JP2001148446A - Semiconductor device and manufacturing method therefor - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method therefor

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JP2001148446A
JP2001148446A JP33096399A JP33096399A JP2001148446A JP 2001148446 A JP2001148446 A JP 2001148446A JP 33096399 A JP33096399 A JP 33096399A JP 33096399 A JP33096399 A JP 33096399A JP 2001148446 A JP2001148446 A JP 2001148446A
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Japan
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semiconductor chip
semiconductor device
resin
opening
manufacturing
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Akira Kuroda
明 黒田
Tomiji Suda
富司 須田
Kazunori Higuchi
和範 樋口
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
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Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify a manufacturing process, in a manufacturing method of a BGA-type semiconductor device. SOLUTION: A semiconductor device manufacturing method comprises a first step where a semiconductor chip and a resin tape, where leads are provided are bonded together through the intermediary of an elastic material, a second step where the leads are deformed and connected to the bonding pads of the semiconductor chip, and a third step where joints between the leads and bonding pads, the semiconductor chip, and the side of the elastic material are sealed up. A first opening which overlaps with the bonding pads of the semiconductor chip and a second opening which corresponds to the peripheral part of the semiconductor chip, where no bonding pads are provided are provided in advance to the resin tape, and the leads corresponding to the bonding pads of the chip are extended traversing the first opening.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及びそ
の製造方法に関し、特に、ファインピッチのBGA(Ba
ll Grid Array;以下、単にBGAと称する)型の半
導体装置の製造方法に適用して有効な技術に関するもの
である。
The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a fine pitch BGA (Ba
The present invention relates to a technology that is effective when applied to a method of manufacturing a semiconductor device of the ll Grid Array (hereinafter simply referred to as BGA) type.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体チップと同程度の大きさの
超小型半導体装置として、例えば、BGA型の半導体装
置がある。前記BGA型の半導体装置は、例えば、半導
体チップのボンディングパッドが形成された面と、複数
のリードが設けられた樹脂テープ(搬送テープ)が、エ
ラストマと呼ばれる弾性体を介して接合されている。前
記樹脂テープに設けられた複数のリードは、前記半導体
チップのボンディングパッドとS字状に接続されてお
り、前記リードとボンディングパッドの接続部分はポッ
ティング樹脂を塗布して封止されている。また、前記リ
ードの一端は、前記樹脂テープの前記エラストマとの接
合界面の裏側の面に引き出されており、その引き出され
た部分(ランド)に、プリント基板等への実装用のバン
プが設けられる。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, there is a BGA type semiconductor device as an ultra-small semiconductor device having the same size as a semiconductor chip. In the BGA-type semiconductor device, for example, a surface of a semiconductor chip on which bonding pads are formed and a resin tape (transport tape) provided with a plurality of leads are joined via an elastic body called an elastomer. A plurality of leads provided on the resin tape are connected to bonding pads of the semiconductor chip in an S-shape, and a connecting portion between the leads and the bonding pads is sealed by applying a potting resin. One end of the lead is extended to a surface on the back side of a bonding interface of the resin tape with the elastomer, and a bump (mounting) for mounting on a printed board or the like is provided on the extended portion (land). .

【0003】前記BGA型の半導体装置では、前記リー
ドとボンディングパッドの接続部分にポッティング樹脂
を塗布して封止するだけでは、前記半導体チップとエラ
ストマの接合部分が露出してしまう。そのため、露出し
た前記半導体チップとエラストマの接合部分からの水分
などの進入により、前記半導体チップとエラストマの剥
離が起き、前記半導体チップあるいは樹脂テープの変形
などによるリードの断線等で半導体装置の信頼性が低下
するという問題があり、前記半導体チップ及びエラスト
マの側面部分にもポッティング樹脂を塗布し、前記エラ
ストマが露出しないように封止する必要がある。
In the BGA type semiconductor device, a joint portion between the semiconductor chip and the elastomer is exposed only by applying a potting resin to a connection portion between the lead and the bonding pad and sealing it. Therefore, the penetration of moisture or the like from the exposed joint portion between the semiconductor chip and the elastomer causes the separation of the elastomer from the semiconductor chip, and the reliability of the semiconductor device is reduced due to disconnection of the lead due to deformation of the semiconductor chip or the resin tape. Therefore, it is necessary to apply a potting resin to the side surfaces of the semiconductor chip and the elastomer, and to seal the elastomer so that the elastomer is not exposed.

【0004】前記BGA型の半導体装置において、半導
体チップ及びエラストマの側面部分をポッティング樹脂
で封止する方法としては、図8(a)及び図8(b)に
示すように、前記半導体チップ5の前記エラストマとの
接合界面の裏側の面に樹脂注入用テープ13を貼り付
け、前記樹脂テープ1のボンディングパッド7と重なる
位置に設けられた開口部3から大量のポッティング樹脂
8を注入し、前記リード2とボンディングパッド7の接
続部分にポッティング樹脂8を塗布する際に、前記樹脂
テープ1と樹脂注入用テープ13の間に漏れ出た前記ポ
ッティング樹脂8を前記半導体チップ5及びエラストマ
6の側面部分全体にいきわたらせる方法がある。
[0004] In the BGA type semiconductor device, a method of sealing the side surfaces of the semiconductor chip and the elastomer with a potting resin is as shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b). A resin injecting tape 13 is adhered to the back surface of the bonding interface with the elastomer, and a large amount of potting resin 8 is injected from an opening 3 provided at a position overlapping the bonding pad 7 of the resin tape 1, and the lead When the potting resin 8 is applied to a connection portion between the semiconductor chip 5 and the bonding pad 7, the potting resin 8 leaked between the resin tape 1 and the resin injecting tape 13 is entirely removed from the side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6. There is a way to spread it.

