JP2001074811A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2001074811A
JP2001074811A JP24957299A JP24957299A JP2001074811A JP 2001074811 A JP2001074811 A JP 2001074811A JP 24957299 A JP24957299 A JP 24957299A JP 24957299 A JP24957299 A JP 24957299A JP 2001074811 A JP2001074811 A JP 2001074811A
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test
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path
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JP24957299A
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Toyohito Iketani
豊人 池谷
Masatoshi Kawashima
正敏 川島
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体集積回路に搭載された回路モジュール
間のテストパスを接続及び分離する回路構成の点におい
てセルフテスト用回路の規模を縮小する。 【解決手段】 セルフテスト回路が夫々に組み込まれた
複数個の回路モジュール(2,3,4)間にテストパス
(7,8)を設ける。テストパスの上流にパターン圧縮
回路(32,42)を配置し、テストパスの下流にパタ
ーン発生回路(31,21)を配置し、少なくともその
何れか一方は、テストパスを介する信号伝達を選択的に
阻止するゲート手段を有する。テストパスの接続及び分
離が可能であるから、回路モジュール単独のセルフテス
トを保証でき、且つ回路モジュール相互の関係を考慮し
てセルフテストを行なう事ができ、しかも、前記接続及
び分離のためだけにスキャンパスレジスタを追加しなく
てもよいから、セルフテスト用回路の規模を縮小でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、BIST(ビルト
・イン・セルフ・テスト)回路を内蔵した半導体集積回
路、特に、回路モジュール単位でのセルフテストを保証
した半導体集積回路に関し、例えばIPモジュールと称
される設計データを用いて設計される半導体集積回路に
適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路のテスト容易化技術とし
て、テスト動作時にスキャンクロックに同期してスキャ
ンパスにスキャンデータを伝達させながらテスト動作さ
せ、その結果をスキャンアウトする構成が広く採用され
ている。
【0003】特開平3−42850号公報には、半導体
集積回路の外部からテストモードを指定すると、内部で
自動的にスキャンデータを発生し、スキャンパスを通し
てバーン・イン・テストを可能にした発明が記載されて
いる。また、特開平6−201780号公報には、スキ
ャンチェーンの入力にテストパターン発生器を配置し、
スキャンチェーンの出力にテスト出力圧縮器を配置し
て、テスト時間の短縮を企図した発明が記載されてい
る。特開平5−264664号公報にはTAPコントロ
ーラを用いたバウンダリスキャンに関し、TAPコント
ローラで生成した命令のデコード結果にしたがってテス
ト対象レジスタだけにクロックを供給して低消費電力を
図るという技術が記載されている。
【0004】特開平5−264664号公報には、テス
トイネーブル信号及びテストクロック信号を、夫々セル
フテスト回路を組み込んだ複数の半導体集積回路に並列
に供給し、セルフテスト機構を同時に動作させて故障診
断を行なうことにより、テスト時間を短縮した発明に関
する記載がある。特開平8−220192号公報には、
夫々アドレス付けされたスキャン可能なフリップフロッ
プのチェーンを有する複数個の被試験LSIと共に検査
制御LSIが1つの回路基板に実装され、検査制御LS
Iは疑似乱数発生器と符号圧縮器を有し、スキャン・イ
ン時にフリップフロップに疑似乱数を書き込み、スキャ
ン・アウト時にフリップフロップのデータを符号圧縮器
に供給し、故障診断の容易化及び高速化を図ろうとする
発明に関する記載がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】半導体集積回路の設計
に際して、その中に設けられるべき演算機能や信号制御
機能等の機能上のまとまりは、モジュールと呼ばれる。
このモジュールには、その部分のレイアウトの設計が完
了し、そのレイアウトを形成するための複数のマスクパ
ターンを表すところのデータを部品としてチップ設計者
に提供するハードモジュールというものがある。最近で
