JP2001083527A

JP2001083527A - 液晶素子及びその製造方法及びスペーサー付き基板及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001083527A
Application number: JP25943499A
Authority: JP
Inventors: Akio Kashiwazaki; 昭夫柏崎; Hiroshi Fujiike; 弘藤池; Masafumi Hirose; 雅史広瀬
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1999-09-13
Filing date: 1999-09-13
Publication date: 2001-03-30

Abstract

(57)【要約】【課題】コスト上昇を招くことなく、表示品位に優れた
液晶素子の製造方法を提供する。【解決手段】一対の基板をスペーサーを介して対向配置
し、基板間に液晶化合物を挟持してなる液晶素子の製造
方法であって、一対の基板のうちの一方の基板１の表面
を下向きにして、この表面の下側からスペーサー形成素
材をその表面に吐出して付着させた後硬化させ、一対の
基板の間隔を規定するスペーサーを形成するスペーサー
形成工程と、一対の基板を、スペーサーを挟んで対向配
置する配置工程と、対向配置された一対の基板間に液晶
化合物を封入する封入工程とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使用される
液晶素子及びその製造方法に関し、さらには、液晶素子
の構成部材であるスペーサー付き基板及びその製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発展に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。

【０００３】従来、液晶素子の製造方法としては、一対
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板面側の全面に一
般に３〜１０μｍ程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等
からなる真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分
散させる。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラ
ス基板を上記スペーサを介して重ね合わせ、その間隙に
液晶を封入することにより液晶素子が構成される。

【０００４】ところが、有効画素部では透明／遮光状態
が表示状態によって変化するため、上記スペーサーを無
色透明な素材で形成した場合には、遮光時に輝点とし
て、また、黒色に着色した場合には透過時に黒点として
観察されることとなり、表示品位が低下するという問題
があった。

【０００５】上記問題を解決するために、特開昭６１−
１７３２２１号公報、特開平２−２２３９２２号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平３−９４２３０号公報には、有効画素
部以外の領域の感光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が記載されている。

【０００６】その他にも、膜厚の大きなブラックマトリ
クスをスペーサーとする方法（特開昭６３−２３７０３
２号公報、特開平３−１８４０２２号公報、特開平４−
１２２９１４号公報等）、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法（特開昭６３−８２４０５号公報）、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法（特開昭６３−２３７０３２号公報）な
どが提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
公報に提案された改善方法は、いずれもフォトリソグラ
フィーを用いた方法であるため、高価な露光機が必要で
あり、また現像などのウエットプロセスの導入により、
製造ラインが長くなるという問題があった。

【０００８】また、上記各改善方法では、ラビング方法
などにより配向処理を行ったポリイミド膜などの配向膜
上に直接、感光性ポリイミドやフォトレジストなどを塗
布し、露光後は不要部を溶剤などにより除去する必要が
ある。これらの工程は、上記配向膜に施された配向処理
状態を著しく汚染、破壊してしまう場合があり、液晶セ
ル内に注入された液晶の配向が不均一となる懸念があっ
た。

【０００９】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的は、コスト上昇を招くこと
なく、有効画素部及び非有効画素部のいずれにもスペー
サーによる表示上の影響が無く、表示品位に優れた液晶
素子の製造方法及びそれにより製造された液晶素子を提
供することである。

【００１０】また、本発明の他の目的は、液晶素子の構
成部材であるスペーサー付き基板及びその製造方法を提
供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し、
目的を達成するために、本発明に係わる液晶素子の製造
方法は、一対の基板をスペーサーを介して対向配置し、
該基板間に液晶化合物を挟持してなる液晶素子の製造方
法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板の表面
を下向きにして、該表面の下側からスペーサー形成素材
を前記表面に吐出して付着させた後硬化させ、前記一対
の基板の間隔を規定するスペーサーを形成するスペーサ
ー形成工程と、前記一対の基板を、前記スペーサーを挟
んで対向配置する配置工程と、前記対向配置された一対
の基板間に液晶化合物を封入する封入工程とを具備する
ことを特徴としている。