【0005】また、前記半導体チップ1上のボンディン
グパッド7が前記半導体チップの中央付近に直線状に配
置されたいわゆるセンターパッド型の半導体チップの場
合には、前記ボンディングパッド7と重なる位置に設け
られた開口部から樹脂を注入すると、前記ボンディング
パッド7が配置される方向と平行な側面を封止するのが
難しい。そのため、前記樹脂テープ側に樹脂注入用テー
プ13を貼り、前記樹脂テープの開口部をふさぎ、前記
開口部からポッティング樹脂が漏れ出さないようにし
て、前記半導体チップ側から大量のポッティング樹脂を
塗布して半導体チップ5全体を覆うようにしている。
In the case of a so-called center pad type semiconductor chip in which the bonding pads 7 on the semiconductor chip 1 are linearly arranged near the center of the semiconductor chip, the bonding pads are provided at positions overlapping the bonding pads 7. If a resin is injected through the opening, it is difficult to seal the side surface parallel to the direction in which the bonding pads 7 are arranged. Therefore, a resin injecting tape 13 is stuck on the resin tape side, an opening of the resin tape is closed, and a large amount of potting resin is applied from the semiconductor chip side so that the potting resin does not leak from the opening. Thus, the entire semiconductor chip 5 is covered.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の技術では、ポッティング樹脂を注入あるいは塗布す
る際に、前記樹脂注入用テープを貼り付ける工程、前記
ポッティング樹脂を硬化させたあとに前記樹脂注入用テ
ープをはがす工程、ならびに半導体チップの外側にあふ
れたポッティング樹脂を除去する工程が増えるため、製
造工程が複雑になるとともに製造コストが高くなるとい
う問題があった。
However, in the conventional technique, when a potting resin is injected or applied, a step of attaching the resin injection tape is performed, and after the potting resin is cured, the resin injection tape is hardened. Since the number of steps of removing the tape and removing the potting resin overflowing from the outside of the semiconductor chip is increased, there is a problem that the manufacturing process becomes complicated and the manufacturing cost increases.

【0007】また、前記ポッティング樹脂を注入あるい
は塗布する際に、前記半導体チップ及びエラストマの側
面全体に前記ポッティング樹脂をいきわたらせるため
に、大量の樹脂を使用するため、製造コストがさらに高
くなるという問題があった。
Further, when the potting resin is injected or applied, a large amount of resin is used to spread the potting resin over the entire side surface of the semiconductor chip and the elastomer, so that the manufacturing cost is further increased. There was a problem.

【0008】本発明の目的は、BGA型の半導体装置に
おいて、装置の信頼性の低下を防ぐことが可能な技術を
提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a technique capable of preventing a decrease in device reliability in a BGA type semiconductor device.

【0009】本発明の他の目的は、BGA型の半導体装
置の製造方法において、製造工程を簡便化することが可
能な技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of simplifying a manufacturing process in a method of manufacturing a BGA type semiconductor device.

【0010】本発明の他の目的は、BGA型の半導体装
置の製造方法において、製造コストを低減させる事が可
能な技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of reducing a manufacturing cost in a method of manufacturing a BGA type semiconductor device.

【0011】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明ら
かになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0013】(1)半導体チップと、該半導体チップの
ボンディングパッドが設けられた面上に、弾性体を介在
させて接合される、複数のリードが設けられた樹脂テー
プからなり、前記複数のリードが変形し、前記半導体チ
ップのボンディングパッドと電気的に接続され、該接続
部分が封止された半導体装置であって、前記半導体チッ
プ及び弾性体の側面が樹脂により封止されている半導体
装置である。
(1) A semiconductor chip and a resin tape provided with a plurality of leads, which is joined to a surface of the semiconductor chip on which bonding pads are provided with an elastic body interposed therebetween, wherein the plurality of leads are provided. Is deformed, is electrically connected to the bonding pad of the semiconductor chip, and is a semiconductor device in which the connection portion is sealed, wherein the side surfaces of the semiconductor chip and the elastic body are sealed with resin. is there.

【0014】(2)半導体チップと複数のリードが設け
られた樹脂テープを、弾性体を介在させて接合する工程
と、前記リードを変形させ、前記半導体チップのボンデ
ィングパッドと接続する工程と、前記リードとボンディ
ングパッドの接続部分と前記半導体チップ及び弾性体の
側面を封止する工程を備える半導体装置の製造方法であ
って、前記樹脂テープは、前記半導体チップのボンディ
ングパッドと重なる第1開口部と、前記半導体チップの
外周付近の前記ボンディングパッドが設けられていない
部分に対応する第2開口部が予め設けられており、前記
第1開口部には、前記半導体チップのボンディングパッ
ドと対応するリードが横断している。
(2) a step of joining a semiconductor chip and a resin tape provided with a plurality of leads with an elastic body interposed therebetween, a step of deforming the leads, and connecting the leads to bonding pads of the semiconductor chip; A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of sealing a connection portion between a lead and a bonding pad, and a side surface of the semiconductor chip and an elastic body, wherein the resin tape has a first opening overlapping with a bonding pad of the semiconductor chip. A second opening corresponding to a portion where the bonding pad is not provided near the outer periphery of the semiconductor chip is provided in advance, and a lead corresponding to the bonding pad of the semiconductor chip is provided in the first opening. Crossing.

【0015】(3)前記手段(2)に記載の半導体装置
の製造方法において、前記樹脂テープの第2開口部の一
端が、前記半導体チップの外周よりも平面的に外側にあ
る。
(3) In the method of manufacturing a semiconductor device according to the means (2), one end of the second opening of the resin tape is outside the outer periphery of the semiconductor chip in a plane.

【0016】(4)前記手段(3)に記載の半導体装置
の製造方法において、前記樹脂テープの第2開口部の一
端が、前記半導体チップの外周から平面的に0.1mm
から0.2mm外側にあることを特徴とする半導体装置
の製造方法。
(4) In the method of manufacturing a semiconductor device according to the means (3), one end of the second opening of the resin tape is 0.1 mm in plan from the outer periphery of the semiconductor chip.
A method of manufacturing a semiconductor device, which is 0.2 mm outside of the semiconductor device.

【0017】(5)前記手段(2)乃至(4)のいずれ
かに記載の半導体装置の製造方法において、前記リード
とボンディングパッドの接続部分と前記半導体チップ及
び弾性体の側面を封止する工程は、前記樹脂テープの第
1開口部及び第2開口部から樹脂を注入する。
(5) In the method of manufacturing a semiconductor device according to any one of the means (2) to (4), a step of sealing a connection portion between the lead and the bonding pad and a side surface of the semiconductor chip and the elastic body. Injects resin from the first opening and the second opening of the resin tape.

【0018】(6)前記手段(2)乃至(4)のいずれ
かに記載の半導体装置の製造方法において、前記リード
とボンディングパッドの接続部分と前記半導体チップ及
び弾性体の側面を封止する工程は、前記半導体チップ側
から、前記半導体チップの側面に沿って樹脂を注入す
る。
(6) In the method of manufacturing a semiconductor device according to any one of the means (2) to (4), a step of sealing a connection portion between the lead and the bonding pad and a side surface of the semiconductor chip and the elastic body. Injects resin from the semiconductor chip side along the side surface of the semiconductor chip.

【0019】以下、本発明について、図面を参照して実
施の形態(実施例)とともに詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail together with embodiments (examples) with reference to the drawings.

