JP2001135250A - ブラックマトリックスを生成するための組成物、ブラックマトリックスを生成する方法、及びブラックマトリックスを含むプラズマディスプレイパネル - Google Patents
ブラックマトリックスを生成するための組成物、ブラックマトリックスを生成する方法、及びブラックマトリックスを含むプラズマディスプレイパネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 焼成段階を行なう必要がなく少ない製造費用
でブラックマトリックスを製造するための組成物及び製
造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 鉱物の結合剤及び／又は焼結剤を含まな
いブラックマトリックスのための組成物は、（i）鉄、
クロム、アルミニウムの混合酸化物と、（ii）鉄、クロ
ム、ニッケル、コバルトの混合酸化物と、（iii）鉄、
クロム、コバルト、アルミニウムの混合酸化物とを含む
群から選択される顔料を含むことが望ましい。本発明は
また、相互に対向し放電空間を囲む第１のタイル（３）
及び第２のタイル（４）と、電極の交点における放電セ
ルの配列は誘電体層（６、８、１２、１４）によって覆
われ、上記タイルのうち少なくとも一方は誘電体層
（６）の下に埋設されたブラックマトリックス（３０）
を有し、ブラックマトリックス（３０）は不透明な材料
からなり、その少なくとも一部は上記誘電体層（６）に
組み込まれるプラズマディスプレイパネルに関する。
でブラックマトリックスを製造するための組成物及び製
造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 鉱物の結合剤及び／又は焼結剤を含まな
いブラックマトリックスのための組成物は、（i）鉄、
クロム、アルミニウムの混合酸化物と、（ii）鉄、クロ
ム、ニッケル、コバルトの混合酸化物と、（iii）鉄、
クロム、コバルト、アルミニウムの混合酸化物とを含む
群から選択される顔料を含むことが望ましい。本発明は
また、相互に対向し放電空間を囲む第１のタイル（３）
及び第２のタイル（４）と、電極の交点における放電セ
ルの配列は誘電体層（６、８、１２、１４）によって覆
われ、上記タイルのうち少なくとも一方は誘電体層
（６）の下に埋設されたブラックマトリックス（３０）
を有し、ブラックマトリックス（３０）は不透明な材料
からなり、その少なくとも一部は上記誘電体層（６）に
組み込まれるプラズマディスプレイパネルに関する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像のコントラス
ト及び表現を改善するためのブラックマトリックスを組
み込んだ画像表示スクリーンに関する。ブラックマトリ
ックスは、平型スクリーン及び陰極線管の両方に使用さ
れる。本発明は、特にプラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）に使用されうるブラックマトリックスを形成する
ための新規な化合物を提供する。
ト及び表現を改善するためのブラックマトリックスを組
み込んだ画像表示スクリーンに関する。ブラックマトリ
ックスは、平型スクリーン及び陰極線管の両方に使用さ
れる。本発明は、特にプラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）に使用されうるブラックマトリックスを形成する
ための新規な化合物を提供する。
【０００２】
【従来の技術】概して、ＰＤＰ上に表示される各画像
は、一組の光放電点からなる。光放電は、２つの絶縁タ
イル、即ち前面タイルと背面タイルの間に含まれるガス
中で生ずる。各放電点は、配列としてまとめられる電極
の交点によって画成される放電セル中に発生される。各
電極配列はタイルのうちの少なくとも一方によって支持
される。このように、ＰＤＰは電極配列の幾何学形状に
よって行及び列に配置されたセルの２次元マトリックス
を有する。
は、一組の光放電点からなる。光放電は、２つの絶縁タ
イル、即ち前面タイルと背面タイルの間に含まれるガス
中で生ずる。各放電点は、配列としてまとめられる電極
の交点によって画成される放電セル中に発生される。各
電極配列はタイルのうちの少なくとも一方によって支持
される。このように、ＰＤＰは電極配列の幾何学形状に
よって行及び列に配置されたセルの２次元マトリックス
を有する。
【０００３】ＰＤＰでは、観察者によって画像が見える
ために必要な可視光線の放電は、紫外線による蛍光体の
励起によって得られる。通常は平面タイル上に堆積され
る蛍光体層は、数ミクロンの平均直径を有し入射光即ち
パネルを照射する外部光を強く散乱させる粒子からな
る。この現象は２つの種類の制約を与える。
ために必要な可視光線の放電は、紫外線による蛍光体の
励起によって得られる。通常は平面タイル上に堆積され
る蛍光体層は、数ミクロンの平均直径を有し入射光即ち
パネルを照射する外部光を強く散乱させる粒子からな
る。この現象は２つの種類の制約を与える。
【０００４】第１に、ＰＤＰが最大のコントラストを有
するために、散乱された反射の係数をできる限り減少さ
せることが必要である。この係数は、パネルによって反
射された光の強度と入射光の強度との比率に対応する。
しかしながら、スクリーンによって発光される輝度を過
剰に減少させずにこの係数を減少させることが望まし
い。パネルの表面は均一な発光性を有しないため、この
係数を減少させるための公知の手段は、パネルのあまり
発光性が高くない領域を黒くし、「ブラックマトリック
ス」を形成することからなる。従ってパネルの表面の一
部は、観察者には黒く又は暗く見え、一方パネルの輝度
は僅かに減少されるだけである。
するために、散乱された反射の係数をできる限り減少さ
せることが必要である。この係数は、パネルによって反
射された光の強度と入射光の強度との比率に対応する。
しかしながら、スクリーンによって発光される輝度を過
剰に減少させずにこの係数を減少させることが望まし
い。パネルの表面は均一な発光性を有しないため、この
係数を減少させるための公知の手段は、パネルのあまり
発光性が高くない領域を黒くし、「ブラックマトリック
ス」を形成することからなる。従ってパネルの表面の一
部は、観察者には黒く又は暗く見え、一方パネルの輝度
は僅かに減少されるだけである。
【０００５】第２に、カラーディスプレイパネルでは、
最大の色純度を得るために、画素間領域で発せられる光
に対するスクリーンを形成することが望ましい。これ
は、これらのパネルでは、各ドット又は画素は原色、即
ち、赤、緑、青のための３つのセルからなるためであ
る。セルの中での光の放電は、このセルの壁を被覆する
単一の原色の蛍光体を照射する紫外線光を生成し、この
蛍光体は次にこの単一の原色を発する。しかしながら、
この光の放電はまた、しばしば異なった原色の蛍光体を
有するセル間領域も照射し、このセル間領域は次に幾つ
かの原色を発し、これらの「寄生」発光は、多くの技術
的要因に依存して変化し、制御可能ではない。これらは
比色純度を低下させる。画素間領域に「ブラックマトリ
ックス」が存在することにより、この低下が制限される
ことが可能となる。
最大の色純度を得るために、画素間領域で発せられる光
に対するスクリーンを形成することが望ましい。これ
は、これらのパネルでは、各ドット又は画素は原色、即
ち、赤、緑、青のための３つのセルからなるためであ
る。セルの中での光の放電は、このセルの壁を被覆する
単一の原色の蛍光体を照射する紫外線光を生成し、この
蛍光体は次にこの単一の原色を発する。しかしながら、
この光の放電はまた、しばしば異なった原色の蛍光体を
有するセル間領域も照射し、このセル間領域は次に幾つ
かの原色を発し、これらの「寄生」発光は、多くの技術
的要因に依存して変化し、制御可能ではない。これらは
比色純度を低下させる。画素間領域に「ブラックマトリ
ックス」が存在することにより、この低下が制限される
ことが可能となる。
【０００６】これらの現象をよりよく理解するため、以
下、図１及び２を参照して、「ブラックマトリックス」
が設けられた従来のＰＤＰの構造について説明する。考
慮されるＰＤＰは、表面放電を伴なうＡＣ（交流）型で
あり、異なった原色をバリアによって分離するものであ
る。
下、図１及び２を参照して、「ブラックマトリックス」
が設けられた従来のＰＤＰの構造について説明する。考
慮されるＰＤＰは、表面放電を伴なうＡＣ（交流）型で
あり、異なった原色をバリアによって分離するものであ
る。
【０００７】ＰＤＰは、数ミリメートルの厚さの第１の
ガラスタイル２及び第２のガラスタイル４を有し、これ
らは相互に対向して結合され、夫々の内側面の間に１０
０ミクロンのオーダの隙間がある（図１）。
ガラスタイル２及び第２のガラスタイル４を有し、これ
らは相互に対向して結合され、夫々の内側面の間に１０
０ミクロンのオーダの隙間がある（図１）。
【０００８】ＰＤＰの前面を構成する第１のタイル２
は、その内側面上に、近接した対としてまとめられる平
行な電極の配列Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b
等を有する。各行電極対は、ＰＤＰの表示ラインを構成
する。電極は、タイル２の有効面全体を覆う例えばガラ
