JP2001093959A - Substrate rearranging apparatus and substrate treating apparatus having the same - Google Patents

Substrate rearranging apparatus and substrate treating apparatus having the same

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JP2001093959A
JP2001093959A JP26871599A JP26871599A JP2001093959A JP 2001093959 A JP2001093959 A JP 2001093959A JP 26871599 A JP26871599 A JP 26871599A JP 26871599 A JP26871599 A JP 26871599A JP 2001093959 A JP2001093959 A JP 2001093959A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate rearranging apparatus and a substrate treating apparatus which changes the array of glass substrates, semiconductor wafers, etc., for liquid crystals to the array in face to face or back to back. SOLUTION: This apparatus lifts substrates W held face to back in cassettes 15, 16 to a second position H2 through push-up members 60, 61, inserts a movable base 23f of a substrate hold means 21 into lower parts of the substrates W, holds and lifts the substrates with a substrate holder 23g to a third position H3, rotates the substrates 180 deg. through the push-up member 60, moves the movable base and push-up members horizontally to position the substrates, lowers the substrate holder, inserts the substrates on the push-up member between the substrates on the substrate holder, thereby mounting the substrates face to face on the push-up member 60, then executes cleaning and drying works, and rearranges the substrates into a face-to-back array by the reverse operation to this operation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の基板(液晶
用ガラス基板、半導体ウエハ等)のフェイス面(鏡面)
同士又はバック面同士を対向させた配列に変換する基板
並べ換え装置及び該装置を備えた基板処理装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a face surface (mirror surface) of a plurality of substrates (a glass substrate for liquid crystal, a semiconductor wafer, etc.).
The present invention relates to a substrate rearranging device for converting an array having a back surface facing each other and a substrate processing apparatus provided with the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、複数の基板表面に薄膜を形成させ
るCVD装置や洗浄液等の処理液を貯留した処理槽に複
数の基板を浸漬して基板に処理を行う基板処理装置は、
複数の基板を素子パターンが形成されるフェイス面同
士、又はフェイス面の裏側であるバック面同士を対向さ
せて互いにその面が揃うように整列させることが行われ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate processing apparatus that performs processing on a substrate by immersing a plurality of substrates in a processing tank that stores a processing liquid such as a cleaning liquid or a CVD apparatus that forms a thin film on the surface of the plurality of substrates includes:
A plurality of substrates are aligned so that the face surfaces on which the element patterns are formed or the back surfaces that are the back sides of the face surfaces face each other so that the surfaces are aligned.

【0003】従来の基板処理装置の基板並べ換え装置と
しては、例えば特開平2−184045号がある。図1
2は、この従来の基板並べ換え装置の側面図である。図
12に示すように、ウエハ押上回転装置160の押上板
162は、キャリア120内に収容された基板Wを押し
上げて保持する。押上板162上の基板Wは、チャック
装置140のチャック148によって1枚置きに把持さ
れる。そして、チャック148を上昇させて基板Wの間
から1枚置きに抜き取る。その後、チャック装置140
がレール150上をY軸方向に移動することによりチャ
ック148も基板Wの並び方向であるY軸方向に移動し
てキャリア120の上方から退避する。
[0003] As a substrate rearranging device of a conventional substrate processing apparatus, there is, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-184045. FIG.
FIG. 2 is a side view of the conventional substrate rearranging apparatus. As shown in FIG. 12, the push-up plate 162 of the wafer push-up rotation device 160 pushes up and holds the substrate W accommodated in the carrier 120. The substrates W on the push-up plate 162 are gripped every other by the chuck 148 of the chuck device 140. Then, the chuck 148 is lifted and every other sheet is extracted from between the substrates W. Then, the chuck device 140
Moves on the rail 150 in the Y-axis direction, the chuck 148 also moves in the Y-axis direction, which is the direction in which the substrates W are arranged, and retreats from above the carrier 120.

【0004】次に、押上板162上に残された基板W
は、押上板162が180度回転することによってフェ
イス面が向いていた方向にバック面が向くように回転す
る。そして、チャック装置140は、前述の移動方向と
は逆方向に移動することによって、基板Wを把持したチ
ャック148をキャリア120上方に移動させた後降下
させる。更に、押上板162が上昇することで押上板1
62上に保持された複数の基板Wの隙間にチャック14
8によって把持された基板Wが挿入される。その後、チ
ャック148を開いて把持していた基板Wを押上板16
2上に保持することによってフェイス面同士又はバック
面同士が対向した状態で基板Wを整列させることができ
る。
Next, the substrate W left on the push-up plate 162
The push-up plate 162 is rotated by 180 degrees so that the back surface faces in the direction in which the face surface faces. Then, the chuck device 140 moves in a direction opposite to the above-described moving direction, thereby moving the chuck 148 holding the substrate W above the carrier 120 and then descends. Further, the lifting plate 162 is raised, so that the lifting plate 1
The chuck 14 is inserted into a gap between the plurality of substrates W held on
The substrate W gripped by 8 is inserted. Thereafter, the chuck 148 is opened, and the substrate W held by the chuck 148 is lifted.
The substrate W can be aligned with the face surfaces facing each other or the back surfaces facing each other by holding the substrate W on the second surface.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の基板並べ換え装
置は、チャック148が押上板162上に保持された基
板Wを1枚置きに把持する際、又はチャック148が把
持した基板Wを押上板162上の複数の基板Wの隙間に
挿入する際に、それらの基板Wの並び方向にチャック1
48を移動させて適切な位置にチャック148が位置す
るように位置決めを行っている。
In the conventional substrate rearranging apparatus, when the chuck 148 holds every other substrate W held on the push-up plate 162, or when the chuck 148 holds the substrate W held by the chuck 148, When inserting the plurality of substrates W into the gap between the upper substrates W, the chuck 1
48 is moved so that the chuck 148 is positioned at an appropriate position.

【0006】しかしながら、この位置決め精度が低いと
チャック148が基板Wを把持し損ねたり、チャック1
48に把持された基板Wと押上板162上に保持された
基板Wとが接触するなどして基板Wを破損する恐れもあ
る。
However, if the positioning accuracy is low, the chuck 148 may fail to hold the substrate W,
There is a possibility that the substrate W gripped by 48 and the substrate W held on the push-up plate 162 may be damaged due to contact with the substrate W or the like.

【0007】本発明は、従来のようなチャックを用いる
ことなく確実に基板を保持することが可能であって、基
板を破損させることがなく複数の基板のフェイス面(鏡
面)同士又はバック面同士を対向させた配列に変換する
ことが可能な基板並べ換え装置及び該装置を備えた基板
処理装置を提供することを目的とする。
According to the present invention, it is possible to reliably hold a substrate without using a conventional chuck, and to damage the substrates without causing damage to the substrates. It is an object of the present invention to provide a substrate rearranging device capable of converting an array into a facing arrangement and a substrate processing apparatus provided with the device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明による基板並べ換
え装置は、複数のカセット内に収容された複数の基板の
一部の向きを反転させて基板のフェイス面同士又はフェ
イス面の裏側であるバック面同士を対向させた配列に並
べ換える基板並べ換え装置であって、前記基板並べ換え
装置は、昇降機構と、水平方向に移動可能で先端部の左
右対称な位置に基板を保持する基板保持部材が装着され
た可動ベースを有する水平移動機構とを有する基板保持
手段と、第1の押上部材及び第2の押上部材を昇降させ
る基板昇降手段と、第1の押上部材及び第2の押上部材
を夫々回転可能な回転機構を有する基板押上回転手段と
を備え、前記第1の押上部材及び第2の押上部材は、前
記カセットに収容された複数の基板を受け取って所定の
位置まで移動した後、前記第1の押上部材(又は第2の
押上部材)に載置されている基板を前記基板保持手段が
受け取って保持した状態で、第2の押上部材(又は第1
の押上部材)上に保持されている複数の基板を回転さ
せ、前記基板保持手段は前記第2の押上部材の上方まで
移動してから下降して第2の押上部材上の基板間に前記
基板を挿入して載置するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A substrate rearranging apparatus according to the present invention reverses the direction of a part of a plurality of substrates accommodated in a plurality of cassettes so that the back surfaces of the substrates are opposite to each other or opposite to each other. What is claimed is: 1. A substrate rearranging device for rearranging an array in which surfaces are opposed to each other, the substrate rearranging device includes a lifting mechanism and a substrate holding member that is horizontally movable and holds a substrate at a symmetrical position at a tip portion. Substrate holding means having a horizontal moving mechanism having a movable base, a substrate lifting means for lifting and lowering the first lifting member and the second lifting member, and rotating the first lifting member and the second lifting member, respectively. Substrate lifting means having a possible rotation mechanism, wherein the first lifting member and the second lifting member have received a plurality of substrates contained in the cassette and moved to a predetermined position. Said first lifting member (or the second push-up member) the substrate placed in a state of holding receiving said substrate holding means, the second lifting member (or the first
A plurality of substrates held on the second push-up member, and the substrate holding means moves down above the second push-up member, and then descends to move the substrate between the substrates on the second push-up member. Is inserted and placed.

