JP2001094880A - Solid-state image pickup device - Google Patents

Solid-state image pickup device

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JP2001094880A
JP2001094880A JP26506099A JP26506099A JP2001094880A JP 2001094880 A JP2001094880 A JP 2001094880A JP 26506099 A JP26506099 A JP 26506099A JP 26506099 A JP26506099 A JP 26506099A JP 2001094880 A JP2001094880 A JP 2001094880A
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solid
imaging device
state imaging
image
photodiode
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崇雄 戸井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain fine picture quality by suppressing the fluctuation of saturation when a dynamic range is extended by a non-linear characteristic after saturating an image pickup element. SOLUTION: An image including saturation fluctuation is acquired by transferring charge to a vertical transfer register in a charge transfer period after saturating a photodiode by inversely injecting charge from a semiconductor substrate in a solid-state image pickup element into the photodiode by dropping voltage to be applied to the substrate in a charge inverse injection period and a difference between respective acquired images and the mean value of respective acquired images is added to a picture signal to suppress the saturation fluctuation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、固体撮像装置に係
わり、特に、固体撮像素子の非線形性特性を用いてダイ
ナミックレンジを拡大した場合の飽和ばらつきを抑制す
るための固体撮像装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state imaging device, and more particularly to a solid-state imaging device for suppressing a variation in saturation when a dynamic range is expanded by using a nonlinear characteristic of a solid-state imaging device.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常のビデオカメラやディジタルスチル
カメラなどの固体撮像素子では、固体撮像素子の入射輝
度と出力電圧間の特性が線形関係にある輝度領域を処理
の対象としている。垂直オーバーフロードレイン構造を
もつ固体撮像素子では、飽和した後の非線形関係にある
輝度領域も活用することでダイナミックレンジを拡大す
ることができる。
2. Description of the Related Art In a solid-state image pickup device such as an ordinary video camera or digital still camera, a luminance region in which the characteristic between the incident luminance and the output voltage of the solid-state image pickup device has a linear relationship is to be processed. In a solid-state imaging device having a vertical overflow drain structure, the dynamic range can be expanded by utilizing a luminance region having a nonlinear relationship after saturation.

【0003】垂直オーバーフロードレイン構造をもつ固
体撮像素子の駆動方法に関して、半導体基板に印可する
電圧を段階的または線形に引き上げることによって蓄積
する電荷量を制御してダイナミックレンジを拡大する方
法として、特願平9−65217号に記載されたものが
ある。但し、本従来技術においては非線形入出力感度特
性は利用してはいない。
A method for driving a solid-state image pickup device having a vertical overflow drain structure is disclosed in Japanese Patent Application No. 2002-110,087 as a method for expanding the dynamic range by controlling the amount of charge accumulated by stepwise or linearly increasing the voltage applied to a semiconductor substrate. There is one described in JP-A-9-65217. However, the conventional input / output sensitivity characteristic is not used in the prior art.

【0004】ダイナミックレンジを拡大する固体撮像装
置については、前記の方法以外にもシャッター時間の異
なる2フレーム以上の画像を合成してダイナミックレン
ジを拡大する方法として、次の文献に記載されたものが
知られている。菰淵:”広ダイナミックレンジCCD
「Hyper−D CCD」”,OPTRONICS,
No3,1999.
In addition to the above-mentioned method, a solid-state imaging device for expanding a dynamic range is described in the following document as a method for expanding a dynamic range by combining images of two or more frames having different shutter times. Are known. Kobuchi: "Wide Dynamic Range CCD
"Hyper-D CCD"", OPTRONICS,
No. 3, 1999.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術における固体撮像装置には次のような解決すべ
きいくつかの問題点があった。まず、固体撮像素子の線
形領域のダイナミックレンジを拡大することが困難であ
る。
However, the solid-state imaging device according to the prior art described above has several problems to be solved as follows. First, it is difficult to expand the dynamic range of the linear region of the solid-state imaging device.

【0006】その理由は、固体撮像素子の暗電流などの
ノイズ成分を抑制することが困難なためである。特に、
製造コスト低減のために画素サイズを小さくした場合に
は、蓄積される電荷量が減るためダイナミックレンジは
狭くなる可能性がある。
The reason is that it is difficult to suppress noise components such as dark current of the solid-state imaging device. In particular,
When the pixel size is reduced to reduce the manufacturing cost, the amount of charge stored is reduced, and the dynamic range may be narrowed.

【0007】また、垂直オーバーフロードレイン構造を
もつ固体撮像素子の半導体基板に印加する電圧を変える
ことによって蓄積する電荷量を制御する場合や、飽和し
た後の非線形特性を用いる場合には、飽和ばらつきが大
きいという問題点がある。
In addition, when the amount of charge accumulated is controlled by changing the voltage applied to the semiconductor substrate of a solid-state imaging device having a vertical overflow drain structure, or when the non-linear characteristic after saturation is used, saturation variation may occur. There is a problem that it is large.

【0008】その理由は、次の通りである。固体撮像素
子のフォトダイオード容量には画素毎にばらつきが存在
する。線形領域のみを用いる場合には飽和に達しておら
ず、蓄積された電荷をすべて転送するためこのような問
題は発生しない。しかし、飽和した場合には、これが蓄
積して転送する電荷量のばらつきとなるため、固定パタ
ーンノイズとして画質を低下させる原因となる。また、
非線形領域では平均的に線形領域と比べて傾きが小さい
ため、信号成分に対する前記のノイズ成分が大きくなっ
てしまい相対的にSN比が低下する。
The reason is as follows. The photodiode capacitance of the solid-state imaging device has a variation for each pixel. When only the linear region is used, saturation is not reached, and all the accumulated charges are transferred, so that such a problem does not occur. However, in the case of saturation, the amount of charge accumulated and transferred varies, which causes fixed pattern noise to degrade image quality. Also,
Since the slope is smaller on average in the non-linear region than in the linear region, the noise component with respect to the signal component increases, and the S / N ratio relatively decreases.