スといった誘電体材料の厚い層６に埋設される。この層
６自体は、ここではマグネシウム酸化物（ＭｇＯ）であ
る他の誘電体材料の薄い保護層８（厚さ１ミクロン以
下）によって覆われ、この薄い保護層８の表面は放電ガ
スに対して露出されている。
は、その内側面上に、近接した対としてまとめられる平
行な電極の配列Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b
等を有する。各行電極対は、ＰＤＰの表示ラインを構成
する。電極は、タイル２の有効面全体を覆う例えばガラ
スといった誘電体材料の厚い層６に埋設される。この層
６自体は、ここではマグネシウム酸化物（ＭｇＯ）であ
る他の誘電体材料の薄い保護層８（厚さ１ミクロン以
下）によって覆われ、この薄い保護層８の表面は放電ガ
スに対して露出されている。
【０００９】本例では、第１のタイル２の内側面には、
誘電体層６及び８によって覆われるブラックマトリック
ス３０が設けられ（図２）、これについて以下詳述す
る。
誘電体層６及び８によって覆われるブラックマトリック
ス３０が設けられ（図２）、これについて以下詳述す
る。
【００１０】ＰＤＰの背面を構成する第２のタイル４
は、その内側面上に、均一に離間された平行な電極の配
列Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6を有し、この電極の配列Ｘ1，
Ｘ2，…，Ｘ6は、行電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ
5a−Ｙ5b等に対して直角であり、プラズマディスプレイ
パネルのアドレス電極の配列を構成する。第１のタイル
２の場合と同様、これらの電極Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6は、
誘電体の厚い層１２に埋設され、この層１２自体はマグ
ネシウム酸化物の薄い保護層１４によって覆われる。こ
のように、ＰＤＰの放電セルは、アドレス電極Ｘ1，
Ｘ2，…，Ｘ6と、表示ラインの行電極対Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ
2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等との間の各交点に形成され
る。
は、その内側面上に、均一に離間された平行な電極の配
列Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6を有し、この電極の配列Ｘ1，
Ｘ2，…，Ｘ6は、行電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ
5a−Ｙ5b等に対して直角であり、プラズマディスプレイ
パネルのアドレス電極の配列を構成する。第１のタイル
２の場合と同様、これらの電極Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6は、
誘電体の厚い層１２に埋設され、この層１２自体はマグ
ネシウム酸化物の薄い保護層１４によって覆われる。こ
のように、ＰＤＰの放電セルは、アドレス電極Ｘ1，
Ｘ2，…，Ｘ6と、表示ラインの行電極対Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ
2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等との間の各交点に形成され
る。
【００１１】動作上、各表示ラインの電極値を形成する
電極間に維持電圧と称されるＡＣ電圧が印加される。放
電は、これらの電極間の表面上で、周知の多重化技術を
用いて、アドレス電極に印加される電圧信号によって生
ずる。特に、ビデオモードの表示を発生させるためライ
ン毎の走査によって各セルの輝度放電Ｄ（図２）の状態
を変更させることが可能である。
電極間に維持電圧と称されるＡＣ電圧が印加される。放
電は、これらの電極間の表面上で、周知の多重化技術を
用いて、アドレス電極に印加される電圧信号によって生
ずる。特に、ビデオモードの表示を発生させるためライ
ン毎の走査によって各セルの輝度放電Ｄ（図２）の状態
を変更させることが可能である。
【００１２】まっすぐなバリア１６は、第２のタイル４
の薄い層１４の上に、電極Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6の間に、
これらの電極に平行に配置される。バリア１６は、タイ
ル４の表面に垂直な側壁と、第１のタイル２の内側面の
ための支持面として作用しうる平坦な上面とを有する。
バリア１６は、このように異なったアドレス電極上に配
置された放電セルを区画化する。一般的に、バリア１６
は１００ミクロンのオーダの高さと、５０ミクロンのオ
ーダの幅とを有し、２２０ミクロンのピッチで相互に平
行であるよう配置される。
の薄い層１４の上に、電極Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6の間に、
これらの電極に平行に配置される。バリア１６は、タイ
ル４の表面に垂直な側壁と、第１のタイル２の内側面の
ための支持面として作用しうる平坦な上面とを有する。
バリア１６は、このように異なったアドレス電極上に配
置された放電セルを区画化する。一般的に、バリア１６
は１００ミクロンのオーダの高さと、５０ミクロンのオ
ーダの幅とを有し、２２０ミクロンのピッチで相互に平
行であるよう配置される。
【００１３】蛍光体１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのストライ
プは、バリア間に、第２のタイルの露出された表面、更
に特定的には酸化マグネシウムの薄い層１４の上に配置
される。このように、原色の各ストライプ、即ち赤の場
合は１８Ｒ、緑の場合は１８Ｇ、青の場合は１８Ｂ、
は、２つの隣接するバリアによって境界が決められる。
このように、蛍光体は夫々が異なった発光色を有する３
つの連続するストライプの繰り返しのパターンとして堆
積され、行電極Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6の方向に一連の基本
色の３つ組を形成する。
プは、バリア間に、第２のタイルの露出された表面、更
に特定的には酸化マグネシウムの薄い層１４の上に配置
される。このように、原色の各ストライプ、即ち赤の場
合は１８Ｒ、緑の場合は１８Ｇ、青の場合は１８Ｂ、
は、２つの隣接するバリアによって境界が決められる。
このように、蛍光体は夫々が異なった発光色を有する３
つの連続するストライプの繰り返しのパターンとして堆
積され、行電極Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6の方向に一連の基本
色の３つ組を形成する。
【００１４】２つのタイル２及び４は、相互に密閉さ
れ、両方のタイルによって囲まれる空間はポンプ管によ
って真空ポンプされた後、低圧の放電ガスで充填され
る。
れ、両方のタイルによって囲まれる空間はポンプ管によ
って真空ポンプされた後、低圧の放電ガスで充填され
る。
【００１５】電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ
5b等とＸ1，Ｘ2，…，Ｘ6との上に誘電体材料の層６、
８、１２及び１４が存在することは、ＡＣ型のＰＤＰに
特徴的であることが分かる。誘電体材料はその電極と共
にコンデンサを形成し、このコンデンサにはガス中で光
放電を発生させ維持するために必要とされる電圧が印加
される。
5b等とＸ1，Ｘ2，…，Ｘ6との上に誘電体材料の層６、
８、１２及び１４が存在することは、ＡＣ型のＰＤＰに
特徴的であることが分かる。誘電体材料はその電極と共
にコンデンサを形成し、このコンデンサにはガス中で光
放電を発生させ維持するために必要とされる電圧が印加
される。
【００１６】ＡＣ型のＰＤＰの１つの特徴は、ＡＣ維持
電圧が最も最近受信された命令に基づいて光放電ドット
Ｄの状態を自動的に設定することであり、放電は、以前
に送信された命令に依存して、維持されるか存在しない
ままとされる。従って、これは本質的に画像記憶効果を
生じさせ、従って光の状態が変化されねばならない場合
にのみドットをアドレス指定する可能性を与える。
電圧が最も最近受信された命令に基づいて光放電ドット
Ｄの状態を自動的に設定することであり、放電は、以前
に送信された命令に依存して、維持されるか存在しない
ままとされる。従って、これは本質的に画像記憶効果を
生じさせ、従って光の状態が変化されねばならない場合
にのみドットをアドレス指定する可能性を与える。
【００１７】バリア１６は、特に表面放電型ＰＤＰの場
合に、ＰＤＰの電気光学的特徴に対して重要な役割を担
い、その大部分を決定する。これは、バリア１６が画質
に対して直接的な影響を与える幾つかの別々の機能を有
するためである。即ち、バリア１６は、堆積される蛍光
体１８の比較的大きい部分に対する支持体として作用
し、これに関して、やはり蛍光体に覆われた基板２の底
部に対して直角をなす側壁は非常に幅広い視角を得るこ
とを可能とする。また、バリア１６は、本質的に又は蛍
光体の被覆により不透明であるため、原色がよく分離さ