【0009】また、本発明による基板並べ換え装置の前
記可動ベースは、略U字状でなり、該可動ベースの先端
部の左右対称な位置に前記基板を保持する基板保持部材
が装着されており、該基板保持部材の保持溝と保持溝と
の間に基板1枚分が間を通過可能な溝が形成されている
ものである。
Further, the movable base of the substrate rearranging apparatus according to the present invention is substantially U-shaped, and a substrate holding member for holding the substrate is mounted at a position symmetrical with respect to the tip of the movable base, A groove is formed between the holding grooves of the substrate holding member so that one substrate can pass between the holding grooves.

【0010】また、本発明による基板並べ換え装置の前
記第1の押上部材及び第2の押上部材は同一の構成でな
り、前記第1の押上部材及び第2の押上部材が有する基
板を保持する溝のピッチは、前記カセットの保持溝のピ
ッチと異なるピッチでなるものである。
Further, in the substrate rearranging apparatus according to the present invention, the first push-up member and the second push-up member have the same configuration, and a groove for holding the substrate of the first push-up member and the second push-up member. Is different from the pitch of the holding grooves of the cassette.

【0011】また、本発明による基板処理装置は、前記
基板並べ換え装置を有する第1の基板並び替え部及び第
2の基板並べ換え部と、受台上に載置された複数の基板
が収容されたカセットを搬送するカセット搬送手段と、
カセット内に収納された基板を揃えて正規の位置に位置
決めを行う基板揃え手段と、基板を搬送する基板搬送手
段と、前記基板搬送手段により搬送された基板を洗浄処
理する複数の洗浄槽と、前記洗浄槽により洗浄処理され
た基板を乾燥する乾燥手段とを備え、前記第1の基板並
び替え部により前記洗浄槽により洗浄処理される前の基
板をフェースツーフェースの配列に並べ換え、第2の基
板並べ換え部により前記洗浄槽により洗浄処理された後
の基板をフェースツーバックの配列に並べ換えるもので
ある。
Further, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a first substrate rearranging section and a second substrate rearranging section having the substrate rearranging apparatus, and a plurality of substrates mounted on a receiving table. Cassette transport means for transporting the cassette;
Substrate alignment means for aligning the substrates housed in the cassette and positioning them in a regular position, substrate transport means for transporting the substrate, and a plurality of cleaning tanks for cleaning the substrate transported by the substrate transport means, Drying means for drying the substrate cleaned by the cleaning tank; rearranging the substrate before the cleaning processing by the cleaning tank by the first substrate rearranging section into a face-to-face arrangement; The substrate that has been cleaned by the cleaning tank by the substrate rearranging section is rearranged into a face-to-back arrangement.

【0012】また、本発明による基板並べ換え装置は、
複数のカセット内に収容された複数の基板の一部の向き
を反転させて基板のフェイス面同士又はフェイス面の裏
側であるバック面同士を対向させた配列に並べ換える基
板並べ換え装置であって、前記基板並べ換え装置は、昇
降機構と、水平方向に移動可能で先端部の左右対称な位
置に基板を保持する基板保持部材が装着された可動ベー
スを有する水平移動機構とを有する基板保持手段と、第
1の押上部材及び第2の押上部材を昇降させる基板昇降
手段と、第1の押上部材及び第2の押上部材を夫々回転
可能な回転機構を有する基板押上回転手段とを備え、前
記第1の押上部材及び第2の押上部材は、前記カセット
に収容された複数の基板を受け取って所定の位置まで移
動した後、前記第1の押上部材及び第2の押上部材に載
置されている基板を前記基板保持手段が受け取って保持
して退避した状態で、第1の押上部材及び第2の押上部
材上に保持されている複数の基板を回転させ、前記基板
保持手段は前記第1の押上部材及び第2の押上部材の上
方まで移動してから下降して前記第1の押上部材及び第
2の押上部材上の基板間に前記基板を挿入して載置する
ものである。
Further, the substrate rearranging apparatus according to the present invention comprises:
A substrate rearranging apparatus for reversing the direction of a part of a plurality of substrates housed in a plurality of cassettes and rearranging them in an array in which face surfaces of the substrates or back surfaces that are the back sides of the face surfaces face each other, The substrate rearranging device is an elevating mechanism, a substrate holding unit having a horizontal moving mechanism having a movable base mounted with a substrate holding member that can move in the horizontal direction and holds a substrate at a symmetrical position at the distal end, A substrate lifting means for lifting and lowering the first lifting member and the second lifting member; and a substrate lifting rotating means having a rotation mechanism capable of rotating the first lifting member and the second lifting member, respectively. The push-up member and the second push-up member receive the plurality of substrates accommodated in the cassette and move to a predetermined position, and then the substrates placed on the first push-up member and the second push-up member. In a state where the substrate holding unit receives, holds, and retracts, the plurality of substrates held on the first push-up member and the second push-up member are rotated, and the substrate holding unit rotates the first push-up member. And moving down to a position above the second push-up member and lowering the same to insert and place the substrate between the substrates on the first push-up member and the second push-up member.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明によ
る基板並べ換え装置及び該装置を備えた基板処理装置の
実施の形態について説明する。なお、以下には、基板並
べ換え装置を備えた基板処理装置としての基板自動洗浄
装置について説明する。図1は、基板処理装置としての
基板自動洗浄装置の構成の概略を示す平面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to the drawings, embodiments of a substrate rearranging apparatus and a substrate processing apparatus provided with the apparatus will be described below. Hereinafter, an automatic substrate cleaning apparatus as a substrate processing apparatus including a substrate rearranging apparatus will be described. FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of an automatic substrate cleaning apparatus as a substrate processing apparatus.

【0014】図1に示すように、基板自動洗浄装置1
は、平面が略長方形状となっており、左下部にウエハな
どの基板Wが複数枚収納されたカセット15及びカセッ
ト16が図示せぬ受台上に載置される。カセット15及
びカセット16には夫々25枚づつの基板Wが収納され
ている。カセット15及びカセット16は、カセット搬
送手段としてのカセット搬送機2によりカセットを1台
づつ上方のO/F(Orientation Flat)揃え手段6に載置
位置決めする。前記カセット搬送機2は、カセット15
及びカセット16のカセットを夫々保持して移動するも
のであって、昇降動作、水平動作が可能なものとなって
いる。
As shown in FIG. 1, an automatic substrate cleaning apparatus 1
Has a substantially rectangular flat surface, and a cassette 15 and a cassette 16 each containing a plurality of substrates W such as wafers are placed on a receiving table (not shown) in the lower left portion. Each of the cassettes 15 and 16 stores 25 substrates W each. The cassettes 15 and 16 are placed and positioned one by one on an upper O / F (Orientation Flat) aligning means 6 by a cassette transporter 2 as a cassette transporting means. The cassette transporter 2 includes a cassette 15
And the cassette 16 is moved while holding the cassettes, respectively, and can be moved up and down and horizontally.

【0015】前記O/F(Orientation Flat)揃え手段6
は、カセット15及びカセット16内に収納された基板
WのO/F(Orientation Flat)を揃えて正規の位置(基
準面)に位置決めを行うものである。けだし、基板W、
すなわちウエハの形状は真円ではなく基準面となる辺が
形成されているからであり、この基準面を揃えることに
よってパターン面を容易に一致させることができる。ま
た、前記O/F揃え手段6に代えて出願人の提出に係る
特開平10−4133号公報に記載の発明「ノッチ付き
ウエハ整列装置」を使用することもできる。前記O/F
揃え手段6、ノッチ付きウエハ整列装置を基板揃えd手
段とも称する。
The O / F (Orientation Flat) aligning means 6
Is to align the O / F (Orientation Flat) of the substrates W stored in the cassette 15 and the cassette 16 to perform positioning at a regular position (reference plane). It ’s a board W
That is, the shape of the wafer is not a perfect circle but a side serving as a reference plane is formed. By aligning the reference plane, the pattern plane can be easily matched. In place of the O / F aligning means 6, an invention "notched wafer aligning apparatus" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-4133 filed by the applicant can be used. O / F
The alignment means 6 and the notched wafer alignment apparatus are also referred to as substrate alignment d means.

【0016】また、カセット15及びカセット16の基
板Wを保持する保持溝(図示せず)は、1P(ピッ
チ)、すなわち6.35mmとなっている。
The holding grooves (not shown) for holding the substrates W of the cassettes 15 and 16 are 1P (pitch), that is, 6.35 mm.

【0017】前記O/F(Orientation Flat)揃え手段6
によるカセット15及びカセット16内に収納された基
板WのO/Fが揃えられると、後述する基板並べ換え装
置11により複数の基板Wをフェースツーバック(face
to back)の配列からフェースツーフェース(face to fac
e)の配列に並べ換える。すなわち、隣り合う基板Wの対
向するフェース面(鏡面)同士が向かい合っている状態
となる。
O / F (Orientation Flat) alignment means 6
When the O / Fs of the substrates W stored in the cassettes 15 and 16 are aligned, the plurality of substrates W are face-to-back (face-to-back) by the substrate rearranging device 11 described later.
face to fac (face to fac)
e) Rearrange into the array. That is, the opposing face surfaces (mirror surfaces) of the adjacent substrates W face each other.

