JP2001116919A - 透明導電膜付きカラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
透明導電膜付きカラーフィルタおよびその製造方法Info
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- JP2001116919A JP2001116919A JP29714699A JP29714699A JP2001116919A JP 2001116919 A JP2001116919 A JP 2001116919A JP 29714699 A JP29714699 A JP 29714699A JP 29714699 A JP29714699 A JP 29714699A JP 2001116919 A JP2001116919 A JP 2001116919A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】簡便な方法で得られる、高透過の透明導電膜付
きカラーフィルタとその製造方法の提供。 【解決手段】カラーフィルタ２上に、同じ金属を含有す
る酸化物膜であって屈折率を異にする２つの酸化物膜が
厚さ方向に接して形成され、２つの酸化物膜はカラーフ
ィルタ２側から、１．９超２．５以下の屈折率の導電性
酸化物膜３ａ、１．５以上１．９以下の屈折率の導電性
酸化物膜３ｂである透明導電膜付きカラーフィルタとそ
の製造方法。
きカラーフィルタとその製造方法の提供。 【解決手段】カラーフィルタ２上に、同じ金属を含有す
る酸化物膜であって屈折率を異にする２つの酸化物膜が
厚さ方向に接して形成され、２つの酸化物膜はカラーフ
ィルタ２側から、１．９超２．５以下の屈折率の導電性
酸化物膜３ａ、１．５以上１．９以下の屈折率の導電性
酸化物膜３ｂである透明導電膜付きカラーフィルタとそ
の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明導電膜付きカ
ラーフィルタとその製造方法に関する。
ラーフィルタとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイパネル等に使用される
カラーフィルタには、可視光線が高透過率であることが
求められており、カラーフィルタ上に形成される透明導
電膜には、１）カラーフィルタの可視光線の透過率を下
げないためにより高透過率であること、２）消費電力を
小さくするためにより低いシート抵抗であることが求め
られる。
カラーフィルタには、可視光線が高透過率であることが
求められており、カラーフィルタ上に形成される透明導
電膜には、１）カラーフィルタの可視光線の透過率を下
げないためにより高透過率であること、２）消費電力を
小さくするためにより低いシート抵抗であることが求め
られる。
【０００３】しかし、透過率を高くするために膜厚を薄
くすれば、シート抵抗が高くなり、反対に膜厚を厚くす
れば、シート抵抗は低くなるが、透過率が低くなる。透
明導電膜形成時に、基板温度を２５０℃以上の高温で成
膜すると高透過率化と低抵抗化を両立させ得るが、カラ
ーフィルタのカラーレジスト材料が耐熱性に乏しいた
め、成膜中に脱ガスを生じて抵抗が高くなったり、カラ
ーフィルタにしわが生じたりする問題があった。また、
成膜後にアニールする方法では、製造工程が複雑とな
り、コスト高となっていた。
くすれば、シート抵抗が高くなり、反対に膜厚を厚くす
れば、シート抵抗は低くなるが、透過率が低くなる。透
明導電膜形成時に、基板温度を２５０℃以上の高温で成
膜すると高透過率化と低抵抗化を両立させ得るが、カラ
ーフィルタのカラーレジスト材料が耐熱性に乏しいた
め、成膜中に脱ガスを生じて抵抗が高くなったり、カラ
ーフィルタにしわが生じたりする問題があった。また、
成膜後にアニールする方法では、製造工程が複雑とな
り、コスト高となっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、簡便な方法
