JP2001116903A - 反射防止部材 - Google Patents
反射防止部材Info
- Publication number
- JP2001116903A JP2001116903A JP29704399A JP29704399A JP2001116903A JP 2001116903 A JP2001116903 A JP 2001116903A JP 29704399 A JP29704399 A JP 29704399A JP 29704399 A JP29704399 A JP 29704399A JP 2001116903 A JP2001116903 A JP 2001116903A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive
- refractive index
- index layer
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Abstract
(57)【要約】
指紋拭き取り性等の防汚性能に優れ、なおかつ静電気防
止機能を付与した防汚層を有する反射防止部材を提供す
ること。 【解決手段】基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層を有する反射防止部材において、最上層の低屈折
率層の上に撥水層または防汚層を設け、その上に静電気
防止層を設けたことを特徴とする。
止機能を付与した防汚層を有する反射防止部材を提供す
ること。 【解決手段】基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層を有する反射防止部材において、最上層の低屈折
率層の上に撥水層または防汚層を設け、その上に静電気
防止層を設けたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレー用な
どの各種基材の表面に反射防止機能を持たせるための反
射防止部材に関し、特に表面に撥水層や防汚層を有する
反射防止部材に関する。
どの各種基材の表面に反射防止機能を持たせるための反
射防止部材に関し、特に表面に撥水層や防汚層を有する
反射防止部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、前記用途に用いる反射防止部材と
しては、レンズ等の反射防止膜付き光学部材では、汗、
指紋等による汚れが付着しやすく、一度付着した汚れを
除去することは困難であった。
しては、レンズ等の反射防止膜付き光学部材では、汗、
指紋等による汚れが付着しやすく、一度付着した汚れを
除去することは困難であった。
【０００３】これらの問題を解決する手段として、フル
オロアルキルシラン等の薄膜を用いた防汚層あるいは撥
水層が考案されている。例えば特開平−２１５９０５号
公報には真空蒸着法を用いて形成するフルオロアルキル
シラザンの撥水層が、特開平６−１２２７７８号公報に
はプラズマＣＶＤ法を用いて形成するフルオロアルキル
シランの撥水層が、特開平８−２０９１１８号公報には
フッ素化合物とオルガノポリシロキサンの混合物からな
る防汚層が、特開平９−６１６０５号公報にはエーテル
結合を有する柔軟な分子構造を持つフッ素化合物を用い
た防汚層などが開示されている。
オロアルキルシラン等の薄膜を用いた防汚層あるいは撥
水層が考案されている。例えば特開平−２１５９０５号
公報には真空蒸着法を用いて形成するフルオロアルキル
シラザンの撥水層が、特開平６−１２２７７８号公報に
はプラズマＣＶＤ法を用いて形成するフルオロアルキル
シランの撥水層が、特開平８−２０９１１８号公報には
フッ素化合物とオルガノポリシロキサンの混合物からな
る防汚層が、特開平９−６１６０５号公報にはエーテル
結合を有する柔軟な分子構造を持つフッ素化合物を用い
た防汚層などが開示されている。
【０００４】しかしながら、前記の撥水層或いは防汚層
は、付着した水滴や指紋等の油汚れ等の拭き取り性能向
上には効果があるものの、拭き取る行為自体によって基
材表面に発生した静電気によって、塵、ほこり等の異物
を吸い寄せる欠点があった。特に基材がポリエステルフ
ィルムやポリアセチルセルロースフィルムなどのフィル
ム基材の場合は静電気帯電しやすいため、汚れ方が顕著
であった。
は、付着した水滴や指紋等の油汚れ等の拭き取り性能向
上には効果があるものの、拭き取る行為自体によって基
材表面に発生した静電気によって、塵、ほこり等の異物
を吸い寄せる欠点があった。特に基材がポリエステルフ
ィルムやポリアセチルセルロースフィルムなどのフィル
ム基材の場合は静電気帯電しやすいため、汚れ方が顕著
であった。
【０００５】特にＣＲＴ用途の反射防止部材において
は、反射防止層の高屈折率材料として導電性のＩＴＯ層
を利用すること、電子銃による静電気を防止し、なおか
つ電磁波シールド性を持たせる積層体の構成は公知であ
るが、それ以外の用途、例えばＬＣＤやメガネレンズ等
では、それ自体からの静電気や電磁波放射は少ないた
め、特に静電気対策は施されていなかった。
は、反射防止層の高屈折率材料として導電性のＩＴＯ層
を利用すること、電子銃による静電気を防止し、なおか
つ電磁波シールド性を持たせる積層体の構成は公知であ
るが、それ以外の用途、例えばＬＣＤやメガネレンズ等
では、それ自体からの静電気や電磁波放射は少ないた
め、特に静電気対策は施されていなかった。
【０００６】しかし、防汚性能に関する要求が高まり、
表面滑り性のよい防汚材料を使うことで指紋拭き取り性
などの防汚性能は格段に向上したが、同時に静電気帯電
を起こしやすい部材となってしまった。
