JP2001085192A - 漏洩ｘ線遮蔽機構 - Google Patents
漏洩ｘ線遮蔽機構Info
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- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F1/00—Shielding characterised by the composition of the materials
- G21F1/12—Laminated shielding materials
- G21F1/125—Laminated shielding materials comprising metals
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/10—Scattering devices; Absorbing devices; Ionising radiation filters
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線ガイドチューブによって集光された
Ｘ線以外の漏洩Ｘ線を遮蔽可能とする漏洩Ｘ線遮蔽機構
を提供する。 【解決手段】 Ｘ線Ｒｘを放射するＸ線源２と、内周面
に前記Ｘ線Ｒｘが入射されるガラスからなるＸ線ガイド
チューブ３ａ，３ｂとを有するＸＧＴカートリッジ１ａ
において、前記Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂの外側に
配置されることにより、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
の側面を透過したＸ線を遮蔽可能とする金属製の保護管
５ａ，５ｂを設けた。
Ｘ線以外の漏洩Ｘ線を遮蔽可能とする漏洩Ｘ線遮蔽機構
を提供する。 【解決手段】 Ｘ線Ｒｘを放射するＸ線源２と、内周面
に前記Ｘ線Ｒｘが入射されるガラスからなるＸ線ガイド
チューブ３ａ，３ｂとを有するＸＧＴカートリッジ１ａ
において、前記Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂの外側に
配置されることにより、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
の側面を透過したＸ線を遮蔽可能とする金属製の保護管
５ａ，５ｂを設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばＸ線分析顕
微鏡のＸ線カートリッジにおける漏洩Ｘ線遮蔽機構に関
するものである。
微鏡のＸ線カートリッジにおける漏洩Ｘ線遮蔽機構に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来のＸ線カートリッジ１０を用
いたＸ線分析顕微鏡の一例である蛍光Ｘ線分析器の基本
的な構成を示している。図３において、２はＸ線源であ
り、フィラメント２ａとターゲット２ｂを有しており、
フィラメント２ａから出射した電子流がターゲット２ｂ
に衝突する点がＸ線発生点Ｐである。
いたＸ線分析顕微鏡の一例である蛍光Ｘ線分析器の基本
的な構成を示している。図３において、２はＸ線源であ
り、フィラメント２ａとターゲット２ｂを有しており、
フィラメント２ａから出射した電子流がターゲット２ｂ
に衝突する点がＸ線発生点Ｐである。
【０００３】３ａ，３ｂはＸ線発生点Ｐから放射するＸ
線Ｒｘを細く絞って試料Ｓに照射するためのガラスから
なるＸ線ガイドチューブであって、例えば、その内径が
１０μｍであるものと、内径が１００μｍであるものの
２本が用意されている。これらのＸ線ガイドチューブ３
ａ，３ｂはマウント台４によって保持されており、この
マウント台４がＸ線源２に対して図示左右に摺動するこ
とにより、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂのうち何れか
一方が選択されて、Ｘ線Ｒｘを適宜の大きさに絞った状
態で試料Ｓに照射するように構成している。
線Ｒｘを細く絞って試料Ｓに照射するためのガラスから
なるＸ線ガイドチューブであって、例えば、その内径が
１０μｍであるものと、内径が１００μｍであるものの
２本が用意されている。これらのＸ線ガイドチューブ３
ａ，３ｂはマウント台４によって保持されており、この
マウント台４がＸ線源２に対して図示左右に摺動するこ
とにより、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂのうち何れか
一方が選択されて、Ｘ線Ｒｘを適宜の大きさに絞った状
態で試料Ｓに照射するように構成している。
【０００４】また、前記Ｘ線源２は、Ｘ線ガイドチュー
ブ３ａ，３ｂの入射端がＸ線発生点Ｐにより近づくこと
が出来るように、凹字状に入り組んだＸ線ガイドチュー
ブの挿入部２ｃを有しており、より強力なＸ線Ｒｘを照
射可能としている。そして、Ｘ線透過窓２ｄを除いて他
の部分に照射されたＸ線Ｒｘを遮断することにより、Ｘ
