JP2001135758A - パワーモジュールの放熱構造 - Google Patents
パワーモジュールの放熱構造Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はパワーモジュールの放熱構造に関
し、特に絶縁シートを使用することなく、放熱板を小型
化し、パワーモジュールを小型軽量化し、部品点数や組
立工数を減らすパワーモジュールの放熱構造を提供する
ものである。 【解決手段】 パワートランジスタ等のパワー素子を含
む半導体集積回路を搭載するパワーモジュールにおい
て、半導体集積回路が形成された半導体チップからの発
熱をヒートシンクに伝達する放熱板をセラミックスで構
成し、該セラミックスの上部にCu (銅)やMg (マグ
ネシューム)、Al(アルミニューム)を含浸させた導
電部を形成し、この導電部13aにシリコンチップ11
を半田接合し、セラミックスの下部を直接、又は放熱グ
リス15を塗布してヒートシンク14に取り付け、パワ
ーモジュールの放熱構造とし、部品点数の削減、組立工
数の削減を図る構造である。
し、特に絶縁シートを使用することなく、放熱板を小型
化し、パワーモジュールを小型軽量化し、部品点数や組
立工数を減らすパワーモジュールの放熱構造を提供する
ものである。 【解決手段】 パワートランジスタ等のパワー素子を含
む半導体集積回路を搭載するパワーモジュールにおい
て、半導体集積回路が形成された半導体チップからの発
熱をヒートシンクに伝達する放熱板をセラミックスで構
成し、該セラミックスの上部にCu (銅)やMg (マグ
ネシューム)、Al(アルミニューム)を含浸させた導
電部を形成し、この導電部13aにシリコンチップ11
を半田接合し、セラミックスの下部を直接、又は放熱グ
リス15を塗布してヒートシンク14に取り付け、パワ
ーモジュールの放熱構造とし、部品点数の削減、組立工
数の削減を図る構造である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路を
含むパワーモジュールの放熱構造に関する。
含むパワーモジュールの放熱構造に関する。
【0002】
【従来の技術】今日、電気自動車を始め、広い分野で半
導体集積回路が使用され、特に大きな電力を必要とする
装置に対して電力用トランジスタを含む半導体集積回路
が使用されている。このような電力用トランジスタを含
むパワーモジュールでは大きな発熱を伴うため、通常ヒ
ートシンクを使用した放熱構造である。
導体集積回路が使用され、特に大きな電力を必要とする
装置に対して電力用トランジスタを含む半導体集積回路
が使用されている。このような電力用トランジスタを含
むパワーモジュールでは大きな発熱を伴うため、通常ヒ
ートシンクを使用した放熱構造である。
【0003】図5は従来のパワーモジュールの放熱構造
を説明する図である。同図において、1は半導体集積回
路を内蔵するシリコンチップであり、例えばパワートラ
ンジスタも形成されている。また、このシリコンチップ
1は半田2によってモリブデン板3に接合されている。
また、モリブデン板3は銀ロウ4によって放熱板5に接
合されている。尚、上述のようにシリコンチップ1と放
熱板5の間にモリブデン板3を介装する理由は、通常放
熱板5は銅板で構成され、シリコンチップ1と放熱板5
の熱膨張率に相違があるからである。すなわち、半田に
よって直接シリコンチップ1と放熱板5を接合する場
合、熱膨張率の相違によってシリコンチップ1や放熱板
5にクラック(亀裂)を生じさせるからである。
を説明する図である。同図において、1は半導体集積回
路を内蔵するシリコンチップであり、例えばパワートラ
ンジスタも形成されている。また、このシリコンチップ
1は半田2によってモリブデン板3に接合されている。
また、モリブデン板3は銀ロウ4によって放熱板5に接
合されている。尚、上述のようにシリコンチップ1と放
熱板5の間にモリブデン板3を介装する理由は、通常放
熱板5は銅板で構成され、シリコンチップ1と放熱板5
の熱膨張率に相違があるからである。すなわち、半田に
よって直接シリコンチップ1と放熱板5を接合する場
合、熱膨張率の相違によってシリコンチップ1や放熱板
5にクラック(亀裂)を生じさせるからである。
【0004】また、上述の放熱板5は更にアルミ等で構
成されるヒートシンク6に取り付けられている。この取
り付けは、図5に示すパワーモジュールが非絶縁性のモ
ジュールであり、シリコンゴムシート等の絶縁シート7
を介装して取り付けられている。尚、放熱板5とヒート
シンク6の取り付けは、不図示のネジによって取り付け
られる。
成されるヒートシンク6に取り付けられている。この取
り付けは、図5に示すパワーモジュールが非絶縁性のモ
ジュールであり、シリコンゴムシート等の絶縁シート7
を介装して取り付けられている。尚、放熱板5とヒート
シンク6の取り付けは、不図示のネジによって取り付け
られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のパワーモジュールの放熱構造においては、以下の問
