JP2001083294A - 化学除染方法 - Google Patents

化学除染方法

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JP2001083294A
JP2001083294A JP25753299A JP25753299A JP2001083294A JP 2001083294 A JP2001083294 A JP 2001083294A JP 25753299 A JP25753299 A JP 25753299A JP 25753299 A JP25753299 A JP 25753299A JP 2001083294 A JP2001083294 A JP 2001083294A
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resin tower
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chemical
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Fumito Nakamura
文人 中村
Motohiro Aizawa
元浩 会沢
Makoto Nagase
誠 長瀬
Seiji Furukawa
清治 古川
Hiroo Yoshikawa
博雄 吉川
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Hitachi Ltd
Kurita Water Industries Ltd
Kurita Engineering Co Ltd
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Hitachi Ltd
Kurita Water Industries Ltd
Kurita Engineering Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】化学除染終了時の目標DFや水質を安定して達
成する。 【解決手段】放射性核種に汚染された金属部材表面から
放射性核種を化学的に除去する化学除染法において、除
染液が有機酸を主成分とする還元除染剤を用いる還元除
染工程と、該工程終了後に行う還元除染剤の分解時に、
樹脂塔からの放射性金属イオンのリークを抑制すること
を特徴とする化学除染方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水冷却型原子力発
電プラントに係わり、特に、放射性核種に汚染された一
次冷却系の機器、配管、および、これらを含む系統の金
属部材表面から放射性核種を化学的に除去する化学除染
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の化学除染に関する技術としては、
特公平3−10919号公報に示されるように、酸化剤
として過マンガン酸を、還元除染剤として有機酸の一種
であるジカルボン酸を用いて、原子炉の金属製構造部品
を化学的に汚染除去する方法があり、ここで用いられた
有機酸の分解方法としては、特表平9−510784号
公報に鉄錯体と紫外線を用いて二酸化炭素と水に分解す
る方法が記載されている。
【0003】この方法によれば、鉄錯体が触媒として作
用し、酸化剤である過酸化水素と有機酸が反応して二酸
化炭素と水を生成することで、有機酸を除去するための
イオン交換樹脂が多量の二次廃棄物となることを防いで
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の化学除染技術を
原子炉の系統除染等に適用し、還元除染や還元除染剤の
分解を行う場合、除染液中の還元除染剤濃度やpH、金
属イオン濃度(Fe,Mn,Co等)の値によって、樹
脂塔への通水量や通水時間を制御する必要がある。
【0005】樹脂塔への通水量や通水時間を適切に制御
すれば、樹脂塔からの放射性金属イオンのリークは抑制
され、該金属イオンの再付着による系統内の配管表面線
量率や雰囲気線量率の上昇の恐れがない。
【0006】仮に、この制御が不十分な場合は、樹脂塔
から一旦吸着された放射性の金属イオンがリークし、系
統内に再循環され、配管等の内面に再付着して表面線量
率を上昇させるため、化学除染終了時の配管表面線量率
や雰囲気の線量率の低減効果が、目標(例えば、DF=
10〜30)を満足できなくなる。
【0007】従って、特公平3−10919号公報およ
び特表平9−510784号公報に記載の化学除染方法
を用いて、除染液中の還元除染剤濃度やpH、金属イオ
ン濃度(Fe,Mn,Co等)の値が変動した場合、樹
脂塔への通水量や通水時間を適切に制御しなければ、樹
脂塔から放射性金属イオンがリークすることになる。そ
