JP2001085322A - 反射縮小投影光学系 - Google Patents
反射縮小投影光学系Info
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- JP2001085322A JP2001085322A JP2000201939A JP2000201939A JP2001085322A JP 2001085322 A JP2001085322 A JP 2001085322A JP 2000201939 A JP2000201939 A JP 2000201939A JP 2000201939 A JP2000201939 A JP 2000201939A JP 2001085322 A JP2001085322 A JP 2001085322A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ＮＡの大きなＸ線リソグラフィー用反射縮小投
影光学系を提供する。 【解決手段】少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定の
形状の反射鏡で構成され、物体Ｏからの光束を１回のみ
の結像によって像面Ｉ上に縮小結像させることを特徴と
する反射縮小投影光学系を提供する。また、入射角度の
差が８．８°以内になるような反射鏡を用い、投影光学
系を構成する。
影光学系を提供する。 【解決手段】少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定の
形状の反射鏡で構成され、物体Ｏからの光束を１回のみ
の結像によって像面Ｉ上に縮小結像させることを特徴と
する反射縮小投影光学系を提供する。また、入射角度の
差が８．８°以内になるような反射鏡を用い、投影光学
系を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射縮小投影光学
系に関し、特に、Ｘ線リソグラフィー用の反射縮小投影
光学系に関する。
系に関し、特に、Ｘ線リソグラフィー用の反射縮小投影
光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のＸ線リソグラフィー用反射縮小投
影光学系は、特開平５−３６５８８号公報に開示された
もののように、非球面反射鏡を４枚用いることが考えら
れていた。
影光学系は、特開平５−３６５８８号公報に開示された
もののように、非球面反射鏡を４枚用いることが考えら
れていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平５−３
６５８８号公報に開示された光学系では、開口数（以
下、ＮＡとする）を大きくすることが出来ないという欠
点があった。本発明は、この問題点に鑑み、ＮＡの大き
なＸ線リソグラフィー用反射縮小投影光学系を提供する
ことを目的とする。
６５８８号公報に開示された光学系では、開口数（以
下、ＮＡとする）を大きくすることが出来ないという欠
点があった。本発明は、この問題点に鑑み、ＮＡの大き
なＸ線リソグラフィー用反射縮小投影光学系を提供する
ことを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定
の形状の反射鏡で構成され、物体Ｏからの光束を１回の
みの結像によって像面Ｉ上に縮小結像させることを特徴
とする反射縮小投影光学系を提供する。
成するために、少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定
の形状の反射鏡で構成され、物体Ｏからの光束を１回の
みの結像によって像面Ｉ上に縮小結像させることを特徴
とする反射縮小投影光学系を提供する。
【０００５】このとき、反射縮小投影光学系は、物体Ｏ
側から順に、第１の凸面鏡Ｍ１、第１の凹面鏡Ｍ２、所
定の形状の反射鏡Ｍ３、第２の凹面鏡Ｍ４、第２の凸面
鏡Ｍ５及び第３の凹面鏡Ｍ６で構成されることが好まし
い。また、反射縮小投影光学系は、第２の凸面鏡Ｍ５上
に開口絞りＳが配置され、像面Ｉ側でテレセントリック
な光学系であることが更に好ましい。更に、第１の凸面
鏡Ｍ１の焦点距離の逆数をｐ１とし、第１の凹面鏡Ｍ２
の焦点距離の逆数をｐ２とし、所定の形状の反射鏡Ｍ３
の焦点距離の逆数をｐ３とし、第２の凹面鏡Ｍ４の焦点