れることを可能とする。
合に、ＰＤＰの電気光学的特徴に対して重要な役割を担
い、その大部分を決定する。これは、バリア１６が画質
に対して直接的な影響を与える幾つかの別々の機能を有
するためである。即ち、バリア１６は、堆積される蛍光
体１８の比較的大きい部分に対する支持体として作用
し、これに関して、やはり蛍光体に覆われた基板２の底
部に対して直角をなす側壁は非常に幅広い視角を得るこ
とを可能とする。また、バリア１６は、本質的に又は蛍
光体の被覆により不透明であるため、原色がよく分離さ
れることを可能とする。
【００１８】バリアの上面１６ａに堆積された蛍光体の
トレースから生じ、比色純度を低下させる寄生発光を阻
止するため、ブラックマトリックス３０はタイル２上に
堆積され、図２に示されるように、これらの上面に対向
して、即ち前面タイル上に配置される。換言すれば、可
視光に対して不透明な材料のストライプは、通常は上述
のタイルの内側面２ａに、上面１６ａにちょうど対向し
て配置され、それによりパネルの前面タイル２を見てい
る観察者は上面１６ａによって発光される光を直接知覚
することができない。以下図３のフローチャートを参照
して、従来技術によるブラックマトリックス３０が設け
られた前面タイルの製造方法における主な段階について
説明する。
トレースから生じ、比色純度を低下させる寄生発光を阻
止するため、ブラックマトリックス３０はタイル２上に
堆積され、図２に示されるように、これらの上面に対向
して、即ち前面タイル上に配置される。換言すれば、可
視光に対して不透明な材料のストライプは、通常は上述
のタイルの内側面２ａに、上面１６ａにちょうど対向し
て配置され、それによりパネルの前面タイル２を見てい
る観察者は上面１６ａによって発光される光を直接知覚
することができない。以下図３のフローチャートを参照
して、従来技術によるブラックマトリックス３０が設け
られた前面タイルの製造方法における主な段階について
説明する。
【００１９】方法は、ＰＤＰの前面２を形成するための
ベアガラスタイル２’から開始する。電極の配列はこの
タイルに適した形状でこのタイル上に堆積される（段階
Ｅ２）。本例では、上記電極は、行電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ
2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等である。これらの電極は、連
続的な導体の層、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）
／クロム−銅−クロムの積層体又は単純にクロム−銅−
クロムのシーケンスから製造されうる。これらの層を硬
化させるために焼成段階（図示せず）が任意に行われう
る。
ベアガラスタイル２’から開始する。電極の配列はこの
タイルに適した形状でこのタイル上に堆積される（段階
Ｅ２）。本例では、上記電極は、行電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ
2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等である。これらの電極は、連
続的な導体の層、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）
／クロム−銅−クロムの積層体又は単純にクロム−銅−
クロムのシーケンスから製造されうる。これらの層を硬
化させるために焼成段階（図示せず）が任意に行われう
る。
【００２０】次に、ブラックマトリックス３０が製造さ
れる（段階Ｅ４）。この段階は、電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a
−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等が設けられたガラスタイル２’
上に、マトリックスに対して要求されるパターンで黒色
の誘電体の層を堆積させることからなる。このように、
図１及び２に示されるＰＤＰの場合、ブラックマトリッ
クスのパターンは、対向するタイル上のバリアの上面１
６ａに対して位置合わせされた平行なストライプからな
る。
れる（段階Ｅ４）。この段階は、電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a
−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等が設けられたガラスタイル２’
上に、マトリックスに対して要求されるパターンで黒色
の誘電体の層を堆積させることからなる。このように、
図１及び２に示されるＰＤＰの場合、ブラックマトリッ
クスのパターンは、対向するタイル上のバリアの上面１
６ａに対して位置合わせされた平行なストライプからな
る。
【００２１】黒色の誘導体は、一般的にはガラス質のマ
トリックス（例えばホウ珪酸鉛）によって結合された顔
料粒子からなるエナメルの不連続層を形成する。ガラス
質のマトリックスは、エナメルをガラス化するための焼
成中に焼結剤及び／又は結合剤として作用する鉱物物質
である。顔料は、焼成後、可視放射線に対して十分に不
透明な鉱物物質である。顔料は、一般的には黒色顔料で
ある。黒色顔料３０は、（前面層では透明な）厚い誘電
体層６が堆積される前に形成される。
トリックス（例えばホウ珪酸鉛）によって結合された顔
料粒子からなるエナメルの不連続層を形成する。ガラス
質のマトリックスは、エナメルをガラス化するための焼
成中に焼結剤及び／又は結合剤として作用する鉱物物質
である。顔料は、焼成後、可視放射線に対して十分に不
透明な鉱物物質である。顔料は、一般的には黒色顔料で
ある。黒色顔料３０は、（前面層では透明な）厚い誘電
体層６が堆積される前に形成される。
【００２２】一般的に、ブラックマトリックス３０を形
成する誘電体は、透明な誘電体６が堆積される（段階Ｅ
８）前に焼成され（段階Ｅ６）、それにより、マトリッ
クス３０の黒色の誘電体と透明な誘電体層６とは混合
（相互拡散）しない。透明な誘電体層が堆積された後、
再び焼成される（段階Ｅ１０）。最後に、ＭｇＯの薄い
層８が堆積され（段階Ｅ１２）、装備され完成したタイ
ル２が得られる。
成する誘電体は、透明な誘電体６が堆積される（段階Ｅ
８）前に焼成され（段階Ｅ６）、それにより、マトリッ
クス３０の黒色の誘電体と透明な誘電体層６とは混合
（相互拡散）しない。透明な誘電体層が堆積された後、
再び焼成される（段階Ｅ１０）。最後に、ＭｇＯの薄い
層８が堆積され（段階Ｅ１２）、装備され完成したタイ
ル２が得られる。
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】従って、特にブラック
マトリックス３０を製造するために焼成段階Ｅ６を行な
う必要があり、それにより製造費用が増加されることが
わかる。
マトリックス３０を製造するために焼成段階Ｅ６を行な
う必要があり、それにより製造費用が増加されることが
わかる。
【００２４】更に、顔料が添加されたエナメルによって
形成される黒色の誘電体は高い光学的屈折率、例えば約
２、を有する。タイルのガラスの屈折率はこのエナメル
よりもかなり低いため、タイルのガラスと黒色の誘導体
３０との間の境界面において光学的屈折率の変化があ
り、入射光の大きな鏡面反射が生ずる。このように、ブ
ラックマトリックス３０が可視放射線に対して完全に吸
収性があっても、このブラックマトリックスを照明する
入射光の５％乃至１０％は、黒色の誘電体の高い屈折率
によってのみ反射される。
形成される黒色の誘電体は高い光学的屈折率、例えば約
２、を有する。タイルのガラスの屈折率はこのエナメル
よりもかなり低いため、タイルのガラスと黒色の誘導体
３０との間の境界面において光学的屈折率の変化があ
り、入射光の大きな鏡面反射が生ずる。このように、ブ
ラックマトリックス３０が可視放射線に対して完全に吸
収性があっても、このブラックマトリックスを照明する
入射光の５％乃至１０％は、黒色の誘電体の高い屈折率
によってのみ反射される。
【００２５】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を考慮し
て、第１の面では、本発明は、特にプラズマディスプレ
イパネルの製造用のブラックマトリックスのための組成
物であって、ガラス質マトリックスを含まず、焼結鉱物
剤及び／又は結合鉱物剤も含まないことを特徴とする組
成物を提供する。
て、第１の面では、本発明は、特にプラズマディスプレ
イパネルの製造用のブラックマトリックスのための組成
物であって、ガラス質マトリックスを含まず、焼結鉱物
剤及び／又は結合鉱物剤も含まないことを特徴とする組
成物を提供する。
【００２６】有利には、この組成物は、少なくとも１つ
の顔料及び有機樹脂の混合物からなるペーストの形であ
り、混合物中の樹脂の性質及び割合は、周知の方法で、
このペーストがディスプレイパネルのタイル上に正しく
堆積されることを可能とするよう適合される。
の顔料及び有機樹脂の混合物からなるペーストの形であ
り、混合物中の樹脂の性質及び割合は、周知の方法で、
このペーストがディスプレイパネルのタイル上に正しく
堆積されることを可能とするよう適合される。