で得られる、高透過率の透明導電膜付きカラーフィルタ
およびその製造方法の提供を目的とする。
で得られる、高透過率の透明導電膜付きカラーフィルタ
およびその製造方法の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、カラーフィル
タ上に透明導電膜が形成された透明導電膜付きカラーフ
ィルタにおいて、該透明導電膜は、厚さ方向に接して積
層された２層の酸化物膜を含み、該２層の酸化物膜は同
じ金属を含有する酸化物膜であって、かつ該２層の酸化
物膜のカラーフィルタ側は１．９超２．５以下の屈折率
の導電性酸化物高屈折率膜（以下、単に高屈折率膜とい
う）からなり、該カラーフィルタと反対側は１．５以上
１．９以下の屈折率の導電性酸化物低屈折率膜（以下、
単に低屈折率膜という）からなる透明導電膜付きカラー
フィルタを提供する。
タ上に透明導電膜が形成された透明導電膜付きカラーフ
ィルタにおいて、該透明導電膜は、厚さ方向に接して積
層された２層の酸化物膜を含み、該２層の酸化物膜は同
じ金属を含有する酸化物膜であって、かつ該２層の酸化
物膜のカラーフィルタ側は１．９超２．５以下の屈折率
の導電性酸化物高屈折率膜（以下、単に高屈折率膜とい
う）からなり、該カラーフィルタと反対側は１．５以上
１．９以下の屈折率の導電性酸化物低屈折率膜（以下、
単に低屈折率膜という）からなる透明導電膜付きカラー
フィルタを提供する。
【０００６】図２はガラス基板１、カラーフィルタ２、
透明導電膜（１層構成）３を備えた従来の透明導電膜付
きカラーフィルタの断面模式図を、図１はガラス基板
１、カラーフィルタ２、高屈折率膜３ａと低屈折率膜３
ｂとを含む透明導電膜（２層構成）３を備えた本発明の
透明導電膜付きカラーフィルタの断面模式図である。
透明導電膜（１層構成）３を備えた従来の透明導電膜付
きカラーフィルタの断面模式図を、図１はガラス基板
１、カラーフィルタ２、高屈折率膜３ａと低屈折率膜３
ｂとを含む透明導電膜（２層構成）３を備えた本発明の
透明導電膜付きカラーフィルタの断面模式図である。
【０００７】高屈折率膜の屈折率（波長５５０ｎｍにお
ける屈折率）は、特に１．９５以上２．５以下であるこ
とが好ましい。また、低屈折率膜の屈折率（波長５５０
ｎｍにおける屈折率）は、特に１．５以上１．８５以下
であることが好ましい。
ける屈折率）は、特に１．９５以上２．５以下であるこ
とが好ましい。また、低屈折率膜の屈折率（波長５５０
ｎｍにおける屈折率）は、特に１．５以上１．８５以下
であることが好ましい。
【０００８】高屈折率膜３ａと低屈折率膜３ｂの膜厚
（幾何学的膜厚）はそれぞれ、高屈折率膜３ａが４０〜
６５ｎｍ、低屈折率膜３ｂが８５〜１１０ｎｍであるこ
とが好ましい。高屈折率膜３ａと低屈折率膜３ｂの膜厚
の合計は１００〜２００ｎｍであることが好ましい。
（幾何学的膜厚）はそれぞれ、高屈折率膜３ａが４０〜
６５ｎｍ、低屈折率膜３ｂが８５〜１１０ｎｍであるこ
とが好ましい。高屈折率膜３ａと低屈折率膜３ｂの膜厚
の合計は１００〜２００ｎｍであることが好ましい。
【０００９】高屈折率膜と低屈折率膜は同じ金属を含有
する酸化物膜である。例えば、高屈折率膜が酸化スズ膜
のとき低屈折率膜も酸化スズ膜であり、高屈折率膜が酸
化インジウム膜のとき低屈折率膜も酸化インジウム膜で
あり、高屈折率膜が酸化亜鉛膜のとき低屈折率膜も酸化
亜鉛膜であり、高屈折率膜が酸化スズを含有する酸化イ
ンジウム（ＩＴＯ）膜のとき低屈折率膜もＩＴＯ膜であ
る。これら列記した酸化物膜には、導電性向上等のため
に他の成分が微量含まれていてもよい。高屈折率膜と低
屈折率膜は特にＩＴＯ膜であることが好ましい。ＩＴＯ
膜の場合、例えば酸化スズの含有量は高屈折率膜と低屈
折率膜とで異なった含有量とされる。
する酸化物膜である。例えば、高屈折率膜が酸化スズ膜
のとき低屈折率膜も酸化スズ膜であり、高屈折率膜が酸