【００１２】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサー形成素材は、光照射及び／
又は加熱により硬化することを特徴としている。

【００１３】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサーが形成される基板が、透明
基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用いて構成さ
れていることを特徴としている。

【００１４】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサーが形成される基板が、画素
毎にアクティブ素子を備えたアクティブマトリクス基板
であることを特徴としている。

【００１５】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサー形成素材をインクジェット
方式により吐出して前記表面に付着させることを特徴と
している。

【００１６】また、本発明に係わる液晶素子は、上記の
液晶素子の製造方法により製造されたことを特徴として
いる。

【００１７】また、本発明に係わるスペーサー付き基板
の製造方法は、基板の表面を下向きにして、該表面の下
側からスペーサー形成素材を前記表面に吐出して付着さ
せた後硬化させることによりスペーサー付き基板を形成
することを特徴としている。

【００１８】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサー形成素材は、光
照射及び／又は加熱により硬化することを特徴としてい
る。

【００１９】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサーが形成される基
板が、透明基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用
いて構成されていることを特徴としている。

【００２０】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサーが形成される基
板が、画素毎にアクティブ素子を備えたアクティブマト
リクス基板であることを特徴としている。

【００２１】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサー形成素材をイン
クジェット方式により吐出して前記表面に付着させるこ
とを特徴としている。

【００２２】また、本発明に係わるスペーサー付き基板
は、上記のスペーサー付き基板の製造方法により製造さ
れたことを特徴としている。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施形態
について、添付図面を参照して詳細に説明する。

【００２４】なお、本明細書においては従来公知のイン
クジェット方式についてインクの代わりにスペーサー素
材を吐出するものを便宜上インクジェット方式と呼ぶ。

【００２５】図１は、本発明の液晶素子の製造方法の一
実施形態の工程のうち、スペーサー付基板を形成するま
での工程を示す模式図である。本実施形態は、一方の基
板を透明基板上に着色層と保護層を備えたカラーフィル
タを用いて構成し、該基板上にスペーサーを形成する例
である。図中、１は透明基板、２はブラックマトリク
ス、３は着色層、４は保護層、５は透明電極、６は配向
膜、８はインクジェットヘッド、９は硬化性インク、１
０はスペーサーである。尚、図１の（ａ）〜（ｇ）はそ
れぞれ以下の工程（ａ）〜（ｇ）にそれぞれ対応する断
面模式図である。

【００２６】工程（ａ）透明基板１上に、必要に応じてブラックマトリクス２を
形成する。本発明において透明基板１としては、一般に
ガラス基板が用いられるが、液晶素子としての透明性、
機械的強度等の必要特性を有するものであればガラス基
板に限定されるものではなく、プラスチック基板なども
用いることができる。

【００２７】ブラックマトリクス２としては特に制限は
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板１上に形成したＣｒ等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板１上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることより、形
成することができる。

【００２８】工程（ｂ）透明基板上にカラーフィルタのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３原色の着色層３を形成する。本発明において
着色層３の形成方法は特に限定されず、公知の技術が用
いられる。例えば、顔料を分散した光硬化性樹脂組成物
を用いた顔料分散方、基板上に成膜した樹脂被膜を染料
を用いて染色した染色方、導電性基板上に通電しながら
着色組成物を電着せしめることにより着色層を形成する
電着法、印刷技術を応用した印刷法、熱転写技術を応用
した熱転写法などが挙げられる。また、コスト面から考
えると、１工程で３色の着色層を同時に形成しうるイン
クジェット方式を利用した方が望ましい。

【００２９】また、着色層３は、特に本発明に係るスペ
ーサー１０を形成する基板側に設ける必要はなく、液晶
素子を構成する一対の基板のいずれか一方に形成すれば
よい。

【００３０】工程（ｃ）必要に応じて保護層４を形成する。保護層４としては、
光照射または熱処理、或いはこれらの両方により硬化可
能な樹脂層、或いは蒸着またはスパッタによって形成さ
れた無機膜等を用いることができ、カラーフィルタとし
ての透明性を有し、その後のＩＴＯ膜形成工程や配向膜
形成工程等に耐えうるものであれば使用可能である。