距離の逆数をｐ４とし、第２の凸面鏡Ｍ５の焦点距離の
逆数をｐ５とし、第３の凹面鏡Ｍ６の焦点距離の逆数を
ｐ６としたとき、以下の条件（１）を満足することが好
ましい。
側から順に、第１の凸面鏡Ｍ１、第１の凹面鏡Ｍ２、所
定の形状の反射鏡Ｍ３、第２の凹面鏡Ｍ４、第２の凸面
鏡Ｍ５及び第３の凹面鏡Ｍ６で構成されることが好まし
い。また、反射縮小投影光学系は、第２の凸面鏡Ｍ５上
に開口絞りＳが配置され、像面Ｉ側でテレセントリック
な光学系であることが更に好ましい。更に、第１の凸面
鏡Ｍ１の焦点距離の逆数をｐ１とし、第１の凹面鏡Ｍ２
の焦点距離の逆数をｐ２とし、所定の形状の反射鏡Ｍ３
の焦点距離の逆数をｐ３とし、第２の凹面鏡Ｍ４の焦点
距離の逆数をｐ４とし、第２の凸面鏡Ｍ５の焦点距離の
逆数をｐ５とし、第３の凹面鏡Ｍ６の焦点距離の逆数を
ｐ６としたとき、以下の条件（１）を満足することが好
ましい。
【０００６】 -0.005＜p1＋p2＋p3＋p4＋p5＋p6＜0.005 （１） また、本発明は、上記目的を達成するために、複数の反
射鏡で構成され、物体からの光束を像面上に結像させる
反射投影光学系において、前記複数の反射鏡のうち、前
記像面から光路にさかのぼって配置された３枚の反射鏡
は以下の条件を満足することを特徴とする反射投影光学
系を提供する。
射鏡で構成され、物体からの光束を像面上に結像させる
反射投影光学系において、前記複数の反射鏡のうち、前
記像面から光路にさかのぼって配置された３枚の反射鏡
は以下の条件を満足することを特徴とする反射投影光学
系を提供する。
【０００７】 ０°≦Ｕmax−Ｕmin≦８．８° （２） 但し、Ｕmaxは、反射鏡に最も大きな入射角度で入射す
る光線の入射角であり、Ｕminは、反射鏡に最も小さな
入射角度で入射する光線の入射角である。また更に、本
発明は、上記目的を達成するために、以下の条件を満足
する反射鏡のみによって構成されることを特徴とする反
射投影光学系を提供する。
る光線の入射角であり、Ｕminは、反射鏡に最も小さな
入射角度で入射する光線の入射角である。また更に、本
発明は、上記目的を達成するために、以下の条件を満足
する反射鏡のみによって構成されることを特徴とする反
射投影光学系を提供する。
【０００８】 ０°≦Ｕmax−Ｕmin≦８．８° （２） 但し、Ｕmaxは、反射鏡に最も大きな入射角度で入射す
る光線の入射角であり、Ｕminは、反射鏡に最も小さな
入射角度で入射する光線の入射角である。このとき、投
影光学系は、少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定の
形状の反射鏡を含むことが好ましい。
る光線の入射角であり、Ｕminは、反射鏡に最も小さな
入射角度で入射する光線の入射角である。このとき、投
影光学系は、少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定の
形状の反射鏡を含むことが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】上述の様に、本発明による反射縮
小投影光学系は、計６枚の反射鏡によって構成される。
この様な構成とすることで、設計自由度を増加させ、諸
収差を低減し、結果として、ＮＡを大きくすることが可
能になる。また、計６枚の反射鏡なので、物体と像面と
が光学系に対して反対側に配置されるようになり、物体
と像面との機械的干渉をさけることができるようにな
る。更に、１回のみの結像を行うことで（つまり、中間
像を形成しないことで）、光学系の全長を小さくでき
る。ここで、製造及び調整を容易をするためには、反射
鏡１枚を平面鏡とすることが好ましい。
小投影光学系は、計６枚の反射鏡によって構成される。
この様な構成とすることで、設計自由度を増加させ、諸
収差を低減し、結果として、ＮＡを大きくすることが可
能になる。また、計６枚の反射鏡なので、物体と像面と
が光学系に対して反対側に配置されるようになり、物体
と像面との機械的干渉をさけることができるようにな
る。更に、１回のみの結像を行うことで（つまり、中間
像を形成しないことで）、光学系の全長を小さくでき
る。ここで、製造及び調整を容易をするためには、反射
鏡１枚を平面鏡とすることが好ましい。
【００１０】また、最良の性能を得るためには、物体Ｏ