は、そのようなハードモジュールをハードIP(Intell
ectual Property:知的所有権)モジュールとも称す
る。このようなハードモジュールをチップ設計者に提供
する際には、そのハードモジュールを表すデータとし
て、HDL(Hardware Description Language)等のコン
ピュータ言語で、そのモジュールの回路機能を記述した
データと共に、その回路のレイアウトを表すところのマ
スクパターンのデータ(例えば、マスクパターンを形成
するための描画データ)等が提供される。この様なハー
ドモジュールに対して、ソフトモジュールと呼ばれるも
のがある。ソフトモジュールでは、そのモジュールを構
成する回路の機能がHDL等の記述によって特定され、
その記述が部品としてチップ設計者に提供される。この
ようなソフトモジュールは、ハードIPモジュールに対
してソフトIPモジュールとも称される。上述のハード
IPモジュールやソフトIPモジュールなどの回路モジ
ュールの回路規模は、SRAM(Static Random Access
Memory:スタティック・ランダム・アクセス・メモ
リ)、DRAM(Dynamic Random Access Memory:ダイ
ナミック・ランダム・アクセス・メモリ)、CPU(Ce
ntral Processing Unit:中央処理装置)、DSP(Dig
ital Signal Processor:ディジタル・シグナル・プロ
セッサ)等の機能単位に及ぶこともある。
【0006】半導体集積回路に対するテスト容易化を考
慮すれば、前記IPモジュールにも予めBIST回路を
組み込んでおくことが得策である。本発明者の検討によ
れば、IPモジュールに基づいて実現される回路モジュ
ールはその他のIPモジュールによる回路やユーザ設計
による論理ブロックに接続されて、1つの半導体集積回
路を構成する場合もあるから、IPモジュールとして提
供された回路モジュール単独でのセルフテストは勿論の
こと、他のIPモジュールや論理ブロックとの関係を考
慮したセルフテストも行なえるようにすることが必要で
ある。そのためには、複数個の回路モジュールをテスト
パスで接続しておけばよいが、その場合にも、回路モジ
ュール単位でのセルフテストを保証できるように、当該
テストパスを選択的に分離可能にしておかなければなら
ない。そのような分離の為に、回路モジュール間のテス
トパスの両端にスキャンパスレジスタを構成するスキャ
ンラッチを接続する。前記スキャンパスレジスタは、直
列方向へデータを移動させるシフトレジスタ動作が可能
にされ、また、スキャンパスレジスタにデータを並列的
にラッチする並列ラッチ動作が可能にされる。シフトレ
ジスタ動作が選択されているとき、モジュール間での並
列ラッチ動作は行なわれず、モジュール毎のセルフテス
トが可能になる。並列ラッチ動作が選択されているとき
は、テストパスに接続された上流側のスキャンパスレジ
スタの並列出力は、当該テストパスを介してその下流側
の回路モジュールのスキャンパスレジスタに並列的にラ
ッチされる。
【0007】しかしながら、回路モジュール間のテスト
パスの接続及び分離の為にもスキャンパスレジスタを採
用すると、セルフテストの為だけに半導体集積回路に搭
載すべきスキャンパスレジスタ構成用のフリップフロッ
プ(スキャンラッチ)の数が増え、テスト回路の論理的
・物理的規模を増大させることが本発明者によって見出
された。
【0008】また、一の回路モジュールのテストの途中
結果を順次圧縮して最終結果を得るとき、その最終結果
を前記テストパスを介して他の回路モジュールに渡すよ
うな場合、圧縮回路で圧縮された結果を更にテストパス
に接続されたスキャンパスレジスタにロードしなければ
ならない。このようなロード処理によってテスト効率が
低下する虞のあることが本発明者によって見出された。
【0009】本発明の目的は、半導体集積回路に搭載さ
れた複数個の回路モジュール間のテストパスを接続及び
分離するための回路構成の点において、前記回路モジュ
ールのセルフテスト用回路の規模を縮小することができ
る半導体集積回路を提供することにある。
【0010】本発明の別の目的は、搭載された複数個の
回路モジュールに対するセルフテストの能率化とテスト
回路の規模の縮小とを実現することができる半導体集積
回路を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
【0012】すなわち、セルフテスト回路が夫々に組み
込まれた複数個の回路モジュールを有する半導体集積回
路において、複数個の回路モジュールの相互関係を考慮
したセルフテストの為に前記回路モジュール間にテスト
パスを設け、また、複数個の回路モジュールに対する並
列的な単独セルフテストを保証するために前記回路モジ
ュール間のテストパスを接続及び分離可能とするのに、
テストパスの上流にパターン圧縮回路を配置し、テスト
パスの下流にパターン発生回路を配置する。前記パター
ン発生回路は、複数のスキャンパスレジスタのシリアル
入力端子に出力端子が結合され並列的にテストパターン
