JP2001122979A - セルロースエステルフィルム及びその製造方法、並びに偏光板用保護フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜としてもガラス基盤から偏光板を剥がす
際に破れにくいセルロースエステルフィルムが得られ、
特に、耐湿熱性、透明性、光学的等方性に優れ、かつガ
ラス基盤から偏光板を剥がす際に破れにくいセルロース
エステルフィルムからなる偏光板用保護フィルムを提供
する。 【解決手段】 炭素数２〜３のアシル基を置換基として
有し、かつ膜厚が２０〜６０μｍであり、膜厚を４０μ
ｍの厚さに換算した場合、フィルムの直角形引裂法によ
る引裂強度が３．５Ｎ〜７．０Ｎであることを特徴とす
るセルロースエステルフィルム及びその製造方法、並び
に偏光板用保護フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は偏光板用保護フィル
ムに有用なセルロースエステルフィルムの製造方法及び
セルロースエステルフィルムに関する。特に薄手化して
もガラス基盤との剥離性が良好な偏光板用保護フィルム
に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、セルローストリアセテートフィル
ムは、その透明性や光学的欠点のない特性からハロゲン
化銀写真感光材料や液晶画像表示装置に好ましく使用さ
れている。特に液晶画像表示装置では偏光板用保護フィ
ルムとして利用されている。液晶画像表示装置は、液晶
素子が組み込まれたガラス基盤の両側に偏光板を張り合
わせることで構成されている。偏光板は、ポリビニルア
ルコールなどからなる偏光子の両側を保護フィルムで挟
まれており、その保護フィルムの厚さは約８０μｍが一
般的である。従って、１つの液晶表示装置には４枚の保
護フィルムが使用されており、全部で約３２０μｍの厚
さになる。昨今、液晶表示装置の携帯性向上が求められ
ており、偏光板用保護フィルムの薄膜化はこの要求に対
して有効な手段と考えられる。

【０００３】ところが、偏光板用保護フィルムを薄膜化
すると、液晶表示装置の生産性が低下するという問題が
あった。つまり、液晶表示装置を組み立てる際、液晶素
子が組み込まれたガラス基盤に偏光板を張り合わせるの
であるが、この時、僅かなゴミを挟みこんだり、位置が
ずれるなど不良品が発生しやすいのである。このため、
偏光板をガラス基盤から剥がして張り直す操作が避けら
れないのであるが、偏光板用保護フィルムを薄膜化する
とガラス基盤と偏光板との剥離力に偏光板の強度が耐え
きれず途中で破けてしまい、きれいに偏光板をガラス基
盤から剥がすことができなくなるのである。

【０００４】この様な剥離性を向上するには、偏光板用
保護フィルムの引裂強度を向上すればよいと思われた。
セルローストリアセテートフィルムの引裂強度を向上す
る方法は、例えば特公昭４４−３２６７２号公報ではメ
チレンクロライド可溶のポリウレタン樹脂をブレンドす
る方法が提案されている。また特公昭４７−７６０号公
報ではポリエステル−ウレタン樹脂をブレンドする方法
が開示されている。

【０００５】ところが、これらの方法によれば確かに引
裂強度は向上するのであるが、上記剥離性は必ずしも改
良されず、引裂強度と剥離性に相関はみられなかった。
従って、剥離性の改良されたセルロースエステルフィル
ムは、未だ実用化されていないのが現状である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、薄膜
としてもガラス基盤から偏光板を剥がす際に破れにくい
セルロースエステルフィルムを提供することであり、特
に、耐湿熱性、透明性、光学的等方性に優れ、かつガラ
ス基盤から偏光板を剥がす際に破れにくいセルロースエ
ステルフィルムからなる偏光板用保護フィルムを提供す
ることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。 （１） 炭素数２〜３のアシル基を置換基として有し、
かつ膜厚が２０〜６０μｍであり、膜厚を４０μｍの厚
さに換算した場合、フィルムの直角形引裂法による引裂
強度が３．５Ｎ〜７．０Ｎであることを特徴とするセル
ロースエステルフィルム。 （２） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステルエーテルを実質的に塩素系溶
媒を含まない有機溶媒に、該有機溶媒の常圧での沸点以
上で、かつ発泡しない圧力条件下で溶解してドープを作
製し、該ドープを支持体上にフィルム状に流延し、該支
持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥すること
を特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。 （３） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステル−ウレタンを実質的に塩素系
溶媒を含まない有機溶媒に、該有機溶媒の常圧での沸点
以上で、かつ発泡しない圧力条件下で溶解してドープを
作製し、該ドープを支持体上にフィルム状に流延し、該
支持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥するこ
とを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方
法。 （４） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステルと実質的を実質的に塩素系溶
媒を含まない有機溶媒に、該有機溶媒の常圧での沸点以
上で、かつ発泡しない圧力条件下で溶解してドープを作
製し、該ドープを支持体上にフィルム状に流延し、該支
持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥すること
を特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。 （５） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステルエーテルと実質的に塩素系溶
媒を含まない有機溶媒とを−１００℃〜−１０℃に冷却
した後、その冷却物を０℃〜１２０℃に加温し得られた
ドープを支持体上にフィルム状に流延し、該支持体に流
延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥することを特徴と
するセルロースエステルフィルムの製造方法。 （６） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステル−ウレタンと実質的に塩素系
溶媒を含まない有機溶媒とを−１００℃〜−１０℃に冷
却した後、その冷却物を０℃〜１２０℃に加温し得られ
たドープを支持体上にフィルム状に流延し、該支持体に
流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥することを特徴
とするセルロースエステルフィルムの製造方法。 （７） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステルと実質的に塩素系溶媒を含ま
ない有機溶媒とを−１００℃〜−１０℃に冷却した後、
その冷却物を０℃〜１２０℃に加温し得られたドープを
支持体上にフィルム状に流延し、該支持体に流延した生
乾きのフィルムを剥離し乾燥することを特徴とするセル
ロースエステルフィルムの製造方法。 （８） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステルエーテルと実質的に塩素系溶
媒を含まない有機溶媒との混合物を５０気圧以上２，０
００気圧以下に加圧し得られた溶液を支持体上にフィル
ム状に流延し、該支持体に流延した生乾きのフィルムを
剥離し乾燥することを特徴とするセルロースエステルフ
ィルムの製造方法。 （９） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロー
スエステルとポリエステル−ウレタンと実質的に塩素系
溶媒を含まない有機溶媒との混合物を５０気圧以上２，
０００気圧以下に加圧し得られた溶液を支持体上にフィ
ルム状に流延し、該支持体に流延した生乾きのフィルム
を剥離し乾燥することを特徴とするセルロースエステル
フィルムの製造方法。 （１０） アシル基の置換度が２．６〜３．０のセルロ
ースエステルとポリエステルと実質的に塩素系溶媒を含
まない有機溶媒との混合物を５０気圧以上２，０００気
圧以下に加圧し得られた溶液を支持体上にフィルム状に
流延し、該支持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し
乾燥することを特徴とするセルロースエステルフィルム
の製造方法。 （１１） 有機溶媒が酢酸メチルを５０％以上含むこと
を特徴とする前記２〜１０のいずれか１項に記載のセル
ロースエステルフィルムの製造方法。 （１２） ポリエステルエーテルの含有量がセルロース
エステルに対し５〜３０質量％であることを特徴とする
前記２、５、８又は１１記載のセルロースエステルフィ
ルムの製造方法。 （１３） ポリエステル−ウレタンの含有量がセルロー
スエステルに対し５〜３０質量％であることを特徴とす
る前記３、６、９又は１１記載のセルロースエステルフ
ィルムの製造方法。 （１４） ポリエステルの含有量がセルロースエステル
に対し５〜３０質量％であることを特徴とする前記４、
７、１０又は１１記載のセルロースエステルフィルムの
製造方法。 （１５） セルロースエステルが７０，０００〜３０
０，０００の数平均分子量を有することを特徴とする前
記２〜１４の何れか１項に記載のセルロースエステルフ
ィルムの製造方法。 （１６） 前記１記載のセルロースエステルフィルムを
用いることを特徴とする偏光板用保護フィルム。