側から順に、第１の凸面鏡Ｍ１、第１の凹面鏡Ｍ２、所
定の形状の反射鏡Ｍ３、第２の凹面鏡Ｍ４、第２の凸面
鏡Ｍ５及び第３の凹面鏡Ｍ６で構成することが良い。こ
こで、第２の凸面鏡Ｍ５上に開口絞りＳが配置すること
で、開口絞りと光線との機械的干渉を避けることができ
るようになる。像面Ｉ側でテレセントリックな光学系と
することで、像面上に配置されたウェハ等が多少光軸方
向に移動しても（つまり、焦点位置がずれても）、像の
大きさを不変にすることができる。
側から順に、第１の凸面鏡Ｍ１、第１の凹面鏡Ｍ２、所
定の形状の反射鏡Ｍ３、第２の凹面鏡Ｍ４、第２の凸面
鏡Ｍ５及び第３の凹面鏡Ｍ６で構成することが良い。こ
こで、第２の凸面鏡Ｍ５上に開口絞りＳが配置すること
で、開口絞りと光線との機械的干渉を避けることができ
るようになる。像面Ｉ側でテレセントリックな光学系と
することで、像面上に配置されたウェハ等が多少光軸方
向に移動しても（つまり、焦点位置がずれても）、像の
大きさを不変にすることができる。
【００１１】また、条件（１）は平坦な像面を得るため
の条件であり、条件（１）の値を０に近づけることで、
良像として使用できる輪帯幅を増大させることができ
る。条件（１）の範囲を越えてしまうと、平坦な像面が
得られなくなる。また、本発明では、反射鏡について条
件（２）を設定している。この条件は、反射鏡での反射
光に位相ずれが起こらないようにするための条件であ
る。もし、１つの反射鏡の全ての位置で入射光線の入射
角が等しければ、反射鏡の全ての位置での反射光の位相
は同じになるので、位相ずれは起こらない。これは、つ
まり、条件（２）の下限値であり、Ｕmax−Ｕmin＝０°
のときである。実際には、光学設計上の要求或いは薄膜
の許容範囲から、１つの反射鏡の各位置での入射光線の
入射角は、少しばらついていても良い。この入射角のば
らつきの許容範囲は、Ｕmax−Ｕmin の値で、８．８°
以内であることが望ましい。もし、この入射角のばらつ
きの許容範囲を越えると、位相ずれが目立つようにな
り、像が乱る。ひどいときには、全く像にならなかった
り、像の位置がシフトするような現象を起こしたりす
る。
の条件であり、条件（１）の値を０に近づけることで、
良像として使用できる輪帯幅を増大させることができ
る。条件（１）の範囲を越えてしまうと、平坦な像面が
得られなくなる。また、本発明では、反射鏡について条
件（２）を設定している。この条件は、反射鏡での反射
光に位相ずれが起こらないようにするための条件であ
る。もし、１つの反射鏡の全ての位置で入射光線の入射
角が等しければ、反射鏡の全ての位置での反射光の位相
は同じになるので、位相ずれは起こらない。これは、つ
まり、条件（２）の下限値であり、Ｕmax−Ｕmin＝０°
のときである。実際には、光学設計上の要求或いは薄膜
の許容範囲から、１つの反射鏡の各位置での入射光線の
入射角は、少しばらついていても良い。この入射角のば
らつきの許容範囲は、Ｕmax−Ｕmin の値で、８．８°
以内であることが望ましい。もし、この入射角のばらつ
きの許容範囲を越えると、位相ずれが目立つようにな
り、像が乱る。ひどいときには、全く像にならなかった
り、像の位置がシフトするような現象を起こしたりす
る。
【００１２】尚、条件（２）の上限を７．５°にすると
更に良い結果が得られ、６°にするとかなり良い結果が
得られる。また、条件（２）は、なるべくなら全ての反
射鏡で満足することが望ましい。しかし、特に、像面側
に配置された反射鏡で満足することが望ましい。これ
は、同じ入射角のばらつきであっても、像面側に配置さ
れた反射鏡の方が、物体側に配置された反射鏡よりも、
像の乱れに対し影響が大きいからである。このとき、像
面から光路にさかのぼって配置された３番目までの反射
鏡が条件（２）を満足することが望ましい。ここで、面
から光路にさかのぼって配置された３番目までの反射鏡
とは、光路順に、像面に３番目に近い反射鏡、像面に２
番目に近い反射鏡及び最も像面に近い反射鏡のことを指
す。
更に良い結果が得られ、６°にするとかなり良い結果が
得られる。また、条件（２）は、なるべくなら全ての反
射鏡で満足することが望ましい。しかし、特に、像面側
に配置された反射鏡で満足することが望ましい。これ
は、同じ入射角のばらつきであっても、像面側に配置さ