を出力可能にされる。前記パターン圧縮回路は前記複数
のスキャンパスレジスタのシリアル出力を順次入力して
圧縮して行く。前記テストパスを共有する一の回路モジ
ュールは当該テストパスに接続されたパターン圧縮回路
を有し、前記テストパスを共有する他の回路モジュール
は当該テストパスに接続されたパターン発生回路を有す
る。前記テストパスに接続された前記パターン圧縮回路
又はパターン発生回路は、テストパスを介する信号伝達
を選択的に阻止するゲート手段を有する。
【0013】上記した手段によれば、前記パターン圧縮
回路及びパターン発生回路によってテストパスの接続及
び分離を行なうから、回路モジュール単独のセルフテス
トを保証でき、且つ回路モジュール相互の関係を考慮し
てセルフテストを行なう事ができる。しかも、前記接続
及び分離のためだけにスキャンパスレジスタを追加しな
くてもよいから、セルフテスト機能を有する半導体集積
回路の論理的及び物理的な回路規模の縮小に寄与する。
【0014】また、上記した手段によれば、テストパス
を介する信号受け渡しのために従来必要とされるところ
の、テストパスのスキャンパスレジスタに信号をロード
するような前処理を要しないので、その分、複数の回路
モジュール相互の関係を考慮したセルフテストを能率化
することが可能になる。
【0015】前記ゲート手段は、例えば前記パターン発
生回路に含まれるセレクタで構成することができ、前記
セレクタは、前記テストパスを介して別の回路モジュー
ルから伝達されてくる情報又は前記パターン発生回路で
生成されるテストパターンを選択する回路である。
【0016】また、前記ゲート手段は、例えば前記パタ
ーン圧縮回路のトライステートバッファで構成すること
ができ、前記トライステートバッファは前記テストパス
に出力端子が結合される。
【0017】前記トライステートバッファを有する前記
パターン圧縮回路は、入力セレクタで選択された情報を
用いてパターン圧縮を行ない、前記入力セレクタは、そ
の入力端子が前記スキャンパスレジスタに接続される入
力端子と前記トライステートバッファの出力端子とに結
合され、何れか一方の入力を選択可能に構成される。前
記トライステートバッファの高出力インピーダンス状態
によって、パターン圧縮回路からテストパスを経由する
パターン発生回路への情報伝達が阻止される。この状態
で、前記入力セレクタが前記トライステート出力回路の
出力端子を選択すれば、パターン発生回路からテストパ
スを経由するパターン圧縮回路への情報伝達が可能にさ
れる。
【0018】前記パターン圧縮回路は例えば順次圧縮し
たデータを累積するためのラッチを有し、また、パター
ン発生回路は発生したテストパターンを一時的に保持す
るラッチを有する。そのようなラッチにスキャンパスレ
ジスタ機能を与えれば、任意の圧縮データやテストパタ
ーンの初期値を容易にロードする事が可能である。
【0019】
【発明の実施の形態】図2には本発明に係る半導体集積
回路の一例が示される。同図に示される半導体集積回路
1は、特に制限されないが、単結晶シリコンのような半
導体基板(半導体半導体チップ)に、回路モジュールと
して、マイクロプロセッサモジュール2、アクセラレー
タモジュール3及びシンクロナスDRAMモジュール4
が搭載されてる構成される。例えば、シンクロナスDR
AMモジュール4はワーク領域又はフレームバッファメ
モリとして利用される。前記アクセラレータモジュール
3は、動画像に対する動き補償、フレームバッファメモ
リに対する描画制御、そしてフレームバッファメモリの
画像データに対する表示制御を、マイクロプロセッサモ
ジュール2の代わりに実行する。
【0020】前記回路モジュール2,3,4は、特に制
限されないが、夫々IPモジュールとして提供された設
計部品データに基づいて形成されている。このとき、個
々の回路モジュール2,3,4のIPモジュールデータ
にはBIST回路の設計データも含まれている。従っ
て、半導体集積回路1のデバイステストでは個々の回路
モジュール2,3,4をそれぞれのBIST回路を用い
て単独にセルフテストすることができる。
【0021】図3には代表としてアクセラレータモジュ
ール3のBIST回路が例示されている。同図におい
て、30で示される領域はアクセラレータモジュール3
によるデータ処理機能を実現する回路部分である。例え
ば、領域30には、図示を省略するが、動き補償、描画
制御、及び画像表示制御を行なう為のハードワイヤード
ロジック若しくはプログラム制御ロジック回路が実現さ
れている。BIST回路として、パターン発生回路(L
FSR)31、パターン圧縮回路(MISR)32、及
びモジュール内診断制御回路33、そして、前記領域3
0に形成されたスキャンパスレジスタ34、テスト出力
ゲート35及びテスト入力ゲート36が設けられてい
る。
【0022】前記スキャンパスレジスタ34はそれぞれ
複数個のスキャンラッチLTCを有している。前記スキ
ャンラッチLTCは、特に制限されないが、図4に例示
されるように、直列接続されたマスタ記憶段MMとスレ