【００２７】少なくとも１つの顔料は、少なくとも焼成
後は、可視光に対して不透明な鉱物生成物である。望ま
しくは、これは焼成の前に可視光に対して不透明であ
り、約６００℃まで、即ちプラズマディスプレイパネル
の製造のために通常使用される誘電体材料の焼成のため
の全ての条件下で、熱安定性を有する。
後は、可視光に対して不透明な鉱物生成物である。望ま
しくは、これは焼成の前に可視光に対して不透明であ
り、約６００℃まで、即ちプラズマディスプレイパネル
の製造のために通常使用される誘電体材料の焼成のため
の全ての条件下で、熱安定性を有する。
【００２８】この顔料は、有利には０．１乃至１０ミク
ロンの平均寸法を有し、望ましくは０．１３乃至５ミク
ロンの平均寸法を有し、一般的には１．５ミクロンの平
均寸法を有する粒子の形状である。
ロンの平均寸法を有し、望ましくは０．１３乃至５ミク
ロンの平均寸法を有し、一般的には１．５ミクロンの平
均寸法を有する粒子の形状である。
【００２９】この顔料は、（i）鉄、クロム、アルミニ
ウムの混合酸化物、又は、酸化鉄、酸化クロム、酸化ア
ルミニウムの混合物と、（ii）鉄、クロム、ニッケル、
コバルトの混合酸化物、又は、酸化鉄、酸化クロム、酸
化ニッケル、酸化コバルトの混合物と、（iii）鉄、ク
ロム、コバルト、アルミニウムの混合酸化物、又は、酸
化鉄、酸化クロム、酸化コバルト、酸化アルミニウムの
混合物と、を含む群から選択されることが望ましい。
ウムの混合酸化物、又は、酸化鉄、酸化クロム、酸化ア
ルミニウムの混合物と、（ii）鉄、クロム、ニッケル、
コバルトの混合酸化物、又は、酸化鉄、酸化クロム、酸
化ニッケル、酸化コバルトの混合物と、（iii）鉄、ク
ロム、コバルト、アルミニウムの混合酸化物、又は、酸
化鉄、酸化クロム、酸化コバルト、酸化アルミニウムの
混合物と、を含む群から選択されることが望ましい。
【００３０】第２の面によれば、本発明は、上述の組成
物から形成されるブラックマトリックスを含むことを特
徴とするプラズマディスプレイパネルに関する。
物から形成されるブラックマトリックスを含むことを特
徴とするプラズマディスプレイパネルに関する。
【００３１】これは特に、相互に対向し放電空間を囲む
第１のタイル及び第２のタイルと、配列としてまとめら
れる電極の交点における放電セルの配列とを有し、電極
の各配列は少なくとも１つの誘電体層及び／又は保護層
によって覆われ、上記タイルのうち少なくとも一方は誘
電体層及び／又は保護層の下に埋設されたブラックマト
リックスを有するプラズマディスプレイパネルであっ
て、本発明によれば、ブラックマトリックスは不透明な
材料からなり、その少なくとも一部は上記誘電体層及び
／又は保護層に組み込まれる。
第１のタイル及び第２のタイルと、配列としてまとめら
れる電極の交点における放電セルの配列とを有し、電極
の各配列は少なくとも１つの誘電体層及び／又は保護層
によって覆われ、上記タイルのうち少なくとも一方は誘
電体層及び／又は保護層の下に埋設されたブラックマト
リックスを有するプラズマディスプレイパネルであっ
て、本発明によれば、ブラックマトリックスは不透明な
材料からなり、その少なくとも一部は上記誘電体層及び
／又は保護層に組み込まれる。
【００３２】第３の面によれば、本発明は、（ａ）基板
上に、ブラックマトリックスに対応するパターンを有し
略不透明な層を生成する段階と、（ｂ）上記ブラックマ
トリックスを覆うよう上記基板上に誘電体材料を堆積さ
せる段階と、（ｃ）上記誘電体材料を焼成する段階とを
有する、基板上にブラックマトリックスを有する特にプ
ラズマディスプレイパネルといったディスプレイ装置を
製造する方法に関する。
上に、ブラックマトリックスに対応するパターンを有し
略不透明な層を生成する段階と、（ｂ）上記ブラックマ
トリックスを覆うよう上記基板上に誘電体材料を堆積さ
せる段階と、（ｃ）上記誘電体材料を焼成する段階とを
有する、基板上にブラックマトリックスを有する特にプ
ラズマディスプレイパネルといったディスプレイ装置を
製造する方法に関する。
【００３３】上記方法は、ブラックマトリックスを形成
するために上記不透明な材料を焼成する中間段階なし
に、上記段階（ａ）から上記段階（ｂ）へ進む。
するために上記不透明な材料を焼成する中間段階なし
に、上記段階（ａ）から上記段階（ｂ）へ進む。
【００３４】焼成段階前は、ブラックマトリックスを形
成する層は、ガラス質マトリックスを含まず、誘電体の
焼成中に焼結及び／又は結合することが可能な鉱物剤も
含まないことが望ましい。
成する層は、ガラス質マトリックスを含まず、誘電体の
焼成中に焼結及び／又は結合することが可能な鉱物剤も
含まないことが望ましい。
【００３５】従って、「ブラックマトリックス」は、本
発明によれば焼結鉱物剤及び／又は結合鉱物剤、又は、
黒色顔料の粒子を結合するためのガラス質顔料なしに与
えられるが、このマトリックスを覆う誘電体層及び／又
は保護層が焼成された後、ブラックマトリックスの顔料
粒子は誘電体層及び／又は保護層のガラス質相によって
部分的に「湿らされる」。焼成後、この部分的に「湿ら
された」ブラックマトリックスは実際に誘電体層とは別
の層を形成するが、焼成中に誘電体層のエナメルは、ブ
ラックマトリックスの顔料粒子間の粒子間空間の中へガ
ラス基板まで拡散していることが観察される。本発明に
よる方法を実施することにより、ディスプレイ装置のタ
イルの製造における焼成段階を回避することが可能とな
り、従って経済的に有利である。ブラックマトリックス
の顔料を部分的にのみ湿らせることにより、ブラックマ
トリックスの性能は改善され、即ち鏡面反射係数が減少
され、比色純度が改善される。
発明によれば焼結鉱物剤及び／又は結合鉱物剤、又は、
黒色顔料の粒子を結合するためのガラス質顔料なしに与
えられるが、このマトリックスを覆う誘電体層及び／又
は保護層が焼成された後、ブラックマトリックスの顔料
粒子は誘電体層及び／又は保護層のガラス質相によって
部分的に「湿らされる」。焼成後、この部分的に「湿ら
された」ブラックマトリックスは実際に誘電体層とは別
の層を形成するが、焼成中に誘電体層のエナメルは、ブ
ラックマトリックスの顔料粒子間の粒子間空間の中へガ
ラス基板まで拡散していることが観察される。本発明に
よる方法を実施することにより、ディスプレイ装置のタ
イルの製造における焼成段階を回避することが可能とな
り、従って経済的に有利である。ブラックマトリックス
の顔料を部分的にのみ湿らせることにより、ブラックマ
トリックスの性能は改善され、即ち鏡面反射係数が減少
され、比色純度が改善される。
【００３６】ブラックマトリックスに対応するパターン
は、直接スクリーン印刷技術によって、又はフォトリソ
グラフィーによって生成されうる。
は、直接スクリーン印刷技術によって、又はフォトリソ
グラフィーによって生成されうる。
【００３７】本発明の方法がＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルを製造するために用いられる場合は、パネルの
前面タイルにブラックマトリックスを形成するために使
用されることが有利である。
イパネルを製造するために用いられる場合は、パネルの
前面タイルにブラックマトリックスを形成するために使
用されることが有利である。
【００３８】
【発明の実施の形態】本発明の更なる特徴及び利点は、
添付の図面を参照して、本発明を制限するものではない
例としてのみ与えらえる本発明の望ましい実施例につい
ての記載により明らかとなろう。本発明の実施例は、図
１及び２を参照して上述されたプラズマディスプレイパ
ネルに関連して説明される。これらの面については簡潔
性のため再び説明しないものとする。更に、上述の例で
はブラックマトリックス３０を担持するプラズマディス
プレイパネル（３０）の前面タイル２について特に詳述
する。ＰＤＰの他の面、特にバリア１６及び蛍光体層１
８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを含む背面タイルに関する製造技
術は、当業者によって周知であり、簡潔性のため再び説
明しないものとする。
添付の図面を参照して、本発明を制限するものではない
例としてのみ与えらえる本発明の望ましい実施例につい
ての記載により明らかとなろう。本発明の実施例は、図
１及び２を参照して上述されたプラズマディスプレイパ
ネルに関連して説明される。これらの面については簡潔
性のため再び説明しないものとする。更に、上述の例で
はブラックマトリックス３０を担持するプラズマディス
プレイパネル（３０）の前面タイル２について特に詳述
する。ＰＤＰの他の面、特にバリア１６及び蛍光体層１
８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを含む背面タイルに関する製造技
術は、当業者によって周知であり、簡潔性のため再び説
明しないものとする。
【００３９】図４及び５（ａ）に記載されるように、ブ
ラックマトリックスを担持する前面タイル２の製造方法
の第１の段階は、続いて堆積される層のための基板を構
成するベアガラスタイル２’に対して行なわれる。この
タイルは、光学的な質の、又は光学的な質に近いソーダ
石灰ガラスから形成される。１０５ｃｍ対角線のテレビ
ジョンアスペクト比を有するＰＤＰの場合、厚さは約３
