびｎは前
記定義のとおりである。）で示される化合物（以下、ア
リルハライド（Ｉ−２）と略称する）を得、次いで得ら
れたアリルハライド（Ｉ−２）にアルミニウム化合物
（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）を接触させるこ
とを特徴とするポリプレノール（ＩＩ−２）の製造方法
を提供することにより達成される。
記定義のとおりである。）で示される化合物（以下、ア
リルハライド（Ｉ−２）と略称する）を得、次いで得ら
れたアリルハライド（Ｉ−２）にアルミニウム化合物
（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）を接触させるこ
とを特徴とするポリプレノール（ＩＩ−２）の製造方法
を提供することにより達成される。
【００２４】
【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ1およびＲ11が
表す水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として通
常知られている保護基であれば特に制限はなく、例えば
ホルミル基、アセチル基、トリクロロアセチル基、フェ
ノキシアセチル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基、
２，４，６−トリメチルベンゾイル基、アリルカルボニ
ル基、ベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルカル
ボニル基、アダマンチルカルボニル基などのアシル基；
メトキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、１
−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基などの１
−アルコキシアルキル基；ベンジル基、ｐ−メトキシベ
ンジル基、ｏ−ニトロベンジル基などのアラルキル基；
アリル基；t−ブチル基などのアルキル基；ｔ−ブチル
ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
フェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリベ
ンジルシリル基などの三置換シリル基などが挙げられ
る。
表す水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として通
常知られている保護基であれば特に制限はなく、例えば
ホルミル基、アセチル基、トリクロロアセチル基、フェ
ノキシアセチル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基、
２，４，６−トリメチルベンゾイル基、アリルカルボニ
ル基、ベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルカル
ボニル基、アダマンチルカルボニル基などのアシル基；
メトキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、１
−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基などの１
−アルコキシアルキル基；ベンジル基、ｐ−メトキシベ
ンジル基、ｏ−ニトロベンジル基などのアラルキル基；
アリル基；t−ブチル基などのアルキル基；ｔ−ブチル
ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
フェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリベ
ンジルシリル基などの三置換シリル基などが挙げられ
る。
【００２５】ＶまたはＸが表すハロゲン原子としては、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。Ｍ
1およびＭ2が表すアルカリ金属としては、例えばリチウ
ム、ナトリウムなどが挙げられる。
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。Ｍ
1およびＭ2が表すアルカリ金属としては、例えばリチウ
ム、ナトリウムなどが挙げられる。
【００２６】Ｌ1およびＬ2が表すアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、１，２−ジメチルプロピル基などが
挙げられる。
例えばメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、１，２−ジメチルプロピル基などが
挙げられる。
【００２７】Ｌ1およびＬ2が表すアルコキシル基として
は、例えばメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、ｔ−
ブトキシ基、トリエチルメトキシ基などが挙げられる。
は、例えばメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、ｔ−
ブトキシ基、トリエチルメトキシ基などが挙げられる。
【００２８】Ｌ2が表すアシルオキシ基としては、例え
ばホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、トリフルオロ
アセチルオキシ基などが挙げられる。
ばホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、トリフルオロ
アセチルオキシ基などが挙げられる。
【００２９】ｎは０または１以上の整数を表し、好まし
くは１〜７の整数を表す。
くは１〜７の整数を表す。
【００３０】アルミニウム化合物（ＩＩＩ）としては、
例えば水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−
メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ト
リメトキシアルミニウムリチウム、水素化トリエトキシ
アルミニウムリチウム、水素化トリｔ−ブトキシアルミ
ニウムリチウムなどが挙げられる。これらの化合物は１
種類を単独で使用しても、２種類以上を混合して使用し
てもよい。また、これらの化合物に水素化アルミニウ
ム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの他の水素化
アルミニウム錯化合物をさらに併用しても差し支えな
い。本発明の方法では、アルミニウム化合物（ＩＩＩ）
として、価格および入手の容易性の観点から、水素化ア
ルミニウムリチウムまたは水素化ビス（２−メトキシエ
トキシ）アルミニウムナトリウムを使用することが特に
好ましい。例えば水素化アルミニウムリチウムは、ペレ
ット状、溶液状または溶媒に可溶性なポリスチレン性バ
ッグに分包されたもの［ケメタル社（Ｃｈｅｍｅｔａｌ
ｌ Ｇ．ｍ．ｂ．Ｈ、 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ、Ｇｅｒｍ
ａｎｙ）６０２７１参照］などのいずれの形態のものも
使用することができる。
例えば水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−
メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ト
リメトキシアルミニウムリチウム、水素化トリエトキシ
アルミニウムリチウム、水素化トリｔ−ブトキシアルミ
ニウムリチウムなどが挙げられる。これらの化合物は１
種類を単独で使用しても、２種類以上を混合して使用し
てもよい。また、これらの化合物に水素化アルミニウ
ム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの他の水素化
アルミニウム錯化合物をさらに併用しても差し支えな
い。本発明の方法では、アルミニウム化合物（ＩＩＩ）
として、価格および入手の容易性の観点から、水素化ア
ルミニウムリチウムまたは水素化ビス（２−メトキシエ
トキシ）アルミニウムナトリウムを使用することが特に
好ましい。例えば水素化アルミニウムリチウムは、ペレ
ット状、溶液状または溶媒に可溶性なポリスチレン性バ
ッグに分包されたもの［ケメタル社（Ｃｈｅｍｅｔａｌ
ｌ Ｇ．ｍ．ｂ．Ｈ、 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ、Ｇｅｒｍ
ａｎｙ）６０２７１参照］などのいずれの形態のものも
使用することができる。
【００３１】ホウ素化合物（ＩＶ）としては、例えば水
素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ
素カリウム、水素化トリｓ−ブチルホウ素カリウム、水
素化トリｓ−ブチルホウ素リチウム、水素化トリ（１，
２−ジメチルプロピル）ホウ素リチウム、水素化トリ
（１，２−ジメチルプロピル）ホウ素カリウム、トリメ
トキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素
ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムな
どが挙げられる。これらの化合物は１種類を単独で使用
しても、２種類以上を混合して使用してもよい。これら
の中でも、入手および取り扱いの容易性、反応の選択性
の観点から、水素化トリエチルホウ素リチウムを使用す
ることが特に好ましい。
素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ
素カリウム、水素化トリｓ−ブチルホウ素カリウム、水
素化トリｓ−ブチルホウ素リチウム、水素化トリ（１，
２−ジメチルプロピル）ホウ素リチウム、水素化トリ
（１，２−ジメチルプロピル）ホウ素カリウム、トリメ
トキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素
ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムな
どが挙げられる。これらの化合物は１種類を単独で使用
しても、２種類以上を混合して使用してもよい。これら
の中でも、入手および取り扱いの容易性、反応の選択性
の観点から、水素化トリエチルホウ素リチウムを使用す
ることが特に好ましい。
【００３２】次に、本発明の製造方法を説明する。
【００３３】工程（Ａ）：アリルハライド（Ｉ）にアル
ミニウム化合物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）
を接触させてポリプレノール（ＩＩ）を得る工程
ミニウム化合物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）
を接触させてポリプレノール（ＩＩ）を得る工程
【００３４】アルミニウム化合物（ＩＩＩ）の使用量
は、アリルハライド（Ｉ）に対して０．２〜２０モル倍
の範囲が好ましく、０．５〜１２モル倍の範囲がより好
ましい。また、ホウ素化合物（ＩＶ）の使用量は、アリ
ルハライド（Ｉ）に対して０．３〜５０モル倍の範囲が
好ましく、０．８〜３０モル倍の範囲がより好ましい。
は、アリルハライド（Ｉ）に対して０．２〜２０モル倍
の範囲が好ましく、０．５〜１２モル倍の範囲がより好
ましい。また、ホウ素化合物（ＩＶ）の使用量は、アリ
ルハライド（Ｉ）に対して０．３〜５０モル倍の範囲が
好ましく、０．８〜３０モル倍の範囲がより好ましい。