【0009】また、前記飽和ばらつきを低減する方法と
してメディアンフィルタをノイズ除去回路として設けた
方法が特願平7−89283号に記載されている。しか
し、このノイズ除去回路は解像度が低下するという問題
がある。
Further, as a method of reducing the saturation variation, a method in which a median filter is provided as a noise removing circuit is described in Japanese Patent Application No. 7-89283. However, this noise removal circuit has a problem that the resolution is reduced.

【0010】その理由は、メディアンフィルタは飽和し
た画素以外の隣接画素を用いて信号処理を行うためであ
る。
The reason is that the median filter performs signal processing using adjacent pixels other than the saturated pixels.

【0011】更に、シャッター時間の異なる2フレーム
以上の画像を合成してダイナミックレンジを拡大する方
法では、動きの速い被写体を撮像する場合に被写体にブ
レが生じてしまうといった問題点がある。
Further, the method of expanding the dynamic range by synthesizing images of two or more frames having different shutter times has a problem that the subject is blurred when a fast-moving subject is imaged.

【0012】その理由は、ある時間間隔をおいて撮像し
た複数の画像を合成するためである。
The reason is to combine a plurality of images taken at certain time intervals.

【0013】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、撮像素子の飽和後の非線形特性を使ってダ
イナミックレンジを広げた場合において、飽和ばらつき
を抑制することによって良好な画質を得る固体撮像装置
およびその駆動方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and when a dynamic range is widened by using a nonlinear characteristic after saturation of an image pickup device, good image quality can be obtained by suppressing variation in saturation. An object of the present invention is to provide a solid-state imaging device to be obtained and a driving method thereof.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明の請求項1記載の発明は、固体撮像素子の
入射輝度と出力電圧間の特性が線形関係および非線形関
係にある輝度領域を処理の対象とした固体撮像装置にお
いて、固体撮像素子の半導体基板に印加する電圧を下げ
ることにより、電荷を半導体基板からフォトダイオード
に逆注入してフォトダイオードを飽和させた後、フォト
ダイオード内の電荷を垂直転送レジスタへ転送すること
によって飽和ばらつきを含む画像を取得することを特徴
とする。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided a luminance region in which a characteristic between an incident luminance and an output voltage of a solid-state image sensor has a linear relationship and a non-linear relationship. In a solid-state imaging device targeted for processing, by lowering the voltage applied to the semiconductor substrate of the solid-state imaging device, charges are reversely injected from the semiconductor substrate to the photodiode to saturate the photodiode, and then the inside of the photodiode is An image including saturation variation is obtained by transferring electric charges to a vertical transfer register.

【0015】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、半導体基板に印加する電圧を下げた後に、
再び印加電圧を上げてフォトダイオード内の不要電荷を
半導体基板に引き抜くことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, after the voltage applied to the semiconductor substrate is reduced,
It is characterized in that the unnecessary voltage in the photodiode is extracted to the semiconductor substrate by increasing the applied voltage again.

【0016】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の発明において、固体撮像素子の半導体基板に印加す
る電圧を15V付近まで下げることによって、電荷を半
導体基板からフォトダイオード及び垂直レジスタに逆注
入してフォトダイオード及び垂直転送レジスタを強制的
に飽和させた後に、まず垂直レジスタ内の電荷を転送し
て、次にゲート領域を介してフォトレジスタ内の電荷を
垂直転送レジスタへ転送することによって飽和ばらつき
を含む画像を取得することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first or the second aspect of the present invention, the electric charge is transferred from the semiconductor substrate to the photodiode and the vertical register by reducing the voltage applied to the semiconductor substrate of the solid-state imaging device to around 15 V. After forcibly saturating the photodiode and the vertical transfer register by back injection, first transfer the charge in the vertical register, and then transfer the charge in the photodiode to the vertical transfer register through the gate region. An image including saturation variation is obtained by the above method.

【0017】請求項4記載の発明は、請求項1から3の
いずれかに記載の発明において、電荷の逆注入は、1フ
レーム以上の間隔をおいて行うことを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the reverse injection of charges is performed at intervals of one frame or more.

【0018】請求項5記載の発明は、請求項1から3の
いずれかに記載の発明において、電荷の逆注入は、固体
撮像装置の起動時に行うことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the reverse injection of charges is performed when the solid-state imaging device is started.

【0019】請求項6記載の発明は、請求項1から5の
いずれかに記載の発明において、光学的シャッター手段
を備え、電荷の逆注入中には光学的にシャッターを閉じ
て、フォトダイオードにおいて光電変換が起こらないよ
うにすることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fifth aspects of the present invention, an optical shutter means is provided, and the shutter is optically closed during the reverse injection of the electric charge, so that the photodiode is used. It is characterized in that photoelectric conversion does not occur.

【0020】請求項7記載の発明は、請求項1から3の
いずれかに記載の発明において、固体撮像素子の受光面
の前段に、光学的シャッター手段および光学的シャッタ
ー手段の後段に発光手段を備え、飽和ばらつき画像の取
得時に、発光手段を発光させることにより固体撮像素子
のフォトダイオードを飽和させることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, an optical shutter means and a light emitting means are provided before the light receiving surface of the solid-state imaging device and after the optical shutter means. The method is characterized in that at the time of acquiring a saturation variation image, the light emitting unit emits light to saturate the photodiode of the solid-state imaging device.

