JP2001111146A - 電磁放射ソースを提供するレーザ構造体を含む物品 - Google Patents
電磁放射ソースを提供するレーザ構造体を含む物品Info
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Abstract
プラスチックレーザを提供すること。 【解決手段】 本発明の構造は、発光ダイオードと、導
波路レーザと、それらの間に配置された基板とを有す
る。この基板は、第1側と第2側とを有する。発光ダイ
オードから放射された光を、基板の第1側で受光し、光
が基板の本体内を第2側に導波されながら集中されて、
これをレーザが受光する。基板を通る間に光が集中する
ことにより、デバイスの効率と低いしきい値パワーを提
供できる。
Description
ザを形成するレーザ構造と、電気的に駆動されるレーザ
発振動作を行うレーザ構造に関する。
半導体(GaAs)に基づいて形成され、通常これらは
電気的に駆動される。これらのレーザは、レーザキャビ
ティ内に注入された電子とフォールの再結合現象を利用
している。これらのレーザの光学的および電気的な要件
は、無機材料が高いキャリア移動度を示すと容易に達成
でき、緊密に関連した材料を用いて大きな屈折率変化を
提供することである。
的に駆動したレーザ発振動作を用いた半導体レーザは、
近年非常に大きな興味を引いている。有機固体レーザ
は、可視スペクトラムの広範囲の波長にわたって、コン
パクトで低コストのレーザソースを提供する。有機レー
ザは、別の研究分野でも影響を及ぼし、有機半導体レー
ザと無機半導体レーザにおける進歩につながっている。
これに関しては、発明者である A.Dodabalapur et al.,
著の“Organic Solid-State Lasers: Past andFutur
e,”SCIENCE Vol. 277 (Sept. 19, 1997), at pp. 1787
-1788, を参照のこと。これらの例には、有機レーザの
例として、色素をドープしたポリマ(dye-doped polyme
rs)の分布フィードバック(distributed feedback:D
FB)と、分布ブラグリフレクタ(distributed Bragg
reflector:DBR)の実現と、InPベースのDFB
レーザとDBRレーザの幅広い使用が含まれる。このよ
うなレーザは、ファブリペロレーザを比較して優れた単
一の周波数操作特性と高速変調特性とを有する。
的に駆動されるレーザ発振操作を実現することは、2つ
の現象から得られる。すなわち(i)量子効率の改善
と、発光ダイオードの動作寿命の改善がかなりの程度で
成功したこと、および(ii)ある種の有機すなわちポ
リマ半導体における、光子ポンプのレーザ発振操作に対
する低いしきい値が得られたことである。これらの条件
は、効率的な有機レーザを提供するために必ずしも十分
ではないが必要なものである。従来のダイオード構造
(ほとんどすべての無機半導体のベースを構成する)
を、有機半導体に適用した際には多くの問題がある。そ
のうちの1つの問題点は、電荷キャリアは、その特性上
ポーラロニック(polaronic)である点である。このポ
ーラロニックはバンドギャップ内に吸収バンドを形成し
てしまう現象である。この吸収バンドは、ダイオード内
に生成されたゲインを消滅させてしまう。有機材料の光
学特性の研究から分かったことは、電荷キャリアはこの
ようなサブギャップ吸収を引き起こすことである。ま
た、最近の研究では、電荷キャリアにより生成された損
失は、光学ゲインに等しいかあるいはそれ以上である。
したがって、これらの損失が光学ゲインに比較すると大
きすぎて無視できない。
は、米国特許第5881089号に開示されている。前
掲の特許は、従来の電気的ポンピング(すなわち電子と
フォールをダイオード構造内に注入すること)によるポ
ンピングを用いない構造体において、電気的にポンピン
グする有機レーザを開示している。有機半導体用に、単
一のキャビティダイオード構造を用いる欠点は、電荷吸
収損失と、キャリア転送特性と光学特性との間のトレー
ドオフである。前掲の特許のデバイスにおいては、電力
は単一デバイス構造内の励起光学放射に変換され、第1