化インジウム膜のとき低屈折率膜も酸化インジウム膜で
あり、高屈折率膜が酸化亜鉛膜のとき低屈折率膜も酸化
亜鉛膜であり、高屈折率膜が酸化スズを含有する酸化イ
ンジウム（ＩＴＯ）膜のとき低屈折率膜もＩＴＯ膜であ
る。これら列記した酸化物膜には、導電性向上等のため
に他の成分が微量含まれていてもよい。高屈折率膜と低
屈折率膜は特にＩＴＯ膜であることが好ましい。ＩＴＯ
膜の場合、例えば酸化スズの含有量は高屈折率膜と低屈
折率膜とで異なった含有量とされる。
【００１０】本発明において、カラーフィルタと高屈折
率膜との間に、耐熱性や耐薬品性向上のために樹脂膜
（例えばエポキシ樹脂膜）等の膜を設けてもよい。本発
明の透明導電膜付きカラーフィルタのシート抵抗は３０
Ω／□以下であることが好ましい。
率膜との間に、耐熱性や耐薬品性向上のために樹脂膜
（例えばエポキシ樹脂膜）等の膜を設けてもよい。本発
明の透明導電膜付きカラーフィルタのシート抵抗は３０
Ω／□以下であることが好ましい。
【００１１】本発明は、また、カラーフィルタ上に透明
導電膜が形成された透明導電膜付きカラーフィルタの製
造方法において、該透明導電膜として、カラーフィルタ
上に、屈折率が１．９超２．５以下の導電性酸化物高屈
折率膜と、該導電性酸化物高屈折率膜に接して導電性酸
化物高屈折率膜と同じ金属を含有する金属酸化物膜であ
って屈折率が１．５以上１．９以下の導電性酸化物低屈
折率膜を順次形成する透明導電膜付きカラーフィルタの
製造方法を提供する。
導電膜が形成された透明導電膜付きカラーフィルタの製
造方法において、該透明導電膜として、カラーフィルタ
上に、屈折率が１．９超２．５以下の導電性酸化物高屈
折率膜と、該導電性酸化物高屈折率膜に接して導電性酸
化物高屈折率膜と同じ金属を含有する金属酸化物膜であ
って屈折率が１．５以上１．９以下の導電性酸化物低屈
折率膜を順次形成する透明導電膜付きカラーフィルタの
製造方法を提供する。
【００１２】特に、高屈折率膜および低屈折率膜は、Ｉ
ＴＯターゲットによるスパッタ法により成膜されたＩＴ
Ｏ膜であることが好ましい。ＩＴＯターゲットとしては
酸化スズが（酸化スズと酸化インジウムとの総量に対し
て）５〜１５重量％含有されたものが好ましい。
ＴＯターゲットによるスパッタ法により成膜されたＩＴ
Ｏ膜であることが好ましい。ＩＴＯターゲットとしては
酸化スズが（酸化スズと酸化インジウムとの総量に対し
て）５〜１５重量％含有されたものが好ましい。
【００１３】前記した高屈折率膜と低屈折率膜をスパッ
タ法により成膜する際、ＩＴＯターゲットとしては同じ
組成のものを用い、真空チャンバ内の条件を制御するこ
とによって所望の屈折率を有する２層の屈折率膜が得ら
れるようにしてもよい。この場合には、真空チャンバ内
に導入する酸素等のガスの量を制御することにより、膜
中の酸素含有量を最適範囲に制御することが好ましい。
また、別の方法として、組成の異なる２種のＩＴＯター
ゲットを用いて所望の屈折率を有する２層の屈折率膜が
得られるようにしてもよい。
タ法により成膜する際、ＩＴＯターゲットとしては同じ
組成のものを用い、真空チャンバ内の条件を制御するこ
とによって所望の屈折率を有する２層の屈折率膜が得ら
れるようにしてもよい。この場合には、真空チャンバ内
に導入する酸素等のガスの量を制御することにより、膜
中の酸素含有量を最適範囲に制御することが好ましい。
また、別の方法として、組成の異なる２種のＩＴＯター
ゲットを用いて所望の屈折率を有する２層の屈折率膜が
得られるようにしてもよい。
【００１４】また、カラーフィルタから発生するガスを
抑える観点から、高屈折率膜の成膜時の温度を低屈折率
膜の成膜時の温度と比べて低い温度とすることが好まし
い。また、カラーフィルタから発生するガスを抑える観
点から、高屈折率膜の成膜時の雰囲気中の酸素分圧を低
屈折率膜の成膜時の雰囲気中の酸素分圧より高くするこ
とが好ましい。また、低抵抗化の観点から、低屈折率膜
の成膜時の温度は１８０〜２３０℃とすることが好まし