【００３１】工程（ｄ）必要に応じて透明導電膜５を形成する。透明導電膜５は
通常ＩＴＯをスパッタ等で成膜したものが用いられる
が、特にＩＴＯに限定されるものではなく、形成方法も
限定されない。

【００３２】工程（ｅ）必要に応じて配向膜６を先に形成する。配向膜６の形成
方法、材質は特に限定されるものではなく、公知のもの
を用いることができる。また、適宜公知の方法によりラ
ビングを行っても良い。

【００３３】工程（ｆ）本基板を、配向膜６の表面が下を向くようにスペーサー
描画機に配置し、カラーフィルタの着色層３を形成する
ときに用いたアライメントマーク（図示しない）を利用
して基板アライメントを行い、インクジェットヘッド８
を用い、配向膜６の下側から配向膜６の表面に向けて硬
化性インク９を有効画素部に吐出する。このように、配
向膜６の下側から硬化性インク９を配向膜６の表面に付
与することにより、硬化性インク９が重力により下方に
引かれ、スペーサーの必要高さが得られるようになる。

【００３４】硬化性インク９は、硬化後にスペーサー１
０となるスペーサー形成素材であり、硬化性成分を含有
し、インクジェットヘッドを用いて吐出が可能であり、
且つ、後処理により硬化し得るものであれば、いずれの
材料を用いてもかまわない。好ましくは、以下に挙げる
ような単量体の単独重合体或いは該単量体と他のビニル
系単量体との共重合体をインク中に含有しており、その
含有量は０．０１〜３０重量％が好ましく、特に０．１
〜１０重量％が望ましい。

【００３５】硬化性インク９に含有される重合体或いは
共重合体の構成成分である単量体としては、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメト
キシメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエトキシメチル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジエトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられる
が、これに限られるものではない。これらの単量体は単
独重合体、或いは、他のビニル系単量体との共重合体で
用いられる。他のビニル系単量体としては、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、ヒドロキシ
メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチル
アクリレート等の水酸基を含有したビニル系単量体、そ
の他スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、
メタクリルアミド、アクリロニトリル、アリルアミン、
ビニルアミン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等を挙
げることができる。

【００３６】上記共重合体における、上記単量体と他の
ビニル系単量体との共重合割合（重量％）は、１００
％：０％〜５％：９５％が好ましく、特に９０％：１０
％〜１０％：９０％が望ましい。

【００３７】さらに、光硬化させる場合には、各種光硬
化性樹脂、光重合開始剤を加えても良い。また、硬化剤
インク中で固着等の問題を起こすものでなければ、他の
成分として、様々な市販の樹脂や添加剤を加えても良
い。具体的には、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等が
好適に用いられる。

【００３８】硬化性インク９の調製に際しては、上記各
成分を水／または公知の溶剤で混合、溶解する。この操
作は、それ自体公知のものが利用できる。望ましくは、
スペーサー１０を形成する基板表面の材質（本実施形態
では配向膜６）によって添加溶剤或いは界面活性剤など
の添加剤を加えて吐出された硬化性インク９の形成する
ドットの径を調整することにより、スペーサーの径の調
整が可能である。

【００３９】本発明に用いるインクジェット方式として
は、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能である。硬化性インクの打込
み位置、及び打込み量は任意に設定することができる。

【００４０】工程（ｇ）基板１を、配向膜６の表面が下を向いたままの状態で保
持し、光照射、熱処理、或いは光照射と熱処理の両方を
行って硬化性インク９を硬化させてスペーサー１０を形
成し、本発明のスペーサー付基板を得る。光照射や熱処
理の方法は公知の方法による。

【００４１】特に厳密な平坦性が必要な場合には、スペ
ーサー１０の表面を研磨テープ等を用いて研磨してもか
まわない。

【００４２】次いで、事前に配向膜６を形成していなか
った場合には、配向膜を形成する。

【００４３】以降、上記のスペーサー付基板と、別途作
製した対向基板とをシール材を用いて貼り合わせてセル
を作製し、液晶を封入することにより、本発明の液晶素
子が得られる。

