JP2001084645A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JP2001084645A
JP2001084645A JP25777899A JP25777899A JP2001084645A JP 2001084645 A JP2001084645 A JP 2001084645A JP 25777899 A JP25777899 A JP 25777899A JP 25777899 A JP25777899 A JP 25777899A JP 2001084645 A JP2001084645 A JP 2001084645A
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JP
Japan
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film
super
thin film
conductive thin
high thermal
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP25777899A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirotaka Yamamoto
浩貴 山本
Sachiko Okuzaki
幸子 奥崎
Takashi Naito
内藤  孝
Tetsuo Nakazawa
哲夫 中沢
Motoyasu Terao
元康 寺尾
Toshimichi Shintani
俊通 新谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain excellent responsiveness for a long period of time without deterioration in spite of the repetition of writing/reading by providing the above medium with a high-thermal conductivity thin film directly formed at least one surface of a super-high resolution. SOLUTION: Polycarbonate is used for a substrate 1 and AlN is used for the high-thermal conductivity thin film 2. A film consisting of an inorganic material essentially consisting of a transition metal oxide deposited by evaporation using a sintered compact consisting of 90 wt.% Co3O4 and 10 wt.% SiO2 as a target is used for the super-high resolution film 3. A phase transition material of a Ge-Sb-Te system is used for the recording film 6. The heat accumulated in the super-high resolution film 3 diffuses into the high-thermal conductivity thin film 2 and is eventually efficiently radiated. Consequently, the temperature elevation of the super-high resolution film by repetitive reproduction operations is small. At this time, the high-thermal conductivity thin film 2 is so constituted that its thermal conductivity is made higher than the thermal conductivity of the substrate 1 existing on the side opposite to the super-high resolution film 3 with which the same is in contact.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高い記録密度で情
報の読出/書込が可能な光情報記録媒体に係り、特に、
記録再生動作の繰返しに対して高い信頼性を有し、高速
回転に対しても対応可能なディスク状記憶媒体として好
適な光情報記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium capable of reading / writing information at a high recording density.
The present invention relates to an optical information recording medium which has high reliability with respect to repetition of a recording / reproducing operation and is suitable as a disk-shaped storage medium which can cope with high-speed rotation.

【0002】[0002]

【従来の技術】光情報記録方式の記録媒体としては、従
来からCD(コンパクトディスク)、LD(レーザディス
ク)、さらに最近では、CDの7倍以上の記録密度を有
するDVD(ディジタル・ビデオディスク)が実用化され
ている。しかし、記録媒体の情報記憶容量の向上は常に
絶えざる命題であり、特にコンピュータグラフィックス
など大容量の情報を扱うためには、より一層の高密度化
を達成する必要がある。
2. Description of the Related Art As a recording medium of an optical information recording system, a CD (compact disk) and an LD (laser disk) have been conventionally used, and more recently, a DVD (digital video disk) having a recording density seven times or more that of a CD. Has been put to practical use. However, the improvement of the information storage capacity of a recording medium is always a proposition, and in order to handle a large amount of information such as computer graphics, it is necessary to achieve a higher density.

【0003】ところで、DVD(ディジタル・ビデオ・
ディスク)などでの記録の高密度化技術の一種に超解像
膜の適用が挙げられる。なお、この超解像膜とは、遷移
金属酸化物を主成分とする無機材料からなる記録膜の光
入射面側に形成される薄膜のことで、この超解像膜を光
ビームが透過すると、そのスポット径が縮小されるとい
う機能をもち、高記録密度化を可能にするものである。
[0003] By the way, DVD (Digital Video
One of the techniques for increasing the density of recording on discs) is the application of super-resolution films. Note that this super-resolution film is a thin film formed on the light incident surface side of a recording film made of an inorganic material containing a transition metal oxide as a main component. It has a function of reducing the spot diameter, and enables high recording density.

【0004】ここで、この超解像膜によるスポット径縮
小のメカニズムを担う現象の一つは光の吸収飽和現象で
あり、これは、超解像膜は、それがもつ光吸収飽和量以
上の強度を持つ光は透過させ、それ以下の強度の光は吸
収するという非線形な光学特性を持つことにより得られ
る現象である。
Here, one of the phenomena responsible for the mechanism of reducing the spot diameter by the super-resolution film is a light absorption and saturation phenomenon. This is a phenomenon obtained by having nonlinear optical characteristics such that light having an intensity is transmitted and light having an intensity lower than that is absorbed.

【0005】現在、このような超解像膜としては、例え
ば特開平8−96412号公報などにみられるフタロシ
アニン系の有機膜やカルコゲナイド系化合物などを挙げ
らることができるほか、特開平6−162564号公報
では、同じく有機材料によるサーモクロミック材料を超
解像膜として用いた記憶媒体において、サーモクロッミ
ック層に接して放熱層を設ける試みについて提案してい
る。
At present, such a super-resolution film includes, for example, a phthalocyanine-based organic film and a chalcogenide-based compound which are found in JP-A-8-96412 and the like. Japanese Patent No. 162564 proposes an attempt to provide a heat radiation layer in contact with a thermochromic layer in a storage medium using a thermochromic material of an organic material as a super-resolution film.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、光情
報記憶媒体の劣化について充分な配慮がされているとは
言えず、記録再生動作の繰返しに対する信頼性に問題が
あり、このため、特にコンピュータ用のRAM(ランダ
ム・アクセス・メモリ)など、過酷な使用条件下で使用
された場合、充分な記録再生動作回数を保証しにくかっ
た。
The prior art described above does not give sufficient consideration to the deterioration of the optical information storage medium, and has a problem in the reliability of repetition of the recording / reproducing operation. When used under severe operating conditions such as a RAM (random access memory) for a computer, it has been difficult to guarantee a sufficient number of recording / reproducing operations.

【0007】DVDなどの記録密度を高くした場合、情
報の書込/読出に際して照射されるレーザービームのエ
ネルギー密度が記録媒体内で局所的に極めて高くなる
が、このとき従来技術では、上記したように、超解像膜
に有機材料を用いているため、記録再生の繰り返しによ
り超解像膜に劣化が起り、上記した問題が生じてしまう
のである。
When the recording density of a DVD or the like is increased, the energy density of a laser beam irradiated at the time of writing / reading information becomes extremely high locally in a recording medium. In addition, since an organic material is used for the super-resolution film, deterioration of the super-resolution film occurs due to repetition of recording and reproduction, and the above-described problem occurs.

【0008】また、従来技術の中で、サーモクロミック
物質を使用して超解像を実現する光情報記録媒体では、
その基体であるディスクを回転させながら、同じ場所
(同一トラック)を繰り返しレーザ光を照射して再生する
と、熱の蓄積により温度が上昇し、サーモクロミック現
象が飽和してしまう虞れがある。
In the prior art, an optical information recording medium that achieves super-resolution by using a thermochromic substance includes:
While rotating the disk that is the base,
If the (same track) is repeatedly irradiated with laser light for reproduction, the temperature rises due to heat accumulation, and the thermochromic phenomenon may be saturated.

【0009】このためレーザ光の照射回数が増すにつれ
て元の透過率に戻らなくなり、光透過部分のサイズが大
きくなるため、実効スポット径の縮小が得られなくな
り、仕様性能が保てなくなってしまうという問題があ
り、また、温度変化による透過率の変化が遅いと、高速
アクセスに対応しにくいという問題もあった。
For this reason, as the number of laser beam irradiation increases, the transmittance does not return to the original value, and the size of the light transmitting portion increases, so that the effective spot diameter cannot be reduced and the specification performance cannot be maintained. There is a problem that if the transmittance changes slowly due to a temperature change, it is difficult to cope with high-speed access.

【0010】従って、従来技術では、長時間にわたる繰
り返しスチル再生動作が保証でき、高速応答が可能で生
産性に優れた高い超解像化特性の超解像膜を備え、その
機能を充分に発揮させることができる膜構造を有する光
記録媒体が得にいという問題があった。
Therefore, in the prior art, a super-resolution film having high super-resolution characteristics which can guarantee a long-time repetitive still reproduction operation, is capable of high-speed response, is excellent in productivity, and exhibits its function sufficiently. There is a problem that it is difficult to obtain an optical recording medium having a film structure that can be formed.

【0011】本発明の目的は、高い記録密度を持ち、し
かも情報の書込/読出の繰り返しにも劣化せず、優れた
応答性を長期間に渡って保つことができる光情報記録媒
体を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an optical information recording medium which has a high recording density, does not deteriorate even when information is repeatedly written / read, and can maintain excellent responsiveness for a long period of time. Is to do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的は、基板と相変
化材料からなる記録膜の間に、少なくとも遷移金属酸化
物を主成分とする無機材料からなる超解像膜を備えた光
情報記憶媒体において、前記超解像膜の少なくとも一方
の面に直接形成された高熱伝導性薄膜を設け、該高熱伝
導性薄膜を、この高熱伝導性薄膜が超解像膜と接してい
る面と反対面に形成されている部材の熱伝導率より高い
熱伝導率を有する材料で形成することにより達成され
る。
An object of the present invention is to provide an optical information storage device comprising a super-resolution film made of an inorganic material containing at least a transition metal oxide between a substrate and a recording film made of a phase change material. In the medium, a high thermal conductive thin film directly formed on at least one surface of the super-resolution film is provided, and the high thermal conductive thin film is placed on the surface opposite to the surface where the high thermal conductive thin film is in contact with the super-resolution film. This is achieved by forming the material having a higher thermal conductivity than the thermal conductivity of the member formed in the above.