領域は、電流をインコヒレントの光子に変換し、そして
このインコヒレントの光子が、レーザキャビティを含む
第2領域内に結合される。
体レーザデバイスの効率を改善し、新たな材料例えばプ
ラスチックを用いることのできるレーザおよび半導体デ
バイスを提供することである。
オードとポリマ発光ダイオードと、光子励起レーザでも
って、電気的に駆動されるレーザ発振動作を行うのに適
した構造を有するレーザを含む物品を提供する。レーザ
構造は、発光デバイス例えば発光ダイオードとこの発光
ダイオードに近接して配置された基板とレーザとを有す
る。この発光ダイオードは、2つの離間した導電層とそ
れらの間に配置された発光層を有する複数の層を有し、
第1波長のインコヒレントの発光が発光層から放射され
る。この放射を基板が受光し、その本体内でレーザに送
られ、そしてその後レーザが受光する。発光ダイオード
と基板の少なくとも一方は、発光が基板の本体内でレー
ザまで集中してガイドされるように構成される。その後
レーザは、集中した光を受光し、レーザ発振動作用に低
いしきい値でもって光ビームを生成する。
た光の集中は、第1側と第2側と、基板の本体内の少な
くとも2つの異なる領域と、この少なくとも2つの異な
る領域の接合部に近接した光反射インタフェースとを有
する基板により達成できる。この基板は、発光デバイス
に対し、電磁放射の大部分が基板の第1側における2つ
の領域の一方により受光され、この2つの領域のインタ
フェースで内部反射され、基板の本体内から第2側に集
中されるように向けられる。本発明の他の実施例におい
ては、光は、マイクロキャビティ発光ダイオードを有す
るダイオードで集中される。
マ材料でもって使用するのに適した、二重キャビティデ
バイス構造体が得られる。この構造体により電気的に駆
動されるレーザ発振動作が達成され、有機発光ダイオー
ドとポリマ発光ダイオードの両方の励起特性および光子
励起レーザを達成することが可能となる。本明細書にお
いて、「電気的に駆動されるレーザ発振」は、「ダイオ
ードレーザ」の代わりに用いられる。
が示されている。図1において、レーザ構造は、第1側
11と第2側12を有する基板10を有する。発光ダイ
オード20が第1側11の上に形成され、導波路レーザ
30が第2側12の上に形成されている。導波路レーザ
30は、出力カプラ40と組み合わされて、所望の方向
にレーザ放射を向ける。基板10は、ガラスまたはプラ
スチック製で、可視光に対し透明である。1/4波長積
層誘電体層15が、基板10と発光ダイオード20との
間に配置されている。
ド)層22と発光層23と導電(アノード)層24を有
する、有機発光ダイオードを含む。第1導電(カソー
ド)層22、導電(アノード)層24はそれぞれ、カソ
ードとアノードを規定する。導電(アノード)層24
は、半透明で、第1導電(カソード)層22はそうでは
ない。第1導電(カソード)層22、発光層23、導電
(アノード)層24が発光ダイオードを構成する。
イクロキャビティ発光ダイオードで、このような発光ダ
イオードは、A. Dodabalapur et al., 著の“Physics a
nd Applications of Organic Microcavity Light Emitt
ing Diodes,”J. APPL. PHYS. Vol. 80 (12) (Dec. 15,
1996), at pp. 6954-6964, に記載されている。平面状
マイクロキャビティ発光ダイオードを用いる1つの効果
は、放射光の方向性を変えることができることである。
かくして、より多くの光子を順方向(すなわちデバイス
の層の面に対し法線方向)に、ノンキャビティの発光ダ
イオードよりもより多く放射でき、効率的なデバイスが
形成される。図3に、キャビティからの放射スペクトラ
ムとノンキャビティの発光ダイオードからのそれとを比
較をする。
オードのアプリケーションように開発されたものを含
む。かくして、レーザに対し期待される出力パワーと動
作寿命とが予測できる。レーザの発光ダイオードに用い
られる適切な有機材料とポリマ材料は、A. Dodabalapu
r, “Origanic Light Emitting Diodes,”SOLID STATE
COMMUNICATIONS, Vol. 102, No. 2-3, pp. 259-267 (19