線ガイドチューブ３ａ，３ｂの何れか一方の内部だけに
Ｘ線Ｒｘを照射可能としている。なお、Ｘ線ガイドチュ
ーブ３ａまたは３ｂの内周部をはみ出して照射されてし
まったＸ線ＲｘはＸ線ガイドチューブ３ａまたは３ｂを
構成するガラスによって吸収される。
ブ３ａ，３ｂの入射端がＸ線発生点Ｐにより近づくこと
が出来るように、凹字状に入り組んだＸ線ガイドチュー
ブの挿入部２ｃを有しており、より強力なＸ線Ｒｘを照
射可能としている。そして、Ｘ線透過窓２ｄを除いて他
の部分に照射されたＸ線Ｒｘを遮断することにより、Ｘ
線ガイドチューブ３ａ，３ｂの何れか一方の内部だけに
Ｘ線Ｒｘを照射可能としている。なお、Ｘ線ガイドチュ
ーブ３ａまたは３ｂの内周部をはみ出して照射されてし
まったＸ線ＲｘはＸ線ガイドチューブ３ａまたは３ｂを
構成するガラスによって吸収される。
【０００５】一方、試料ＳはＸ−Ｙ方向に動く試料ステ
ージ１１に載せられており、コンピュータ１２がステー
ジ制御回路１１ａを介して、その位置を制御可能として
いる。また、試料Ｓから発生する各種の蛍光Ｘ線Ｒｆを
検出器１３と、検出したＸ線Ｒｆを例えば蛍光Ｘ線スペ
クトルとしてコンピュータ１２に出力する処理回路１４
とを有している。すなわち、ステージ１１のＸ−Ｙ軸制
御をコンピュータ１２で行なって、蛍光Ｘ線分析による
元素分布のマッピング像を復像可能に構成している。
ージ１１に載せられており、コンピュータ１２がステー
ジ制御回路１１ａを介して、その位置を制御可能として
いる。また、試料Ｓから発生する各種の蛍光Ｘ線Ｒｆを
検出器１３と、検出したＸ線Ｒｆを例えば蛍光Ｘ線スペ
クトルとしてコンピュータ１２に出力する処理回路１４
とを有している。すなわち、ステージ１１のＸ−Ｙ軸制
御をコンピュータ１２で行なって、蛍光Ｘ線分析による
元素分布のマッピング像を復像可能に構成している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ, ３ｂを用いてＸ線Ｒｘを遮断するた
めには、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂの長さ全てを用
いる必要があった。そして、上記構成のＸ線カートリッ
ジ１０では、Ｘ線Ｒｘの入射端側にＸ線透過窓２ｄを形
成しその他の部分のＸ線を遮断しているだけであるの
で、比較的大きな発散角αをもって照射されるＸ線Ｒｘ
は、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂを通り抜けて試料Ｓ
に照射されてしまう可能性があった。すなわち、漏れた
Ｘ線Ｒｘ’によって生じた蛍光Ｘ線Ｒｆ’がノイズとな
って現れる可能性があった。
イドチューブ３ａ, ３ｂを用いてＸ線Ｒｘを遮断するた
めには、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂの長さ全てを用
いる必要があった。そして、上記構成のＸ線カートリッ
ジ１０では、Ｘ線Ｒｘの入射端側にＸ線透過窓２ｄを形
成しその他の部分のＸ線を遮断しているだけであるの
で、比較的大きな発散角αをもって照射されるＸ線Ｒｘ
は、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂを通り抜けて試料Ｓ
に照射されてしまう可能性があった。すなわち、漏れた
Ｘ線Ｒｘ’によって生じた蛍光Ｘ線Ｒｆ’がノイズとな
って現れる可能性があった。
【０００７】このような問題が生じないようにするため
に、拡大断面図に示すように、各Ｘ線ガイドチューブ３
ａ，３ｂとマウント台４による遮蔽部分の間にできた空
間にはんだクリームＨのようなものを塗布し、加熱して
はんだ付けすることで、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
を突き抜けたＸ線Ｒｘ’が試料Ｓに照射されないように
できる。ところが、はんだクリームＨの塗布作業などに
手間がかかり、Ｘ線カートリッジ１０の作成にかかるコ
ストが増大するという問題点も生じていた。
に、拡大断面図に示すように、各Ｘ線ガイドチューブ３
ａ，３ｂとマウント台４による遮蔽部分の間にできた空
間にはんだクリームＨのようなものを塗布し、加熱して
はんだ付けすることで、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
を突き抜けたＸ線Ｒｘ’が試料Ｓに照射されないように
できる。ところが、はんだクリームＨの塗布作業などに
手間がかかり、Ｘ線カートリッジ１０の作成にかかるコ
ストが増大するという問題点も生じていた。
【０００８】一方、Ｘ線Ｒｘの出射端側に遮蔽板を設け
ることも考えられるが、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
は試料Ｓに対して近づけることが、その焦点をぼかさな
いために重要であり、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂと
試料Ｓとの間に遮蔽板を設けることは、試料Ｓとの距離