【0020】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。
In all the drawings for describing the embodiments, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】(実施例1)図1及び図2は本発
明による実施例1の半導体装置の概略構成を示す模式平
面図及び模式断面図であり、図1は模式平面図、図2
(a)は図1のA−A′線での模式断面図、図2(b)
は図1のB−B′線での模式断面図である。なお、図1
では、樹脂テープから半導体装置を切り離す前の段階を
示しており、半導体チップと樹脂テープとの関係をわか
りやすくするため封止用のポッティング樹脂、及び半導
体チップと樹脂テープの間に介在する弾性体を省略して
示している。
(Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 are a schematic plan view and a schematic cross-sectional view, respectively, showing a schematic configuration of a semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2
FIG. 2A is a schematic cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 1, FIG.
FIG. 2 is a schematic sectional view taken along line BB ′ of FIG. FIG.
Shows the stage before the semiconductor device is separated from the resin tape, a potting resin for sealing to make the relationship between the semiconductor chip and the resin tape easier to understand, and an elastic body interposed between the semiconductor chip and the resin tape. Is omitted.

【0022】図1及び図2において、1は樹脂テープ、
2はリード、2′はリード残り、2Aはランド、3A,
3Bは第1開口部、4A,4Bは第2開口部、5は半導
体チップ、6は弾性体(エラストマ)、7はボンディン
グパッド、8はポッティング樹脂、9はバンプである。
1 and 2, 1 is a resin tape,
2 is a lead, 2 'is a remaining lead, 2A is a land, 3A,
3B is a first opening, 4A and 4B are second openings, 5 is a semiconductor chip, 6 is an elastic body (elastomer), 7 is a bonding pad, 8 is a potting resin, and 9 is a bump.

【0023】本実施例1の半導体装置は、ファインピッ
チのBGA型の半導体装置であり、図1及び図2に示す
ように、複数のリード2が設けられた樹脂テープ1、長
辺方向の外周付近にボンディングパッド7が直線状に配
置された半導体チップ5、前記樹脂テープ1と半導体チ
ップ5の間に介在する弾性体(以下、エラストマと称す
る)6、前記リード2とボンディングパッド7との接続
部分と、前記半導体チップ5及びエラストマ6の側面を
封止するポッティング樹脂8、前記リード2の一端を樹
脂テープ1の前記エラストマ6との接合界面の裏側の面
に引き出したランド2Aに接続されるバンプ9により構
成される。なお、図1において、前記リード2は前記樹
脂テープ1の前記エラストマ6との接合界面(下面)側
に設けられており、かつ前記リード2とボンディングパ
ッド7との接続部分はポッティング樹脂8により封止さ
れているので、実際には見えない。
The semiconductor device of the first embodiment is a fine pitch BGA type semiconductor device, as shown in FIGS. 1 and 2, a resin tape 1 provided with a plurality of leads 2 and an outer periphery in a long side direction. A semiconductor chip 5 in which bonding pads 7 are linearly arranged in the vicinity; an elastic body (hereinafter referred to as an elastomer) 6 interposed between the resin tape 1 and the semiconductor chip 5; a connection between the leads 2 and the bonding pads 7 And a potting resin 8 for sealing the side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6, and one end of the lead 2 is connected to a land 2A which is drawn out to the back surface of the bonding interface of the resin tape 1 with the elastomer 6. It is composed of bumps 9. In FIG. 1, the lead 2 is provided on the bonding interface (lower surface) of the resin tape 1 with the elastomer 6, and the connecting portion between the lead 2 and the bonding pad 7 is sealed with a potting resin 8. Because it is stopped, it is not actually visible.

【0024】前記樹脂テープ1に設けられたリード2
は、図2(a)に示すように、S字状に変形させて前記
半導体チップ5のボンディングパッド7と電気的に接続
されている。本実施例1のようなBGA型の半導体装置
では、前記S字状に変形したリード2と、前記樹脂テー
プ1と半導体チップ5の間に介在するエラストマ6によ
り、前記樹脂テープ1と半導体チップ5の熱膨張係数の
差に起因する熱ストレスを緩和することができる。
The lead 2 provided on the resin tape 1
Are electrically connected to the bonding pads 7 of the semiconductor chip 5 by being deformed into an S-shape as shown in FIG. In the BGA type semiconductor device as in the first embodiment, the resin tape 1 and the semiconductor chip 5 are formed by the S-shaped lead 2 and the elastomer 6 interposed between the resin tape 1 and the semiconductor chip 5. Thermal stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the two can be reduced.

【0025】前記エラストマ6は、例えば、弾性樹脂か
らなるコア層の両側にシリコン系の接着層が設けられた
3層構造をしたものである。また、その他にも、フッ素
系多孔質材を用いたコア層を設け、その両側をエポキシ
系接着層としたものや、ポリイミド樹脂系のコア層の両
側にアクリル変性エポキシ系接着層を設けたものでもよ
い。
The elastomer 6 has, for example, a three-layer structure in which a silicon-based adhesive layer is provided on both sides of a core layer made of an elastic resin. In addition, a core layer using a fluorine-based porous material is provided, and an epoxy-based adhesive layer is provided on both sides thereof, or an acrylic-modified epoxy-based adhesive layer is provided on both sides of a polyimide resin core layer. May be.

【0026】前記樹脂テープ1には、図1に示すよう
に、前記半導体チップ5の長辺方向に設けられたボンデ
ィングパッド7と重なる第1開口部3A,3Bと、短辺
方向の外周付近、すなわち前記半導体チップ5の外周付
近の前記ボンディングパッド7が設けられていない部分
に対応する第2開口部4A,4Bが設けられている。
As shown in FIG. 1, the resin tape 1 has first openings 3A and 3B overlapping the bonding pads 7 provided in the long side direction of the semiconductor chip 5, and the vicinity of the outer periphery in the short side direction, That is, the second openings 4A and 4B corresponding to the portions where the bonding pads 7 are not provided near the outer periphery of the semiconductor chip 5 are provided.