ーブ記憶段SMとを有し、マスタ記憶段MMは2個のデ
ータ入力端子DI,SIを有し、スレーブ記憶段SMは
2個のデータ出力端子DO,SOを有する。マスタ記憶
段MMとスレーブ記憶段SMとはテストクロック(スキ
ャンパスクロック)信号CKTのエッジ変化に同期して
ラッチ動作を行なう。マスタ記憶段MMがラッチするデ
ータは前記端子DI又はSIから入力され、入力端子の
選択は制御信号CNTiのレベルに従って行われる。ま
た、スレーブ記憶段SMがラッチしたデータは前記端子
DO又はSOから出力され、出力端子の選択は制御信号
CNToのレベルに従って行われる。
【0023】前記端子SI,SOはスキャンパスレジス
タ34のシフトレジスタ動作におけるシリアル入出力に
利用される端子である。図3においてスキャンパスレジ
スタ34の初段スキャンラッチLTCのシリアル入力端
子SIにはパターン発生回路31から信号が供給され、
スキャンパスレジスタ34の終段スキャンラッチLTC
のシリアル出力端子SIはパターン圧縮回路31に信号
を出力する。
【0024】前記端子DI,DOは、前記領域30に形
成された本来のアクセラレータ機能を実現する回路(実
回路)とのテスト用インタフェース端子であり、前記実
回路の所定のノードに夫々結合されている。また、前記
テスト入力ゲート36の出力端子、前記テスト出力ゲー
ト35の入力端子も、セルフテストに必要な情報を実回
路に供給し、また実回路からサンプリングする為に、前
記実回路の所定のノードに夫々結合されている。
【0025】図1には半導体集積回路1の全体をBIS
T回路を中心に示してある。前記マイクロプロセッサモ
ジュール2もマイクロプロセッサ機能を実現するための
回路領域と共にBIST回路を有し、BIST回路とし
て前記同様のパターン発生回路(LFSR)21、パタ
ーン圧縮回路(MISR)22、及びモジュール内診断
制御回路23、そして、前記領域20に形成されたスキ
ャンパスレジスタ24等を有している。前記シンクロナ
スDRAMモジュール4も同様であり、シンクロナスD
RAM機能を実現するための回路領域40と共にBIS
T回路を有し、BIST回路として前記同様のパターン
発生回路(LFSR)41、パターン圧縮回路(MIS
R)42、モジュール内診断制御回路43、及びスキャ
ンパスレジスタ44等を備えている。 前記各回路モジ
ュール2,3,4の夫々のBIST回路は制御回路5に
よって制御される。
【0026】前記回路モジュール2,3,4は夫々BI
ST回路を有し、個々にセルフテストを行なう事が可能
であるが、複数個の回路モジュール2,3,4の相互関
係を考慮したセルフテストのために、回路モジュール2
と3の間にはテストパス7が設けられ、回路モジュール
3と4の間にはテストパス8が設けられている。このテ
ストパス7,8を設けても、複数個の回路モジュール
2,3,4に対する並列的な単独セルフテストを保証す
る必要がある。そのため、前記回路モジュール間のテス
トパス7,8を接続及び分離可能とするのに、テストパ
ス7の上流にパターン圧縮回路32を配置し、テストパ
ス7の下流にパターン発生回路21を配置してある。同
様に、テストパス8の上流にパターン圧縮回路42を配
置し、テストパス8の下流にパターン発生回路31を配
置してある。
【0027】図5には前記パターン発生回路21の一例
が示されている。パターン発生回路21は夫々複数ビッ
トのパラレル入力端子(第1のパラレル入力端子)Li
とパラレル出力端子(第1のパラレル出力端子)Loを
有する。パラレル入力端子Liはテストパス8に接続さ
れ、パラレルパラレル出力端子Loは複数のスキャンパ
スレジスタ24の初段スキャンラッチなどに結合され
る。
【0028】前記パターン発生回路21は、特に制限さ
れないが、パラレル出力端子Loのか各ビットに対応し
て2入力セレクタ(SEL)210が設けられ、セレク
タ210の一方の入力はパラレル入力端子Liの対応端
子に、セレクタ210の他方の入力はDラッチ211の
データ出力端子Qに接続されている。セレクタ210
は、テスト選択信号TESTがイネーブルレベル(例え
ばハイレベル又は論理値“1”)にされるとDラッチ2
11の出力を選択し、テスト選択信号TESTがディス
エーブルレベル(例えばローレベル又は論理値“0”)
にされるとパラレル入力端子Liからの入力信号を選択
する。前者の状態がテストパス8の接続状態を達成し、
後者の状態がテストパス8の分離状態を達成する。
【0029】前記Dラッチ211は、前段のデータ出力
端子Qが後段のデータ入力端子Dに縦続接続され、初段
Dラッチ211のデータ入力端子Dには排他的論理和回
路(EOR)212の出力が接続され、当該排他的論理
和回路212には最終段とその前段の2段のDラッチ2
11のデータ出力を入力とする。上記Dラッチ211の
縦続接続経路、排他的論理和回路212を含む帰還経路
は、ランダムパターン生成の為の演算手段を実現してい
る。図5の例では、ランダムパターンを発生する場合、
最初、リセット信号RSTによって全てのDラッチ21
1のラッチ状態が初期化される。但し、初期化されるビ