【0013】ここで、前記超解像膜の少なくとも一方の
面に直接形成された高熱伝導性薄膜を設け、該高熱伝導
性薄膜を、前記超解像膜の熱伝導率より高い熱伝導率を
有する材料で形成してもよい。
Here, a high thermal conductive thin film directly formed on at least one surface of the super-resolution film is provided, and the high thermal conductive thin film has a thermal conductivity higher than that of the super-resolution film. It may be formed of a material having the same.

【0014】また、上記目的は、ピットの形成により一
方の面に情報が記録された基板の前記一方の面に、少な
くとも遷移金属酸化物を主成分とする無機材料からなる
超解像膜を備えた光情報記録媒体において、前記超解像
膜と前記基板の一方の面の間に形成された高熱伝導性薄
膜を設け、前記高熱伝導性薄膜を、この高熱伝導性薄膜
が超解像膜と接している面と反対面に形成されている部
材の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料で形成す
ることにより達成される。
Further, the object is to provide a super-resolution film made of an inorganic material containing at least a transition metal oxide on the one surface of a substrate on which information is recorded on one surface by forming pits. In the optical information recording medium, a high-thermal-conductivity thin film formed between the super-resolution film and one surface of the substrate is provided, and the high-thermal-conductivity thin film is referred to as a super-resolution film. This is achieved by forming the material having a higher thermal conductivity than that of the member formed on the surface opposite to the contacting surface.

【0015】ここで、前記高熱伝導性薄膜を、前記超解
像膜の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料で形成
してもよい。
Here, the high thermal conductive thin film may be formed of a material having a thermal conductivity higher than that of the super-resolution film.

【0016】また、上記いずれかにおいて、前記超解像
膜が、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、バナジウム、
マンガンから選ばれた少なくとも1種類の元素を含む第
1の酸化物と、シリコン、チタン、ナトリウム、カルシ
ウムから選ばれる少なくとも一種の元素を含む第2の酸
化物とを含有する材料で形成されるようにしても、本発
明の目的を達成することがで、このとき、更に前記第一
の酸化物を形成する金属元素がコバルトであるようにし
てもよい。
Further, in any one of the above, the super-resolution film is made of cobalt, iron, nickel, chromium, vanadium,
The first oxide containing at least one element selected from manganese and the second oxide containing at least one element selected from silicon, titanium, sodium, and calcium are formed of a material containing In any case, the object of the present invention can be achieved, and at this time, the metal element forming the first oxide may be cobalt.

【0017】更に、このとき、前記高熱伝導性薄膜を構
成する材料の熱伝導率が0.01〔cal/cm・sec・℃〕以
上になるようにしてもよく、情報の読出又は書込に用い
られる光の波長における前記高熱伝導性薄膜の透過率が
80%以上であるようにしてもよい。
Further, at this time, the thermal conductivity of the material constituting the high thermal conductive thin film may be set to 0.01 [cal / cm.sec..degree. C.] or more. The transmittance of the high thermal conductive thin film at the wavelength of the light used may be 80% or more.

【0018】そして、このとき、前記高熱伝導性薄膜
が、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属ハロゲ
ン化物、金属硫化物から選ばれた少なくとも一種の化合
物であるようにしてもよく、前記高熱伝導性薄膜が、ア
ルミナ、シリカ−アルミナ、ジルコニア−アルミナ、ベ
リリア、窒化アルミニウム、窒化ジルコニア、窒化珪
素、窒化タンタル、窒化チタン、炭化珪素、炭化タンタ
ル、炭化チタン、炭化硼素、フッ化マグネシウム、フッ
化カルシウム、フッ化バリウム、硫化亜鉛から選ばれた
結晶性の化合物であるようにしてもよい。
At this time, the high thermal conductive thin film may be at least one compound selected from metal oxides, metal nitrides, metal carbides, metal halides, and metal sulfides. When the high thermal conductive thin film is made of alumina, silica-alumina, zirconia-alumina, beryllia, aluminum nitride, zirconia nitride, silicon nitride, tantalum nitride, titanium nitride, silicon carbide, tantalum carbide, titanium carbide, boron carbide, magnesium fluoride, fluorine fluoride It may be a crystalline compound selected from calcium fluoride, barium fluoride, and zinc sulfide.

【0019】また、前記超解像膜の膜厚が10nm以上
500nm以下で、前記高熱伝導性薄膜の膜厚が10n
m以上400nm以下であるようにしてもよい。
The thickness of the super-resolution film is 10 nm or more and 500 nm or less, and the thickness of the high thermal conductive thin film is 10 nm.
m or more and 400 nm or less.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明による光情報記憶媒
体について、図示の実施の形態を用いて詳細に説明す
る。図1は、本発明の第1の実施形態で、本発明をRA
M用の光ディスクに適用した場合の一実施形態であり、
図において、1は基板、2は高熱伝導性薄膜、3は超解
像膜、4は保護膜、5は反射膜、6は記録膜である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an optical information storage medium according to the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
This is an embodiment when applied to an optical disk for M,
In the figure, 1 is a substrate, 2 is a high thermal conductive thin film, 3 is a super-resolution film, 4 is a protective film, 5 is a reflective film, and 6 is a recording film.

【0021】ここで、この実施形態では、基板1にポリ
カーボネート、高熱伝導性薄膜2にはAlNを用い、超
解像膜3は、90重量%Co34−10重量%SiO2
焼結体をターゲットとして蒸着した遷移金属酸化物を主
成分とする無機材料からなる膜を用いている。保護膜4
にはSiO2を、そして反射膜5にはAl−Tiを夫々用
い、記録膜6にはGe−Sb−Te系の相変化材料を用い
た。
In this embodiment, the substrate 1 is made of polycarbonate, the high thermal conductive thin film 2 is made of AlN, and the super-resolution film 3 is made of 90% by weight of Co 3 O 4 -10% by weight of SiO 2 . A film made of an inorganic material containing a transition metal oxide as a main component and deposited using a body as a target is used. Protective film 4
The SiO 2 is in, and the reflective film 5 using s husband Al-Ti, the recording film 6 using a Ge-Sb-Te-based phase change material.

【0022】この図1に示す光ディスクは、以下の工程
によって作製した。まず、基板1として、厚さ0.6m
m、直径120mmの円盤状の部材を用意する。そし
て、その一方の面(図では上側の面)に高熱伝導性薄膜2
を25nmの厚さで成膜し、その上面に超解像膜を50
nmの厚さに成膜した。その上に保護膜4を90nmの
厚さに形成後、記録膜6を約20nmの厚さに成膜し
た。さらに保護膜4を約90nmの厚さに形成後、その
上に反射膜5を約200nmの厚さで成膜した。
The optical disk shown in FIG. 1 was manufactured by the following steps. First, as the substrate 1, a thickness of 0.6 m
A disc-shaped member having a diameter of 120 mm and a diameter of 120 mm is prepared. Then, on one surface (the upper surface in the figure) of the high thermal conductive thin film 2
Is formed to a thickness of 25 nm, and a super-resolution film is
The film was formed to a thickness of nm. After forming a protective film 4 with a thickness of 90 nm thereon, a recording film 6 was formed with a thickness of about 20 nm. Further, after forming the protective film 4 to a thickness of about 90 nm, a reflective film 5 was formed thereon to a thickness of about 200 nm.

【0023】こうして、複数の膜が形成された基板1
は、反射膜5を背にして2枚、貼り合わされた上で、紫
外線硬化樹脂を用いて接合され、所望のRAM用光ディ
スクを得た。ここで、基板1には、要求される仕様に応
じてポリカーボネート、ポリオレフィン、ガラスなどが
使用されるが、この第1の実施形態では、一例として、
上記したように、ポリカーボネートを用いている。
In this manner, the substrate 1 on which a plurality of films are formed
Were bonded together with the reflective film 5 as a back, and then bonded using an ultraviolet curable resin to obtain a desired optical disk for RAM. Here, for the substrate 1, polycarbonate, polyolefin, glass, or the like is used according to the required specifications. In the first embodiment, for example,
As described above, polycarbonate is used.