【0018】そして、基板並べ換え装置11の基板押上
回転手段31は、前述した複数の基板Wをフェースツー
フェース(face to face)の配列に並べ換えた段階でウエ
ハ搬送手段(又は基板搬送手段とも称する)としてのウ
エハ搬送機3は前記基板押上回転手段31上の基板W
(カセット15,カセット16は空の状態となる)を図
1に矢印で示すA方向に搬送して処理槽である夫々の洗
浄槽4,4,4で所定の洗浄作業を行い、後段の乾燥手
段としてのスピンドライヤー(S/D)5で所定の乾燥
作業を行う。前記ウエハ搬送機3は、前述したカセット
搬送機2と同様に昇降動作、水平動作が可能なものとな
っている。なお、図1に示すように、入口側となる基板
並べ換え装置11を第1の基板並べ換え部11Aで示
し、出口側となる基板並べ換え装置11を第2の基板並
べ換え部11Bで示す。
The substrate lifting / rotating means 31 of the substrate rearranging device 11 is arranged such that the plurality of substrates W are rearranged into a face-to-face arrangement, and is thus referred to as a wafer transporting means (or also referred to as a substrate transporting means). The wafer transfer device 3 as a substrate W
(The cassette 15 and the cassette 16 are emptied.) Are transported in the direction A shown by the arrow in FIG. 1 to perform a predetermined cleaning operation in each of the cleaning tanks 4, 4, and 4, which are processing tanks. A predetermined drying operation is performed by a spin dryer (S / D) 5 as a means. The wafer transfer device 3 is capable of performing a vertical operation and a horizontal operation similarly to the cassette transfer device 2 described above. As shown in FIG. 1, the substrate rearranging device 11 on the inlet side is indicated by a first substrate rearranging unit 11A, and the substrate rearranging device 11 on the outlet side is indicated by a second substrate rearranging unit 11B.

【0019】しかして、基板並べ換え装置11の基板押
上回転手段31上の空のカセット15及びカセット16
は、カセット搬送機2により図1に示す矢印B方向に搬
送された後、ベルトコンベア等からなる図示せぬ搬送手
段により図1に示す矢印A方向に搬送されて空のカセッ
ト15及びカセット16はP1の位置から出口側となる
空カセット待機位置P2まで搬送される。
The empty cassette 15 and the cassette 16 on the substrate pushing-up rotating means 31 of the substrate sorting apparatus 11
Are transported in the direction of arrow B shown in FIG. 1 by the cassette transporter 2 and then transported in the direction of arrow A shown in FIG. 1 by transport means (not shown) such as a belt conveyor. The sheet is transported from the position P1 to the empty cassette standby position P2 on the exit side.

【0020】次に、空のカセット15及びカセット16
は、出口側(OUT)となるカセット搬送機2によりカ
セット受台7まで移送されて載置される。次に、前記カ
セット受台7からカセット搬送機2により受け取られた
空のカセット15及びカセット16は、基板並べ換え装
置11の基板押上回転手段31に移送される。なお、本
発明による基板自動洗浄装置は、空のカセット15及び
カセット16がカセット受台7に一旦移送される構成と
なっているが、基板押上回転手段31に直接移送される
構成であってもよい。
Next, empty cassettes 15 and 16
Is transferred to and placed on the cassette receiving table 7 by the cassette transporter 2 on the exit side (OUT). Next, the empty cassettes 15 and 16 received by the cassette transporter 2 from the cassette receiving table 7 are transferred to the substrate pushing-up rotating means 31 of the substrate reordering device 11. The automatic substrate cleaning apparatus according to the present invention has a configuration in which the empty cassette 15 and the cassette 16 are temporarily transferred to the cassette receiving table 7. Good.

【0021】前記基板押上回転手段31上の空のカセッ
ト15及びカセット16は、洗浄処理作業を行っている
ウエハ搬送機3により搬送されて洗浄槽4,4,4及び
スピンドライヤー5による洗浄作業が行われた基板Wを
収納する。
The empty cassettes 15 and 16 on the substrate pushing-up rotating means 31 are transported by the wafer transporting machine 3 performing the cleaning operation, and the cleaning operations by the cleaning tanks 4, 4, 4 and the spin dryer 5 are performed. The stored substrate W is stored.

【0022】そして、基板押上回転手段31を含む基板
並べ換え装置11は、後述するように、逆の動作を行っ
てフェースツーフェース(face to face)の配列に並べ換
えられている複数の基板Wをフェースツーバック(face
to back)の配列に並べ換える。
The substrate rearranging apparatus 11 including the substrate lifting / rotating means 31 performs a reverse operation to convert a plurality of substrates W rearranged into a face-to-face arrangement into a face-to-face arrangement, as described later. Two back (face
to back) array.

【0023】図2は、基板並べ換え装置を正面からみた
図、図3は、基板保持手段の一部断面を含む図である。
FIG. 2 is a front view of the substrate reordering apparatus, and FIG. 3 is a view including a partial cross section of the substrate holding means.

【0024】図2に示すように、この基板並べ換え装置
11は、架台12内に固定されている基板保持手段21
と基板押上回転手段31とを有している。
As shown in FIG. 2, the substrate rearranging device 11 includes a substrate holding means 21 fixed in a gantry 12.
And a substrate pushing-up rotating means 31.

【0025】基板保持手段21は、図2に示すように、
架台31に取付固定されており、昇降機構22と、昇降
機構22と直交する方向、すなわち図3に示すX方向に
移動可能な水平移動機構23とを有している。
The substrate holding means 21 is, as shown in FIG.
The gantry 31 is attached and fixed, and includes a lifting mechanism 22 and a horizontal moving mechanism 23 that can move in a direction perpendicular to the lifting mechanism 22, that is, in the X direction shown in FIG. 3.

【0026】図2及び図3に示すように、昇降機構22
は、駆動手段としてのパルスモータ22aと、このパル
スモータ22aの出力軸にカップリング等(図示せず)
を介して取り付けられたボールねじ22b(図3に図
示)と、該ボールねじ22bと螺合結合してなるナット
(図示せず)と、前記ボールねじ22bの両側に長手方
向に沿って平行に配設されたトラックレール及び摺動台
からなるリニアガイド22c(22c1及び22c2
と、該リニアガイド22c(22c1及び22c2)に取
付固定された可動枠22d(二点鎖線で図示している)
とからなる。
As shown in FIG. 2 and FIG.
Are coupled to a pulse motor 22a as a driving means and an output shaft of the pulse motor 22a by coupling or the like (not shown).
A ball screw 22b (shown in FIG. 3) attached via a nut, a nut (not shown) screwed and connected to the ball screw 22b, and a ball screw 22b on both sides of the ball screw 22b in parallel along the longitudinal direction. consisting disposed track rail and the sliding table linear guide 22c (22c 1 and 22c 2)
When, the linear guide 22c (22c 1 and 22c 2) to be mounted and fixed a movable frame 22 d (it is shown by two-dot chain line)
Consists of

【0027】図3に示すように、昇降機構22のパルス
モータ22aの出力軸が回転するとボールねじ22bも
一体に回転して該ボールねじ22bのボールを介して螺
合結合してなるナットが矢印Z方向の何れかに移動する
(本実施例の図3に図示の場合には上方に移動すること
とする)。そして、前記ナットと結合してなる可動枠2
2dがリニアガイド22c(22c1及び22c2)に案
内されて矢印Z方向に移動して水平移動機構23を図3
に示す2点鎖線で示す位置まで上昇移動させる。
As shown in FIG. 3, when the output shaft of the pulse motor 22a of the elevating mechanism 22 rotates, the ball screw 22b also rotates integrally, and the nut screwed and connected via the ball of the ball screw 22b is an arrow. It moves in any of the Z directions (in the case shown in FIG. 3 of this embodiment, it moves upward). And a movable frame 2 connected to the nut.
2d is guided by the linear guides 22c (22c 1 and 22c 2 ) and moves in the direction of arrow Z to move the horizontal moving mechanism 23 in FIG.
Is moved up to the position shown by the two-dot chain line shown in FIG.

【0028】次に、水平移動機構23について説明す
る。
Next, the horizontal moving mechanism 23 will be described.

【0029】図2乃至図5に示すように、水平移動機構
23は、前記可動枠22dの上方の端部に片持状に固定
されたベース23a(図4に図示)と、該ベース23a
の片側に取付固定された断面略L字状の取付固定部材2
3bと、この取付固定部材23bに配設された駆動手段
としてのパルスモータ23cと、このパルスモータ23
cの出力軸にカップリング等(図示せず)を介して取り
付けられたボールねじ23dと、該ボールねじ23dと
螺合結合してなるナット(図示せず)と、前記ボールね
じ23dの長手方向に沿って平行に配設されたトラック
レール及び該トラックレールに摺動可能な摺動台とから
なるリニアガイド23e1及び23e2と、該リニアガイ
ド23e1及び23e2に取付固定された略U字状の可動
ベース23f(図5に図示)とからなっている。
As shown in FIGS. 2 to 5, the horizontal moving mechanism 23 includes a base 23a (shown in FIG. 4) fixed to the upper end of the movable frame 22d in a cantilever manner, and the base 23a.
Mounting and fixing member 2 having a substantially L-shaped cross section which is mounted and fixed to one side of
3b, a pulse motor 23c as driving means disposed on the mounting and fixing member 23b, and a pulse motor 23c.
c, a ball screw 23d attached to the output shaft via a coupling or the like (not shown), a nut (not shown) screwed to the ball screw 23d, and a longitudinal direction of the ball screw 23d. substantially U a linear guide 23e 1 and 23e 2 formed of a slidable slide block to the track rail and the track rail disposed in parallel, which is attached and fixed to the linear guide 23e 1 and 23e 2 along And a movable base 23f (shown in FIG. 5).

