JP2001094027A - Semiconductor device and method for manufactuing it - Google Patents

Semiconductor device and method for manufactuing it

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JP2001094027A
JP2001094027A JP26870599A JP26870599A JP2001094027A JP 2001094027 A JP2001094027 A JP 2001094027A JP 26870599 A JP26870599 A JP 26870599A JP 26870599 A JP26870599 A JP 26870599A JP 2001094027 A JP2001094027 A JP 2001094027A
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semiconductor device
solder
semiconductor element
resin
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Taizo Tomioka
泰造 冨岡
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Original Assignee
Toshiba Corp
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device in which bouding strength is increased and stress with respect to a cycle can be relieved by forming sufficient fillets in the case of mounting onto a board, when all outer leads are covered with resin. SOLUTION: This semiconductor device is provided with a bed 52, on which a semiconductor element 41 is mounted, inner leads 52 which are arranged making one end sides face the bed 52 and connected with terminals 42 of the semiconductor element 41, and a resin seal molding part 44 which seals the semiconductor element 41, the inner leads 53 and the outer leads 54 in such a manner that the contour line almost coincides with a line R which connects the tips of the outer leads 54, the tips are exposed and the outer leads 54 are covered with a solder S.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、QON(Quad Out
line Non-Leaded)型やSON(Small Outline Non-lea
ded)型等のアウタリードの大部分が樹脂封止されてい
る形状の半導体装置及びその製造方法に関し、特に接合
強度の向上・熱応力緩和機能の改善を図ることができる
ものに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a QON (Quad Out)
line Non-Leaded) or SON (Small Outline Non-lead)
The present invention relates to a semiconductor device having a shape in which most of outer leads such as a ded) type are sealed with a resin, and a method of manufacturing the same, and more particularly to a device capable of improving a bonding strength and a thermal stress relaxation function.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4の(a)〜(d)は、QON型の半
導体装置10の一例を示す図であり、(a)は上面図、
(b)は下面図、(c)は側面断面図、(d)は(b)
中二点鎖線Mで囲んだ部分を拡大して示す下面図であ
る。また、図5は、QON半導体装置10に用いられる
リードフレーム20の外観を示す平面図である。
2. Description of the Related Art FIGS. 4A to 4D are views showing an example of a QON type semiconductor device 10, in which FIG.
(B) is a bottom view, (c) is a side sectional view, and (d) is (b).
It is a bottom view which expands and shows the part enclosed with the two-dot chain line M. FIG. 5 is a plan view showing the appearance of a lead frame 20 used in the QON semiconductor device 10. FIG.

【0003】QON半導体装置10は、半導体素子11
が搭載されたベッド22と、このベッド22の周囲に配
置されたインナリード23と、このインナリード23に
連設されたアウタリード24とを備えている。
A QON semiconductor device 10 includes a semiconductor element 11
, An inner lead 23 disposed around the bed 22, and an outer lead 24 connected to the inner lead 23.

【0004】また、半導体素子11の各端子12とイン
ナリード23とはそれぞれ金属ワイヤ13で接続されて
いる。さらに、図4中14はモールド樹脂からなる樹脂
封止成形部を示しており、ベッド22の素子搭載面22
a、半導体素子11、金属ワイヤ13、インナリード2
3、アウタリード24が樹脂封止されている。なお、ベ
ッド22の上面22b及びアウタリード24の先端下部
24aは樹脂封止成形部14から露出している。
[0004] Each terminal 12 of the semiconductor element 11 and the inner lead 23 are connected by a metal wire 13. Further, in FIG. 4, reference numeral 14 denotes a resin-sealed molded portion made of a mold resin.
a, semiconductor element 11, metal wire 13, inner lead 2
3. The outer leads 24 are sealed with resin. The upper surface 22 b of the bed 22 and the lower end 24 a of the outer lead 24 are exposed from the resin sealing molding 14.

【0005】リードフレーム20は、図5に示すように
フレーム基部21と、ベッド22と、このベッド22の
周囲に設けられたインナリード23と、このインナリー
ド23に連設されたアウタリード24と、隣接するアウ
タリード24を支持するタイバー25とを備えている。
As shown in FIG. 5, the lead frame 20 includes a frame base 21, a bed 22, an inner lead 23 provided around the bed 22, an outer lead 24 connected to the inner lead 23, and And a tie bar 25 that supports the adjacent outer lead 24.