【0021】請求項8記載の発明は、請求項7記載の発
明において、発光手段の発光は、1フレーム以上の間隔
をおいて行うことを特徴とする請求項7記載の固体撮像
装置。
According to an eighth aspect of the present invention, in the solid-state imaging device according to the seventh aspect, the light emission of the light emitting means is performed at intervals of one frame or more.

【0022】請求項9記載の発明は、請求項7記載の発
明において、発光手段の発光は、固体撮像装置の起動時
に行うことを特徴とする請求項7記載の固体撮像装置。
According to a ninth aspect of the present invention, in the seventh aspect of the present invention, the light emission of the light emitting means is performed when the solid state imaging device is started.

【0023】請求項10記載の発明は、請求項7記載の
発明において、光電変換中において発光体以外の外光が
入るのを防ぐために光を遮蔽する光学的シャッター手段
を有することを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in accordance with the seventh aspect of the present invention, there is provided an optical shutter means for blocking light to prevent outside light other than the light emitting body from entering during photoelectric conversion. .

【0024】請求項11記載の発明は、請求項7記載の
発明において、発光手段の光量を変化させることによっ
て、固体撮像素子の入射輝度と出力電圧の感度特性を取
得することを特徴とする。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the invention of the seventh aspect, the sensitivity characteristics of the incident luminance and the output voltage of the solid-state imaging device are obtained by changing the light amount of the light emitting means.

【0025】請求項12記載の発明は、請求項1から1
1のいずれかに記載の発明において、飽和ばらつきを含
む画像信号を保存する第1の記憶手段と、飽和ばらつき
を含む画像の平均輝度を算出する平均輝度算出手段と、
第1の記憶手段で記憶された画像信号と、平均輝度算出
手段にて算出された平均輝度信号との差を算出する手段
と、算出された差信号を飽和ばらつきを含む画像信号に
加算する加算手段とを有し、加算手段からは画像信号中
のノイズが抑制された信号が出力されることを特徴とす
る。
The twelfth aspect of the present invention is the first aspect of the present invention.
In the invention according to any one of the first to third aspects, a first storage unit that stores an image signal including a saturation variation, an average brightness calculation unit that calculates an average brightness of an image including the saturation variation,
Means for calculating the difference between the image signal stored in the first storage means and the average luminance signal calculated by the average luminance calculation means, and addition for adding the calculated difference signal to the image signal including the saturation variation And a signal in which noise in the image signal is suppressed is output from the adding means.

【0026】請求項13記載の発明は、請求項12記載
の発明において、第1の記憶手段が飽和ばらつき画像を
取得する場合において、動画像の出力が途切れることを
防ぐために画像の1フレーム前の画像を保存しておく第
2の記憶手段を有することを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the invention of the twelfth aspect, when the first storage means acquires a saturation variation image, the first storage means prevents the output of the moving image from being interrupted by one frame before the image. It has a second storage means for storing an image.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照しながら詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0028】図3には、垂直オーバーフロードレイン付
きの固体撮像素子の断面図が示されている。N型半導体
基板300上にあるP型不純物ウェル層301の表面側
に、入射光の光量に応じた電荷量の信号電荷に光電変換
し、且つ、その信号電荷を蓄積するN型不純物からなる
フォトダイオード305や、暗電流の発生を抑制するた
めのP+ 型不純物層304が形成されている。また、P
型不純物層302及びその上部のN型不純物層303に
て垂直レジスタが形成されている。フォトダイオード3
05から垂直レジスタへはゲート領域を介して電荷が読
み出される。半導体基板の上面には絶縁膜306が形成
されており、さらに、その上部にポリシリコン膜などか
らなる垂直転送電極307が形成されている。
FIG. 3 is a sectional view of a solid-state imaging device having a vertical overflow drain. On the surface side of the P-type impurity well layer 301 on the N-type semiconductor substrate 300, a photo-electric layer made of an N-type impurity that photoelectrically converts into a signal charge having a charge amount corresponding to the amount of incident light and stores the signal charge. A diode 305 and a P + -type impurity layer 304 for suppressing generation of dark current are formed. Also, P
A vertical register is formed by the type impurity layer 302 and the N type impurity layer 303 thereabove. Photodiode 3
From 05, electric charges are read out to the vertical register via the gate region. An insulating film 306 is formed on the upper surface of the semiconductor substrate, and a vertical transfer electrode 307 made of a polysilicon film or the like is formed thereon.

【0029】図4は、フォトダイオード305を含む位
置の垂直方向の半導体基板のポテンシャルを示した図で
ある。図3の半導体基板の深さ方向(下向き)が図4の
水平方向(右向き)に示されている。左からP+ 型不純
物層304、N型フォトダイオード305、P型不純物
ウェル層301、N型半導体基板のポテンシャルが示さ
れている。
FIG. 4 is a diagram showing a potential of the semiconductor substrate in a vertical direction at a position including the photodiode 305. The depth direction (downward) of the semiconductor substrate in FIG. 3 is shown in the horizontal direction (rightward) in FIG. From the left, the potentials of the P + -type impurity layer 304, the N-type photodiode 305, the P-type impurity well layer 301, and the N-type semiconductor substrate are shown.

【0030】固体撮像素子に光が入射すると、フォトダ
イオード305で光電変換され電荷が蓄積される。この
蓄積された電荷によってフォトダイオード305の電位
は図4の矢印方向へ低下する。強い光が入射した場合に
は、電荷が垂直レジスタに流入してブルーミングが発生
する可能性がある。このブルーミングを避けるための構
造が垂直オーバーフロードレインである。これは、基板
電圧(図中のNSub)を上げることによってP型不純
物ウェル層301のポテンシャル電位を上げてバリアを
低くして、過剰な電荷をN型半導体基板300に掃き出
されるようにする構造である。
When light is incident on the solid-state image pickup device, it is photoelectrically converted by the photodiode 305 and the electric charge is accumulated. The potential of the photodiode 305 decreases in the direction of the arrow in FIG. 4 due to the accumulated charge. When strong light is incident, charges may flow into the vertical register and blooming may occur. A structure for avoiding this blooming is a vertical overflow drain. This is a structure in which by increasing the substrate voltage (NSub in the figure), the potential potential of the P-type impurity well layer 301 is increased to lower the barrier, and excess charges are swept out to the N-type semiconductor substrate 300. It is.