【0024】次に高熱伝導性薄膜2は、例えばAl2
3(アルミナ)、SiO2-Al23(シリカ−アルミナ)、Zr
2-SiO2(ジルコニア−アルミナ)、BeO(ベリリ
ア)、AlN(窒化アルミニウム)、ZrN(窒化ジルコニ
ア)、Si34(窒化珪素)、TaN(窒化タンタル)、TiN
(窒化チタン)、SiC(炭化珪素)、TaC(炭化タンタ
ル)、TiC(炭化チタン)、B4C(炭化硼素)、MgF2(フ
ッ化マグネシウム)、CaF2(フッ化カルシウム)、BaF
2(フッ化バリウム)、ZnS(硫化亜鉛)など熱伝導率が高
い金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属ハロゲン
化物、金属硫化物の中から選ばれた材料の何れによっ作
成してもよいが、この第1の実施形態では、上記したよ
うに、AlNを用いている。
Next, the high thermal conductive thin film 2 is made of, for example, Al 2 O
3 (alumina), SiO 2 -Al 2 O 3 (silica-alumina), Zr
O 2 -SiO 2 (zirconia-alumina), BeO (beryllia), AlN (aluminum nitride), ZrN (zirconia nitride), Si 3 N 4 (silicon nitride), TaN (tantalum nitride), TiN
(Titanium nitride), SiC (silicon carbide), TaC (tantalum carbide), TiC (titanium carbide), B 4 C (boron carbide), MgF 2 (magnesium fluoride), CaF 2 (calcium fluoride), BaF
2 Made of any material selected from metal oxides, metal nitrides, metal carbides, metal halides, and metal sulfides with high thermal conductivity such as (barium fluoride) and ZnS (zinc sulfide). However, in the first embodiment, AlN is used as described above.

【0025】次に、図2は、同じく本発明をRAM用の
光ディスクとして実施した場合の第2の実施形態で、こ
の図2のRAM用光ディスクが、図1で説明した実施形
態と異なっている点は、基板1に対する高熱伝導性膜2
と超解像膜3の位置関係が反対になっている点にある。
Next, FIG. 2 shows a second embodiment in which the present invention is similarly embodied as an optical disk for RAM. The optical disk for RAM of FIG. 2 is different from the embodiment described in FIG. The point is that the high thermal conductive film 2
And that the positional relationship between the super-resolution film 3 and the super-resolution film 3 is opposite.

【0026】すなわち、図1の実施形態では、最初、基
板1に高熱伝導膜2を形成し、その後、超解像膜3を形
成しているが、この図2の実施形態では、基板1に最初
に設けられるのは超解像膜3で、その後、高熱伝導性薄
膜2が形成されている。
That is, in the embodiment of FIG. 1, the high thermal conductive film 2 is formed on the substrate 1 first, and then the super-resolution film 3 is formed. In the embodiment of FIG. First, a super-resolution film 3 is provided, and then a high thermal conductive thin film 2 is formed.

【0027】次に、これらの実施形態の動作について説
明する。これら図1、図2に示したRAM用光ディスク
では、情報の書込のための光は、図の矢印で示すように
基板1側から入射される。そして、情報の読出時には、
記録膜6を通過後、反射膜5により反謝され、光源側に
戻って、図示してないピックアップに導入されるように
なっている。
Next, the operation of these embodiments will be described. In the optical disks for RAM shown in FIGS. 1 and 2, light for writing information is incident from the substrate 1 side as shown by arrows in the drawings. When reading information,
After passing through the recording film 6, the light is rejected by the reflection film 5 and returns to the light source side to be introduced into a pickup (not shown).

【0028】このとき入射される光はレーザビームであ
り、超解像膜3により記録密度を高くした場合には、そ
のビームのエネルギー密度が特に高くなるので、この光
エネルギーにより超解像膜3内で局部的にかなり大きな
熱が発生し、温度が上昇してしまうようになる。
At this time, the incident light is a laser beam. When the recording density is increased by the super-resolution film 3, the energy density of the beam becomes particularly high. A considerable amount of heat is locally generated therein, and the temperature rises.

【0029】しかし、このとき、この実施形態では、超
解像膜3の一方の面に高熱伝導性膜2が接しているの
で、超解像膜3内で熱が発生したとき、この熱を効率的
に放散させるように働き、この結果、超解像膜3の温度
上昇を抑えることができる。
However, at this time, in this embodiment, since the high thermal conductive film 2 is in contact with one surface of the super-resolution film 3, when the heat is generated in the super-resolution film 3, this heat is It works so as to efficiently dissipate, and as a result, the temperature rise of the super-resolution film 3 can be suppressed.

【0030】次に、図3は、光ディスクの情報書込/読
出の繰り返し回数に対する記録用トラックの最短ピット
による再生信号の振幅と最長ピットによる再生信号の振
幅の比、すなわち振幅比特性を示したもので、この特性
を評価することにより最短ピットから得られる信号の強
弱を判定することができ、性能を検証することができ
る。
FIG. 3 shows the ratio of the amplitude of the reproduction signal by the shortest pit and the amplitude of the reproduction signal by the longest pit of the recording track to the number of repetitions of information writing / reading of the optical disk, that is, the amplitude ratio characteristic. By evaluating this characteristic, the strength of the signal obtained from the shortest pit can be determined, and the performance can be verified.

【0031】この図3において、実線が図1、図2に示
した本発明の実施形態による光ディスクの特性で、破線
は比較例として用意した高熱伝導性薄膜を形成してない
光ディスクの特性であり、ここで、対象とした光ディス
クの最長ピット長は0.7μmで、最短ピット長は0.3
μmであり、再生条件は、線速度が10m/s、再生パ
ワーは3.0mWである。
In FIG. 3, the solid line shows the characteristics of the optical disk according to the embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, and the broken line shows the characteristics of the optical disk prepared as a comparative example without forming the high thermal conductive thin film. Here, the longest pit length of the target optical disk is 0.7 μm, and the shortest pit length is 0.3.
μm, and the reproduction conditions are a linear velocity of 10 m / s and a reproduction power of 3.0 mW.

【0032】この図3から明らかなように、高熱伝導性
薄膜を有する光ディスク、つまり図1と図2に示した本
発明の実施形態によるものは、何れも、つまり高熱伝導
性膜成膜2と超解像膜3の順序によらず、初期において
85%を示した振幅比が、繰り返し再生回数が1500
0回を越えてもほとんど変化しなかった。
As is apparent from FIG. 3, the optical disk having the high thermal conductive thin film, that is, the optical disk according to the embodiment of the present invention shown in FIGS. Irrespective of the order of the super-resolution films 3, the amplitude ratio which initially showed 85% is the number of times of repetitive reproduction of 1500
There was almost no change even after exceeding 0 times.

【0033】一方、高熱伝導性薄膜を持たない比較用の
光ディスクは、初期の特性は85%の振幅比と同じであ
るが、それが繰り返し回数の増加と共に低下し、繰り返
し回数が12000に達したところで60%を切ってい
る。
On the other hand, the comparative optical disk having no high thermal conductive thin film has the same initial characteristics as the 85% amplitude ratio, but it decreases as the number of repetitions increases, and the number of repetitions reaches 12,000. By the way, it is less than 60%.

【0034】これは、比較例では、繰り返し再生動作に
よって超解像膜が高温にさらされる時間が長くなり、そ
のために劣化が生じ、超解像膜による解像度向上機能が
発現しなくなったため最短ピットが読めなくなったこと
を表している。
This is because, in the comparative example, the time required for the super-resolution film to be exposed to a high temperature due to the repetitive reproduction operation is prolonged, which causes deterioration, and the resolution improving function of the super-resolution film is not realized. Indicates that you can no longer read.

【0035】詳しくは、高熱伝導性薄膜を持たない光デ
ィスクでは、上記の再生条件で光ディスクから情報を読
出したとき、同一トラックを一周するのに要する数ミリ
秒から数十ミリ秒の期間内では超解像膜から放熱しきれ
ず、結果として超解像膜が高温にさらされる時間が長く
なって、繰り返し動作により振幅比が低下したものと考
えられる。
More specifically, in the case of an optical disk having no high thermal conductive thin film, when information is read from the optical disk under the above-mentioned reproducing conditions, it takes less than a few milliseconds to several tens of milliseconds to complete one round of the same track. It is considered that the heat was not completely radiated from the resolution film, and as a result, the time during which the super-resolution film was exposed to a high temperature was prolonged, and the amplitude ratio was reduced by the repeated operation.

【0036】一方、上記の図1と図2の実施形態の場
合、つまり高熱伝導性薄膜を設けた光ディスクの場合に
は、超解像膜の上下の面のうち、少なくとも一方の面に
高熱伝導性薄膜が設けてあるので、超解像膜に蓄積され
た熱は高熱伝導性薄膜に拡散して効率的に放熱されるよ
うになり、この結果、繰り返し再生動作による超解像膜
の温度上昇が小さく、従って劣化が充分に抑制できたも
のと考えられる。
On the other hand, in the case of the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, that is, in the case of an optical disk provided with a high thermal conductivity thin film, at least one of the upper and lower surfaces of the super-resolution film has high thermal conductivity. The heat stored in the super-resolution film is diffused to the high-thermal-conductivity thin film and is efficiently radiated due to the provision of the conductive thin film. As a result, the temperature of the super-resolution film increases due to the repetitive reproduction operation. It is considered that the deterioration was sufficiently suppressed.

【0037】このとき、高熱伝導性薄膜の熱伝導率が、
それが接触している超解像膜とは反対側の面にある部材
(例えば図1の実施形態の場合は基板1で、図2の実施
形態の場合は保護膜4)の熱伝導率よりも高いとき放熱
効果が高まり、繰り返し再生動作による劣化を更に大き
く抑えられることが判っている。
At this time, the thermal conductivity of the high thermal conductive thin film is
The member on the side opposite to the super-resolution film with which it is in contact
(For example, the substrate 1 in the case of the embodiment of FIG. 1 and the protective film 4 in the case of the embodiment of FIG. 2). I know.