【０００８】以下に本発明を更に詳しく説明する。本発
明のセルロースエステルフィルムは４０μｍに換算した
直角形引裂法による引裂強度が３．５Ｎ〜７．０Ｎであ
るが、４．０Ｎ以上であることが更に好ましい。直角形
引裂法による引裂強度の値は大きいほど好ましいが７．
０Ｎが上限値である。直角形引裂法による引裂強度は、
ＪＩＳ Ｋ７１２８−１９９１のＣ法に従い、試験速度
条件はＡ法により試験を行い、最大引裂荷重を試験片の
厚さで除して求められる。この引裂強さから厚さ４０μ
ｍに換算して得られる。フィルムの流延方向と、それに
垂直な方向とでそれぞれ測定し、何れも上記条件を満た
すことが好ましい。

【０００９】フィルムの引裂強度の試験方法にはＪＩＳ
Ｋ７１２８−１９９１に記載されているようにＡ法
（トラウザー引裂法）、Ｂ法（エレメンドルフ引裂
法）、Ｃ法（直角形引裂法）がある。光学用フィルムと
しては写真フィルム用支持体が古くからセルロースエス
テルフィルムを使用しており、この場合パーフォレーシ
ョン部の不良部分などからの破れが撮影部分にまで伝搬
しないことが重要であったため、規定した荷重条件にお
いて、スリットから規定した距離まで引裂きを伝えるの
に要する力を測定する方法であるところのＢ法のエレメ
ンドルフ引裂法がフィルム強度の指標として広く採用さ
れてきた。前述の特公昭４４−３２６７２号公報や特公
昭４７−７６０号公報に記載の引裂強度もこのエレメン
ドルフ引裂法により測定されたものである。これらの公
報に記載されている引裂強度の値は４０μｍに換算する
と数ｇ〜数十ｇ程度である。

【００１０】ところが、偏光板をガラス基盤から剥離す
るのに必要な力を調べたところ、約１ｋｇの力が必要な
ことが判明した。つまり、剥離に必要な力とエレメンド
ルフ引裂法による引裂強度の値は乖離が大きく、従来の
エレメンドルフ引裂法による引裂強度を向上させる技術
では、偏光板をガラス基盤から剥離する際のフィルム破
れとしての剥離性を改良することはできないのである。
このように剥離性と直角形引裂法による引裂強度との関
係は筆者が初めて見出したものである。

【００１１】以上のような高い直角形引裂法による引裂
強度を備えたセルロースエステルフィルムは、従来のセ
ルローストリアセテートをメチレンクロライドに溶解さ
せたドープを溶液流延法により製膜する通常の溶液流延
方法では製造することはできず、後に説明する製造方法
により初めて製造することができるのである。本発明の
セルロースエステルフィルムの膜厚は２０〜６０μｍで
ある。薄すぎるとフィルムの腰が弱くなりすぎ偏光板と
フィルムの貼合が困難となる。この範囲より厚いと従来
の偏光板用保護フィルムに対して優位性が低くなる。

【００１２】本発明のセルロースエステルフィルムの特
性値は、水蒸気透過率が５００ｇ／ｍ²・２４Ｈ以下、
動摩擦係数が０．５以下、ヘイズが０．６％以下、弾性
率が２．４５ＧＰａ以上、フィルム面に垂直方向の入射
光に対するレタデーション値の絶対値（Ｒｅ）が０〜１
０ｎｍ、面から４５度の斜め方向の入射光に対するレタ
デーション値の絶対値が０〜３０ｎｍ、厚み方向のレタ
デーション値の絶対値が０〜７０ｎｍであることが好ま
しい。これらの特性値が上記の範囲であることにより偏
光板用保護フィルムとして良好な特性を示すのである。

【００１３】水蒸気透過率はＪＩＳ Ｚ０２０８−７６
に準じて、２５℃、９０％ＲＨの条件下で測定したもの
である。本発明のセルロースエステルフィルムを構成す
るセルロースエステルは、炭素数２〜３のアシル基を置
換基として有するセルロースエステルであり、例えばセ
ルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピ
オネートなどが挙げられる。セルロースアセテートブチ
レート、セルロースアセテートプロピオネートブチレー
トなどのように炭素数が４以上のアシル基が含まれてい
るものでもよい。中でも炭素数２〜３のアシル基だけか
らなるものが好ましく、特にセルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。
アシル基の置換度は、２．６〜３．０であることが好ま
しい。置換度をこの範囲とすることで高温、高湿に対す
る耐性が良好なフィルムが得られる。アセチル基の置換
度は、あまり小さすぎるとフィルムの破断強度が低くな
りすぎる場合があるので１．４以上であることが好まし
い。

