JP2001120966A - 膜ろ過システム - Google Patents

膜ろ過システム

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JP2001120966A
JP2001120966A JP30239599A JP30239599A JP2001120966A JP 2001120966 A JP2001120966 A JP 2001120966A JP 30239599 A JP30239599 A JP 30239599A JP 30239599 A JP30239599 A JP 30239599A JP 2001120966 A JP2001120966 A JP 2001120966A
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membrane
gas
clogging
unit
contamination
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JP30239599A
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English (en)
Inventor
Seiichi Murayama
清一 村山
Masao Kaneko
政雄 金子
Chiyouko Miyajima
潮子 宮島
Kenji Takeuchi
賢治 竹内
Atsushi Nakagawa
敦司 中川
Shoji Uchida
祥司 内田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 各膜モジュールの目詰まり程度を定量化し
て、各膜モジュールの汚染有無、目詰まり有無を判定
し、この判定結果に基づき、適切な薬液処理時期を予測
し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持させる。 【解決手段】 各膜モジュール20a〜20nの1つを
選択して、空気43を充填しながら、印加ガス圧力と、
漏れガス流量との関係を計測するとともに、この計測処
理で得られる可逆的な汚染状況、目詰まり状況、不可逆
的な汚染状況、目詰まり状況を定量化して、各膜モジュ
ール20a〜20nに対する、適切な膜交換時期、薬液
洗浄時期などを知らせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、上水道プラント、
下水道プラント、化学プラントなどで使用される膜ろ過
システムに係わり、特にろ過に使用する膜の汚染、目詰
まりを定量化して、最適な膜の洗浄時期、最適な交換時
期などを知らせる膜ろ過システムに関する。
【0002】
【従来の技術】膜ろ過装置に使用される膜には、多くの
種類(形状、材質、孔経などの種類)があり、各膜の中
から処理条件に合致する膜を選定して使用するようにし
ているが、いずれもろ過処理の継続により目詰まりが生
ずる。
【0003】このため、一定時間毎に、エアバブリング
処理、ろ過方向と逆にろ過水を通水する逆洗浄処理、あ
るいはろ過表面を高速で通水するなどの離脱再生処理を
行い、ろ過表面に捕捉された物質を除去している。しか
しながら、離脱再生処理によっても、膜の内部に捕捉さ
れた物質を除去することは困難であり、このため、不可
逆的な目詰まりが発生し、しかもろ過離脱再生処理の繰
り返しで、膜の内部に物質が徐々に蓄積され、ろ過能力
の劣化を来たす。
【0004】この不可逆的な目詰まりによるろ過能力の
改善には、薬液による再生処理が不可欠であり、所定の
頻度、例えば1〜2回/年の頻度で、薬液による膜の洗
浄が実施される。薬液処理は不可逆的な目詰まり除去と
同時に膜への劣化も与え、ろ過特性悪化や膜破損にもつ
ながるので、その実施は適切に行われるべきであるが、
処理時期を決める合理的、定量的評価が確立されていな
いのが現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、膜を使用
して水をろ過するろ過装置では、ろ過を継続すると、膜
の内部に濁質分が侵入して蓄積され、通常の離脱再生処
理を行っても、容易に除去できなくなる不可逆的な目詰
まりが発生することから、最終的には、薬液処理による
再生が不可欠となる。
【0006】しかしながら、薬液処理は、膜自身を劣化
させるのみならず、処理コストもかかってしまうため、
処理の実施時期を最適化しなければならないが、従来の
判定方法では、ろ過圧損が上昇したとき、あるいはろ過
流量が減少したときなど、曖昧な判定基準を薬液処理の
タイミングを決める指標として使用しているので、定量
的ではなく、もっと合理的な判断基準の確立が課題とな
っている。
【0007】本発明は上記の事情に鑑み、適切な薬液処
理時期を予測し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持さ
せることができる膜ろ過システムを提供することを目的
としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、請求項1では、ろ過対象となる原水を膜
ユニット内に導き、ろ過水を生成する膜ろ過システムに
おいて、前記膜ユニット内に気体を供給する気体供給装
置と、この気体供給装置により前記膜ユニット内に供給
された気体の圧力を計測する圧力計と、前記気体供給装
置により前記膜ユニット内に供給された気体の流量を計
測する流量計と、前記膜ユニット内の膜を水に浸漬させ
た状態で、ろ過方向と逆方向から気体を導入させて、印
加ガス圧力と漏れガス流量とを測定し、その値から膜の
汚染、目詰まり程度を定量的に検出、判定する制御装置
とを備えたことを特徴としている。
【0009】請求項2では、ろ過対象となる原水を膜ユ
ニット内に導き、ろ過水を生成する膜ろ過システムにお
いて、前記膜ユニット内に気体を供給する気体供給装置
と、この気体供給装置により前記膜ユニット内に供給さ
れた気体の圧力を計測する圧力計と、前記気体供給装置
により前記膜ユニット内に供給された気体の流量を計測
する流量計と、前記膜ユニット内の膜を水に浸漬するこ
となく水で濡れた状態で、ろ過方向と逆方向から前記膜
ユニット内に気体を導入させて、印加ガス圧力と漏れガ
ス流量とを測定し、その値から前記膜の汚染、目詰まり
程度を定量的に、検出、判定する制御装置とを備えたこ
とを特徴としている。
【0010】請求項3では、請求項1、2のいずれかに
記載の膜ろ過システムにおいて、前記気体として、空
気、ヘリウムガス、窒素ガスのいずれかを用いることを
特徴としている。
【0011】請求項4では、請求項1乃至3のいずれか
に記載の膜ろ過システムにおいて、前記膜ユニット内に
配置される膜として、膜孔径が10μm以下の膜を使用
することを特徴としている。
【0012】請求項5では、請求項1乃至4のいずれか
に記載の膜ろ過システムにおいて、前記膜ユニット内の
前記膜を逆洗浄して再生処理を終了した後、前記膜ユニ
ットへの通水を停止した状態で、前記膜の不可逆的な汚
染、不可逆的な目詰まりを検出することを特徴としてい
る。
【0013】請求項6では、請求項1乃至5のいずれか
に記載の膜ろ過システムにおいて、前記膜ユニット内の
前記膜を逆洗浄して再生処理を行う前、前記膜ユニット
への通水を停止した状態で、前記膜の可逆的な汚染、可
逆的な目詰まりを検出することを特徴としている。
【0014】請求項7では、請求項1乃至6のいずれか
に記載の膜ろ過システムにおいて、前記膜ユニットに対
する測定値の経時変化を検出する際、ガス漏れが生ずる
最小印加ガス圧力値の変化率特性、あるいは一定印加ガ
ス圧力時における漏れガス流量の変化率特性に基づき、
前記膜の汚染、目詰まり検出を行うことを特徴としてい
る。
【0015】請求項8では、請求項1乃至7のいずれか
に記載の膜ろ過システムにおいて、前記膜ユニットに対
する測定値の経時変化特性に基づき、前記膜の汚染、目
詰まり程度を定量化して、定量結果を報知するととも
に、前記膜のメンテナンス時期を予測して、予測結果を
報知することを特徴としている。
【0016】請求項9では、請求項8に記載の膜ろ過シ
ステムにおいて、前記膜のメンテナンス時期として、薬
液再生処理の時期、膜の交換の時期を用いることを特徴
としている。
【0017】請求項10では、請求項8に記載の膜ろ過
システムにおいて、前記膜のメンテナンス時期を報知す
る手段として、音声、または画像を使用し、各膜モジュ
ール単位、各膜グループ単位で、報知することを特徴と
している。
【0018】請求項11では、請求項1または2に記載