【0038】このことから、高熱伝導性薄膜2の熱伝導
率を、図1の実施形態の場合は、基板1の熱伝導率より
も高くなるように構成するのが望ましく、図2の実施形
態の場合は、保護膜4の熱伝導率よりも高くなるように
構成するのが望ましい。
From the above, it is desirable that the thermal conductivity of the high thermal conductive thin film 2 be higher than the thermal conductivity of the substrate 1 in the case of the embodiment of FIG. In this case, it is desirable that the thermal conductivity of the protective film 4 be higher than that of the protective film 4.

【0039】次に、比較例として、高熱伝導性薄膜に代
えて熱伝導率の低い非晶質SiO2膜を形成した光ディス
クと、図1又は図2に示した実施形態と同じく、高熱伝
導性薄膜としてAlN膜を形成した光ディスクを用い、
それらについて超解像膜の屈折率のレーザ強度に対する
依存性を評価した結果が図4である。
Next, as a comparative example, an optical disk in which an amorphous SiO 2 film having low thermal conductivity was formed in place of the high thermal conductivity thin film, and a high thermal conductivity thin film as in the embodiment shown in FIG. 1 or FIG. Using an optical disk on which an AlN film is formed as a thin film,
FIG. 4 shows the results of evaluating the dependence of the refractive index of the super-resolution film on the laser intensity for these.

【0040】この図4において、実線がAlNによる高
熱伝導性薄膜を形成した光ディスクの特性で、破線がS
iO2膜を形成した比較例の特性であり、ここで、白抜き
丸印が線速度6m/sの場合で、黒丸印が線速度10m
/sの場合である。
In FIG. 4, the solid line indicates the characteristics of the optical disk on which the high thermal conductive thin film made of AlN is formed,
The characteristics of the comparative example in which an SiO 2 film was formed are shown here, where white circles indicate a linear velocity of 6 m / s, and black circles indicate a linear velocity of 10 m / s.
/ S.

【0041】まず、この図4の破線の特性から明らかな
ように、SiO2膜を設けた比較例では、線速度が早くな
ると屈折率変化が小さくなり、超解像膜による解像度向
上機能が低下することが判る。これは、ディスクの高速
回転によって、レーザ照射による超解像膜の温度変化が
小さくなったためである。
First, as is apparent from the characteristics indicated by the broken line in FIG. 4, in the comparative example in which the SiO 2 film is provided, the change in the refractive index decreases as the linear velocity increases, and the resolution improving function of the super-resolution film decreases. You can see. This is because the change in temperature of the super-resolution film due to laser irradiation was reduced by the high-speed rotation of the disk.

【0042】一方、実線の特性から、本発明の実施形態
と同じく、高熱伝導性のAlN膜を設けたディスクで
は、線速度を変えても大きな屈折率変化が得られること
に変わりは無く、早い線速度でも充分に大きな屈折率変
化が得られることが判る。
On the other hand, from the characteristics of the solid line, as in the embodiment of the present invention, in the disk provided with the AlN film having high thermal conductivity, a large change in the refractive index can be obtained even when the linear velocity is changed. It can be seen that a sufficiently large change in the refractive index can be obtained even at a linear velocity.

【0043】ここで、このような光ディスクにおける超
解像膜に屈折率変化を生じさせるために必要なレーザ強
度について検証したところ、本発明による高熱伝導性薄
膜を設けた光ディスクでは、1mW程度と、より小さい
レーザ強度で屈折率変化が生じることが判った。
Here, when the laser intensity required to cause a change in the refractive index of the super-resolution film in such an optical disk was verified, the optical disk provided with the high thermal conductive thin film according to the present invention was about 1 mW. It has been found that a change in the refractive index occurs at a smaller laser intensity.

【0044】次に、図5は、上記2種の光ディスクにつ
いて、マーク長(ピット長)を変えたときのC/Nで表わ
した信号強度特性を示したもので、図4と同じく実線が
AlNの高熱伝導性薄膜をを有する本発明による光ディ
スクの特性で、破線が高熱伝導性薄膜の代りにSiO2
を形成した比較例の特性であり、ここで、白抜き丸印が
線速度6m/sの場合で、黒丸印が線速度10m/sの
場合である。
Next, FIG. 5 shows the signal intensity characteristics represented by C / N when the mark length (pit length) is changed for the above two types of optical discs. The broken line is the characteristic of the optical disk according to the present invention having the high thermal conductive thin film of the present invention, and the broken line is the characteristic of the comparative example in which the SiO 2 film was formed instead of the high thermal conductive thin film. In the case of s, the black circle indicates the case of the linear velocity of 10 m / s.

【0045】図示のように、破線の比較例の場合は、線
速度が速くなるにつれ、より大きいマーク長でC/Nの
低下が生じるようになっているが、高熱伝導性薄膜を有
する本発明の場合は、線速度が速くなっても小さいマー
ク長まで高いC/Nを保っていることが判る。
As shown in the figure, in the case of the comparative example indicated by the broken line, as the linear velocity increases, the C / N decreases at a larger mark length. In the case of (1), it can be seen that a high C / N is maintained up to a small mark length even when the linear velocity increases.

【0046】このことから、高熱伝導性薄膜を設けるこ
とにより、つまり本発明の場合ば、マーク長の小さい信
号でも読出すことができ、従って、本発明によれば、更
に高密度記録化することができ、大容量化に充分に対応
できることが判る。
From this, it is possible to read a signal having a small mark length by providing a high thermal conductive thin film, that is, in the case of the present invention, and therefore, according to the present invention, it is possible to achieve higher density recording. It can be seen that it is possible to cope with a large capacity.

【0047】次に、高熱伝導性薄膜及び超解像膜の膜厚
に対する超解像膜による解像度向上機能の依存性につい
て検討した。高熱伝導性薄膜の膜厚を検討したところ、
どのような材質の膜の場合でも、光の透過率が80%を
下回って低下してしまうほど厚くしたのでは光が散乱さ
れ、ピックアップに充分な光が戻ってこないという不具
合が見られた。
Next, the dependence of the resolution improving function of the super-resolution film on the thickness of the high thermal conductive thin film and the super-resolution film was examined. When examining the thickness of the high thermal conductive thin film,
Regardless of the film made of any material, if the film is so thick that the light transmittance drops below 80%, light is scattered, and a problem that sufficient light does not return to the pickup is observed.

【0048】一方、透過率を80%以上にした場合に
は、反射光が効率よくピックアップに導入されるので、
良好なS/Nのもとでデータの読出しができることが判
り、従って、このことから、高熱伝導性薄膜の透過率は
80%以上であることが好ましい。
On the other hand, when the transmittance is 80% or more, the reflected light is efficiently introduced into the pickup.
It can be seen that data can be read under a good S / N ratio. Therefore, from this, it is preferable that the transmittance of the high thermal conductive thin film is 80% or more.

【0049】上記した材料を用いた場合、高熱伝導性薄
膜の透過率が80%になる膜厚は材料によって異なる。
しかし、いずれの場合も膜厚が400nmを超えると、
散乱などによって光の透過率が低下し、透過率が80%
を下回ってしまう。
When the above-mentioned materials are used, the thickness of the highly thermally conductive thin film at which the transmittance becomes 80% differs depending on the material.
However, in any case, when the film thickness exceeds 400 nm,
Light transmittance is reduced due to scattering, etc., and the transmittance is 80%
Below.

【0050】一方、膜厚が薄ければ、貯えられた熱量の
移動が充分に得られず、高熱伝導性薄膜としての役割を
担うことができなくなってしまう。具体的には、上記の
うちのどのような材料を用いた場合でも、膜圧が10n
mを下回った場合、熱伝導効果が弱くなった。
On the other hand, if the film thickness is small, the stored heat cannot be sufficiently transferred, and cannot play a role as a high thermal conductive thin film. Specifically, when any of the above materials is used, the film pressure is 10 n
If it is less than m, the heat conduction effect is weakened.

【0051】以上の結果、本発明における高熱伝導性薄
膜の膜厚は、10nm以上、400nm以下にするのが
望ましい。
As a result of the above, it is desirable that the thickness of the high thermal conductive thin film of the present invention be 10 nm or more and 400 nm or less.

【0052】次に、超解像膜は、温度によって屈折率が
変化する材料からなり、コバルト、鉄、ニッケル、クロ
ム、バナジウム、マンガンから選ばれる少なくとも1種
類以上の元素を有する第1の酸化物と、シリコン、チタ
ン、ナトリウム、カルシウムから選ばれる少なくとも一
種以上の元素を有する第2の酸化物を混合した材料で超
解像膜を形成した場合、レーザー照射による屈折率の変
化が大きいため、好ましい。ここで、第一の酸化物の含
有量は、重量%で80重量%以上、98%以下であるこ
とが望ましい。
Next, the super-resolution film is made of a material whose refractive index changes according to temperature, and is a first oxide having at least one element selected from cobalt, iron, nickel, chromium, vanadium and manganese. When a super-resolution film is formed using a material in which a second oxide having at least one element selected from silicon, titanium, sodium, and calcium is mixed, a change in refractive index due to laser irradiation is large, which is preferable. . Here, the content of the first oxide is desirably from 80% by weight to 98% by weight.