【００１４】アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−
Ｄ８１７−９６により測定することが出来る。本発明の
セルロースエステルの合成方法は、通常の方法で合成で
きる。例えば特開平１０−４５８０４号公報に記載の方
法で合成することが出来る。セルロースエステルの原料
のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンタ
ー、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。ま
たそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任
意の割合で混合使用することが出来る。綿花リンターか
ら得られるセルロースエステルは、フィルムの製膜の際
に支持体からの剥離性が特に良好であり好ましい。

【００１５】本発明に使用するセルロースエステルの数
平均分子量は、７０，０００〜３００，０００の範囲
が、成型した場合の機械的強度が強く好ましい。更に８
０，０００〜２００，０００が好ましい。本発明で用い
られるポリエステルエーテルは、炭素原子８〜１２個の
芳香族ジカルボン酸または脂環式ジカルボン酸（例えば
テレフタール酸、イソフタール酸、ナフタレンジカルボ
ン酸および１，４−シクロヘキサンジカルボン酸）、炭
素原子２〜１０個の脂肪族グリコールまたは脂環式グリ
コール類（例えば、エチレンジオール、プロピレンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサ
ンジメタノールおよび１，５−ペンタンジオール）、エ
ーテル単位の間に炭素原子２〜４個を有するポリエーテ
ルグリコール類（例えば、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール、特に１，４−シクロヘキサンジカルボン
酸、１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびポリテ
トラメチレンエーテルグリコールを構成要素とするコポ
リエステルエーテル）が好ましい。

【００１６】ポリエステルエーテルの配合量は、セルロ
ースエステルに対して５〜３０質量％が好ましい。配合
量をこの範囲とすることで良好な剥離性を呈するセルロ
ースエステルフィルムが得られる。本発明で用いられる
ポリエステル−ウレタンは、ポリエステルとジイソシア
ナートとの反応により得られるポリエステル−ウレタン
であり、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有
する。

【００１７】

【化１】

【００１８】式中、ｌは２、３又は４を表し、ｍは２、
３又は４を表し、ｎは１〜１００を表す。Ｒは下記に示
す構造単位を表す。

【００１９】

【化２】

【００２０】ポリエステルとしては、グリコール成分
が、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、
又は１，４−ブタンジオールであり、二塩基性酸成分
が、コハク酸、グルタル酸、又はアジピン酸からなる両
末端ヒドロキシル基を有するポリエステルであり、その
重合度ｎは１〜１００である。ポリエステルの分子量と
して、１，０００〜４，５００に当るものが特に望まし
い。

【００２１】ジイソシアナート成分としてはエチレンジ
イソシアナート、トリメチレンジイソシアナート、テト
ラメチレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシ
アナート等のポリメチレンイソシアナート、ｐ−フェニ
レンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、
ｐ，ｐ′−ジフェニルメタンジイソシアナート、１，５
−ナフチレンジイソシアナート等の芳香族ジイソシアナ
ート、ｍ−キシリレンジイソシアナート等が挙げられ
る。中でも、トリレンジイソシアナート、ｍ−キシリレ
ンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート
がポリウレタン化した場合セルロースエステルとの相溶
性が秀れているので好ましい。

【００２２】本発明のポリエステル−ウレタンの分子量
は、２，０００〜５０，０００が好ましく、更に５，０
００〜１５，０００が好ましい。ポリエステル−ウレタ
ンの合成は、上記のポリエステルとジイソシアナートと
を混じ攪拌下加熱させる常法の合成法により、容易に得
る事が出来る。また、原料のポリエステルも常法によ
り、相当する二塩基性酸、又はこれらのアルキルエステ
ル類とグリコール類とのポリエステル化反応又はエステ
ル交換反応による熱溶融縮合法が、或いはこれらの酸の
酸クロリドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの
方法により、末端基がヒドロキシル基となるよう適宜調
整すれば容易に合成することができる。

【００２３】ポリエステル−ウレタンの配合量は、セル
ロースエステルに対して５〜３０質量％が好ましい。配
合量をこの範囲とすることで良好な剥離性を呈するセル
ロースエステルフィルムが得られる。本発明のポリエス
テルは、ポリエチレングリコールと脂肪族二塩基性酸と
からなるポリエステルで、その平均分子量は７００から
１０，０００が好ましい。ポリエチレングリコールは一
般式がＨＯ−（ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ）_n−Ｈ（ｎは整数）で
表される。ｎは４以下が好ましい。脂肪族二塩基性酸と
は一般式がＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨ（Ｒは脂肪族二価炭
化水素基）で表されるしゅう酸、マロン酸、コハク酸、
アジピン酸などであり、炭素数９以下が好ましい。ポリ
エステルの合成は常法により、上記二塩基性酸またはこ
れらのアルキルエステル類とグリコール類とのポリエス
テル化反応またはエステル交換反応による熱溶融縮合法
か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類と
の界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成す
ることができる。

【００２４】ポリエステルの配合量は、セルロースエス
テルに対して５〜３０質量％が好ましい。配合量をこの
範囲とすることで良好な剥離性を呈するセルロースエス
テルフィルムが得られる。本発明に係わる溶液流延製膜
法によるセルロースエステルフィルムの製膜方法につい
て説明する。

【００２５】溶解工程：セルロースエステルのフレー
クに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中で該フ
レークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する工程で
ある。本発明で有用な溶解方法は、主溶媒の沸点以上の
温度で、かつ沸騰しない圧力下で行う方法（以下高温溶
解法と呼ぶ）、セルロースエステルと有機溶媒を−１０
０℃〜−１０℃に冷却するか、またはセルロースエステ
ルを−１００℃〜−１０℃の有機溶媒と混合した後、０
℃〜１２０℃に加温する方法（以下冷却溶解法と呼
ぶ）、セルロースエステルと有機溶媒を５０気圧〜２，
０００気圧に加圧する方法（以下高圧溶解法と呼ぶ）が
挙げられる。

【００２６】高温溶解法で、例えば主溶媒として酢酸メ
チル（沸点５６．３２℃）を用いた場合を例に挙げる
と、温度は５６．３２℃〜１２０℃が好ましく、更に６
０℃〜９０℃が好ましい。この時の沸騰しない圧力は約
２気圧以上でよく、上限は特にないが約５０気圧で効果
は飽和するので２〜５０気圧が好ましい。更に２〜１０
気圧が好ましい。