を遠くする原因となるので望ましくなかった。さらに、
Ｘ線Ｒｘの出射端側に設けられた遮蔽板によって、目視
やモニタによる試料Ｓの観察視野をさえぎる可能性もあ
った。
ることも考えられるが、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
は試料Ｓに対して近づけることが、その焦点をぼかさな
いために重要であり、Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂと
試料Ｓとの間に遮蔽板を設けることは、試料Ｓとの距離
を遠くする原因となるので望ましくなかった。さらに、
Ｘ線Ｒｘの出射端側に設けられた遮蔽板によって、目視
やモニタによる試料Ｓの観察視野をさえぎる可能性もあ
った。
【０００９】本発明は上述の点を考慮に入れてなされた
ものであり、その目的とするところは、Ｘ線ガイドチュ
ーブによって集光されたＸ線以外の漏洩Ｘ線を遮蔽可能
とする漏洩Ｘ線遮蔽機構を提供することにある。
ものであり、その目的とするところは、Ｘ線ガイドチュ
ーブによって集光されたＸ線以外の漏洩Ｘ線を遮蔽可能
とする漏洩Ｘ線遮蔽機構を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１発明の漏洩Ｘ線遮蔽機構は、Ｘ線を放射するＸ
線源と、内周面に前記Ｘ線が入射されるガラスからなる
Ｘ線ガイドチューブとを有するＸ線カートリッジにおい
て、前記Ｘ線ガイドチューブの外側に配置されることに
より、Ｘ線ガイドチューブの側面を透過したＸ線を遮蔽
可能とする金属製の保護管を設けたことを特徴としてい
る。
に、第１発明の漏洩Ｘ線遮蔽機構は、Ｘ線を放射するＸ
線源と、内周面に前記Ｘ線が入射されるガラスからなる
Ｘ線ガイドチューブとを有するＸ線カートリッジにおい
て、前記Ｘ線ガイドチューブの外側に配置されることに
より、Ｘ線ガイドチューブの側面を透過したＸ線を遮蔽
可能とする金属製の保護管を設けたことを特徴としてい
る。
【００１１】したがって、Ｘ線をＸ線ガイドチューブの
内周面によって反射してこれが適宜の照射面積を有する
ように絞り込むことが可能になると共に、Ｘ線ガイドチ
ューブの側面を透過するＸ線を遮断できるので、Ｘ線の
照射領域を確実に限定することができる。すなわち、こ
の漏洩Ｘ線遮蔽機構を用いることにより、漏洩Ｘ線によ
る影響を除去して高精度の分析を行うことができる。
内周面によって反射してこれが適宜の照射面積を有する
ように絞り込むことが可能になると共に、Ｘ線ガイドチ
ューブの側面を透過するＸ線を遮断できるので、Ｘ線の
照射領域を確実に限定することができる。すなわち、こ
の漏洩Ｘ線遮蔽機構を用いることにより、漏洩Ｘ線によ
る影響を除去して高精度の分析を行うことができる。
【００１２】第２発明の漏洩Ｘ線遮蔽機構は、Ｘ線を放
射するＸ線源と、内周面に前記Ｘ線が入射されるガラス
からなるＸ線ガイドチューブとを有するＸ線カートリッ
ジにおいて、前記Ｘ線ガイドチューブ内へのＸ線の入射
窓を有してこのＸ線ガイドチューブの入射端側に配置さ
れる金属製のＸ線遮蔽板と、前記Ｘ線源から所定の距離
よりも入射端側からＸ線の出射端側へ所定長さを有して
Ｘ線ガイドチューブの外側に配置されることにより、前
記入射窓を通過してＸ線ガイドチューブの側面を透過し
たＸ線を遮蔽可能とする金属製の保護管とを設けたこと
を特徴としている。
射するＸ線源と、内周面に前記Ｘ線が入射されるガラス
からなるＸ線ガイドチューブとを有するＸ線カートリッ
ジにおいて、前記Ｘ線ガイドチューブ内へのＸ線の入射
窓を有してこのＸ線ガイドチューブの入射端側に配置さ
れる金属製のＸ線遮蔽板と、前記Ｘ線源から所定の距離
よりも入射端側からＸ線の出射端側へ所定長さを有して
Ｘ線ガイドチューブの外側に配置されることにより、前
記入射窓を通過してＸ線ガイドチューブの側面を透過し
たＸ線を遮蔽可能とする金属製の保護管とを設けたこと
を特徴としている。
【００１３】したがって、上記漏洩Ｘ線遮蔽機構によれ
ば、Ｘ線ガイドチューブを通過したＸ線のみを試料に照
射することができ、それだけＸ線の照射面積を確実に小
さくすることができる。すなわち、漏洩Ｘ線による測定
誤差を防ぐことができる。
ば、Ｘ線ガイドチューブを通過したＸ線のみを試料に照
射することができ、それだけＸ線の照射面積を確実に小
さくすることができる。すなわち、漏洩Ｘ線による測定
誤差を防ぐことができる。
【００１４】前記Ｘ線遮蔽板の入射窓の直径ｒ1 と、Ｘ
線源のＸ線発生点からＸ線遮蔽板までの距離ｘ1 と、Ｘ
線発生点から前記保護管の入射端までの距離ｘ2 と、こ
の保護管の内径ｒ2 が、ｒ1 ／ｘ1 ＜ｒ2 ／ｘ2 の関係
にある場合には、最低限の大きさのＸ線遮蔽を行うだけ
で、確実に漏洩Ｘ線を遮断できるので、それだけ、製造
コストを引き下げることができる。
線源のＸ線発生点からＸ線遮蔽板までの距離ｘ1 と、Ｘ
線発生点から前記保護管の入射端までの距離ｘ2 と、こ
の保護管の内径ｒ2 が、ｒ1 ／ｘ1 ＜ｒ2 ／ｘ2 の関係
にある場合には、最低限の大きさのＸ線遮蔽を行うだけ