【0053】また、超解像膜による解像度向上機能を得
るのに必要な膜厚について検討したところ、上記のよう
な高熱伝導性薄膜を形成した場合でも、最大で500n
m以上の膜厚に超解像膜を形成すると、充分に加熱でき
る領域が少なくなり、高熱伝導性薄膜による解像度向上
機能が弱くなってしまう。
Further, when the film thickness required for obtaining the resolution improving function by the super-resolution film was examined, it was found that even when the above-mentioned high thermal conductive thin film was formed, the maximum was 500 n.
If the super-resolution film is formed to a thickness of at least m, the region that can be sufficiently heated is reduced, and the function of improving the resolution by the high thermal conductive thin film is weakened.

【0054】一方、超解像膜を10nmより薄い膜厚に
した場合には、充分超解像特性が得られなかった。以上
の結果、本発明における超解像膜の膜厚は、10nm以
上、500nm以下にするのが望ましい。
On the other hand, when the super-resolution film was thinner than 10 nm, sufficient super-resolution characteristics could not be obtained. As a result, the thickness of the super-resolution film in the present invention is desirably 10 nm or more and 500 nm or less.

【0055】従って、上記実施形態によれば、記録密度
を高くしても情報の書込/読出の繰り返しによる劣化の
虞れが無く、優れた応答性を長期間に渡って保つRAM
用の光ディスクを容易に得ることができる。
Therefore, according to the above embodiment, even if the recording density is increased, there is no fear of deterioration due to repeated writing / reading of information, and the RAM maintains excellent responsiveness for a long period of time.
Optical disk can be easily obtained.

【0056】次に、本発明の第3の実施形態について、
図6により説明する。この図6の実施形態は、図示のよ
うに、超解像膜3の両面に高熱伝導性薄膜2を形成させ
てRAM用の光ディスクとしたもので、その他の構成
は、図1又は図2の実施形態と同じであり、従って、こ
の実施形態は、図1の実施形態と図2の実施形態を組合
せたものに相当する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG. In the embodiment of FIG. 6, as shown, a high-thermal-conductivity thin film 2 is formed on both surfaces of a super-resolution film 3 to form an optical disk for RAM. It is the same as the embodiment and, therefore, this embodiment corresponds to a combination of the embodiment of FIG. 1 and the embodiment of FIG.

【0057】この図6に示したRAM用光ディスクは、
以下の工程によって作製した。まず、図1の実施形態と
同じく、ポリカーボネート製の円盤状の基板1の一方の
面にAlNからなる高熱伝導性薄膜2を25nmの膜厚
に形成し、その上面にCo34からなる超解像膜3を1
00nmの膜厚で形成した。
The RAM optical disk shown in FIG.
It was produced by the following steps. First, as in the embodiment shown in FIG. 1, a high thermal conductive thin film 2 made of AlN is formed on one surface of a polycarbonate disc-shaped substrate 1 to a thickness of 25 nm, and a superconducting film made of Co 3 O 4 is formed on the upper surface thereof. 1 resolution film
It was formed with a thickness of 00 nm.

【0058】さらにその上に、同じくAlNからなる高
熱伝導性薄膜2を120nmの膜厚に形成した後、Si
2の保護膜4を50nmの膜厚に形成した。さらに相
変化材料の記録膜6を20nmの膜厚に形成した後、再
びSiO2の保護膜4を40nmの膜厚で形成し、最後に
Al−Tiからなる反射膜5を100nmの膜厚に形成し
た。
Further, a high thermal conductive thin film 2 also made of AlN is formed thereon to a thickness of 120 nm,
An O 2 protective film 4 was formed to a thickness of 50 nm. Further, after the recording film 6 of the phase change material is formed to a thickness of 20 nm, the SiO 2 protective film 4 is formed again to a thickness of 40 nm, and finally, the reflective film 5 made of Al-Ti is formed to a thickness of 100 nm. Formed.

【0059】ここで、基板1の厚さは0.6mmであ
り、この実施形態では、以上のようにして成膜した2枚
の基板1を、紫外線効果樹脂を用い、反射膜4を背にし
て貼り合わせ、1.2mm厚の光ディスクを作成した
後、上記したようにして、繰り返し再生における最短ピ
ットと最長ピットの再生振幅の比率変化を調べた。な
お、このときの再生条件は、図1で説明した第1の実施
形態と同じにした。
Here, the thickness of the substrate 1 is 0.6 mm, and in this embodiment, the two substrates 1 formed as described above are formed by using an ultraviolet ray effect resin, After forming a 1.2 mm thick optical disk, the change in the ratio of the reproduction amplitude of the shortest pit and the longest pit in repeated reproduction was examined as described above. The reproduction conditions at this time were the same as those in the first embodiment described with reference to FIG.

【0060】この結果、この図6に示した光ディスク
も、高熱伝導性薄膜2を有するため、繰り返し回数が1
8000回を超えても最短ピットの再生振幅と、最長ピ
ットの再生振幅の比率に変化がなく、従って、繰り返し
再生による信号の劣化を充分に抑えることができること
が判った。
As a result, since the optical disk shown in FIG. 6 also has the high thermal conductive thin film 2, the number of repetitions is one.
It was found that the ratio between the reproduction amplitude of the shortest pit and the reproduction amplitude of the longest pit did not change even after more than 8000 times, and therefore, it was found that deterioration of the signal due to repeated reproduction could be sufficiently suppressed.

【0061】次に、超解像膜3のレーザ光強度に対する
屈折率変化を調べたところ、線速度が10m/sの場合
でも、強度が僅か1mWのレーザ照射によって屈折率の
変化が観察された。そして、4mWの強度で照射したと
きには、超解像膜3の屈折率は2.12となり、大きな
屈折率変化を実現できた。
Next, when the change in the refractive index with respect to the laser light intensity of the super-resolution film 3 was examined, even when the linear velocity was 10 m / s, the change in the refractive index was observed by the laser irradiation with the intensity of only 1 mW. . When irradiation was performed at an intensity of 4 mW, the refractive index of the super-resolution film 3 was 2.12, and a large change in the refractive index was realized.

【0062】次に、高熱伝導性薄膜2に次の表1に示し
た種々の高熱伝導性材料を用いて、それぞれ光ディスク
を作製した。このときの光ディスクは、図1の実施形態
と同じ構造にしてある。
Next, optical disks were manufactured by using various high thermal conductive materials shown in Table 1 below for the high thermal conductive thin film 2. The optical disk at this time has the same structure as the embodiment of FIG.

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】この表1は、高熱伝導性薄膜に使用するこ
とができる材質名と、それらの熱伝導率κ(cal/cm・se
c・℃)、及び3m/s、6m/s、10m/s、12m
/sの線速度でディスクを回転させたときの振幅比(%)
を示したもので、ここで、振幅比については、図1の実
施形態と同じ方法により求めたものである。一方、この
実施形態で用いた超解像膜の熱伝導率κは0.01であ
る。
Table 1 shows the names of materials that can be used for the high thermal conductive thin film and their thermal conductivity κ (cal / cm · se
c · ° C), and 3 m / s, 6 m / s, 10 m / s, 12 m
/ S amplitude ratio when rotating the disk at linear velocity (%)
Here, the amplitude ratio is obtained by the same method as in the embodiment of FIG. On the other hand, the thermal conductivity κ of the super-resolution film used in this embodiment is 0.01.

【0065】表1から、熱伝導率κが3.1、0.53、
0.10と、何れもかなり高い材料であるBN、BeO、
MoSi2による高熱伝導性薄膜では、12m/sの線速
度でも高い振幅比が得られることが判り、一方、熱伝導
率が0.1を切るMgO、SiC、Al23、AlN、それ
にZrB2では、10m/sの線速度までは高い振幅比が
得られたが、線速度が12m/sでは振幅比が70%程
度になって、充分な振幅比が得られないことが判る。
From Table 1, it can be seen that the thermal conductivity κ is 3.1, 0.53,
0.10 and BN, BeO,
It is understood that a high thermal conductivity thin film made of MoSi 2 can provide a high amplitude ratio even at a linear velocity of 12 m / s, while MgO, SiC, Al 2 O 3 , AlN, and ZrB whose thermal conductivity is less than 0.1. In Fig. 2 , a high amplitude ratio was obtained up to a linear velocity of 10 m / s, but at a linear velocity of 12 m / s, the amplitude ratio was about 70%, indicating that a sufficient amplitude ratio could not be obtained.

【0066】また、この表から、熱伝導率κが0.07
以下であるTiC、Si34、TiNの高熱伝導性薄膜の
場合は、線速度6m/sまでは高い振幅比が得られた
が、10m/s以上の線速度では振幅比が低下してしま
うことが判り、更に熱伝導率κが0.01未満のSiO2
とZrO2の場合は、線速度3m/sでは高い振幅率が得
られたが、6m/sでは高振幅比が得られなかった。
From this table, it can be seen that the thermal conductivity κ is 0.07
In the case of the following high thermal conductive thin films of TiC, Si 3 N 4 , and TiN, a high amplitude ratio was obtained up to a linear velocity of 6 m / s, but the amplitude ratio decreased at a linear velocity of 10 m / s or more. found to put away, SiO 2 further thermal conductivity κ is less than 0.01
In the case of ZrO 2 and ZrO 2 , a high amplitude ratio was obtained at a linear velocity of 3 m / s, but a high amplitude ratio was not obtained at a linear velocity of 6 m / s.