【0031】図6は、垂直オーバーフロードレイン構造
をもつ固体撮像素子の線形特性および非線形特性の入射
輝度と出力電圧間の関係を示した図である。固体撮像素
子が飽和するまでは、入射輝度と出力電圧間の特性は線
形である。しかし、蓄積された電荷がP型不純物ウェル
層301によるバリアを超え始めると、入射輝度と出力
電圧間の特性は非線形となる。これは、P型不純物ウェ
ル層301によるバリアの高さが、フォトダイオード3
05に蓄積された電荷量に応じて変化するためである。
以上をまとめると固体撮像素子が飽和するまでの輝度領
域では、下記の式1に示されるような線形特性を有す
る。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the incident luminance and the output voltage of the linear characteristic and the non-linear characteristic of the solid-state imaging device having the vertical overflow drain structure. Until the solid-state imaging device is saturated, the characteristic between the incident luminance and the output voltage is linear. However, when the accumulated charges start to cross the barrier formed by the P-type impurity well layer 301, the characteristics between the incident luminance and the output voltage become non-linear. This is because the height of the barrier formed by the P-type impurity well layer 301 is smaller than that of the photodiode 3
This is because it changes in accordance with the amount of electric charge accumulated in 05.
To summarize the above, in a luminance region until the solid-state imaging device is saturated, the solid-state imaging device has a linear characteristic represented by the following equation 1.

【0032】[0032]

【数1】 (Equation 1)

【0033】但し、xを入射輝度、yを出力電圧とす
る。また、入射輝度が大きくなり飽和する非線形領域
(対数領域)では、下記の式2に示されるような対数特
性を有する。尚、垂直オーバーフロードレインの飽和後
の対数特性の参考文献としては、次の文献がある。 Kawai,et.al:”Photo Respon
se Anal_y_sis in CCD Imag
e Sensor with a VOD struc
ture”,IEEE Transactions o
n Electron Devices,Vol.4
2,No.4,Apr.1995.
Here, x is the incident luminance and y is the output voltage. In a nonlinear region (logarithmic region) in which the incident luminance increases and saturates, it has a logarithmic characteristic as shown in Equation 2 below. The following literature is a reference for the logarithmic characteristic of the vertical overflow drain after saturation. Kawai, et. al: "Photo Response
se Anal_y_sis in CCD Imag
e Sensor with a VOD struc
cure ", IEEE Transactions o
n Electron Devices, Vol. 4
2, No. 4, Apr. 1995.

【0034】[0034]

【数2】 (Equation 2)

【0035】線形領域においては、フォトダイオード3
05に蓄積された電荷がすべて垂直レジスタへ転送され
るため画素毎のばらつきは少ない。しかし、非線形領域
では、P型不純物ウェル層301によるバリアの高さが
製造上画素毎に異なる場合が多い。この場合、撮像した
画像には飽和ばらつきが固定パターンノイズとして表れ
るため画質が低下する。本発明では、電荷逆注入や光学
的な光源を用いて画素を飽和させておいて飽和ばらつき
を含む画像を取得し、ノイズキャンセル回路によって画
素ばらつきを抑制する。
In the linear region, the photodiode 3
Since all the electric charges accumulated in 05 are transferred to the vertical register, there is little variation between pixels. However, in the non-linear region, the height of the barrier formed by the P-type impurity well layer 301 is often different for each pixel in manufacturing. In this case, the saturation variation appears as a fixed pattern noise in the captured image, so that the image quality deteriorates. In the present invention, pixels are saturated using reverse charge injection or an optical light source, an image including saturation variations is acquired, and pixel variations are suppressed by a noise cancellation circuit.

【0036】図2には、通常の固体撮像素子の通常駆動
タイミングの一例が示されている。上段には垂直転送パ
ルスを示しており、下段には半導体基板に印加する電圧
を示している。電子シャッター期間においてフォトダイ
オード305内の不要な電荷をN型半導体基板300に
掃き出す。次に、電荷蓄積期間においてフォトダイオー
ド305に電荷が蓄積され、図4の矢印に示されるよう
なポテンシャル電位の変化が起こる。蓄積された電荷は
読み出し期間において垂直レジスタに転送する。電荷転
送期間において垂直レジスタ内の電荷は水平レジスタを
経由して出力される。
FIG. 2 shows an example of a normal drive timing of a normal solid-state imaging device. The upper part shows the vertical transfer pulse, and the lower part shows the voltage applied to the semiconductor substrate. Unnecessary charges in the photodiode 305 are swept out to the N-type semiconductor substrate 300 during the electronic shutter period. Next, charge is accumulated in the photodiode 305 during the charge accumulation period, and a change in the potential as shown by an arrow in FIG. 4 occurs. The stored charges are transferred to the vertical register during the readout period. In the charge transfer period, charges in the vertical register are output via the horizontal register.