で、確実に漏洩Ｘ線を遮断できるので、それだけ、製造
コストを引き下げることができる。
【００１５】Ｘ線カートリッジがＸ線ガイドチューブを
複数本有しており、これらのＸ線ガイドチューブを保持
すると共に、Ｘ線ガイドチューブを切り換えて使用可能
とするマウント台を有する場合には、例えばＸ線ガイド
チューブの太さを変えることにより照射するＸ線の強度
や細さを変更する事が可能となる。
複数本有しており、これらのＸ線ガイドチューブを保持
すると共に、Ｘ線ガイドチューブを切り換えて使用可能
とするマウント台を有する場合には、例えばＸ線ガイド
チューブの太さを変えることにより照射するＸ線の強度
や細さを変更する事が可能となる。
【００１６】前記マウント台がＸ線ガイドチューブの外
側に位置する金属製のＸ線遮蔽管を保持すると共に、こ
のＸ線遮蔽管によってＸ線ガイドチューブの入射端側に
位置する前記Ｘ線遮蔽板を保持する場合には、前記Ｘ線
遮蔽板をＸ線ガイドチューブに対して決まった位置に確
実に保持できる。
側に位置する金属製のＸ線遮蔽管を保持すると共に、こ
のＸ線遮蔽管によってＸ線ガイドチューブの入射端側に
位置する前記Ｘ線遮蔽板を保持する場合には、前記Ｘ線
遮蔽板をＸ線ガイドチューブに対して決まった位置に確
実に保持できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の漏洩Ｘ線遮蔽機構
１を用いたＸ線分析顕微鏡の一例である蛍光Ｘ線分析器
の要部を示している。なお、以下の説明において、図３
と同じ符号を付した部材は同一または同等の部材である
ので、その詳細な説明を省略する。
１を用いたＸ線分析顕微鏡の一例である蛍光Ｘ線分析器
の要部を示している。なお、以下の説明において、図３
と同じ符号を付した部材は同一または同等の部材である
ので、その詳細な説明を省略する。
【００１８】図１において、１ａはＸ線カートリッジ
（以下、ＸＧＴカートリッジという）、２はこのＸＧＴ
カートリッジ１ａにＸ線Ｒｘを照射するＸ線源である。
そして、ＸＧＴカートリッジ１ａは前記Ｘ線ガイドチュ
ーブ３と、そのマウント台４と、Ｘ線ガイドチューブ３
の保護管５と、Ｘ線遮蔽板６とを有している。
（以下、ＸＧＴカートリッジという）、２はこのＸＧＴ
カートリッジ１ａにＸ線Ｒｘを照射するＸ線源である。
そして、ＸＧＴカートリッジ１ａは前記Ｘ線ガイドチュ
ーブ３と、そのマウント台４と、Ｘ線ガイドチューブ３
の保護管５と、Ｘ線遮蔽板６とを有している。
【００１９】Ｘ線ガイドチューブ３はＸ線Ｒｘを細く絞
って試料Ｓに照射するための中空ガラス管であり、本例
の場合、その内径がそれぞれ１０μｍ，１００μｍの２
種類のＸ線ガイドチューブ３ａ，３ｂを有している。す
なわち、内径１０μｍのＸ線ガイドチューブ３ａはより
細い領域にＸ線Ｒｘを集光して照射することにより、よ
り高い分解能で分析を行うことができる。一方、内径１
００μｍのＸ線ガイドチューブ３ｂを用いることで、よ
り強力なＸ線Ｒｘを照射することができ、より早く測定
を行うことができる。そして、本例においてはＸ線ガイ
ドチューブ３ａ，３ｂを切り換えられるようにしてい
る。
って試料Ｓに照射するための中空ガラス管であり、本例
の場合、その内径がそれぞれ１０μｍ，１００μｍの２
種類のＸ線ガイドチューブ３ａ，３ｂを有している。す
なわち、内径１０μｍのＸ線ガイドチューブ３ａはより
細い領域にＸ線Ｒｘを集光して照射することにより、よ
り高い分解能で分析を行うことができる。一方、内径１
００μｍのＸ線ガイドチューブ３ｂを用いることで、よ
り強力なＸ線Ｒｘを照射することができ、より早く測定
を行うことができる。そして、本例においてはＸ線ガイ
ドチューブ３ａ，３ｂを切り換えられるようにしてい
る。
【００２０】４はこれらのＸ線ガイドチューブ３ａ，３
ｂを切り換えて用いるための機構の一例であり、Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ，３ｂを保持するマウント台である。
このマウント台４は前記Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
を両矢印Ａに示すように摺動させることで、選択的に切
り換えて使用可能とする。
ｂを切り換えて用いるための機構の一例であり、Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ，３ｂを保持するマウント台である。
このマウント台４は前記Ｘ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
を両矢印Ａに示すように摺動させることで、選択的に切
り換えて使用可能とする。
【００２１】５はＸ線ガイドチューブ３ａ，３ｂの外側
を覆うステンレス製の保護管であり、Ｘ線ガイドチュー
ブ３ａ，３ｂのそれぞれを各保護管５ａ，５ｂが保護す
る。また、この保護管５はＸ線ガイドチューブ３ａ，３
ｂを斜め方向に貫通するＸ線が試料Ｓに当たらないよう
にＸ線の透過を防止できる重さを有する材料で形成され
ており、例えばステンレスなどの金属からなる。