表面滑り性のよい防汚材料を使うことで指紋拭き取り性
などの防汚性能は格段に向上したが、同時に静電気帯電
を起こしやすい部材となってしまった。
【０００７】ＣＲＴ用途の反射防止部材のように反射防
止層の高屈折率材料として導電性のＩＴＯ層を設ければ
上記問題は解決されるが、製造の容易さ、製造コスト、
透明性、信頼性等の問題を考慮すれば、より簡易的に上
記問題を解決する手段が求められている。
止層の高屈折率材料として導電性のＩＴＯ層を設ければ
上記問題は解決されるが、製造の容易さ、製造コスト、
透明性、信頼性等の問題を考慮すれば、より簡易的に上
記問題を解決する手段が求められている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものであり、その課題と
するところは、指紋拭き取り性等の防汚性能に優れ、な
おかつ静電気防止機能を付与した防汚層を提供すること
にある。
題点を解決するためになされたものであり、その課題と
するところは、指紋拭き取り性等の防汚性能に優れ、な
おかつ静電気防止機能を付与した防汚層を提供すること
にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明はこの課題を解決
するために、基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層を有する反射防止部材において、最上層の低屈折
率層の上に撥水層または防汚層を設け、その上に静電気
防止層を設けたことを特徴とする反射防止部材を提供す
る。また、前記最上層の低屈折率層の上に撥水材料また
は防汚材料と、静電気防止剤の混合材料からなる層を設
けたこと、表面静電気電位が５０００Ｖ以下であること
を特徴とする反射防止部材を提供する。
するために、基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層を有する反射防止部材において、最上層の低屈折
率層の上に撥水層または防汚層を設け、その上に静電気
防止層を設けたことを特徴とする反射防止部材を提供す
る。また、前記最上層の低屈折率層の上に撥水材料また
は防汚材料と、静電気防止剤の混合材料からなる層を設
けたこと、表面静電気電位が５０００Ｖ以下であること
を特徴とする反射防止部材を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に基づき詳細
に説明する。図１に本発明の一実施例の断面の構造を示
す。基材１の上にハードコート層２、高屈折率層３ａと
低屈折率層３ｂを交互に積層した反射防止層３、防汚層
４、静電気防止層５が設けられてなる。
に説明する。図１に本発明の一実施例の断面の構造を示
す。基材１の上にハードコート層２、高屈折率層３ａと
低屈折率層３ｂを交互に積層した反射防止層３、防汚層
４、静電気防止層５が設けられてなる。
【００１１】基材１としては、プラスチック、ガラスか
らなるディスブレー用部材あるいはメガネレンズやポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリアセチルセルロース
等のフィルム基材など、目的・用途により適宜選択され
る。
らなるディスブレー用部材あるいはメガネレンズやポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリアセチルセルロース
等のフィルム基材など、目的・用途により適宜選択され
る。
【００１２】ハードコート層２としては、アクリル系や
シリコン系の樹脂材料を用いる。紫外線硬化や熱硬化法
を用いて３〜７μｍの厚さに塗工する。このハードコー
ト層に平均粒径０．０１〜３μｍの透明や粒子を分散さ
せて、アンチグレアと呼ばれる光拡散性の処理を施すこ
ともできる。
シリコン系の樹脂材料を用いる。紫外線硬化や熱硬化法
を用いて３〜７μｍの厚さに塗工する。このハードコー
ト層に平均粒径０．０１〜３μｍの透明や粒子を分散さ
せて、アンチグレアと呼ばれる光拡散性の処理を施すこ
ともできる。
【００１３】反射防止層３の高屈折材料としては、屈折
率ｎｈが１．８０以上のものが使用でき、例えば、酸化
チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、ＩＴＯ等が挙
げられる。
率ｎｈが１．８０以上のものが使用でき、例えば、酸化
チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、ＩＴＯ等が挙
げられる。
【００１４】低屈折材料としては、屈折率ｎｈが１．６
０以下のものが使用でき、例えば、酸化珪素、フッ化マ
グネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等が挙
げられる。
０以下のものが使用でき、例えば、酸化珪素、フッ化マ
グネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等が挙
げられる。
【００１５】これらの材料は、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法等を用いて成膜するこ
とができる。各層の厚さは光学膜厚で１０〜２００ｎｍ
が好適である。
ング法、イオンプレーティング法等を用いて成膜するこ
とができる。各層の厚さは光学膜厚で１０〜２００ｎｍ
が好適である。
【００１６】防汚層４に用いる防汚材料としては、下記
フッ素系化合物もしくはこれらの混合物が使用できる。
フッ素系化合物もしくはこれらの混合物が使用できる。