【0067】以上より、光ディスクの実用的なアクセス
速度を考えると、SiO2、ZrO2を用いることは好まし
くない。また、線速度6m/s以上でも充分な振幅比を
得るためには、高熱伝導性薄膜として、熱伝導率κが
0.01以上である材料を用いるのが好ましい。そし
て、この実施形態で用いた超解像膜の熱伝導率κが0.
01であったことから、この超解像膜の熱伝導率κの値
0.01以上の熱伝導率を高熱伝導性薄膜が有していれ
ば、高速回転時においても超解像膜による機能を充分に
発現できることが判る。
From the above, considering the practical access speed of the optical disk, it is not preferable to use SiO 2 or ZrO 2 . Further, in order to obtain a sufficient amplitude ratio even at a linear velocity of 6 m / s or more, it is preferable to use a material having a thermal conductivity κ of 0.01 or more as the high thermal conductive thin film. Then, the thermal conductivity κ of the super-resolution film used in this embodiment is 0.5.
Therefore, if the high thermal conductivity thin film has a thermal conductivity of 0.01 or more in the thermal conductivity κ of the super-resolution film, the function of the super-resolution film can be obtained even at high speed rotation. Can be sufficiently expressed.

【0068】また、高熱伝導性薄膜の熱伝導率κが0.
07以上であると、線速度10m/s以上の高速でも高
い振幅比を得ることが可能であり、更に好ましくは、熱
伝導率κが0.10℃以上であると、線速度が12m/
sにもなるディスク回転のもとでも高い振幅比を得るこ
とができた。
Further, the thermal conductivity κ of the high thermal conductive thin film is equal to
When it is 07 or more, a high amplitude ratio can be obtained even at a high speed of 10 m / s or more. More preferably, when the thermal conductivity κ is 0.10 ° C. or more, the linear velocity becomes 12 m / s.
A high amplitude ratio could be obtained even under a disk rotation of s.

【0069】ここで、上記本発明の実施形態で使用され
てる超解像膜の熱伝導率よりも高い熱伝導率κを有する
高熱伝導性物質としては、この表1には示していない
が、この他にも、SiO2−Al23、ZrO2−SiO2
ZrN、TaN、TaC、B4C、MgF2、CaF2、Ba
2、ZnSなどを挙げることができ、これらを用いて本
発明を実施しても、上記実施形態と同様な効果を得るこ
とができた。
The high thermal conductive material having a thermal conductivity κ higher than that of the super-resolution film used in the embodiment of the present invention is not shown in Table 1, but In addition, SiO 2 —Al 2 O 3 , ZrO 2 —SiO 2 ,
ZrN, TaN, TaC, B 4 C, MgF 2, CaF 2, Ba
F 2 , ZnS and the like can be cited, and even if the present invention is carried out using these, the same effects as in the above embodiment could be obtained.

【0070】ここで、図6に示した高熱伝導性薄膜を超
解像膜の上下に形成した光ディスクの場合も同じで、同
じく良好な特性が得られた。
Here, the same was true for the optical disk in which the high thermal conductive thin film shown in FIG. 6 was formed above and below the super-resolution film, and the same good characteristics were obtained.

【0071】ところで、以上は、何れも本発明による光
情報記録媒体をRAM用の光ディスクに適用した場合の
実施形態であるが、本発明による光情報記録媒体は、R
OM(リード・オンリ・メモリ)ディスクにも適用可能で
あり、以下、このROM用光ディスクによる本発明の実
施形態について説明する。
The above is an embodiment in which the optical information recording medium according to the present invention is applied to an optical disk for a RAM.
The present invention is also applicable to an OM (read only memory) disk. Hereinafter, an embodiment of the present invention using this ROM optical disk will be described.

【0072】図7は、本発明の一実施形態によるROM
用光ディスクの部分断面図で、図において、7は情報を
持って書き込まれたピットであり、その他、基板1、高
熱伝導性薄膜2、超解像膜3、保護膜4、それに反射膜
5は、既に説明した実施形態と同じである。なお、図中
の矢印は、再生のための光の入射方向を示す。
FIG. 7 shows a ROM according to an embodiment of the present invention.
In the figure, reference numeral 7 denotes pits written with information. In addition, the substrate 1, the high thermal conductive thin film 2, the super-resolution film 3, the protective film 4, and the reflective film 5 This is the same as the previously described embodiment. The arrow in the figure indicates the direction of light for reproduction.

【0073】この図7の実施形態例は、図1に示したR
AM用光ディスクの実施形態における記録膜6を除き、
ピット7により情報を記録するようにしたものに相当
し、ここで、基板1にはポリカーボネート、高熱伝導性
薄膜2にはAlN、超解像膜3には90重量%Co34
10重量%SiO2の焼結体をターゲットとして蒸着した
薄膜、保護膜4にはSiO2、それに反射膜5にはAl−
Tiを夫々用いた。
The embodiment shown in FIG. 7 is similar to the embodiment shown in FIG.
Except for the recording film 6 in the embodiment of the AM optical disc,
In this case, information is recorded by the pits 7, where the substrate 1 is polycarbonate, the high thermal conductive thin film 2 is AlN, and the super-resolution film 3 is 90% by weight Co 3 O 4 −.
Thin film was deposited to 10 wt% SiO 2 sintered body as the target, SiO 2 the protective layer 4, is it the reflecting film 5 Al-
Ti was used for each.

【0074】次に、この図7に示した光ディスクは、以
下のようにして作成した。まず、レーザを用い、ROM
用の情報を持ったピットパターンを所定のフォトレジス
ト上に形成し、次いでこのピットパターンを、金型用の
Ni 板に転写して金型とし、この金型にポリカーボネー
トを射出成形することにより、ピット7が形成された基
板1を得る。ここで、この基板1は、厚さ0.6mm、
直径120mmの円盤状のものであり、ピット7として
は、その大きさが、最短ピットでは0.7μmで、最小
ピットは0.3μmになるようにした。
Next, the optical disk shown in FIG. 7 was prepared as follows. First, using a laser, ROM
A pit pattern having information for use is formed on a predetermined photoresist, and then the pit pattern is transferred to a Ni plate for a mold to form a mold, and the mold is injection-molded with polycarbonate. The substrate 1 on which the pits 7 are formed is obtained. Here, the substrate 1 has a thickness of 0.6 mm,
The pit 7 was a disk having a diameter of 120 mm. The size of the pit 7 was set to 0.7 μm for the shortest pit and 0.3 μm for the minimum pit.

【0075】次いで、この基板1上に、まず高熱伝導性
薄膜2としてAlNを25nmの厚さに形成し、その上
に90重量%Co34−10重量%SiO2の焼結体を蒸
着用のターゲットとして、超解像膜3を厚さ100nm
に形成し、次いでSiO2の保護膜4を120nmの厚さ
に形成した後、Al−Ti系の反射膜5を厚さ100nm
形成した。
Next, on the substrate 1, AlN is first formed as a high thermal conductive thin film 2 to a thickness of 25 nm, and a sintered body of 90 wt% Co 3 O 4 -10 wt% SiO 2 is deposited thereon. Super-resolution film 3 having a thickness of 100 nm
Then, after forming an SiO 2 protective film 4 to a thickness of 120 nm, an Al—Ti-based reflective film 5 is formed to a thickness of 100 nm.
Formed.

【0076】こうして成膜した基板1は、反射膜5を背
にして2枚を紫外線硬化樹脂により張り合わせ、1.2
mm厚のROMディスクとする。これと共に比較例とし
て、高熱伝導性薄膜2が無いだけで、同じ構成のROM
ディスクも共に作製した。そして、この図7の実施形態
によるROM用光ディスクを、この比較例によるものと
比較して検証した。
The substrate 1 thus formed is laminated with an ultraviolet-curing resin, with the reflective film 5 as a back, and 1.2 substrates are bonded.
mm ROM disk. At the same time, as a comparative example, a ROM having the same configuration only with no high thermal conductive thin film
Discs were also made. Then, the ROM optical disk according to the embodiment of FIG. 7 was verified by comparison with that according to the comparative example.

【0077】まず、図7の実施形態によるROM用光デ
ィスクは、高熱伝導性薄膜2を有する結果、読出しの繰
り返し回数が15000回を超えても、最短ピットの再
生振幅と最長ピットの再生振幅の比率、すなわち振幅比
に変化がなく、繰り返し再生による信号の劣化が極めて
少ないことが判った。一方、高熱伝導性薄膜を持たない
比較例による光ディスクは、繰り返し回数の増加と共
に、振幅比が減少してゆき、12000回再生後には5
5%を切った。
First, since the ROM optical disk according to the embodiment of FIG. 7 has the high thermal conductive thin film 2, even if the number of readouts exceeds 15,000, the ratio of the reproduction amplitude of the shortest pit to the reproduction amplitude of the longest pit is obtained. That is, it was found that there was no change in the amplitude ratio, and signal deterioration due to repeated reproduction was extremely small. On the other hand, in the optical disc according to the comparative example having no high thermal conductive thin film, the amplitude ratio decreases as the number of repetitions increases, and after performing 12000 times, the amplitude ratio decreases.
Cut 5%.