を覆うステンレス製の保護管であり、Ｘ線ガイドチュー
ブ３ａ，３ｂのそれぞれを各保護管５ａ，５ｂが保護す
る。また、この保護管５はＸ線ガイドチューブ３ａ，３
ｂを斜め方向に貫通するＸ線が試料Ｓに当たらないよう
にＸ線の透過を防止できる重さを有する材料で形成され
ており、例えばステンレスなどの金属からなる。
【００２２】前記保護管５ａ，５ｂはそれぞれ前記マウ
ント台４に取付けられるものである。なお、この保護管
５はそれによって試料Ｓをモニタする時の観察視野をさ
えぎることがない程度にその長さが調整されており、そ
の下端部（出射端側）をＸ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
の出射端より手前側に控えさせている。
ント台４に取付けられるものである。なお、この保護管
５はそれによって試料Ｓをモニタする時の観察視野をさ
えぎることがない程度にその長さが調整されており、そ
の下端部（出射端側）をＸ線ガイドチューブ３ａ，３ｂ
の出射端より手前側に控えさせている。
【００２３】また、マウント台４の上面にはフランジ４
ａを連設した例えば真鍮などの金属からなるＸ線遮蔽管
４ｂを取り付けており、このＸ線遮蔽管４ｂの長さはＸ
線源２内の挿入部２ｃの深さによって定められる。そし
て、このＸ線遮蔽管４ｂの上面（入射端側）に各Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ，３ｂにそれぞれ対するＸ線の透過窓
６ａ，６ｂを有するＸ線遮蔽板６を有している。
ａを連設した例えば真鍮などの金属からなるＸ線遮蔽管
４ｂを取り付けており、このＸ線遮蔽管４ｂの長さはＸ
線源２内の挿入部２ｃの深さによって定められる。そし
て、このＸ線遮蔽管４ｂの上面（入射端側）に各Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ，３ｂにそれぞれ対するＸ線の透過窓
６ａ，６ｂを有するＸ線遮蔽板６を有している。
【００２４】上記構成のＸＧＴカートリッジ１ａはその
上端部（入射端部）をＸ線源２の挿入部２ｃ内に挿入す
ることにより、Ｘ線源２からのＸ線ＲｘをＸ線ガイドチ
ューブ３ａまたは３ｂ内に入射させることができる。そ
して、Ｘ線ガイドチューブ３ａまたは３ｂ内に入射させ
られたＸ線Ｒｘのうち、Ｘ線ガイドチューブ３ａまたは
３ｂの中空部を通過したＸ線Ｒｘのみを試料Ｓに照射
し、それ以外のＸ線Ｒｘは遮蔽する。
上端部（入射端部）をＸ線源２の挿入部２ｃ内に挿入す
ることにより、Ｘ線源２からのＸ線ＲｘをＸ線ガイドチ
ューブ３ａまたは３ｂ内に入射させることができる。そ
して、Ｘ線ガイドチューブ３ａまたは３ｂ内に入射させ
られたＸ線Ｒｘのうち、Ｘ線ガイドチューブ３ａまたは
３ｂの中空部を通過したＸ線Ｒｘのみを試料Ｓに照射
し、それ以外のＸ線Ｒｘは遮蔽する。
【００２５】図２は、各部材３ａ，５ａ，６ａの位置関
係を説明する図である。図２に示すように、本例の場
合、前述のようにＸＧＴカートリッジ１ａをＸ線源２の
挿入部２ｃ内に挿入させた状態で、前記Ｘ線遮蔽板６が
Ｘ線発生点Ｐから距離ｘ1 となる所に位置し、前記保護
管５の上端部がＸ線発生点Ｐから距離ｘ2 となる所に位
置する。
係を説明する図である。図２に示すように、本例の場
合、前述のようにＸＧＴカートリッジ１ａをＸ線源２の
挿入部２ｃ内に挿入させた状態で、前記Ｘ線遮蔽板６が
Ｘ線発生点Ｐから距離ｘ1 となる所に位置し、前記保護
管５の上端部がＸ線発生点Ｐから距離ｘ2 となる所に位
置する。
【００２６】また、保護管５ａ，５ｂの入射端側の内径
の大きさがｒ2 、Ｘ線発生点Ｐの大きさがｒ0 、Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ，３ｂの中心と保護管５ａ，５ｂの中
心との偏差がｄであるときに、保護管５ａ，５ｂによっ
て漏洩Ｘ線を確実に遮断するためには、前記透過窓６
ａ，６ｂの内径の大きさｒ1 は、以下の不等式（１）で
表す関係を満たしておく必要がある。
の大きさがｒ2 、Ｘ線発生点Ｐの大きさがｒ0 、Ｘ線ガ
イドチューブ３ａ，３ｂの中心と保護管５ａ，５ｂの中
心との偏差がｄであるときに、保護管５ａ，５ｂによっ
て漏洩Ｘ線を確実に遮断するためには、前記透過窓６
ａ，６ｂの内径の大きさｒ1 は、以下の不等式（１）で
表す関係を満たしておく必要がある。
【００２７】また、ここで、ｒ0 とｄを無視できるもの
とすれば、前記式（１）は以下の式（２）に示すように
簡略化することができる。つまり、この不等式（２）を
満足する程度の大きさｒ1 の透過窓６ａ，６ｂを形成す
ればよいことが分かる。
とすれば、前記式（１）は以下の式（２）に示すように
簡略化することができる。つまり、この不等式（２）を
満足する程度の大きさｒ1 の透過窓６ａ，６ｂを形成す
ればよいことが分かる。
【００２８】以上のように構成することにより、Ｘ線源
２から出射したＸ線Ｒｘが広がり角を持って発散するも
のであっても、ＸＧＴカートリッジ１ａによって、Ｘ線
Ｒｘビームの微細化とＸ線Ｒｘ遮蔽の２つの機能を確実