【0027】本実施例1の半導体装置は、図2(a)に
示すように、前記樹脂テープ1の第1開口部3A付近に
ある前記リード2とボンディングパッド7の接続部分と
前記第1開口部3Aのある方向に対応する前記半導体チ
ップ5及びエラストマ6の側面が前記ポッティング樹脂
8により封止されていると同時に、図2(b)に示すよ
うに、前記樹脂テープ1の第2開口部4Aのある方向に
対応する前記半導体チップ5及びエラストマ6の側面も
前記ポッティング樹脂8により封止されている。また、
図示はしないが、もう一方の第1開口部3Bのある方向
は図2(a)に示した第1開口部3Aと同様の構成でポ
ッティング樹脂8で封止されており、もう一方の第2開
口部4Bのある方向も図2(b)に示した第2開口部4
Aと同様の構成でポッティング樹脂8により封止されて
いる。すなわち、前記半導体チップ5とエラストマ6の
側面全体がポッティング樹脂8により封止されている。
前記ポッティング樹脂8には例えば、エポキシ系の樹脂
を用いる。
As shown in FIG. 2A, in the semiconductor device of the first embodiment, a connection portion between the lead 2 and the bonding pad 7 near the first opening 3A of the resin tape 1 and the first opening are formed. As shown in FIG. 2B, the side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 corresponding to a certain direction of the portion 3A are sealed with the potting resin 8, and at the same time, the second opening of the resin tape 1 is formed. The side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 corresponding to a certain direction of 4A are also sealed by the potting resin 8. Also,
Although not shown, the direction in which the other first opening 3B is located is sealed with a potting resin 8 in the same configuration as the first opening 3A shown in FIG. The direction in which the opening 4B is located is also the second opening 4 shown in FIG.
It is sealed with a potting resin 8 in the same configuration as A. That is, the entire side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 are sealed with the potting resin 8.
As the potting resin 8, for example, an epoxy resin is used.

【0028】図3乃至図5は本実施例1の半導体装置の
製造方法を説明するための模式図であり、図3は本実施
例1の半導体装置の製造に用いる樹脂テープの構成を示
す平面図及び部分拡大図、図4および図5は本実施例1
の半導体装置の各製造工程における模式断面図である。
なお、図4および図5の模式断面図は、図1のA−A′
線での断面に対応する。
FIGS. 3 to 5 are schematic views for explaining a method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment. FIG. 3 is a plan view showing the structure of a resin tape used for manufacturing the semiconductor device of the first embodiment. 4 and FIG. 5 show the first embodiment.
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of each manufacturing step of the semiconductor device.
The schematic sectional views of FIGS. 4 and 5 are taken along the line AA ′ of FIG.
Corresponds to the cross section at the line.

【0029】図3において、2Bはリードのくぼみ(ノ
ッチ)、L1はリード幅、L2はリードのノッチ2Bの
幅、L3は第1開口部3Aの開口幅である。また、図5
において、10はシリンジ、11はノズルである。
In FIG. 3, 2B is a notch of the lead, L1 is a lead width, L2 is a width of the notch 2B of the lead, and L3 is an opening width of the first opening 3A. FIG.
In the figure, 10 is a syringe, and 11 is a nozzle.

【0030】以下、図3乃至図5を用いて、本実施例1
の半導体装置の製造方法を説明する。まず、図3(a)
に示すような、接合される半導体チップのボンディング
パッドと重なる位置に第1開口部3A,3Bが設けら
れ、前記半導体チップの外周付近で、前記ボンディング
パッドが設けられていない部分に対応する第2開口部4
A,4Bが設けられた樹脂テープ1を用意する。前記樹
脂テープ1には前記半導体チップのボンディングパッド
と対応する複数のリード2が設けられており、前記リー
ドは、前記第1開口部3A,3Bを横断している。図3
においても、前記リード2は前記樹脂テープ1の下面に
設けられており、実際には前記第1開口部3A,3Bの
ところでしか見えない。
Hereinafter, the first embodiment will be described with reference to FIGS.
A method of manufacturing a semiconductor device will be described. First, FIG.
The first openings 3A and 3B are provided at positions overlapping the bonding pads of the semiconductor chip to be bonded, as shown in FIG. 2, and a second portion corresponding to a portion where the bonding pad is not provided near the outer periphery of the semiconductor chip. Opening 4
A resin tape 1 provided with A and 4B is prepared. The resin tape 1 is provided with a plurality of leads 2 corresponding to the bonding pads of the semiconductor chip, and the leads traverse the first openings 3A and 3B. FIG.
Also, the leads 2 are provided on the lower surface of the resin tape 1, and are actually visible only at the first openings 3A and 3B.

【0031】前記リード2の一端は、前記第1開口部3
A,3B及び第2開口部4A,4Bで囲まれた領域内
で、プリント基板等への実装用のバンプを設けるための
ランド2Aとして前記樹脂テープ1の前記リード2が設
けられた面の裏側の面に引き出されている。
One end of the lead 2 is connected to the first opening 3
A, 3B and a back side of a surface of the resin tape 1 on which the leads 2 are provided as lands 2A for providing bumps for mounting on a printed circuit board or the like in a region surrounded by the second openings 4A, 4B. Has been drawn to the surface.

【0032】前記リード2の前記第1開口部3Aを横断
する部分には、図3(b)に示すように、くぼみ(ノッ
チ)2Bが設けられており、前記リード2と半導体チッ
プのボンディングパッドとを接続する際に、前記ノッチ
2B部分でリード2が切断されやすくなっている。ま
た、図示はしないが、第1開口部3B側も同様の構成と
なっている。
As shown in FIG. 3B, a recess (notch) 2B is provided in a portion of the lead 2 which crosses the first opening 3A, and a bonding pad between the lead 2 and the semiconductor chip is provided. When the lead 2 is connected, the lead 2 is easily cut at the notch 2B. Although not shown, the first opening 3B has the same configuration.

【0033】前記樹脂テープ1は、例えば、厚さ約50
ミクロンから75ミクロンのポリイミドフィルムであ
り、前記リード2は、例えば、前記樹脂テープ1上に金
(Au)膜を所定の配線パターンに合わせて印刷するこ
とにより形成される。また、前記リード2には、銅(C
u)膜に金めっきを施したものであってもよい。前記リ
ード2は、図3(b)に示したリード幅L1が約30ミ
クロン、ノッチ部分の幅L2は約15ミクロンから20
ミクロンである。また、前記第1開口部3Aの開口幅L
3は約0.5mmであり、図示はしないが、前記第2開
口部4A,4Bの開口幅も約0.5mmであるとする。
The resin tape 1 has a thickness of about 50, for example.
The leads 2 are formed, for example, by printing a gold (Au) film on the resin tape 1 in accordance with a predetermined wiring pattern. The lead 2 is made of copper (C
u) The film may be gold-plated. The lead 2 has a lead width L1 shown in FIG. 3B of about 30 microns and a notch portion width L2 of about 15 microns to 20 microns.
Micron. Further, the opening width L of the first opening 3A is set.
3 is about 0.5 mm, and although not shown, it is assumed that the opening width of the second openings 4A and 4B is also about 0.5 mm.

【0034】前記樹脂テープ1は、実際には帯状の搬送
用のテープであって、図3(a)に示したような第1開
口部3A,3Bと第2開口部4A,4Bを有し、前記リ
ード2が設けられた領域が多数連なっている。
The resin tape 1 is actually a strip-shaped transport tape, and has first openings 3A and 3B and second openings 4A and 4B as shown in FIG. , A large number of regions where the leads 2 are provided are continuous.