ｍｍである。
ラックマトリックスを担持する前面タイル２の製造方法
の第１の段階は、続いて堆積される層のための基板を構
成するベアガラスタイル２’に対して行なわれる。この
タイルは、光学的な質の、又は光学的な質に近いソーダ
石灰ガラスから形成される。１０５ｃｍ対角線のテレビ
ジョンアスペクト比を有するＰＤＰの場合、厚さは約３
ｍｍである。
【００４０】任意に、ベアタイル２’は、続く焼成段階
中の寸法を安定化させるため、熱処理を受けてもよい。
その場合、タイルが所定の寸法に硬化される前に材料を
収縮させるため、タイルは約５８０℃の温度まで加熱さ
れる。かかる熱処理中、ガラスは４００乃至６００ｐｐ
ｍで収縮されてもよい。
中の寸法を安定化させるため、熱処理を受けてもよい。
その場合、タイルが所定の寸法に硬化される前に材料を
収縮させるため、タイルは約５８０℃の温度まで加熱さ
れる。かかる熱処理中、ガラスは４００乃至６００ｐｐ
ｍで収縮されてもよい。
【００４１】次に、電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ
5a−Ｙ5b等の配列がガラスの上に体積さえる（図５の
（ｂ）及び（ｃ））。図１のＰＤＰの前面を形成するた
めのタイル２に関して、配列は電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−
Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等からなる。電極配列はスクリーン
印刷技術又はフォトリソグラフィーによる周知の技術を
用いて生成される。各電極は、例えばクロム−銅−クロ
ムの積層体を形成するために１つ以上の連続する層によ
って、又はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の被覆によっ
て構成されてもよい。電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…
Ｙ5a−Ｙ5b等は十分に薄いため透明であると考慮されう
る。
5a−Ｙ5b等の配列がガラスの上に体積さえる（図５の
（ｂ）及び（ｃ））。図１のＰＤＰの前面を形成するた
めのタイル２に関して、配列は電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−
Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等からなる。電極配列はスクリーン
印刷技術又はフォトリソグラフィーによる周知の技術を
用いて生成される。各電極は、例えばクロム−銅−クロ
ムの積層体を形成するために１つ以上の連続する層によ
って、又はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の被覆によっ
て構成されてもよい。電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…
Ｙ5a−Ｙ5b等は十分に薄いため透明であると考慮されう
る。
【００４２】電極を体積するために用いられる材料及び
技術に依存して、焼成段階が必要とされうる（この段階
は図４には示されていない）。
技術に依存して、焼成段階が必要とされうる（この段階
は図４には示されていない）。
【００４３】次に、電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ
5a−Ｙ5b等が設けられたタイル上に、ブラックマトリッ
クス３０を形成するための組成物３０’が堆積される
（図４中の段階Ｅ４）。この組成物３０’は、黒色顔料
及び有機樹脂の混合物を主成分とするペーストである。
5a−Ｙ5b等が設けられたタイル上に、ブラックマトリッ
クス３０を形成するための組成物３０’が堆積される
（図４中の段階Ｅ４）。この組成物３０’は、黒色顔料
及び有機樹脂の混合物を主成分とするペーストである。
【００４４】この組成物３０’は、焼結鉱物剤及び／又
は結合鉱物剤を含まず、顔料粒子を結合することが可能
なガラス質マトリックスも含まない。これは、以下詳述
するように、ブラックマトリックス用のペーストを、電
極が埋設される誘電体の層と同時に焼成することが可能
であるからである。従って、ブラックマトリックス組成
物の顔料粒子は、少なくともブラックマトリックスと誘
電体層との間の境界面において、誘電体層の材料によっ
て湿らされる。この現象は、ブラックマトリックス組成
物に結合剤及び／又は焼結剤を添加することが重要であ
る従来技術とは異なり、ブラックマトリックス用の組成
物に焼結剤及び／又は結合剤、又は、ガラス質相を添加
することを不必要とさせる。これは、従来技術ではブラ
ックマトリックス組成物は他の層とは別個に焼成され、
従って結合剤及び／又は焼結剤が必然的に存在するため
である。
は結合鉱物剤を含まず、顔料粒子を結合することが可能
なガラス質マトリックスも含まない。これは、以下詳述
するように、ブラックマトリックス用のペーストを、電
極が埋設される誘電体の層と同時に焼成することが可能
であるからである。従って、ブラックマトリックス組成
物の顔料粒子は、少なくともブラックマトリックスと誘
電体層との間の境界面において、誘電体層の材料によっ
て湿らされる。この現象は、ブラックマトリックス組成
物に結合剤及び／又は焼結剤を添加することが重要であ
る従来技術とは異なり、ブラックマトリックス用の組成
物に焼結剤及び／又は結合剤、又は、ガラス質相を添加
することを不必要とさせる。これは、従来技術ではブラ
ックマトリックス組成物は他の層とは別個に焼成され、
従って結合剤及び／又は焼結剤が必然的に存在するため
である。
【００４５】黒色顔料は、方法の続く加熱サイクル、特
に誘電体層６及び８を焼成するサイクル、の温度で安定
であるよう選択される。この焼成は、空気中で、約５３
０乃至６００℃（一般的には５８０℃）で、約３０分間
に亘って行なわれる。黒色顔料は、鉱物顔料、例えば、
鉄、クロム、アルミニウムの混合酸化物、又は、鉄、ク
ロム、ニッケル、コバルトの混合酸化物であることが望
ましい。この例では、平均粒子寸法は０．３乃至５ミク
ロンであり、一般的な値は１．５ミクロンである。
に誘電体層６及び８を焼成するサイクル、の温度で安定
であるよう選択される。この焼成は、空気中で、約５３
０乃至６００℃（一般的には５８０℃）で、約３０分間
に亘って行なわれる。黒色顔料は、鉱物顔料、例えば、
鉄、クロム、アルミニウムの混合酸化物、又は、鉄、ク
ロム、ニッケル、コバルトの混合酸化物であることが望
ましい。この例では、平均粒子寸法は０．３乃至５ミク
ロンであり、一般的な値は１．５ミクロンである。
【００４６】有機樹脂の性質は、層３０’を堆積するた
めに用いられる技術に依存する。
めに用いられる技術に依存する。
【００４７】タイル２上に所望のパターンを直接、例え
ばパターンに対応する開口を有するスクリーン印刷マス
クによって堆積させる場合、方法の残る段階、即ち、厚
い誘電体６の堆積及び焼成段階とこの焼成段階中の樹脂
の堆積及び酸化段階、に適応する有機樹脂のみが必要と
される。この場合、樹脂は有機結合剤及び溶媒からなる
ものでありうる。結合剤は、例えば、セルロースを主成
分とするもの（エチルセルロース又はメチルセルロー
ス）又はビニル化合物を主成分とするものでありうる。
結合剤は、グリコール化合物（例えばエチレングリコー
ル）又はテルピネオールといった溶媒中に溶解される。
樹脂の挙動を改善させるため、ブラックマトリックス組
成物には、消泡剤、可塑剤、拡散剤、及び界面活性剤と
いった添加物が添加されうる。
ばパターンに対応する開口を有するスクリーン印刷マス
クによって堆積させる場合、方法の残る段階、即ち、厚
い誘電体６の堆積及び焼成段階とこの焼成段階中の樹脂
の堆積及び酸化段階、に適応する有機樹脂のみが必要と
される。この場合、樹脂は有機結合剤及び溶媒からなる
ものでありうる。結合剤は、例えば、セルロースを主成
分とするもの（エチルセルロース又はメチルセルロー
ス）又はビニル化合物を主成分とするものでありうる。
結合剤は、グリコール化合物（例えばエチレングリコー
ル）又はテルピネオールといった溶媒中に溶解される。
樹脂の挙動を改善させるため、ブラックマトリックス組
成物には、消泡剤、可塑剤、拡散剤、及び界面活性剤と
いった添加物が添加されうる。
【００４８】図５の例では、ブラックマトリックス３０
を形成する材料３０’を堆積するためのパターンがフォ
トリソグラフィーによって生成される。この例では樹脂
も感光性でなくてはならない。この効果は、水に溶かさ
れたポリビニルアルコールを含む樹脂及びジアゾ化合物
又は二クロム塩酸といった光増感剤を用いることによっ
て得られる。上述と同様、樹脂の挙動又は流動性を改善
させるために、消泡剤、可塑剤、拡散剤、及び界面活性
剤といった添加物を添加することが可能である。
を形成する材料３０’を堆積するためのパターンがフォ
トリソグラフィーによって生成される。この例では樹脂
も感光性でなくてはならない。この効果は、水に溶かさ
れたポリビニルアルコールを含む樹脂及びジアゾ化合物
又は二クロム塩酸といった光増感剤を用いることによっ
て得られる。上述と同様、樹脂の挙動又は流動性を改善
させるために、消泡剤、可塑剤、拡散剤、及び界面活性