【0037】図1には、本発明の実施形態における逆注
入時の固体撮像素子の駆動タイミングの一例が示されて
いる。上段には垂直転送パルスが示されており、下段に
は半導体基板に印加する電圧を示している。以下では、
図3の垂直オーバーフロードレイン付きの固体撮像素子
の断面図、及び、図5の逆注入時のポテンシャルを用い
て説明する。電荷逆注入期間において基板電圧を下げる
ことによって、N型半導体基板300よりフォトダイオ
ード305に電荷を逆注入する。逆注入を行うと図4の
ようなポテンシャル電位は図5に示されるようなポテン
シャル電位に変わる。
FIG. 1 shows an example of the drive timing of the solid-state imaging device at the time of reverse injection in the embodiment of the present invention. The upper part shows the vertical transfer pulse, and the lower part shows the voltage applied to the semiconductor substrate. Below,
A description will be given using a cross-sectional view of the solid-state imaging device with the vertical overflow drain in FIG. 3 and a potential at the time of reverse injection in FIG. By lowering the substrate voltage during the charge reverse injection period, charges are reverse injected into the photodiode 305 from the N-type semiconductor substrate 300. When the reverse injection is performed, the potential as shown in FIG. 4 changes to the potential as shown in FIG.

【0038】更に、注入された電荷の面内均一性、つま
り全体のCCDにおける均一性をよくするために電子シ
ャッター期間において基板電圧を上げることによって過
剰な電荷を掃き出す。但し、全ての電荷を掃き出すわけ
ではないので、通常の駆動の電子シャッター期間におけ
る基板電圧22V程度よりも低い15V程度を印加す
る。この電子シャッターにより印加された電圧によって
図5の矢印のようなポテンシャル電圧の変化が起きる。
次に、電荷蓄積期間において蓄積された電荷は、読み出
し期間において垂直レジスタに転送する。電荷転送期間
において垂直レジスタ内の電荷は水平レジスタを経由し
て出力される。
Further, in order to improve the in-plane uniformity of the injected charges, that is, the uniformity in the whole CCD, excessive charges are swept out by increasing the substrate voltage during the electronic shutter period. However, since not all charges are swept out, a voltage of about 15 V, which is lower than the substrate voltage of about 22 V during the electronic shutter period of normal driving, is applied. The voltage applied by the electronic shutter causes a change in the potential voltage as shown by an arrow in FIG.
Next, the charge accumulated in the charge accumulation period is transferred to the vertical register in the readout period. In the charge transfer period, charges in the vertical register are output via the horizontal register.

【0039】次に、このようにして取得した飽和ばらつ
き画像を用いたノイズキャンセル回路を含む固体撮像装
置について解説する。
Next, a solid-state imaging device including a noise canceling circuit using the saturation variation image thus obtained will be described.

【0040】図7は、本実施形態における固体撮像装置
の一構成例を示したブロック図である。ここでいう固体
撮像装置とは動画用のビデオカメラや静止画用のディジ
タルスチルカメラを含むものとする。レンズなどの光学
手段を透過した光は、固体撮像素子700において光電
変換される。この固体撮像素子700はアナログの映像
出力信号は、A/D変換手段701によってディジタル
信号RAWinへ変換する。A/D変換手段701のデ
ィジタル映像出力は、ノイズ抑制手段702によって飽
和ばらつきを抑制した信号RAWoutへ変換する。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration example of the solid-state imaging device according to the present embodiment. Here, the solid-state imaging device includes a video camera for moving images and a digital still camera for still images. Light transmitted through an optical unit such as a lens is photoelectrically converted in the solid-state imaging device 700. The solid-state imaging device 700 converts an analog video output signal into a digital signal RAWin by an A / D converter 701. The digital video output of the A / D converter 701 is converted into a signal RAWout in which the saturation variation is suppressed by the noise suppressor 702.

【0041】図8は、図7で示したノイズ抑制手段70
2の一構成例を示したブロック図である。フレームメモ
リ801は飽和ばらつきを含む画像を保存するためのフ
レームメモリである。積分手段802及び平均値算出手
段803は、フレームメモリ801内の画像の平均値を
算出するための積分手段及び平均値算出手段である。減
算回路804はフレームメモリ801と平均値算出手段
803からの信号の差を算出してノイズを抑制するため
の信号を算出する。この信号は加算回路805において
RAWin入力信号に加算されることによってノイズが
抑制された信号RAWoutを得る。
FIG. 8 shows the noise suppression means 70 shown in FIG.
FIG. 2 is a block diagram showing one configuration example. The frame memory 801 is a frame memory for storing an image including saturation variations. The integration means 802 and the average value calculation means 803 are integration means and average value calculation means for calculating the average value of the image in the frame memory 801. The subtraction circuit 804 calculates a difference between signals from the frame memory 801 and the average value calculation unit 803 to calculate a signal for suppressing noise. This signal is added to the RAWin input signal in the adding circuit 805 to obtain a signal RAWout in which noise is suppressed.

【0042】フレームメモリ800は、フレームメモリ
801の更新時、つまりフレームメモリ801が飽和ば
らつきを含む画像を取得する場合において動画像が途切
れることを防ぐために、現在の画像の1フレーム前の画
像を保存しておく。フレームメモリ801更新時におい
ては、入力信号RAWinがフレームメモリ801や積
分手段802に接続されるように切り替え手段807を
操作する。
The frame memory 800 stores an image one frame before the current image in order to prevent a moving image from being interrupted when the frame memory 801 is updated, that is, when the frame memory 801 obtains an image including saturation variation. Keep it. When the frame memory 801 is updated, the switching unit 807 is operated so that the input signal RAWin is connected to the frame memory 801 and the integrating unit 802.

【0043】但し、通常状態においては、切り替え手段
806、807は本図に示されるように接続されている
ものとする。尚、図1にて説明した電荷の逆注入は少な
くとも1フレーム以上の間隔で、或いは固体撮像装置の
起動時に行われ、このようなタイミングにおいて切り替
え手段806はフレームメモリ801側に接続され、切
り替え手段807は加算回路805側に接続される。
However, in the normal state, it is assumed that the switching means 806 and 807 are connected as shown in FIG. Note that the reverse injection of the charge described with reference to FIG. 1 is performed at least at intervals of one frame or more or when the solid-state imaging device is started. At such a timing, the switching unit 806 is connected to the frame memory 801 side, and the switching unit 807 is connected to the addition circuit 805 side.