【0030】なお、可動ベース23fは略U字状となっ
ているため、図1に示すように、前記可動ベース23f
間にO/F揃え手段6、カセット受台7を配することが
可能となり、省スペース化が図られている。
Since the movable base 23f is substantially U-shaped, as shown in FIG.
The O / F aligning means 6 and the cassette receiving table 7 can be arranged therebetween, thereby saving space.

【0031】また、図5に示すように、前記可動ベース
23fは、先端部の左右対称な位置にウエハなどの基板
Wを保持する基板保持部材23gが装着されている。こ
の基板保持部材23gの保持溝23g1,23g2は、櫛
歯状でなり、該保持溝23g 1,23g2は1P(ピッ
チ)(=6.35mm)で形成されている。
As shown in FIG. 5, the movable base
23f is a substrate such as a wafer at a symmetrical position at the tip.
A substrate holding member 23g for holding W is mounted. This
23g of holding groove of substrate holding member 23g1, 23gTwoIs a comb
23g of the holding groove 1, 23gTwoIs 1P
H) (= 6.35 mm).

【0032】前記基板保持部材23gは、図6に示すよ
うに、基板Wを保持する保持溝23g1と保持溝23g1
との間に基板1枚分が間を通過するための溝23gsが
1/2P(ピッチ)の位置に形成されている。
[0032] The substrate holding member 23g, as shown in FIG. 6, the holding groove 23g 1 and the holding groove 23g 1 for holding a substrate W
A groove 23gs for allowing one substrate to pass therethrough is formed at a position of 1 / 2P (pitch).

【0033】図3に示すように、上記水平移動機構23
は、駆動手段としてのパルスモータ23cが駆動して出
力軸が回転すると該出力軸に取り付けられたボールねじ
23dが回転する。このボールねじ23dの回転により
ボールを介して図示せぬナットがリニアガイド23e1
及び23e2に案内されて直動する。そして、前記リニ
アガイド23e1及び23e2に取り付けられた可動ベー
ス23fが図3に示す矢印X方向に移動可能となる。そ
して、後述するように、前記可動ベース23fの先端部
に取り付けられた基板保持部材23gの保持溝23
1,23g2が図7に示す押上部材61上に載置される
カセット16(図2に図示)内に載置された基板Wを保
持するようになっている。
As shown in FIG. 3, the horizontal moving mechanism 23
When the output shaft rotates by driving the pulse motor 23c as a driving means, the ball screw 23d attached to the output shaft rotates. Due to the rotation of the ball screw 23d, a nut (not shown) is connected to the linear guide 23e 1 via the ball.
And it is guided by the 23e 2 to be linear. Then, the linear guide 23e 1 and the movable base 23f mounted to 23e 2 can be moved in the direction of arrow X shown in FIG. As described later, the holding groove 23 of the substrate holding member 23g attached to the tip of the movable base 23f.
g 1 and 23g 2 hold the substrate W placed in the cassette 16 (shown in FIG. 2) placed on the push-up member 61 shown in FIG.

【0034】次に、基板押上回転手段31について説明
する。
Next, the substrate lifting and rotating means 31 will be described.

【0035】図2及び図7に示すように、基板押上回転
手段31は、架台12に配設されている。この基板押上
回転手段31は、基板昇降手段32と、回転機構51と
を有している。
As shown in FIGS. 2 and 7, the substrate pushing-up rotating means 31 is provided on the gantry 12. The substrate lifting / rotating means 31 includes a substrate lifting / lowering means 32 and a rotation mechanism 51.

【0036】基板昇降手段32は、駆動手段としてのパ
ルスモータ32aと、パルスモータ32aの出力軸32
1に回転可能に取付固定されたプーリ32b1と、該プ
ーリ32b1の上方であって架台12に回転可能に取付
固定されたプーリ32b2と、プーリ32a1及びプーリ
32b2に巻回されたベルト32cとからなっている。
The substrate lifting / lowering means 32 includes a pulse motor 32a as a driving means and an output shaft 32 of the pulse motor 32a.
a pulley 32b 1 which is rotatably mounted fixed to a 1, a pulley 32b 2 which is rotatably mounted fixed to the frame 12 a above the pulley 32b 1, wound 2 wound pulleys 32a 1 and the pulley 32b Belt 32c.

【0037】前記基板昇降手段32のベルト32cに
は、押上機構33の押上ベース34が取付金具35を介
して取り付けられている。従って、押上ベース34は、
前記ベルト32cの移動に伴って矢印で示すZ方向に往
復動自在となっている。そして、押上ベース34は、架
台12に前記ベルト32cと平行に配設された1本のト
ラックレール36に摺動可能な摺動台37に取り付けら
れてなり、該摺動台37に案内されて前記ベルト32c
の移動に伴って安定した直線案内運動を行うことができ
る。
A push-up base 34 of a push-up mechanism 33 is attached to a belt 32c of the substrate lifting / lowering means 32 via a mounting bracket 35. Therefore, the push-up base 34 is
With the movement of the belt 32c, the belt 32c can reciprocate in the Z direction indicated by the arrow. The push-up base 34 is attached to a slide table 37 slidable on one track rail 36 disposed on the gantry 12 in parallel with the belt 32c, and guided by the slide table 37. The belt 32c
A stable linear guide motion can be performed along with the movement of.

【0038】図7に示すように、前記押上ベース34は
前述したトラックレール及び摺動台とからなるリニアガ
イド38a(38a1〜38a4)が設けられており、該
リニアガイド38a(38a1〜38a4)の夫々の摺動
台には、テーブル39a(39a1〜39a4)が取付固
定されている。そして、前記テーブル39a1とテーブ
ル39a3との間、及びテーブル39a2とテーブル39
4との間には、支持アーム40及び支持アーム41が
装着されている。従って、前記テーブル39a(39a
1〜39a4)と支持アーム40及び支持アーム41と
は、矢印X方向に拡開及び縮閉することができる。但
し、図7に示す状態は、拡開した状態を示している。
As shown in FIG. 7, the push-up base 34 is a linear guide 38a (38a 1 ~38a 4) is provided comprising a track rail and the sliding table described above, the linear guide 38a (38a 1 ~ the sliding block of each of 38a 4), table 39a (39a 1 ~39a 4) is attached and fixed. Then, between the table 39a 1 and table 39a 3, and the table 39a 2 and the table 39
Between the a 4, the support arm 40 and support arm 41 is mounted. Therefore, the table 39a (39a
1 to 39a 4 ) and the support arm 40 and the support arm 41 can be expanded and contracted in the arrow X direction. However, the state shown in FIG. 7 shows the expanded state.

【0039】しかして、前記支持アーム40及び支持ア
ーム41を拡開及び縮閉する拡開縮閉手段43は、図7
に示すように、架台12に取付固定された駆動手段とし
てのパルスモータ44と、パルスモータ44の出力軸に
取り付けられた長方形状で薄板状の連結板45と、該連
結板45の両端に一端が結合されてなる略コ字状の駆動
板46及び駆動板47とを有している。そして、駆動板
46及び駆動板47の他端は、前記支持アーム40及び
支持アーム41と摺動可能に連結されている。従って、
図8に示すように、パルスモータ44が駆動されて出力
軸と連結した連結板45が矢印で示す時計方向に回転す
ると、駆動板46及び駆動板47は図8に示すような状
態となって支持アーム40及び支持アーム41を図7に
示す拡開状態から縮閉状態にすることができるようにな
っている。逆に、パルスモータ44を逆転すると前述し
た動作とは逆の動作をして図7に示す状態となる。そし
て、本実施例では、前述したような連結板45と駆動板
46及び駆動板47とを用いたことにより正弦波のよう
な動きを呈することができ、初速及び終速は遅く、移動
途中は早く移動させることが可能であるので基板Wへの
振動等による悪影響を軽減させることができるものとな
っている。
The expansion and contraction closing means 43 for expanding and contracting the support arms 40 and 41 is shown in FIG.
As shown in the figure, a pulse motor 44 as a driving means mounted and fixed to the gantry 12, a rectangular and thin connecting plate 45 mounted on an output shaft of the pulse motor 44, and one end at both ends of the connecting plate 45 And a substantially U-shaped drive plate 46 and a drive plate 47 which are combined with each other. The other ends of the driving plates 46 and 47 are slidably connected to the supporting arms 40 and 41, respectively. Therefore,
As shown in FIG. 8, when the pulse motor 44 is driven and the connecting plate 45 connected to the output shaft rotates clockwise as shown by the arrow, the driving plates 46 and 47 are in the state shown in FIG. The support arm 40 and the support arm 41 can be changed from the expanded state shown in FIG. 7 to the contracted state. Conversely, when the pulse motor 44 is rotated in the reverse direction, the operation described above is performed in an opposite manner to the state shown in FIG. In the present embodiment, the use of the connecting plate 45, the driving plate 46, and the driving plate 47 as described above enables a motion such as a sine wave to be exhibited. Since the substrate W can be moved quickly, adverse effects due to vibrations on the substrate W and the like can be reduced.

【0040】次に、回転機構51について説明する。Next, the rotation mechanism 51 will be described.