97), に開示されている。短い波長(例、500nm)
を放射する材料あるいはそれらの材料の組合せが好まし
い。
ドは、非常に高い内部と外部の量子効率を有するよう製
造することができる。ここで、内部量子効率とは、注入
された電子の内光子に変換されるの電子の部分(割合)
を意味する。外部量子効率とは、デバイス内に注入され
た電子に対するデバイスが励起した光子の比率を意味す
る。4%以上の外部量子効率が有機発光ダイオードに対
し報告されている。これは通常20%以上の内部量子効
率に相当する。これらの高い効率は、比較的低い電流密
度(約1−100mA/cm2)で達成できる。量子効率は通
常、高い電流密度で落ちる。そのため、比較的低い電流
密度(約〜1A/cm2以下)で、これらの発光ダイオード
を動作させるのが好ましいが、高い電流密度も時には必
要となる。
ビティ発光ダイオードの構造を、図1のAに示す。導電
(アノード)層24は、厚さが100nmのインジウムス
ズ酸化物(ITO)を有する。この層は、1/4波長厚
さの積層誘電体層15上にスパッタで堆積される。この
1/4波長積層誘電体層15は、基板の第1側11の上
に交互にスパッタで堆積させたSiO2層とTiO2層と
を含む。全部で5〜9層(2.5〜4.5対の層)が用
いられて、SiO2層は、厚さが92nmで、TiO2層
は、56nmである。図1のAにおいては、5つの1/4
波長積層誘電体層15a...15eが示されている。
SixNyもまた、SiO2と共に1/4波長積層誘電体
層15用に用いることができる。
3a...23dを有し、層23aは15nm厚の銅フタ
ロシアニン製(copper phthalocyanine)で、層23b
は50nm厚で、TAD製で、層23cは40nm厚で、
N,N’−ビス(bis)(3−メチルフェニル(methylp
henyl))−(1,1’−ビフェニル(biphenyl))−
4,4’−ディアミン(diamine)と、層23dは20n
m厚で、Alqである。カソードは、好ましくは薄い
(約1nm)LiF2製の層22aと、比較的厚い(20
0nm)アルミ製の層22bを有し、これが発光ダイオー
ドの上部ミラーを規定する。Alqは、従来の8−ヒド
ロキシクイノリナトアルミ(hydroxyquinolinato alumi
num)と、TADは従来のトゥリフェニル/ディアミン
(triphenyl/diamine)である。他の材料あるいは他の
材料の組合せも、発光ダイオードを製造するのに用いる
ことができる。
が受光し、基板の本体内からレーザまで透過される。本
発明によれば、発光は、第1側11から第2側12に基
板の本体内をガイドされるよう集光される。その後レー
ザは、この集中された光を受光し、レーザ発振用の低し
きい値でもって光ビームを生成する。本発明の一実施例
においては、光の集中は、マイクロキャビティ発光ダイ
オードを有する発光ダイオードで達成できる。本発明の
他の実施例においては光の集中は、内部反射、フォーカ
ッシングおよび/または光の集中用に例えば異なる領域
の光集中機能を有する基板でもって達成できる。本発明
の一実施例においては、平面状のマイクロキャビティ発
光ダイオードが、集光機能を有する基板と共に用いられ
る。
領域14、17と、それらの接合部により規定されたあ
るいはその近傍に形成されたインタフェース16を有
し、そして光が基板の第1側と第2側との間を伝搬する
際に内部反射を引き起こさせるような基板10により、
基板内に組み込むことができる。本発明の一実施例にお
いては、内部反射は、2つの領域14、17の間のイン
タフェース16の上の反射コーティングにより生成され
る。本発明の他の実施例においては、少なくとも第2領
域は、マイクロレンズ、マイクロレンズ列、あるいは光
を内部反射させたり、焦点を合わせるようにするため
に、基板内に組み込まれたグレーティングを含む。本発
明の他の実施例においては、反射表面は、少なくとも2
つの領域14、17の屈折率の変化により生成できる。
により放射された光が、2つの領域の一方(例、受光領
域17)により受光され、その領域内を反射されて、第
2側に伝搬して導波路レーザ30に入射する前に集中さ
れるよう構成される。光の集中は、少なくとも1つのマ