の膜ろ過システムにおいて、前記膜の汚染、目詰まりが
検出されたとき、汚染の内容、目詰まりの内容に基づ
き、逆洗再生の間隔を調整して、汚染、目詰まりの進行
を抑えることを特徴としている。
【0019】請求項12では、請求項1または2に記載
の膜ろ過システムにおいて、前記膜ユニットは、各膜モ
ジュールを所定数毎に、グループ化して形成され、グル
ープ単位で、膜の不可逆的な汚染、不可逆的な目詰ま
り、可逆的な汚染、可逆的な目詰まりを検出することを
特徴としている。
【0020】請求項13では、請求項1または2に記載
の膜ろ過システムにおいて、気体を使用して、膜ユニッ
トの汚染、目詰まり検出を行うとき、膜ユニットを使用
する前の測定データ、または薬液によって再生処理した
直後の測定データを初期値として、運転開始から定期的
に測定データを記録するとともに、各測定データと初期
値との差分を求め、各差分の経時変化に基づき、前記膜
の汚染、目詰まり検出を行うことを特徴としている。
【0021】請求項1の発明によれば、膜ユニットの目
詰まり程度を定量化して、膜ユニットの汚染有無、目詰
まり有無を判定し、この判定結果に基づき、適切な薬液
処理時期を予測し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持
させる。
【0022】請求項2では、測定感度を向上させなが
ら、膜ユニットの汚染有無、目詰まり有無を判定すると
ともに、この判定結果に基づき、適切な薬液処理時期を
予測し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持させる。
【0023】請求項3では、膜の膜孔径などに応じた質
量を持つガスを選択し、これによって膜の種類に応じた
最適な測定を行い得るようにし、また質量が小さく、同
一条件下での漏れガス流量が他のガスより多い、ヘリウ
ムガスを使用させることにより、測定感度を向上させな
がら、膜の汚染有無、目詰まり有無を判定するととも
に、この判定結果に基づき、適切な薬液処理時期を予測
し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持させる。
【0024】請求項4では、10μm以下の膜孔径を有
する膜を使用した膜ユニットでも、この膜が汚染されて
いるか否か、目詰まりを起こしているか否かを判定し
て、適切な薬液処理時期を予測し、膜ユニットの膜を最
適な状態に保持させる。
【0025】請求項5では、膜ユニットを逆洗処理した
だけでは、除去できない、膜内部に固定された不純物に
よる膜の不可逆的な目詰まり検出して、適切な薬液処理
時期を予測し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持させ
る。
【0026】請求項6では、膜表面に捕捉され、膜ユニ
ットを逆洗浄処理しただけで、除去することができる、
膜の可逆的な目詰まり検出して、適切な膜交換時期を予
測し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持させる。
【0027】請求項7では、マスフローガス微量流量計
などを使用した簡単な測定装置で、膜の目詰まり有無を
検出して、適切な薬液処理時期を予測し、膜ユニットの
膜を最適な状態に保持させる。
【0028】請求項8では、オペレータなどに、最適な
運転管理を行わせ、膜ユニットの膜を最適な状態に保持
させる。
【0029】請求項9では、薬液再生処理の時期、膜の
劣化状態、膜の交換の時期などをオペレータに提示し
て、最適な運転管理を行わせ、膜ユニットの膜を最適な
状態に保持させる。
【0030】請求項10では、測定した個々の膜モジュ
ールの目詰まり状態を定量的に表示する機能と、膜メン
テナンス予測時期などをオペレータに音声、画像で知ら
せる機能と、目詰まりを起こした膜モジュールの位置を
画面上に表示する機能とを持たせ、これによって最適な
運転管理を行わせ、膜ユニットの膜を最適な状態に保持
させる。
【0031】請求項11では、膜の汚染、目詰まりが検
出されたとき、汚染の内容、目詰まりの内容に基づき、
逆洗再生の間隔を調整して、汚染、目詰まりの進行を抑
えることにより、膜ユニットの寿命を延ばし、効率の良
い運転を実現させる。
【0032】請求項12では、検出対象となる膜ユニッ
トがグループ単位で運転されているとき、各グループ毎
に、適切な薬液処理時期を予測して、膜ユニットの膜を
最適な状態に保持させる。
【0033】請求項13では、各膜ユニットの特性が異
なっているときでも、適切な薬液処理時期を予測し、膜
ユニットの膜を最適な状態に保持させる。
【0034】
【発明の実施の形態】《基本原理の説明》まず、上水処
理に適用される中空糸膜を持つ膜モジュールの特性を調
べるために、図6に示すように、中空糸膜100を持つ
膜モジュール101と、この膜モジュール101に原水
を導くときに開状態にされるろ過ライン入口側電磁弁1
02と、膜モジュール101で生成されたろ過水を次の
処理工程に供給するときに開状態にされるろ過ライン出
口側電磁弁103と、膜モジュール101にエアバブリ
ング用の圧縮空気を導入するときに開状態にされるエア
バブリング用電磁弁104と、膜モジュール101に逆
洗浄水を供給するときに開状態にされる逆洗入口側電磁
弁105と、膜モジュール101内の圧縮空気を排出す
るとき、および膜モジュール101の漏れガス流量を計
測するときに開状態にされる排水排気用電磁弁106
と、膜モジュール101内の排水を排出するときに開状
態にされるドレイン用電磁弁107と、ガス流量計測用
ガス源から供給される圧縮空気を膜モジュール101に
導いてこの膜モジュール101のガス圧力値を所定のガ
ス圧力値まで急速に高めるときに開状態にされるガスパ
ージ用電磁弁108と、膜モジュール101に充填され
た圧縮空気のガス圧力を計測するガス圧力計109と、
ガス流量計測用ガス源から供給される圧縮空気を膜モジ
ュール101に導いて膜モジュール101の漏れガス流
量を計測するときに開状態にされるガス流量測定用電磁
弁110と、このガス流量測定用電磁弁110を介して
膜モジュール101に導かれた圧縮空気の流量(漏れガ
ス流量)を計測する極微小ガス流量計111とによって
実験プラント112を構築し、以下に述べる実験を行っ
た。
【0035】まず、膜モジュール101内に水を満たし
て、中空糸膜100を水に浸漬させたときと、水に浸漬
させないときとで、漏れガス流量がどのように変化する
かを調べたところ、図7に示すように、中空糸膜100
を水に浸漬させたときに比べて、中空糸膜100を水に
浸漬させないとき、バブルポイント(ガスが漏れ始める
最小圧力値)がずれ、かつ漏れガス流量が約3倍になる
ことが分かった。
【0036】この理由として、中空糸膜100を水に浸
漬させていないとき、膜の表面に水が十分に供給され
ず、膜孔に充分な毛細管圧力が発生しないためと推定さ
れる。
【0037】そこで、本発明による膜ろ過システムで
は、低い感度でも、汚染、目詰まりを計測することがで
きる種類の膜モジュールを使用しているとき、膜モジュ
ール101内に水を満たして、膜モジュール101の漏
れガス流量を計測し、また低い感度で、汚染、目詰まり
を計測することができない種類の膜モジュール101を
使用しているとき、膜モジュール101内から水を排出
させた状態で、膜モジュール101の漏れガス流量を計
測することにより、膜モジュール101に使用されてい
る膜の種類がどのような膜であっても、これに対処し得
るようにした。
【0038】また、同一種類の膜を使用した各ロット別
の膜モジュール101内に水を満たした状態で、ロット
毎に、漏れガス流量がどの程度、異なるかを調べたとこ
ろ、図8に示すように、同一種類の膜を使用した膜モジ
ュール101であっても、各ロット毎に、漏れガス流量
に差があり、同一種類の膜モジュール101に対し、1
つのしきい値を設定しただけでは、各膜モジュール10
1の汚染状態、目詰まり状態を判定できないことが分か
った。
【0039】そこで、本発明による膜ろ過システムで
は、膜モジュール101の漏れガス流量を計測すると
き、各膜モジュール101が新品であるときから現在に
至るまでの各タイミングで、印加ガス圧力/漏れガス流
量特性を計測して、この計測動作で得られた各印加ガス
圧力/漏れガス流量特性をコンピュータ装置に登録し、
このコンピュータ装置に登録されている各膜モジュール
101の印加ガス圧力/漏れガス流量特性の履歴内容に
基づき、各膜モジュール101の汚染状態、目詰まり状
態を判定することにした。
【0040】また、離脱再生処理を行う前と、離脱再生