【0035】次に、図4(a)に示すように、搬送用の
前記樹脂テープ1のリード2が設けられた面に、エラス
トマ6の接着層を仮接着させた後、加熱して前記樹脂テ
ープ1とエラストマ6を接合する。前記エラストマ6
は、一部図示を省略するが、前記第1開口部3A,3B
及び第2開口部4A,4Bで囲まれた領域内に接合され
る。
Next, as shown in FIG. 4A, an adhesive layer of an elastomer 6 is temporarily adhered to the surface of the resin tape 1 for conveyance on which the leads 2 are provided. The tape 1 and the elastomer 6 are joined. The elastomer 6
Although not shown in the drawings, the first openings 3A and 3B
And in a region surrounded by the second openings 4A and 4B.

【0036】次に、半導体チップ5のボンディングパッ
ド7を、前記樹脂テープ1のリード2と位置合わせし
て、図4(b)に示すように、前記半導体チップ5をエ
ラストマ6の接着層と仮接着させた後、加熱して前記エ
ラストマ6と半導体チップ5を接合する。
Next, the bonding pads 7 of the semiconductor chip 5 are aligned with the leads 2 of the resin tape 1, and the semiconductor chip 5 is temporarily attached to the adhesive layer of the elastomer 6, as shown in FIG. After bonding, the elastomer 6 and the semiconductor chip 5 are joined by heating.

【0037】次に、図4(c)に示すように、前記樹脂
テープ1に設けられたリード2をS字状に変形させて、
前記リード2とボンディングパッド7を電気的に接続す
る。前記リード2とボンディングパッド7の電気的接続
は、まず前記リード2の前記第1開口部3Aを横断する
部分を、前記リード2を保持する突起が設けられたボン
ディングツールで前記ボンディングパッド7の方向へ押
し込み、超音波圧着する。この時、前記図3(b)に示
したノッチ2Bの部分でリード2が切断されて、前記樹
脂テープ1の第1開口部3Aの外側にリード残り2′が
できる。また、図示はしないが、もう一方の第1開口部
3B側のリード2も同様にボンディングパッド7と接続
する。
Next, as shown in FIG. 4C, the leads 2 provided on the resin tape 1 are deformed into an S shape,
The leads 2 and the bonding pads 7 are electrically connected. The electrical connection between the lead 2 and the bonding pad 7 is made by first using a bonding tool provided with a projection for holding the lead 2 in a direction crossing the first opening 3A of the lead 2 in the direction of the bonding pad 7. And ultrasonically press bonded. At this time, the lead 2 is cut at the notch 2B shown in FIG. 3 (b), and the lead 2 'is left outside the first opening 3A of the resin tape 1. Although not shown, the lead 2 on the other side of the first opening 3B is connected to the bonding pad 7 in the same manner.

【0038】次に、前記樹脂テープ1の周辺温度を40
℃から50℃に加熱し、図5(d)に示すように、ノズ
ル11が設けられたシリンジ10に充填されたエポキシ
系のポッティング樹脂8を、例えば、圧力3MPaで加
圧しながら、速度3mm/sで前記シリンジ10を移動
させながら押し出し、前記樹脂テープ1の第1開口部3
Aから前記リード2とボンディングパッド7の接続部分
へ注入する。この時、前記ポッティング樹脂8の一部が
前記半導体チップ5の側面部分へ流出し、前記リード2
とボンディングパッド7の接続部分と、前記半導体チッ
プ5及びエラストマ6の前記第1開口部3A付近の側面
が前記ポッティング樹脂8により封止される。また、図
示はしないが、もう一方の第1開口部3B及び第2開口
部4A,4Bからも同様に前記ポッティング樹脂8を注
入する。この時、前記第2開口部4A,4B側は、例え
ば、前記図2(b)に示したように、第2開口部4Aか
ら注入されたポッティング樹脂8の一部が前記半導体チ
ップ5の側面に流出して、半導体チップ5及びエラスト
マ6の前記第2開口部4A付近の側面が封止。そのた
め、前記半導体チップ5の側面全体がポッティング樹脂
8で封止される。なお、前記ポッティング樹脂8の注入
量は、製造する半導体装置のチップサイズ等に応じて、
前記ポッティング樹脂8が半導体チップ5の側面を覆う
程度の量になるようにシリンジ10の加圧量、及び移動
量を調節する。
Next, the temperature around the resin tape 1 is set to 40
5C, the epoxy potting resin 8 filled in the syringe 10 provided with the nozzle 11 is pressurized at, for example, a pressure of 3 MPa, and a speed of 3 mm / s, the syringe 10 is pushed out while being moved, and the first opening 3 of the resin tape 1 is moved.
A is injected into a connection portion between the lead 2 and the bonding pad 7. At this time, part of the potting resin 8 flows out to the side surface of the semiconductor chip 5 and the lead 2
A connection portion between the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 and the side surface near the first opening 3A are sealed with the potting resin 8. Although not shown, the potting resin 8 is similarly injected from the other first opening 3B and second openings 4A and 4B. At this time, for example, as shown in FIG. 2B, a part of the potting resin 8 injected from the second opening 4A is formed on the side of the semiconductor chip 5 on the side of the second opening 4A, 4B. And the side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 near the second opening 4A are sealed. Therefore, the entire side surface of the semiconductor chip 5 is sealed with the potting resin 8. The amount of the potting resin 8 to be injected depends on the chip size of the semiconductor device to be manufactured and the like.
The amount of pressure and the amount of movement of the syringe 10 are adjusted so that the potting resin 8 covers the side surface of the semiconductor chip 5.

【0039】前記ポッティング樹脂8の注入が終わった
ら、例えば、80℃で30分間予備加熱をした後、18
0℃で30分間加熱して、前記ポッティング樹脂8を硬
化させた後、前記樹脂テープ1のランド2A上に、はん
だや金(Au)等のバンプ9を転写して、前記樹脂テー
プ1を所定の大きさに切断して個々の半導体装置にす
る。
After the injection of the potting resin 8, for example, after preheating at 80 ° C. for 30 minutes,
After heating at 0 ° C. for 30 minutes to cure the potting resin 8, bumps 9 such as solder or gold (Au) are transferred onto the lands 2A of the resin tape 1 so that the resin tape 1 And cut into individual semiconductor devices.