イクロレンズ、あるいは少なくとも第2領域を有するグ
レーティングにより達成できる。別の方法として、レー
ザ上の光の集中は、テーパ状の側を有するほぼ環状の断
面を有する受光領域で達成できる。受光領域17(ハッ
チングで示す)は、第1側11に隣接する広い端部Bか
ら、第2側12に隣接する狭い端部Nとなるように、テ
ーパ状で形成されている。本発明の一実施例において
は、受光領域17は、図1に示すようなアキシコン(ax
icon)すなわち逆コーン形状を構成する。
い端部Bにおける受光領域17の直径は、約0.5mm
で、狭い端部Nの直径は、約30μmである。発光ダイ
オードの長さあるいは直径は、発光ダイオードから放射
された光の大部分がアキシコンに向けられるようにし、
光が捉えられて導波路レーザ30の方向に集中するよう
な寸法である。このことは、発光ダイオードの直径が受
光領域17の広い方の端部Bの直径(あるいは長さ)に
等しくさせることにより達成できる。基板10は、屈折
率が1.46のガラスから形成される。ドーパントを用
いて、受光領域17と周囲の領域14との屈折率を制御
することができる。前述したように、本発明の一実施例
においては光の反射は、インタフェース16における高
反射コーティングにより行われる。屈折率の変化により
光の反射を達成するために、受光領域17は、屈折率
1.7を有するよう形成される。
うに、クラッド層33、35とそれらの間に、コア層3
4を有する。レーザ30は、レーザ基板に形成された活
性層あるいはグレーティングを有する一方向性の光学結
晶導波路レーザを含み、これは、分布帰還型レーザある
いは分布ブラグ反射レーザと同様である。欠陥(defec
t)を具備する一方向性の分布帰還型レーザが好まし
い。グレーティングは、共鳴構造をナノモールドし、レ
ーザ色素DCMIIIを、0.5〜5.0重量%ドーピ
ングしたAlqのフィルムを共鳴器に形成することによ
り形成される。これは、米国特許出願第09/3224
71号に開示されている。前掲の特許出願で議論されて
いるように、新たなマイクロプリント技術が開発され、
これらを用いて導波路グレーティングを形成することも
できる。これに関しては、J. A. Rogers et al., 著の
“Using Printing and Molding Techniques to Produce
Distributed Feedback and Bragg Reflector Resonato
rs for Plastic Lasers,”J. APPL. PHYSICS, Vol. 73,
No. 13 (1998), at pp. 1766-1767, を参照のこと。
向性で、その周期は182nmである。欠陥をグレーティ
ング(一方向性の光学結晶)内に導入するには、グレー
ティングを規定する複数の溝のうちの少なくとも1つの
溝を他の溝とは異なる幅に形成することにより導入され
る。好ましくは、溝は、深さが50nmで幅が91nmであ
る。欠陥は182nmの幅を有する溝を含む。レーザグレ
ーティングの全体寸法は、10μm×10μm以上でな
ければならず、これは発光ダイオードを基板により生成
された電磁界とグレーティングとの間の十分な結合を確
保するためである。レーザデバイスを形成する層の基板
への光子の適合性は、必ずしも必要ではなく、これは、
無機半導体レーザと比べると、大きな利点である。
のない2次元のスラブ光子結晶である。この点に関して
は、本発明のレーザ構造は、2次元の光子結晶に対し独
自のアプリケーションを提供する。一方向性一次グレー
ティング(欠陥の有無に関わらず)をレーザに用いる
と、出力カプラは、一次グレーティングの2倍の周期性
を有する2次グレーティングを有する。この構造が光子
マッチングの状態となり、導波路の面で生成されるレー
ザ放射の大部分(50%以上)が、直角で、回折的に面
から結合されて取り出される。したがってレーザは、表
面放射となる。
一の導波路の一部を含み、そして同時に形成される。レ
ーザのグレーティング、あるいは出力カプラを形成する
ためにナノモールドのプリント技術が用いられる。ポリ
ウレタンのプレポリマの層が、それに接触して配置され
るモールドと共に用いられ、プレポリマの上にモールド