処理を行った後とで、同一の膜モジュール101の漏れ
ガス流量がどのように変化するか調べたところ、図9に
示すように、離脱再生処理を行う前、印加ガス圧力が
“1.5kg/cm”となるように、膜モジュール1
01に圧縮空気を充填したとき、漏れガス流量が“30
NmL/min”になり、また離脱再生処理を行った
後、印加ガス圧力が“1.5kg/cm”となるよう
に、膜モジュール101に圧縮空気を充填したとき、漏
れガス流量が“40NmL/min”になることが分か
った。
【0041】そして、これらの差分が離脱再生処理で取
り除くことができた濁質分(膜モジュールの表面に付着
した濁質分)と考えられ、これらの差が小さいとき、膜
モジュール101内の中空糸膜100が目詰まりを起こ
し、離脱再生処理を行っても、ろ過能力を回復できなく
なったと考えることができる。
【0042】そこで、本発明による膜ろ過システムで
は、次式に示す演算式で、離脱再生処理で、除去し得る
濁質分の比率(以下、この比率を可逆的目詰まり率と称
する)を求め、この可逆的目詰まり率に基づき、膜モジ
ュール101の劣化状態を判定し、膜の交換時期を判定
する。
【0043】
【数1】 A=(P−P)×100/P …(1) 但し、A:可逆的目詰まり率 P:離脱再生処理を行った後の漏れガス流量 P:離脱再生処理を行う前の漏れガス流量 また、新品の膜モジュール101内に水を満たした状態
で、印加ガス圧力値を変えながら、漏れガス流量を計測
した後、この膜モジュール101に所定時間だけ、ろ過
処理を行わせ、次いで離脱再生処理を行った後、この膜
モジュール101内に水を満たした状態で、印加ガス圧
力値を変えながら、漏れガス流量を計測したところ、図
10に示すように、膜モジュール101にろ過処理を行
わせる前、印加ガス圧力が“1.5kg/cm”とな
るように、膜モジュール101に圧縮空気を充填したと
き、漏れガス流量が“50NmL/min”になり、ま
たこの膜モジュール101にろ過処理を行わせ、次いで
離脱再生処理を行った後、印加ガス圧力が“1.5kg
/cm”となるように、膜モジュール101に圧縮空
気を充填したとき、漏れガス流量が“40NmL/mi
n”になった。
【0044】この理由として、ろ過処理を行った膜モジ
ュール101の膜孔に濁質分が入り込み、見かけ上の膜
孔が小さくなった分だけ、漏れガス流量が減少したもの
と考えられる。
【0045】そして、このような膜ジュール101に対
し、通常の離脱再生処理を行っても、膜孔に入り込んだ
濁質分を除去することができないことから薬液洗浄(薬
洗)による再生処理が必要となる。
【0046】そこで、本発明による膜ろ過システムで
は、次式に示す演算式で、離脱再生処理で、除去するこ
とができない濁質分の比率(以下、この比率を不可逆的
目詰まり率と称する)を求め、この不可逆的目詰まり率
に基づき、膜モジュール101の劣化状態を判定し、膜
モジュール101の薬液洗浄時期を決定する。
【0047】
【数2】 A=(P−P)×100/P …(2) 但し、A:不可逆的目詰まり率 P:新品時の漏れガス流量 P:ろ過処理、離脱再生処理を行った後の漏れガス流
量 これにより、薬洗頻度をできるだけ、少なくして、薬洗
により中空糸膜100の劣化が進行するのを防止すると
ともに、合理的な薬洗管理を可能にして、処理コストを
低減させる。
【0048】《実施の形態の構成》次に、上述した基本
原理を使用した、本発明による膜ろ過システムについ
て、説明する。
【0049】図1は、本発明による膜ろ過システムの実
施の形態を示すブロック図である。
【0050】この図に示す膜ろ過システム1は、処理対
象となる原水2を取り込んで、この原水2中に含まれて
いる固形分(濁質分)をろ過し、濁質分を含む排水3を
外部に排出するとともに、ろ過処理で得られた清浄な水
(ろ過水)4を次の処理工程に供給する膜ろ過装置5
と、オペレータによって操作された内容に基づき、各種
指令、各種データを生成する入力装置6と、この入力装
置6から出力される各種指令、各種データに基づき、膜
ろ過装置5を制御して、ろ過処理、膜汚染/目詰まり検
出処理、離脱再生処理などを行わせる制御装置7と、こ
の制御装置7から出力される表示データ、音声データを
取り込んで、ろ過状態、膜汚染状態などを画面表示、音
声出力して、オペレータに知らせる表示装置8とを備え
ている。
【0051】入力装置6は、キーボード9、表示装置
8、この表示装置8の表示面にセットされるタッチパネ
ル10などを備えている。制御装置7は、CPU11
と、ROM12と、ハードディスク機構13と、RAM
14と、入力インタフェース15と、CPU11から出
力される制御信号を取り込んで膜ろ過装置5に供給する
とともに、この膜ろ過装置5から出力される状態検知信
号を取り込んでCPU11に供給する入出力インタフェ
ース16と、ビデオインタフェース17とを備えてい
る。また、表示装置8は、信号処理部17と、CRT1
8と、スピーカ19とを備えている。
【0052】また、膜ろ過装置5の基本構成としては、
図2に示すように、複数の膜モジュール20a〜20n
から成り、原水2を取り込んでろ過水4を生成する複数
個の膜ユニット21と、原水2を装置内に取り込む原水
ポンプ22と、各膜ユニットの入口側に設けられ、原水
ポンプ22を介して取り込まれた原水2を各膜ユニット
21に供給するろ過ラインユニット入口側電磁弁23
と、各膜ユニット21の出口側に設けられ、各膜ユニッ
ト21で処理されたろ過水4を排出するろ過ラインユニ
ット出口側電磁弁27とを備えている。各膜モジュール
20a〜20nは、膜の孔径が10μm以下にされた有
機膜を用いたスパイラル型の膜、中空糸型の膜、平膜型
の膜、またはセラミックを用いたチューブラ型セラミッ
ク膜を備えている。
【0053】図3は、膜ろ過装置5を構成する1つの膜
モジュール21部分を詳細に示している。
【0054】図3に示すように、膜ろ過装置5は、複数
個の膜ユニット21、原水ポンプ22、ろ過ラインユニ
ット入口側電磁弁23、複数のろ過入口側電磁弁24a
〜24nによって構成され、膜ユニット21に原水2を
供給する原水供給ユニット25と、複数のろ過出口側電
磁弁26a〜26n、ろ過ラインユニット出口側電磁弁
27によって構成され、膜ユニット21の各膜モジュー
ル20a〜20nから排出されるろ過水4をまとめて、
次の処理工程に導くろ過水取出しユニット28と、逆洗
ポンプ29、複数の逆洗入口側電磁弁30a〜30nに
よって構成され、膜ユニット21の各膜モジュール20
a〜20nに逆洗浄水31を供給する逆洗浄水供給ユニ
ット32とを備えている。
【0055】さらに、膜ろ過装置5は、複数の排水排気
用電磁弁33a〜33n、複数のドレイン用電磁弁34
a〜34nによって構成され、膜ユニット21の各膜モ
ジュール20a〜20n内に溜った逆洗浄水31、汚
泥、空気43などを外部に排出する排気/排水ユニット
35と、複数のエアバブリング用電磁弁36a〜36
n、ガス圧力調整弁37、ガス流量測定用電磁弁38、
ガスパージ用電磁弁39、マスフローガス微量流量計4
0、ガス圧力計41、複数のガス注入用電磁弁42a〜
42nによって構成され、膜ユニット21の各膜モジュ
ール20a〜20nに空気43を供給して、エアバブリ
ングを行わせる処理、または膜ユニット21の各膜モジ
ュール20a〜20nに空気43を供給しながら、漏れ
ガス量を計測する処理を行う空気供給ユニット44とを
備えている。
【0056】そして、制御装置7からろ過指示を示す制
御信号が出力されているときには、原水供給ユニット2
5によって原水2を取り込み、膜ユニット21を構成し
ている各膜モジュール20a〜20nでろ過させるとと
もに、ろ過水取出しユニット28によって、各膜モジュ
ール20a〜20nのろ過処理で得られたろ過水4を取
り込んで、次の処理工程に供給する。また制御装置7か
ら逆洗浄指示を示す制御信号が出力されたときには、逆
洗浄水供給ユニット32によって各膜モジュール20a
〜20nに逆洗浄水3を供給して、各膜モジュール20
a〜20nを逆洗浄させるとともに、排出/排気ユニッ
ト35によって、各膜モジュール20a〜20nから排
出される排水3を取り込み、これを外部に排出する。ま
た制御装置7からエアバブリング指示を示す制御信号が
出力されたときには、空気供給ユニット44によって空
気43を取り込んで、これを各膜モジュール20a〜2
0nに供給し、エアバブリングを行わせる。さらに、制
御装置7から汚染/目詰まり計測指示を示す制御信号が
出力されたときには、空気供給ユニット44によって空
気43を取り込んで、これを各膜モジュール20a〜2
0nに供給しながら、漏れガス流量を計測して、この計