に持たせることができる。なお、図２にはＸ線ガイドチ
ューブ３ａを選択した場合における例を開示している
が、Ｘ線ガイドチューブ３ｂを選択した場合においても
全く同様である。
２から出射したＸ線Ｒｘが広がり角を持って発散するも
のであっても、ＸＧＴカートリッジ１ａによって、Ｘ線
Ｒｘビームの微細化とＸ線Ｒｘ遮蔽の２つの機能を確実
に持たせることができる。なお、図２にはＸ線ガイドチ
ューブ３ａを選択した場合における例を開示している
が、Ｘ線ガイドチューブ３ｂを選択した場合においても
全く同様である。
【００２９】また、上述の例では、２本のＸ線ガイドチ
ューブ３ａ，３ｂを切り換えて径の異なるＸ線Ｒｘを試
料Ｓに照射可能とするものについて説明したが、本発明
はこれに限られるものではない。すなわち、１本のＸ線
ガイドチューブ３を固定的に設けてもよい。この場合、
Ｘ線ガイドチューブ３を摺動させるマウント台４を設け
る必要がなくなる。
ューブ３ａ，３ｂを切り換えて径の異なるＸ線Ｒｘを試
料Ｓに照射可能とするものについて説明したが、本発明
はこれに限られるものではない。すなわち、１本のＸ線
ガイドチューブ３を固定的に設けてもよい。この場合、
Ｘ線ガイドチューブ３を摺動させるマウント台４を設け
る必要がなくなる。
【００３０】さらに、Ｘ線ガイドチューブ３を保護する
保護管５は、前述の式（１），式（２）で求められる位
置から出射端側に設けられるものに限られるものではな
く、Ｘ線ガイドチューブ３の入射端から出射端の少し手
前までの、ほぼ全長を保護するものであってもよい。ま
た、保護管５をマウント台４ではなくＸ線源２に固定的
に設けるなど、様々な変形が考えられる。
保護管５は、前述の式（１），式（２）で求められる位
置から出射端側に設けられるものに限られるものではな
く、Ｘ線ガイドチューブ３の入射端から出射端の少し手
前までの、ほぼ全長を保護するものであってもよい。ま
た、保護管５をマウント台４ではなくＸ線源２に固定的
に設けるなど、様々な変形が考えられる。
【００３１】
【発明の効果】以上詳述したように本発明の漏洩Ｘ線遮
蔽機構によれば、Ｘ線をＸ線ガイドチューブによって絞
り込むことができると共に、Ｘ線ガイドチューブの側面
から漏れるＸ線を遮断できる。すなわち、Ｘ線カートリ
ッジにＸ線Ｒｘビームの微細化とＸ線Ｒｘ遮蔽の２つの
機能を確実に持たせることができる。
蔽機構によれば、Ｘ線をＸ線ガイドチューブによって絞
り込むことができると共に、Ｘ線ガイドチューブの側面
から漏れるＸ線を遮断できる。すなわち、Ｘ線カートリ
ッジにＸ線Ｒｘビームの微細化とＸ線Ｒｘ遮蔽の２つの
機能を確実に持たせることができる。
【００３２】また、特にＸ線遮蔽板の入射窓の直径ｒ1
と、Ｘ線源のＸ線発生点からＸ線遮蔽板までの距離ｘ1
と、Ｘ線発生点から前記保護管の入射端までの距離ｘ2
と、この保護管の内径ｒ2 が、ｒ1 ／ｘ1 ＜ｒ2 ／ｘ2
の関係にある場合には、最低限の大きさのＸ線遮蔽を行
うだけで、確実に漏洩Ｘ線を遮断できるので、それだ
け、製造コストを引き下げることができる。
と、Ｘ線源のＸ線発生点からＸ線遮蔽板までの距離ｘ1
と、Ｘ線発生点から前記保護管の入射端までの距離ｘ2
と、この保護管の内径ｒ2 が、ｒ1 ／ｘ1 ＜ｒ2 ／ｘ2
の関係にある場合には、最低限の大きさのＸ線遮蔽を行
うだけで、確実に漏洩Ｘ線を遮断できるので、それだ
け、製造コストを引き下げることができる。
【図１】本発明の漏洩Ｘ線遮蔽機構の一例を説明する一
部断面図である。
部断面図である。
【図２】前記漏洩Ｘ線遮蔽機構の各部の位置関係を説明
する図である。
する図である。
【図３】従来のＸ線カートリッジを用いたＸ線分析顕微
鏡の例を示す図である。
鏡の例を示す図である。
【符号の説明】 １…漏洩Ｘ線遮蔽機構、１ａ…Ｘ線カートリッジ、２…
Ｘ線源、３（３ａ，３ｂ）…Ｘ線ガイドチューブ、４…
マウント台、４ｂ…Ｘ線遮蔽管、５（５ａ，５ｂ）…保
護管、６…Ｘ線遮蔽板、６ａ，６ｂ…入射窓、Ｐ…Ｘ線
発生点、Ｒｘ…Ｘ線。
Ｘ線源、３（３ａ，３ｂ）…Ｘ線ガイドチューブ、４…
マウント台、４ｂ…Ｘ線遮蔽管、５（５ａ，５ｂ）…保
護管、６…Ｘ線遮蔽板、６ａ，６ｂ…入射窓、Ｐ…Ｘ線
発生点、Ｒｘ…Ｘ線。
フロントページの続き (72)発明者 柏原 孝造 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 Ｆターム(参考） 2G001 AA01 AA10 BA04 FA10 GA01 HA13 JA01 JA04 JA13 JA20 KA01 SA04 4C092 AA01 AB18 AC08 BD01
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線を放射するＸ線源と、内周面に前記
Ｘ線が入射されるガラスからなるＸ線ガイドチューブと
を有するＸ線カートリッジにおいて、前記Ｘ線ガイドチ
ューブの外側に配置されることにより、Ｘ線ガイドチュ
ーブの側面を透過したＸ線を遮蔽可能とする金属製の保
護管を設けたことを特徴とする漏洩Ｘ線遮蔽機構。 - 【請求項２】 Ｘ線を放射するＸ線源と、内周面に前記