剤といった添加物を添加することが可能である。
【００４９】図５の（ｄ）に示されるように、マトリッ
クスを形成する材料３０’は、まずタイルの有効面積の
アスペクト比に対応する開口を有するスクリーン印刷マ
スク２０によってタイル全体に均等に堆積される。層３
０’は、周知の技術を用いてドクターブレード２２を用
いて均一の厚さとされる。
クスを形成する材料３０’は、まずタイルの有効面積の
アスペクト比に対応する開口を有するスクリーン印刷マ
スク２０によってタイル全体に均等に堆積される。層３
０’は、周知の技術を用いてドクターブレード２２を用
いて均一の厚さとされる。
【００５０】次に、上記のように形成された層の上にフ
ォトリソグラフィーマスク２４が配置される（図５の
（ｅ））。この例で用いられる樹脂はネガの感光性の樹
脂であるため、層の表面のうちマスク２４によって露出
された部分はブラックマトリックス３０を形成する。こ
のように、マスク２４は、幅Ｌｍａ及びマトリックスに
必要とされるピッチ（図８参照）を有する細長い開口２
４ａのパターンを有する。
ォトリソグラフィーマスク２４が配置される（図５の
（ｅ））。この例で用いられる樹脂はネガの感光性の樹
脂であるため、層の表面のうちマスク２４によって露出
された部分はブラックマトリックス３０を形成する。こ
のように、マスク２４は、幅Ｌｍａ及びマトリックスに
必要とされるピッチ（図８参照）を有する細長い開口２
４ａのパターンを有する。
【００５１】ブラックマトリックスを形成する暗いスト
ライプの幅Ｌｍａは、それらに対向するバリアの上面１
６ａの幅よりも狭いことに注意すべきである。この幅の
差は、前面タイル２と背面タイル４の位置合わせについ
ての公差から、背面基板のバリア１６よりも外側の部分
に対して垂直となるべきマトリックスの部分に対しては
望ましくないために生ずるものである。マスク２４は紫
外線光に露光され、このように露光された部分が感光さ
れる。この例では、図５の（ｆ）に示されるように、ブ
ラックマトリックス３０のパターンは、基板２上の行電
極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等を横切る。
ライプの幅Ｌｍａは、それらに対向するバリアの上面１
６ａの幅よりも狭いことに注意すべきである。この幅の
差は、前面タイル２と背面タイル４の位置合わせについ
ての公差から、背面基板のバリア１６よりも外側の部分
に対して垂直となるべきマトリックスの部分に対しては
望ましくないために生ずるものである。マスク２４は紫
外線光に露光され、このように露光された部分が感光さ
れる。この例では、図５の（ｆ）に示されるように、ブ
ラックマトリックス３０のパターンは、基板２上の行電
極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ5b等を横切る。
【００５２】露光時間の後、マスク２４は除去され、紫
外線光によって照射されなかった全ての部分をタイルか
ら除去するよう、層３０’は周知の技術を用いて現像さ
れる（図５の（ｆ））。同等の結果は、ポジの感光性の
樹脂及び反転したパターンのフォトリソグラフィーマス
クを用いても得られる。
外線光によって照射されなかった全ての部分をタイルか
ら除去するよう、層３０’は周知の技術を用いて現像さ
れる（図５の（ｆ））。同等の結果は、ポジの感光性の
樹脂及び反転したパターンのフォトリソグラフィーマス
クを用いても得られる。
【００５３】このようにして形成されるブラックマトリ
ックス３０は、一組の均一に離間した平行な黒色のスト
ライプの形状である。ブラックマトリックス３０の幾何
学形状はバリア１６の上面１６ａと寸法比が合わされ、
各黒色のストライプは対応するバリアの上面に対して垂
直である。これは、上述のように、ブラックマトリック
ス３０の機能の内の１つは、上面に、又は上面の近傍に
ある蛍光体のトレースによって発せられる寄生放射線を
吸収することであるためである。
ックス３０は、一組の均一に離間した平行な黒色のスト
ライプの形状である。ブラックマトリックス３０の幾何
学形状はバリア１６の上面１６ａと寸法比が合わされ、
各黒色のストライプは対応するバリアの上面に対して垂
直である。これは、上述のように、ブラックマトリック
ス３０の機能の内の１つは、上面に、又は上面の近傍に
ある蛍光体のトレースによって発せられる寄生放射線を
吸収することであるためである。
【００５４】示される例では、バリア１６は２つのタイ
ル２と４の対向する内側面の間の距離に等しい高さを有
し、それによりこれらの２つの基板が結合されたときは
上面１６ａ間には空いた空間は残されない。本発明によ
れば、誘電体の層は、このように堆積されたブラックマ
トリックス３０’の層を焼成する中間段階なしに生成さ
れる（図４中の段階Ｅ１０）。
ル２と４の対向する内側面の間の距離に等しい高さを有
し、それによりこれらの２つの基板が結合されたときは
上面１６ａ間には空いた空間は残されない。本発明によ
れば、誘電体の層は、このように堆積されたブラックマ
トリックス３０’の層を焼成する中間段階なしに生成さ
れる（図４中の段階Ｅ１０）。
【００５５】この方法は、厚い誘電体の層６を堆積させ
ることによって開始する。この誘電体は、一般的には例
えばホウ珪酸鉛といった透明な鉱物ガラスである。これ
は液体相で堆積されることを可能とするため、有機結合
剤の中に懸濁したガラスフリットの形で調製される。こ
の堆積は、スクリーン印刷堆積、スピン・オン堆積等と
いった様々な技術を用いて実行され、一般的な厚さは２
５ミクロン（焼成された厚さ）とされ、これは基板２上
に堆積される電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ
5b等が完全に埋設されるのに十分である（図５の
（ｄ））。
ることによって開始する。この誘電体は、一般的には例
えばホウ珪酸鉛といった透明な鉱物ガラスである。これ
は液体相で堆積されることを可能とするため、有機結合
剤の中に懸濁したガラスフリットの形で調製される。こ
の堆積は、スクリーン印刷堆積、スピン・オン堆積等と
いった様々な技術を用いて実行され、一般的な厚さは２
５ミクロン（焼成された厚さ）とされ、これは基板２上
に堆積される電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ
5b等が完全に埋設されるのに十分である（図５の
（ｄ））。
【００５６】次に、厚い層６が、この層を形成する材料
の融点に対応する温度で焼成される（図６）。上述のガ
ラスの場合、この焼成は約５８０℃で約３０分間に亘っ
て行なわれる。この焼成は、ブラックマトリックスに含
まれる樹脂を劣化させ、ブラックマトリックス３０を形
成する材料を硬化させるのに十分であることに注意すべ
きである。
の融点に対応する温度で焼成される（図６）。上述のガ
ラスの場合、この焼成は約５８０℃で約３０分間に亘っ
て行なわれる。この焼成は、ブラックマトリックスに含
まれる樹脂を劣化させ、ブラックマトリックス３０を形
成する材料を硬化させるのに十分であることに注意すべ
きである。
【００５７】最後に、マグネシア（ＭｇＯ）の薄い誘電
体層８が堆積される。この層は、真空堆積、銃蒸着、又
はスパッタリングによって堆積される（図７）。ＭｇＯ
層８の一般的な厚さは１ミクロンのオーダである。
体層８が堆積される。この層は、真空堆積、銃蒸着、又
はスパッタリングによって堆積される（図７）。ＭｇＯ
層８の一般的な厚さは１ミクロンのオーダである。
【００５８】本発明では多くの他の実施例が可能であ
り、以下そのうちの２つの例について説明する。
り、以下そのうちの２つの例について説明する。
【００５９】例１ 開始点は、既に電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−Ｙ2b，…Ｙ5a−
Ｙ5b等の配列が設けられた前面タイル２である。この電
極配列は、一連の薄いクロム−銅−クロム層を形成する
金属ラインから構成される。次にブラックマトリックス
３０は電極配列状に堆積される。
Ｙ5b等の配列が設けられた前面タイル２である。この電
極配列は、一連の薄いクロム−銅−クロム層を形成する
金属ラインから構成される。次にブラックマトリックス
３０は電極配列状に堆積される。
【００６０】これを行なうため、プロピレングリコール
中に４％のエチルセルロースを含有する樹脂が調製され
る。この樹脂に、鉄、アルミニウム、クロムの酸化物を
主成分とし、２ミクロンの平均直径を有する黒色顔料が
添加される。割合は、ペーストの最終的な粘性が５０Ｐ
ａ．ｓ（パスカル．秒）であるようにされる。
中に４％のエチルセルロースを含有する樹脂が調製され
る。この樹脂に、鉄、アルミニウム、クロムの酸化物を
主成分とし、２ミクロンの平均直径を有する黒色顔料が
添加される。割合は、ペーストの最終的な粘性が５０Ｐ
ａ．ｓ（パスカル．秒）であるようにされる。
【００６１】次に、パターンを有する３２５−メッシュ
スクリーンを用いてスクリーン印刷によってブラックマ
トリックスが堆積され、堆積された層は１２０℃で２０
分間に亘って乾燥される。
スクリーンを用いてスクリーン印刷によってブラックマ
トリックスが堆積され、堆積された層は１２０℃で２０
分間に亘って乾燥される。