【００２７】本発明に用いられるセルロースエステル
は、炭素数２〜３のアシル基を置換基として有し、アシ
ル基の置換度は２．６〜３．０である。アセチル基の置
換度が２．５以上の場合は、冷却溶解法や高圧溶解法を
用いることが好ましい。冷却溶解法については、特開平
９−９５５３８号、同９−９５５４４号、同９−９５５
５７号公報に記載されているアセトン、酢酸メチル、ギ
酸エチル等の溶媒を用いてドープを形成する方法を使用
することが出来る。

【００２８】高圧溶解法については、特開平１１−２１
３７９号公報に記載の高圧溶解方法を使用することが出
来る。公報中では有機溶媒としてアセトンを使用してい
るが酢酸メチルでも同様に実施できる。このように特定
の置換基を有するセルロースエステルと上述したポリエ
ステルエーテル、ポリエステル−ウレタン、ポリエステ
ルを、実質的に非塩素系の有機溶媒に通常とは異なる方
法で溶解することにより、直角形引裂法による引裂強度
を大きくすることができるのである。

【００２９】本発明で有用な非塩素系有機溶媒として
は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、
テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−
ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，
２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサ
フルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２
−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，
２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、
ニトロエタン等を挙げることが出来、酢酸メチル、酢酸
エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチ
ルが全有機溶媒に対して５０質量％以上含有しているこ
とが好ましい。全有機溶媒に対して５〜３０質量％のア
セトンを酢酸メチルと併用するとドープの粘度を低減で
き好ましい。

【００３０】本発明で実質的に塩素系溶媒を含まないと
は、全有機溶媒量に対して塩素系溶媒が１０質量％以
下、好ましくは５質量％以下、特に全く含まないことが
最も好ましい。セルロースエステルドープには、上記非
塩素系有機溶媒の他に、０．１〜３０質量％の炭素原子
数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。こ
のことでドープを流延用支持体に流延後溶媒が蒸発をし
始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）
がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離す
ることを容易にでき、更に非塩素系有機溶媒のセルロー
スエステルの溶解を促進する効果が得られる。炭素原子
数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブ
タノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール
を挙げることが出来る。これらのうちドープの安定性、
沸点も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと
等からエタノールが最も好ましい。

【００３１】ドープの固形分濃度は通常１０〜４０質量
％が好ましく、ドープ粘度は１００〜５００ポイズの範
囲に調整されることが良好なフィルムの平面性を得る点
から好ましい。以上のようにして調製されたドープは、
濾材で濾過し、脱泡してポンプで次工程に送る。

【００３２】ドープ中には、可塑剤、マット剤、紫外線
防吸収剤、酸化防止剤、染料等を添加してもよい。本発
明では、セルロースエステルと共に配合するポリエステ
ルエーテル、ポリエステル−ウレタン、ポリエステルが
可塑剤としての効果を発現するので、その他の可塑剤を
添加しなくても十分なフィルム特性が得られるが、その
他の目的で可塑剤を添加してもよい。

【００３３】例えば、フィルムの耐透湿性を向上する目
的では、アルキルフタリルアルキルグリコレート類、リ
ン酸エステルやカルボン酸エステルなどが挙げられる。
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例
えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリ
ルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリ
コレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチ
ルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチ
ルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、
エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリ
ルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコ
レート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフ
タリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリ
コレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピ
ルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピ
ルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレー
ト、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフ
タリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグ
リコレートなどが挙げられる。リン酸エステルとして
は、例えばトリフェニルホスフェート、トリクレジルホ
スフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げ
ることが出来る。カルボン酸エステルとしては、例えば
フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エ
ステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチル
ホスフェート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキ
シルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはクエ
ン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチ
ルを挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブチ
ル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチ
ル、トリアセチン等も挙げられる。

【００３４】中でも、メチルフタリルメチルグリコレー
ト、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタ
リルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリ
コレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好
ましく、特にエチルフタリルエチルグリコレートが好ま
しく用いられる。またこれらアルキルフタリルアルキル
グリコレートを２種以上混合して使用してもよい。

【００３５】この目的で用いる可塑剤の量はセルロース
エステルに対して１〜３０質量％が好ましく、特に４〜
１３質量％が好ましい。これらの化合物は、セルロース
エステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加し
てもよい。フィルムの黄味を改善する目的では染料が添
加される。色味は、通常の写真用支持体に見られる様な
グレーに着色出来るものが好ましい。但し写真用支持体
と異なりライトパイピングの防止の必要はないので、含
有量は少なくて良く、セルロースエステルに対する重量
割合で１〜１００ｐｐｍが好ましく、２ｐｐｍ〜５０ｐ
ｐｍが更に好ましい。セルロースエステルはやや黄味を
呈しているので、青色や紫色の染料が好ましく用いられ
る。複数の染料を適宜組み合わせてグレーになるように
してもよい。

【００３６】フィルムが滑りにくいとフィルム同士がブ
ロッキングし取扱性に劣る場合がある。この場合は、二
酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジ
ルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成
ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アル
ミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の
無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させるこ
とが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズ
を小さくできるので好ましい。マット剤の配合は、フィ
ルムのヘイズが０．６％以下、動摩擦係数が０．５以下
となるように配合することが好ましい。この目的で用い
られるマット剤は、平均粒径が０．０１〜１．０μｍ、
含有量が、セルロースエステルに対して０．００５〜
０．３質量％が好ましい。

【００３７】液晶表示装置は、屋外で使用される機会も
多くなっており、偏光板用保護フィルムに紫外線をカッ
トする機能を付与することも重要なことである。この目
的で用いられる紫外線吸収剤は、可視光領域に吸収がな
いことが好ましく、ベンゾトリアゾール系化合物、ベン
ゾフェノン系化合物、サリチル酸系化合物などが挙げら
れる。例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ
−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ジ−ｔ−ブチ
ル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−
オクトキシベンゾフェノン、４−ドデシルオキシ−２−
ヒドロキシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ
−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、サリチル酸フ
ェニル、サリチル酸メチルなどである。

【００３８】紫外線吸収剤の添加量は、セルロースエス
テルに対して０．５〜２０質量％の範囲が好ましく、
０．６〜５質量％の範囲が更に好ましい。フィルムの耐
湿熱性を向上する目的では、ヒンダードフェノール系の
化合物が好ましく用いられ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス
〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオー
ル−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ
−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−
ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシ
アヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビ
ス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例え
ば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等
のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安
定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セ
ルロースエステルに対して重量割合で１ｐｐｍ〜１．０
％が好ましく、１０〜１，０００ｐｐｍが更に好まし
い。また、この他、カルシウム、マグネシウムなどのア
ルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。