れた反射鏡の方が、物体側に配置された反射鏡よりも、
像の乱れに対し影響が大きいからである。このとき、像
面から光路にさかのぼって配置された３番目までの反射
鏡が条件（２）を満足することが望ましい。ここで、面
から光路にさかのぼって配置された３番目までの反射鏡
とは、光路順に、像面に３番目に近い反射鏡、像面に２
番目に近い反射鏡及び最も像面に近い反射鏡のことを指
す。
【００１３】
【実施例】以下に実施例を示す。以下に示す各実施例
は、物体側から順に、第１の凸面鏡Ｍ１、第１の凹面鏡
Ｍ２、所定の形状の反射鏡Ｍ３、第２の凹面鏡Ｍ４、第
２の凸面鏡Ｍ５及び第３の凹面鏡Ｍ６で構成され、第２
の凸面鏡Ｍ５上に開口絞りＳが配置されている。また、
倍率は１／４倍であり、像高Ｙ＝３０〜３１の円弧領域
を露光領域として用いる。非球面形状Ｚ（ｙ）を表す式
は、 Ｚ（ｙ）＝ｙ2 ／ｒ［１＋｛１−（１＋κ）ｙ2／
ｒ2 ｝1/2 ］＋Ａｙ4 ＋Ｂｙ6 ＋Ｃｙ8 ＋Ｄｙ10 である。ここで、ｒは頂点曲率半径であり、ｙは光軸か
らの距離であり、κは円錐定数であり、Ａ、Ｂ、Ｃ及び
Ｄは非球面定数である。
は、物体側から順に、第１の凸面鏡Ｍ１、第１の凹面鏡
Ｍ２、所定の形状の反射鏡Ｍ３、第２の凹面鏡Ｍ４、第
２の凸面鏡Ｍ５及び第３の凹面鏡Ｍ６で構成され、第２
の凸面鏡Ｍ５上に開口絞りＳが配置されている。また、
倍率は１／４倍であり、像高Ｙ＝３０〜３１の円弧領域
を露光領域として用いる。非球面形状Ｚ（ｙ）を表す式
は、 Ｚ（ｙ）＝ｙ2 ／ｒ［１＋｛１−（１＋κ）ｙ2／
ｒ2 ｝1/2 ］＋Ａｙ4 ＋Ｂｙ6 ＋Ｃｙ8 ＋Ｄｙ10 である。ここで、ｒは頂点曲率半径であり、ｙは光軸か
らの距離であり、κは円錐定数であり、Ａ、Ｂ、Ｃ及び
Ｄは非球面定数である。
【００１４】各実施例の反射縮小投影光学系は、１３ｎ
ｍの波長を使用しており、物体としてレチクル、像面上
にウェハを配置する。また、鏡面は、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
又はＭｏ／ＳｉＣ多層膜によって形成されている。尚、
各実施例の表中、ｒは曲率半径を表し、ｄは面間隔を表
しており、横収差図中、Ｙは像高を表している。 〔第１実施例〕以下の表１に諸元を示し、図１に構成を
示し、図４に横収差を示す。
ｍの波長を使用しており、物体としてレチクル、像面上
にウェハを配置する。また、鏡面は、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
又はＭｏ／ＳｉＣ多層膜によって形成されている。尚、
各実施例の表中、ｒは曲率半径を表し、ｄは面間隔を表
しており、横収差図中、Ｙは像高を表している。 〔第１実施例〕以下の表１に諸元を示し、図１に構成を
示し、図４に横収差を示す。
【００１５】
【表１】 像面側ＮＡ＝０．１４ レチクル面−第１面光軸上間隔＝247.311 最終面−ウェハ面光軸上間隔＝100.977 p1＋p2＋p3＋p4＋p5＋p6＝0.000144 ｒ ｄ １ 259.702 -131.142 Ｍ１ ２ 373.476 299.090 Ｍ２ ３ -9419.368 -82.804 Ｍ３ ４ 629.595 93.183 Ｍ４ ５ 120.356 -61.356 Ｍ５ Ｓ ６ 127.238 Ｍ６ κ Ａ Ｂ Ｃ Ｄ １ -1.658 0.765*10 -8 0.208*10 -13 0.108*10 -17 0.270*10 -21 ２ 0.058 -0.162*10 -9 0.138*10 -14 -0.374*10 -19 0.151*10 -2 3 ３ -7716.247 0.763*10 -9 -0.322*10 -13 0.405*10 -17 -0.750*10 - 22 ４ -5.725 -0.523*10 -8 -0.186*10 -12 0.166*10 -16 -0.991*10 - 21 ５ 0.176 0.363*10 -7 0.854*10 -11 0.234*10 -13 -0.128*10 -1 5 ６ 0.081 0.891*10 -8 0.899*10 -12 0.255*10 -16 0.126*10 -19 〔第２実施例〕以下の表２に諸元を示し、図２に構成を
示し、図５に横収差を示す。
示し、図５に横収差を示す。
【００１６】