【００１７】＜フッ素系化合物＞ ・パーフルオロアルキルシラン ＣＦ3(ＣＦ2)ｎ (ＣＨ2)ｍＳｉ（ＯＲ）3 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数、Ｒはアルキル基を
表す。） ・パーフルオロアルキルシラザン ＣＦ3(ＣＦ2)ｎ (ＣＨ2)ｍＳｉ（ＮＨ）1.5 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数を表す。） ・上記パーフルオロアルキルシランあるいはパーフルオ
ロアルキルシラザンと上記オルガノポリシロキサンとの
混合物
表す。） ・パーフルオロアルキルシラザン ＣＦ3(ＣＦ2)ｎ (ＣＨ2)ｍＳｉ（ＮＨ）1.5 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数を表す。） ・上記パーフルオロアルキルシランあるいはパーフルオ
ロアルキルシラザンと上記オルガノポリシロキサンとの
混合物
【００１８】
【化１】
【００１９】・パーフルオロポリエーテルシラン
【００２０】
【化２】
【００２１】静電気防止層５に用いる静電気防止剤とし
ては、シリコーンオイルやイオン系あるいはフッ素系の
界面活性剤等があげられる。
ては、シリコーンオイルやイオン系あるいはフッ素系の
界面活性剤等があげられる。
【００２２】本発明は上記構成の他、防汚層４の代わり
に撥水層を設けてもよい。撥水層に用いる防汚材料とし
ては、上記パーフルオロアルキルシランやパーフルオロ
アルキルシラザンを用いる場合もあるし、その他、ＴＥ
ＯＳ、ＨＭＤＳＯ等のメチル基含有の有機材料等が使用
可能である。
に撥水層を設けてもよい。撥水層に用いる防汚材料とし
ては、上記パーフルオロアルキルシランやパーフルオロ
アルキルシラザンを用いる場合もあるし、その他、ＴＥ
ＯＳ、ＨＭＤＳＯ等のメチル基含有の有機材料等が使用
可能である。
【００２３】また、上記最上層の低屈折率層の上に設け
る層としては、撥水層に用いる材料、防汚層に用いる材
料または防汚層に用いる材料と、静電気防止剤の混合材
料となる層を設けても良い。
る層としては、撥水層に用いる材料、防汚層に用いる材
料または防汚層に用いる材料と、静電気防止剤の混合材
料となる層を設けても良い。
【００２４】本発明の反射防止部材の製造方法として
は、これらの材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等を用いて、
単層あるいは積層して成膜する。形状膜厚は５〜１０ｎ
ｍ程度が好適である。
は、これらの材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等を用いて、
単層あるいは積層して成膜する。形状膜厚は５〜１０ｎ
ｍ程度が好適である。
【００２５】以上のようにしてなる本発明の反射防止部
材は、その表面静電気電位が５０００Ｖ以下となること
が好ましい。表面静電気電位が５０００Ｖより多いと、
塵、ほこり等の異物の吸引が目立つため好ましくない。
材は、その表面静電気電位が５０００Ｖ以下となること
が好ましい。表面静電気電位が５０００Ｖより多いと、
塵、ほこり等の異物の吸引が目立つため好ましくない。
【００２６】
【実施例】＜実施例１＞透明プラスチックフィルム基材
１のトリアセチルセルロース８０μｍ上に、ハードコー
ト層２として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法
により形成した後、反射防止層３の高屈折率層としてＴ
ｉＯ2 を、低屈折率層としてＳｉＯ2 を真空蒸着法によ
り交互に積層し、更にフッ素化合物（化１）とフッ素系
の界面活性剤を真空蒸着法により順に積層した。
１のトリアセチルセルロース８０μｍ上に、ハードコー
ト層２として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法
により形成した後、反射防止層３の高屈折率層としてＴ
ｉＯ2 を、低屈折率層としてＳｉＯ2 を真空蒸着法によ
り交互に積層し、更にフッ素化合物（化１）とフッ素系
の界面活性剤を真空蒸着法により順に積層した。
【００２７】この反射防止部材は良好な指紋拭き取り性
を示し、更に市販のティッシュペーカーにより、１ｋｇ
の荷重で往復１００回の拭き取り試験を行った後ただち
に表面電位を測定したところ、−１００〜１０００Ｖで
あった。
を示し、更に市販のティッシュペーカーにより、１ｋｇ
の荷重で往復１００回の拭き取り試験を行った後ただち
に表面電位を測定したところ、−１００〜１０００Ｖで
あった。
【００２８】＜実施例２＞透明プラスチックフィルム基
材１のトリアセチルセルロース８０μｍ上に、ハードコ
ート層２として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化
法により形成した後、反射防止層３の高屈折率層として
ＴｉＯ2 を、低屈折率層としてＳｉＯ2 を真空蒸着法に
より交互に積層し、さらにフッ素化合物（化１）とフッ
素系の界面活性剤の混合物（重量比５：１）を真空蒸着
法により成膜した。この反射防止部材は良好な指紋拭き
取り性を示し、更に市販のティシュぺーパーにより、１
ｋｇの荷重で往復１００回の拭き取り試験を行った後た
だちに表面電位を測定したところ、−１００〜−１００
０Ｖであった。
材１のトリアセチルセルロース８０μｍ上に、ハードコ
ート層２として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化
法により形成した後、反射防止層３の高屈折率層として
ＴｉＯ2 を、低屈折率層としてＳｉＯ2 を真空蒸着法に