い。
抑える観点から、高屈折率膜の成膜時の温度を低屈折率
膜の成膜時の温度と比べて低い温度とすることが好まし
い。また、カラーフィルタから発生するガスを抑える観
点から、高屈折率膜の成膜時の雰囲気中の酸素分圧を低
屈折率膜の成膜時の雰囲気中の酸素分圧より高くするこ
とが好ましい。また、低抵抗化の観点から、低屈折率膜
の成膜時の温度は１８０〜２３０℃とすることが好まし
い。
【００１５】
【実施例】（例１）ガラス基板１に顔料分散法によりカ
ラーフィルタ２を形成した。次いで、カラーフィルタ上
に、酸化スズが１０重量％含有されたＩＴＯターゲット
を用い、マグネトロンスパッタ法によって、基板温度６
０℃で酸素分圧を５．０％にして、膜厚約６０ｎｍのＩ
ＴＯからなる高屈折率膜３ａ（以下、ＩＴＯ膜３ａとい
う）を形成した。次に、同じＩＴＯターゲットを用い、
マグネトロンスパッタ法によって、基板温度１９０℃で
酸素分圧を０．４％にして、膜厚約９０ｎｍのＩＴＯか
らなる低屈折率膜３ｂ（以下、ＩＴＯ膜３ｂという）を
形成し、図１に示すような透明導電膜付きカラーフィル
タを得た。
ラーフィルタ２を形成した。次いで、カラーフィルタ上
に、酸化スズが１０重量％含有されたＩＴＯターゲット
を用い、マグネトロンスパッタ法によって、基板温度６
０℃で酸素分圧を５．０％にして、膜厚約６０ｎｍのＩ
ＴＯからなる高屈折率膜３ａ（以下、ＩＴＯ膜３ａとい
う）を形成した。次に、同じＩＴＯターゲットを用い、
マグネトロンスパッタ法によって、基板温度１９０℃で
酸素分圧を０．４％にして、膜厚約９０ｎｍのＩＴＯか
らなる低屈折率膜３ｂ（以下、ＩＴＯ膜３ｂという）を
形成し、図１に示すような透明導電膜付きカラーフィル
タを得た。
【００１６】得られた透明導電膜付きカラーフィルタの
ＩＴＯ膜３ａおよびＩＴＯ膜３ｂの屈折率を分光エリプ
ソメトリ（波長５５０ｎｍ）で調べたところ、ＩＴＯ膜
３ａの屈折率は２．０、ＩＴＯ膜３ｂの屈折率は１．８
であった。ＩＴＯ膜３ａおよびＩＴＯ膜３ｂの屈折率差
と膜厚により光学干渉による反射防止効果が発現され
た。
ＩＴＯ膜３ａおよびＩＴＯ膜３ｂの屈折率を分光エリプ
ソメトリ（波長５５０ｎｍ）で調べたところ、ＩＴＯ膜
３ａの屈折率は２．０、ＩＴＯ膜３ｂの屈折率は１．８
であった。ＩＴＯ膜３ａおよびＩＴＯ膜３ｂの屈折率差
と膜厚により光学干渉による反射防止効果が発現され
た。
【００１７】得られた透明導電膜付きカラーフィルタの
２層のＩＴＯ膜からなる透明導電膜について分光透過率
を測定した。測定に際しては、カラーフィルタがない部
分、すなわち、ガラス基板上に直接ＩＴＯ膜が形成され
ている部分でＩＴＯ膜の分光透過率を測定した。また、
測定には自記分光光度計（（株）日立製作所製Ｕ−４０
００）を用い、ガラス基板をリファレンスとして測定
し、ガラス基板の波長５５０ｎｍにおける透過率を１０
０％とした。結果を図３に示す。波長５５０ｎｍの付近
ではリファレンスであるガラス基板の透過率よりも高い
結果となった。実用上は、波長５５０ｎｍでリファレン
スであるガラス基板の透過率（１００％）以上となるこ
とが好ましい。
２層のＩＴＯ膜からなる透明導電膜について分光透過率
を測定した。測定に際しては、カラーフィルタがない部
分、すなわち、ガラス基板上に直接ＩＴＯ膜が形成され
ている部分でＩＴＯ膜の分光透過率を測定した。また、
測定には自記分光光度計（（株）日立製作所製Ｕ−４０
００）を用い、ガラス基板をリファレンスとして測定
し、ガラス基板の波長５５０ｎｍにおける透過率を１０
０％とした。結果を図３に示す。波長５５０ｎｍの付近
ではリファレンスであるガラス基板の透過率よりも高い
結果となった。実用上は、波長５５０ｎｍでリファレン
スであるガラス基板の透過率（１００％）以上となるこ
とが好ましい。
【００１８】また、得られた透明導電膜付きカラーフィ
ルタの２層のＩＴＯ膜からなる透明導電膜について分光
反射率を測定した。測定に際しては、カラーフィルタが