【0044】飽和ばらつき画像の取得については電荷の
逆注入を行う前述の方法以外にも次のような発光手段を
用いる実施形態がある。
As for the acquisition of the saturation variation image, there is an embodiment using the following light emitting means other than the above-described method of performing the reverse injection of electric charge.

【0045】図9は、光学的シャッター手段と発光手段
とを備えた固体撮像装置の一構成例を示したブロック図
である。基本的な構成は上記の実施形態と同様である。
FIG. 9 is a block diagram showing an example of the configuration of a solid-state imaging device provided with an optical shutter means and a light emitting means. The basic configuration is the same as in the above embodiment.

【0046】レンズ901は固体撮像素子900に焦点
が合うように配置されている。固体撮像素子900を飽
和させてばらつき画像を取得するために、光軸にあうよ
うに面内の輝度が均一な面発光体903を置く。飽和ば
らつき画像の取得時には面発光体903を発光させ、こ
の時の画像をフレームメモリ801で取得する。尚、面
発光体の発光は少なくとも1フレーム以上の間隔で、或
いは固体撮像装置の起動時に行われ、この時に外光の影
響を受けないようにするために光を遮蔽する光学的シャ
ッター手段902を設ける。
The lens 901 is arranged so as to focus on the solid-state imaging device 900. In order to saturate the solid-state imaging device 900 and obtain a variation image, a surface light-emitting body 903 having a uniform in-plane luminance is placed so as to match the optical axis. When acquiring the saturation variation image, the surface light emitter 903 emits light, and the image at this time is acquired by the frame memory 801. The light emission of the surface light emitter is performed at intervals of at least one frame or at the time of starting the solid-state imaging device. At this time, an optical shutter means 902 for shielding light is used so as not to be affected by external light. Provide.

【0047】図1の電荷逆注入時においても、前記と同
様な光学的シャッター手段902を設けることによって
外光の影響も避けることができる。これは、逆注入時に
おいても固体撮像素子に入射する光によってフォトダイ
オード305で光電変換が起こる。このため、飽和ばら
つき画像に外光の影響を受けることを避けるため逆注入
を行うフィールドの1フィールド期間中、光学的に光を
遮蔽する。但し、この場合、面発光体903は設置しな
い。
Even at the time of reverse injection of charges in FIG. 1, the influence of external light can be avoided by providing the same optical shutter means 902 as described above. This is because even at the time of reverse injection, photoelectric conversion occurs in the photodiode 305 by light incident on the solid-state imaging device. For this reason, light is optically shielded during one field period of the field for performing reverse injection in order to avoid the influence of external light on the saturation variation image. However, in this case, the surface light emitter 903 is not provided.

【0048】また、本実施形態においては、面発光体か
ら固体撮像素子へ入射する光量を制御し、その光量にお
ける固体撮像素子の出力電圧を検出することによって、
固体撮像素子の感度特性を取得することができる。この
感度特性を取得することによって、例えば、線形領域と
非線形領域の境界点を検出することが可能となり、取得
した画像の線形性を向上させることができる。
In the present embodiment, the amount of light incident on the solid-state image sensor from the surface light emitter is controlled, and the output voltage of the solid-state image sensor at that amount of light is detected.
The sensitivity characteristics of the solid-state imaging device can be obtained. By obtaining this sensitivity characteristic, for example, it is possible to detect a boundary point between a linear region and a nonlinear region, and it is possible to improve the linearity of the obtained image.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
の第1の効果として飽和ばらつきを抑制することができ
る。
As is apparent from the above description, as a first effect of the present invention, the variation in saturation can be suppressed.

【0050】その理由は、予め取得した飽和ばらつきを
含む画像とその平均値を用いて、これらの差分信号に画
素毎に加算することによって飽和ばらつきを抑制する回
路を設けたためである。この回路によって、固体撮像素
子が飽和した場合における固定パターンノイズを出力電
圧換算で3dB以上(実験値)抑制することができる。
The reason is that a circuit is provided which suppresses the saturation variation by adding an image containing the saturation variation acquired in advance and its average value to these difference signals for each pixel. With this circuit, fixed pattern noise when the solid-state imaging device is saturated can be suppressed by 3 dB or more (experimental value) in terms of output voltage.

【0051】また、本発明の第2の効果として、光学的
な手段を用いることなくフォトダイオードを飽和させて
飽和ばらつきを含む画像を取得できることである。
Further, as a second effect of the present invention, it is possible to saturate the photodiode without using optical means and obtain an image including a variation in saturation.

【0052】その理由は、電荷の逆注入を行う固体撮像
素子の駆動方法では、フォトダイオードにN型半導体基
板より電荷を逆注入することによって飽和させるため、
発光手段が不要になるためである。
The reason is that, in the driving method of the solid-state imaging device in which the charge is reversely injected, the photodiode is saturated by reversely injecting the charge from the N-type semiconductor substrate into the photodiode.
This is because the light emitting means is not required.

【0053】また、本発明の第3の効果として、発光手
段を用いる場合には、固体撮像素子の入射輝度と出力電
圧の感度特性を取得できることにある。
As a third effect of the present invention, when a light emitting means is used, the sensitivity characteristics of the incident luminance and the output voltage of the solid-state imaging device can be obtained.