測結果を制御装置7に供給し、各膜モジュール20a〜
20nの汚染有無、目詰まり有無を判定させるようにし
ている。
【0057】《実施の形態の動作》次に、図4、図5に
示すフローチャートを参照しながら、この実施の形態の
動作について詳細に説明する。
【0058】まず、オペレータによって、システムの電
源が投入された後、入力装置6が操作されて、ろ過開始
指示が入力されると、図4のフローチャートに示すよう
に、制御装置7によって、ろ過開始を示す制御信号が生
成され、これが膜ろ過装置5に供給される。
【0059】<ろ過処理工程>これにより、ろ過ライン
ユニット入口側電磁弁23と、ろ過ラインユニット出口
側電磁弁27とが開状態にされた後、各膜モジュール2
0a〜20nのうち、ろ過処理を行うように指示された
各膜モジュール、例えば全ての膜モジュール20a〜2
0nに対応するろ過入口側電磁弁24a〜24nと、ろ
過出口側電磁弁26a〜26nとが開状態にされる。
【0060】この後、原水ポンプ22がオン状態にされ
て、この原水ポンプ22により加圧された原水2がろ過
ラインユニット入口側電磁弁23→各ろ過入口側電磁弁
24a〜24n→各膜モジュール20a〜20nなる経
路で、各膜モジュール20a〜20nに供給されて、ろ
過されるとともに、各膜モジュール20a〜20nから
排出されるろ過水4が各膜モジュール20a〜20n→
各ろ過出口側電磁弁26a〜26n→ろ過ラインユニッ
ト出口側電磁弁27なる経路で、1つにまとめられた
後、次の処理工程に送水される(ステップST1)。
【0061】<可逆的汚染/目詰まり検出処理工程の有
無判定>そして、各膜モジュール20a〜20nのう
ち、ろ過処理時間が予め設定されている時間、例えば3
0分から数時間に達した膜モジュールがあるとき、ある
いは各膜モジュール20a〜20nの交換、薬洗浄処理
などを行うとき(ステップST2)、制御装置7のCP
U12によって、ハードディスク機構13に登録されて
いる計測設定ファイル(各膜モジュール20a〜20n
内の膜が新品のときから現在に至るまでの可逆的目詰ま
り率、不可逆的目詰まり率、各膜モジュール20a〜2
0nの汚染/目詰まり検出条件などが登録されたファイ
ル)の内容が読み出され、各膜モジュール20a〜20
nに対し、可逆的汚染/目詰まり測定処理を行う指示が
登録されているか否かがチェックされる。
【0062】そして、各膜モジュール20a〜20nに
対し、可逆的汚染/目詰まり測定処理を行う指示が登録
されていれば(ステップST3)、制御装置7のCPU
12によって、以下に述べる手順で、可逆的汚染/目詰
まり検出処理が行われる(ステップST4)。
【0063】<可逆的汚染/目詰まり検出処理工程>ま
ず、図5のフローチャートに示すように、制御装置7の
CPU12によって、ハードディスク機構13に登録さ
れている計測設定ファイルの内容が参照されて、可逆的
汚染/目詰まり測定処理を行う際、各膜モジュール20
a〜20nの膜を水に浸漬させた状態で、可逆的汚染/
目詰まり測定処理を行う指示が登録されている場合には
(ステップST11)、各膜モジュール20a〜20n
に原水2の供給開始を示す制御信号が生成され、これが
膜ろ過装置5に供給される。
【0064】これにより、原水ポンプ22がオン状態に
されて、この原水ポンプ22によって加圧された原水2
が原水ポンプ22→ろ過ラインユニット入口側電磁弁2
3→各ろ過入口側電磁弁24a〜24n→各膜モジュー
ル20a〜20nなる経路で、各膜モジュール20a〜
20nに供給されて、各膜モジュール20a〜20n内
に原水2の充填が開始される。
【0065】そして、各膜モジュール20a〜20nに
充分な原水2が満たされ、各膜モジュール20a〜20
n→各ろ過出口側電磁弁26a〜26n→ろ過ラインユ
ニット出口側電磁弁27なる経路で、ろ過水4が流出し
始めたとき、原水ポンプ22がオフ状態にされるととも
に、ろ過ラインユニット入口側電磁弁23と、各ろ過入
口側電磁弁24a〜24nと、各ろ過出口側電磁弁26
a〜26nと、ろ過ラインユニット出口側電磁弁27と
が閉状態にされる(ステップST12)。
【0066】一方、前記計測設定ファイルに各膜モジュ
ール20a〜20nの膜を浸漬させない状態で、各膜モ
ジュール20a〜20nの可逆的汚染/目詰まり測定処
理を行う指示が登録されている場合には(ステップST
11)、制御装置7のCPU12によって、スキップ指
示を示す制御信号が生成され、各膜モジュール20a〜
20nに対する、上述した原水供給処理はスキップされ
る。
【0067】この後、制御装置7のCPU12によっ
て、可逆的汚染/目詰まり測定処理開始を示す制御信号
が生成され、これが膜ろ過装置5に供給される。
【0068】これにより、ろ過ラインユニット入口側電
磁弁23と、ろ過ラインユニット出口側電磁弁27と、
各ろ過入口側電磁弁24a〜24nと、各ろ過出口側電
磁弁26a〜26nとが閉状態にされるとともに、排水
排気用電磁弁33a〜33nが開状態にされた後、ガス
パージ用電磁弁39と、各ガス注入用電磁弁42a〜4
2nとが開状態にされて、空気源(図示は省略する)か
ら供給される加圧された空気43がガス圧力調整弁37
で、所定の圧力に調整された後、ガス圧力調整弁37→
ガスパージ用電磁弁39→各ガス注入用電磁弁42a〜
42n→各膜モジュール20a〜20nなる経路で、各
膜モジュール20a〜20n内に導かれ、各膜モジュー
ル20a〜20n内が急速加圧される。
【0069】この後、各膜モジュール20a〜20n内
の圧力を計測しているガス圧力計41の値が予め設定さ
れている一定値に達したとき、ガスパージ用電磁弁39
が閉状態にされるとともに、ガス注入用電磁弁42a〜
42nのうち、測定予定となっている膜モジュール以外
のガス注入電磁弁、例えば膜モジュール20aが測定予
定であれば、膜モジュール20b〜20nに対応するガ
ス注入電磁弁42b〜42nが閉状態にされた後、ガス
流量用電磁弁38が開状態にされて、ガス圧力調節計3
7で、圧力調整された空気43がマスフローガス微量流
量計40→ガス注入用電磁弁42a→膜モジュール20
aなる経路で、膜モジュール20aに導かれ、この膜モ
ジュール20a内の圧力が順次、高められる。
【0070】また、この動作と並行し、マスフローガス
微量流量計40によって、膜モジュール20aの漏れガ
ス流量の計測処理が行われるとともに、ガス圧力計41
によって、膜モジュール20aに印加された空気43の
圧力計測処理が行われ、各計測処理で得られた計測結果
が状態検知信号として、制御装置7に供給され、ハード
ディスク機構13の計測設定ファイルに登録される。
【0071】そして、ガス圧力計41によって計測され
た膜モジュール20aのガス圧力が所定の値になったと
き、制御装置7のCPU12によって、膜モジュール2
0aに対する測定が終了したと判定されて、膜モジュー
ル20aに対する計測終了を示す制御信号が生成され
て、膜モジュール20aに対応するガス注入用電磁弁4
2aが閉状態にされ、この膜モジュール20aに対する
漏れガス流量の計測が終了する(ステップST13)。
【0072】この後、残りの膜モジュール20b〜20
nに対応する各ガス注入用電磁弁42b〜42nが1つ
ずつ順次、開状態にされ、上述した手順と同様な手順
で、各膜モジュール20b〜20nの漏れガス流量、印
加ガス圧力の計測が行われ、各計測処理で得られた計測
結果が状態検知信号として、制御装置7に供給され、ハ
ードディスク機構13の計測設定ファイルに登録される
(ステップST13、ST14)。
【0073】そして、全ての膜モジュール20a〜20
nに対する漏れガス流量、印加ガス圧力の計測が終了し
たとき(ステップST14)、制御装置7のCPU12
によって、可逆的汚染/目詰まり測定処理終了を示す制
御信号が生成され、各排水排気電磁弁33a〜33n
と、各ガス注入用電磁弁42a〜42nとが閉状態にさ
れ、可逆的汚染/目詰まり検出処理工程が終了する。
【0074】<離脱再生処理工程>この後、図4のフロ
ーチャートに示すように、制御装置7のCPU12によ
って、離脱再生開始を示す制御信号が生成され、これが
膜ろ過装置5に供給される。
【0075】これにより、ろ過ラインユニット入口側電
磁弁23と、各ろ過入口電磁弁24a〜24nと、各ろ
過出口側電磁弁26a〜26nと、ろ過ラインユニット
出口側電磁弁27とが閉状態にされた後、各エアバブリ
ング用電磁弁36a〜36nが開状態にされて、空気源
から供給される、圧縮された空気43が各エアバブリン
グ用電磁弁36a〜36n→各膜モジュール20a〜2
0nなる経路で、各膜モジュール20a〜20nの下部