Ｘ線が入射されるガラスからなるＸ線ガイドチューブと
を有するＸ線カートリッジにおいて、前記Ｘ線ガイドチ
ューブ内へのＸ線の入射窓を有してこのＸ線ガイドチュ
ーブの入射端側に配置される金属製のＸ線遮蔽板と、前
記Ｘ線源から所定の距離よりも入射端側からＸ線の出射
端側へ所定長さを有してＸ線ガイドチューブの外側に配
置されることにより、前記入射窓を通過してＸ線ガイド
チューブの側面を透過したＸ線を遮蔽可能とする金属製
の保護管とを設けたことを特徴とする漏洩Ｘ線遮蔽機
構。 - 【請求項３】 前記Ｘ線遮蔽板の入射窓の直径ｒ1 と、
Ｘ線源のＸ線発生点からＸ線遮蔽板までの距離ｘ1 と、
Ｘ線発生点から前記保護管の入射端までの距離ｘ2 と、
この保護管の内径ｒ2 が、ｒ1 ／ｘ1 ＜ｒ2 ／ｘ2 の関
係にある請求項２に記載の漏洩Ｘ線遮蔽機構。 - 【請求項４】 Ｘ線カートリッジがＸ線ガイドチューブ
を複数本有しており、これらのＸ線ガイドチューブを保
持すると共に、Ｘ線ガイドチューブを切り換えて使用可
能とするマウント台を有する請求項２または３に記載の
漏洩Ｘ線遮蔽機構。 - 【請求項５】 前記マウント台がＸ線ガイドチューブの
外側に位置する金属製のＸ線遮蔽管を保持すると共に、
このＸ線遮蔽管によってＸ線ガイドチューブの入射端側
に位置する前記Ｘ線遮蔽板を保持する請求項４に記載の
漏洩Ｘ線遮蔽機構。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26456199A JP4303378B2 (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 漏洩ｘ線遮蔽機構 |
| US09/661,989 US6477237B1 (en) | 1999-09-17 | 2000-09-14 | X-ray shielding mechanism for off-axis X-rays |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26456199A JP4303378B2 (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 漏洩ｘ線遮蔽機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001085192A true JP2001085192A (ja) | 2001-03-30 |
| JP4303378B2 JP4303378B2 (ja) | 2009-07-29 |
Family
ID=17405002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26456199A Expired - Fee Related JP4303378B2 (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 漏洩ｘ線遮蔽機構 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6477237B1 (ja) |
| JP (1) | JP4303378B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112007000422T5 (de) | 2006-02-21 | 2008-12-11 | Horiba Ltd. | Röntgenstrahlkonvergenzelement und Röntgenbestrahlungsvorrichtung |
| JP2009031232A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Horiba Ltd | 分析装置 |
| JP2010025662A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線集光レンズ |
| WO2023032286A1 (ja) * | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 株式会社島津製作所 | 蛍光ｘ線分析装置およびｘ線の絞り部材 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003024527A1 (fr) * | 2001-09-19 | 2003-03-27 | Muradin Abubekirovich Kumakhov | Dispositif de radiotherapie |
| DE602005017035D1 (de) * | 2005-08-22 | 2009-11-19 | Unisantis Fze | Vorrichtung zur Abschirmung von Röntgenstrahlen und Röntgengerät mit dieser |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2578722A (en) * | 1950-05-18 | 1951-12-18 | United States Steel Corp | Apparatus for determining coating thickness |