【００６２】次に誘電体の厚い層６が堆積され、組立体
全体が誘電体に適応する高温で焼成される。
全体が誘電体に適応する高温で焼成される。
【００６３】例２ 本例は、既に電極配列が設けられた前面タイル２から開
始する。この電極配列は、感光性銀ペーストの層からフ
ォトリソグラフィーによって得られた、バスラインと称
される金属ラインに結合され、５５０℃で約１０分間に
亘って焼成されるＩＴＯ（インジウム錫酸化物）によっ
て形成される透明な電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ 2a−Ｙ2b，…Ｙ
5a−Ｙ5b等からなる。
始する。この電極配列は、感光性銀ペーストの層からフ
ォトリソグラフィーによって得られた、バスラインと称
される金属ラインに結合され、５５０℃で約１０分間に
亘って焼成されるＩＴＯ（インジウム錫酸化物）によっ
て形成される透明な電極Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ 2a−Ｙ2b，…Ｙ
5a−Ｙ5b等からなる。
【００６４】ブラックマトリックス３０はこの電極配列
上に堆積される。水に１４／１３５グレードのポリビニ
ルアルコールを１０％溶解させた樹脂液が調製される。
この溶液に、ポリビニルアルコールの感光剤として作用
する３％の１００ｇ／ｌの二クロム酸ナトリウム溶液が
添加される。
上に堆積される。水に１４／１３５グレードのポリビニ
ルアルコールを１０％溶解させた樹脂液が調製される。
この溶液に、ポリビニルアルコールの感光剤として作用
する３％の１００ｇ／ｌの二クロム酸ナトリウム溶液が
添加される。
【００６５】次に、鉄、ニッケル、クロム、コバルトの
酸化物を主成分とし、１．５ミクロンの平均直径を有す
る黒色顔料を添加することによってペーストが調製され
る。割合は、ペーストの最終的な粘性が５００ｍＰａ．
ｓ（ミリパスカル．秒）であるようにされる。
酸化物を主成分とし、１．５ミクロンの平均直径を有す
る黒色顔料を添加することによってペーストが調製され
る。割合は、ペーストの最終的な粘性が５００ｍＰａ．
ｓ（ミリパスカル．秒）であるようにされる。
【００６６】次に、３２５−メッシュスクリーンを用い
てスクリーン印刷によってタイル２の有効面積に均一な
層が堆積され、堆積された層は８０℃で３分間に亘って
乾燥される。次に誘電体の厚い層６が堆積され、組立体
全体が誘電体に適応する高温で焼成される。次に、この
層はパターンを有するマスクを通して紫外線光（８００
ｍＪ／ｃｍ2の３６５ｎｍ波長光）に露光される（この
場合は樹脂はネガ型であり、図５（ｅ）に示されるマス
ク２４のようにパターンはマスク上で透明である）。最
後に、この露光された層は水中で現像され、１００℃で
３分間に亘って乾燥される。
てスクリーン印刷によってタイル２の有効面積に均一な
層が堆積され、堆積された層は８０℃で３分間に亘って
乾燥される。次に誘電体の厚い層６が堆積され、組立体
全体が誘電体に適応する高温で焼成される。次に、この
層はパターンを有するマスクを通して紫外線光（８００
ｍＪ／ｃｍ2の３６５ｎｍ波長光）に露光される（この
場合は樹脂はネガ型であり、図５（ｅ）に示されるマス
ク２４のようにパターンはマスク上で透明である）。最
後に、この露光された層は水中で現像され、１００℃で
３分間に亘って乾燥される。
【００６７】次に、従来の方法で誘電体層が堆積され、
組立体全体は誘電体層が適応する高温で焼成される。
組立体全体は誘電体層が適応する高温で焼成される。
【００６８】図９は、組み立てられ外部取付部品が設け
られた動作中のプラズマディスプレイパネルを示す図で
ある。図から明らかであるように、画面を形成する部分
はその面積と比較して非常に薄く、完全に平坦である。
られた動作中のプラズマディスプレイパネルを示す図で
ある。図から明らかであるように、画面を形成する部分
はその面積と比較して非常に薄く、完全に平坦である。
【００６９】実施例は、表面放電ＡＣ型ＰＤＰの例に基
づいている。しかしながら、本発明は以下のような技術
による任意のタイプのＰＤＰにも使用されうることが明
らかである。
づいている。しかしながら、本発明は以下のような技術
による任意のタイプのＰＤＰにも使用されうることが明
らかである。
【００７０】本発明は、光放電が一方のタイルから他方
のタイルへ、夫々の内側面上の交差した電極間で発生さ
れる表面放電型又はマトリックス放電型のＡＣ放電電流
を用いたＰＤＰにも使用されうる。
のタイルへ、夫々の内側面上の交差した電極間で発生さ
れる表面放電型又はマトリックス放電型のＡＣ放電電流
を用いたＰＤＰにも使用されうる。
【００７１】本発明はまた、放電が時間が経過しても同
じ極性を有する電極間で発生されるＤＣ（直流）型の電
流を用いたＰＤＰにも使用されうる。
じ極性を有する電極間で発生されるＤＣ（直流）型の電
流を用いたＰＤＰにも使用されうる。
【００７２】本発明は更に、制限された色範囲の、又は
単色の、少なくとも３つの原色に基づいてフルカラーの
ＰＤＰにも使用されうる。
単色の、少なくとも３つの原色に基づいてフルカラーの
ＰＤＰにも使用されうる。
【００７３】更に、本発明はＰＤＰに限られるものでは
なく、ブラックマトリックスを使用した任意のディスプ
レイ装置（液晶ディスプレイ、陰極線管等）に適用さ
れ、それにより高い温度を必要としない方法を用いてブ
ラックマトリックスを形成することが有利である。
なく、ブラックマトリックスを使用した任意のディスプ
レイ装置（液晶ディスプレイ、陰極線管等）に適用さ
れ、それにより高い温度を必要としない方法を用いてブ
ラックマトリックスを形成することが有利である。
【図１】表面放電ＡＣ型カラープラズマディスプレイパ
ネルの構造を示す図である。
ネルの構造を示す図である。
【図２】図１の線ＩＩ−ＩＩ’に沿った断面図である。
【図３】従来技術によるブラックマトリックスが設けら
れた前面タイルの製造方法の主な段階を示す簡単化され
たフローチャートを示す図である。
れた前面タイルの製造方法の主な段階を示す簡単化され
たフローチャートを示す図である。
【図４】本発明によるブラックマトリックスが設けられ
た前面タイルの製造方法の主な段階を示す簡単化された
フローチャートを示す図である。
た前面タイルの製造方法の主な段階を示す簡単化された
フローチャートを示す図である。
【図５】（ａ）乃至（ｆ）は、プラズマディスプレイパ
ネルの前面タイルをその製造における様々な段階のう
ち、前面パネル上にブラックマトリックスを堆積させる
点まで示す図であり、（ｃ）、（ｅ）、（ｆ）は（ａ）
及び（ｂ）に対して横向きに図である。
ネルの前面タイルをその製造における様々な段階のう
ち、前面パネル上にブラックマトリックスを堆積させる
点まで示す図であり、（ｃ）、（ｅ）、（ｆ）は（ａ）
及び（ｂ）に対して横向きに図である。
【図６】誘電体の厚い層が堆積された後の図５のタイル
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図７】誘電体の薄い層が堆積された後の図６のタイル
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図８】背面タイルが結合される図７のタイルを有する
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルを示す断面図であ
る。
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルを示す断面図であ
る。
【図９】動作中、その取付部品と組み付けられたプラズ
マディスプレイパネルを２つの平面上で示す図である。
マディスプレイパネルを２つの平面上で示す図である。
２’ ベアガラスタイル Ｅ２ 電極Ｙを堆積 Ｅ４ ブラックマトリックスを堆積 Ｅ１０ 厚い誘電体層を堆積 Ｅ１２ 薄い誘電体層を堆積 ２ 装備されたタイル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アジド モワ フランス国，38180 セサン，リュ・ド・ ラ・リベルテ 60
Claims (14)
- 【請求項１】 特にプラズマディスプレイパネルの製造
用のブラックマトリックスのための組成物であって、 ガラス質マトリックスを含まず、焼結鉱物剤及び／又は
結合鉱物剤も含まないことを特徴とする組成物。 - 【請求項２】 少なくとも１つの鉱物顔料及び有機樹脂
を含むことを特徴とする、請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 上記顔料は、 （i）鉄、クロム、アルミニウムの混合酸化物、又は、
酸化鉄、酸化クロム、酸化アルミニウムの混合物と、 （ii）鉄、クロム、ニッケル、コバルトの混合酸化物、
又は、酸化鉄、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化コバル
トの混合物と、 （iii）鉄、クロム、コバルト、アルミニウムの混合酸
化物、又は、酸化鉄、酸化クロム、酸化コバルト、酸化
アルミニウムの混合物と、を含む群から選択されること
を特徴とする、請求項２記載の組成物。 - 【請求項４】 上記顔料は６００℃まで熱安定性を有す
る材料であることを特徴とする、請求項１乃至３のうち