【００３９】上記の他に更に帯電防止剤、難燃剤、滑
剤、油剤等も適宜添加しても良い。 流延工程：ドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加
圧ダイに送液し、流延位置において、無限に移送する無
端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラムの流延用支
持体（以降、単に支持体ということもある）上に加圧ダ
イからドープを流延する工程である。流延用支持体の表
面は鏡面となっている。その他の流延する方法は流延さ
れたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレ
ード法、あるいは逆回転するロールで調節するリバース
ロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリ
ット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好
ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等
があるが、何れも好ましく用いられる。製膜速度を上げ
るために加圧ダイを流延用支持体上に２基以上設け、ド
ープ量を分割して重層してもよい。

【００４０】溶媒蒸発工程：ウェブ（流延用支持体上
にドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブと
する）を流延用支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる工程
である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹か
せる方法及び／または支持体の裏面から液体により伝熱
させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があ
るが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。
またそれらを組み合わせる方法も好ましい。

【００４１】剥離工程：支持体上で溶媒が蒸発したウ
ェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウ
ェブは次工程に送られる。剥離する時点でのウェブの残
留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かっ
たり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離する
と、途中でウェブの一部が剥がれたりする。製膜速度を
上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離す
るため製膜速度を上げることが出来る）として、残留溶
媒が多くとも剥離出来るゲル流延法（ゲルキャスティン
グ）がある。それは、ドープ中にセルロースエステルに
対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方
法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。ま
た、ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上で
ゲル化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜
速度を上げることが出来るのである。残留溶媒量がより
多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離
時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが
発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで剥離残留溶
媒量は決められる。

【００４２】乾燥工程：ウェブを千鳥状に配置したロ
ールに交互に通して搬送する乾燥装置及び／またはクリ
ップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装
置を用いてウェブを乾燥する工程である。乾燥の手段は
ウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風
の代わりにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もあ
る。あまり急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性
を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下
くらいから行うのがよい。全体を通して、通常乾燥温度
は４０〜２５０℃で、７０〜１８０℃が好ましい。使用
する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が
異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥条件を適
宜選べばよい。

【００４３】流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程
では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥すること
が、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上で好
ましい。この観点から、例えば、特開昭６２−４６６２
５号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部
の工程を巾方向にクリップでウェブの巾両端を巾保持し
つつ乾燥させる方法（テンター方式）が好ましい。

【００４４】巻き取り工程：ウェブを残留溶媒量が２
質量％以下となってからフィルムとして巻き取る工程で
ある。残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより
寸法安定性の良好なフィルムを得ることが出来る。巻き
取り方法は、一般に使用されているものを用いればよ
く、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション
法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール
法等があり、それらを使いわければよい。

【００４５】残留溶媒量は下記の式で表せる。 残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００ ここで、Ｍはウェブの任意時点での重量、ＮはＭを１１
０℃で３時間乾燥させた時の重量である。セルロースエ
ステルフィルムの膜厚の調節には、所望の厚さになるよ
うに、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリ
ット間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等
をコントロールするのがよい。また、膜厚を均一にする
手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされた
フィードバック情報を上記各装置にフィードバックさせ
て調節するのが好ましい。

【００４６】溶液流延製膜法を通しての流延直後からの
乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気
とするのもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス
雰囲気で行ってもよい。ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒
の爆発限界の危険性は常に考慮されなければならないこ
とは勿論のことである。以下、実施例を挙げて本発明を
詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されるも
のではない。

【００４７】

【実施例】実施例中の各測定及び評価方法は以下の方法
で行った。 〈セルロースエステルの置換度〉置換度は、ケン化法に
よって測定するものとする。乾燥したセルロースアシレ
ートを精秤し、アセトンとジメチルスルホキシドとの混
合溶媒（容量比４：１）に溶解した後、所定の１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液を添加し、２５℃で２時間ケン化す
る。フェノールフタレインを指示薬として添加し、１Ｎ
硫酸で過剰の水酸化ナトリウムを滴定する。また、上記
と同様な方法により、ブランクテストを行う。さらに滴
定が終了した溶液の上澄み液を希釈し、イオンクロマト
グラフを用いて、常法により有機酸の組成を測定する。
そして、下記に従って置換度（％）を算出する。

【００４８】 ＴＡ＝（Ｑ−Ｐ）×Ｆ／（１，０００×Ｗ） ＤＳａｃｅ＝（１６２．１４×ＴＡ）／｛１−４２．１
４×ＴＡ＋（１−５６．０６×ＴＰ）×（ＡＬ／Ａ
Ｃ）｝ ＤＳａｃｙ＝Ｓｓｃｅ×（ＡＬ／ＡＣ） 式中、Ｐは試料の滴定に要する１Ｎ硫酸量（ｍｌ）、Ｑ
はブランクテストに要する１Ｎ硫酸量（ｍｌ）、Ｆは１
Ｎ硫酸の力価、Ｗは試料重量、ＴＡは全有機酸量（ｍｏ
ｌ／ｇ）、ＡＬ／ＡＣはイオンクロマトグラフで測定し
た酢酸（ＡＣ）と他の有機酸（ＡＬ）とのモル比、ＤＳ
ａｃｅはアセチル基の置換度、ＤＳａｃｙは炭素原子量
３または４のアシル基の置換度を示す。 〈セルロースエステルの数平均分子量〉高速液体クロマ
トグラフィにより下記条件で測定する。 溶媒：メチレンクロライド カラム：ＭＰＷ×１（東ソー（株）製） 試料濃度：０．２質量％ 流量：１．０ｍｌ／分 試料注入量：３００μｌ 標準試料：ポリスチレン 温度：２３℃。 〈フィルムの引裂強度〉ＪＩＳ Ｋ７１２８−１９９１
に準じて測定した。測定結果は、４０μｍの厚さに換算
して表示した。 〈剥離性〉得られたフィルムを偏光板用保護フィルムと
して用い、ポリビニルアルコールからなる偏光膜の両側
に張り合わせ偏光板を作製する。得られた偏光板を１０
０×１００ｍｍのサイズに打ち抜き、ガラス基盤に貼合
する。４角の１カ所から偏光板をガラス基盤から少し剥
離し、剥離した偏光板を掴みガラス基盤を押さえながら
対角線の方向に剥離していく。同様の操作を各１０枚の
サンプルで実施し、１０枚とも完全に剥離できた場合を
◎、１枚のみ部分的に剥離残りが生じた場合を○、２枚
〜５枚の剥離残りが生じた場合を△、６枚以上剥離残り
が生じた場合を×とした。実用的には、ランク○以上で
あることが好ましい。 実施例１ アジピン酸とエチレングリコールからなる平均分子量
２，１２５のジヒドロキシポリエステルとトリレンジイ
ソシアナートとから常法により平均分子量７，３００の
ポリエステル−ウレタンを得た（この化合物をＰ１とす
る）。得られた化合物（Ｐ１）３０重量部と酢化度６
０．９％のセルローストリアセテート（数平均分子量２
００，０００）１００重量部とトリフェニルフォスフェ
イト１０重量部を酢酸メチル３５０重量部とアセトン１
２５重量部とエタノール２５重量部からなる混合溶媒に
混合し膨潤させた。次に、この混合物を二重構造の密閉
容器に入れ、混合物をゆっくり攪拌しながら外側のジャ
ケットに冷媒を導入した。これにより内側容器内の混合
物を−７０℃まで冷却した。混合物が均一に冷却される
まで３０分冷却した。密閉容器の外側のジャケット内の
冷媒を排出し、代わりに温水をジャケットに導入。続い
て内容物を攪拌し、４０分かけて８０℃まで上げた。容
器内は２気圧となった。攪拌しながら５０℃まで温度を
下げ常圧に戻し、一晩そのまま放置しドープを得た。こ
のドープを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を
使用して濾過し、製膜に供した。