【0054】その理由は、固体撮像素子へ入射する光量
を制御して、その光量における出力電圧を検出すること
によって、感度特性を得ることができるためである。こ
の感度特性を取得することによって、例えば、線形領域
と非線形領域の境界点を検出することが可能となり、取
得した画像の線形性を向上させることができるようにな
る。
The reason is that sensitivity characteristics can be obtained by controlling the amount of light incident on the solid-state imaging device and detecting an output voltage at the amount of light. By obtaining the sensitivity characteristics, for example, it is possible to detect a boundary point between a linear region and a non-linear region, and it is possible to improve the linearity of the obtained image.

【0055】また、本発明の第4の効果として、外光の
影響を受けずに飽和ばらつきを含む画像を取得できる。
As a fourth effect of the present invention, it is possible to obtain an image including a variation in saturation without being affected by external light.

【0056】その理由は、飽和ばらつきを含む画像を取
得するときに外光の影響を受けることがないようにする
ために、光学的なシャッターを備えたためである。固体
撮像素子に外光が入射すると、均一な入射輝度における
飽和が実現できないため、固体撮像素子の出力電圧画素
から画素が飽和したかどうかの判別が困難になる。
The reason for this is that an optical shutter is provided so as not to be affected by external light when acquiring an image including saturation variations. When external light is incident on the solid-state imaging device, saturation at uniform incident luminance cannot be achieved, and it is difficult to determine whether or not a pixel is saturated from an output voltage pixel of the solid-state imaging device.

【0057】さらに、本発明の第5の効果として、動画
像を撮像中に途切れることがなくなることである。
A fifth effect of the present invention is that a moving image is not interrupted during imaging.

【0058】その理由は、1フレーム以上前の画像を保
存しておく記憶手段を備えることによって、ある任意の
フレーム間隔で固体撮像素子の飽和ばらつきを含む画像
を取得するときに、出力する画像が途切れることがない
ように記憶手段から画像を用いて補うことができるため
である。飽和ばらつきを含む画像を含む画像を取得する
ときには、光学的なシャッターを閉じる或いは電荷の逆
注入を行うなど通常とは異なった駆動を行うため撮像す
ることができない。
The reason is that the provision of the storage means for storing the image of one or more frames earlier allows the output image to be obtained when an image including the saturation variation of the solid-state imaging device is obtained at an arbitrary frame interval. This is because the image can be supplemented by using an image from the storage unit so that the image is not interrupted. When acquiring an image including an image including a variation in saturation, it is not possible to capture an image because an unusual drive such as closing an optical shutter or performing reverse injection of electric charge is performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態における固体撮像装置の駆動
タイミングを示した図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating driving timing of a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来技術における固体撮像装置の駆動タイミン
グの一例を示した図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a drive timing of a solid-state imaging device according to the related art.

【図3】本発明の実施形態における固体撮像素子の断面
図の一例を示した図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional view of the solid-state imaging device according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態における光電変換時の固体撮
像素子のポテンシャル電位の一例を示した図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a potential of a solid-state imaging device during photoelectric conversion according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態における逆注入時の固体撮像
素子のポテンシャル電位の一例を示した図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a potential of a solid-state imaging device at the time of back injection according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態における入射輝度に対する固
体撮像素子の出力電圧の特性の一例を示した図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a characteristic of an output voltage of a solid-state imaging device with respect to an incident luminance in the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施形態における固体撮像装置の一構
成例を示した図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example of a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施形態におけるノイズ抑制手段の一
構成例を示した図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration example of a noise suppression unit according to the embodiment of the present invention.

【図9】本発明の他の実施形態における光学的シャッタ
ー手段と発光手段とを備えた固体撮像装置の一構成例を
示した図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration example of a solid-state imaging device including an optical shutter unit and a light emitting unit according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

300 N型半導体基板 301 P型不純物ウェル層 302 P型不純物層 303 N型不純物層 304 P+ 型不純物層 305 N型フォトダイオード 306 絶縁膜 307 垂直転送電極 700 固体撮像素子 701 AD変換手段 702 ノイズ抑制手段 800、801 フレームメモリ 802 積分手段 803 平均値算出手段 804 減算手段 805 加算回路 806、807 切り替え手段 900 固体撮像素子 901 レンズ 902 光学的シャッター手段 903 面発光体Reference Signs List 300 N-type semiconductor substrate 301 P-type impurity well layer 302 P-type impurity layer 303 N-type impurity layer 304 P + -type impurity layer 305 N-type photodiode 306 Insulating film 307 Vertical transfer electrode 700 Solid-state image sensor 701 AD conversion means 702 Noise suppression Means 800, 801 Frame memory 802 Integrating means 803 Average value calculating means 804 Subtracting means 805 Addition circuit 806, 807 Switching means 900 Solid-state image sensor 901 Lens 902 Optical shutter means 903 Surface light emitter