【００４４】次に、本発明の液晶素子の一例を図２に示
す。図２は、図１（ｇ）に示した本実施形態のスペーサ
ー付基板を用いて構成した液晶素子の一例の断面模式図
である。図中、１１は対向基板、１２は画素電極、１３
は配向膜、１４は液晶である。本液晶素子は、画素毎に
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を配置したアクティブマト
リクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）の液晶素子の一例で
ある。

【００４５】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側の基板１と対向基板１１を合わせ込み、液晶
１４を封入することにより形成される。対向基板１１の
内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極１２が
マトリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極１２に対向する位置に、Ｒ，Ｇ，Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色層３が配置され、その
上に透明電極膜５（共通電極）が一面に形成される。ブ
ラックマトリクス２は、通常カラーフィルタ側に形成さ
れるが、ＢＭオンアレイタイプの液晶素子においては対
向基板１１側に形成される。さらに、両基板の面内には
配向膜６，１３が形成されており、これらをラビング処
理することにより液晶分子を一定方向に配列させること
ができる。これらの基板はスペーサー１０を介して対向
配置され、シール材（図示しない）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶１４が充填される。液晶としては一
般的に用いられているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等いず
れも用いることができる。

【００４６】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶１４を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。

【００４７】上記実施形態においては、ＴＦＴ型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。

【００４８】次に、本実施形態の液晶素子の製造方法の
具体例について説明する。

【００４９】（実施例）ガラス基板上に０．１μｍ厚の
クロム金属膜をスパッタリングで形成し、フォトレジス
トを用いてエッチングを行い、格子状のブラックマトリ
クスを得た、その後、公知のインクジェット方式による
カラーフィルタ形成方法を用いてＲ，Ｇ，Ｂの着色層を
作製した。その上にスピンコータを用いてアクリル系樹
脂の保護層を形成し、平坦化を行った。さらにその上に
透明電極のＩＴＯ膜をスパッタリングで形成し、さらに
ポリイミドからなる配向膜を形成した。この基板に、図
１（ｆ）に示したように、ＩＴＯ膜側を下に向けて、下
側からブラックマトリクス上に以下の組成の硬化性イン
クをインクジェットヘッドより吐出した。

【００５０】［硬化性インクの組成］共重合体１０重量％水８０重量％エチレングリコール１０重量％但し、上記共重合体は、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリル
アミドとメタクリル酸メチルの２元共重合体（共重合
比、４０：６０（重量比））からなるものを用いた。

【００５１】上記基板を、ＩＴＯ膜側を下に向けたま
ま、１００℃で１５分間加熱した後、２００℃で３０分
間加熱し、上記硬化性インクを硬化させてスペーサーを
形成した。スペーサーは厚さ５μｍで、直径が約２０μ
ｍであった。

【００５２】次いで、上記スペーサーを形成した基板
と、対向する電極を形成した基板とをシール材を用いて
貼り合わせてセルを作製し、液晶を注入して本発明の液
晶素子を得た。得られた液晶素子は、従来の６μｍ径の
スペーサーを分散させた液晶素子に比べて色ムラもな
く、コントラストに優れたものであった。

【００５３】本発明は、特にインクジェット記録方式の
中でも、インク吐出を行わせるために利用されるエネル
ギーとして熱エネルギーを発生する手段（例えば電気熱
変換体やレーザ光等）を備え、前記熱エネルギーにより
インクの状態変化を生起させる方式のプリント装置につ
いて説明したが、かかる方式によれば記録の高密度化、
高精細化が達成できる。