| US3143651A (en) * | 1961-02-23 | 1964-08-04 | American Science & Eng Inc | X-ray reflection collimator adapted to focus x-radiation directly on a detector |
| US4317036A (en) * | 1980-03-11 | 1982-02-23 | Wang Chia Gee | Scanning X-ray microscope |
| US5001737A (en) * | 1988-10-24 | 1991-03-19 | Aaron Lewis | Focusing and guiding X-rays with tapered capillaries |
| US4979203A (en) * | 1989-06-19 | 1990-12-18 | Princeton X-Ray Laser | X-ray laser microscope apparatus |
| CA2194759C (en) * | 1994-07-12 | 1999-09-14 | Donald O. Smith | X-ray apparatus for applying a predetermined flux to an interior surface of a body cavity |
| US5682415A (en) * | 1995-10-13 | 1997-10-28 | O'hara; David B. | Collimator for x-ray spectroscopy |
| US5912939A (en) * | 1997-02-07 | 1999-06-15 | Hirsch; Gregory | Soft x-ray microfluoroscope |
| US5816999A (en) * | 1997-07-24 | 1998-10-06 | Bischoff; Jeffrey | Flexible catheter for the delivery of ionizing radiation to the interior of a living body |
| EP1053551B1 (en) * | 1998-01-27 | 2008-12-17 | Noran Instruments, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer with x-ray collimator optic for increased sensitivity over a wide x-ray energy range |
-
1999
- 1999-09-17 JP JP26456199A patent/JP4303378B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-09-14 US US09/661,989 patent/US6477237B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112007000422T5 (de) | 2006-02-21 | 2008-12-11 | Horiba Ltd. | Röntgenstrahlkonvergenzelement und Röntgenbestrahlungsvorrichtung |
| US8416921B2 (en) | 2006-02-21 | 2013-04-09 | Horiba, Ltd. | X-ray convergence element and X-ray irradiation device |
| JP2009031232A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Horiba Ltd | 分析装置 |
| JP2010025662A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線集光レンズ |
| WO2023032286A1 (ja) * | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 株式会社島津製作所 | 蛍光ｘ線分析装置およびｘ線の絞り部材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6477237B1 (en) | 2002-11-05 |
| JP4303378B2 (ja) | 2009-07-29 |
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