題がある。
来のパワーモジュールの放熱構造においては、以下の問
題がある。
【0006】すなわち、上述のように従来のパワーモジ
ュールの放熱構造においては、モリブデン板3を介装
し、半田接合や銀ろうによる接合を必要とする。このた
め、部品点数が増し、組立工数も増大する。
ュールの放熱構造においては、モリブデン板3を介装
し、半田接合や銀ろうによる接合を必要とする。このた
め、部品点数が増し、組立工数も増大する。
【0007】また、上述のように非絶縁性のパワーモジ
ュールである場合、絶縁シート7が必要となり、更に絶
縁シート7の熱伝導率は通常悪いものであり、例えパワ
ーモジュール単体では熱抵抗が低くても、トータルとし
て熱抵抗が高くなる。
ュールである場合、絶縁シート7が必要となり、更に絶
縁シート7の熱伝導率は通常悪いものであり、例えパワ
ーモジュール単体では熱抵抗が低くても、トータルとし
て熱抵抗が高くなる。
【0008】また、上記絶縁シート7の熱伝導率の悪さ
を、例えば銅(Cu )製の放熱板5によって補うために
は熱容量のアップ、即ち放熱板5のサイズを大きくする
必要がある。しかし、放熱板5のサイズを大きくするこ
とはパワーモジュール自体を大型化し、重量も重くな
る。
を、例えば銅(Cu )製の放熱板5によって補うために
は熱容量のアップ、即ち放熱板5のサイズを大きくする
必要がある。しかし、放熱板5のサイズを大きくするこ
とはパワーモジュール自体を大型化し、重量も重くな
る。
【0009】そこで、本発明は上記課題を解決するた
め、絶縁シートを使用することなく、放熱板を小型化
し、パワーモジュールを小型軽量化し、部品点数や組立
工数を減らしたパワーモジュールの放熱構造を提供する
ものである。
め、絶縁シートを使用することなく、放熱板を小型化
し、パワーモジュールを小型軽量化し、部品点数や組立
工数を減らしたパワーモジュールの放熱構造を提供する
ものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明の請求
項1の態様によれば、半導体チップと、セラミックスよ
り成り該セラミックスに金属が含浸された導電部を有
し、該導電部に前記半導体チップが半田接合された放熱
板と、該放熱板のセラミックス部分に取り付けられたヒ
ートシンクとを有するパワーモジュールの放熱構造を提
供することによって達成できる。
項1の態様によれば、半導体チップと、セラミックスよ
り成り該セラミックスに金属が含浸された導電部を有
し、該導電部に前記半導体チップが半田接合された放熱
板と、該放熱板のセラミックス部分に取り付けられたヒ
ートシンクとを有するパワーモジュールの放熱構造を提
供することによって達成できる。
【0011】ここで、半導体チップには、例えばパワー
トランジスタ等のパワー素子が配設され、半導体チップ
から大きな発熱がある。また、放熱板はセラミックスで
構成され、熱伝導効率のよい材料で形成されている。例
えば、請求項3に記載するSi C(炭化ケイ素)、又は
AlN(窒化アルミニューム)の焼結構造である。
トランジスタ等のパワー素子が配設され、半導体チップ
から大きな発熱がある。また、放熱板はセラミックスで
構成され、熱伝導効率のよい材料で形成されている。例
えば、請求項3に記載するSi C(炭化ケイ素)、又は
AlN(窒化アルミニューム)の焼結構造である。
【0012】また、放熱板は上記のようにセラミックス
で構成され、優れた放熱部材であると共に、絶縁部材で
もある。そこで、上記構成の絶縁部材に対し、例えば金
属溶液を含浸させ、導電部を形成する。そして、この導
電部に上記半導体チップを半田接合し、絶縁部分に放熱
のためのヒートシンクを取り付ける。
で構成され、優れた放熱部材であると共に、絶縁部材で
もある。そこで、上記構成の絶縁部材に対し、例えば金
属溶液を含浸させ、導電部を形成する。そして、この導
電部に上記半導体チップを半田接合し、絶縁部分に放熱
のためのヒートシンクを取り付ける。
【0013】このように構成することにより、放熱板を
非絶縁のパワーモジュールの電極として接続することが
でき、一方半導体チップの放熱手段としてのヒートシン
クを絶縁部分に接続し、上記放熱板を介して半導体チッ
プの発熱を効率よくヒートシンクに伝達し、効率よい放
熱を行うことができる。
非絶縁のパワーモジュールの電極として接続することが
でき、一方半導体チップの放熱手段としてのヒートシン
クを絶縁部分に接続し、上記放熱板を介して半導体チッ
プの発熱を効率よくヒートシンクに伝達し、効率よい放
熱を行うことができる。
【0014】請求項2の記載は、前記請求項1記載の発
明において、前記放熱板とヒートシンク間には、例えば
放熱グリスが塗布されている構成である。このように構
成することにより、放熱板とヒートシンク間の放熱性を
向上し、半導体チップの放熱をより効率よく行うことが
できる。
明において、前記放熱板とヒートシンク間には、例えば