ットは、少なくとも1ビットは論理値“1”に固定され
なければならない。
【0030】図6には前記パターン圧縮回路32の一例
が示されている。パターン圧縮回路32は夫々複数ビッ
トのパラレル入力端子(第2のパラレル入力端子)Mi
とパラレル出力端子(第2のパラレル出力端子)Moを
有する。前記パラレル入力端子Miは複数のスキャンパ
スレジスタ34の終段スキャンラッチなどに結合され、
パラレル出力端子Moはテストパス8に接続される。前
記パターン圧縮回路32の内部において前記パラレル入
力端子Miとパラレル出力端子Moは対応ビット毎にス
ルーで接続されている。
【0031】特に制限されないが、前記パターン圧縮回
路32は、パラレル入力端子Miの各ビットに対応して
Dラッチ320を有する。前段のDラッチ320のデー
タ出力端子Qの値は排他的論理和回路321によってパ
ラレル入力端子Miの対応ビットの値と排他的論理和が
採られ、その排他的論理和の結果データが次段Dラッチ
320のデータ入力端子Dに供給される。再終段のDラ
ッチから初段Dラッチの間には別の排他的論理和回路3
22,323が配置されている。排他的論理和回路32
2は、最終段とその前段の2段のDラッチ320のデー
タ出力端子Dの値を入力し、排他的論理和回路323は
排他的論理和回路322の出力とパラレル入力端子Mi
の初段ビットとの排他的論理和を初段Dラッチ320に
与える。上記Dラッチ320を縦続接続する排他的論理
和回路321を含む経路、排他的論理和回路322,3
23を含む帰還経路は、パターン圧縮の為の演算手段を
実現している。この演算手段を介して複数個のDラッチ
320に蓄積されて圧縮されたテスト結果データは制御
回路5に供給することができるようになっている。
【0032】前記テストパス8の両端に前記図5のパタ
ーン発生回路21と図6のパターン圧縮回路32とが配
置されているとき、回路モジュール2,3単独のセルフ
テストでは、セレクタ210がDラッチ211の出力を
選択する状態にされる。これによってテストパス8は実
質的に分断され、回路モジュール2、3は夫々独立した
セルフテストが可能にされる。回路モジュール2と3の
間で情報伝達を行なってセルフテストを行なう場合には
セレクタ210に端子Liの情報を選択させればよい。
【0033】図7には前記パターン発生回路21の別の
例が示される。同図に示されるパターン発生回路21は
図5のDラッチ211に代えて図4のスキャンラッチL
TCと同じ回路構成のスキャンラッチ213を採用し、
シリアル入力端子SIとシリアル出力端子SOを縦続接
続して、スキャンパスレジスタとして利用できるように
なっている。215で示されるものは図4で説明した制
御信号CNTi,CNToに相当するテスト制御信号で
ある。これにより、スキャンラッチ213には、制御回
路5からテストパターンの初期値等をプリセットするこ
とが可能になる。
【0034】図8には前記パターン圧縮回路32の別の
例が示される。同図に示されるパターン圧縮回路32は
図6のDラッチ320に代えて図4のスキャンラッチL
TCと同じ回路構成のスキャンラッチ324を採用し、
そのシリアル入力端子SIとシリアル出力端子SOを縦
続接続して、スキャンパスレジスタとして利用できるよ
うになっている。325で示されるものは図4で説明し
た制御信号CNTi,CNToに相当するテスト制御信
号である。これにより、スキャンラッチ324には、制
御回路5から初期値パターンをプリセットすることが可
能になる。
【0035】前記テストパス8の両端に前記図7のパタ
ーン発生回路21と図8のパターン圧縮回路32とを配
置している場合、回路モジュール2,3単独のセルフテ
ストでは、セレクタ210がスキャンラッチ213の端
子DOの出力を選択する状態にされる。これによってテ
ストパス8は実質的に分断され、回路モジュール2、3
は夫々独立したセルフテストが可能にされる。回路モジ
ュール2と3の間で情報伝達を行なってセルフテストを
行なう場合にはセレクタ210に端子Liの情報を選択
させればよい。
【0036】図9にはパターン圧縮回路32とパターン
発生回路21の更に別の例が各1ビットで例示されてい
る。図9に例示されるパターン発生回路21は、図5に
比べてセレクタ210が廃止され、これに代えてトライ
ステート出力ゲート216を設け、トライステート出力
ゲート216の出力端子を対応する前記端子Li,Lo
に共通接続して構成される。この構成においてパターン
発生回路21はテストパス8の接続分離を行なう機能を
備えていない。
【0037】図9に例示されるパターン圧縮回路32
は、図6の構成に対して排他的論理和回路321,32
3の前にセレクタ328を追加し、Dラッチ320の後
段にトライステート出力ゲート326を追加し、端子M
iとMoとをトライステートバッファ327で接続・分
離可能にしたものである。前記セレクタ328は入力端
子Miからの値又はトライステートバッファ327の出
力を制御信号329に従って選択する。前記トライステ
ート出力ゲート326は圧縮されたテスト結果を制御回