の特徴をプリントする。出力カプラ用のレリーフパター
ンは、ホールの三角形の光子を含む。好ましい光子は、
各ホールが160nmの直径を有するような、約433nm
の格子状数を有するものである。ホールの深さは、約5
0nmである。
と、共役ポリマ(conjugated polymers)を含むポリマ
の組合せを含む。例えば、共役ポリ(conjugated pol
y)(フェニレン(phenylene)、ビニレン(vinylen
e))(PPV7)の10重量%の約250nmを、ポリ
スチレン、または2−(4−バイフェニリル(biphenyl
yl)−5−(4−テルト(tert)−ブチルフェニル(bu
tylphenyl))−1,3,4−オキサディアゾール(oxa
diazole)(PBD)のマトリックス内に分散させる。
Alqまたは2−ナプチル(napthyl)−4,5−ビス
(bis)(4−メトキシフェニル(methoxyphenyl))−
1,3オキサゾール(oxazole)(NAPOXA)のよ
うなドープした少分子も用いることができる。ゲイン媒
体として用いられる、適宜の化合物、あるいは混合物
は、A. Dodabalapur, 著の“Resonators andMaterials
for Organic Laser Based on Energy Transfer,”IEEE
J. OF SELECTED TOPICS IN QUAN. ELEC., Vol. 4, No.
1 (Jan./Feb. 1998), を参照のこと。
オード20から基板10の受光領域17に放射される。
アキシコンの反射性の周囲により光は、アキシコンに形
状をした受光領域17内に閉じこめられる。好ましくは
発光ダイオード20は、発光ダイオードにより生成され
た光子の大部分(25%以上)が、基板の受光領域17
に閉じこめられるようにする。平面状のキャビティ発光
ダイオードを用いることは、非キャビティ発光ダイオー
ドを用いるよりも好ましく、その理由は、前者は発光ダ
イオードから放射された光子の大部分が、アキシコン形
状をした受光領域17内で捉えられるからである。これ
によりデバイスの効率が改善され、レーザに対ししきい
値パワーが低くなる(150W/cm2以下、さらにはまた
100W/cm2以下である)。光が受光領域17の狭い端
部に近づくにつれて、その強度が増加する。
ザ30に入る光は、光学結晶の導波路レーザ30内のゲ
イン媒体を光り励起する。ポンプパワーが、しきい値よ
りも大きいときに、レーザ発振動作が行われる。その後
このレーザは、出力カプラ40により結合された導波路
の面で、所望の角度で光を放射する。好ましくはレーザ
は、低いしきい値ポンプパワーで低損失である。カプラ
は、コリメートビームを生成する。図2は、本発明で使
用されるのに好ましいキャビティ発光ダイオードからの
電子ルミネセンススペクトラムを、非キャビティのLE
Dと比較したものである。図3は、ナノモールドされた
一次グレーティング構造を有する、本発明のレーザ構造
からのエレクトロルミネセンススペクトラムを表す。図
3のレーザのゲイン媒体は、1%のDCMでもってドー
プしたAlqのパターン化層を含む(レーザダイ(色
素)は、オハイオ州デイトンのExciton, Inc., から入
手可能である)。図2−3から分かるように、発光ダイ
オードから基板に注入された光は、長波長の光子に変換
される。これらの材料により、85−150W/cm2の範
囲のしきい値ポンプパワーが達成できる。
ティ発光ダイオードの好ましい構造を表す図。
イオードと、キャビティを具備しない発光ダイオードと
を比較した、エレクトロルミネセンススペクトラムを表
す図。
る、本発明のレーザ構造からのエレクトロルミネセンス
のスペクトラムを表す図。
Claims (20)
- 【請求項1】 電磁放射ソースを提供するレーザ構造体
を含む物品において、 前記レーザ構造体は、 2つの離間した導電層(22、24)と、それらの間に
形成された発光層(23)とを有する複数の層を有し、
第1波長のインコヒレント放射が前記発光層(23)か
ら放射される発光デバイス(20)と、 前記発光デバイスに近接して配置され、第1側(11)
と第2側(12)とを有する基板(10)と、 コア領域を挟んで第1クラッド領域と第2クラッド領域