の結果、化学除染終了時の目標DFや水質基準を満たせ
なくなってしまう。
【0008】本発明の目的は、還元除染工程や還元除染
剤分解工程において、除染液中の還元除染剤濃度やp
H、金属イオン濃度に基づいて、樹脂塔に通水する量や
時間を適切に制御することにより、樹脂塔からの放射性
金属イオンのリークを抑制し、化学除染終了時の目標D
Fや水質基準を安定して達成できる化学除染方法を提供
することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】〔1〕 放射性核種に汚
染された金属部材表面から放射性核種を化学的に除去す
る化学除染法において、有機酸を主成分とする還元除染
剤を用いる還元除染工程と、該工程終了後に行う還元除
染剤の分解時に、樹脂塔からの放射性金属イオンのリー
クを抑制することを特徴とする化学除染方法。
【0010】〔2〕 前記還元除染剤の有機酸がジカル
ボン酸、または、モノカルボン酸である前記の化学除染
方法。
【0011】〔3〕 還元除染剤としてヒドラジンを添
加成分とする前記の化学除染方法。
【0012】〔4〕 前記化学除染方法において、前記
除染液中の還元除染剤の濃度を用いて樹脂塔への通水量
を制御する前記の化学除染方法。
【0013】〔5〕 前記除染液中の還元除染剤の濃度
を用いて樹脂塔通水時間を制御する前記の化学除染方
法。
【0014】〔6〕 前記除染液中のpHを用いて樹脂
塔への通水量を制御する前記の化学除染方法 〔7〕 前記除染液中のpHを用いて樹脂塔通水時間を
制御する前記の化学除染方法。
【0015】〔8〕 前記除染液中の金属イオン(F
e,Mn,Co)濃度を用いて樹脂塔への通水量を制御
する前記の化学除染方法。
【0016】
〔9〕 前記除染液中の金属イオン(F
e,Mn,Co)濃度を用いて樹脂塔通水時間を制御す
る前記の化学除染方法。
【0017】
【発明の実施の形態】樹脂塔からの不純物のリークは、
入口の樹脂から不純物の吸着が進み、出口の樹脂層まで
吸着帯が移動することにより起こる。一般的に吸着帯
は、単に不純物が樹脂層入口側から順番に飽和吸着量に
達し、吸着帯の先端が出口側に移動する。
【0018】この場合は、不純物の量によりリーク時間
がきまる。ブレークまでに吸着可能なイオン交換容量を
貫流イオン交換容量と言う。一方、化学除染のように共
存する薬品濃度が高い場合は、共存薬品濃度によっても
吸着帯の移動速度が変化し、単に、貫流イオン交換容量
と吸着成分の濃度から求めた通水可能時間と一致しない
ことが本発明者らの検討により分かった。
【0019】化学除染液にヒドラジン(N24)を添加
した場合は、ヒドラジンは除染液中でカチオン(N25
(+))として挙動し、Fe等の吸着成分と競争してカチ
オン樹脂に吸着する。しかし、カチオン樹脂へのFe等
の吸着性は、ヒドラジンに比べ大きいため、優先してF
e等の不純物がカチオン樹脂に吸着する。
【0020】しかし、浄化が進みFe等の不純物濃度が
低下した後においても、ヒドラジンを含む除染液をカチ
オン樹脂に通水し続けると、一度吸着したFe等の不純
物成分のごく一部がヒドラジンと置き換わり、下層の樹
脂層に移動する結果、不純物のブレークが生ずると考え
られる。
【0021】さらに、上述した吸着帯の移動はシュウ酸
等のアニオン成分の除染液濃度によっても変化すること
が確認できた。
【0022】アニオン成分除染液の濃度の増加は、一般
的に除染液中の水素イオン濃度H(+)の増加をもたす。
水素イオン濃度のカチオン樹脂への選択性は、Fe等の
不純物に比べ小さく短時間の浄化には影響ないが、高濃
度の除染剤を長時間使用する場合は、カチオン樹脂中の
吸着帯の移動時間に影響する。
【0023】これらの現象を含めて、樹脂塔の通水時間
管理方法を見出した。具体的な管理方法の一例を図3に
示す。
【0024】図3は、横軸は樹脂塔への通水時間t、縦
軸は指標濃度とし、樹脂塔から放射性金属イオンがリー
クするときの境界を示したグラフである。図中の境界線
の左側の領域が、放射性金属イオンがリークしない範囲
で、右側の領域がリークする範囲である。境界線は下式
で表される。
【0025】
【数1】
【0026】但し、Kはカチオン樹脂負荷定数、tはカ
チオン樹脂への通水時間、Qはカチオン樹脂への通水
量、Vcはカチオン樹脂量である。
【0027】また、CR=K1〔M〕+K2〔R〕+K3
〔H(+)〕で表され、Mは金属イオン濃度、Rは還元除
染剤濃度、H(+)は水素イオン濃度、K1〜K3はイオン
負荷定数である。
【0028】例えば、本発明者らが行った実験データか
らは、カチオン樹脂負荷定数Kは、約3×104が得ら
れた。また、イオン負荷定数K1、K2、K3は、それぞ
れ1、0.08、0.03が得られた。
【0029】例えば、化学除染作業前に、化学除染対象