【0041】回転機構51は、図7に示すように、2組
設けられている。すなわち、テーブル39a3と、テー
ブル39a4に配設された支持部材52及び支持部材5
3と、支持部材52及び支持部材53に回転可能に取付
固定された歯車54及び歯車55と、該歯車54及び歯
車55を夫々伝達歯車58及び伝達歯車59を介して駆
動する駆動手段としてのモータ56及びモータ57と、
前記歯車54及び歯車55の回転に伴って回転可能な押
上部材60及び押上部材61とからなっている。なお、
前記伝達歯車58、伝達歯車59、モータ56、モータ
57は、回転機構51の図示せぬ取付部材に取り付けら
れている。
As shown in FIG. 7, two rotation mechanisms 51 are provided. That is, the support members 52 and 5 provided on the table 39a 3 and the table 39a 4
3, a gear 54 and a gear 55 rotatably mounted and fixed to the support member 52 and the support member 53, and a motor as drive means for driving the gear 54 and the gear 55 via a transmission gear 58 and a transmission gear 59, respectively. 56 and a motor 57;
The push-up member 60 and the push-up member 61 are rotatable as the gears 54 and 55 rotate. In addition,
The transmission gear 58, the transmission gear 59, the motor 56, and the motor 57 are mounted on a mounting member (not shown) of the rotation mechanism 51.

【0042】図7に示すように、押上部材60は、押上
部材61と同一の部材からなり、押上部材61が180
°回転した状態となっており、一側面が略コ字状となっ
ている。そして、両側に基板Wを保持する溝が櫛歯状
(図7の押上部材61で示す)に形成され、この溝によ
り基板Wを複数枚保持することが可能である。この溝
は、通常基板Wを1/2P(ピッチ)毎に50枚保持す
ることができるようになっているが、それ以上及びそれ
よりも少なく保持するように構成することも可能であ
る。なお、押上部材61を第1の押上部材、押上部材6
0を第2の押上部材と称する。
As shown in FIG. 7, the push-up member 60 is made of the same member as the push-up member 61.
° rotated, and one side surface is substantially U-shaped. A groove for holding the substrate W is formed on both sides in a comb-like shape (shown by a push-up member 61 in FIG. 7), and a plurality of substrates W can be held by the groove. This groove can normally hold 50 substrates W every 1 / 2P (pitch), but it is also possible to hold more or less substrates W. Note that the lifting member 61 is a first lifting member, the lifting member 6.
0 is referred to as a second lifting member.

【0043】本発明による基板並べ換え装置11の保持
溝のピッチの関係は、以下のようになっている。すなわ
ち、カセット15及びカセット16の保持溝のピッチP
は、6.35mm、図4及び図5に示す可動ベース23
fの基板保持部材23gの保持溝のピッチは、P(=
6.35mm)、但し、1/2P(ピッチ)の位置に基
板Wを通過させるためのスリット23gsが形成されて
いる。また、押上部材60及び押上部材61の保持溝の
ピッチは、1/2P(=6.35mm/2)となってい
る。
The relationship between the pitches of the holding grooves of the substrate rearranging device 11 according to the present invention is as follows. That is, the pitch P of the holding grooves of the cassettes 15 and 16
Is 6.35 mm, the movable base 23 shown in FIGS.
The pitch of the holding groove of the substrate holding member 23g of f is P (=
However, a slit 23gs for allowing the substrate W to pass therethrough is formed at a position of 1 / 2P (pitch). Further, the pitch of the holding grooves of the push-up member 60 and the push-up member 61 is 1 / 2P (= 6.35 mm / 2).

【0044】次に、本発明による基板並べ換え装置の動
作について図面を参照して説明する。
Next, the operation of the substrate rearranging apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0045】図2に示すように、図示せぬ搬送手段によ
りカセット15及びカセット16が架台12の上面に配
設された受台13及び受台14に自動的に載置された状
態となっている。このとき、図2、図7、図9(特に
(1))に示すように、押上部材60及び押上部材61
は基準位置である第1の位置H1に位置している。そし
て、図9に示すように、カセット15及びカセット16
内には複数枚の基板Wが保持されており、この場合、複
数枚の基板Wはカセット15内に25枚、カセット16
内に25枚、計50枚の基板が保持されている。そし
て、カセット15及びカセット16内の複数の基板Wの
配列は、通常ウエハのパターン形成面(フェース)と裏
面(バック)とが向き合うようになっている。
As shown in FIG. 2, the cassette 15 and the cassette 16 are automatically placed on the receiving tables 13 and 14 provided on the upper surface of the gantry 12 by the transport means (not shown). I have. At this time, as shown in FIGS. 2, 7, and 9 (particularly (1)), the push-up member 60 and the push-up member 61
Is located at a first position H1 which is a reference position. Then, as shown in FIG.
Holds a plurality of substrates W, and in this case, a plurality of substrates W
25 substrates, a total of 50 substrates, are held therein. The arrangement of the plurality of substrates W in the cassette 15 and the cassette 16 is such that the pattern formation surface (face) and the back surface (back) of the normal wafer face each other.

【0046】そして、前記カセット15及びカセット1
6の底部は、前記押上部材60及び押上部材61が内部
を通過するために十分な空間が形成されている。
Then, the cassette 15 and the cassette 1
The bottom of 6 has a sufficient space for the push-up members 60 and 61 to pass therethrough.

【0047】図7に示すように、パルスモータ32aが
駆動されると、ベルト32cの移動に伴って押上ベース
34、支持アーム40及び支持アーム41と共に押上部
材60及び押上部材61が矢印Z方向に上昇する。する
と、図9の(2)で示すように、押上部材60及び押上
部材61がカセット15及びカセット16内を通過して
該カセットから複数枚の基板Wを受け取って第2の位置
H2まで基板を上昇移動させる。
As shown in FIG. 7, when the pulse motor 32a is driven, the push-up members 60 and 61 together with the push-up base 34, the support arms 40 and the support arms 41 move in the direction of the arrow Z with the movement of the belt 32c. To rise. Then, as shown in FIG. 9B, the push-up members 60 and 61 pass through the cassettes 15 and 16 to receive a plurality of substrates W from the cassettes and transfer the substrates to the second position H2. Move up.

【0048】図6に示すように、前記カセット15及び
カセット16の基板を保持する保持溝のピッチは、P
(=6.35mm)であり、押上部材60,押上部材6
1の保持溝のピッチは、P/2(=6.35/2mm)
となっている。
As shown in FIG. 6, the pitch of the holding grooves for holding the substrates of the cassettes 15 and 16 is P
(= 6.35 mm), and the lifting member 60 and the lifting member 6
The pitch of the holding groove of No. 1 is P / 2 (= 6.35 / 2 mm)
It has become.

【0049】そして、図9の(3)、及び図3に示すよ
うに、基板保持手段21の可動ベース23fがパルスモ
ータ23cの駆動力により駆動されて一方の押上部材6
1と基板Wの外周下縁部との間に進入する。
Then, as shown in FIG. 9 (3) and FIG. 3, the movable base 23f of the substrate holding means 21 is driven by the driving force of the pulse motor 23c and the one lifting member 6
1 and between the outer peripheral lower edge of the substrate W.

【0050】図9の(4)に示すように、基板保持手段
21は図9の(2)で示す第2の位置H2から更に第3
の位置H3まで上昇する。第3の位置H3は、押上部材
60による基板Wの回転時に基板Wが可動ベース23f
の基板保持部材23gに保持されている基板Wに当たら
ない位置で設定されている。
As shown in FIG. 9 (4), the substrate holding means 21 is moved from the second position H2 shown in FIG.
To the position H3. The third position H3 is such that when the substrate W is rotated by the lifting member 60, the substrate W
Is set at a position that does not hit the substrate W held by the substrate holding member 23g.

【0051】可動ベース23fの基板保持部材23g
は、第3の位置H3までの上昇過程で押上部材61に保
持されている基板Wを受け取って保持する。可動ベース
23fの基板保持部材23gの保持溝のピッチは、1P
(ピッチ)であるが、1/2P(ピッチ)の位置に基板
Wを通過させるためのスリット23gs(図6に図示)
が形成されている。
Substrate holding member 23g of movable base 23f
Receives and holds the substrate W held by the lifting member 61 in the process of ascending to the third position H3. The pitch of the holding grooves of the substrate holding member 23g of the movable base 23f is 1P
(Pitch), but a slit 23gs for passing the substrate W at the position of 1 / 2P (pitch) (shown in FIG. 6)
Are formed.

【0052】図9の(4)に示す状態で、押上部材60
は基板Wを180°回転させる。
In the state shown in FIG. 9 (4), the lifting member 60
Rotates the substrate W by 180 °.