路5に与える。テストパス8の接続・分離はトライステ
ートバッファ327が行なう。
【0038】図9において、回路モジュール単独のセル
フテストでは、トライステートバッファ327は高イン
ピーダンス状態にされ、セレクタ328は端子Miから
の入力を選択しており、これによってテストパス8を介
する信号伝達経路は実質的に分離状態にされている。こ
のとき、回路モジュール2はで示される信号経路でテ
ストパターンを回路モジュール2の流し、回路モジュー
ル3はで示される経路から供給されるテスト結果デー
タを圧縮する。
【0039】図9において、回路モジュール2と3の間
で情報伝達を行なってセルフテストを行なう場合、トラ
イステートバッファ327を高インピーダンス状態と
し、セレクタ328に端子Moからの入力を選択させ、
これによって、で示されるように回路モジュール2か
ら出力される情報をテストパス8を介して回路モジュー
ル3が受け取ってテストに供することができる。或い
は、トライステートバッファ327を出力動作可能と
し、回路モジュール3からテストパス8を介して回路モ
ジュール2がテストデータを受け取ってテストに供する
ことができる。
【0040】尚、その他のパターン圧縮回路22,42
も図6、図8又は図9の回路と同様に構成され、その他
のパターン発生回路41,31も図5、図7又は図9の
回路と同様に構成される。
【0041】前記制御回路5と外部とのテストの為のイ
ンタフェースは、特に制限されないが、図1に示される
JTAGコントローラ6を介して実現されている。
【0042】前記JTAGコントローラ6は、少なくと
も、IEEEE1149.1の規格に準拠した信号入出
力機能を備え、更に各回路モジュールのセルフテストの
為の外部信号インタフェース機能を有する。即ち、前記
JTAGコントローラ6は、外部と非同期でシリアルに
情報の入出力を行うための外部インタフェース端子とし
て、テストクロック端子TCK、テストモードセレクト
端子TMS、テストリセット端子/TRST、テストデ
ータ入力端子TDI、テストデータ出力端子TDOを有
する。
【0043】テストデータ入力端子TDIに入力される
シリアルデータはテストクロックに同期してシフトレジ
スタにシリアル入力される。シリアル入力されたデータ
は、命令レジスタ又はデータレジスタにパラレル入力さ
れる。命令レジスタに供給された命令は制御回路5でデ
コードされ、デコード結果にしたがって、制御回路5
は、回路モジュール毎或いは回路モジュールの相関を考
慮して、セルフテスト動作を制御する。例えば制御回路
5は、前記パターン発生回路(LFSR)21,31,
41、パターン圧縮回路(MISR)22,32,4
2、及びモジュール内診断制御回路23,33,43に
テスト動作の制御信号を与える。制御回路5は、前記パ
ターン発生回路(LFSR)21,31,41にパター
ン発生の初期値データ或いはリセット信号を与える。セ
ルフテストに用いられるテストパターンの初期値データ
などは、前記データレジスタから制御回路5を介してパ
ターン発生回路などに供給される。制御回路5は、パタ
ーン圧縮回路(MISR)22,32,42の出力を受
け取る。パターン圧縮回路で得られたテスト結果は制御
回路5を経てJTAGコントローラ6のデータレジスタ
に供給され、テスト結果データはテストロックに同期し
てシフトレジスタからテストデータ出力端子TDOを経
て外部に出力される。前記JTAGコントローラ6の動
作制御は状態遷移制御で行われる。詳しくは、テストモ
ードセレクト端子TMSの論理値が現在の論理値に対し
て“1”又は“0”の何れに変化するかによって内部制
御状態を、予め決められた状態遷移モデルに対して順次
遷移させていく。
【0044】上記半導体集積回路1によれば、前記パタ
ーン圧縮回路32及びパターン発生回路21等によって
テストパス8の接続及び分離を行なうから、回路モジュ
ール2,3,4単独のセルフテストを保証でき、且つ回
路モジュール2,3,4相互の関係を考慮してセルフテ
ストを行なう事ができる。
【0045】そして、前記接続及び分離のためだけにパ
ターン圧縮回路32及びパターン発生回路21等とは別
にスキャンパスレジスタを追加しなくてもよいから、セ
ルフテスト機能を有する半導体集積回路の論理的及び物
理的な回路規模を縮小することができる。図10に例示
されるように、テストパス8の接続・分離をスキャンパ
スレジスタ71,72で行なう場合には、そのようなス
キャンパスレジスタ71,72がパターン発生回路(L
FSR)及びパターン圧縮回路(MISR)とは別に必
要になる。テストパスの信号線数は数百、数千の如くに
多いから、今まで説明した半導体集積回路1の場合に比
べ、図10の構成は、セルフテストの為の回路規模が相
当大きくなってしまう。
【0046】また、テストパスを介する信号受け渡しの
ために従来必要とされるところの、テストパスのスキャ
ンパスレジスタに信号をロードするような前処理を要し
ないので、複数の回路モジュール相互の関係を考慮した
セルフテストを能率的に行なうことができる。