側に導かれて、各膜モジュール20a〜20n内に設け
られた膜がエアバブリングされるとともに、このエアバ
ブリング処理で使用された後の空気(排気ガス)43が
各膜モジュール20a〜20n→排水排水用電磁弁33
a〜33n→外部なる経路で、外部へ排気される。
【0076】そして、エアバブリング処理工程が終了す
ると、各エアバグリング用電磁弁36a〜36nが閉状
態にされるとともに、逆洗ポンプ29がオン状態にされ
て、この逆洗ポンプ29から吐出される逆洗浄水10が
逆洗ポンプ29→各逆洗入口側電磁弁30a〜30n→
各膜モジュール20a〜20nなる経路で、各膜モジュ
ール20a〜20n内に導かれ、各膜モジュール20a
〜20n内に設けられた膜が逆洗浄されるとともに、こ
の逆洗浄処理で各膜から除去された汚泥を含む排水3が
各膜モジュール20a〜20n→各排水排気用電磁弁3
3a〜33n→外部なる経路で、外部へ排出される。
【0077】次いで、各膜モジュール20a〜20nに
対する逆洗浄処理が終了すると、各排水排気用電磁弁3
3a〜33nと、各逆洗入口側電磁弁30a〜30nと
が閉状態にされるとともに、逆洗ポンプ11がOFF状
態された後、各ドレン用電磁弁34a〜34nが開状態
にされて、各膜モジュール20a〜20n内に残ってい
る、汚泥を含む逆洗浄水31が排水3として、各膜モジ
ュール20a〜20n→各ドレイン用電磁弁34a〜3
4n→外部なる経路で、外部に排出され、この排水処理
が完了した時点で、各ドレン用電磁弁34a〜34nが
閉状態にされて、離脱再生処理工程が終了する(ステッ
プST5)。
【0078】<不可逆的汚染/目詰まり検出処理工程の
有無判定>この後、図4のフローチャートに示すよう
に、制御装置7のCPU12によって、ハードディスク
機構13に登録されている計測設定ファイルの内容が読
み出されて、各膜モジュール20a〜20nに対し、不
可逆的汚染/目詰まり測定処理を行う指示が登録されて
いるか否かがチェックされる。
【0079】そして、各膜モジュール20a〜20nに
対し、不可逆的汚染/目詰まり測定処理を行う指示が登
録されていれば(ステップST6)、制御装置7のCP
U12によって、以下に述べる手順で、不可逆的汚染/
目詰まり検出処理が行われる(ステップST7)。
【0080】<不可逆的汚染/目詰まり検出処理工程>
まず、図5のフローチャートに示すように、制御装置7
のCPU12によって、ハードディスク機構13に登録
されている計測設定ファイルの内容が参照されて、不可
逆的汚染/目詰まり測定処理を行う際、各膜モジュール
20a〜20nの膜を水に浸漬させた状態で、不可逆的
汚染/目詰まり測定処理を行う指示が登録されているか
否かがチェックされ、各膜モジュール20a〜20nの
膜を水に浸漬させた状態で、不可逆的汚染/目詰まり測
定処理を行う指示が登録されていれば(ステップST1
1)、各膜モジュール20a〜20nに原水2の供給開
始を示す制御信号が生成され、これが膜ろ過装置5に供
給される。
【0081】これにより、原水ポンプ22がオン状態に
されて、この原水ポンプ22によって加圧された原水2
が原水ポンプ22→ろ過ラインユニット入口側電磁弁2
3→各ろ過入口側電磁弁24a〜24n→各膜モジュー
ル20a〜20nなる経路で、各膜モジュール20a〜
20nに供給されて、各膜モジュール20a〜20n内
に原水2の充填が開始される。
【0082】そして、これらに各膜モジュール20a〜
20nに充分な原水2が満たされ、各膜モジュール20
a〜20n→各ろ過出口側電磁弁26a〜26n→ろ過
ラインユニット出口側電磁弁27なる経路で、ろ過水4
が流出し始めたとき、原水ポンプ22がオフ状態にされ
るとともに、ろ過ラインユニット入口側電磁弁23と、
各ろ過入口側電磁弁24a〜24nと、各ろ過出口側電
磁弁26a〜26nと、ろ過ラインユニット出口側電磁
弁27とが閉状態にされる(ステップST12)。
【0083】また、ハードディスク機構13に登録され
ている計測設定ファイルの内容をチェックしたとき、こ
の計測設定ファイルに各膜モジュール20a〜20nの
膜を浸漬させない状態で、各膜モジュール20a〜20
nの不可逆的汚染/目詰まり測定処理を行う指示が登録
されていれば(ステップST11)、制御装置7のCP
U12によって、スキップ指示を示す制御信号が生成さ
れ、各膜モジュール20a〜20nに対する、上述した
原水供給処理がスキップされる。
【0084】この後、制御装置7のCPU12によっ
て、不可逆的汚染/目詰まり測定処理開始を示す制御信
号が生成され、これが膜ろ過装置5に供給される。
【0085】これにより、ろ過ラインユニット入口側電
磁弁23と、ろ過ラインユニット出口側電磁弁27と、
各ろ過入口側電磁弁24a〜24nと、各ろ過出口側電
磁弁26a〜26nとが閉状態にされるとともに、排水
排気用電磁弁33a〜33nが開状態にされた後、ガス
パージ用電磁弁39と、各ガス注入用電磁弁42a〜4
2nとが開状態にされて、空気源(図示は省略する)か
ら供給される加圧された空気43がガス圧力調整弁37
で、所定の圧力に調整された後、ガス圧力調整弁37→
ガスパージ用電磁弁39→各ガス注入用電磁弁42a〜
42n→各膜モジュール20a〜20nなる経路で、各
膜モジュール20a〜20n内に導かれ、各膜モジュー
ル20a〜20n内が急速加圧される。
【0086】この後、各膜モジュール20a〜20n内
の圧力を計測しているガス圧力計41の値が予め設定さ
れている一定値に達したとき、ガスパージ用電磁弁39
が閉状態にされるとともに、ガス注入用電磁弁42a〜
42nのうち、測定予定となっている膜モジュール以外
のガス注入電磁弁、例えば膜モジュール20aが測定予
定であれば、膜モジュール20b〜20nに対応するガ
ス注入電磁弁42b〜42nが閉状態にされた後、ガス
流量用電磁弁38が開状態にされて、ガス圧力調節計3
7で、圧力調整された空気43がマスフローガス微量流
量計40→ガス注入用電磁弁42a→膜モジュール20
aなる経路で、膜モジュール20aに導かれ、この膜モ
ジュール20a内の圧力が順次、高められる。
【0087】また、この動作と並行し、マスフローガス
微量流量計40によって、膜モジュール20aの漏れガ
ス流量の計測処理が行われるとともに、ガス圧力計41
によって、膜モジュール20aに印加された空気43の
圧力計測処理が行われ、各計測処理で得られた計測結果
が状態検知信号として、制御装置7に供給され、ハード
ディスク機構13の計測設定ファイルに登録される。
【0088】そして、ガス圧力計41によって計測され
た膜モジュール20aのガス圧力が所定の値になったと
き、制御装置7のCPU12によって、膜モジュール2
0aに対する測定が終了したと判定されて、膜モジュー
ル20aに対する計測終了を示す制御信号が生成され
て、膜モジュール20aに対応するガス注入用電磁弁4
2aが閉状態にされ、この膜モジュール20aに対する
漏れガス流量の計測が終了する(ステップST13)。
【0089】この後、残りの膜モジュール20b〜20
nに対応する各ガス注入用電磁弁42b〜42nが1つ
ずつ順次、開状態にされ、上述した手順と同様な手順
で、各膜モジュール20b〜20nの漏れガス流量、印
加ガス圧力の計測が行われ、各計測処理で得られた計測
結果が状態検知信号として、制御装置7に供給され、ハ
ードディスク機構13の計測設定ファイルに登録される
(ステップST13、ST14)。
【0090】そして、全ての膜モジュール20a〜20
nに対する漏れガス流量、印加ガス圧力の計測が終了し
たとき(ステップST14)、制御装置7のCPU12
によって、不可逆的汚染/目詰まり測定処理終了を示す
制御信号が生成され、各排水排気電磁弁33a〜33n
と、各ガス注入用電磁弁42a〜42nとが閉状態にさ
れ、不可逆的汚染/目詰まり検出処理工程が終了する。
【0091】《判定処理》この後、制御装置7のCPU
12によって、ハードディスク機構13に登録されてい
る計測設定ファイルの内容が読み出されて、各膜モジュ
ール20a〜20nのバブルポイント変化内容が求めら
れるとともに、次式の演算式で、各膜モジュール20a
〜20nの可逆的目詰まり率が求められた後、各膜モジ
ュール20a〜20nの可逆的目詰まり率と、予め設定
されている膜交換しきい値とが各々、比較される。
【0092】そして、バブルポイント変化内容が所定の
条件を満たすとともに、可逆的目詰まり率が膜交換しき
い値を下回る膜モジュールが存在するとき、この膜モジ
ュールに対する、膜交換時期が来たと判定され、これら
の解析結果、判定結果に基づき、表示装置8のCRT1