【００３５】反応は、溶媒の存在下に行うことが好まし
い。溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、ジ
ｎ−ブチルエーテル、ジグライム、ジオキサンなどのエ
ーテル；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；ヘ
キサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素が好ましく、テ
トラヒドロフランが特に好ましい。溶媒の使用量に特に
制限はないが、通常アリルハライド化合物（Ｉ）に対し
て、１〜２０重量倍の範囲であるのが好ましく、生産性
の観点からは１〜６重量倍の範囲がより好ましい。
い。溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、ジ
ｎ−ブチルエーテル、ジグライム、ジオキサンなどのエ
ーテル；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；ヘ
キサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素が好ましく、テ
トラヒドロフランが特に好ましい。溶媒の使用量に特に
制限はないが、通常アリルハライド化合物（Ｉ）に対し
て、１〜２０重量倍の範囲であるのが好ましく、生産性
の観点からは１〜６重量倍の範囲がより好ましい。
【００３６】反応温度は、−２０〜１２０℃の範囲が好
ましく、０〜５０℃の範囲がより好ましい。
ましく、０〜５０℃の範囲がより好ましい。
【００３７】反応は、例えばアリルハライド（Ｉ）を溶
媒に溶解し、この溶液にアルミニウム化合物（ＩＩＩ）
またはホウ素化合物（ＩＶ）を所定量添加して行う。ア
ルミニウム化合物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（Ｉ
Ｖ）の添加方法に特に制限はなく、所定量を一括で添加
しても、また少量ずつ添加してもよい。
媒に溶解し、この溶液にアルミニウム化合物（ＩＩＩ）
またはホウ素化合物（ＩＶ）を所定量添加して行う。ア
ルミニウム化合物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（Ｉ
Ｖ）の添加方法に特に制限はなく、所定量を一括で添加
しても、また少量ずつ添加してもよい。
【００３８】反応終了後、反応混合物からのポリプレノ
ール（ＩＩ）の単離・精製は、通常の有機反応において
行われる単離・精製法と同様にして行うことができる。
例えば、反応混合物を硫酸水溶液などの酸水溶液に投入
し、ｎ−ヘキサン、トルエンなどの炭化水素、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテルなどの溶媒で抽出し、得
られた抽出液を濃縮して得られる粗生成物を必要に応じ
てさらに蒸留、カラムクロマトグラフィーなどにより精
製する。
ール（ＩＩ）の単離・精製は、通常の有機反応において
行われる単離・精製法と同様にして行うことができる。
例えば、反応混合物を硫酸水溶液などの酸水溶液に投入
し、ｎ−ヘキサン、トルエンなどの炭化水素、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテルなどの溶媒で抽出し、得
られた抽出液を濃縮して得られる粗生成物を必要に応じ
てさらに蒸留、カラムクロマトグラフィーなどにより精
製する。
【００３９】なお、アリルハライド（Ｉ−１）にアルミ
ニウム化合物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）を
接触させて化合物（ＩＩ−１）を得る工程、および化合
物（Ｉ−２）にアルミニウム化合物（ＩＩＩ）またはホ
ウ素化合物（ＩＶ）を接触させてポリプレノール（ＩＩ
−２）を得る工程についても、上記した工程と同様にし
て実施できる。
ニウム化合物（ＩＩＩ）またはホウ素化合物（ＩＶ）を
接触させて化合物（ＩＩ−１）を得る工程、および化合
物（Ｉ−２）にアルミニウム化合物（ＩＩＩ）またはホ
ウ素化合物（ＩＶ）を接触させてポリプレノール（ＩＩ
−２）を得る工程についても、上記した工程と同様にし
て実施できる。
【００４０】特に、アリルハライド（Ｉ−１）の水酸基
の保護基が、ホルミル基、アセチル基、トリクロロアセ
チル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベ
ンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、ア
リルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロ
ベンジルカルボニル基、アダマンチルカルボニル基など
のアシル基のようにアルミニウム化合物（ＩＩＩ）また
はホウ素化合物（ＩＶ）により脱保護できる水酸基の保
護基である場合には、工程（Ａ）の反応において、アル
ミニウム化合物（ＩＩＩ）をアリルハライド（Ｉ−１）
に対して好ましくは１．５〜１２モル倍の範囲で、また
はホウ素化合物（ＩＶ）をアリルハライド（Ｉ−１）に
対して好ましくは１０〜３０モル倍の範囲で用い、かつ
反応温度を２０℃以上として反応させることにより、末
端アリルハライドを還元するだけでなく、次に述べる工
程（Ｂ）の水酸基の保護基を脱保護する反応を同時に行
い、ポリプレノール（ＩＩ−２）に一段階で変換するこ
とも可能である。
の保護基が、ホルミル基、アセチル基、トリクロロアセ
チル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベ
ンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、ア
リルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロ
ベンジルカルボニル基、アダマンチルカルボニル基など
のアシル基のようにアルミニウム化合物（ＩＩＩ）また
はホウ素化合物（ＩＶ）により脱保護できる水酸基の保
護基である場合には、工程（Ａ）の反応において、アル
ミニウム化合物（ＩＩＩ）をアリルハライド（Ｉ−１）
に対して好ましくは１．５〜１２モル倍の範囲で、また
はホウ素化合物（ＩＶ）をアリルハライド（Ｉ−１）に
対して好ましくは１０〜３０モル倍の範囲で用い、かつ
反応温度を２０℃以上として反応させることにより、末
端アリルハライドを還元するだけでなく、次に述べる工
程（Ｂ）の水酸基の保護基を脱保護する反応を同時に行
い、ポリプレノール（ＩＩ−２）に一段階で変換するこ
とも可能である。
【００４１】工程（Ｂ）：化合物（ＩＩ−１）の水酸基
の保護基を脱保護してポリプレノール（ＩＩ−２）を得
る工程
の保護基を脱保護してポリプレノール（ＩＩ−２）を得
る工程
【００４２】化合物（ＩＩ−１）の水酸基の脱保護は、
通常水酸基の保護基を脱保護するに際して行われる方法
と同様の方法で行うことができる。例えば、水酸基の保
護基がベンジル基などのアラルキル基の場合には、塩化
アルミニウム、四塩化スズ、三弗化ホウ素エーテル錯体
などのルイス酸性化合物の存在下、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、パラ−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
メタ−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、フェニル
スルフィド、フェノールなどに接触させることにより脱
保護する方法；ナトリウム−ナフタレン、リチウム−ナ
フタレン、ナトリウム−ビフェニル、リチウム−ビフェ
ニル、ナトリウム−アントラセン、リチウム−アントラ
センなどのアルカリ金属の有機錯体を接触させる方法；
ヨウ化トリメチルシランに接触させる方法などが挙げら
れる。また、水酸基の保護基がアセチル基などのアシル
基の場合には、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビ
ス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、
水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化トリ
エトキシアルミニウムリチウム、水素化トリt−ブトキ
シアルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニ
ウムなどの水素化アルミニウム錯化合物または水素化ト
リエチルホウ素カリウムなどの水素化ホウ素錯化合物を
接触させる方法などが挙げられ、水酸基の保護基がメト
キシメチル基などの１−アルコキシアルキル基の場合に
は塩酸などの酸に接触させる方法などが挙げられ、水酸
基の保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基、トリメチル
シリル基などの三置換シリル基の場合にはフッ化テトラ
ブチルアンモニウムに接触させる方法などが挙げられ
る。
通常水酸基の保護基を脱保護するに際して行われる方法
と同様の方法で行うことができる。例えば、水酸基の保
護基がベンジル基などのアラルキル基の場合には、塩化
アルミニウム、四塩化スズ、三弗化ホウ素エーテル錯体
などのルイス酸性化合物の存在下、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、パラ−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
メタ−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、フェニル
スルフィド、フェノールなどに接触させることにより脱
保護する方法；ナトリウム−ナフタレン、リチウム−ナ
フタレン、ナトリウム−ビフェニル、リチウム−ビフェ
ニル、ナトリウム−アントラセン、リチウム−アントラ
センなどのアルカリ金属の有機錯体を接触させる方法；
ヨウ化トリメチルシランに接触させる方法などが挙げら
れる。また、水酸基の保護基がアセチル基などのアシル
基の場合には、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビ
ス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、
水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化トリ
エトキシアルミニウムリチウム、水素化トリt−ブトキ
シアルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニ
ウムなどの水素化アルミニウム錯化合物または水素化ト
リエチルホウ素カリウムなどの水素化ホウ素錯化合物を
接触させる方法などが挙げられ、水酸基の保護基がメト
キシメチル基などの１−アルコキシアルキル基の場合に
は塩酸などの酸に接触させる方法などが挙げられ、水酸
基の保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基、トリメチル
シリル基などの三置換シリル基の場合にはフッ化テトラ
ブチルアンモニウムに接触させる方法などが挙げられ
る。
【００４３】得られたポリプレノール（ＩＩ−２）は、
蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の精製手段
により、さらに純度を高めることができる。
蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の精製手段
により、さらに純度を高めることができる。
【００４４】なお、アリルハライド（Ｉ−１）の水酸基
の保護基を脱保護してアリルハライド（Ｉ−２）を得る
工程についても、上記した通常水酸基の保護基を脱保護
するに際して行われる方法と同様の方法で行うことがで
きる。
の保護基を脱保護してアリルハライド（Ｉ−２）を得る
工程についても、上記した通常水酸基の保護基を脱保護
するに際して行われる方法と同様の方法で行うことがで
きる。
【００４５】特に、アリルハライド（Ｉ−１）の水酸基
の保護基が、ホルミル基、アセチル基、トリクロロアセ
チル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベ
ンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、ア
リルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロ
ベンジルカルボニル基、アダマンチルカルボニル基など
のアシル基のようにアルミニウム化合物（ＩＩＩ）また
はホウ素化合物（ＩＶ）により脱保護できる水酸基の保
護基である場合には、工程（Ｂ）の反応において、アル
ミニウム化合物（ＩＩＩ）をアリルハライド（Ｉ−１）
に対して好ましくは１．５〜１２モル倍の範囲で用い、
またはホウ素化合物（ＩＶ）をアリルハライド（Ｉ−
１）に対して好ましくは１０〜３０モル倍の範囲で用
い、かつ反応温度を２０℃以上として反応させることに
より、水酸基の保護基を脱保護してアリルハライド（Ｉ
−２）を得るにとどまらず、工程（Ａ）で述べた末端ア
リルハライドを還元する反応を同時に行い、ポリプレノ
ール（ＩＩ−２）に一段階で変換することも可能であ
る。
の保護基が、ホルミル基、アセチル基、トリクロロアセ
チル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベ
ンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、ア
リルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロ
ベンジルカルボニル基、アダマンチルカルボニル基など
のアシル基のようにアルミニウム化合物（ＩＩＩ）また
はホウ素化合物（ＩＶ）により脱保護できる水酸基の保
護基である場合には、工程（Ｂ）の反応において、アル
ミニウム化合物（ＩＩＩ）をアリルハライド（Ｉ−１）
に対して好ましくは１．５〜１２モル倍の範囲で用い、
またはホウ素化合物（ＩＶ）をアリルハライド（Ｉ−
１）に対して好ましくは１０〜３０モル倍の範囲で用
い、かつ反応温度を２０℃以上として反応させることに
より、水酸基の保護基を脱保護してアリルハライド（Ｉ
−２）を得るにとどまらず、工程（Ａ）で述べた末端ア
リルハライドを還元する反応を同時に行い、ポリプレノ
ール（ＩＩ−２）に一段階で変換することも可能であ
る。
【００４６】なお、アリルハライド（Ｉ）は一般式（Ｖ
Ｉ）
Ｉ）
【００４７】
【化２４】
【００４８】（式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ1およびｎは前記定義
のとおりである。）で示されるアリルアルコールを、例
えばジイソプロピルエーテルなどのエーテル中で塩化チ
オニル、三塩化リン、三臭化リンなどでハロゲン化する
ことにより容易に製造することができる（特開平９−１
２４５２５号公報参照）。
のとおりである。）で示されるアリルアルコールを、例
えばジイソプロピルエーテルなどのエーテル中で塩化チ
オニル、三塩化リン、三臭化リンなどでハロゲン化する
ことにより容易に製造することができる（特開平９−１
２４５２５号公報参照）。
【００４９】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるも
のではない。
るが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるも
のではない。
【００５０】参考例１ 窒素置換した１００ｍｌの反応容器に、１−ベンジルオ
キシ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタ
メチル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコ
サヘキサエン−２６−オール８．７７ｇ（１４．５ミリ
モル；一般式（Ｖ）で示される化合物； Ｙ＝Ｚ＝水素
原子、Ｒ1＝ベンジル基、ｎ＝５)およびジメチルホルム
アミド０．０１０６ｇ（０．１４５ミリモル）を入れ、
ジイソプロピルエーテル４０ｍｌを加えて溶解させ、−
５〜０℃に冷却した。この溶液に、ジイソプロピルエー
テル８ｍｌに溶解させたチオニルクロライド２．７６ｇ
（２３．２ミリモル）を−５〜０℃の範囲の温度で滴下
し、さらに同温度で１時間反応させたのち、反応温度を
２５℃まで昇温し、２５℃で３時間反応させた。反応混
合物を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１３２ｇ中に、
発泡に注意しながらゆっくり加え、ジイソプロピルエー
テルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を
留去した。得られた残留物１２．６４ｇを高速液体クロ
マトグラフィー（ＨＰＬＣ）により分析したところ、１
−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
８．３８ｇを含んでいた（クロライド化合物の含有量６
６．３％、混合比；１級クロライド：２級クロライド＝
９５：５、１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，
１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−２６−オール
からの収率：９３％）。
キシ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタ
メチル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコ
サヘキサエン−２６−オール８．７７ｇ（１４．５ミリ
モル；一般式（Ｖ）で示される化合物； Ｙ＝Ｚ＝水素
原子、Ｒ1＝ベンジル基、ｎ＝５)およびジメチルホルム
アミド０．０１０６ｇ（０．１４５ミリモル）を入れ、
ジイソプロピルエーテル４０ｍｌを加えて溶解させ、−
５〜０℃に冷却した。この溶液に、ジイソプロピルエー
テル８ｍｌに溶解させたチオニルクロライド２．７６ｇ
（２３．２ミリモル）を−５〜０℃の範囲の温度で滴下
し、さらに同温度で１時間反応させたのち、反応温度を
２５℃まで昇温し、２５℃で３時間反応させた。反応混
合物を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１３２ｇ中に、
発泡に注意しながらゆっくり加え、ジイソプロピルエー
テルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を
留去した。得られた残留物１２．６４ｇを高速液体クロ
マトグラフィー（ＨＰＬＣ）により分析したところ、１
−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
８．３８ｇを含んでいた（クロライド化合物の含有量６
６．３％、混合比；１級クロライド：２級クロライド＝
９５：５、１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，
１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−２６−オール
からの収率：９３％）。
【００５１】参考例２ アルゴン置換した５００ｍｌの反応容器にテトラヒドロ
フラン３０．０ｇを入れ、１−ベンジルオキシ−３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサ
エン−２６−オール９．００ｇ（含有量９５．０重量
％、１４．２ミリモル；一般式（Ｖ）で示される化合
物；Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝５）を
加えて溶解させ、−３０℃に冷却した。この溶液に２．
１０ｇのジエチルアミン（２８．７ミリモル）を加え、
次いでナトリウム−ナフタレン２１．３ｇ（１４１ミリ
モル）を含むテトラヒドロフラン溶液１２４．０ｇを−
２５〜−２０℃の範囲の温度で２０分かけて滴下し、滴
下終了後−２０℃にて１時間反応させた。反応混合物を
飽和塩化アンモニウム水溶液５００ｍｌ中へあけ、ジイ
ソプロピルエーテルで抽出し、抽出液を５％塩酸水２０
ｇで洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた
残留物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエン−１，２６−ジオールを含む粗生成物５．６４ｇ
を得た。
フラン３０．０ｇを入れ、１−ベンジルオキシ−３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサ
エン−２６−オール９．００ｇ（含有量９５．０重量
％、１４．２ミリモル；一般式（Ｖ）で示される化合
物；Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝５）を
加えて溶解させ、−３０℃に冷却した。この溶液に２．
１０ｇのジエチルアミン（２８．７ミリモル）を加え、
次いでナトリウム−ナフタレン２１．３ｇ（１４１ミリ
モル）を含むテトラヒドロフラン溶液１２４．０ｇを−
２５〜−２０℃の範囲の温度で２０分かけて滴下し、滴
下終了後−２０℃にて１時間反応させた。反応混合物を
飽和塩化アンモニウム水溶液５００ｍｌ中へあけ、ジイ
ソプロピルエーテルで抽出し、抽出液を５％塩酸水２０
ｇで洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた
残留物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエン−１，２６−ジオールを含む粗生成物５．６４ｇ
を得た。
【００５２】次に、窒素置換した５０ｍｌの反応容器に
ピリジン６０．０ｇを入れ、上記で得られた３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
１，２６−ジオールを含む粗生成物５．６４ｇを加えて
溶解させ、ピバロイルクロライド１．８２ｇ（１５．０
ミリモル）を−５〜０℃の範囲の温度で滴下し、さらに
同温度で１時間反応させたのち、反応温度を２５℃まで
昇温し、２５℃で１時間反応させた。反応混合物に水１
０ｇを加えジイソプロピルエーテル１０ｍｌで抽出し
た。抽出液を飽和食塩水、２％炭酸水素ナトリウム水溶
液および１０％食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。
得られた残留物８．６７ｇをシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより精製し、１−ピバロイルオキシ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