放熱グリスが塗布されている構成である。このように構
成することにより、放熱板とヒートシンク間の放熱性を
向上し、半導体チップの放熱をより効率よく行うことが
できる。
【0015】請求項3の記載は、前記請求項1記載の発
明において、前記セラミックスは、例えばSi C(炭化
ケイ素)又はAlN(窒化アルミニューム)を焼結した
構成である。
明において、前記セラミックスは、例えばSi C(炭化
ケイ素)又はAlN(窒化アルミニューム)を焼結した
構成である。
【0016】また、請求項4の記載は、前記請求項1記
載の発明において、前記導電部にはCu (銅)、Mg
(マグネシューム)、又はAl(アルミニューム)が含
浸されている構成である。
載の発明において、前記導電部にはCu (銅)、Mg
(マグネシューム)、又はAl(アルミニューム)が含
浸されている構成である。
【0017】上記請求項3、及び請求項4の記載は、本
発明で使用するセラミックスの材料、及び導電部の材料
構成を具体的に示すものである。
発明で使用するセラミックスの材料、及び導電部の材料
構成を具体的に示すものである。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図1は、本実施形態のパワー
モジュールの放熱構造を示す図である。同図において、
本例のパワーモジュール10は、例えば電気自動車やハ
イブリットカー等の電源回路に使用され、多くのシリコ
ンチップや放熱板等で構成されている。尚、同図はパワ
ーモジュール10の断面構造を示すものであり、シリコ
ンチップは同図の紙面垂直方向に多数個配設されてい
る。
を参照しながら説明する。図1は、本実施形態のパワー
モジュールの放熱構造を示す図である。同図において、
本例のパワーモジュール10は、例えば電気自動車やハ
イブリットカー等の電源回路に使用され、多くのシリコ
ンチップや放熱板等で構成されている。尚、同図はパワ
ーモジュール10の断面構造を示すものであり、シリコ
ンチップは同図の紙面垂直方向に多数個配設されてい
る。
【0019】同図において、シリコンチップ11は内部
にパワートランジスタ等の発熱素子を内蔵する。また、
シリコンチップ11は半田12によって放熱板13に接
合されている。放熱板13はSi C(炭化ケイ素)やA
lN(窒化アルミニューム)等の放熱性の優れたセラミ
ックスで構成されている。
にパワートランジスタ等の発熱素子を内蔵する。また、
シリコンチップ11は半田12によって放熱板13に接
合されている。放熱板13はSi C(炭化ケイ素)やA
lN(窒化アルミニューム)等の放熱性の優れたセラミ
ックスで構成されている。
【0020】ここで、放熱板13は同図に点線で示す断
面位置を境にして、導電部13aと絶縁部13bで構成
されている。導電部13aは上記材料内に導電性のCu
(銅)やMg (マグネシューム)、Al(アルミニュー
ム)が含浸されている。また、絶縁部13bは上記セラ
ミックス材料のまま残る部分である。
面位置を境にして、導電部13aと絶縁部13bで構成
されている。導電部13aは上記材料内に導電性のCu
(銅)やMg (マグネシューム)、Al(アルミニュー
ム)が含浸されている。また、絶縁部13bは上記セラ
ミックス材料のまま残る部分である。
【0021】また、上記構成の放熱板13はヒートシン
ク14に取り付けられ、放熱板13とヒートシンク14
間には放熱グリス15が塗布されている。ここで、放熱
グリス15は放熱板13からヒートシンク14への放熱
効率を向上させるために使用する。すなわち、放熱グリ
ス15はペースト状であり、放熱板13(13b)とヒ
ートシンク14間に生じる隙間を埋め放熱効率を向上さ
せる。
ク14に取り付けられ、放熱板13とヒートシンク14
間には放熱グリス15が塗布されている。ここで、放熱
グリス15は放熱板13からヒートシンク14への放熱
効率を向上させるために使用する。すなわち、放熱グリ
ス15はペースト状であり、放熱板13(13b)とヒ
ートシンク14間に生じる隙間を埋め放熱効率を向上さ
せる。
【0022】ここで、前述の放熱板13の構造を更に詳
しく説明する図が図2である。放熱板13は上述のよう
に、導電部13aと絶縁部13bで構成され、絶縁部1
3bはSi C(炭化ケイ素)やAlN(窒化アルミニュ
ーム)の材料を焼結したセラミックスのみで構成されて
いる。一方、導電部13aは上記セラミックスに導電材
料であるCu (銅)やMg (マグネシューム)、Al
(アルミニューム)を含浸させた構成である。
しく説明する図が図2である。放熱板13は上述のよう
に、導電部13aと絶縁部13bで構成され、絶縁部1
3bはSi C(炭化ケイ素)やAlN(窒化アルミニュ
ーム)の材料を焼結したセラミックスのみで構成されて
いる。一方、導電部13aは上記セラミックスに導電材
料であるCu (銅)やMg (マグネシューム)、Al
(アルミニューム)を含浸させた構成である。
【0023】ここで、放熱板13の厚さは、例えば3m
mであり、導電部13aの最深部の厚さは2mm程度で