8に、「膜の交換時期」と、「交換対象となる膜モジュ
ールの位置」とが表示され、これがオペレータに知らせ
る。
【0093】
【数3】 A=(P−P)×100/A …(3) 但し、A:可逆的目詰まり率 P:離脱再生処理を行った後の漏れガス流量 P:離脱再生処理を行う前の漏れガス流量 また、この動作と並行し、制御装置7のCPU12によ
って、ハードディスク機構13に登録されている計測設
定ファイルの内容が読み出されて、次式の演算式で、各
膜モジュール20a〜20nの不可逆的目詰まり率が求
められた後、各膜モジュール20a〜20nの不可逆的
目詰まり率と、予め設定されている薬液再生しきい値と
が各々、比較される。
【0094】そして、バブルポイント変化内容が所定の
条件を満たすとともに、不可逆的目詰まり率が薬液再生
しきい値を越えている膜モジュールが存在するとき、こ
の膜モジュールに対し、薬液再生処理を行う時期が来た
と判定され、これらの解析結果、判定結果に基づき、表
示装置8のCRT18に、「現在の汚染、目詰まり率=
*%」と、「薬液再生処理の時期」と、「汚染、目詰ま
りを起こしている膜モジュールの位置」とが表示され、
これがオペレータに知らせる。
【0095】
【数4】 A=(P−P)×100/P …(4) 但し、A:不可逆的目詰まり率 P:新品時の漏れガス流量 P:離脱再生処理を行った後の漏れガス流量 また、この表示動作と並行し、制御装置7のCPU12
によって、上述した各解析結果、判定結果に応じた音声
データが生成され、表示装置8のスピーカ19から「汚
染・目詰まり率は*%です。」、「*日後に薬液再生処
理をして下さい」、「膜モジュールNo.*〜No.*
*を2週間以内に交換して下さい。」、「膜モジュール
No.*〜No.**の汚染・目詰まりし始めていま
す。」などという音声が出され、オペレータに知らされ
る。
【0096】《実施の形態の効果》このように、この実
施の形態では、ろ過を行うことにより、目詰まりを起こ
し、膜孔径がみかけ上小さくなり、ガス漏れが生じる最
小印加ガス圧力(バブルポイント)がプラス側へシフト
する現象、または漏れガス流量が減少する現象に着目し
て、各膜モジュール20a〜20nの膜を水に浸漬させ
た状態で、ろ過方向と逆方向から空気43を導入した際
の印加ガス圧と漏れガス流量とを測定し、これらの経時
変化から各膜モジュール20a〜20n内に設けられた
膜の目詰まり程度を定量化するようにした。このため、
各膜モジュール20a〜20nの汚染有無、目詰まり有
無を判定し、この判定結果に基づき、適切な薬液処理時
期を予測し、各膜モジュール20a〜20nを最適な状
態に保持させることができる。
【0097】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nの膜を浸漬させない状態で、すなわ
ち、各膜モジュール20a〜20n内の滞留水を外部へ
排出して、膜表面から水を取り除き、膜の漏れガス流量
を増大させた状態で、ろ過方向と逆方向から空気43を
導入した際の印加ガス圧と漏れガス流量とを測定し得る
ようにした。このため、各膜モジュール20a〜20n
の種類に応じた最適な感度で、各膜モジュール20a〜
20nの目詰まり程度を定量的に評価させることがで
き、これによって測定感度を向上させながら、各膜モジ
ュール20a〜20nの汚染有無、目詰まり有無を判定
することができるとともに、この判定結果に基づき、適
切な薬液処理時期を予測し、各膜モジュール20a〜2
0nを最適な状態に保持させることができる。
【0098】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nに導入するガスとして、空気、ヘリウ
ムガス、窒素などのうち、膜の膜孔径などに応じた質量
を持つガスを選択し得るようにしているので、膜の種類
に応じた最適な測定を行うことができる。
【0099】これにより、運転コストを低く抑えるとき
には、最もコストが低い空気を使用して、各膜モジュー
ル20a〜20nの漏れガス流量を計測させることがで
き、また高い感度を得るとき、あるいは各膜モジュール
20a〜20nの膜孔径が小さいときなどには、質量が
小さく、同一条件下での漏れガス流量が他のガスより多
い、ヘリウムガスを使用して、測定感度を向上させなが
ら、各膜モジュール20a〜20nの汚染有無、目詰ま
り有無を判定することができるとともに、この判定結果
に基づき、適切な薬液処理時期を予測し、各膜モジュー
ル20a〜20nの膜を最適な状態に保持させることが
できる。
【0100】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nに空気43を導入して、その漏れガス
流量に基づき、各膜モジュール20a〜20nの汚染状
態、目詰まり状態を判定するようにしているので、10
μm以下の膜孔径を有する膜を使用した各膜モジュール
20a〜20nでも、各膜モジュール20a〜20nの
膜が汚染されているか否か、目詰まりを起こしているか
否かを判定して、適切な薬液処理時期を予測し、各膜モ
ジュール20a〜20nの膜を最適な状態に保持させる
ことができる。
【0101】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nの逆洗処理を行って、各膜モジュール
20a〜20nの再生処理を終了した後、各膜モジュー
ル20a〜20nに対する通水を停止したまま、印加ガ
ス流量を測定して、各膜モジュール20a〜20nの不
可逆的な汚染状態、目詰まり状態を検出するようにし
た。このため、各膜モジュール20a〜20nを逆洗処
理しただけでは除去できないような、膜内部に固定され
た不純物による膜の目詰まりを検出して、適切な薬液処
理時期を予測し、各膜モジュール20a〜20nの膜を
最適な状態に保持させることができる。
【0102】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nの逆洗浄処理を行う前に、各膜モジュ
ール20a〜20nに対する通水を停止したまま、印加
ガス流量を測定して、各膜モジュール20a〜20nの
可逆的な汚染状態、目詰まり状態を検出するようにし
た。このため、膜表面に捕捉され、各膜モジュール20
a〜20nを逆洗浄処理しただけで、除去することがで
きる、膜の目詰まり検出して、適切な膜交換時期を予測
し、各膜モジュール20a〜20nの膜を最適な状態に
保持させることができる。
【0103】また、この実施の形態では、ガス漏れが生
ずる最小印加ガス圧力、いわゆるバブルポイント値の変
化特性、あるいは一定印加ガス圧力下で生じる漏れガス
流量の変化率特性に基づき、各膜モジュール20a〜2
0nの膜が汚染されているか否か、あるいは目詰まりを
起こしているか否かを判定するようにした。このため、
マスフローガス微量流量計40などを使用した簡単な測
定装置で、各膜モジュール20a〜20nの目詰まり有
無を検出して、適切な薬液処理時期を予測し、各膜モジ
ュール20a〜20nの膜を最適な状態に保持させるこ
とができる。
【0104】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nが新品のときから現在に至るまでの各
タイミングで測定された各膜モジュール20a〜20n
の漏れガス流量変化などに基づき、各膜モジュール20
a〜20nの目詰まり程度を定量的化して、これを表示
させるようにした。このため、各膜モジュール20a〜
20nのろ過能力の低下経過などを知らせて、最適な運
転管理を行わせ、各膜モジュール20a〜20nの膜を
最適な状態に保持させることができる。
【0105】また、この実施の形態では、各膜モジュー
ル20a〜20nの漏れガス流量に基づき、各膜モジュ
ール20a〜20nの目詰まり状況を定量的に表示する
とともに、薬液再生処理の時期、各膜モジュール20a
〜20nの劣化状態、各膜モジュール20a〜20nの
交換の時期などを予測して、これを表示するようにし
た。このため、最適な運転管理を行わせ、各膜モジュー
ル20a〜20nの膜を最適な状態に保持させることが
できる。
【0106】さらに、この実施の形態では、測定した個
々の膜モジュール20a〜20nの目詰まり状態を定量
的に表示する機能と、膜メンテナンス予測時期などを運
転員に音声、画像で知らせる機能と、目詰まりを起こし
た膜モジュール20a〜20nの位置を画面上に表示す
る機能とを持たせるようにしているので、これによって
最適な運転管理を行わせ、各膜モジュール20a〜20
nの膜を最適な状態に保持させることができる。
【0107】《他の実施の形態》また、上述した実施の