【0040】以上説明したように、本実施例1によれ
ば、BGA型の半導体装置の製造方法において、前記樹
脂テープ1に、前記半導体チップ5のボンディングパッ
ドと重なる第1開口部3A,3Bの他に、前記半導体チ
ップ5の外周付近のボンディングパッドが設けられてい
ない部分に対応する第2開口部4A,4Bを設け、前記
第1開口部3A,3B及び第2開口部4A,4Bからポ
ッティング樹脂8を注入することにより、少量のポッテ
ィング樹脂8で前記半導体チップ5及びエラストマ6の
側面全体を封止することができるため、製造コストを低
減することができる。
As described above, according to the first embodiment, in the method of manufacturing a BGA type semiconductor device, the first opening portions 3A and 3B overlapping the bonding pads of the semiconductor chip 5 are formed in the resin tape 1. In addition, second openings 4A and 4B corresponding to portions where the bonding pads are not provided near the outer periphery of the semiconductor chip 5 are provided, and potting is performed from the first openings 3A and 3B and the second openings 4A and 4B. By injecting the resin 8, it is possible to seal the entire side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 with a small amount of the potting resin 8, so that the manufacturing cost can be reduced.

【0041】また、前記樹脂テープ1に第2開口部4
A,4Bを設け、前記第2開口部4A,4Bからもポッ
ティング樹脂8を注入することにより、半導体チップ5
のボンディングパッドが設けられていない方向の側面に
も効率よくポッティング樹脂8を注入でき、前記半導体
チップ5とエラストマ6の側面全体を封止できるので、
従来のように、樹脂注入用に別途テープを貼り付けたり
する工程を設けなくてよく、製造工程を簡便化すること
ができる。そのため、製造コストをさらに低減すること
ができる。
The second opening 4 is formed in the resin tape 1.
A and 4B are provided, and the potting resin 8 is also injected from the second openings 4A and 4B, so that the semiconductor chip 5 is formed.
The potting resin 8 can be efficiently injected also into the side surface where the bonding pad is not provided, and the entire side surface of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 can be sealed.
Unlike the conventional case, there is no need to provide a step of attaching a separate tape for injecting the resin, so that the manufacturing process can be simplified. Therefore, the manufacturing cost can be further reduced.

【0042】また、前記半導体チップ5及びエラストマ
6の側面全体を封止できるので、前記半導体チップ5と
エラストマ6の接続面の剥離などが起きにくく、装置の
信頼性が向上する。
Further, since the entire side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 can be sealed, peeling of the connection surface between the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 does not easily occur, and the reliability of the device is improved.

【0043】また、前記図5(d)に示したように、前
記樹脂テープ1の第1開口部3A,3B及び第2開口部
4A,4Bからポッティング樹脂8を注入すると、前記
第1開口部3A,3Bあるいは第2開口部4A,4Bか
らあふれたポッティング樹脂8が、前記ランド2Aを覆
ってしまい、前記バンプ9が接続不良を起こす可能性が
ある。そこで、図5(e)に示したように、前記半導体
チップ5が接合された樹脂テープ1の表裏を入れ替え
て、前記シリンジ10を前記半導体チップ5の側面に沿
って1周させて、前記半導体チップ5と樹脂テープ1の
間にできる隙間にポッティング樹脂8を注入してもよ
い。この時、前記ノズル11に角度を付けて横方向に押
し出されるようにすることで、前記半導体チップ5と樹
脂テープ1の隙間に前記ポッティング樹脂8を注入しや
すくなる。この場合、注入するポッティング樹脂8が少
量であるため、前記第1開口部3A,3B及び第2開口
部4A,4B部分の前記ポッティング樹脂8は表面張力
により、図5(e)に示したように、前記樹脂テープ1
へと広がり前記ランド2Aを覆うことや、たれ落ちたり
することがないので、従来のように別途テープを貼り付
けて第1開口部3A,3B及び第2開口部4A,4Bを
ふさがなくてもよい。
As shown in FIG. 5D, when the potting resin 8 is injected from the first openings 3A and 3B and the second openings 4A and 4B of the resin tape 1, the first opening Potting resin 8 overflowing from 3A, 3B or the second openings 4A, 4B may cover the lands 2A, and the bumps 9 may cause poor connection. Then, as shown in FIG. 5 (e), the front and back of the resin tape 1 to which the semiconductor chip 5 is bonded are exchanged, and the syringe 10 is caused to make one round along the side surface of the semiconductor chip 5. The potting resin 8 may be injected into a gap formed between the chip 5 and the resin tape 1. At this time, the potting resin 8 is easily injected into the gap between the semiconductor chip 5 and the resin tape 1 by making the nozzle 11 be pushed out in a horizontal direction at an angle. In this case, since the potting resin 8 to be injected is small, the potting resin 8 in the first openings 3A and 3B and the second openings 4A and 4B is caused by surface tension as shown in FIG. And the resin tape 1
It does not cover the lands 2A and does not sag, so that the first openings 3A and 3B and the second openings 4A and 4B need not be covered by a separate tape as in the related art. Good.

【0044】なお、前記実施例1では、前記第2開口部
4A,4Bが平面的に半導体チップ5の内側に設けられ
ていたが、これに限らず、前記第2開口部4A,4Bの
一端が、半導体チップ5の外周より平面的に外側にあっ
てもよい。
In the first embodiment, the second openings 4A and 4B are provided on the inside of the semiconductor chip 5 in a planar manner. However, the present invention is not limited to this. One end of each of the second openings 4A and 4B is provided. However, it may be outside in plan view from the outer periphery of the semiconductor chip 5.

【0045】図6は前記実施例1の半導体装置の変形例
を示す模式図であり、図6(a)は模式平面図、図6
(b)は図6(a)のC−C′線での模式断面図であ
る。図6において、OSは前記第2開口部4Aの一端と
半導体チップ5の外周の距離である。なお、図6(a)
の模式平面図は、前記図1に示した模式平面図と同様
で、ポッティング樹脂8及びエラストマ6を省略して示
している。また、前記第2開口部4A,4B以外の構成
は図1及び図2に示したものと同様の構成であるため、
その説明は省略する。
FIG. 6 is a schematic view showing a modification of the semiconductor device of the first embodiment. FIG. 6A is a schematic plan view, and FIG.
FIG. 7B is a schematic cross-sectional view taken along line CC ′ of FIG. In FIG. 6, OS is the distance between one end of the second opening 4A and the outer periphery of the semiconductor chip 5. FIG. 6 (a)
Is similar to the schematic plan view shown in FIG. 1 above, with the potting resin 8 and the elastomer 6 omitted. Since the configuration other than the second openings 4A and 4B is the same as that shown in FIGS. 1 and 2,
The description is omitted.