【0006】なお、インナリード23には銀めっき23
aが施されており、アウタリード24の先端下部24a
にのみ厚さ5〜20μmの外装はんだSがメッキにより
施されている。また、図中破線Rは樹脂封止成形部14
により封止される範囲を示している。
The inner lead 23 has a silver plating 23
a is provided, and a lower end portion 24a of the outer lead 24 is provided.
Only the outer solder S having a thickness of 5 to 20 μm is applied by plating. The broken line R in the figure indicates the resin-sealed molded portion 14.
Indicates the area sealed by

【0007】このようなQON半導体装置10では、樹
脂封止成形部14の外周とほぼ同じ範囲でアウタリード
24が切断されており、アウタリード24のほぼ全部が
樹脂封止成形部14内に配置されたいわゆるリードレス
タイプの形状である。このため、樹脂封止成形部14外
にアウタリード24が配置されたQFP(Quad FlatPac
kage)やSOP(Small Outline Package)タイプの半
導体装置に比べ、実装面積を小さくできる特徴がある。
In such a QON semiconductor device 10, the outer leads 24 are cut in substantially the same area as the outer periphery of the resin-sealed molded part 14, and almost all of the outer leads 24 are disposed in the resin-sealed molded part 14. This is a so-called leadless type shape. For this reason, a QFP (Quad FlatPac) in which the outer leads 24 are arranged outside the resin sealing molding portion 14 is used.
kage) and SOP (Small Outline Package) type semiconductor devices.

【0008】また、半導体素子11が搭載されたベッド
22の上面22bが樹脂封止成形部14から露出した構
造であるため、半導体素子11で発生した熱をベッド2
2の上面22bより効率よく放熱することができる。
Further, since the upper surface 22b of the bed 22 on which the semiconductor element 11 is mounted is exposed from the resin molding 14, the heat generated in the semiconductor element 11 is
2 can be dissipated more efficiently than the upper surface 22b.

【0009】一方、QON半導体装置10では、次のよ
うにして実装が行われる。すなわち、予めQON半導体
装置10のアウタリード24の先端下部24aに外装は
んだSをめっきにより供給するとともに、プリント基板
30にはんだペーストPを印刷し、QON半導体装置1
0を搭載後、リフロー加熱によりはんだペーストPとア
ウタリード24の外装はんだSとを溶融し、はんだ接合
を行う。
On the other hand, mounting is performed in the QON semiconductor device 10 as follows. That is, the solder S is supplied to the lower end 24a of the outer lead 24 of the QON semiconductor device 10 by plating, and the solder paste P is printed on the printed circuit board 30 in advance.
After mounting No. 0, the solder paste P and the exterior solder S of the outer leads 24 are melted by reflow heating, and solder bonding is performed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記した従来のQON
半導体装置10では、次のような問題があった。すなわ
ち、モールド後に施される外装はんだSはアウタリード
24の先端下部24aのみしかメッキされない。このた
め、アウタリード24の外側端面24bは切断時に素材
がほとんど露出した状態であり、外装はんだめっきはほ
とんど付着していない。
The above-mentioned conventional QON
The semiconductor device 10 has the following problem. That is, only the lower end 24a of the outer lead 24 is plated with the exterior solder S applied after the molding. For this reason, the outer end surface 24b of the outer lead 24 is in a state in which the material is almost exposed at the time of cutting, and the outer solder plating hardly adheres.

【0011】このため、図6に示すように、はんだによ
るフィレットFが形成される部分はアウタリード24の
先端下部24aのみで、アウタリード24の先端側部2
4b及びアウタリード24の先端内部24cにはフィレ
ットFは全く形成されない。これはアウタリード24の
先端下部24a以外は全てモールド樹脂に覆われている
ためである。また、アウタリード24の先端外部24d
も切断時の素材露出があるため端子厚さの約半分程しか
濡れず、フィレット形状が小さくなってしまう。
For this reason, as shown in FIG. 6, the portion where the fillet F is formed by solder is only the lower end portion 24a of the outer lead 24, and the tip side portion 2a of the outer lead 24 is formed.
No fillet F is formed on the inner end 4c of the outer lead 24 and the outer lead 4b. This is because the portion of the outer lead 24 other than the lower end portion 24a is entirely covered with the mold resin. In addition, the outer end 24d of the outer lead 24
Also, since the material is exposed at the time of cutting, only about half of the terminal thickness is wet, and the fillet shape is reduced.