形態では、各膜モジュール20a〜20nの汚染、目詰
まりが検出されたとき、汚染の内容、目詰まりの内容、
膜交換時期、薬液洗浄時期などを表示装置8に表示させ
て、オペレータに知らせ、最適な処置をとらせるように
しているが、これら汚染の内容、目詰まりの内容に基づ
き、逆洗再生の間隔を自動的に調整して、汚染、目詰ま
りの進行を抑えさせるようにしても良い。
【0108】これにより、各膜モジュール20a〜20
nの寿命を延ばし、効率の良い運転を実現させることが
できる。
【0109】また、上述した実施の形態では、各膜モジ
ュール20a〜20nを1つずつ、選択して、漏れガス
流量を計測するようにしているが、各膜モジュール20
a〜20nをグループ単位、例えば5個単位で運転して
いるとき、同じグループに属する各膜モジュールがほぼ
同一の汚染内容、目詰まり内容になり、各膜モジュール
20a〜20nについて個々に、漏れガス流量を計測す
る必要が無いことから、各グループ毎に、漏れガス流量
を計測しても良い。
【0110】この場合、1回目の漏れガス流量計測で、
各膜モジュール20a〜20nに所定圧力の空気43を
充填させた後、各ガス注入用電磁弁42a〜42eを開
状態にしたまま、残りの各ガス注入用電磁弁42f〜4
2nを閉状態にして、各膜モジュール20a〜20eの
漏れガス流量を計測し、これら膜モジュール20a〜2
0eの漏れガス流量が終了した時点で、各ガス注入用電
磁弁42a〜42eを閉状態にして、次のグループに属
する膜モジュール20f〜20jに対応するガス注入用
電磁弁42f〜42jを開状態にして、各膜モジュール
20f〜20jの漏れガス流量を計測するという手順
で、各膜モジュール20a〜20nの漏れガス流量をグ
ループ単位で計測する。
【0111】これによって、各膜モジュール20a〜2
0nをグループ単位で運転しているとき、各グループ毎
に、適切な薬液処理時期などを予測して、各膜モジュー
ル20a〜20nの膜を最適な状態に保持させることが
できる。
【0112】また、上述した実施の形態では、各膜モジ
ュール20a〜20n使用開始時の測定データを初期値
として、運転開始から定期的に記録された測定値との
差、あるいは経時変化から膜の目詰まりを検出して、適
切な薬液処理時期を予測し、各膜モジュール20a〜2
0nの膜を最適な状態に保持させるようにしているが、
各膜モジュール20a〜20nに対し、薬液再生処理を
行った直後の測定データを初期値とし、定期的に記録さ
れた測定値との差、あるいは経時変化から膜の目詰まり
を検出するようにしても良い。
【0113】このようにしても、各膜モジュール20a
〜20nの汚染状態、目詰まり状態を正確に把握して、
適切な薬液処理時期を予測し、各膜モジュール20a〜
20nの膜を最適な状態に保持させることができる。
【0114】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、請
求項1では、ろ過を行うことにより、目詰まりを起こ
し、膜孔径がみかけ上小さくなり、ガス漏れが生じる最
小印加ガス圧力(バブルポイント)がプラス側へシフト
する現象、または漏れガス流量が減少する現象に着目し
て、膜を水に浸漬させた状態で、ろ過方向と逆方向から
気体を導入した際の印加ガス圧と漏れガス流量とを測定
し、これらの経時変化から膜の目詰まり程度を定量化し
て、膜の汚染有無、目詰まり有無を判定し、この判定結
果に基づき、適切な薬液処理時期を予測し、膜ユニット
の膜を最適な状態に保持させることができる。
【0115】請求項2では、膜ユニット内の滞留水を外
部へ排出して、膜表面から水を取り除き、膜の漏れガス
流量を増大させた状態で、ろ過方向と逆方向から気体を
導入した際の印加ガス圧と漏れガス流量とを測定し、こ
れらの経時変化から膜の目詰まり程度を定量的に評価す
ることにより、測定感度を向上させながら、膜の汚染有
無、目詰まり有無を判定することができるとともに、こ
の判定結果に基づき、適切な薬液処理時期を予測し、膜
ユニットの膜を最適な状態に保持させることができる。
【0116】請求項3では、膜ユニットに導入するガス
として、空気、ヘリウムガス、窒素などのうち、膜の膜
孔径などに応じた質量を持つガスを選択することがで
き、これによって膜の種類に応じた最適な測定を行うこ
とができ、また質量が小さく、同一条件下での漏れガス
流量が他のガスより多い、ヘリウムガスを使用すること
により、測定感度を向上させながら、膜の汚染有無、目
詰まり有無を判定することができるとともに、この判定
結果に基づき、適切な薬液処理時期を予測し、膜ユニッ
トの膜を最適な状態に保持させることができる。
【0117】請求項4では、10μm以下の膜孔径を有
する膜を使用した膜ユニットでも、この膜が汚染されて
いるか否か、目詰まりを起こしているか否かを判定し
て、適切な薬液処理時期を予測し、膜ユニットの膜を最
適な状態に保持させることができる。
【0118】請求項5では、膜ユニットの逆洗処理を行
って、膜ユニットの再生処理を終了した後、膜ユニット
に対する通水を停止したまま、印加ガス流量を測定する
ことにより、膜ユニットを逆洗処理しただけでは、除去
できない、膜内部に固定された不純物による膜の不可逆
的な目詰まり検出して、適切な薬液処理時期を予測し、
膜ユニットの膜を最適な状態に保持させることができ
る。
【0119】請求項6では、膜ユニットの逆洗浄処理を
行う前に、膜ユニットに対する通水を停止したまま、印
加ガス流量を測定することにより、膜表面に捕捉され、
膜ユニットを逆洗浄処理しただけで、除去することがで
きる、膜の可逆的な目詰まり検出して、適切な膜交換時
期を予測し、膜ユニットの膜を最適な状態に保持させる
ことができる。
【0120】請求項7では、ガス漏れが生ずる最小印加
ガス圧力、いわゆるバブルポイント値の変化特性、ある
いは一定印加ガス圧力下で生じる漏れガス流量の変化率
特性に基づき、膜ユニットの膜が汚染されているか否
か、あるいは目詰まりを起こしているか否かを判定する
ことができ、これによってマスフローガス微量流量計な
どを使用した簡単な測定装置で、膜の目詰まり有無を検
出して、適切な薬液処理時期を予測し、膜ユニットの膜
を最適な状態に保持させることができる。
【0121】請求項8では、膜ユニットの経時変化から
膜の目詰まり程度を定量的に表示させることができると
ともに、膜のメンテナンス時期を予測し、これを表示さ
せて、最適な運転管理を行わせ、膜ユニットの膜を最適
な状態に保持させることができる。
【0122】請求項9では、測定値に基づき、膜ユニッ
トの目詰まり状況を定量的に表示することができるとと
もに、薬液再生処理の時期、膜の劣化状態、膜の交換の
時期などを予測して、最適な運転管理を行わせ、膜ユニ
ットの膜を最適な状態に保持させることができる。
【0123】請求項10では、測定した個々の膜モジュ
ールの目詰まり状態を定量的に表示する機能と、膜メン
テナンス予測時期などを運転員に音声、画像で知らせる
機能と、目詰まりを起こした膜モジュールの位置を画面
上に表示する機能とを持たせることができ、これによっ
て最適な運転管理を行わせ、膜ユニットの膜を最適な状
態に保持させることができる。
【0124】請求項11では、膜ユニットの汚染、目詰
まりが検出されたとき、汚染の内容、目詰まりの内容に
基づき、逆洗再生の間隔を自動的に調整して、汚染、目
詰まりの進行を抑えさせることができ、これによって膜
ユニットの寿命を延ばし、効率の良い運転を実現させる
ことができる。
【0125】請求項12では、膜モジュールを一定数毎
にグループ化した単位で、各グループ毎の漏れガス特性
を検出することにより、検出対象となる膜ユニットがグ
ループ単位で運転されているとき、各グループ毎に、適
切な薬液処理時期を予測して、膜ユニットの膜を最適な
状態に保持させることができる。
【0126】請求項13では、膜ユニット使用開始時の
測定データ、または薬液再生処理直後の測定データを初
期値とし、運転開始から定期的に記録された測定値との
差、あるいは経時変化から膜の目詰まりを検出して、適
切な薬液処理時期を予測し、膜ユニットの膜を最適な状
態に保持させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による膜ろ過システムの実施の形態を示
すブロック図である。
【図2】図1に示す膜濾過装置の全体構成を示すブロッ
ク図である。
【図3】図1に示す膜ろ過装置の詳細な構成例を示すブ
ロック図である。
【図4】図1に示す膜ろ過システムの動作例を示すフロ
ーチャートである。
【図5】図4に示す汚染/目詰まり測定処理の詳細な内
容を示すフローチャートである。