ない部分、すなわち、ガラス基板上に直接ＩＴＯ膜が形
成されている部分でＩＴＯ膜の分光反射率を測定した。
また、測定には前記自記分光光度計を用い、ガラス基板
をリファレンスとして１０度の正反射による可視域波長
の反射スペクトルを測定した。このスペクトルには非膜
面側のガラス基板の反射率も含まれる。また、ガラス基
板の波長５５０ｎｍにおける反射率は９％である。結果
を図４に示す。波長５５０ｎｍの付近ではリファレンス
であるガラス基板の反射率よりも低い結果となった。実
用上は、波長５５０ｎｍでリファレンスであるガラス基
板の反射率以下となることが好ましい。
ルタの２層のＩＴＯ膜からなる透明導電膜について分光
反射率を測定した。測定に際しては、カラーフィルタが
ない部分、すなわち、ガラス基板上に直接ＩＴＯ膜が形
成されている部分でＩＴＯ膜の分光反射率を測定した。
また、測定には前記自記分光光度計を用い、ガラス基板
をリファレンスとして１０度の正反射による可視域波長
の反射スペクトルを測定した。このスペクトルには非膜
面側のガラス基板の反射率も含まれる。また、ガラス基
板の波長５５０ｎｍにおける反射率は９％である。結果
を図４に示す。波長５５０ｎｍの付近ではリファレンス
であるガラス基板の反射率よりも低い結果となった。実
用上は、波長５５０ｎｍでリファレンスであるガラス基
板の反射率以下となることが好ましい。
【００１９】次に、得られた透明導電膜付きカラーフィ
ルタについて、色度（明度、彩度）、シート抵抗および
カラーフィルタの外観を評価した。色度についてはＣＩ
Ｅ１９３１ＸＹＺ表色系を用い、基準光源はＣ光源を用
いて評価した。測定に際しては、大塚電子（株）製測光
システム（ＭＣＰＤ２０００）を用い、ガラス基板をリ
ファレンスとした。明度は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色の色度で
決まるホワイトのＹ値のことであり透過率の指標とな
る。彩度は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色の色度で決まる色純度の
ことである。座標点から計算される三角形の面積値で表
される。シート抵抗は四探針測定機にて測定した。
ルタについて、色度（明度、彩度）、シート抵抗および
カラーフィルタの外観を評価した。色度についてはＣＩ
Ｅ１９３１ＸＹＺ表色系を用い、基準光源はＣ光源を用
いて評価した。測定に際しては、大塚電子（株）製測光
システム（ＭＣＰＤ２０００）を用い、ガラス基板をリ
ファレンスとした。明度は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色の色度で
決まるホワイトのＹ値のことであり透過率の指標とな
る。彩度は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色の色度で決まる色純度の
ことである。座標点から計算される三角形の面積値で表
される。シート抵抗は四探針測定機にて測定した。
【００２０】その結果、本発明の透明導電膜付きカラー
フィルタにおいては、彩度（なお、本明細書中で用いる
彩度の値はナショナルテレビジョンシステムコミッティ
（ＮＴＣＳ）で規格化された値、すなわち、テレビを１
００としたときの値である。）が４５のとき、明度は３
５．３であった。本例の透明導電膜付きカラーフィルタ
の彩度と明度の関係は図５のようになり、透過率は実用
上充分であると判断される。また、シート抵抗は１２Ω
／□であり、カラーフィルタにしわは確認されなかっ
た。
フィルタにおいては、彩度（なお、本明細書中で用いる
彩度の値はナショナルテレビジョンシステムコミッティ
（ＮＴＣＳ）で規格化された値、すなわち、テレビを１
００としたときの値である。）が４５のとき、明度は３
５．３であった。本例の透明導電膜付きカラーフィルタ
の彩度と明度の関係は図５のようになり、透過率は実用
上充分であると判断される。また、シート抵抗は１２Ω