【００５４】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第４７２３１２９号明細書、同第４７４０
７９６号明細書に開示されている基本的な原理を用いて
行うものが好ましい。この方式はいわゆるオンデマンド
型、コンティニュアス型のいずれにも適用可能である
が、特に、オンデマンド型の場合には、液体（インク）
が保持されているシートや液路に対応して配置されてい
る電気熱変換体に、記録情報に対応していて膜沸騰を越
える急速な温度上昇を与える少なくとも１つの駆動信号
を印加することによって、電気熱変換体に熱エネルギー
を発生せしめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を生じさ
せて、結果的にこの駆動信号に１対１で対応した液体
（インク）内の気泡を形成できるので有効である。この
気泡の成長、収縮により吐出用開口を介して液体（イン
ク）を吐出させて、少なくとも１つの滴を形成する。こ
の駆動信号をパルス形状をすると、即時適切に気泡の成
長収縮が行われるので、特に応答性に優れた液体（イン
ク）の吐出が達成でき、より好ましい。

【００５５】このパルス形状の駆動信号としては、米国
特許第４４６３３５９号明細書、同第４３４５２６２号
明細書に記載されているようなものが適している。な
お、上記熱作用面の温度上昇率に関する発明の米国特許
第４３１３１２４号明細書に記載されている条件を採用
すると、さらに優れた記録を行うことができる。

【００５６】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出口、液路、電気熱変換体
の組み合わせ構成（直線状液流路または直角液流路）の
他に熱作用面が屈曲する領域に配置されている構成を開
示する米国特許第４５５８３３３号明細書、米国特許第
４４５９６００号明細書を用いた構成も本発明に含まれ
るものである。加えて、複数の電気熱変換体に対して、
共通するスロットを電気熱変換体の吐出部とする構成を
開示する特開昭５９−１２３６７０号公報や熱エネルギ
ーの圧力波を吸収する開口を吐出部に対応させる構成を
開示する特開昭５９−１３８４６１号公報に基づいた構
成としても良い。

【００５７】さらに、記録装置が記録できる最大記録媒
体の幅に対応した長さを有するフルラインタイプの記録
ヘッドとしては、上述した明細書に開示されているよう
な複数記録ヘッドの組み合わせによってその長さを満た
す構成や、一体的に形成された１個の記録ヘッドとして
の構成のいずれでもよい。

【００５８】加えて、装置本体に装着されることで、装
置本体との電気的な接続や装置本体からのインクの供給
が可能になる交換自在のチップタイプの記録ヘッド、あ
るいは記録ヘッド自体に一体的にインクタンクが設けら
れたカートリッジタイプの記録ヘッドを用いてもよい。

【００５９】また、本発明の記録装置の構成として設け
られる、記録ヘッドに対しての回復手段、予備的な補助
手段等を付加することは本発明の効果を一層安定にでき
るので好ましいものである。これらを具体的に挙げれ
ば、記録ヘッドに対してのキャッピング手段、クリーニ
ング手段、加圧あるいは吸引手段、電気熱変換体あるい
はこれとは別の加熱素子あるいはこれらの組み合わせに
よる予備加熱手段、記録とは別の吐出を行う予備吐出モ
ードを行うことも安定した記録を行うために有効であ
る。

【００６０】以上説明した本発明実施例においては、イ
ンクを液体として説明しているが、室温やそれ以下で固
化するインクであっても、室温で軟化もしくは液化する
ものを用いても良く、使用記録信号付与時にインクが液
状をなすものであればよい。

【００６１】加えて、積極的に熱エネルギーによる昇温
をインクの固形状態から液体状態への状態変化のエネル
ギーとして使用せしめることで積極的に防止するため、
またはインクの蒸発を防止するため、放置状態で固化し
加熱によって液化するインクを用いても良い。いずれに
しても熱エネルギーの記録信号に応じた付与によってイ
ンクが液化し、液状インクが吐出されるものや、記録媒
体に到達する時点では既に固化し始めるもの等のよう
な、熱エネルギーの付与によって初めて液化する性質の
インクを使用する場合も本発明は適用可能である。この
ような場合インクは、特開昭５４−５６８４７号公報あ
るいは特開昭６０−７１２６０号公報に記載されるよう
な、多孔質シート凹部または貫通孔に液状または固形物
として保持された状態で、電気熱変換体に対して対向す
るような形態としてもよい。本発明においては、上述し
た各インクに対して最も有効なものは、上述した膜沸騰
方式を実行するものである。