【図6】膜ろ過システムで使用される膜モジュールの特
性を解析するために作った実験プラントを示す概略構成
図である。
【図7】膜モジュールを水に浸漬させたときの漏れガス
流量と、水に浸漬させないときの漏れガス流量とを示す
グラフである。
【図8】同一種類の膜を持つ膜モジュールの各ロット毎
の漏れガス流量特性を計測したときに得られたグラフで
ある。
【図9】膜モジュールに離脱再生処理を行う前の漏れガ
ス流量と、膜モジュールに離脱再生処理を行った後の漏
れガス流量とを示すグラフである。
【図10】膜モジュールが新品のときに得られた漏れガ
ス流量と、膜モジュールにろ過処理と離脱再生処理とを
行った後の漏れガス流量とを示すグラフである。
【符号の説明】
1:膜ろ過システム、2:原水、3:排水、4:ろ過
水、5:膜ろ過装置、6:入力装置、7:制御装置、
8:表示装置、9:キーボード、10:タッチパネル、
11:CPU、12:ROM、13:ハードディスク機
構、14:RAM、15:入力インタフェース、16:
入出力インタフェース、17:ビデオインタフェース、
18:CRT、19:スピーカ、20a〜20n:膜モ
ジュール、21:膜ユニット、22:原水ポンプ、2
3:ろ過ラインユニット入口側電磁弁、24a〜24
n:ろ過入口側電磁弁、25:原水供給ユニット、26
a〜26n:ろ過出口側電磁弁、27:ろ過ラインユニ
ット出口側電磁弁、28:ろ過水取出しユニット、2
9:逆洗ポンプ、30a〜30n:逆洗入口側電磁弁、
31:逆洗浄水、32:逆洗浄水供給ユニット、33a
〜33n:排水排気用電磁弁、34a〜34n:ドレイ
ン用電磁弁、35:排気/排水ユニット、36a〜36
n:エアバブリング用電磁弁、37:ガス圧力調整弁、
38:ガス流量測定用電磁弁、39:ガスパージ用電磁
弁、40:マスフローガス微量流量計、41:ガス圧力
計、42a〜42n:ガス注入用電磁弁、43:空気、
44:空気供給ユニット(気体供給装置)、45:信号
処理部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮島 潮子 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 竹内 賢治 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 中川 敦司 東京都港区芝浦一丁目1番1号 株式会社 東芝本社事務所内 (72)発明者 内田 祥司 東京都港区芝浦一丁目1番1号 株式会社 東芝本社事務所内 Fターム(参考) 4D006 GA02 HA01 KC03 KC14 KC16 KE01P KE06P KE28Q LA03 LA06 LA10

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ろ過対象となる原水を膜ユニット内に導
    き、ろ過水を生成する膜ろ過システムにおいて、 前記膜ユニット内に気体を供給する気体供給装置と、 この気体供給装置により前記膜ユニット内に供給された
    気体の圧力を計測する圧力計と、 前記気体供給装置により前記膜ユニット内に供給された
    気体の流量を計測する流量計と、 前記膜ユニット内の膜を水に浸漬させた状態で、ろ過方
    向と逆方向から気体を導入させて、印加ガス圧力と漏れ
    ガス流量とを測定し、その値から膜の汚染、目詰まり程
    度を定量的に検出、判定する制御装置と、 を備えたことを特徴とする膜ろ過システム。
  2. 【請求項2】 ろ過対象となる原水を膜ユニット内に導
    き、ろ過水を生成する膜ろ過システムにおいて、 前記膜ユニット内に気体を供給する気体供給装置と、 この気体供給装置により前記膜ユニット内に供給された
    気体の圧力を計測する圧力計と、 前記気体供給装置により前記膜ユニット内に供給された
    気体の流量を計測する流量計と、 前記膜ユニット内の膜を水に浸漬することなく水で濡れ
    た状態で、ろ過方向と逆方向から前記膜ユニット内に気
    体を導入させて、印加ガス圧力と漏れガス流量とを測定
    し、その値から前記膜の汚染、目詰まり程度を定量的
    に、検出、判定する制御装置と、 を備えたことを特徴とする膜ろ過システム。
  3. 【請求項3】 請求項1、2のいずれかに記載の膜ろ過
    システムにおいて、前記気体として、空気、ヘリウムガ
    ス、窒素ガスのいずれかを用いる、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載の膜ろ
    過システムにおいて、 前記膜ユニット内に配置される膜として、膜孔径が10
    μm以下の膜を使用する、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載の膜ろ
    過システムにおいて、 前記膜ユニット内の前記膜を逆洗浄して再生処理を終了
    した後、前記膜ユニットへの通水を停止した状態で、前
    記膜の不可逆的な汚染、不可逆的な目詰まりを検出す
    る、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至5のいずれかに記載の膜ろ
    過システムにおいて、 前記膜ユニット内の前記膜を逆洗浄して再生処理を行う
    前、前記膜ユニットへの通水を停止した状態で、前記膜
    の可逆的な汚染、可逆的な目詰まりを検出する、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至6のいずれかに記載の膜ろ
    過システムにおいて、 前記膜ユニットに対する測定値の経時変化を検出する
    際、ガス漏れが生ずる最小印加ガス圧力値の変化率特
    性、あるいは一定印加ガス圧力時における漏れガス流量
    の変化率特性に基づき、前記膜の汚染、目詰まり検出を
    行う、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  8. 【請求項8】 請求項1乃至7のいずれかに記載の膜ろ
    過システムにおいて、 前記膜ユニットに対する測定値の経時変化特性に基づ
    き、前記膜の汚染、目詰まり程度を定量化して、定量結
    果を報知するとともに、前記膜のメンテナンス時期を予
    測して、予測結果を報知する、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の膜ろ過システムにおい
    て、 前記膜のメンテナンス時期として、薬液再生処理の時
    期、膜の交換の時期を用いる、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  10. 【請求項10】 請求項8に記載の膜ろ過システムにお
    いて、 前記膜のメンテナンス時期を報知する手段として、音
    声、または画像を使用し、各膜モジュール単位、各膜グ
    ループ単位で、報知する、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  11. 【請求項11】 請求項1または2に記載の膜ろ過シス
    テムにおいて、 前記膜の汚染、目詰まりが検出されたとき、汚染の内
    容、目詰まりの内容に基づき、逆洗再生の間隔を調整し
    て、汚染、目詰まりの進行を抑える、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  12. 【請求項12】 請求項1または2に記載の膜ろ過シス
    テムにおいて、 前記膜ユニットは、各膜モジュールを所定数毎に、グル
    ープ化して形成され、グループ単位で、膜の不可逆的な
    汚染、不可逆的な目詰まり、可逆的な汚染、可逆的な目
    詰まりを検出する、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
  13. 【請求項13】 請求項1または2に記載の膜ろ過シス
    テムにおいて、 気体を使用して、膜ユニットの汚染、目詰まり検出を行
    うとき、膜ユニットを使用する前の測定データ、または
    薬液によって再生処理した直後の測定データを初期値と
    して、運転開始から定期的に測定データを記録するとと
    もに、各測定データと初期値との差分を求め、各差分の
    経時変化に基づき、前記膜の汚染、目詰まり検出を行
    う、 ことを特徴とする膜ろ過システム。
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