範囲の溶解金属イオン濃度〔M〕を推定し、還元除染剤
濃度〔R〕およびpH〔H(+)〕、カチオン樹脂量〔V
c〕、カチオン樹脂通水量〔Q〕を決めてやれば指標濃
度CRcが計算で求まり、カチオン樹脂塔への通水時間
tcが求まる。
【0030】実際の設計ではこの計算数値に余裕を見込
んで、通水時間やカチオン樹脂量を設定する。また、実
際の運用では、還元除染工程や還元除染剤の分解工程中
にカチオン樹脂塔出入口での還元除染剤濃度〔R〕、p
H〔H(+)〕、金属イオン濃度〔M〕等の測定値から指
標濃度CRrを算出し、最終的な通水時間trを求め、還
元除染工程や還元除染剤の分解工程のトータルの通水時
間が通水時間trを超えないように管理する。
【0031】上記のように、樹脂塔への通水量を除染液
中の還元除染剤濃度やpH、金属イオン濃度に基づいて
適切に制御することにより、樹脂塔からリークしてくる
放射性金属イオンの量を抑制することができ、化学除染
終了時の目標DFや水質基準を安定して達成することが
できる。
【0032】本発明の実施例を図1により説明する。図
1は原子炉の系統化学除染を実施する場合の系統の一例
を示す構成図である。
【0033】除染対象となるのは、原子炉1と原子炉再
循環ポンプ3を含む原子炉再循環ライン2である。
【0034】除染を実施するための仮設機器としては、
制御棒案内管4につないだ循環ライン7、循環ポンプ
5、ヒーター6、浄化系ポンプ8、浄化ライン9、カチ
オン樹脂塔10、混床樹脂塔11、冷却器12、樹脂塔
バイパス弁13、カチオン樹脂塔入口弁14、カチオン
樹脂塔出口弁15、混床樹脂塔入口弁16、混床樹脂塔
出口弁17、還元剤分解装置18、還元剤分解装置バイ
パス弁19、還元剤分解装置入口弁20、還元剤分解装
置出口弁21、回収装置22、回収装置バイパス弁2
3、回収装置入口弁24、回収装置出口弁25、フィル
タ26、フィルタバイパス弁27、フィルタ入口弁2
8、フィルタ出口弁29、除染剤タンク30、除染剤注
入ポンプ31、過酸化水素タンク32、過酸化水素注入
ポンプ33、タンクベント装置34を用いる。
【0035】除染剤としては、シュウ酸0.2%にヒド
ラジンを添加してpHを調整した還元剤と、過マンガン
酸カリウム0.05%の酸化剤を用いる。
【0036】除染工程としては、図2に示すように原子
炉再循環ポンプ3を起動してから循環ポンプ5とヒータ
ー6を用いて昇温し、所定の温度(90±5℃)に到達
した段階で、まず酸化除染を行い、その後、酸化剤分解
を行う。
【0037】次いで、還元剤であるシュウ酸およびpH
調整剤であるヒドラジンを除染剤タンク30から、除染
剤注入ポンプ31を用いて原子炉1に注入する。
【0038】シュウ酸濃度が所定の濃度(0.2%)に
到達した時点で、除染剤注入ポンプ31を停止してシュ
ウ酸の注入を終了し、還元除染を行う。
【0039】還元除染中は、溶解してきた金属イオンや
放射性イオンを除去するために浄化ポンプ8を起動し、
弁13,16,17,20,21,24,25,28,
29を閉じて弁14,15,19,23,27を開き、
除染液の一部をカチオン樹脂塔10に通水する。このカ
チオン樹脂塔への通水量および通水時間を、除染液中の
還元除染剤濃度,pH,金属イオン濃度により、樹脂塔
入口流量計38や時計を見ながら制御する。
【0040】還元除染工程(4時間から15時間程度)
が終了した後の除染剤の分解を行う段階で、弁20,2
1,24,25,28,29を開き、弁19,23,2
7を閉じて還元剤分解装置18や回収装置22、フィル
タ26に除染液を導くように流れを変える。
【0041】この際、シュウ酸およびヒドラジンを分解
するために、過酸化水素タンク32から、過酸化水素を
注入ポンプ33を用いて還元剤分解装置18の上流側に
注入する。この時の過酸化水素注入量は、除染液中の不
純物濃度および還元剤分解装置18の出口のpHにリン
クさせて調整する。除染液中の不純物濃度は、還元剤分
解装置18の入口側にあるサンプリング点36で行う。
また、pHは、還元剤分解装置18の出口側のpH計3
7で測定を行う。
【0042】還元剤分解装置18としては、触媒分解装
置や紫外線照射装置等を適用することができる。還元剤
分解装置18で発生する分解ガスは回収装置22で分離
され、ガス抜きライン35を通して、タンクベント装置
34に導かれ、最終的には排気系に放出する。
【0043】第2サイクルの還元工程が終了した後は、
第1サイクルの還元剤分解工程と同じ手順で還元剤を分
解し、分解終了後は混床樹脂を用いて最終浄化を行う。
【0044】図2では2サイクルを想定した工程となっ
ているが、より高い除染効果を望む場合は3サイクル以
上とすればよい。3サイクル以上の場合には酸化工程、
酸化剤分解工程、還元工程、還元剤分解工程、浄化工程