２６−オールを含む粗生成物５．８８ｇを得た。
ピリジン６０．０ｇを入れ、上記で得られた３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
１，２６−ジオールを含む粗生成物５．６４ｇを加えて
溶解させ、ピバロイルクロライド１．８２ｇ（１５．０
ミリモル）を−５〜０℃の範囲の温度で滴下し、さらに
同温度で１時間反応させたのち、反応温度を２５℃まで
昇温し、２５℃で１時間反応させた。反応混合物に水１
０ｇを加えジイソプロピルエーテル１０ｍｌで抽出し
た。抽出液を飽和食塩水、２％炭酸水素ナトリウム水溶
液および１０％食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。
得られた残留物８．６７ｇをシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより精製し、１−ピバロイルオキシ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
２６−オールを含む粗生成物５．８８ｇを得た。
【００５３】続いて、窒素置換した１００ｍｌの反応容
器に、上記で得られた１−ピバロイルオキシ−３，７，
１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
２６−オールを含む粗生成物５．８８ｇおよびジメチル
ホルムアミド０．００７３ｇ（０．１０ミリモル）を入
れ、ジイソプロピルエーテル１０ｍｌを加えて溶解さ
せ、−５〜０℃に冷却した。この溶液に、ジイソプロピ
ルエーテル８ｍｌに溶解させたチオニルクロライド１．
８８ｇ（１５．８ミリモル）を−５〜０℃の範囲の温度
で滴下し、さらに同温度で１時間反応させたのち、反応
温度を２５℃まで昇温し、２５℃で３時間反応させた。
反応混合物を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｇ
中に、発泡に注意しながらゆっくり加え、ジイソプロピ
ルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、
溶媒を留去した。得られた残留物７．４３ｇをＨＰＬＣ
により分析したところ、２８−クロロ−３，７，１１，
１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエニル ピバ
ロエートおよび２６−クロロ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエニル ピバロエー
トの混合物４．１６ｇ（クロライド化合物の含有量５
６．０重量％）を含んでいた（混合比；１級クロライ
ド：２級クロライド＝９５：５、１−ベンジルオキシ−
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエン−２６−オールからの収率４７％)。
器に、上記で得られた１−ピバロイルオキシ−３，７，
１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
２６−オールを含む粗生成物５．８８ｇおよびジメチル
ホルムアミド０．００７３ｇ（０．１０ミリモル）を入
れ、ジイソプロピルエーテル１０ｍｌを加えて溶解さ
せ、−５〜０℃に冷却した。この溶液に、ジイソプロピ
ルエーテル８ｍｌに溶解させたチオニルクロライド１．
８８ｇ（１５．８ミリモル）を−５〜０℃の範囲の温度
で滴下し、さらに同温度で１時間反応させたのち、反応
温度を２５℃まで昇温し、２５℃で３時間反応させた。
反応混合物を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｇ
中に、発泡に注意しながらゆっくり加え、ジイソプロピ
ルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、
溶媒を留去した。得られた残留物７．４３ｇをＨＰＬＣ
により分析したところ、２８−クロロ−３，７，１１，
１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエニル ピバ
ロエートおよび２６−クロロ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエニル ピバロエー
トの混合物４．１６ｇ（クロライド化合物の含有量５
６．０重量％）を含んでいた（混合比；１級クロライ
ド：２級クロライド＝９５：５、１−ベンジルオキシ−
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエン−２６−オールからの収率４７％)。
【００５４】実施例１ １−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）；Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝５）
の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１０．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム
０．２２ｇ（５．８ミリモル）を入れて溶解させ、０〜
１０℃に冷却した。この溶液に、参考例１の方法で得ら
れた１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンお
よび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの
混合物６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロ
ライド＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリ
モル）を０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同温
度で０．５時間反応させた後２５℃まで昇温し、６時間
反応させた（反応液中のクロライド化合物の含有量：２
４．５重量％）。反応混合物に、アセトン２ｇを発熱に
注意しながらゆっくり加え、その後１０％硫酸水溶液１
０ｇを加え攪拌し、分液した。有機層を２％炭酸水素ナ
トリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、溶媒などの
低沸成分を留去した。得られた残留物４．３０ｇをＨＰ
ＬＣにより分析したところ、１−ベンジルオキシ−３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサ
エン３．１２ｇを含んでいた。（１−ベンジルオキシ−
２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７
−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−
オクタコサヘキサエンおよび１−ベンジルオキシ−２６
−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オク
タコサヘキサエンの混合物からの収率：８３％）。
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）；Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝５）
の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１０．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム
０．２２ｇ（５．８ミリモル）を入れて溶解させ、０〜
１０℃に冷却した。この溶液に、参考例１の方法で得ら
れた１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンお
よび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの
混合物６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロ
ライド＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリ
モル）を０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同温
度で０．５時間反応させた後２５℃まで昇温し、６時間
反応させた（反応液中のクロライド化合物の含有量：２
４．５重量％）。反応混合物に、アセトン２ｇを発熱に
注意しながらゆっくり加え、その後１０％硫酸水溶液１
０ｇを加え攪拌し、分液した。有機層を２％炭酸水素ナ
トリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、溶媒などの
低沸成分を留去した。得られた残留物４．３０ｇをＨＰ
ＬＣにより分析したところ、１−ベンジルオキシ−３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサ
エン３．１２ｇを含んでいた。（１−ベンジルオキシ−
２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７
−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−
オクタコサヘキサエンおよび１−ベンジルオキシ−２６
−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オク
タコサヘキサエンの混合物からの収率：８３％）。
【００５５】比較例１ １−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝５）の
合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン５．０ｇを入れ、参考例１の方法で得られた１
−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド
＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリモル）
を加えて溶解させ、−３０℃に冷却した。この溶液に
０．９４ｇのジエチルアミン（１２．９ミリモル）を加
え、次いでナトリウム−ナフタレン２．１３ｇ（１４．
１ミリモル）を含むテトラヒドロフラン溶液１２．４ｇ
を２０分かけて滴下し、滴下終了後−３０℃にて１時間
反応させた（反応液中のクロライド化合物の含有量：１
６．３重量％）。反応液はかなり粘調になり攪拌が困難
であった。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液１
００ｍｌ中へあけ、ジイソプロピルエーテルで抽出し抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、得られた有機層を高速液体
クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により分析したとこ
ろ、１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，
２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン２．５６ｇを含んでい
た（１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンお
よび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの
混合物からの収率：６８％）。なお、脱ベンジル化した
ものは生成しておらず、原料であるアリルクロライドは
完全に消失していた。
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝５）の
合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン５．０ｇを入れ、参考例１の方法で得られた１
−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド
＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリモル）
を加えて溶解させ、−３０℃に冷却した。この溶液に
０．９４ｇのジエチルアミン（１２．９ミリモル）を加
え、次いでナトリウム−ナフタレン２．１３ｇ（１４．
１ミリモル）を含むテトラヒドロフラン溶液１２．４ｇ
を２０分かけて滴下し、滴下終了後−３０℃にて１時間
反応させた（反応液中のクロライド化合物の含有量：１
６．３重量％）。反応液はかなり粘調になり攪拌が困難
であった。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液１
００ｍｌ中へあけ、ジイソプロピルエーテルで抽出し抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、得られた有機層を高速液体
クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により分析したとこ
ろ、１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，
２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン２．５６ｇを含んでい
た（１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンお
よび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの
混合物からの収率：６８％）。なお、脱ベンジル化した
ものは生成しておらず、原料であるアリルクロライドは
完全に消失していた。
【００５６】実施例２ ３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール（ポリプレノール（ＩＩ−２）；Ｙ
＝Ｚ＝水素原子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した２００ｍｌの反応容器にトルエン１
０．５ｇおよび塩化アルミニウム４．９４ｇを入れて溶
解させ、次いでＮ，Ｎ−ジメチルアニリン５．３９ｇを
加えて０〜１０℃に冷却した。この溶液に、実施例１で
得られた１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２６−オクタコサヘキサエン３．１６ｇを含
む粗生成物４．２１ｇを０〜１０℃の範囲の温度で滴下
し、さらに同温度で０．５時間反応させた後、２５℃ま
で昇温し、３時間反応させた。反応混合物に１０％硫酸
水溶液６０ｇを加え攪拌し、分液した。有機層を２％炭
酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、得
られた有機層をＨＰＬＣにより分析したところ、３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサ
エン−１−オール２．３１ｇを得た（１−ベンジルオキ
シ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメ
チル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサ
ヘキサエン−２６−オールからの収率：８６％）。
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール（ポリプレノール（ＩＩ−２）；Ｙ
＝Ｚ＝水素原子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した２００ｍｌの反応容器にトルエン１
０．５ｇおよび塩化アルミニウム４．９４ｇを入れて溶
解させ、次いでＮ，Ｎ−ジメチルアニリン５．３９ｇを
加えて０〜１０℃に冷却した。この溶液に、実施例１で
得られた１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２６−オクタコサヘキサエン３．１６ｇを含
む粗生成物４．２１ｇを０〜１０℃の範囲の温度で滴下
し、さらに同温度で０．５時間反応させた後、２５℃ま
で昇温し、３時間反応させた。反応混合物に１０％硫酸
水溶液６０ｇを加え攪拌し、分液した。有機層を２％炭
酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、得
られた有機層をＨＰＬＣにより分析したところ、３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサ
エン−１−オール２．３１ｇを得た（１−ベンジルオキ
シ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメ
チル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサ
ヘキサエン−２６−オールからの収率：８６％）。
【００５７】実施例３ ２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７
−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−
オクタコサヘキサエン−１−オールおよび２６−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘ
キサエン−１−オール（ポリプレノール（Ｉ−２）；Ｖ
＝塩素原子、ＷおよびＸ＝炭素−炭素結合またはＸ＝塩
素原子、ＶおよびＷ＝炭素−炭素結合、Ｙ＝Ｚ＝水素原
子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した１０ｍｌの反応容器に、テトラヒドロ
フラン２．５ｇおよび水素化アルミニウムリチウム０．
０８ｇ（２．１ミリモル）を入れて溶解させ、−１５〜
−１０℃に冷却した。この溶液に、参考例２の方法で得
られた２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエニル ピバロエートおよ
び２６−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２
７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２７
−オクタコサヘキサエニル ピバロエートの混合物１．
０８ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド＝９
５：５、含有量５６．０重量％、０．９８ミリモル）を
−１５〜−１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同温度
で０．５時間反応させた。反応混合物にアセトン０．５
ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その後１０％硫
酸水溶液３．５ｇを加え攪拌し、分液した。有機層を２
％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた残留物
０．６８ｇをＨＰＬＣで分析したところ、２８−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘ
キサエン−１−オールおよび２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
１−オールを０．５２ｇ含んでいた（含有量７６．６重
量％、２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエニル ピバロエートおよ
び２６−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２
７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２７
−オクタコサヘキサエニル ピバロエートの混合物から
の収率：９１％）。
−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−
オクタコサヘキサエン−１−オールおよび２６−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘ
キサエン−１−オール（ポリプレノール（Ｉ−２）；Ｖ
＝塩素原子、ＷおよびＸ＝炭素−炭素結合またはＸ＝塩
素原子、ＶおよびＷ＝炭素−炭素結合、Ｙ＝Ｚ＝水素原
子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した１０ｍｌの反応容器に、テトラヒドロ
フラン２．５ｇおよび水素化アルミニウムリチウム０．
０８ｇ（２．１ミリモル）を入れて溶解させ、−１５〜
−１０℃に冷却した。この溶液に、参考例２の方法で得
られた２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエニル ピバロエートおよ
び２６−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２
７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２７
−オクタコサヘキサエニル ピバロエートの混合物１．
０８ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド＝９
５：５、含有量５６．０重量％、０．９８ミリモル）を
−１５〜−１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同温度
で０．５時間反応させた。反応混合物にアセトン０．５
ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その後１０％硫
酸水溶液３．５ｇを加え攪拌し、分液した。有機層を２
％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた残留物
０．６８ｇをＨＰＬＣで分析したところ、２８−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘ
キサエン−１−オールおよび２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエン−
１−オールを０．５２ｇ含んでいた（含有量７６．６重
量％、２８−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエニル ピバロエートおよ
び２６−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２
７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２７