構成されている。したがって、上述のように構成するこ
とによって放熱板13の上部は導電性を有し、下部は絶
縁性を有し、導電性を有する導電部13aにシリコンチ
ップ11が半田12によって接合された構造である。ま
た、絶縁性を有する絶縁部13bには上述の放熱グリス
15を介してヒートシンク14が取り付けられている。
mであり、導電部13aの最深部の厚さは2mm程度で
構成されている。したがって、上述のように構成するこ
とによって放熱板13の上部は導電性を有し、下部は絶
縁性を有し、導電性を有する導電部13aにシリコンチ
ップ11が半田12によって接合された構造である。ま
た、絶縁性を有する絶縁部13bには上述の放熱グリス
15を介してヒートシンク14が取り付けられている。
【0024】以上のパワーモジュールの構造において、
シリコンチップ11に配設された回路を駆動することに
よって、シリコンチップ11は発熱し、特にパワートラ
ンジスタ等のパワー素子を駆動することによって発生す
る発熱は大きい。そして、この発熱は半田12を介して
放熱板13に伝達される。
シリコンチップ11に配設された回路を駆動することに
よって、シリコンチップ11は発熱し、特にパワートラ
ンジスタ等のパワー素子を駆動することによって発生す
る発熱は大きい。そして、この発熱は半田12を介して
放熱板13に伝達される。
【0025】放熱板13は前述のように放熱性の優れた
セラミックスであり、半田12を介して伝達されたシリ
コンチップ11からの熱は、放熱板13の導電部13
a、絶縁部13bを伝達され、放熱グリス15を介して
ヒートシンク14に伝達される。ここで、上述のように
放熱グリス15により効率良い放熱が行われ、シリコン
チップ11の発熱を効率良くヒートシンク14に伝達
し、ヒートシンク14から外部に放出する。
セラミックスであり、半田12を介して伝達されたシリ
コンチップ11からの熱は、放熱板13の導電部13
a、絶縁部13bを伝達され、放熱グリス15を介して
ヒートシンク14に伝達される。ここで、上述のように
放熱グリス15により効率良い放熱が行われ、シリコン
チップ11の発熱を効率良くヒートシンク14に伝達
し、ヒートシンク14から外部に放出する。
【0026】また、本例のパワーモジュールは放熱板1
3にCu (銅)やMg (マグネシューム)、Al(アル
ミニューム)を含浸させて導電部13aを形成し、放熱
板13に直接シリコンチップ11を半田接合できる構成
である。したがって、従来使用していたモリブデン板を
削除でき、またモリブデン板を放熱板に接合するろう付
け(銀ロウのろう付け)処理等の作業を省略することが
できる。
3にCu (銅)やMg (マグネシューム)、Al(アル
ミニューム)を含浸させて導電部13aを形成し、放熱
板13に直接シリコンチップ11を半田接合できる構成
である。したがって、従来使用していたモリブデン板を
削除でき、またモリブデン板を放熱板に接合するろう付
け(銀ロウのろう付け)処理等の作業を省略することが
できる。
【0027】また、絶縁部13bを放熱グリス15を介
してヒートシンク14に直接取り付けることができ、従
来使用していた絶縁シートを省略することができる。し
たがって、この点からも放熱効率が良くなり、部品点数
を減らすことができる。ここで、上記放熱グリス15は
シリコーンオイルを基油にして、金属セッケンなどの増
調剤や各種添加剤を配合した、例えばシリコーングリス
を使用することができる。
してヒートシンク14に直接取り付けることができ、従
来使用していた絶縁シートを省略することができる。し
たがって、この点からも放熱効率が良くなり、部品点数
を減らすことができる。ここで、上記放熱グリス15は
シリコーンオイルを基油にして、金属セッケンなどの増
調剤や各種添加剤を配合した、例えばシリコーングリス
を使用することができる。
【0028】次に、図3及び図4を用いて本例で使用す
る放熱板13の製造について説明する。本例において
は、放熱板13を以下の方法によって製造する。以下、
具体的に説明する。
る放熱板13の製造について説明する。本例において
は、放熱板13を以下の方法によって製造する。以下、
具体的に説明する。
【0029】先ず、図3は放熱板13の製造方法の一例
を示す図であり、前述のSi C(炭化ケイ素)やAlN
(窒化アルミニューム)の材料を焼結したセラミックス
に対し、所定領域にアルミニューム(Al)の溶湯を含
浸する方法である。すなわち、図3に示すように、金型
17内に焼結処理が行われたセラミックス18(13)
をセットし、金型17の側面に設けられた注入口19か
らアルミニューム(Al)溶湯20を圧入する。また、
この時セラミックス18(13)内の点線21で示す位
置までアルミニューム(Al)溶湯を含浸させるため、
温度や圧入時間等を調整する。また、上記条件は形成し
ようとする導電部13aの厚さや形状によって異なる。
を示す図であり、前述のSi C(炭化ケイ素)やAlN
(窒化アルミニューム)の材料を焼結したセラミックス