いずれか一項記載の組成物。 - 【請求項５】 上記顔料は、０．１乃至１０μｍの平均
寸法を有する粒子の形であり、粒子の平均寸法は望まし
くは０．３乃至５μｍであることを特徴とする、請求項
１乃至４のうちいずれか一項記載の組成物。 - 【請求項６】 上記粒子は、約１．５μｍの平均寸法を
有することを特徴とする、請求項４記載の組成物。 - 【請求項７】 請求項１乃至６のうちいずれか一項記載
の組成物から形成されるブラックマトリックスを含むこ
とを特徴とする、プラズマディスプレイパネル（１）。 - 【請求項８】 相互に対向し放電空間を囲む第１のタイ
ル（３）及び第２のタイル（４）と、配列としてまとめ
られる電極の交点における放電セルの配列とを有し、電
極（Ｘ1，Ｘ2，…，Ｘ6．．．,Ｙ1a−Ｙ1b，Ｙ2a−
Ｙ2b，…Ｙ5a−Ｙ 5b）の各配列は少なくとも１つの誘電
体層及び／又は保護層（６、８、１２、１４）によって
覆われ、上記タイルのうち少なくとも一方は誘電体層
（６）及び／又は保護層の下に埋設されたブラックマト
リックス（３０）を有するプラズマディスプレイパネル
であって、 上記ブラックマトリックス（３０）は不透明な材料から
なり、その少なくとも一部は上記誘電体層（６）及び／
又は保護層に組み込まれることを特徴とする、請求項７
記載のプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項９】 （ａ）基板（２）上に、ブラックマトリ
ックス（３０）に対応するパターンを有し略不透明な層
（３０’）を生成する段階と、 （ｂ）上記ブラックマトリックスを覆うよう上記基板上
に誘電体材料（６）を堆積させる段階と、 （ｃ）上記誘電体材料を焼成する段階とを有する、 基板（２）上にブラックマトリックス（３０）を有する
特にプラズマディスプレイパネル（１）といったディス
プレイ装置を製造する方法であって、 上記ブラックマトリックス（３０）を形成するために上
記不透明な材料（３０’）を焼成する中間段階なしに、
上記段階（ａ）から上記段階（ｂ）へ進むことを特徴と
する方法。 - 【請求項１０】 上記ブラックマトリックスを形成する
層（３０’）は、ガラス質マトリックスを含まず、上記
焼成段階中に結合及び／又は焼結する鉱物剤も含まない
ことを特徴とする、請求項９記載の方法。 - 【請求項１１】 上記ブラックマトリックス（３０）に
対応するパターンは直接スクリーン印刷技術によって生
成されることを特徴とする、請求項９又は１０記載の方
法。 - 【請求項１２】 上記ブラックマトリックス（３０）に
対応するパターンはフォトリソグラフィーによって生成
されることを特徴とする、請求項９又は１０記載の方
法。 - 【請求項１３】 請求項９乃至１２のうちいずれか一項
記載の方法によってＡＣ型プラズマディスプレイパネル
（１）を製造する方法。 - 【請求項１４】 請求項９乃至１２のうちいずれか一項
記載の方法によってＡＣ型プラズマディスプレイパネル
（１）の前面タイル（２）にブラックマトリックス（３
０）を製造する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9910961A FR2797992A1 (fr) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | Composition pour la realisation d'un reseau noir procede de realisation d'un reseau noir et panneau d'affichage au plasma comprotant un tel reseau noir |
| FR9910961 | 1999-09-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001135250A true JP2001135250A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=9549457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000263916A Pending JP2001135250A (ja) | 1999-09-01 | 2000-08-31 | ブラックマトリックスを生成するための組成物、ブラックマトリックスを生成する方法、及びブラックマトリックスを含むプラズマディスプレイパネル |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1085555A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001135250A (ja) |
| KR (1) | KR20010039852A (ja) |
| FR (1) | FR2797992A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7042156B2 (en) | 2002-10-24 | 2006-05-09 | Noritake Co., Limited | Flat-panel display device, and process of sealing the device along its periphery |
| WO2013108673A1 (ja) * | 2012-01-19 | 2013-07-25 | 日本電気硝子株式会社 | 燃焼装置用窓ガラス |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100490531B1 (ko) * | 2000-02-10 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR100887634B1 (ko) * | 2002-02-23 | 2009-03-11 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3163563B2 (ja) * | 1995-08-25 | 2001-05-08 | 富士通株式会社 | 面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネル及びその製造方法 |
| JPH0992162A (ja) * | 1995-09-20 | 1997-04-04 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP3594392B2 (ja) * | 1995-12-09 | 2004-11-24 | 東京応化工業株式会社 | 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法 |
| TW375759B (en) * | 1996-07-10 | 1999-12-01 | Toray Industries | Plasma display and preparation thereof |
-
1999
- 1999-09-01 FR FR9910961A patent/FR2797992A1/fr not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-08-28 EP EP00402367A patent/EP1085555A1/en not_active Withdrawn
- 2000-08-30 KR KR1020000050656A patent/KR20010039852A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-08-31 JP JP2000263916A patent/JP2001135250A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7042156B2 (en) | 2002-10-24 | 2006-05-09 | Noritake Co., Limited | Flat-panel display device, and process of sealing the device along its periphery |
| WO2013108673A1 (ja) * | 2012-01-19 | 2013-07-25 | 日本電気硝子株式会社 | 燃焼装置用窓ガラス |
| US9005764B2 (en) | 2012-01-19 | 2015-04-14 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Windowpane for combustion apparatuses |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2797992A1 (fr) | 2001-03-02 |
| KR20010039852A (ko) | 2001-05-15 |
| EP1085555A1 (en) | 2001-03-21 |
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