−オクタコサヘキサエニル ピバロエートの混合物から
の収率：９１％）。
【００５８】実施例４ ３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール（ポリプレノール（ＩＩ−２）；Ｙ
＝Ｚ＝水素原子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した１０ｍｌの反応容器に、テトラヒドロ
フラン２．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム０．
０８ｇ（２．１ミリモル）を入れて溶解させ、０〜１０
℃に冷却した。この溶液に、実施例３で得られた２８−
クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプ
タメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタ
コサヘキサエン−１−オールおよび２６−クロロ−３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサ
エン−１−オールの混合物０．６８ｇ（混合比；１級ク
ロライド：２級クロライド＝９５：５、含有量７６．６
重量％）を０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同
温度で０．５時間反応させた後、反応温度を室温まで昇
温し、２５℃で６時間反応させた。反応混合物に、アセ
トン０．５ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その
後１０％硫酸水溶液３．５ｇを加え攪拌し、分液した。
有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩
水で洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた
残留物０．５１ｇをＨＰＬＣにより分析したところ、
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール０．３５ｇを含んでいた（２８−ク
ロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタ
メチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコ
サヘキサエニル ピバロエートおよび２６−クロロ−
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエニル ピバロエートの混合物からの収率：７２
％）。
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール（ポリプレノール（ＩＩ−２）；Ｙ
＝Ｚ＝水素原子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した１０ｍｌの反応容器に、テトラヒドロ
フラン２．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム０．
０８ｇ（２．１ミリモル）を入れて溶解させ、０〜１０
℃に冷却した。この溶液に、実施例３で得られた２８−
クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプ
タメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタ
コサヘキサエン−１−オールおよび２６−クロロ−３，
７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−
６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサ
エン−１−オールの混合物０．６８ｇ（混合比；１級ク
ロライド：２級クロライド＝９５：５、含有量７６．６
重量％）を０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同
温度で０．５時間反応させた後、反応温度を室温まで昇
温し、２５℃で６時間反応させた。反応混合物に、アセ
トン０．５ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その
後１０％硫酸水溶液３．５ｇを加え攪拌し、分液した。
有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩
水で洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた
残留物０．５１ｇをＨＰＬＣにより分析したところ、
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール０．３５ｇを含んでいた（２８−ク
ロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタ
メチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコ
サヘキサエニル ピバロエートおよび２６−クロロ−
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエニル ピバロエートの混合物からの収率：７２
％）。
【００５９】実施例５ ３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール（ポリプレノール（ＩＩ−２）；Ｙ
＝Ｚ＝水素原子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した５０ｍｌの反応容器に、テトラヒドロ
フラン４．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム０．
１５ｇ（３．９５ミリモル）を溶解させ、０〜１０℃に
冷却した。この溶液に、参考例１の方法で得られた２８
−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オク
タコサヘキサエニル ピバロエートおよび２６−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘ
キサエニル ピバロエートの混合物１．６０ｇ（混合
比；１級クロライド：２級クロライド＝９５：５、含有
量５６．０重量％、１．５ミリモル）を０〜１０℃の範
囲の温度で滴下し、さらに同温度で０．５時間反応させ
た後２５℃まで昇温し、６時間反応させた。反応混合物
に、アセトン１．０ｇを発熱に注意しながらゆっくり加
え、その後１０％硫酸水溶液６ｇを加え攪拌し、分液し
た。有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水で洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得ら
れた残留物１．０７ｇをＨＰＬＣにより分析したとこ
ろ、３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメ
チル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサ
ヘキサエン−１−オール０．５７ｇを含んでいた（２８
−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オク
タコサヘキサエニル ピバロエートおよび２６−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘ
キサエニル ピバロエートの混合物からの収率：７７
％）。
−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキ
サエン−１−オール（ポリプレノール（ＩＩ−２）；Ｙ
＝Ｚ＝水素原子、ｎ＝５）の合成 アルゴン置換した５０ｍｌの反応容器に、テトラヒドロ
フラン４．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム０．
１５ｇ（３．９５ミリモル）を溶解させ、０〜１０℃に
冷却した。この溶液に、参考例１の方法で得られた２８
−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オク
タコサヘキサエニル ピバロエートおよび２６−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘ
キサエニル ピバロエートの混合物１．６０ｇ（混合
比；１級クロライド：２級クロライド＝９５：５、含有
量５６．０重量％、１．５ミリモル）を０〜１０℃の範
囲の温度で滴下し、さらに同温度で０．５時間反応させ
た後２５℃まで昇温し、６時間反応させた。反応混合物
に、アセトン１．０ｇを発熱に注意しながらゆっくり加
え、その後１０％硫酸水溶液６ｇを加え攪拌し、分液し
た。有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水で洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得ら
れた残留物１．０７ｇをＨＰＬＣにより分析したとこ
ろ、３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメ
チル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサ
ヘキサエン−１−オール０．５７ｇを含んでいた（２８
−クロロ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘ
プタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オク
タコサヘキサエニル ピバロエートおよび２６−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘ
キサエニル ピバロエートの混合物からの収率：７７
％）。
【００６０】実施例６ １−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝
５）の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１５．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム
０．２２ｇ（５．８ミリモル）を入れて溶解させ、０〜
１０℃に冷却した。この溶液に、参考例１の方法で得ら
れた１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンお
よび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの
混合物６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロ
ライド＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリ
モル）を０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同温
度で０．５時間反応させた後、反応温度を室温まで昇温
し、２５℃で６時間反応させた（反応液中のクロライド
化合物の含有量：１８．７重量％）。反応混合物に、ア