【表２】 像面側ＮＡ＝０．１４ レチクル面−第１面光軸上間隔＝264.523 最終面−ウェハ面光軸上間隔＝103.953 p1＋p2＋p3＋p4＋p5＋p6＝0.000155 ｒ ｄ １ 266.530 -130.616 Ｍ１ ２ 387.461 306.752 Ｍ２ ３ ∞ -74.623 Ｍ３ ４ 648.429 121.654 Ｍ４ ５ 126.168 -63.334 Ｍ５ Ｓ ６ 131.026 Ｍ６ κ Ａ Ｂ Ｃ Ｄ １ -1.891 0.836*10 -8 0.136*10 -12 -0.764*10 -18 0.199*10 -21 ２ 0.006 -0.142*10 -9 0.484*10 -14 -0.196*10 -19 0.927*10 -24 ３ ／ 0.0 0.0 0.0 0.0 ４ -4.335 -0.459*10 -8 -0.502*10 -13 -0.241*10 -17 0.653*10 -2 3 ５ 0.096 0.391*10 -7 0.783*10 -11 -0.284*10 -14 0.226*10 -16 ６ 0.054 0.970*10 -8 0.873*10 -12 0.278*10 -16 0.951*10 -20 〔第３実施例〕以下の表３に諸元を示し、図３に構成を
示し、図６に横収差を示す。
示し、図６に横収差を示す。
【００１７】
【表３】 像面側ＮＡ＝０．２０ レチクル面−第１面光軸上間隔＝230.466 最終面−ウェハ面光軸上間隔＝118.573 p1＋p2＋p3＋p4＋p5＋p6＝-0.000003 ｒ ｄ １ 240.277 -133.431 Ｍ１ ２ 369.640 358.156 Ｍ２ ３ -13255.008 -84.394 Ｍ３ ４ 1070.550 96.654 Ｍ４ ５ 155.741 -70.913 Ｍ５ Ｓ ６ 145.638 Ｍ６ κ Ａ Ｂ Ｃ Ｄ １ -1.448 0.781*10 -8 0.435*10 -13 0.131*10 -17 0.583*10 -22 ２ 0.049 -0.251*10 -9 0.816*10 -15 -0.260*10 -19 0.348*10 -24 ３ 8612.925 0.292*10 -8 -0.257*10 -13 0.203*10 -17 0.130*10 -23 ４ -6.705 -0.736*10 -8 -0.233*10 -12 0.128*10 -16 -0.117*10 -2 0 ５ -1.781 0.995*10 -7 0.510*10 -11 0.605*10 -15 -0.951*10 -19 ６ 0.129 0.434*10 -8 0.341*10 -12 0.149*10 -16 0.228*10 -20 以下に、各実施例での条件（２）の対応値を示す。
【００１８】
【表４】
【００１９】
【発明の効果】以上の様に、本発明によって、ＮＡの大
きなＸ線リソグラフィー用反射縮小投影光学系を提供す
ることができるようになった。
きなＸ線リソグラフィー用反射縮小投影光学系を提供す
ることができるようになった。
【図１】図１は、本発明による第１実施例の光学系の構
成を示した図である。
成を示した図である。
【図２】図２は、本発明による第２実施例の光学系の構
成を示した図である。
成を示した図である。
【図３】図３は、本発明による第３実施例の光学系の構
成を示した図である。
成を示した図である。
【図４】図４は、第１実施例の光学系の横収差図であ
る。
る。
【図５】図５は、第２実施例の光学系の横収差図であ
る。
る。
【図６】図６は、第３実施例の光学系の横収差図であ
る。
る。
Ｍ１ 第１の凸面鏡 Ｍ２ 第１の凹面鏡 Ｍ３ 所定の形状の反射鏡 Ｍ４ 第２の凹面鏡 Ｍ５ 第２の凸面鏡 Ｍ６ 第３の凹面鏡 Ｓ 開口絞り Ｏ 物体 Ｉ 像面
Claims (9)
- 【請求項１】少なくとも５枚の非球面反射鏡及び所定の
形状の反射鏡で構成され、物体からの光束を１回のみの
結像によって像面上に縮小結像させることを特徴とする
反射縮小投影光学系。 - 【請求項２】前記反射縮小投影光学系は、前記物体側か
ら順に、第１の凸面鏡、第１の凹面鏡、前記所定の形状
の反射鏡、第２の凹面鏡、第２の凸面鏡及び第３の凹面
鏡で構成されることを特徴とする請求項１記載の反射縮
小投影光学系。 - 【請求項３】前記第２の凸面鏡上に、開口絞りが配置さ