【0012】一方、アウタリード24の大部分がモール
ド樹脂に覆われているため、基板実装後の熱サイクルに
対する応力緩和ができない。
On the other hand, since most of the outer leads 24 are covered with the mold resin, it is not possible to alleviate the stress with respect to the thermal cycle after mounting on the board.

【0013】このため、アウタリードの端面全面にフィ
レットが形成されるガルウイングタイプのQFPやSO
Pの表面実装用半導体装置に比べると、QON半導体装
置はプリント基板30とアウタリード24との接合強度
が著しく低下してしまう。SON半導体装置でも同様の
問題がある。
Therefore, a gull-wing type QFP or SO having a fillet formed on the entire end face of the outer lead is provided.
Compared with the P surface mount semiconductor device, the QON semiconductor device has a significantly reduced bonding strength between the printed board 30 and the outer lead 24. SON semiconductor devices have similar problems.

【0014】そこで本発明は、アウタリード全体が樹脂
に覆われている場合であっても、基板に実装する際に十
分なフィレットを形成することで接合強度を大きくし、
かつ、熱サイクルに対する応力緩和が可能な半導体装置
及びその製造方法を提供することを目的としている。
Therefore, the present invention increases the bonding strength by forming a sufficient fillet when mounting on the substrate, even when the entire outer lead is covered with resin.
Further, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of relaxing stress against a thermal cycle and a method for manufacturing the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の半導体装置及びその製造方法
は次のように構成されている。
In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention are configured as follows.

【0016】(1)半導体素子と、この半導体素子にそ
の一端側を向けて配置されるとともに、前記半導体素子
の端子に接続されたリード部と、前記半導体素子及び前
記リード部を、その外形の内側に略若しくは全て収め、
かつ、前記リード部のアウタリードを露出して封止する
樹脂封止体とを備え、前記アウタリードは、はんだ材料
の被覆を有することを特徴とする。
(1) A semiconductor element, a lead portion which is arranged with one end thereof facing the semiconductor element and is connected to a terminal of the semiconductor element, and the semiconductor element and the lead portion are connected to the outer shape of the semiconductor element. Put almost or all inside,
And a resin sealing body for exposing and sealing the outer lead of the lead portion, wherein the outer lead has a coating of a solder material.

【0017】(2)ベッドに半導体素子を搭載する半導
体素子搭載工程と、金属線で前記半導体素子の電極とリ
ード部の一端側とを結線するインナリード結線工程と、
前記リード部のアウタリードにはんだを被覆するはんだ
被覆工程と、前記半導体素子及び前記リード部を、樹脂
の外形の内側に略若しくは全て収め、かつ、前記アウタ
リードを露出して封止する樹脂封止工程とを備えている
ことを特徴とする。
(2) a semiconductor element mounting step of mounting a semiconductor element on a bed, and an inner lead connecting step of connecting an electrode of the semiconductor element and one end of a lead portion with a metal wire;
A solder coating step of coating the outer lead of the lead part with solder, and a resin sealing step of substantially or entirely enclosing the semiconductor element and the lead part inside the outer shape of a resin, and exposing and sealing the outer lead And characterized in that:

【0018】(3)上記(2)に記載された半導体装置
の製造方法であって、前記樹脂封止工程の後に、前記は
んだを溶融させるはんだ被覆溶融工程とを備えているこ
とを特徴とする。
(3) The method for manufacturing a semiconductor device according to the above (2), further comprising a solder coating melting step of melting the solder after the resin sealing step. .

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1の(a)〜(d)は本発明の
一実施の形態に係るQON型の半導体装置40を示す図
であり、(a)は上面図、(b)は下面図、(c)は縦
断面図、(d)は(c)中二点鎖線Nで囲んだ部分を拡
大して示す断面図である。また、図2は、半導体装置4
0のリードフレーム50を示す図である。また、図3は
半導体装置40の要部を示す断面図である。なお、これ
らの図において、上述した図4〜図6と同一機能部分に
は同一符号を付した。
1A to 1D are views showing a QON type semiconductor device 40 according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a top view, and FIG. FIG. 2C is a bottom view, FIG. 2C is a longitudinal sectional view, and FIG. 2D is an enlarged sectional view of a portion surrounded by a two-dot chain line N in FIG. FIG. 2 shows the semiconductor device 4.
FIG. 4 is a diagram showing a lead frame 50 of No. 0; FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a main part of the semiconductor device 40. In these figures, the same reference numerals are given to the same functional portions as those in FIGS.