／□であり、カラーフィルタにしわは確認されなかっ
た。
【００２１】（例２（比較例））２層のＩＴＯ膜（３
ａ、３ｂ）を成膜するかわりに、膜厚約１５０ｎｍの１
層のみのＩＴＯ膜３を成膜したこと以外は例１と同様に
して図２に示すような透明導電膜付きカラーフィルタを
作成した。なお、ＩＴＯ膜の成膜条件は、基板温度１９
０℃で酸素分圧を０．４％とした。また、ＩＴＯ膜成膜
前のカラーフィルタ付きガラス基板の色度は例１と同じ
である。
ａ、３ｂ）を成膜するかわりに、膜厚約１５０ｎｍの１
層のみのＩＴＯ膜３を成膜したこと以外は例１と同様に
して図２に示すような透明導電膜付きカラーフィルタを
作成した。なお、ＩＴＯ膜の成膜条件は、基板温度１９
０℃で酸素分圧を０．４％とした。また、ＩＴＯ膜成膜
前のカラーフィルタ付きガラス基板の色度は例１と同じ
である。
【００２２】得られた透明導電膜付きカラーフィルタの
ＩＴＯ膜３の屈折率を分光エリプソメトリ（波長５５０
ｎｍ）で調べたところ、ＩＴＯ膜３の屈折率は１．８で
あった。例１と同様にして得られた透明導電膜付きカラ
ーフィルタのＩＴＯ膜について分光透過率を測定した。
結果を図３に示す。波長５５０ｎｍの付近ではリファレ
ンスであるガラス基板の透過率（１００％）よりも低い
結果となった。また、例１と同様にして得られた透明導
電膜付きカラーフィルタのＩＴＯ膜について分光反射率
を測定した。結果を図４に示す。波長５５０ｎｍの付近
ではリファレンスであるガラス基板の反射率よりも高い
結果となった。
ＩＴＯ膜３の屈折率を分光エリプソメトリ（波長５５０
ｎｍ）で調べたところ、ＩＴＯ膜３の屈折率は１．８で
あった。例１と同様にして得られた透明導電膜付きカラ
ーフィルタのＩＴＯ膜について分光透過率を測定した。
結果を図３に示す。波長５５０ｎｍの付近ではリファレ
ンスであるガラス基板の透過率（１００％）よりも低い
結果となった。また、例１と同様にして得られた透明導
電膜付きカラーフィルタのＩＴＯ膜について分光反射率
を測定した。結果を図４に示す。波長５５０ｎｍの付近
ではリファレンスであるガラス基板の反射率よりも高い
結果となった。
【００２３】次に、得られた透明導電膜付きカラーフィ
ルタについて例１と同様に色度（明度、彩度）、シート
抵抗およびカラーフィルタの外観を評価した。その結
果、本例の透明導電膜付きカラーフィルタにおいては、
彩度が４５のとき、明度は３４．５であった。本例の透
明導電膜付きカラーフィルタの彩度と明度の関係は図５
のようになり、例１の直線よりも左側に位置し、例１に
比べ透過率が低いことが判る。また、シート抵抗は８Ω
／□であり、カラーフィルタにしわは確認されなかっ
た。
ルタについて例１と同様に色度（明度、彩度）、シート
抵抗およびカラーフィルタの外観を評価した。その結
果、本例の透明導電膜付きカラーフィルタにおいては、
彩度が４５のとき、明度は３４．５であった。本例の透
明導電膜付きカラーフィルタの彩度と明度の関係は図５
のようになり、例１の直線よりも左側に位置し、例１に
比べ透過率が低いことが判る。また、シート抵抗は８Ω
／□であり、カラーフィルタにしわは確認されなかっ
た。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、簡便な構成、方法で、
高透過率、低抵抗、外観良好な透明導電膜付きカラーフ
ィルタおよびその製造方法が得られる。
高透過率、低抵抗、外観良好な透明導電膜付きカラーフ
ィルタおよびその製造方法が得られる。
【図１】本発明の透明導電膜付きカラーフィルタの断面
模式図。
模式図。
【図２】従来例の透明導電膜付きカラーフィルタの断面
模式図。
模式図。
【図３】透明導電膜付きカラーフィルタのＩＴＯ膜の分
光透過率を示すグラフ。
光透過率を示すグラフ。
【図４】透明導電膜付きカラーフィルタのＩＴＯ膜の分
光反射率を示すグラフ。
光反射率を示すグラフ。
【図５】例１および例２における彩度と明度の関係を示
すグラフ。
すグラフ。