れていることを特徴とする請求項２記載の反射縮小投影
光学系。 - 【請求項４】前記像面側で、テレセントリックな光学系
であることを特徴とする請求項１乃至３記載の反射縮小
投影光学系。 - 【請求項５】前記第１の凸面鏡の焦点距離の逆数をｐ１
とし、前記第１の凹面鏡の焦点距離の逆数をｐ２とし、
前記所定の形状の反射鏡の焦点距離の逆数をｐ３とし、
前記第２の凹面鏡の焦点距離の逆数をｐ４とし、前記第
２の凸面鏡の焦点距離の逆数をｐ５とし、前記第３の凹
面鏡の焦点距離の逆数をｐ６としたとき、以下の条件を
満足することを特徴とする請求項２乃至４記載の反射縮
小投影光学系。 -0.005＜p1＋p2＋p3＋p4＋p5＋p6＜0.005 - 【請求項６】複数の反射鏡で構成され、物体からの光束
を像面上に結像させる反射投影光学系において、前記複
数の反射鏡のうち、前記像面から光路にさかのぼって配
置された３枚の反射鏡は以下の条件を満足することを特
徴とする反射投影光学系。 ０°≦Ｕmax−Ｕmin≦８．８°但し、Ｕmaxは、反射鏡
に最も大きな入射角度で入射する光線の入射角であり、
Ｕminは、反射鏡に最も小さな入射角度で入射する光線
の入射角である。 - 【請求項７】前記投影光学系は、少なくとも５枚の非球
面反射鏡及び所定の形状の反射鏡を含むことを特徴とす
る請求項６記載の反射投影光学系。 - 【請求項８】以下の条件を満足する反射鏡のみによって
構成されることを特徴とする反射投影光学系。 ０°≦Ｕmax−Ｕmin≦８．８° 但し、Ｕmaxは、反射鏡に最も大きな入射角度で入射す
る光線の入射角であり、Ｕminは、反射鏡に最も小さな
入射角度で入射する光線の入射角である。 - 【請求項９】前記投影光学系は、少なくとも５枚の非球
面反射鏡及び所定の形状の反射鏡を含むことを特徴とす
る請求項８記載の反射投影光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201939A JP2001085322A (ja) | 1999-07-09 | 2000-07-04 | 反射縮小投影光学系 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-196322 | 1999-07-09 | ||
| JP19632299 | 1999-07-09 | ||
| JP2000201939A JP2001085322A (ja) | 1999-07-09 | 2000-07-04 | 反射縮小投影光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001085322A true JP2001085322A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=26509676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000201939A Pending JP2001085322A (ja) | 1999-07-09 | 2000-07-04 | 反射縮小投影光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001085322A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007271312A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 表面検査装置 |
-
2000
- 2000-07-04 JP JP2000201939A patent/JP2001085322A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007271312A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 表面検査装置 |
| JP4635939B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-02-23 | 株式会社ニコン | 表面検査装置 |
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