【0053】次に、図9の(5)に示すように、基板保
持部材23gの基板Wを保持している可動ベース23f
は、押上部材60の上方まで突出移動する。そして、図
7に示す拡開縮閉手段43により図9の(5)に矢印で
示す方向に1/2P(ピッチ)だけずらせる。これは、
図9の(4)で押上部材60の基板Wを180°回転さ
せているので押上部材60上の基板Wと基板Wの間に基
板保持部材23g上の基板Wを衝突しないように挿入さ
せるための位置合わせを行うためである。更に、図9の
(5)に示すように、押上部材60及び押上部材61を
矢印S,S’方向に所定距離移動させる。これは、図1
に示すスピンドライヤー5にて基板Wを乾燥する場合に
スピンドライヤー5の処理槽の中心と一致させるためで
ある。従って、押上部材60及び押上部材61の矢印
S,S’方向へ移動させる所定距離をαとすると、図9
の(5)で示す基板保持部材23gの移動量は、α+1
/2P(ピッチ)ずらせることになる。図1に示すよう
に、前記スピンドライヤー5の処理槽の中心、すなわ
ち、処理槽の回転軸中心などの予め設定した基準位置と
基板並べ換え装置11との距離Lは、図示せぬ制御手段
内の記憶手段としてのメモリ内に記憶されている。
Next, as shown in FIG. 9 (5), the movable base 23f holding the substrate W of the substrate holding member 23g.
Protrudes to a position above the lifting member 60. Then, it is shifted by 1 / 2P (pitch) in the direction indicated by the arrow in (5) of FIG. 9 by the expanding / contracting closing means 43 shown in FIG. this is,
Since the substrate W of the push-up member 60 is rotated by 180 ° in (4) of FIG. 9, the substrate W on the substrate holding member 23 g is inserted between the substrates W on the push-up member 60 so as not to collide. This is for performing the position alignment. Further, as shown in FIG. 9 (5), the push-up member 60 and the push-up member 61 are moved by a predetermined distance in the directions of arrows S and S '. This is shown in FIG.
This is because when the substrate W is dried by the spin dryer 5 shown in FIG. Therefore, if a predetermined distance for moving the push-up members 60 and 61 in the directions of the arrows S and S ′ is α, FIG.
The moving amount of the substrate holding member 23g shown in (5) is α + 1
/ 2P (pitch). As shown in FIG. 1, the distance L between the center of the processing tank of the spin dryer 5, that is, a preset reference position such as the center of the rotation axis of the processing tank, and the substrate reordering device 11 is determined by a control means (not shown). It is stored in a memory as storage means.

【0054】そして、図9の(6)に示すように、基板
保持手段21が下降して図6の2点鎖線で示すスリット
23gsの間に基板Wを挿入して押上部材60上に載置
する。
Then, as shown in FIG. 9 (6), the substrate holding means 21 is lowered to insert the substrate W between the slits 23gs indicated by the two-dot chain line in FIG. I do.

【0055】次に、図9の(7)に示すように、可動ベ
ース23fを引き込む。
Next, as shown in FIG. 9 (7), the movable base 23f is retracted.

【0056】図9の(1)〜(7)の処理工程によるフ
ェースツーフェースの工程が終了すると、図1に示すよ
うに、前述した処理槽による基板Wの洗浄処理作業に移
行する。
When the face-to-face process in the process steps (1) to (7) in FIG. 9 is completed, the process proceeds to the cleaning operation of the substrate W in the above-described processing bath as shown in FIG.

【0057】なお、図1に示す基板自動洗浄装置1は、
マイクロコンピュータ等からなる図示せぬ制御手段によ
り制御されている。また、図2、図3、図7等に示す駆
動手段としてのパルスモータにより駆動される可動部の
位置は、エンコーダ等からなる位置検出手段(図示せ
ず)により検出される構成となっている。
The automatic substrate cleaning apparatus 1 shown in FIG.
It is controlled by control means (not shown) including a microcomputer and the like. Further, the position of the movable part driven by the pulse motor as the driving means shown in FIGS. 2, 3 and 7 is detected by position detecting means (not shown) including an encoder or the like. .

【0058】また、本発明による基板並べ換え装置11
は、基板Wの保持を従来のようなチャックではなく可動
ベース23fにより保持するように構成したので、基板
Wを確実に保持することができ、しかも基板Wを把持す
る把持力の調整を行う必要がなく基板Wの掴み損ない等
による基板Wへの損傷等を防止することができる。
Further, the substrate reordering device 11 according to the present invention
Is configured to hold the substrate W by the movable base 23f instead of the conventional chuck, so that the substrate W can be reliably held, and the gripping force for gripping the substrate W needs to be adjusted. Therefore, it is possible to prevent damage to the substrate W due to failure to grip the substrate W or the like.

【0059】次に、本発明による基板並べ換え装置及び
該装置を備えた基板処理装置の第2の実施の形態につい
て説明する。なお、図1乃至図8に示す装置と同一の機
能及び構成を有するものについては詳細な説明を省略
し、以下には、相違する点について図10及び図11を
参照して説明する。
Next, a second embodiment of the substrate rearranging apparatus and the substrate processing apparatus provided with the apparatus according to the present invention will be described. It should be noted that a detailed description of the devices having the same functions and configurations as those of the devices shown in FIGS. 1 to 8 will be omitted, and different points will be described below with reference to FIGS.

【0060】図10は、図6に対応する構成を示した図
であり、水平移動機構の可動ベースの基板保持部材の構
成の要部を示す図である。
FIG. 10 is a view showing a configuration corresponding to FIG. 6, and is a view showing a main part of a configuration of a substrate holding member of a movable base of the horizontal moving mechanism.

【0061】図10に示すように、前記カセット15及
びカセット16の基板を保持する可動ベース23f(図
4及び図5に図示)の基板保持部材23gの保持溝のピ
ッチは、2P(=6.35mm×2)、押上部材60及
び押上部材61の保持溝のピッチPは、6.35mmと
なっている。従って、カセット15及びカセット16の
保持溝のピッチPは、6.35mm、可動ベース23f
の基板保持部材23gの保持溝のピッチは、2P(=
6.35mm×2)、但し、1P(ピッチ)の位置に基
板Wを通過させるためのスリット23gsが形成されて
いる。また、押上部材60及び押上部材61の保持溝の
ピッチPは、6.35mmである。以上のような関係に
なっている。
As shown in FIG. 10, the pitch of the holding grooves of the substrate holding member 23g of the movable base 23f (shown in FIGS. 4 and 5) for holding the substrates of the cassettes 15 and 16 is 2P (= 6. 35 mm × 2), and the pitch P between the holding grooves of the push-up member 60 and the push-up member 61 is 6.35 mm. Accordingly, the pitch P of the holding grooves of the cassette 15 and the cassette 16 is 6.35 mm, and the movable base 23f
The pitch of the holding groove of the substrate holding member 23g is 2P (=
6.35 mm × 2), provided that a slit 23gs for passing the substrate W is formed at a position of 1P (pitch). The pitch P between the holding grooves of the push-up member 60 and the push-up member 61 is 6.35 mm. The relationship is as described above.

【0062】次に、第2の実施の形態による基板並べ換
え装置の動作について図11を参照して説明する。
Next, the operation of the substrate sorting apparatus according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

【0063】図11に示すように、図示せぬ搬送手段に
よりカセット15及びカセット16が架台12の上面に
配設された受台13及び受台14に自動的に載置された
状態(図2参照)となっている。このとき、図2、図
7、図11(特に(1))に示すように、押上部材60
及び押上部材61は基準位置である第1の位置H1に位
置している。そして、図11に示すように、カセット1
5及びカセット16内には複数枚の基板Wが保持されて
おり、この場合、複数枚の基板Wはカセット15内に2
5枚、カセット16内に25枚、計50枚の基板が保持
されている。そして、カセット15及びカセット16内
の複数の基板Wの配列は、通常ウエハのパターン形成面
(フェース)と裏面(バック)とが向き合うようになっ
ている。
As shown in FIG. 11, the cassette 15 and the cassette 16 are automatically placed on the receiving tables 13 and 14 provided on the upper surface of the gantry 12 by the transport means (not shown) (see FIG. 2). See). At this time, as shown in FIGS. 2, 7, and 11 (particularly (1)), the lifting member 60
The push-up member 61 is located at a first position H1 which is a reference position. Then, as shown in FIG.
5 and the cassette 16 hold a plurality of substrates W. In this case, the plurality of substrates W
Five substrates, 25 substrates in the cassette 16, and a total of 50 substrates are held. The arrangement of the plurality of substrates W in the cassette 15 and the cassette 16 is such that the pattern formation surface (face) and the back surface (back) of the normal wafer face each other.

【0064】そして、前記カセット15及びカセット1
6の底部は、前記押上部材60及び押上部材61が内部
を通過するために十分な空間が形成されている。
Then, the cassette 15 and the cassette 1
The bottom of 6 has a sufficient space for the push-up members 60 and 61 to pass therethrough.

【0065】図7に示すように、パルスモータ32aが
駆動されるとベルト32cの移動に伴って押上ベース3
4、支持アーム40及び支持アーム41と共に押上部材
60及び押上部材61が矢印Z方向に上昇する。する
と、図11の(2)で示すように、押上部材60及び押
上部材61がカセット15及びカセット16内を通過し
て該カセットから複数枚の基板Wを受け取って第2の位
置H2まで基板を上昇移動させると共に図7に示すパル
スモータ44が反時計方向に駆動して駆動板46、駆動
板47を縮閉方向に作動させて押上部材60及び押上部
材61を互いに近接する方向に移動させる。
As shown in FIG. 7, when the pulse motor 32a is driven, the lifting base 3 is moved with the movement of the belt 32c.
4. The push-up member 60 and the push-up member 61 move up in the arrow Z direction together with the support arm 40 and the support arm 41. Then, as shown in FIG. 11 (2), the push-up members 60 and 61 pass through the cassettes 15 and 16 to receive a plurality of substrates W from the cassettes and transfer the substrates to the second position H2. The pulse motor 44 shown in FIG. 7 is driven in the counterclockwise direction, and the driving plates 46 and 47 are operated in the closing and closing directions to move the push-up member 60 and the push-up member 61 in directions approaching each other.