【００４９】得られたドープを、ダイからステンレスベ
ルト上に流延した。ステンレスベルトの裏面から３５℃
の温度の温水を接触させて温度制御されたステンレスベ
ルト上で１分間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏
面に、１５℃の冷水を接触させて１５秒間保持した後、
ステンレスベルトから剥ぎ取った。次いで剥ぎ取ったフ
ィルムの両端を固定しながら１３０℃で１０分間乾燥さ
せ、膜厚４０μｍのフィルムを得た。得られたフィルム
の水蒸気透過率は４００ｇ／ｍ²・２４ｈ、ヘイズは
０．４％、弾性率は３．００ＧＰａ、フィルム面内のレ
タデーション値は５ｎｍ、厚み方向レタデーション値は
２０ｎｍ、動摩擦係数は０．５、エレメンドルフ法によ
る引裂強度は０．１０Ｎ、直角形引裂法による引裂強度
は３．５Ｎであった。尚、フィルム流延方向（ＭＤ）と
フィルム流延方向に垂直な方向（ＴＤ）の各々につきエ
レメンドルフ法と直角形引裂法で測定したが、いずれの
場合も同一数値を示した。以下の実施例２〜１０及び比
較例１及び２も同様にＭＤとＴＤで同一数値であった。
得られたフィルムを偏光板用保護フィルムとして用いて
偏光板を１０枚作製し、ガラス基盤からの剥離性につい
て評価したところ１枚に剥離残りが発生した（剥離性：
ランク○）。結果を表１に示した。 実施例２ アセチル基の置換度２．８５のセルローストリアセテー
ト（数平均分子量２００，０００）１００重量部、上記
化合物（Ｐ１）３０重量部、酢酸メチル３５０重量部、
アセトン１５０重量部を加圧密閉容器に投入し、１，０
００気圧の圧力を３０分間加えた。その後圧力を開放し
常圧とした。この操作を３回繰り返しドープを得た。ド
ープ温度を４０℃で一晩静置し、脱泡操作を施した後、
溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用
して濾過し製膜に供した。

【００５０】得られたドープを用いて実施例１と同様に
して、膜厚４０μｍのフィルムを得た。得られたフィル
ムの水蒸気透過率は４５０ｇ／ｍ²・２４ｈ、ヘイズは
０．３％、弾性率は３．１０ＧＰａ、フィルム面内のレ
タデーション値は３ｎｍ、厚み方向レタデーション値は
３０ｎｍ、動摩擦係数は０．４、エレメンドルフ法によ
る引裂強度は０．１１Ｎ、直角形引裂法による引裂強度
は３．８Ｎであった。得られたフィルムを偏光板用保護
フィルムとして用いて偏光板を１０枚作製し、ガラス基
盤からの剥離性について評価したところ１枚に剥離残り
が発生した（剥離性：ランク○）。結果を表１に示し
た。 実施例３ アセチル基の置換度２．００、プロピオニル基の置換度
０．８０、数平均分子量１００，０００のセルロースエ
ステル１００重量部、上記化合物（Ｐ１）３０重量部、
酢酸メチル２１０重量部、エタノール９０重量部を加圧
密閉容器に投入し、８０℃に加温して容器内圧力を５気
圧とし、撹拌しながらセルロースエステルを完全に溶解
させドープを得た。ドープ温度を４０℃まで下げて一晩
静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製
の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し製膜に供し
た。

【００５１】得られたドープを用いて実施例１と同様に
して、膜厚４０μｍのフィルムを得た。得られたフィル
ムの水蒸気透過率は３５０ｇ／ｍ²・２４ｈ、ヘイズは
０．３％、弾性率は２．８０ＧＰａ、フィルム面内のレ
タデーション値は２ｎｍ、厚み方向レタデーション値は
６０ｎｍ、動摩擦係数は０．３、エレメンドルフ法によ
る引裂強度は０．１５Ｎ、直角形引裂法による引裂強度
は５．０Ｎであった。得られたフィルムを偏光板用保護
フィルムとして用いて偏光板を１０枚作製し、ガラス基
盤からの剥離性について評価したところ１０枚とも全て
剥離残りは発生せず良好な剥離性（ランク◎）を示し
た。結果を表１に示した。 実施例４ 実施例３の化合物（Ｐ１）の添加量を３０重量部から１
０重量部に変更した以外は実施例３と同様にして膜厚４
０μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの水蒸気透
過率は３６０ｇ／ｍ²・２４ｈ、ヘイズは０．２％、弾
性率は２．９５ＧＰａ、フィルム面内のレタデーション
値は２ｎｍ、厚み方向レタデーション値は４０ｎｍ、動
摩擦係数は０．４、エレメンドルフ法による引裂強度は
０．１１Ｎ、直角形引裂法による引裂強度は５．５Ｎで
あった。得られたフィルムを偏光板用保護フィルムとし
て用いて偏光板を１０枚作製し、ガラス基盤からの剥離
性について評価したところ１０枚とも全て剥離残りは発
生せず良好な剥離性（ランク◎）を示した。結果を表１
に示した。 比較例１ 上記化合物（Ｐ１）３０重量部と酢化度６０．９％のセ
ルローストリアセテート（数平均分子量２００，００
０）１００重量部とトリフェニルフォスフェイト１０重
量部をメチレンクロライド４７５重量部とメタノール２
５重量部を加圧密閉容器に投入し、３５℃で撹拌しなが
らドープを得た。そのまま一晩静置し、脱泡操作を施し
た後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４
を使用して濾過し製膜に供した。