１：ガラス基板 ２：カラーフィルタ ３：透明導電膜 ３ａ：高屈折率膜 ３ｂ：低屈折率膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BB02 BB08 BB26 BB44 2H091 FA02Y GA03 LA03 2H092 GA17 GA27 HA03 HA04 MA05 NA01 NA25 PA08 2K009 AA05 BB02 CC03 DD04 5G307 FA01 FB01 FC09 FC10
Claims (4)
- 【請求項１】カラーフィルタ上に透明導電膜が形成され
た透明導電膜付きカラーフィルタにおいて、該透明導電
膜は、厚さ方向に接して積層された２層の酸化物膜を含
み、該２層の酸化物膜は同じ金属を含有する酸化物膜で
あって、かつ該２層の酸化物膜のカラーフィルタ側は
１．９超２．５以下の屈折率の導電性酸化物高屈折率膜
からなり、該カラーフィルタと反対側は１．５以上１．
９以下の屈折率の導電性酸化物低屈折率膜からなる透明
導電膜付きカラーフィルタ。 - 【請求項２】前記透明導電膜を構成する２層の酸化物膜
は、酸化スズを含有する酸化インジウム膜である請求項
１記載の透明導電膜付きカラーフィルタ。 - 【請求項３】前記導電性酸化物高屈折率膜の膜厚は４０
〜６５ｎｍであり、前記導電性酸化物低屈折率膜の膜厚
は８５〜１１０ｎｍである請求項１または２記載の透明
導電膜付きカラーフィルタ。 - 【請求項４】カラーフィルタ上に透明導電膜が形成され
た透明導電膜付きカラーフィルタの製造方法において、
該透明導電膜として、カラーフィルタ上に、屈折率が
１．９超２．５以下の導電性酸化物高屈折率膜と、該導
電性酸化物高屈折率膜に接して導電性酸化物高屈折率膜
と同じ金属を含有する金属酸化物膜であって屈折率が
１．５以上１．９以下の導電性酸化物低屈折率膜を順次
形成する透明導電膜付きカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29714699A JP2001116919A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 透明導電膜付きカラーフィルタおよびその製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29714699A JP2001116919A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 透明導電膜付きカラーフィルタおよびその製造方法 |
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|---|---|
| JP2001116919A true JP2001116919A (ja) | 2001-04-27 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP29714699A Withdrawn JP2001116919A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 透明導電膜付きカラーフィルタおよびその製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2001116919A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN110928071A (zh) * | 2019-12-06 | 2020-03-27 | 深圳市康盛光电科技有限公司 | 一种彩色调光膜用的彩色导电膜的制备方法 |
-
1999
- 1999-10-19 JP JP29714699A patent/JP2001116919A/ja not_active Withdrawn
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