に対し、所定領域にアルミニューム(Al)の溶湯を含
浸する方法である。すなわち、図3に示すように、金型
17内に焼結処理が行われたセラミックス18(13)
をセットし、金型17の側面に設けられた注入口19か
らアルミニューム(Al)溶湯20を圧入する。また、
この時セラミックス18(13)内の点線21で示す位
置までアルミニューム(Al)溶湯を含浸させるため、
温度や圧入時間等を調整する。また、上記条件は形成し
ようとする導電部13aの厚さや形状によって異なる。
【0030】以上のように制御することによって、前述
の図2に示す放熱板13を製造することができ、また導
電部13aの厚さや形状も上記条件を変えることによっ
て自由に設定することができる。
の図2に示す放熱板13を製造することができ、また導
電部13aの厚さや形状も上記条件を変えることによっ
て自由に設定することができる。
【0031】また、図3に点線で示す注入口22を形成
し、この注入口22から予め樹脂等の絶縁材料を注入す
ることにより、上記アルミニューム(Al)溶湯の注入
範囲を設定しておく構成としてもよい。
し、この注入口22から予め樹脂等の絶縁材料を注入す
ることにより、上記アルミニューム(Al)溶湯の注入
範囲を設定しておく構成としてもよい。
【0032】また、上記金型17の注入口19は1個に
限らず複数設け、アルミニューム(Al)溶湯を複数の
箇所から注入する構成としてもよい。次に、図4は他の
放熱板13の製造方法の一例を示す図であり、前述のS
i C(炭化ケイ素)やAlN(窒化アルミニューム)の
材料を焼結したセラミックスをアルミニューム(Al)
溶湯中に置くことによってセラミックス内にアルミニュ
ーム(Al)を浸透させる方法である。
限らず複数設け、アルミニューム(Al)溶湯を複数の
箇所から注入する構成としてもよい。次に、図4は他の
放熱板13の製造方法の一例を示す図であり、前述のS
i C(炭化ケイ素)やAlN(窒化アルミニューム)の
材料を焼結したセラミックスをアルミニューム(Al)
溶湯中に置くことによってセラミックス内にアルミニュ
ーム(Al)を浸透させる方法である。
【0033】すなわち、アルミニューム(Al)溶湯2
3を入れた容器24内に焼結処理が行われたセラミック
ス25(13)を置き、セラミックス25(13)内に
アルミニューム(Al)を浸透させる方法である。この
方法によれば、アルミニューム(Al)溶湯23の量を
調整することによって、アルミニューム(Al)溶湯2
3に接触するセラミックス25(13)の表面からアル
ミニューム(Al)溶湯が浸透し、必要な形状に導電部
13aを形成することができる。
3を入れた容器24内に焼結処理が行われたセラミック
ス25(13)を置き、セラミックス25(13)内に
アルミニューム(Al)を浸透させる方法である。この
方法によれば、アルミニューム(Al)溶湯23の量を
調整することによって、アルミニューム(Al)溶湯2
3に接触するセラミックス25(13)の表面からアル
ミニューム(Al)溶湯が浸透し、必要な形状に導電部
13aを形成することができる。
【0034】尚、この場合にも温度等の条件を調整し、
所望の形状の導電部13aを作成することができる。
尚、本実施形態の説明においては、Si C(炭化ケイ
素)やAlN(窒化アルミニューム)の材料を焼結した
セラミックスの例で説明したが、上記材料に限定される
ことなく、例えばAlO (アルミナ)等、絶縁性があ
り、放熱性のある材料であれば適用することができる。
所望の形状の導電部13aを作成することができる。
尚、本実施形態の説明においては、Si C(炭化ケイ
素)やAlN(窒化アルミニューム)の材料を焼結した
セラミックスの例で説明したが、上記材料に限定される
ことなく、例えばAlO (アルミナ)等、絶縁性があ
り、放熱性のある材料であれば適用することができる。
【0035】また、セラミックスに含浸させる材料も、
上記Al(アルミニューム)や、Cu (銅)、Mg (マ
グネシューム)に限らず、導電性を有する材料であれば
適用できる。
上記Al(アルミニューム)や、Cu (銅)、Mg (マ
グネシューム)に限らず、導電性を有する材料であれば
適用できる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればモ
リブデン板等の部品点数を減らすことができ、また組立
工数も減らすことができる。
リブデン板等の部品点数を減らすことができ、また組立
工数も減らすことができる。
【0037】また、本発明によれば放熱量を増やすた
め、放熱板を大きく形成する必要がなく、パワーモジュ
ールを小型軽量化することができる。さらに、本発明は
放熱効率のよいセラミックスを放熱板に使用するので、
極めて効率のよいシリコンチップの放熱構造とすること
ができる。
め、放熱板を大きく形成する必要がなく、パワーモジュ
ールを小型軽量化することができる。さらに、本発明は
放熱効率のよいセラミックスを放熱板に使用するので、