セトン２ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その後
１０％硫酸水溶液１０ｇを加え攪拌し、分液した。有機
層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で
洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた残留
物４．２１ｇをＨＰＬＣにより分析したところ、１−ベ
ンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７
−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−
オクタコサヘキサエン３．１６ｇを含んでいた（１−ベ
ンジルオキシ−２８−クロル−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１−ベン
ジルオキシ−２６−クロル−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物からの
収率：８４％）。
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝
５）の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１５．０ｇおよび水素化アルミニウムリチウム
０．２２ｇ（５．８ミリモル）を入れて溶解させ、０〜
１０℃に冷却した。この溶液に、参考例１の方法で得ら
れた１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンお
よび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１
１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１
０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの
混合物６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロ
ライド＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリ
モル）を０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、さらに同温
度で０．５時間反応させた後、反応温度を室温まで昇温
し、２５℃で６時間反応させた（反応液中のクロライド
化合物の含有量：１８．７重量％）。反応混合物に、ア
セトン２ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その後
１０％硫酸水溶液１０ｇを加え攪拌し、分液した。有機
層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で
洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた残留
物４．２１ｇをＨＰＬＣにより分析したところ、１−ベ
ンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７
−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−
オクタコサヘキサエン３．１６ｇを含んでいた（１−ベ
ンジルオキシ−２８−クロル−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１−ベン
ジルオキシ−２６−クロル−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物からの
収率：８４％）。
【００６１】実施例７ １−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝
５）の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１０．０ｇを入れ、参考例１の方法で得られた
１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド
＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリモル）
を入れて溶解させ、０〜１０℃に冷却した。この溶液
に、水素化トリエチルホウ素リチウムの１．０Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液３８．４ｍｌ（３８．４ミリモル）を
０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、滴下終了後、２５℃
まで昇温し、１時間反応させた。反応混合物に、アセト
ン１０ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その後１
０％硫酸水溶液５０ｇを加え攪拌し、分液した。有機層
を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗
浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた残留物
５．１０ｇをＨＰＬＣにより分析したところ、１−ベン
ジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−
ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オ
クタコサヘキサエン２．８６ｇを含んでいた（１−ベン
ジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１−ベン
ジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物からの
収率：７６％）。
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝
５）の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１０．０ｇを入れ、参考例１の方法で得られた
１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド
＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリモル）
を入れて溶解させ、０〜１０℃に冷却した。この溶液
に、水素化トリエチルホウ素リチウムの１．０Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液３８．４ｍｌ（３８．４ミリモル）を
０〜１０℃の範囲の温度で滴下し、滴下終了後、２５℃
まで昇温し、１時間反応させた。反応混合物に、アセト
ン１０ｇを発熱に注意しながらゆっくり加え、その後１
０％硫酸水溶液５０ｇを加え攪拌し、分液した。有機層
を２％炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗
浄し、溶媒などの低沸成分を留去した。得られた残留物
５．１０ｇをＨＰＬＣにより分析したところ、１−ベン
ジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−
ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オ
クタコサヘキサエン２．８６ｇを含んでいた（１−ベン
ジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１−ベン
ジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１５，１
９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１
８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物からの
収率：７６％）。
【００６２】実施例８ １−ベンジルオキシ−３，７，１１，１５，１９，２
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝
５）の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１０．０ｇを入れ、参考例１の方法で得られた
１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド
＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリモル）
を入れて溶解させ、０〜１０℃に冷却した。この溶液
に、水素化ジイソブチルアルミニウムの１．０Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液２５．６ｍｌ（２５．６ミリモル）と
水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナト
リウムの１．０Ｍトルエン溶液２５．６ｍｌ（２５．６
ミリモル）の混合液を１０〜２０℃の範囲の温度で滴下
し、滴下終了後、昇温し、還流下で２時間反応させた。
反応混合物にアセトン１０ｇを発熱に注意しながらゆっ
くり加え、その後１０％硫酸水溶液５０ｇを加え攪拌
し、分液した。有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液
および飽和食塩水で洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去
した。得られた残留物４．５０ｇをＨＰＬＣにより分析
したところ、１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエン３．２０
ｇを含んでいた。（１−ベンジルオキシ−２８−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘ
キサエンおよび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエンの混合物からの収率：８５％）。
３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１４，１８，２
２，２６−オクタコサヘキサエン（化合物（ＩＩ−
１）； Ｙ＝Ｚ＝水素原子、Ｒ11＝ベンジル基、ｎ＝
５）の合成 アルゴン置換した１００ｍｌの反応容器に、テトラヒド
ロフラン１０．０ｇを入れ、参考例１の方法で得られた
１−ベンジルオキシ−２８−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエンおよび１
−ベンジルオキシ−２６−クロロ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２７−オクタコサヘキサエンの混合物
６．００ｇ（混合比；１級クロライド：２級クロライド
＝９５：５、含有量６６．３重量％、６．４ミリモル）
を入れて溶解させ、０〜１０℃に冷却した。この溶液
に、水素化ジイソブチルアルミニウムの１．０Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液２５．６ｍｌ（２５．６ミリモル）と
水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナト
リウムの１．０Ｍトルエン溶液２５．６ｍｌ（２５．６
ミリモル）の混合液を１０〜２０℃の範囲の温度で滴下
し、滴下終了後、昇温し、還流下で２時間反応させた。
反応混合物にアセトン１０ｇを発熱に注意しながらゆっ
くり加え、その後１０％硫酸水溶液５０ｇを加え攪拌
し、分液した。有機層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液
および飽和食塩水で洗浄し、溶媒などの低沸成分を留去
した。得られた残留物４．５０ｇをＨＰＬＣにより分析
したところ、１−ベンジルオキシ−３，７，１１，１
５，１９，２３，２７−ヘプタメチル−６，１０，１
４，１８，２２，２６−オクタコサヘキサエン３．２０
ｇを含んでいた。（１−ベンジルオキシ−２８−クロロ
−３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチ
ル−６，１０，１４，１８，２２，２６−オクタコサヘ
キサエンおよび１−ベンジルオキシ−２６−クロロ−
３，７，１１，１５，１９，２３，２７−ヘプタメチル
−６，１０，１４，１８，２２，２７−オクタコサヘキ
サエンの混合物からの収率：８５％）。
【００６３】
【発明の効果】本発明によれば、ポリプレノール類を温
和な条件で生産性良く、高収率、高選択率で工業的に有
利に製造することができる。
和な条件で生産性良く、高収率、高選択率で工業的に有
利に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 33/025 Ｃ０７Ｃ 33/025 43/17 43/17 43/176 43/176 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 玉井 洋進 新潟県北蒲原郡中条町倉敷町２番28号 株 式会社クラレ内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC13 AC80 BB11 BB15 BB25 BC10 BC35 BE22 BE23 FC78 GP01 4H039 CA29 CG20
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｖ、ＷおよびＸは、Ｖがハロゲン原子を表し、
かつＷおよびＸが一緒になって炭素−炭素結合を表す
か、またはＸがハロゲン原子を表し、かつＶおよびＷが
一緒になって炭素−炭素結合を表し；ＹおよびＺはそれ
ぞれ水素原子を表すか、または一緒になって炭素−炭素
結合を表し；Ｒ1は水素原子または水酸基の保護基を表
し；ｎは０または１以上の整数を表す。）で示されるア
リルハライド化合物に、一般式（ＩＩＩ） 【化２】 （式中、Ｍ1はアルカリ金属を表し、Ｌ1はアルキル基ま
たはアルコキシル基を表し、ｐは１〜４の整数を表
す。）で示されるアルミニウム化合物または一般式（Ｉ
Ｖ） 【化３】 （式中、Ｍ2はアルカリ金属を表し、Ｌ2はアルキル基、
アルコキシル基、アシルオキシ基またはシアノ基を表
し、ｑは１〜３の整数を表す。）で示されるホウ素化合
物を接触させることを特徴とする一般式（ＩＩ） 【化４】 （式中、Ｙ、Ｚおよびｎは前記定義のとおりであり、Ｒ
2は水素原子または水酸基の保護基を表す。）で示され
るポリプレノール類の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ−１） 【化５】 （式中、Ｖ、ＷおよびＸは、Ｖがハロゲン原子を表し、
かつＷおよびＸが一緒になって炭素−炭素結合を表す
か、またはＸがハロゲン原子を表し、かつＶおよびＷが
一緒になって炭素−炭素結合を表し；ＹおよびＺはそれ
ぞれ水素原子を表すか、または一緒になって炭素−炭素
結合を表し；Ｒ11は水酸基の保護基を表し；ｎは０また
は１以上の整数を表す。）で示されるアリルハライド化
合物に、一般式（ＩＩＩ） 【化６】 （式中、Ｍ1はアルカリ金属を表し、Ｌ1はアルキル基ま
たはアルコキシル基を表し、ｐは１〜４の整数を表
す。）で示されるアルミニウム化合物または一般式（Ｉ
Ｖ） 【化７】 （式中、Ｍ2はアルカリ金属を表し、Ｌ2はアルキル基、
アルコキシル基、アシルオキシ基またはシアノ基を表
し、ｑは１〜３の整数を表す。）で示されるホウ素化合
物を接触させ一般式（ＩＩ−１） 【化８】 （式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ11およびｎは前記定義のとおりであ
る。）で示される化合物を得、次いで得られた化合物の
水酸基の保護基を脱保護することを特徴とする一般式
（ＩＩ−２） 【化９】 （式中、Ｙ、Ｚおよびｎは前記定義のとおりである。）
で示されるポリプレノール類の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ−１） 【化１０】 （式中、Ｖ、ＷおよびＸは、Ｖがハロゲン原子を表し、
かつＷおよびＸが一緒になって炭素−炭素結合を表す
か、またはＸがハロゲン原子を表し、かつＶおよびＷが
一緒になって炭素−炭素結合を表し；ＹおよびＺはそれ
ぞれ水素原子を表すか、または一緒になって炭素−炭素
結合を表し；Ｒ11は水酸基の保護基を表し；ｎは０また
は１以上の整数を表す。）で示されるアリルハライド化
合物の水酸基の保護基を脱保護して一般式（Ｉ−２） 【化１１】 （式中、Ｖ、Ｗ、Ｘ、Ｙ、Ｚおよびｎは前記定義のとお
りである。）で示される化合物を得、次いで得られた化
合物に一般式（ＩＩＩ） 【化１２】 （式中、Ｍ1はアルカリ金属を表し、Ｌ1はアルキル基ま
たはアルコキシル基を表し、ｐは１〜４の整数を表
す。）で示されるアルミニウム化合物または一般式（Ｉ
Ｖ） 【化１３】 （式中、Ｍ2はアルカリ金属を表し、Ｌ2はアルキル基、
アルコキシル基、アシルオキシ基またはシアノ基を表
し、ｑは１〜３の整数を表す。）で示されるホウ素化合
物を接触させることを特徴とする一般式（ＩＩ−２） 【化１４】 （式中、Ｙ、Ｚおよびｎは前記定義のとおりである。）
で示されるポリプレノール類の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34207099A JP2001158757A (ja) | 1999-12-01 | 1999-12-01 | ポリプレノール類の製造方法 |
| PCT/JP2000/008203 WO2001040152A1 (fr) | 1999-12-01 | 2000-11-21 | Procede de production d'un derive du polyprenol |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34207099A JP2001158757A (ja) | 1999-12-01 | 1999-12-01 | ポリプレノール類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001158757A true JP2001158757A (ja) | 2001-06-12 |
Family
ID=18350934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34207099A Pending JP2001158757A (ja) | 1999-12-01 | 1999-12-01 | ポリプレノール類の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001158757A (ja) |
| WO (1) | WO2001040152A1 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3986577B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2007-10-03 | 株式会社クラレ | 二官能性テルペノイドの製造方法 |
| CA2234326C (en) * | 1997-04-25 | 2001-07-31 | Yoshin Tamai | Process for preparing polyprenols |
-
1999
- 1999-12-01 JP JP34207099A patent/JP2001158757A/ja active Pending
-
2000
- 2000-11-21 WO PCT/JP2000/008203 patent/WO2001040152A1/ja active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2001040152A1 (fr) | 2001-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU634213B2 (en) | Preparation of 5,6,7-trinor-4,8-inter-m-phenylene pgi2 derivatives | |
| EP0734369B1 (en) | Process for preparing intermediates for the synthesis of antifungal agents | |
| JP2693615B2 (ja) | １‐ハロ‐４，６，１０‐ヘキサデカトリエン化合物およびその製造方法 | |
| JP2001158757A (ja) | ポリプレノール類の製造方法 | |
| JPS6334856B2 (ja) | ||
| EP0873982B1 (en) | Process for preparing polyprenols | |
| JP4884982B2 (ja) | ビニルシランの製造方法 | |
| JP2573521B2 (ja) | ｐーｔｅｒｔーブトキシフェニルアルキルアルコールおよびその製造法 | |
| JP4203192B2 (ja) | ニトロフェニルフェノール化合物の製造法 | |
| JPS6111210B2 (ja) | ||
| JPS6212770B2 (ja) | ||
| US6814895B2 (en) | Process for the synthesis of 1-(3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl)ethan-1-one | |
| JP4243397B2 (ja) | 新規な不飽和２級アルコールおよびその製造法 | |
| JPH0761979A (ja) | ビスフェノール誘導体及びその製造方法 | |
| MXPA98003183A (en) | Process for preparing polyprene | |
| JPH115759A (ja) | ポリプレノール類の製造方法 | |
| JPS6341379B2 (ja) | ||
| EP0073447A1 (en) | Process for producing 1-(p-prenylphenyl)ethanol | |
| JPS6320212B2 (ja) | ||
| JPS6318926B2 (ja) | ||
| JPS58110589A (ja) | リニアチンの製造法 | |
| JPH0541617B2 (ja) | ||
| JP2001039989A (ja) | エステルシラン化合物のエステル交換法 | |
| JPS58164536A (ja) | 化合物１−デシロキシ−４−〔（７−オキサ−４−オクチニル）オキシ〕ベンゼンの製造方法 | |
| JPH0316957B2 (ja) |