を有するレーザ(30)と、を有し、 前記基板(10)は、発光デバイス(20)から放射さ
れた第1波長のインコヒレント電磁放射が基板の第1側
(11)で受光され、前記基板(10)の本体内を通っ
て第2側(12)にガイドされるよう前記発光デバイス
に対し配置され、 前記発光デバイス(20)と基板(10)の少なくとも
一方は、インコヒレント放射が第1側(11)から第2
側(12)に基板の本体内をガイドするよう集中され、 前記レーザ(30)は、前記基板(10)の第2側(1
2)にガイドされる放射の少なくとも一部を前記レーザ
(30)が受光し、 前記コア領域は、第1波長のインコヒレントの放射を吸
収し、吸収されたインコヒレント電磁放射に応答して、
第1波長よりも長い第2波長のコヒレント電磁放射を放
射する材料から構成されるからなることを特徴とする電
磁放射ソースを提供するレーザ構造体を含む物品。 - 【請求項2】 前記基板は、放射光を集中させ、 前記基板は、少なくとも第1領域(17)と、第2領域
(14)と、前記第1領域と第2領域の接合部近傍の反
射性インタフェース(16)とを有し、前記第1領域
(17)で光を内部反射させ、 前記基板は、発光デバイスに対し、発光デバイスから放
射された第1波長のインコヒレントの電磁放射の大部分
を、基板の第1側の第1領域で受光し、 前記放射は、インタフェースで内部反射され、第1領域
内に閉じこめられて、第1領域内を基板の第2側まで導
波されることを特徴を有する請求項1記載の物品。 - 【請求項3】 前記発光デバイスは、マイクロキャビテ
ィ発光ダイオードを含む、発光デバイスにより放射を集
中させるよう構成されることを特徴を有する請求項1記
載の物品。 - 【請求項4】 前記反射性インタフェース(16)は、
第1領域と第2領域の接合部に配置された、高反射率の
コーティングを含むことを特徴を有する請求項2記載の
物品。 - 【請求項5】 前記反射性インタフェース(16)は、
第1領域と第2領域の接合部の屈折率差を有し、 前記第1領域は、第2領域よりも高い屈折率を有するこ
とを特徴を有する請求項2記載の物品。 - 【請求項6】 少なくとも第2領域は、反射性表面を提
供し、放射を集中するために、少なくともマイクロレン
ズ、あるいはグレーティングを含むことを特徴を有する
請求項2記載の物品。 - 【請求項7】 前記第1領域(17)は、広い端部と狭
い端部とを有する台形構造を有し、 前記広い端部は第1側にあり、前記狭い端部は第2側に
あることを特徴を有する請求項2記載の物品。 - 【請求項8】 前記発光層は、少なくとも1つの有機材
料を含むことを特徴を有する請求項1記載の物品。 - 【請求項9】 前記少なくとも1つの有機材料は、Al
qと、TADと、銅フタロシアミンと、N,N’−ビス
(bis)(3−メチルフェニル(methylphenyl))−
(1,1’−ビフェニル(biphenyl))−4,4’−デ
ィアミン(diamine)とから選択された材料であること
を特徴を有する請求項8記載の物品。 - 【請求項10】 前記発光デバイスと基板との間に、1
/4波長積層構造(15)を有することを特徴を有する
請求項1記載の物品。 - 【請求項11】 前記基板は、プラスチック製、または
ガラス製であることを特徴を有する請求項1記載の物
品。 - 【請求項12】 前記レーザは、光子結晶導波路レーザ
を含むことを特徴を有する請求項1記載の物品。 - 【請求項13】 前記レーザは、第2波長の電磁放射を
容易にするための、分布帰還型グレーティングを含むこ
とを特徴を有する請求項12記載の物品。 - 【請求項14】 前記レーザは、第2波長の電磁放射を
容易にするための、2つの離間した分布ブラグリフレク
タを含むことを特徴を有する請求項12記載の物品。 - 【請求項15】 前記レーザから放射された第2波長の
光を所望の方向にガイドするための出力カプラ(40)
をさらに有することを特徴を有する請求項1記載の物
品。 - 【請求項16】 前記出力カプラ(40)は、2次元の
光子結晶であることを特徴を有する請求項15記載の物
品。 - 【請求項17】 前記レーザのコア領域は、少なくとも
1つの有機材料を含むことを特徴を有する請求項1記載
の物品。 - 【請求項18】 前記少なくとも1つの有機材料は、共