【0020】半導体装置40は、半導体素子41が搭載
されたベッド52と、このベッド52の周囲に配置され
たインナリード53と、このインナリード53に連設さ
れたアウタリード54とを備えている。
The semiconductor device 40 includes a bed 52 on which the semiconductor element 41 is mounted, an inner lead 53 disposed around the bed 52, and an outer lead 54 connected to the inner lead 53.

【0021】また、半導体素子41の各端子42とイン
ナリード53とはそれぞれ金属ワイヤ43で接続されて
いる。さらに、図1中44はモールド樹脂からなる樹脂
封止成形部を示しており、ベッド52の素子搭載面52
a、半導体素子41、金属ワイヤ43、インナリード5
3、アウタリード54が樹脂封止されている。樹脂封止
成形部44の外形線は、アウタリード54の先端を結ぶ
線とほぼ一致している。なお、ベッド52の上面52b
及びアウタリード54は樹脂封止成形部44から露出し
ている。
The terminals 42 of the semiconductor element 41 and the inner leads 53 are connected by metal wires 43, respectively. Further, reference numeral 44 in FIG. 1 denotes a resin-sealed molded portion made of a mold resin.
a, semiconductor element 41, metal wire 43, inner lead 5
3. The outer leads 54 are sealed with resin. The outline of the resin-sealed molded portion 44 substantially matches the line connecting the tips of the outer leads 54. The upper surface 52b of the bed 52
And, the outer leads 54 are exposed from the resin sealing molded portion 44.

【0022】リードフレーム50は、図2に示すように
フレーム基部51と、ベッド52と、このベッド52の
周囲に設けられたインナリード53と、このインナリー
ド53に連設されたアウタリード54と、隣接するアウ
タリード54を支持するタイバー55とを備えている。
このリードフレーム50は、プレス加工やエッチング加
工により成形されている。
As shown in FIG. 2, the lead frame 50 includes a frame base 51, a bed 52, an inner lead 53 provided around the bed 52, an outer lead 54 connected to the inner lead 53, and And a tie bar 55 that supports the adjacent outer lead 54.
The lead frame 50 is formed by pressing or etching.

【0023】なお、インナリード53には銀めっき53
aが施されており、アウタリード54には厚さ30μm
の外装はんだSがメッキにより施されている。また、図
中破線Rは樹脂封止成形部44により封止される範囲を
示している。
The inner lead 53 has a silver plating 53
a, and the outer lead 54 has a thickness of 30 μm.
Is applied by plating. A broken line R in the figure indicates a range sealed by the resin sealing molded portion 44.

【0024】このように構成された半導体装置40は、
次のような工程で製造される。すなわち、リードフレー
ム50のベッド52に半導体素子41を搭載し、170
℃以下の低温キュアを行なう。その後、同様の低温ボン
ディングにより金属ワイヤ43により半導体素子端子4
2とインナリード53とを結線する。その後、モールド
樹脂により破線R内において低温樹脂封止成形を行ない
樹脂封止成形部44を形成し、破線Rの位置でアウタリ
ード54を切断する。
The semiconductor device 40 thus configured is
It is manufactured by the following steps. That is, the semiconductor element 41 is mounted on the bed 52 of the lead frame 50, and
Perform low-temperature curing at a temperature of ℃ or less. Thereafter, the semiconductor element terminals 4 are connected to the metal wires 43 by the same low-temperature bonding.
2 and the inner lead 53 are connected. After that, low-temperature resin sealing molding is performed within the broken line R with the mold resin to form the resin sealing molded portion 44, and the outer lead 54 is cut at the position of the broken line R.