極めて効率のよいシリコンチップの放熱構造とすること
ができる。
【図1】本実施形態のパワーモジュールの放熱構造を示
す図である。
す図である。
【図2】放熱板の構造を更に詳しく説明する図である。
【図3】本例の放熱板の製造例を説明する図である。
【図4】本例の放熱板の他の製造例を説明する図であ
る。
る。
【図5】従来のパワーモジュールの放熱構造を示す図で
ある。
ある。
10 パワーモジュール 11 シリコンチップ 12 半田 13 放熱板 13a 導電部 13b 絶縁部 14 ヒートシンク 15 放熱グリス 17 金型 18 セラミックス 19、22 注入口 20、23 アルミニューム(Al)溶湯 21 点線 24 容器 25 セラミックス
Claims (4)
- 【請求項1】 半導体チップと、 セラミックスより成り、該セラミックスに金属が含浸さ
れた導電部を有し、該導電部に前記半導体チップが半田
接合された放熱板と、 該放熱板のセラミックス部分に取り付けられたヒートシ
ンクと、 を有することを特徴とするパワーモジュールの放熱構
造。 - 【請求項2】 前記放熱板とヒートシンク間には放熱グ
リスが塗布されていることを特徴とする請求項1記載の
パワーモジュールの放熱構造。 - 【請求項3】 前記セラミックスはSi C(炭化ケイ
素)、又はAlN(窒化アルミニューム)を焼結した構
成であることを特徴とする請求項1、又2記載のパワー
モジュールの放熱構造。 - 【請求項4】 前記導電部にはCu (銅)、Mg (マグ
ネシューム)、又はAl(アルミニューム)が含浸され
ていることを特徴とする請求項1、2、又は3記載のパ
ワーモジュールの放熱構造。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31334799A JP2001135758A (ja) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | パワーモジュールの放熱構造 |
US09/699,934 US6529380B1 (en) | 1999-11-04 | 2000-10-30 | Structure of power module radiation |
DE10054466A DE10054466A1 (de) | 1999-11-04 | 2000-11-03 | Aufbau einer Leistungsmodulabstrahlung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31334799A JP2001135758A (ja) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | パワーモジュールの放熱構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001135758A true JP2001135758A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=18040166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31334799A Withdrawn JP2001135758A (ja) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | パワーモジュールの放熱構造 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6529380B1 (ja) |
JP (1) | JP2001135758A (ja) |
DE (1) | DE10054466A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
KR20060115620A (ko) * | 2005-05-05 | 2006-11-09 | 아뮤라이리 더멀 테크놀로지, 아이엔씨. | 저융점 금속 합금 피복층을 갖는 방열 장치 및 그 제조방법 |
JP2013197432A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用半導体装置モジュール |
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US7045884B2 (en) * | 2002-10-04 | 2006-05-16 | International Rectifier Corporation | Semiconductor device package |
US6705393B1 (en) * | 2003-02-25 | 2004-03-16 | Abc Taiwan Electronics Corp. | Ceramic heat sink with micro-pores structure |