【0046】前記実施例1のように、第2開口部4A,
4Bが平面的に半導体チップ5の内側に設けられている
場合には、前記第2開口部の開口幅が狭いため、前記ポ
ッティング樹脂8の注入が難しい事がある。そのような
場合は、図6(a)及び図6(b)に示すように、第2
開口部4A,4Bの一端が、平面的に半導体チップ5の
外側にくるようにして、前記第2開口部の開口幅を広く
することにより、樹脂が流れやすくなるため、効率よく
ポッティング樹脂8を注入することができ、前記半導体
チップ5及びエラストマ6の側面全体をより確実に封止
することができる。
As in the first embodiment, the second openings 4A,
When the 4B is provided inside the semiconductor chip 5 in a plan view, it may be difficult to inject the potting resin 8 because the opening width of the second opening is narrow. In such a case, as shown in FIGS. 6A and 6B, the second
By widening the opening width of the second opening so that one end of each of the openings 4A and 4B comes outside the semiconductor chip 5 in a planar manner, the resin can flow easily. Injection can be performed, and the entire side surfaces of the semiconductor chip 5 and the elastomer 6 can be more reliably sealed.

【0047】前記半導体チップ5の外周より平面的に外
側にある前記第2開口部4Aの一端と、前記半導体チッ
プ5の外周との距離OSは約0.2mm程度がよい。
The distance OS between one end of the second opening 4A, which is two-dimensionally outside the outer periphery of the semiconductor chip 5 and the outer periphery of the semiconductor chip 5, is preferably about 0.2 mm.

【0048】(実施例2)図7は本発明による実施例2
の半導体装置の概略構成を示す模式図であり、図7
(a)は模式平面図、図7(b)は図7(a)のD−
D′線での断面図である。図7(a)においても、図1
及び図6(a)と同様で、樹脂テープから切り離す前の
段階を示しており、封止用のポッティング樹脂及びエラ
ストマは省略して示してある。図7において、12はセ
ンターパッド型の半導体チップ(センターパッドチッ
プ)である。
(Embodiment 2) FIG. 7 shows Embodiment 2 according to the present invention.
FIG. 7 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the semiconductor device shown in FIG.
(A) is a schematic plan view, and (b) of FIG.
It is sectional drawing in the D 'line. In FIG. 7A, FIG.
6A and FIG. 6A, showing a stage before separation from the resin tape, in which a potting resin for sealing and an elastomer are omitted. In FIG. 7, reference numeral 12 denotes a center pad type semiconductor chip (center pad chip).

【0049】本実施例2の半導体装置においても、基本
的な構成は前記実施例1の半導体装置と同様であるた
め、その詳細な説明は省略する。
The basic configuration of the semiconductor device of the second embodiment is the same as that of the semiconductor device of the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

【0050】本実施例2の半導体装置では、ボンディン
グパッド7が、前記半導体チップの中心付近に直線状に
配置されたセンターパッドチップ12を用いている。こ
の場合、樹脂テープ1には、前記ボンディングパッド7
と重なる第1開口部3と、前記半導体チップ5の長辺方
向の外周付近に第2開口部4A,4Bを設ける。前記第
2開口部4A,4Bの一端は前記実施例1で説明したよ
うに半導体チップ5の外周より外側にあってもよい。前
記ボンディングパッド7と接続されるリード2は、前記
第1開口部3から前記第2開口部4A,4Bの方向に伸
び、前記第1開前記第2開口部4A,4B間でランド2
Aとして引き出されている。
In the semiconductor device of the second embodiment, the bonding pad 7 uses the center pad chip 12 which is linearly arranged near the center of the semiconductor chip. In this case, the resin tape 1 has the bonding pad 7
And second openings 4A and 4B near the outer periphery of the semiconductor chip 5 in the long side direction. One ends of the second openings 4A and 4B may be outside the outer periphery of the semiconductor chip 5 as described in the first embodiment. The lead 2 connected to the bonding pad 7 extends from the first opening 3 in the direction of the second opening 4A, 4B, and extends between the first opening 2A and the second opening 4A.
It has been withdrawn as A.

【0051】本実施例2の半導体装置の製造方法も、前
記実施例1とほぼ同様であるため、詳細な説明は省略す
る。
The manufacturing method of the semiconductor device according to the second embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and therefore, detailed description is omitted.

【0052】なお、本実施例2の半導体装置の製造方法
では、前記センターパッドチップ12の短辺方向に沿っ
た開口部がないため、前記第1開口部3及び第2開口部
4A,4Bからポッティング樹脂8を注入した場合、前
記センターパッドチップ12の短辺方向の側面及びエラ
ストマ6の側面全体の封止が難しい。また、加熱、硬化
させたあとでないと前記センターパッドチップ12及び
エラストマ6の側面全体が封止されているか確認できな
い。そのため、本実施例2のようにセンターパッドチッ
プ12を用いた場合には、図5(e)に示した場合と同
様に、前記センターパッドチップ12の側面に沿ってポ
ッティング樹脂8を注入することで、開口部のない短辺
方向の側面も確実に封止することができる。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the second embodiment, since there is no opening along the short side direction of the center pad chip 12, the first opening 3 and the second openings 4A and 4B When the potting resin 8 is injected, it is difficult to seal the entire side surface of the center pad chip 12 in the short side direction and the elastomer 6. In addition, it is not possible to confirm that the entire side surfaces of the center pad chip 12 and the elastomer 6 are sealed only after heating and curing. Therefore, when the center pad chip 12 is used as in the second embodiment, the potting resin 8 is injected along the side surface of the center pad chip 12 as in the case shown in FIG. Thus, the side surface in the short side direction having no opening can be reliably sealed.

【0053】本実施例2のようなセンターパッドチップ
12を用いた半導体装置の場合でも、前記第1開口部
3、第2開口部4A,4Bからポッティング樹脂8を注
入することにより、前記センターパッドチップ(半導体
チップ)12の側面全体を少量のポッティング樹脂8で
封止することができ、製造工程を簡便化することがで
き、製造コストを低減することができる。
In the case of the semiconductor device using the center pad chip 12 as in the second embodiment, the center pad is formed by injecting the potting resin 8 through the first opening 3 and the second openings 4A and 4B. The entire side surface of the chip (semiconductor chip) 12 can be sealed with a small amount of the potting resin 8, so that the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

【0054】以上、本発明を、前記実施例に基づき具体
的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変
更可能であることはもちろんである。
As described above, the present invention has been specifically described based on the above-described embodiment. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be variously modified without departing from the gist thereof. Of course.

【0055】[0055]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。 (1)BGA型の半導体装置において、装置の信頼性の
低下を防ぐことができる。 (2)BGA型の半導体装置の製造方法において、製造
工程を簡便化することができる。 (3)BGA型の半導体装置の製造方法において、製造
コストを低減させることができる。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows. (1) In a BGA type semiconductor device, a decrease in device reliability can be prevented. (2) In the method of manufacturing a BGA type semiconductor device, the manufacturing steps can be simplified. (3) In the method of manufacturing a BGA type semiconductor device, manufacturing costs can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による実施例1の半導体装置の概略構成
を示す模式平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view illustrating a schematic configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本実施例1の半導体装置の概略構成を示すため
の模式断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of the semiconductor device of the first embodiment.