【0025】次に、Nあるいは還元雰囲気内で樹脂
封止成形部44を下面より、はんだ溶融温度まで加熱
し、予めアウタリード54の全面に施された外装はんだ
Sを溶融させる。これにより、アウタリード54と樹脂
封止成形部44とが分離するとともに、アウタリード5
4の全面に外装はんだSが行き渡る。なお、溶融の前段
階でアウタリード54の切断位置にノンハロゲン系のフ
ラックスを塗布しておくと、更に確実に切断位置にはん
だが行き渡る。
Next, the resin sealing molded portion 44 is heated from the lower surface to the solder melting temperature in N 2 or a reducing atmosphere, and the exterior solder S applied to the entire surface of the outer lead 54 in advance is melted. As a result, the outer leads 54 and the resin sealing molded portion 44 are separated, and the outer leads 5
The outer solder S spreads over the entire surface of the substrate 4. If a halogen-free flux is applied to the cutting position of the outer lead 54 before the melting, the solder spreads more reliably to the cutting position.

【0026】一方、このような工程で製造されたQON
型の半導体装置40では、次のようにして実装が行われ
る。すなわち、プリント基板30にはんだペーストPを
印刷し、QON半導体装置40を搭載する。そして、リ
フロー加熱によりはんだペーストPとアウタリード54
の外装はんだSとを溶融し、はんだ接合を行う。このと
き、アウタリード54が外装はんだSで覆われているた
め、アウタリード54全面にはんだフィレットFが形成
される。
On the other hand, the QON manufactured by such a process
In the semiconductor device 40 of the type, mounting is performed as follows. That is, the solder paste P is printed on the printed circuit board 30, and the QON semiconductor device 40 is mounted. Then, the solder paste P and the outer leads 54 are heated by reflow heating.
Is melted with the exterior solder S, and solder bonding is performed. At this time, since the outer leads 54 are covered with the exterior solder S, the solder fillets F are formed on the entire outer leads 54.

【0027】上述したように、本実施の形態に係るQO
N型の半導体装置40では、アウタリード54全体が外
装はんだSで被覆されているので、アウタリード54を
樹脂封止成形部44から分離させることができる。この
ため、実装時のはんだフィレットFがアウタリード54
全面に形成されることになり、プリント基板30に対し
高い接合強度が得られる。また、アウタリード54が樹
脂封止成形部44から分離しているため、独立したリー
ド形状が確保でき、基板実装後の熱サイクルに対する応
力を緩和することが可能となる。
As described above, the QO according to the present embodiment
In the N-type semiconductor device 40, since the entire outer lead 54 is covered with the exterior solder S, the outer lead 54 can be separated from the resin-sealed molded portion 44. Therefore, the solder fillet F at the time of mounting is
Since it is formed on the entire surface, high bonding strength to the printed board 30 can be obtained. In addition, since the outer leads 54 are separated from the resin-sealed molded portion 44, an independent lead shape can be secured, and it is possible to alleviate the stress with respect to the thermal cycle after mounting the board.

【0028】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではない。すなわち、上述した実施の形態では、
QON型の半導体装置について説明したが、SON型の
半導体装置についても同様に適用可能である。この他、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であ
るのは勿論である。
The present invention is not limited to the above embodiment. That is, in the above-described embodiment,
Although the QON type semiconductor device has been described, the present invention is similarly applicable to a SON type semiconductor device. In addition,
Of course, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば、パッケージのアウタリ
ードがパッケージ封止樹脂と非接触関係にあり、アウタ
リードの全面に外装はんだが被覆されている構造によ
り、ユーザでの基板実装においてはんだ濡れ性を向上す
ることができる。
According to the present invention, the outer leads of the package are in a non-contact relationship with the package sealing resin, and the outer leads are covered with the outer solder. Can be improved.

【0030】該パッケージのアウタリードの外装はんだ
は、一旦溶融させていることにより、従来の外装めっき
後のリード切断時に発生する、切断部の素材露出を防止
することができる。特にリード先端部の素材露出を対策
できることにより基板実装における接合強度を向上する
ことができる。
Since the outer solder of the outer lead of the package is once melted, it is possible to prevent the exposed material of the cut portion, which is generated when the lead is cut after the conventional outer plating. In particular, by being able to take measures against the exposure of the material at the tip of the lead, it is possible to improve the bonding strength in mounting on the substrate.