【0047】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは言うまでもない。
【0048】例えば、パターン発生回路やパターン圧縮
回路を構成するラッチ回路の直列段数、パターン発生論
理、パターン圧縮論理は、上記説明に限定されず適宜変
更することができる。
【0049】また、半導体集積回路に搭載される回路モ
ジュールの数や種類は上記の説明に限定されない。回路
モジュールはIPモジュールでなくてもよく、所謂マク
ロセル、或いはユーザ定義の論理回路モジュール等であ
ってもよい。また、テスト用の外部インタフェースはJ
TAGコントローラに限定されず、適宜変更可能であ
る。
【0050】本発明は、夫々セルフテスト回路が組み込
まれた複数個の回路モジュールを含む条件の半導体集積
回路に広く適用することができる。
【0051】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
【0052】すなわち、前記パターン圧縮回路及びパタ
ーン発生回路によってテストパスの接続及び分離を行な
うから、回路モジュール単独のセルフテストを保証で
き、且つ回路モジュール相互の関係を考慮してセルフテ
ストを行なう事ができる。
【0053】前記接続及び分離のためだけにパターン圧
縮回路及びパターン発生回路とは別にスキャンパスレジ
スタを追加しなくてもよいから、セルフテスト機能を有
する半導体集積回路の論理的及び物理的な回路規模の縮
小に寄与することができる。
【0054】また、テストパスを介する信号受け渡しの
ために従来必要とされるところの、テストパスのスキャ
ンパスレジスタに信号をロードするような前処理を要し
ないので、その分、複数の回路モジュール相互の関係を
考慮したセルフテストを効率化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一例に係る半導体集積回路の全体をB
IST回路を中心に示したブロック図である。
【図2】本発明に係る半導体集積回路の概略を示したブ
ロック図である。
【図3】アクセラレータモジュールのBIST回路を例
示するブロック図である。
【図4】スキャンラッチの一例を示すブロック図であ
る。
【図5】パターン発生回路の一例を示す論理回路図であ
る。
【図6】パターン圧縮回路の一例を示す論理回路図であ
る。
【図7】パターン発生回路の第2の例を示す論理回路図
である。
【図8】パターン圧縮回路の第2の例を示す論理回路図
である。
【図9】パターン圧縮回路とパターン発生回路の第3の
例を示す論理回路図である。
【図10】テストパスの接続・分離をスキャンパスレジ
スタで行なった場合の比較例を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 半導体集積回路 2 マイクロプロセッサモジュール 3 アクセラレータモジュール 4 シンクロナスDRAMモジュール 5 制御回路 6 JTAGコントローラ 7、8 テストパス 21、31、41 パターン発生回路 22、32、42 パターン圧縮回路 23、33、43 ブロック内診断制御回路 24、34、44 スキャンパスレジスタ 210 セレクタ 211 Dラッチ 212 排他的論理和回路 213 スキャンラッチ 216 トライステート出力ゲート 320 Dラッチ 321、322、323 排他的論理和回路 324 スキャンラッチ 328 セレクタ 326 トライステート出力ゲート 327 トライステートバッファ Li 第1のパラレル入力端子 Lo 第1のパラレル出力端子 Mi 第2のパラレル入力端子 Mo 第2のパラレル出力端子

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セルフテスト回路が夫々に組み込まれた
    複数個の回路モジュールを有する半導体集積回路であっ
    て、 前記回路モジュールは、前記セルフテスト回路として、
    スキャンパスレジスタ、前記スキャンパスレジスタに出
    力端子が結合されたパターン発生回路、及び前記スキャ
    ンパスレジスタに入力端子が結合されたパターン圧縮回
    路を有すると共に、テストパスを介して別の回路モジュ
    ールからテストの為の信号受け渡しが可能にされ、 前記テストパスを共有する一の回路モジュールは当該テ
    ストパスに接続されたパターン圧縮回路を有し、前記テ
    ストパスを共有する他の回路モジュールは当該テストパ
    スに接続されたパターン発生回路を有し、 前記テストパスに接続された前記パターン圧縮回路又は
    パターン発生回路は、テストパスを介する信号伝達を選
    択的に阻止するゲート手段を有して成るものであること
    を特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 前記ゲート手段は、前記パターン発生回
    路に含まれるセレクタであり、前記セレクタは、前記テ
    ストパスを介して別の回路モジュールから伝達されてく