DE102004021810A1 (de) * | 2004-05-03 | 2005-12-01 | Conti Temic Microelectronic Gmbh | Elektronisches Bauelement sowie Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelementes |
JP4640170B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-03-02 | 株式会社豊田自動織機 | 半田付け方法及び半導体モジュールの製造方法並びに半田付け装置 |
TWI449137B (zh) * | 2006-03-23 | 2014-08-11 | Ceramtec Ag | 構件或電路用的攜帶體 |
CN200990577Y (zh) * | 2006-08-28 | 2007-12-12 | 中山大洋电机股份有限公司 | 一种直流无刷电机的控制器结构 |
US7511961B2 (en) * | 2006-10-26 | 2009-03-31 | Infineon Technologies Ag | Base plate for a power semiconductor module |
US20080166492A1 (en) * | 2007-01-09 | 2008-07-10 | International Business Machines Corporation | Metal-graphite foam composite and a cooling apparatus for using the same |
JP2015223044A (ja) * | 2014-05-23 | 2015-12-10 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 回路構成体および電気接続箱 |
JP7255397B2 (ja) * | 2019-07-10 | 2023-04-11 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53144268A (en) | 1977-05-23 | 1978-12-15 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
US5355280A (en) * | 1989-09-27 | 1994-10-11 | Robert Bosch Gmbh | Connection arrangement with PC board |
US5459352A (en) * | 1993-03-31 | 1995-10-17 | Unisys Corporation | Integrated circuit package having a liquid metal-aluminum/copper joint |
CA2232517C (en) * | 1997-03-21 | 2004-02-17 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha .) | Functionally gradient material and method for producing the same |
-
1999
- 1999-11-04 JP JP31334799A patent/JP2001135758A/ja not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-10-30 US US09/699,934 patent/US6529380B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-03 DE DE10054466A patent/DE10054466A1/de not_active Ceased
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060115620A (ko) * | 2005-05-05 | 2006-11-09 | 아뮤라이리 더멀 테크놀로지, 아이엔씨. | 저융점 금속 합금 피복층을 갖는 방열 장치 및 그 제조방법 |
JP2013197432A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用半導体装置モジュール |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10054466A1 (de) | 2001-05-17 |
US6529380B1 (en) | 2003-03-04 |
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---|---|---|---|
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