より交互に積層し、さらにフッ素化合物（化１）とフッ
素系の界面活性剤の混合物（重量比５：１）を真空蒸着
法により成膜した。この反射防止部材は良好な指紋拭き
取り性を示し、更に市販のティシュぺーパーにより、１
ｋｇの荷重で往復１００回の拭き取り試験を行った後た
だちに表面電位を測定したところ、−１００〜−１００
０Ｖであった。
【００２９】＜比較例＞透明プラスチックフィルム基材
１ノトリアセチルセルロース８０μｍ上に、ハードコー
ト層２として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法
により形成した後、反射防止層３の高屈折率層としてＴ
ｉＯ2 を、低屈折率層としてＳｉＯ2 を真空蒸着法によ
り交互に積層し、更にフッ素化合物（化１）を真空蒸着
法により成膜した。
１ノトリアセチルセルロース８０μｍ上に、ハードコー
ト層２として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法
により形成した後、反射防止層３の高屈折率層としてＴ
ｉＯ2 を、低屈折率層としてＳｉＯ2 を真空蒸着法によ
り交互に積層し、更にフッ素化合物（化１）を真空蒸着
法により成膜した。
【００３０】この反射防止部材は良好な指紋拭き取り性
を示したが、市販のティッシュペーカーにより、１ｋｇ
の荷重で往復１００回の拭き取り試験を行った後ただち
に表面電位を測定したところ、−５０００〜１００００
Ｖを示し、ほこりの付着が目立った。
を示したが、市販のティッシュペーカーにより、１ｋｇ
の荷重で往復１００回の拭き取り試験を行った後ただち
に表面電位を測定したところ、−５０００〜１００００
Ｖを示し、ほこりの付着が目立った。
【００３１】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の反射防
止部材によれば、指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、
なおかつ静電気防止機能を付与した防汚層を提供するこ
とが可能となる。
止部材によれば、指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、
なおかつ静電気防止機能を付与した防汚層を提供するこ
とが可能となる。
【図１】本発明の反射防止部材の一実施例の構造を示す
説明図である。
説明図である。
１ …基材 ２ …ハードコート層 ３ …反射防止層 ３ａ…高屈折率層 ３ｂ…低屈折率層 ４ …防汚層 ５ …静電気防止層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA05 AA06 AA15 BB02 BB24 BB28 CC03 CC24 CC26 CC42 EE03 EE05 4F100 AA20 AA21 AH05 AJ06 AK17 AK25 AK54 AR00B AR00C AR00D AR00E AT00A BA05 BA06 BA07 BA08 BA10A BA10E BA13 EH66 GB41 JB06D JB06E JG03E JL00 JL06D JL06E JN06C JN18B JN18C YY00E 5G067 AA70 DA40
Claims (3)
- 【請求項１】基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層を有する反射防止部材において、最上層の低屈折
率層の上に撥水層または防汚層を設け、その上に静電気
防止層を設けたことを特徴とする反射防止部材。 - 【請求項２】基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層を有する反射防止部材において、最上層の低屈折
率層の上に撥水材料または防汚材料と、静電気防止剤の
混合材料からなる層を設けたことを特徴とする反射防止
部材。 - 【請求項３】基材上の少なくとも片面に、低屈折率の単
層、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した、或いは
中間屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した反射
防止層と撥水層または防汚層を有する反射防止部材にお
いて、表面静電気電位が５０００Ｖ以下であることを特
徴とする反射防止部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29704399A JP2001116903A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 反射防止部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29704399A JP2001116903A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 反射防止部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001116903A true JP2001116903A (ja) | 2001-04-27 |
Family