役ポリ(conjugatedpoly)(フェニレン(phenylen
e)、ビニレン(vinylene))と、ポリスチレン、また
は2−(4−バイフェニリル(biphenylyl)−5−(4
−テルト(tert)−ブチルフェニル(butylphenyl))
−1,3,4−オキサディアゾール(oxadiazole)と、
Alqと、2−ナプチル(napthyl)−4,5−ビス(b
is)(4−メトキシフェニル(methoxyphenyl))−
1,3オキサゾール(oxazole)(NAPOXA)から
選択された材料であることを特徴を有する請求項17記
載の物品。 - 【請求項19】 電磁放射ソースを提供するレーザ構造
体を含む物品において、 前記レーザ構造体は、 2つの離間した導電層とそれらの間に形成された発光層
とを有する複数の層を有し、第1波長のインコヒレント
放射が前記発光層から放射される発光デバイスと、 第1波長のインコヒレント放射を行う平面上のマイクロ
キャビティ発光ダイオードと、 前記マイクロキャビティ発光ダイオードに近接して配置
され、第1側と第2側とを有する基板と、 有機材料で形成されたコア領域を間に挟んだ、第1クラ
ッド領域と第2クラッド領域とを有する、光学導波路レ
ーザと、 前記レーザから放射された第2波長の放射を、所望の方
向にガイドする、2次元の光学結晶を有する出力カプラ
と、を有し、 前記基板は、第1の受光領域と、第2の周囲領域と、前
記第1の領域と第2の領域の接合部に配置された反射性
コーティングとを具備して、第1領域内で光を内部反射
させ、 前記第1領域と第2領域は、第1の側に広い端部を、第
2の側に狭い端部を有する台形を規定し、 前記マイクロキャビティ発光ダイオードから放射された
第1波長のインコヒレントの電磁放射を、広い端部の第
1領域で受光し、第1領域内で内部反射させて、光が第
1領域内を通り、第2側に導波されるにつれて集中さ
れ、 前記レーザは、基板の第2側にガイドされる放射光の少
なくとも一部を受光し、 前記コア領域は、第1波長のインコヒレント電磁放射を
吸収し、このインコヒレント電磁放射の吸収に応答し
て、第1波長よりも長い第2波長のコヒレント電磁放射
を行う材料の層を含み、 前記出力カプラと導波路レーザとは、1つの導波路の上
に集積され、ことを特徴とする電磁放射ソースを提供す
るレーザ構造体を含む物品。 - 【請求項20】 請求項1記載のレーザ構造を含む、光
学通信システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/385,167 US6363096B1 (en) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | Article comprising a plastic laser |
US09/385167 | 1999-08-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2001111146A true JP2001111146A (ja) | 2001-04-20 |
JP2001111146A5 JP2001111146A5 (ja) | 2007-09-27 |
JP5132014B2 JP5132014B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=23520300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000258446A Expired - Fee Related JP5132014B2 (ja) | 1999-08-30 | 2000-08-29 | 電磁放射ソースを提供するレーザ構造体を含む物品 |
Country Status (2)
Country | Link |
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US (2) | US6363096B1 (ja) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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