【００５２】得られたドープを用いて実施例１と同様に
して、膜厚４０μｍのフィルムを得た。得られたフィル
ムの水蒸気透過率は４００ｇ／ｍ²・２４ｈ、ヘイズは
０．７％、弾性率は２．５０ＧＰａ、フィルム面内のレ
タデーション値は５ｎｍ、厚み方向レタデーション値は
２０ｎｍ、動摩擦係数は０．６、エレメンドルフ法によ
る引裂強度は０．０９Ｎ、直角形引裂法による引裂強度
は２．０Ｎであった。得られたフィルムを偏光板用保護
フィルムとして用いて偏光板を１０枚作製し、ガラス基
盤からの剥離性について評価したところ１０枚とも全て
剥離残りが発生し剥離性に劣っていた（ランク×）。結
果を表１に示した。 比較例２ 酢化度６０．９％のセルローストリアセテート（数平均
分子量２００，０００）１００重量部、トリフェニルフ
ォスフェイト１０重量部、メチレンクロライド４７５重
量部、メタノール２５重量部を加圧密閉容器に投入し、
３５℃で撹拌しながらドープを得た。そのまま一晩静置
し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安
積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し製膜に供した。

【００５３】得られたドープを用いて実施例１と同様に
して、膜厚４０μｍのフィルムを得た。得られたフィル
ムの水蒸気透過率は５５０ｇ／ｍ²・２４ｈ、ヘイズは
０．６％、弾性率は２．９０ＧＰａ、フィルム面内のレ
タデーション値は５ｎｍ、厚み方向レタデーション値は
２０ｎｍ、動摩擦係数は０．６、エレメンドルフ法によ
る引裂強度は０．０５Ｎ、直角形引裂法による引裂強度
は２．３Ｎであった。得られたフィルムを偏光板用保護
フィルムとして用いて偏光板を１０枚作製し、ガラス基
盤からの剥離性について評価したところ１０枚とも全て
剥離残りが発生し剥離性に劣っていた（ランク×）。結
果を表１に示した。 実施例５ トランス異性体含有量が少なくとも７０％を有する１，
４−シクロヘキサンジカルボン酸１００モル％、１，４
−シクロヘキサンジメタノール９１モル％、分子量１，
０００のポリテトラメチレンエーテルグリコール９モル
％からなるポリエステルエーテルを常法により得た（化
合物Ｐ２とする）。化合物（Ｐ２）を用いて以下のよう
に行った。

【００５４】実施例３の化合物（Ｐ１）及び添加量３０
重量部を、化合物（Ｐ２）、添加量１０重量部に変更し
た以外は実施例３と同様にして膜厚４０μｍのフィルム
を得た。得られたフィルムの水蒸気透過率は４００ｇ／
ｍ²・２４ｈ、ヘイズは０．５％、弾性率は２．７０Ｇ
Ｐａ、フィルム面内のレタデーション値は５ｎｍ、厚み
方向レタデーション値は６０ｎｍ、動摩擦係数は０．
５、エレメンドルフ法による引裂強度は０．０８Ｎ、直
角形引裂法による引裂強度は４．０Ｎであった。得られ
たフィルムを偏光板用保護フィルムとして用いて偏光板
を１０枚作製し、ガラス基盤からの剥離性について評価
したところ１０枚とも全て剥離残りは発生せず良好な剥
離性（ランク◎）を示した。結果を表１に示した。 実施例６ トリエチレングリコールとアジピン酸とから平均分子量
２，５００のポリエステルを常法により得た（化合物Ｐ
３とする）。化合物（Ｐ３）を用いて以下のように行っ
た。

【００５５】実施例３の化合物（Ｐ１）及び添加量３０
重量部を、化合物（Ｐ３）、添加量１０重量部に変更し
た以外は実施例３と同様にして膜厚４０μｍのフィルム
を得た。得られたフィルムの水蒸気透過率は４５０ｇ／
ｍ²・２４ｈ、ヘイズは０．５％、弾性率は２．６５Ｇ
Ｐａ、フィルム面内のレタデーション値は６ｎｍ、厚み
方向レタデーション値は６５ｎｍ、動摩擦係数は０．
５、エレメンドルフ法による引裂強度は０．０８Ｎ、直
角形引裂法による引裂強度は４．０Ｎであった。得られ
たフィルムを偏光板用保護フィルムとして用いて偏光板
を１０枚作製し、ガラス基盤からの剥離性について評価
したところ１０枚とも全て剥離残りは発生せず良好な剥
離性（ランク◎）を示した。結果を表１に示した。 実施例７ アセチル基の置換度２．００、プロピオニル基の置換度
０．８０、数平均分子量１００，０００のセルロースエ
ステル１００重量部、上記化合物（Ｐ２）３０重量部、
酢酸メチル２１０重量部、エタノール９０重量部を用い
た以外は実施例１と同様にして膜厚４０μｍのフィルム
を得た。エレメンドルフ法と直角形引裂法の測定値及び
ガラス基盤からの剥離性の結果を表１に示した。 実施例８ アセチル基の置換度２．００、プロピオニル基の置換度
０．８０、数平均分子量１００，０００のセルロースエ
ステル１００重量部、上記化合物（Ｐ２）３０重量部、
酢酸メチル２１０重量部、エタノール９０重量部を用い
た以外は実施例２と同様にして膜厚４０μｍのフィルム
を得た。エレメンドルフ法と直角形引裂法の測定値及び
ガラス基盤からの剥離性の結果を表１に示した。 実施例９ 実施例７で化合物（Ｐ２）の代わりに化合物（Ｐ３）を
用いた以外は同様にして膜厚４０μｍのフィルムを得
た。エレメンドルフ法と直角形引裂法の測定値及びガラ
ス基盤からの剥離性の結果を表１に示した。 実施例１０ 実施例８で化合物（Ｐ２）の代わりに化合物（Ｐ３）を
用いた以外は同様にして膜厚４０μｍのフィルムを得
た。エレメンドルフ法と直角形引裂法の測定値及びガラ
ス基盤からの剥離性の結果を表１に示した。