【0066】そして、図11の(3)、及び図3に示す
ように、基板保持手段21の可動ベース23fがパルス
モータ23cの駆動力により駆動されて押上部材60及
び押上部材61と基板Wの外周下縁部との間に進入す
る。
Then, as shown in FIG. 11 (3) and FIG. 3, the movable base 23f of the substrate holding means 21 is driven by the driving force of the pulse motor 23c, and the lifting members 60 and 61 and the substrate W are moved. It enters between the outer peripheral lower edge.

【0067】図11の(4)に示すように、基板保持手
段21は図11の(2)で示す第2の位置H2から更に
第3の位置H3まで上昇する。
As shown in FIG. 11 (4), the substrate holding means 21 rises from the second position H2 shown in FIG. 11 (2) to a third position H3.

【0068】この第3の位置H3の上昇位置で押上部材
60及び押上部材61に保持されている基板Wの半分を
可動ベース23fの基板保持部材23gは受け取って保
持し、可動ベース23fを図11の(5)で示すように
引き込む。
In the ascending position of the third position H3, the half of the substrate W held by the push-up members 60 and 61 is received and held by the substrate holding member 23g of the movable base 23f, and the movable base 23f is moved to the position shown in FIG. Pull in as shown in (5).

【0069】そして、押上部材60及び押上部材61
は、図11の(2)で示す縮閉方向とは反対に拡開方向
に移動させる。図11の(6)で示すように、押上部材
60及び押上部材61による基板Wの回転時に基板Wが
互いに当たらないようにするためである。
The push-up member 60 and the push-up member 61
Is moved in the expanding direction opposite to the contracting and closing direction shown in (2) of FIG. This is to prevent the substrates W from hitting each other when the substrate W is rotated by the lifting member 60 and the lifting member 61 as shown in FIG.

【0070】図11の(6)に示す状態で、押上部材6
0及び押上部材61は基板Wをカセット15及びカセッ
ト16に当たらない位置まで僅かに上昇させると共に1
80°回転させる。
In the state shown in FIG. 11 (6), the lifting member 6
0 and the lifting member 61 slightly raise the substrate W to a position where the substrate W does not contact the cassette 15 and the cassette 16 and 1
Rotate 80 °.

【0071】図11の(7)に示すように、図11の
(6)でカセット15及びカセット16を180°回転
させた後、押上部材60及び押上部材61は基板Wを下
降させて図11に示す(5)の状態に戻す。
As shown in FIG. 11 (7), after rotating the cassette 15 and the cassette 16 by 180 ° in (6) of FIG. 11, the push-up members 60 and 61 lower the substrate W to lower the substrate W in FIG. (5).

【0072】次に、図11の(8)に示すように、押上
部材60及び押上部材61を互いに近接する方向に移動
させて図11の(2)に示す状態とする。そして、基板
保持部材23gの基板Wを保持している可動ベース23
fは、押上部材60及び押上部材61の上方まで突出移
動する。そして、図7に示す拡開縮閉手段43により1
P(ピッチ)分だけずらせる。これは、図11の(6)
で押上部材60及び押上部材61のの基板Wを互いに1
80°回転させているので押上部材60及び押上部材6
1上の基板Wと基板Wの間に基板保持部材23g上の基
板Wが衝突しないように挿入させるための位置合わせを
行うためである。更に、押上部材60及び押上部材61
を矢印S,S’方向に所定距離移動させる。これは、図
1に示すスピンドライヤー5にて基板Wを乾燥する場合
にスピンドライヤー5の処理槽の中心と一致させるため
である。従って、押上部材60及び押上部材61の矢印
S,S’方向へ移動させる所定距離をαとすると、図1
1の(8)で示す基板保持部材23gの移動量は、α+
1P(ピッチ)ずらせることになる。
Next, as shown in FIG. 11 (8), the push-up member 60 and the push-up member 61 are moved in a direction approaching each other to obtain the state shown in FIG. 11 (2). The movable base 23 holding the substrate W of the substrate holding member 23g.
f protrudes and moves to above the push-up members 60 and 61. Then, by the expanding / contracting closing means 43 shown in FIG.
Shift by P (pitch). This corresponds to (6) in FIG.
The substrate W of the lifting member 60 and the lifting member 61 is
Since it is rotated by 80 °, the lifting member 60 and the lifting member 6
This is for performing positioning for inserting the substrate W on the substrate holding member 23g so as not to collide between the substrates W on the first substrate W. Further, the lifting member 60 and the lifting member 61
Is moved a predetermined distance in the directions of arrows S and S ′. This is because when the substrate W is dried by the spin dryer 5 shown in FIG. Therefore, if a predetermined distance for moving the push-up members 60 and 61 in the directions of the arrows S and S ′ is α, FIG.
The amount of movement of the substrate holding member 23g shown in (8) of 1 is α +
It will be shifted by 1P (pitch).

【0073】そして、図11の(9)に示すように、基
板保持手段21が下降して図10の2点鎖線で示すスリ
ット23gsの間に基板Wを挿入して押上部材60及び
押上部材61上に載置する。
Then, as shown in FIG. 11 (9), the substrate holding means 21 is lowered to insert the substrate W between the slits 23gs indicated by the two-dot chain line in FIG. Place on top.

【0074】次に、図11の(10)に示すように、可
動ベース23fを引き込む。
Next, as shown in FIG. 11 (10), the movable base 23f is retracted.

【0075】図11の(1)〜(10)の処理工程によ
るフェースツーフェースの工程が終了すると、図1に示
すように、前述した処理槽による基板Wの洗浄処理作業
に移行する。
When the face-to-face process by the process steps (1) to (10) in FIG. 11 is completed, the process proceeds to the cleaning process of the substrate W in the above-described processing tank as shown in FIG.

【0076】なお、図1に示す基板自動洗浄装置1は、
マイクロコンピュータ等からなる図示せぬ制御手段によ
り制御されている。また、図2、図3、図7等に示す駆
動手段としてのパルスモータにより駆動される可動部の
位置は、エンコーダ等からなる位置検出手段(図示せ
ず)により検出される構成となっている。
The automatic substrate cleaning apparatus 1 shown in FIG.
It is controlled by control means (not shown) including a microcomputer and the like. Further, the position of the movable part driven by the pulse motor as the driving means shown in FIGS. 2, 3 and 7 is detected by position detecting means (not shown) including an encoder or the like. .

【0077】また、本発明は、その精神又は主要な特徴
から逸脱することなく種々の形態で実施することがで
き、限定的に解釈されるものであることは説明するまで
もないところである。また、本発明には、均等の範囲に
属する変更や変形は全て含まれるものである。
It is needless to say that the present invention can be embodied in various forms without departing from the spirit or main characteristics thereof and is to be interpreted in a limited manner. Further, the present invention includes all changes and modifications belonging to an equivalent range.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来のようなチャックを用いることなく確実に基板を保
持することが可能であって、基板を破損させることがな
く複数の基板のフェイス面(鏡面)同士又はバック面同
士を対向させた配列に変換することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to securely hold the substrate without using a conventional chuck, and convert it to an array in which the face surfaces (mirror surfaces) or back surfaces of multiple substrates face each other without damaging the substrates. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】基板処理装置としての基板自動洗浄装置の構成
の概略を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a configuration of an automatic substrate cleaning apparatus as a substrate processing apparatus.

【図2】基板並べ換え装置の正面からみた図である。FIG. 2 is a front view of the substrate sorting apparatus.

【図3】基板保持手段の一部断面を含む図である。FIG. 3 is a view including a partial cross section of the substrate holding means.

【図4】図3に示す基板保持手段の側面図及び基板保持
手段の可動ベースが基板を保持した状態を示す図であ
る。
FIG. 4 is a side view of the substrate holding unit shown in FIG. 3 and a view showing a state where a movable base of the substrate holding unit holds the substrate.

【図5】図3に示す基板保持手段の平面からみた図であ
る。
FIG. 5 is a plan view of the substrate holding means shown in FIG. 3;

【図6】水平移動機構の可動ベースの基板保持部材の構
成の要部を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a main part of a configuration of a substrate holding member of a movable base of the horizontal movement mechanism.

【図7】基板押上回転手段の構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a substrate lifting rotation unit.

【図8】図7に示す基板押上回転手段の拡開縮閉手段の
動作を説明する図である。
FIG. 8 is a view for explaining the operation of the expanding / contracting closing means of the substrate pushing-up rotating means shown in FIG. 7;

【図9】基板並べ換え装置の動作を説明する図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the operation of the substrate sorting apparatus.

【図10】第2の実施の形態による水平移動機構の可動
ベースの基板保持部材の構成の要部を示す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a main part of a configuration of a substrate holding member of a movable base of a horizontal movement mechanism according to a second embodiment.

【図11】基板並べ換え装置の動作を説明する図であ
る。
FIG. 11 is a diagram for explaining the operation of the substrate sorting apparatus.