【0078】従って、図7の実施形態によれば、性能の
劣化に懸念を持つこと無く、充分な記憶密度の高密度化
を図ることかでき、情報の再生動作による性能劣化の虞
れが無く、優れた応答性を長期間に渡って保つことがで
きる高記録密度のROM用光ディスクを容易に得ること
ができる。
Therefore, according to the embodiment shown in FIG. 7, it is possible to sufficiently increase the storage density without concern about the performance degradation, and there is no fear of the performance degradation due to the information reproducing operation. In addition, it is possible to easily obtain a high-density ROM optical disk capable of maintaining excellent responsiveness for a long period of time.

【0079】次に、図8は、本発明をROM用の光ディ
スクに適用した場合の他の一実施形態で、この実施形態
は、図7の実施形態における超解像膜3と高熱伝導性薄
膜2の基板1からの成膜順序を反対にしたもので、その
他の構成は同じである。従って、この図8の実施形態に
よっても、図7の実施形態と同様の作用効果を得ること
ができる。
Next, FIG. 8 shows another embodiment in which the present invention is applied to an optical disk for ROM. In this embodiment, the super-resolution film 3 and the high thermal conductive thin film in the embodiment of FIG. The film forming order from the second substrate 1 is reversed, and the other configurations are the same. Therefore, according to the embodiment of FIG. 8, the same operation and effect as those of the embodiment of FIG. 7 can be obtained.

【0080】なお、この図7と図8の実施形態では、上
記したように、超解像膜3として90重量%Co34
10重量%SiO2の焼結体をターゲットとした薄膜を用
い、高熱伝導性薄膜2としてはAlNを用いた場合につ
いて説明したが、上記した他の材料による超解像膜と高
熱伝導性薄膜を用いた場合でも、同様の作用効果が得ら
れた。
In the embodiments shown in FIGS. 7 and 8, as described above, 90% by weight of Co 3 O 4
The case where a thin film targeting a sintered body of 10% by weight of SiO 2 is used and AlN is used as the high thermal conductive thin film 2 has been described, but the super-resolution film and the high thermal conductive thin film made of the above-mentioned other materials are used. Similar effects were obtained when used.

【0081】次に、図9は、更に本発明をROM用の光
ディスクに適用した場合の一実施形態で、この実施形態
は、超解像膜3の両面(図の下側と上側の面)に高熱伝導
性薄膜2を設けた点が特徴で、その他の構成は、図7の
実施形態と図8の実施形態と同じであり、従って、これ
らの実施形態を組合せたものに相当する。
Next, FIG. 9 shows an embodiment in which the present invention is further applied to an optical disk for ROM. In this embodiment, both surfaces of the super-resolution film 3 (lower and upper surfaces in FIG. 9) are shown. Is characterized in that a high thermal conductive thin film 2 is provided, and the other configuration is the same as the embodiment of FIG. 7 and the embodiment of FIG. 8, and thus corresponds to a combination of these embodiments.

【0082】この図9に示したROM用光ディスクは、
以下の工程によって作製した。まず、予め情報を記録し
たピット7が形成された厚さ0.6mm、直径120m
mの円盤状のポリカーボネートからなる基板1上に、A
lNからなるを25nmの厚さに成膜し、この高熱伝導
性薄膜2の上面に90重量%Co34−10重量%SiO
2の焼結体を蒸着用のターゲットとして膜厚50nmの
超解像膜3を形成させ、更にその上にAlNの高熱伝導
性薄膜2を25nmの厚さに成膜した。
The ROM optical disc shown in FIG.
It was produced by the following steps. First, a thickness of 0.6 mm and a diameter of 120 m on which pits 7 in which information is recorded in advance is formed.
m on a substrate 1 made of a disc-shaped polycarbonate.
1N is deposited to a thickness of 25 nm, and 90 wt% Co 3 O 4 -10 wt% SiO 2 is formed on the upper surface of the high thermal conductive thin film 2.
Using the sintered body of No. 2 as a target for vapor deposition, a super-resolution film 3 having a thickness of 50 nm was formed, and a high thermal conductive thin film 2 of AlN was formed thereon to a thickness of 25 nm.

【0083】次に、SiO2からなる保護膜3を厚さ90
nmに形成した後、Al−Ti系の反射膜5を約200n
mの厚さに成膜して基板1を得た上で、この基板1を、
反射膜5を背にして2枚貼り合わせ、紫外線硬化樹脂を
用いて接着することにより、所望のROMディスクを得
た。
Next, the protective film 3 made of SiO 2 is
After forming the reflective film 5 of Al-Ti system,
m to obtain a substrate 1, and the substrate 1 is
The desired two ROM disks were obtained by adhering two sheets with the reflective film 5 as a back and bonding them using an ultraviolet curable resin.

【0084】この高熱伝導性薄膜2を超解像膜3の両面
に有するROM光ディスクは、情報の繰り返し再生回数
が16000回を超えても最短ピットの再生振幅と、最
長ピットの再生振幅の比率である振幅比には変化がな
く、繰り返し再生による信号の劣化が充分に抑えられて
いることが判った。
The ROM optical disk having the high thermal conductive thin film 2 on both surfaces of the super-resolution film 3 has a ratio of the reproduction amplitude of the shortest pit to the reproduction amplitude of the longest pit even if the number of times of repeated reproduction of information exceeds 16000 times. It was found that there was no change in a certain amplitude ratio, and signal deterioration due to repeated reproduction was sufficiently suppressed.

【0085】従って、この図9の実施形態によっても、
性能の劣化には何の懸念も無く、充分な記憶密度の高密
度化を図ることかでき、情報の再生動作による性能劣化
の虞れが無く、優れた応答性を長期間に渡って保つこと
ができる高記録密度のROM用光ディスクを容易に得る
ことができる。
Therefore, according to the embodiment shown in FIG.
There is no concern about performance degradation, sufficient storage density can be achieved, there is no risk of performance degradation due to information reproduction operation, and excellent responsiveness is maintained for a long period of time. A high-recording-density optical disk for ROM that can be easily obtained can be obtained.

【0086】なお、この図9の実施形態でも、上記した
ように、超解像膜3としては90重量%Co34−10
重量%SiO2の焼結体をターゲットとした薄膜を用い、
高熱伝導性薄膜2としてはAlNを用いた場合について
説明したが、上記した他の材料による超解像膜と高熱伝
導性薄膜を用いた場合でも、同様の作用効果が得られる
ことはいうまでもない。
In the embodiment shown in FIG. 9, as described above, the super-resolution film 3 is 90% by weight Co 3 O 4 -10.
Using a thin film targeting a sintered body of weight% SiO 2 ,
Although the case where AlN is used as the high thermal conductive thin film 2 has been described, it is needless to say that the same operation and effect can be obtained even when the super-resolution film and the high thermal conductive thin film made of other materials described above are used. Absent.

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明によれば、所定の材料からなる高
熱伝導性薄膜を設けるという簡単な構成で、書込/読出
の繰り返しによる光情報記憶媒体の性能劣化を充分に抑
えることができ、従って、本発明によれば、光情報記憶
媒体の記憶密度の高密度化と応答性の高速化を容易に図
ることができ、記憶容量が大でアクセス時間が短い高性
能のRAM用光ディスクやROM用光ディスクなどの光
情報記憶媒体をローコストで容易に提供することができ
る。
According to the present invention, performance degradation of an optical information storage medium due to repetition of writing / reading can be sufficiently suppressed with a simple structure of providing a high thermal conductive thin film made of a predetermined material. Therefore, according to the present invention, it is possible to easily increase the storage density and the response speed of the optical information storage medium, and to provide a high-performance RAM optical disk or ROM having a large storage capacity and a short access time. An optical information storage medium such as an optical disk can be easily provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による光情報記憶媒体をRAMディスク
に適用した場合の一実施形態を示す部分断面図である。
FIG. 1 is a partial sectional view showing an embodiment in which an optical information storage medium according to the present invention is applied to a RAM disk.

【図2】本発明による光情報記憶媒体をRAMディスク
に適用した場合の他の一実施形態を示す部分断面図であ
る。
FIG. 2 is a partial sectional view showing another embodiment in which the optical information storage medium according to the present invention is applied to a RAM disk.

【図3】本発明による光情報記憶媒体の一実施形態にお
ける再生繰り返し特性の一例を示す特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing an example of a reproduction repetition characteristic in one embodiment of the optical information storage medium according to the present invention.

【図4】本発明による光情報記憶媒体の一実施形態にお
ける超解像膜の屈折率のレーザ強度依存性の一例を示す
特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing an example of laser intensity dependence of a refractive index of a super-resolution film in one embodiment of the optical information storage medium according to the present invention.

【図5】本発明による光情報記憶媒体の一実施形態にお
けるC/Mのマーク長依存性の一例を示す特性図であ
る。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing an example of mark length dependence of C / M in an embodiment of the optical information storage medium according to the present invention.