を1つのサイクルとして第1、第2サイクルの間に挿入
した工程とすればよい。
【0045】
【発明の効果】本発明の還元除染工程や還元除染剤分解
工程で、除染液中の還元除染剤濃度やpH、金属イオン
濃度に基づき樹脂塔に通水する量や時間を適切に制御
し、樹脂塔からの放射性金属イオンのリークを抑制でき
る。これにより化学除染終了時の目標DFや水質基準を
安定して達成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】系統化学除染を実施する場合の系統を示す構成
図である。
【図2】除染工程の一例を示す工程図である。
【図3】樹脂塔への通水時間と指標濃度に基づき樹脂塔
から放射性金属イオンがリークする場合の境界を表すグ
ラフである。
【符号の説明】
1…原子炉、2…原子炉再循環ライン、3…原子炉再循
環ポンプ、4…制御棒案内管、5…循環ポンプ、6…ヒ
ーター、7…循環ライン、8…浄化系ポンプ、9…浄化
ライン、10…カチオン樹脂塔、11…混床樹脂塔、1
2…冷却器、13…樹脂塔バイパス弁、14…カチオン
樹脂塔入口弁、15…カチオン樹脂塔出口弁、16…混
床樹脂塔入口弁、17…混床樹脂塔出口弁、18…還元
剤分解装置、19…還元剤分解装置バイパス弁、20…
還元剤分解装置入口弁、21…還元剤分解装置出口弁、
22…回収装置、23…回収装置バイパス弁、24…回
収装置入口弁、25…回収装置出口弁、26…フィル
タ、27…フィルタバイパス弁、28…フィルタ入口
弁、29…フィルタ出口弁、30…除染剤タンク、31
…除染剤注入ポンプ、32…過酸化水素タンク、33…
過酸化水素注入ポンプ、34…タンクベント装置、35
…ガス抜きライン、36…還元剤分解装置入口サンプリ
ング点、37…還元剤分解装置出口pH計、38…樹脂
塔入口流量計。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 文人 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所原子力事業部内 (72)発明者 会沢 元浩 茨城県日立市幸町三丁目2番1号 日立エ ンジニアリング株式会社内 (72)発明者 長瀬 誠 茨城県日立市大みか町七丁目2番1号 株 式会社日立製作所電力・電機開発研究所内 (72)発明者 古川 清治 神奈川県厚木市森の里若宮7−1 栗田工 業株式会社内 (72)発明者 吉川 博雄 大阪府大阪市中央区北浜二丁目2番22号 栗田エンジニアリング株式会社内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放射性核種に汚染された金属部材表面か
    ら放射性核種を化学的に除去する化学除染法において、
    除染液が有機酸を主成分とする還元除染剤を用いる還元
    除染工程と、該工程終了後に行う還元除染剤の分解時
    に、樹脂塔からの放射性金属イオンのリークを抑制する
    ことを特徴とする化学除染方法。
  2. 【請求項2】 前記還元除染剤の有機酸がジカルボン
    酸、または、モノカルボン酸である請求項1に記載の化
    学除染方法。
  3. 【請求項3】 前記還元除染剤としてヒドラジンを添加
    成分とする請求項1または2に記載の化学除染方法。
  4. 【請求項4】 前記除染液中の還元除染剤の濃度を用い
    て樹脂塔への通水量を制御する請求項1,2または3に
    記載の化学除染方法。
  5. 【請求項5】 前記除染液中の還元除染剤の濃度を用い
    て樹脂塔通水時間を制御する請求項1〜4のいずれかに
    記載の化学除染方法。
  6. 【請求項6】 前記除染液中のpHを用いて樹脂塔への
    通水量を制御する請求項1〜5のいずれかに記載の化学
    除染方法。
  7. 【請求項7】 前記除染液中のpHを用いて樹脂塔通水
    時間を制御する請求項1〜6のいずれかに記載の化学除
    染方法。
  8. 【請求項8】 前記除染液中の金属イオン(Fe,M
    n,Co)濃度を用いて樹脂塔への通水量を制御する請
    求項1〜7のいずれかに記載の化学除染方法。
  9. 【請求項9】 前記除染液中の金属イオン(Fe,M
    n,Co)濃度を用いて樹脂塔通水時間を制御する請求
    項1〜8のいずれかに記載の化学除染方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7365713B2 (en) 2001-10-24 2008-04-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method thereof

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