【図12】従来の基板並べ換え装置の側面図である。FIG. 12 is a side view of a conventional substrate rearranging apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板自動洗浄装置 2 カセット搬送機 3 ウエハ搬送機 4 洗浄槽 5 スピンドライヤー 6 O/F揃え手段 7 カセット受台 11 基板並べ換え装置 12 架台 13,14 受台 15,16 カセット 21 基板保持手段 22 昇降機構 23 水平移動機構 23f 可動ベース 23g 基板保持部材 31 基板押上回転手段 32 基板昇降手段 33 押上機構 34 押上ベース 35 取付金具 40,41 支持アーム 43 拡開縮閉手段 45 連結板 46,47 駆動板 51 回転機構 52,53 支持部材 54,55 歯車 60,61 押上部材 REFERENCE SIGNS LIST 1 Automatic substrate cleaning device 2 Cassette transfer device 3 Wafer transfer device 4 Cleaning tank 5 Spin drier 6 O / F aligning means 7 Cassette receiving stand 11 Substrate rearranging device 12 Mounting stand 13, 14 Receiving stand 15, 16 Cassette 21 Substrate holding means 22 Elevating Mechanism 23 Horizontal movement mechanism 23f Movable base 23g Substrate holding member 31 Substrate lifting / rotating means 32 Substrate lifting / lowering means 33 Pushing mechanism 34 Pushing base 35 Mounting bracket 40, 41 Support arm 43 Expanding / contracting closing means 45 Connecting plate 46, 47 Driving plate 51 Rotating mechanisms 52, 53 Support members 54, 55 Gears 60, 61 Push-up members

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のカセット内に収容された複数の基
板の一部の向きを反転させて基板のフェイス面同士又は
フェイス面の裏側であるバック面同士を対向させた配列
に並べ換える基板並べ換え装置であって、 前記基板並べ換え装置は、 昇降機構と、水平方向に移動可能で先端部の左右対称な
位置に基板を保持する基板保持部材が装着された可動ベ
ースを有する水平移動機構とを有する基板保持手段と、 第1の押上部材及び第2の押上部材を昇降させる基板昇
降手段と、第1の押上部材及び第2の押上部材を夫々回
転可能な回転機構を有する基板押上回転手段とを備え、 前記第1の押上部材及び第2の押上部材は、前記カセッ
トに収容された複数の基板を受け取って所定の位置まで
移動した後、前記第1の押上部材(又は第2の押上部
材)に載置されている基板を前記基板保持手段が受け取
って保持した状態で、第2の押上部材(又は第1の押上
部材)上に保持されている複数の基板を回転させ、前記
基板保持手段は前記第2の押上部材の上方まで移動して
から下降して第2の押上部材上の基板間に前記基板を挿
入して載置することを特徴とする基板並べ換え装置。
1. A substrate rearrangement for reversing the direction of a part of a plurality of substrates accommodated in a plurality of cassettes and rearranging the plurality of substrates into an array in which face surfaces of the substrates or back surfaces which are the back sides of the face surfaces are opposed to each other. An apparatus, wherein the substrate rearranging apparatus includes an elevating mechanism, and a horizontal moving mechanism having a movable base mounted with a substrate holding member that is movable in a horizontal direction and holds a substrate at a symmetrical position of a tip portion in the left-right direction. Substrate holding means, substrate lifting / lowering means for raising / lowering the first lifting member and the second lifting member, and substrate lifting / rotating means having a rotation mechanism capable of rotating the first lifting member and the second lifting member, respectively. The first push-up member and the second push-up member receive the plurality of substrates contained in the cassette, move to a predetermined position, and then move the first push-up member (or the second push-up member). In a state in which the mounted substrate is received and held by the substrate holding means, the plurality of substrates held on the second push-up member (or the first push-up member) are rotated, and the substrate holding means A substrate rearranging apparatus, wherein the substrate is rearranged after being moved to a position above the second push-up member and then lowered and inserted between the substrates on the second push-up member.
【請求項2】 前記可動ベースは、略U字状でなり、該
可動ベースの先端部の左右対称な位置に前記基板を保持
する基板保持部材が装着されており、該基板保持部材の
保持溝と保持溝との間に基板1枚分が間を通過可能な溝
が形成されていることを特徴とする請求項1記載の基板
並べ換え装置。
2. The movable base has a substantially U-shape, and a substrate holding member for holding the substrate is mounted at a position symmetrical to the left and right of a tip portion of the movable base, and a holding groove of the substrate holding member is provided. 2. The substrate rearranging apparatus according to claim 1, wherein a groove through which one substrate can pass is formed between the holding groove and the holding groove.
【請求項3】 前記第1の押上部材及び第2の押上部材
は同一の構成でなり、前記第1の押上部材及び第2の押
上部材が有する基板を保持する溝のピッチは、前記カセ
ットの保持溝のピッチと異なるピッチでなることを特徴
とする請求項1記載の基板並べ換え装置。
3. The first push-up member and the second push-up member have the same configuration, and the pitch of the groove for holding the substrate of the first push-up member and the second push-up member is equal to the pitch of the cassette. 2. The substrate rearranging apparatus according to claim 1, wherein the pitch is different from the pitch of the holding groove.
【請求項4】 請求項1に記載の基板並べ換え装置を有
する第1の基板並び替え部及び第2の基板並べ換え部
と、 受台上に載置された複数の基板が収容されたカセットを
搬送するカセット搬送手段と、 カセット内に収納された基板を揃えて正規の位置に位置
決めを行う基板揃え手段と、 基板を搬送する基板搬送手段と、 前記基板搬送手段により搬送された基板を洗浄処理する
複数の洗浄槽と、 前記洗浄槽により洗浄処理された基板を乾燥する乾燥手
段とを備え、 前記第1の基板並び替え部により前記洗浄槽により洗浄
処理される前の基板をフェースツーフェースの配列に並
べ換え、第2の基板並べ換え部により前記洗浄槽により
洗浄処理された後の基板をフェースツーバックの配列に
並べ換えることを特徴とする基板処理装置。
4. A first substrate rearranging unit and a second substrate rearranging unit having the substrate rearranging device according to claim 1, and a cassette accommodating a plurality of substrates placed on a receiving table. Cassette transporting means, substrate aligning means for aligning the substrates housed in the cassette and positioning them at a regular position, substrate transporting means for transporting the substrates, and cleaning the substrates transported by the substrate transporting means. A plurality of cleaning tanks; and drying means for drying the substrate cleaned by the cleaning tank. The substrate before being cleaned by the cleaning tank by the first substrate rearranging unit is arranged face-to-face. A substrate processing apparatus that rearranges the substrates after being cleaned by the cleaning tank by a second substrate rearranging section into a face-to-back arrangement.
【請求項5】 複数のカセット内に収容された複数の基
板の一部の向きを反転させて基板のフェイス面同士又は
フェイス面の裏側であるバック面同士を対向させた配列
に並べ換える基板並べ換え装置であって、 前記基板並べ換え装置は、 昇降機構と、水平方向に移動可能で先端部の左右対称な
位置に基板を保持する基板保持部材が装着された可動ベ
ースを有する水平移動機構とを有する基板保持手段と、 第1の押上部材及び第2の押上部材を昇降させる基板昇
降手段と、第1の押上部材及び第2の押上部材を夫々回
転可能な回転機構を有する基板押上回転手段とを備え、 前記第1の押上部材及び第2の押上部材は、前記カセッ
トに収容された複数の基板を受け取って所定の位置まで
移動した後、前記第1の押上部材及び第2の押上部材に
載置されている基板を前記基板保持手段が受け取って保
持して退避した状態で、第1の押上部材及び第2の押上
部材上に保持されている複数の基板を回転させ、前記基
板保持手段は前記第1の押上部材及び第2の押上部材の
上方まで移動してから下降して前記第1の押上部材及び
第2の押上部材上の基板間に前記基板を挿入して載置す
ることを特徴とする基板並べ換え装置。
5. A substrate rearrangement for reversing the direction of a part of a plurality of substrates housed in a plurality of cassettes and rearranging the plurality of substrates into an array in which face surfaces of the substrates or back surfaces which are the back sides of the face surfaces are opposed to each other. An apparatus, wherein the substrate rearranging apparatus includes an elevating mechanism, and a horizontal moving mechanism having a movable base mounted with a substrate holding member that is movable in a horizontal direction and holds a substrate at a symmetrical position of a tip portion in the left-right direction. Substrate holding means, substrate lifting / lowering means for raising / lowering the first lifting member and the second lifting member, and substrate lifting / rotating means having a rotation mechanism capable of rotating the first lifting member and the second lifting member, respectively. The first push-up member and the second push-up member receive the plurality of substrates housed in the cassette, move to a predetermined position, and then mount on the first push-up member and the second push-up member. In a state in which the substrate holding means receives, holds, and retracts the plurality of substrates, the plurality of substrates held on the first push-up member and the second push-up member are rotated, and the substrate holding means The method is characterized in that the substrate is moved above the first push-up member and the second push-up member and then lowered to insert and place the substrate between the substrates on the first push-up member and the second push-up member. Substrate rearranging device.
JP26871599A 1999-09-22 1999-09-22 Substrate rearranging apparatus, substrate processing apparatus provided with the apparatus, and substrate rearranging method Expired - Fee Related JP3335150B2 (en)

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