【図6】本発明による光情報記憶媒体をRAMディスク
に適用した場合の更に別の一実施形態を示す部分断面図
である。
FIG. 6 is a partial sectional view showing still another embodiment in which the optical information storage medium according to the present invention is applied to a RAM disk.

【図7】本発明による光情報記憶媒体をROMディスク
に適用した場合の他の一実施形態を示す部分断面図であ
る。
FIG. 7 is a partial sectional view showing another embodiment in which the optical information storage medium according to the present invention is applied to a ROM disk.

【図8】本発明による光情報記憶媒体をROMディスク
に適用した場合の他の一実施形態を示す部分断面図であ
る。
FIG. 8 is a partial sectional view showing another embodiment in which the optical information storage medium according to the present invention is applied to a ROM disk.

【図9】本発明による光情報記憶媒体をROMディスク
に適用した場合の更に別の一実施形態を示す部分断面図
である。
FIG. 9 is a partial sectional view showing still another embodiment in which the optical information storage medium according to the present invention is applied to a ROM disk.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 高熱伝導性薄膜 3 超解像膜 4 保護膜 5 反射膜 6 記録膜 7 ピット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 High thermal conductive thin film 3 Super-resolution film 4 Protective film 5 Reflective film 6 Recording film 7 Pits

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 孝 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 中沢 哲夫 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 寺尾 元康 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 新谷 俊通 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 Fターム(参考) 5D029 MA27 MA39  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Takashi Naito 7-1-1, Omikacho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Tetsuo Nakazawa 7-1 Omikacho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1 Inside Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. Address F-term in Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (Reference) 5D029 MA27 MA39

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と相変化材料からなる記録膜の間
に、少なくとも遷移金属酸化物を主成分とする無機材料
からなる超解像膜を備えた光情報記憶媒体において、 前記超解像膜の少なくとも一方の面に直接形成された高
熱伝導性薄膜を設け、 該高熱伝導性薄膜を、この高熱伝導性薄膜が超解像膜と
接している面と反対面に形成されている部材の熱伝導率
より高い熱伝導率を有する材料で形成したことを特徴と
する光情報記録媒体。
1. An optical information storage medium comprising a super-resolution film made of at least a transition metal oxide-based inorganic material between a substrate and a recording film made of a phase change material, wherein the super-resolution film is Providing a high thermal conductive thin film directly formed on at least one surface of the member, and forming the high thermal conductive thin film on a member formed on the surface opposite to the surface where the high thermal conductive thin film is in contact with the super-resolution film. An optical information recording medium formed of a material having a higher thermal conductivity than the conductivity.
【請求項2】 基板と相変化材料からなる記録膜の間
に、少なくとも遷移金属酸化物を主成分とする無機材料
からなる超解像膜を備えた光情報記憶媒体において、 前記超解像膜の少なくとも一方の面に直接形成された高
熱伝導性薄膜を設け、 該高熱伝導性薄膜を、前記超解像膜の熱伝導率より高い
熱伝導率を有する材料で形成したことを特徴とする光情
報記録媒体。
2. An optical information storage medium comprising a super-resolution film made of an inorganic material containing at least a transition metal oxide between a substrate and a recording film made of a phase change material. Providing a high thermal conductive thin film directly formed on at least one surface of the light emitting device, wherein the high thermal conductive thin film is formed of a material having a thermal conductivity higher than that of the super-resolution film. Information recording medium.
【請求項3】 ピットの形成により一方の面に情報が記
録された基板の前記一方の面に、少なくとも遷移金属酸
化物を主成分とする無機材料からなる超解像膜を備えた
光情報記録媒体において、 前記超解像膜と前記基板の一方の面の間に形成された高
熱伝導性薄膜を設け、 前記高熱伝導性薄膜を、この高熱伝導性薄膜が超解像膜
と接している面と反対面に形成されている部材の熱伝導
率よりも高い熱伝導率を有する材料で形成したことを特
徴とする光情報記録媒体。
3. An optical information recording apparatus comprising: a substrate on which information is recorded on one surface by forming pits; and a super-resolution film made of an inorganic material containing at least a transition metal oxide as a main component on the one surface. In the medium, a high-thermal-conductivity thin film formed between the super-resolution film and one surface of the substrate is provided, and the high-thermal-conductivity thin film is contacted with the super-resolution film. An optical information recording medium formed of a material having a higher thermal conductivity than that of a member formed on the opposite surface of the optical information recording medium.
【請求項4】 ピットの形成により一方の面に情報が記
録された基板の前記一方の面に、遷移金属酸化物を主成
分とする無機材料からなる超解像膜を備えた光情報記録
媒体において、 前記超解像膜と前記基板の一方の面の間に形成された高
熱伝導性薄膜を設け、 前記高熱伝導性薄膜を、前記超解像膜の熱伝導率よりも
高い熱伝導率を有する材料で形成したことを特徴とする
光情報記録媒体。
4. An optical information recording medium having a super-resolution film made of an inorganic material containing a transition metal oxide as a main component on one surface of a substrate on which information is recorded on one surface by forming pits. In, providing a high thermal conductive thin film formed between the super-resolution film and one surface of the substrate, the high thermal conductive thin film, a thermal conductivity higher than the thermal conductivity of the super-resolution film An optical information recording medium formed of a material having the same.
【請求項5】 請求項1〜請求項4の何れかに記載の発
明において、 前記超解像膜が、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、バ
ナジウム、マンガンから選ばれた少なくとも1種類の元
素を含む第1の酸化物と、シリコン、チタン、ナトリウ
ム、カルシウムから選ばれる少なくとも一種の元素を含
む第2の酸化物とを含有する材料で形成されていること
を特徴とする光情報記録媒体。
5. The invention according to claim 1, wherein the super-resolution film contains at least one element selected from cobalt, iron, nickel, chromium, vanadium, and manganese. An optical information recording medium formed of a material containing a first oxide and a second oxide containing at least one element selected from silicon, titanium, sodium, and calcium.
【請求項6】 請求項5に記載の発明において、 前記第一の酸化物を形成する金属元素がコバルトである
ことを特徴とする光情報記録媒体。
6. The optical information recording medium according to claim 5, wherein the metal element forming the first oxide is cobalt.
【請求項7】 請求項1〜請求項4の何れかに記載の発
明において、 前記高熱伝導性薄膜を構成する材料の熱伝導率が0.0
1〔cal/cm・sec・℃〕以上であることを特徴とする光情
報記録媒体。
7. The invention according to claim 1, wherein the material constituting the high thermal conductive thin film has a thermal conductivity of 0.0
An optical information recording medium having a temperature of 1 [cal / cm · sec · ° C.] or more.
【請求項8】 請求項1〜請求項4、及び請求項7の何
れかに記載の発明において、 情報の読出又は書込に用いられる光の波長における前記
高熱伝導性薄膜の透過率が80%以上であることを特徴
とする光情報記録媒体。
8. The high thermal conductive thin film according to claim 1, wherein a transmittance of the high thermal conductive thin film at a wavelength of light used for reading or writing of information is 80%. An optical information recording medium characterized by the above.
【請求項9】 請求項1〜請求項4、及び請求項7、請
求項8の何れかに記載の発明において、 前記高熱伝導性薄膜が、金属酸化物、金属窒化物、金属
炭化物、金属ハロゲン化物、金属硫化物から選ばれた少
なくとも一種の化合物であることを特徴とする記載の光
情報記録媒体。
9. The invention according to claim 1, wherein the high thermal conductive thin film is formed of a metal oxide, a metal nitride, a metal carbide, or a metal halide. The optical information recording medium according to claim, wherein the optical information recording medium is at least one compound selected from the group consisting of a compound and a metal sulfide.
【請求項10】 請求項1〜請求項4、及び請求項7〜
請求項9の何れかに記載の発明において、 前記高熱伝導性薄膜が、アルミナ、シリカ−アルミナ、
ジルコニア−アルミナ、ベリリア、窒化アルミニウム、
窒化ジルコニア、窒化珪素、窒化タンタル、窒化チタ
ン、炭化珪素、炭化タンタル、炭化チタン、炭化硼素、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウ
ム、硫化亜鉛から選ばれた結晶性の化合物であることを
特徴とする光情報記録媒体。
10. The claims 1 to 4, and 7 to 10.
The invention according to any one of claims 9, wherein the high thermal conductive thin film is made of alumina, silica-alumina,
Zirconia-alumina, beryllia, aluminum nitride,
Zirconia nitride, silicon nitride, tantalum nitride, titanium nitride, silicon carbide, tantalum carbide, titanium carbide, boron carbide,
An optical information recording medium characterized by being a crystalline compound selected from magnesium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, and zinc sulfide.
【請求項11】 請求項1〜請求項4の何れかに記載の
発明において、 前記超解像膜の膜厚が10nm以上500nm以下で、
前記高熱伝導性薄膜の膜厚が10nm以上400nm以
下であることを特徴とする光情報記録媒体。
11. The invention according to claim 1, wherein the super-resolution film has a thickness of 10 nm or more and 500 nm or less,
An optical information recording medium, wherein the thickness of the high thermal conductive thin film is 10 nm or more and 400 nm or less.
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