ID=17841486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29704399A Pending JP2001116903A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 反射防止部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001116903A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003062920A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Sony Corp | 反射防止フィルム |
| WO2006035475A1 (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Jsr Corporation | 積層体およびその製造方法 |
| CN108732656A (zh) * | 2013-05-07 | 2018-11-02 | 康宁股份有限公司 | 具有多层光学膜的浅色耐刮擦制品 |
-
1999
- 1999-10-19 JP JP29704399A patent/JP2001116903A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003062920A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Sony Corp | 反射防止フィルム |
| WO2006035475A1 (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Jsr Corporation | 積層体およびその製造方法 |
| CN108732656A (zh) * | 2013-05-07 | 2018-11-02 | 康宁股份有限公司 | 具有多层光学膜的浅色耐刮擦制品 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3722418B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを利用した光学部材 | |
| JP5927457B2 (ja) | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ | |
| US6319594B1 (en) | Low reflective antistatic hardcoat film | |
| TWI408404B (zh) | 影像裝置 | |
| JPH09258003A (ja) | 防汚性レンズ | |
| TWI771700B (zh) | 可撓式覆蓋視窗 | |
| JPH11258405A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP2005146272A (ja) | 防汚膜被覆樹脂物品の製造方法 | |
| JP2010271479A (ja) | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ | |
| JP2003248102A (ja) | 多層構造の反射防止膜 | |
| JP2005186576A (ja) | 防汚性ハードコート、防汚性基材、防汚導電性基材およびタッチパネル | |
| JPH0236921B2 (ja) | ||
| KR100522832B1 (ko) | 내오염성과 저반사성을 갖는 코팅액 조성물 및 그의제조방법 | |
| JP2005017544A (ja) | 反射防止フィルム、および画像表示装置 | |
| JP2006124417A (ja) | 防汚層形成用組成物および反射防止積層体 | |
| JP3787988B2 (ja) | 反射防止フィルタおよびこの反射防止フィルタを用いた文字画像表示装置 | |
| JP2006171204A (ja) | 光学要素の製造方法 | |
| JP2001116903A (ja) | 反射防止部材 | |
| WO2014017332A1 (ja) | 光学部品 | |
| JPH01309003A (ja) | 撥水性を有する帯電防止物品 | |
| JP2002006103A (ja) | 反射防止フィルム、光学機能性フィルム、及び表示装置 | |
| JPH07151902A (ja) | 干渉縞の発生を防止するハードコート層を有する光学材料用プラスチックフィルム、その製造方法及び反射防止フィルム | |
| JPH1164602A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP3874513B2 (ja) | 反射防止膜及び光学素材 | |
| JPH10195417A (ja) | 防汚膜形成用組成物及び表示素子用フィルター |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060919 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090410 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090428 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090615 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090707 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090831 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091201 |