    る情報又は前記パターン発生回路で生成されたテストパ
    ターンを選択する回路であることを特徴とする請求項1
    記載の半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 前記ゲート手段は、前記パターン圧縮回
    路に含まれるトライステートバッファであり、前記トラ
    イステートバッファは前記テストパスに出力端子が結合
    されて成るものであることを特徴とする請求項1記載の
    半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記パターン圧縮回路は、入力セレクタ
    で選択された情報を用いてパターン圧縮を行ない、前記
    入力セレクタは、その入力端子が前記スキャンパスレジ
    スタに接続される入力端子と前記トライステートバッフ
    ァの出力端子とに結合され、何れか一方の入力を選択可
    能にされて成るものであることを特徴とする請求項3記
    載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 セルフテスト回路が夫々に組み込まれた
    複数個の回路モジュールを有する半導体集積回路であっ
    て、 前記回路モジュールは、前記セルフテスト回路として、
    複数のスキャンパスレジスタ、前記複数のスキャンパス
    レジスタのシリアル入力端子に結合された第1のパラレ
    ル出力端子を有するパターン発生回路、及び前記複数の
    スキャンパスレジスタのシリアル出力端子に結合された
    第2のパラレル入力端子を有するパターン圧縮回路を備
    えると共に、テストパスを介して別の回路モジュールか
    らテストの為の信号受け渡しが可能にされ、 前記テストパスを共有する一の回路モジュールは当該テ
    ストパスに第2のパラレル出力端子が接続されたパター
    ン圧縮回路を有し、前記テストパスを共有する他の回路
    モジュールは当該テストパスに第1のパラレル入力端子
    が接続されたパターン発生回路を有し、 前記テストパスに接続された前記パターン圧縮回路又は
    パターン発生回路は、テストパスを介する信号伝達を選
    択的に阻止するゲート手段を有して成るものであること
    を特徴とする半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 前記パターン圧縮回路は、並列入出力動
    作可能な複数個のラッチと、前記第2のパラレル入力端
    子から入力される信号と前記複数個のラッチに保持され
    ている値とに基づいてデータ圧縮演算を行ない該演算結
    果を前記複数個のラッチに戻す演算手段と、を有して成
    るものであることを特徴とする請求項5記載の半導体集
    積回路。
  7. 【請求項7】 前記ゲート手段は、前記パターン圧縮回
    路が有するトライステートバッファであり、前記トライ
    ステートバッファは前記テストパスに出力端子が結合さ
    れて成るものであることを特徴とする請求項6記載の半
    導体集積回路。
  8. 【請求項8】 前記パターン発生回路は、第1のパラレ
    ル出力端子からラッチデータを並列出力可能な複数個の
    ラッチと、前記複数個のラッチに保持されている値を用
    いて演算を行ない該演算結果を前記ラッチに戻す演算手
    段と、を有して成るものであることを特徴とする請求項
    5記載の半導体集積回路。
  9. 【請求項9】 前記ゲート手段は、前記パターン発生回
    路が有するセレクタであり、前記セレクタは、前記テス
    トパスを介してパラレル入力端子から入力される情報又
    は前記ラッチから出力される情報を選択する回路である
    ことを特徴とする請求項8記載の半導体集積回路。
  10. 【請求項10】 前記複数個のラッチは前記スキャンパ
    スレジスタと同様のシフトレジスタ動作が可能にされて
    成るものであることを特徴とする請求項6乃至9の何れ
    か1項記載の半導体集積回路。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006113058A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Genesis Microchip Inc 内部アットスピード論理bistを用いた論理ブロックの自動故障試験
JP2008286553A (ja) * 2007-05-15 2008-11-27 Toshiba Corp 半導体集積回路モジュール
JP2009109192A (ja) * 2007-10-26 2009-05-21 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置

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