【0031】該パッケージのアウタリードの全面に外装
はんだが施されていることで、基板実装時のはんだフィ
レットがアウタリード全面に形成され、高い接合強度が
得られると同時に、アウタリードがパッケージから分離
することで独立したリード形状が確保でき、基板実装後
の熱サイクルに対する応力を緩和することができる。
Since the outer solder is applied to the entire surface of the outer lead of the package, a solder fillet is formed on the entire surface of the outer lead at the time of mounting on the board, so that a high bonding strength is obtained and at the same time, the outer lead is separated from the package. Independent lead shapes can be ensured, and stress to thermal cycles after mounting on the board can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るQON半導体装置を示
す図であって、(a)は上面図、(b)は下面図、
(c)は縦断面図、(d)は(c)の要部を拡大して示
す断面図。
FIG. 1 is a view showing a QON semiconductor device according to one embodiment of the present invention, wherein (a) is a top view, (b) is a bottom view,
(C) is a longitudinal sectional view, and (d) is an enlarged sectional view showing a main part of (c).

【図2】同QON半導体装置に用いられるリードフレー
ムを示す平面図。
FIG. 2 is a plan view showing a lead frame used in the QON semiconductor device.

【図3】同QON半導体装置が基板実装された状態を示
す要部断面図。
FIG. 3 is an essential part cross sectional view showing a state where the QON semiconductor device is mounted on a substrate;

【図4】従来のQON半導体装置の一例を示す図であっ
て、(a)は上面図、(b)は下面図、(c)は縦断面
図、(d)は(b)の要部を拡大して示す下面図。
4A and 4B are diagrams showing an example of a conventional QON semiconductor device, wherein FIG. 4A is a top view, FIG. 4B is a bottom view, FIG. 4C is a longitudinal sectional view, and FIG. The bottom view which expands and shows.

【図5】同QON半導体装置に用いられるリードフレー
ムを示す平面図。
FIG. 5 is a plan view showing a lead frame used in the QON semiconductor device.

【図6】同QON半導体装置が基板実装された状態を示
す要部断面図。
FIG. 6 is an essential part cross sectional view showing a state where the QON semiconductor device is mounted on a substrate;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30…プリント基板 40…半導体装置 41…半導体素子 44…樹脂封止成形部 50…リードフレーム 52…ベッド 53…インナリード 54…アウタリード DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 ... Printed board 40 ... Semiconductor device 41 ... Semiconductor element 44 ... Resin sealing molding part 50 ... Lead frame 52 ... Bed 53 ... Inner lead 54 ... Outer lead

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体素子と、 この半導体素子にその一端側を向けて配置されるととも
に、前記半導体素子の端子に接続されたリード部と、 前記半導体素子及び前記リード部を、その外形の内側に
略若しくは全て収め、かつ、前記リード部のアウタリー
ドを露出して封止する樹脂封止体とを備え、 前記アウタリードは、はんだ材料の被覆を有することを
特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device, a lead portion arranged at one end of the semiconductor device and connected to a terminal of the semiconductor device, and a semiconductor device and the lead portion are formed inside an outer shape of the semiconductor device. And a resin sealing body for substantially exposing the outer leads of the lead portions and sealing the outer leads. The outer leads have a coating of a solder material.
【請求項2】ベッドに半導体素子を搭載する半導体素子
搭載工程と、 金属線で前記半導体素子の電極とリード部の一端側とを
結線するインナリード結線工程と、 前記リード部のアウタリードにはんだを被覆するはんだ
被覆工程と、 前記半導体素子及び前記リード部を、樹脂の外形の内側
に略若しくは全て収め、かつ、前記アウタリードを露出
して封止する樹脂封止工程とを備えていることを特徴と
する半導体装置の製造方法。
2. A semiconductor element mounting step of mounting a semiconductor element on a bed; an inner lead connecting step of connecting an electrode of the semiconductor element to one end of a lead section with a metal wire; and soldering an outer lead of the lead section. A solder coating step of coating, and a resin sealing step of substantially or entirely housing the semiconductor element and the lead portion inside the outer shape of a resin, and exposing and sealing the outer leads. Manufacturing method of a semiconductor device.
【請求項3】前記樹脂封止工程の後に、前記はんだを溶
融させるはんだ被覆溶融工程とを備えていることを特徴
とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2, further comprising a solder coating melting step of melting the solder after the resin sealing step.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005093823A (en) * 2003-09-18 2005-04-07 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Magnetoelectric transducing element
JP2005123383A (en) * 2003-10-16 2005-05-12 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Electromagnetic transducer element

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