【００５６】

【表１】

【００５７】表１から直角形引裂法による引裂強度が
３．５Ｎ以上、特に４．０Ｎ以上では良好な剥離性を示
すことが分かる。本発明のセルロースエステルの製造方
法によれば、偏光板用保護フィルムとしたときに何れも
良好な剥離性を示すセルロースエステルフィルムが得ら
れることが分かる。

【００５８】

【発明の効果】本発明により、薄膜としてもガラス基盤
から偏光板を剥がす際に破れにくいセルロースエステル
フィルムが得られ、特に、耐湿熱性、透明性、光学的等
方性に優れ、かつガラス基盤から偏光板を剥がす際に破
れにくいセルロースエステルフィルムからなる偏光板用
保護フィルムを提供することができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB13 BB33 BB54 BC09 BC14 4F071 AA09 AA47 AA53 AF16 AF29 AF30 AF53 AH12 BA02 BB02 BC01 4J002 AB021 CF102 CK032 GP00 GQ00 HA05

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 炭素数２〜３のアシル基を置換基として
   有し、かつ膜厚が２０〜６０μｍであり、膜厚を４０μ
   ｍの厚さに換算した場合、フィルムの直角形引裂法によ
   る引裂強度が３．５Ｎ〜７．０Ｎであることを特徴とす
   るセルロースエステルフィルム。
2. 【請求項２】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステルエーテルを実質的に塩
   素系溶媒を含まない有機溶媒に、該有機溶媒の常圧での
   沸点以上で、かつ発泡しない圧力条件下で溶解してドー
   プを作製し、該ドープを支持体上にフィルム状に流延
   し、該支持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥
   することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製
   造方法。
3. 【請求項３】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステル−ウレタンを実質的に
   塩素系溶媒を含まない有機溶媒に、該有機溶媒の常圧で
   の沸点以上で、かつ発泡しない圧力条件下で溶解してド
   ープを作製し、該ドープを支持体上にフィルム状に流延
   し、該支持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥
   することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製
   造方法。
4. 【請求項４】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステルと実質的を実質的に塩
   素系溶媒を含まない有機溶媒に、該有機溶媒の常圧での
   沸点以上で、かつ発泡しない圧力条件下で溶解してドー
   プを作製し、該ドープを支持体上にフィルム状に流延
   し、該支持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥
   することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製
   造方法。
5. 【請求項５】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステルエーテルと実質的に塩
   素系溶媒を含まない有機溶媒とを−１００℃〜−１０℃
   に冷却した後、その冷却物を０℃〜１２０℃に加温し得
   られたドープを支持体上にフィルム状に流延し、該支持
   体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥することを
   特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
6. 【請求項６】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステル−ウレタンと実質的に
   塩素系溶媒を含まない有機溶媒とを−１００℃〜−１０
   ℃に冷却した後、その冷却物を０℃〜１２０℃に加温し
   得られたドープを支持体上にフィルム状に流延し、該支
   持体に流延した生乾きのフィルムを剥離し乾燥すること
   を特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
7. 【請求項７】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステルと実質的に塩素系溶媒
   を含まない有機溶媒とを−１００℃〜−１０℃に冷却し
   た後、その冷却物を０℃〜１２０℃に加温し得られたド
   ープを支持体上にフィルム状に流延し、該支持体に流延
   した生乾きのフィルムを剥離し乾燥することを特徴とす
   るセルロースエステルフィルムの製造方法。
8. 【請求項８】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステルエーテルと実質的に塩
   素系溶媒を含まない有機溶媒との混合物を５０気圧以上
   ２，０００気圧以下に加圧し得られた溶液を支持体上に
   フィルム状に流延し、該支持体に流延した生乾きのフィ
   ルムを剥離し乾燥することを特徴とするセルロースエス
   テルフィルムの製造方法。
9. 【請求項９】 アシル基の置換度が２．６〜３．０のセ
   ルロースエステルとポリエステル−ウレタンと実質的に
   塩素系溶媒を含まない有機溶媒との混合物を５０気圧以
   上２，０００気圧以下に加圧し得られた溶液を支持体上
   にフィルム状に流延し、該支持体に流延した生乾きのフ
   ィルムを剥離し乾燥することを特徴とするセルロースエ
   ステルフィルムの製造方法。
10. 【請求項１０】 アシル基の置換度が２．６〜３．０の
    セルロースエステルとポリエステルと実質的に塩素系溶
    媒を含まない有機溶媒との混合物を５０気圧以上２，０
    ００気圧以下に加圧し得られた溶液を支持体上にフィル
    ム状に流延し、該支持体に流延した生乾きのフィルムを
    剥離し乾燥することを特徴とするセルロースエステルフ
    ィルムの製造方法。
11. 【請求項１１】 有機溶媒が酢酸メチルを５０％以上含
    むことを特徴とする請求項２〜１０のいずれか１項に記
    載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
12. 【請求項１２】 ポリエステルエーテルの含有量がセル
    ロースエステルに対し５〜３０質量％であることを特徴
    とする請求項２、５、８又は１１記載のセルロースエス
    テルフィルムの製造方法。
13. 【請求項１３】 ポリエステル−ウレタンの含有量がセ
    ルロースエステルに対し５〜３０質量％であることを特
    徴とする請求項３、６、９又は１１記載のセルロースエ
    ステルフィルムの製造方法。
14. 【請求項１４】 ポリエステルの含有量がセルロースエ
    ステルに対し５〜３０質量％であることを特徴とする請
    求項４、７、１０又は１１記載のセルロースエステルフ
    ィルムの製造方法。
15. 【請求項１５】 セルロースエステルが７０，０００〜
    ３００，０００の数平均分子量を有することを特徴とす
    る請求項２〜１４の何れか１項に記載のセルロースエス
    テルフィルムの製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１記載のセルロースエステルフ
    ィルムを用いることを特徴とする偏光板用保護フィル
    ム。