【図3】本実施例1の半導体装置の製造に用いる樹脂テ
ープの概略構成を示す模式平面図及び部分拡大図であ
る。
FIG. 3 is a schematic plan view and a partially enlarged view showing a schematic configuration of a resin tape used for manufacturing the semiconductor device of the first embodiment.

【図4】本実施例1の半導体装置の各製造工程における
模式断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view in each manufacturing step of the semiconductor device of the first embodiment.

【図5】本実施例1の半導体装置の各製造工程における
模式断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view in each manufacturing step of the semiconductor device of the first embodiment.

【図6】前記実施例1の変形例を示す模式平面図及び模
式断面図である。
FIG. 6 is a schematic plan view and a schematic sectional view showing a modification of the first embodiment.

【図7】本発明による実施例2の半導体装置の概略構成
を示す模式平面図及び模式断面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a semiconductor device according to Example 2 of the present invention.

【図8】従来の半導体装置の製造方法を説明するための
図である。
FIG. 8 is a view for explaining a conventional method for manufacturing a semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…樹脂テープ、2…リード、2′…リード残り、2A
…ランド、2B…ノッチ、3,3A,3B…第1開口
部、4A,4B…第2開口部、5…半導体チップ、6…
弾性体(エラストマ)、7…ボンディングパッド、8…
ポッティング樹脂、9…バンプ、10…シリンジ、11
…ノズル、12…半導体チップ(センターパッドチッ
プ)、13…樹脂注入用テープ。
1 ... resin tape, 2 ... lead, 2 '... lead remaining, 2A
... land, 2B ... notch, 3, 3A, 3B ... first opening, 4A, 4B ... second opening, 5 ... semiconductor chip, 6 ...
Elastic body (elastomer), 7 ... bonding pad, 8 ...
Potting resin, 9: bump, 10: syringe, 11
... Nozzle, 12 ... Semiconductor chip (center pad chip), 13 ... Resin injection tape.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須田 富司 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 樋口 和範 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA05 CA05 DA03 DA04 DB16 5F061 AA01 BA05 CA05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tomoji Suda 3-3-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Within Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Kazunori Higuchi 3-2-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Hitachi East F-term in Kyoto Electronics Co., Ltd. (reference) 4M109 AA01 BA05 CA05 DA03 DA04 DB16 5F061 AA01 BA05 CA05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップと、該半導体チップのボン
ディングパッドが設けられた面上に、弾性体を介在させ
て接合される、複数のリードが設けられた樹脂テープか
らなり、前記複数のリードが変形し、前記半導体チップ
のボンディングパッドと電気的に接続され、該接続部分
が封止された半導体装置であって、前記半導体チップ及
び弾性体の側面が樹脂により封止されていることを特徴
とする半導体装置。
1. A semiconductor chip comprising a resin tape provided with a plurality of leads, which is joined to a surface of the semiconductor chip on which bonding pads are provided with an elastic body interposed therebetween, wherein the plurality of leads are provided. A semiconductor device which is deformed and electrically connected to a bonding pad of the semiconductor chip, and the connection portion is sealed, wherein the side surfaces of the semiconductor chip and the elastic body are sealed with a resin. Semiconductor device.
【請求項2】 半導体チップと複数のリードが設けられ
た樹脂テープを、弾性体を介在させて接合する工程と、
前記リードを変形させ、前記半導体チップのボンディン
グパッドと接続する工程と、前記リードとボンディング
パッドの接続部分と前記半導体チップ及び弾性体の側面
を封止する工程を備える半導体装置の製造方法であっ
て、前記樹脂テープは、前記半導体チップのボンディン
グパッドと重なる第1開口部と、前記半導体チップの外
周付近の前記ボンディングパッドが設けられていない部
分に対応する第2開口部が予め設けられており、前記第
1開口部には、前記半導体チップのボンディングパッド
と対応するリードが横断していることを特徴とする半導
体装置の製造方法。
2. a step of joining a semiconductor chip and a resin tape provided with a plurality of leads with an elastic body interposed therebetween;
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: deforming the lead and connecting the semiconductor chip to a bonding pad of the semiconductor chip; and sealing a connection portion between the lead and the bonding pad and a side surface of the semiconductor chip and the elastic body. A first opening overlapping the bonding pad of the semiconductor chip, and a second opening corresponding to a portion where the bonding pad is not provided near the outer periphery of the semiconductor chip, the resin tape is provided in advance; A method for manufacturing a semiconductor device, wherein a lead corresponding to a bonding pad of the semiconductor chip crosses the first opening.
【請求項3】 前記請求項2に記載の半導体装置の製造
方法において、前記樹脂テープの第2開口部の一端が、
前記半導体チップの外周よりも平面的に外側にあること
を特徴とする半導体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein one end of the second opening of the resin tape is
A method for manufacturing a semiconductor device, wherein the semiconductor device is planarly outside the outer periphery of the semiconductor chip.
【請求項4】 前記請求項3に記載の半導体装置の製造
方法において、前記樹脂テープの第2開口部の一端が、
前記半導体チップの外周から平面的に0.1mmから
0.2mm外側にあることを特徴とする半導体装置の製
造方法。
4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein one end of the second opening of the resin tape is
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the semiconductor chip is 0.1 mm to 0.2 mm outward in plan from the outer periphery of the semiconductor chip.
【請求項5】 前記請求項2乃至4のいずれか1項に記
載の半導体装置の製造方法において、前記リードとボン
ディングパッドの接続部分と前記半導体チップ及び弾性
体の側面を封止する工程は、前記樹脂テープの第1開口
部及び第2開口部から樹脂を注入することを特徴とする
半導体装置の製造方法。
5. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein the step of sealing a connection portion between the lead and the bonding pad and a side surface of the semiconductor chip and the elastic body includes: A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: injecting a resin through a first opening and a second opening of the resin tape.
【請求項6】 前記請求項2乃至4のいずれか1項に記
載の半導体装置の製造方法において、前記リードとボン
ディングパッドの接続部分と前記半導体チップ及び弾性
体の側面を封止する工程は、前記半導体チップ側から、
前記半導体チップの側面に沿って樹脂を注入することを
特徴とする半導体装置の製造方法。
6. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein the step of sealing a connection portion between the lead and the bonding pad and a side surface of the semiconductor chip and the elastic body includes: From the semiconductor chip side,
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising injecting a resin along a side surface of the semiconductor chip.
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