【００６２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高価なフォトリソグラフィ工程を経ず、任意の場所にス
ペーサーを形成することができるため、他の構成部材に
影響を与えることなく安価にスペーサーを形成すること
ができる。また、非有効画素部にのみスペーサーを形成
することができるため、スペーサーの使用による表示へ
の影響が防止される。よって、本発明によれば、従来の
スペーサーを分散していた液晶素子に比べて表示品位に
優れた液晶素子を、塗工工程及びフォトリソグラフィ工
程を用いてスペーサーを形成していた液晶素子よりも安
価に提供することが可能となる。

【００６３】さらに、基板に対して下側からスペーサー
素材を基板の下側面に付与することにより、スペーサー
素材が下方に引かれ、スペーサーの必要高さが得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図２】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。

【符号の説明】

１透明基板２ブラックマトリクス３着色層４保護層５透明電極６配向膜８インクジェットヘッド９硬化性インク１０スペーサー１１対向基板１２画素電極１３配向膜１４液晶

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者広瀬雅史東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内Ｆターム(参考） 2H089 MA04X NA01 NA12 NA15 NA17 NA24 NA60 PA08 PA09 QA12 QA13 QA14 QA16 RA05 TA09 TA12 5C094 AA03 AA36 AA43 AA47 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA24 DA12 DA13 EB02 EC02 EC03 ED03 ED15 FA01 FA02 FB01 FB15 GB10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板をスペーサーを介して対向配
置し、該基板間に液晶化合物を挟持してなる液晶素子の
製造方法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板の表面を下向きにし
て、該表面の下側からスペーサー形成素材を前記表面に
吐出して付着させた後硬化させ、前記一対の基板の間隔
を規定するスペーサーを形成するスペーサー形成工程
と、前記一対の基板を、前記スペーサーを挟んで対向配置す
る配置工程と、前記対向配置された一対の基板間に液晶化合物を封入す
る封入工程とを具備することを特徴とする液晶素子の製
造方法。
【請求項２】前記スペーサー形成素材は、光照射及び
／又は加熱により硬化することを特徴とする請求項１に
記載の液晶素子の製造方法。
【請求項３】前記スペーサーが形成される基板が、透
明基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用いて構成
されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶素子
の製造方法。
【請求項４】前記スペーサーが形成される基板が、画
素毎にアクティブ素子を備えたアクティブマトリクス基
板であることを特徴とする請求項１に記載の液晶素子の
製造方法。
【請求項５】前記スペーサー形成素材をインクジェッ
ト方式により吐出して前記表面に付着させることを特徴
とする請求項１に記載の液晶素子の製造方法。
【請求項６】請求項１乃至５のいずれか１項に記載の
液晶素子の製造方法により製造されたことを特徴とする
液晶素子。
【請求項７】基板の表面を下向きにして、該表面の下
側からスペーサー形成素材を前記表面に吐出して付着さ
せた後硬化させることによりスペーサー付き基板を形成
することを特徴とするスペーサー付き基板の製造方法。
【請求項８】前記スペーサー形成素材は、光照射及び
／又は加熱により硬化することを特徴とする請求項７に
記載のスペーサー付き基板の製造方法。
【請求項９】前記スペーサーが形成される基板が、透
明基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用いて構成
されていることを特徴とする請求項７に記載のスペーサ
ー付き基板の製造方法。
【請求項１０】前記スペーサーが形成される基板が、
画素毎にアクティブ素子を備えたアクティブマトリクス
基板であることを特徴とする請求項７に記載のスペーサ
ー付き基板の製造方法。
【請求項１１】前記スペーサー形成素材をインクジェ
ット方式により吐出して前記表面に付着させることを特
徴とする請求項７に記載のスペーサー付き基板の製造方
法。
【請求項１２】請求項７乃至１１のいずれか１項に記
載のスペーサー付き基板の製造方法により製造されたこ
とを特徴とするスペーサー付き基板。