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 固体撮像素子の入射輝度と出力電圧間の
特性が線形関係および非線形関係にある輝度領域を処理
の対象とした固体撮像装置において、 前記固体撮像素子の半導体基板に印加する電圧を下げる
ことにより、電荷を前記半導体基板からフォトダイオー
ドに逆注入して前記フォトダイオードを飽和させた後、
前記フォトダイオード内の電荷を垂直転送レジスタへ転
送することによって飽和ばらつきを含む画像を取得する
ことを特徴とする固体撮像装置。
1. A solid-state imaging device for processing a luminance region in which a characteristic between an incident luminance and an output voltage of a solid-state imaging device has a linear relationship and a non-linear relationship, wherein a voltage applied to a semiconductor substrate of the solid-state imaging device is By lowering, after the charge is reversely injected from the semiconductor substrate to the photodiode to saturate the photodiode,
A solid-state imaging device, wherein an image including a variation in saturation is obtained by transferring charges in the photodiode to a vertical transfer register.
【請求項2】 前記半導体基板に印加する電圧を下げた
後に、再び印加電圧を上げて前記フォトダイオード内の
不要電荷を前記半導体基板に引き抜くことを特徴とする
請求項1記載の固体撮像装置。
2. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein after the voltage applied to the semiconductor substrate is reduced, the applied voltage is increased again to extract unnecessary charges in the photodiode to the semiconductor substrate.
【請求項3】 前記固体撮像素子の半導体基板に印加す
る電圧を15V付近まで下げることによって、電荷を前
記半導体基板から前記フォトダイオード及び前記垂直レ
ジスタに逆注入して前記フォトダイオード及び前記垂直
転送レジスタを強制的に飽和させた後に、まず前記垂直
レジスタ内の電荷を転送して、次にゲート領域を介して
前記フォトレジスタ内の電荷を前記垂直転送レジスタへ
転送することによって飽和ばらつきを含む画像を取得す
ることを特徴とする請求項1又は2記載の固体撮像装
置。
3. A charge applied from the semiconductor substrate to the photodiode and the vertical register by lowering a voltage applied to the semiconductor substrate of the solid-state imaging device to around 15 V, thereby causing the photodiode and the vertical transfer register to be injected. After forcibly saturating, first transfer the charges in the vertical register, and then transfer the charges in the photoresistor to the vertical transfer register via the gate region to obtain an image including saturation variation. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the image is acquired.
【請求項4】 前記電荷の逆注入は、1フレーム以上の
間隔をおいて行うことを特徴とする請求項1から3のい
ずれかに記載の固体撮像装置。
4. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the reverse injection of the charge is performed at intervals of one frame or more.
【請求項5】 前記電荷の逆注入は、前記固体撮像装置
の起動時に行うことを特徴とする請求項1から3のいず
れかに記載の固体撮像装置。
5. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the reverse injection of the charge is performed when the solid-state imaging device is started.
【請求項6】 光学的シャッター手段を備え、電荷の逆
注入中には光学的にシャッターを閉じて、フォトダイオ
ードにおいて光電変換が起こらないようにすることを特
徴とする請求項1から5のいずれかに記載の固体撮像装
置。
6. The method according to claim 1, further comprising an optical shutter means, wherein the shutter is optically closed during the reverse injection of electric charge so that photoelectric conversion does not occur in the photodiode. A solid-state imaging device according to any one of claims 1 to 3.
【請求項7】 前記固体撮像素子の受光面の前段に、前
記光学的シャッター手段および前記光学的シャッター手
段の後段に発光手段を備え、飽和ばらつき画像の取得時
に、前記発光手段を発光させることにより前記固体撮像
素子のフォトダイオードを飽和させることを特徴とする
請求項1から3のいずれかに記載の固体撮像装置。
7. An optical shutter means provided before the light receiving surface of the solid-state imaging device and a light emitting means provided after the optical shutter means, and the light emitting means emits light when a saturation variation image is obtained. The solid-state imaging device according to any one of claims 1 to 3, wherein a photodiode of the solid-state imaging device is saturated.
【請求項8】 前記発光手段の発光は、1フレーム以上
の間隔をおいて行うことを特徴とする請求項7記載の固
体撮像装置。
8. The solid-state imaging device according to claim 7, wherein light emission of said light emitting means is performed at intervals of one frame or more.
【請求項9】 前記発光手段の発光は、前記固体撮像装
置の起動時に行うことを特徴とする請求項7記載の固体
撮像装置。
9. The solid-state imaging device according to claim 7, wherein said light-emitting means emits light when said solid-state imaging device is started.
【請求項10】 光電変換中において前記発光体以外の
外光が入るのを防ぐために光を遮蔽する光学的シャッタ
ー手段を有することを特徴とする請求項7から9のいず
れかに記載の固体撮像装置。
10. The solid-state imaging device according to claim 7, further comprising an optical shutter unit that shields light to prevent external light other than the light-emitting body from entering during photoelectric conversion. apparatus.
【請求項11】 前記発光手段の光量を変化させること
によって、前記固体撮像素子の入射輝度と出力電圧の感
度特性を取得することを特徴とする請求項7から10の
いずれかに記載の固体撮像装置。
11. The solid-state imaging device according to claim 7, wherein a sensitivity characteristic of an incident luminance and an output voltage of the solid-state imaging device is obtained by changing a light amount of the light emitting unit. apparatus.
【請求項12】 飽和ばらつきを含む画像信号を保存す
る第1の記憶手段と、 当該飽和ばらつきを含む画像の平均輝度を算出する平均
輝度算出手段と、 前記第1の記憶手段で記憶された画像信号と、前記平均
輝度算出手段にて算出された平均輝度信号との差を算出
する手段と、 該算出された差信号を当該飽和ばらつきを含む画像信号
に加算する加算手段とを有し、 該加算手段からは当該画像信号中のノイズが抑制された
信号が出力されることを特徴とする請求項1から11の
いずれかに記載の固体撮像装置。
12. An image signal stored in the first storage unit, wherein the first storage unit stores an image signal including the saturation variation, an average brightness calculation unit calculates an average brightness of the image including the saturation variation. Signal, a means for calculating a difference between the average luminance signal calculated by the average luminance calculation means, and an addition means for adding the calculated difference signal to the image signal including the saturation variation, The solid-state imaging device according to claim 1, wherein a signal in which noise in the image signal is suppressed is output from the adding unit.
【請求項13】 前記第1の記憶手段が飽和ばらつき画
像を取得する場合において、動画像の出力が途切れるこ
とを防ぐために当該画像の1フレーム前の画像を保存し
ておく第2の記憶手段を有することを特徴とする請求項
12記載の固体撮像装置。
13. When the first storage unit obtains a saturation variation image, a second storage unit that stores an image one frame before the image in order to prevent the output of a moving image from being interrupted is provided. 13. The solid-state imaging device according to claim 12, comprising:
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