JP2001074151A - 分流弁および分流弁を連結した連結分流弁装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 キャリアガスに複数の反応ガスを均一に混合
させること。 【構成】 互いに平行で且つ反対側面に形成された第１
流体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続
面（３）に垂直な第２流体第１流路接続面と前記三つの
接続面（２，３）に垂直なバルブ装着面（５）と接続端
部（７ａ）およびバルブ側端部（７ｂ）を有する第１流
体第１流路（７）と接続端部（８ａ）およびバルブ側端
部（８ｂ）を有する第１流体第２流路（８）と接続端部
（９ａ）およびバルブ側端部（９ｂ）を有する第２流体
第１流路（９）と前記各バルブ側端部（７ｂ，８ｂ）を
常時連通させる第１流体常時連通路（５ｃ）とを有する
分流弁本体ブロック（１）と、バルブ側端部（９ｂ）を
前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連通させる連通位置
と遮断する遮断位置との間で移動可能な弁部材（１４）
を有する切替バルブ（Ｖ１）とを備えたガス混合装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は分流弁および複数の
分流弁を連結した連結分流弁装置に関し、特に高純度の
混合ガスを得るのに適した分流弁および分流弁装置に関
する。本発明の分流弁は流体を分流したり、混合したり
する際に使用される。また、高純度のガスは、半導体製
品の製造過程において、シリコンウエハ表面に数種の成
分の混合ガスを使用して蒸着膜を形成する際等に使用さ
れる。

【０００２】

【従来の技術】半導体製品の製造工程において使用され
るガス混合装置は、キャリアガスに１種以上の反応ガス
を混合した混合ガスを蒸着装置に供給する。前記混合ガ
スを供給してシリコンウエハ表面に数種の成分の混合ガ
スにより蒸着膜を形成する作業が終了した後、前記反応
ガスの供給を停止した状態で待機し、次の作業のための
反応ガスをガス混合装置で混合する。その際、先に使用
した反応ガスがガス供給路に未使用で残留している場合
があり、その残留ガスが不純物として次の作業のための
反応ガス中に混入することになる。

【０００３】前記各種ガスを混合させる時に理想的な混
合比を実現して、前の作業の未使用ガスの残留成分の影
響を無くすることができれば、不純物の混合が低減さ
れ、飛躍的な製品の高品質化、良品率の向上が可能とな
る。また、今後のプロセス上の方向性として生成膜の形
成条件は、減圧下、少量流量の方向へと移行している。
このため、前記残留ガス成分の影響は大きくクローズア
ップされてきている。

【０００４】従来、前記種類のガス混合装置において、
例えば、次の図１１に示すような装置が知られている。
図１１は従来のガス混合装置の説明図である。図１１に
示すガス混合装置は、キャリアガスＧ０が流れるキャリ
アガス流路０１に複数（例えば４種類）の反応ガスＧ
１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４を流入させる際、キャリアガス流
路の中心線に沿って、第１混合位置Ｐ１および第２混合
位置Ｐ２を設定し、設定された前記第１混合位置Ｐ１に
おいてキャリアガスＧ０に反応ガスＧ１およびＧ２を混
合し、前記第２混合位置Ｐ２において反応ガスＧ３，Ｇ
４を混合する。なお、図１１においてプロセスバルブＶ
１およびベントバルブＶ２は、いずれかが一方が開、他
方が閉の状態で使用され、Ｖ１開、Ｖ２閉の場合は反応
ガスがキャリアガス流路０１に流れて混合され、Ｖ１
閉、Ｖ２開の場合は反応ガスはベントバルブＶ２を通っ
て回収装置（図示せず）に回収される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記従来のガス混合装
置では、次の問題点がある。 （ａ）前記４種の反応ガスＧ１〜Ｇ４を同時に混合する
場合、Ｇ１およびＧ２の混合位置Ｐ１とＧ３，Ｇ４の混
合位置Ｐ２とがキャリアガス流路に沿って位置が異なる
ため、各ガス（キャリアガスおよび反応ガス）が混合さ
れながら流れる距離が異なるため、混合位置が異なる反
応ガスを均一な混合比で混合しようとしても、混合開始
時から均一な混合ガスを得ることは不可能である。した
がって、混合位置が異なる反応ガスの均一な混合ガス
を、混合開始時から蒸着室に供給することは不可能であ
る。 （b）前記キャリアガス流路への前記各反応ガスＧ１〜
Ｇ４の供給／遮断を行うための各プロセスバルブＶ１の
位置から前記混合位置Ｐ１またはＰ２までの反応ガス流
路（デッドゾーン）の長さが異なる場合には、前の作業
で使用した反応ガスの残留ガス（デッドゾーンの残留ガ
ス）が次の作業の時に混入して不純物が混入する。この
ため、ガス純度の再現性にバラツキを生じ高品質の製品
（均一な蒸着膜）が製作できない。 （c）前記デッドゾーンの長さを一定にしても、その長
さが長い程、残留ガスが不純物として混入する期間が長
くなる。

【０００６】また、従来、円盤状のガス混合室の円周面
に複数の反応ガスを供給して混合する装置が知られてい
る。この従来技術は複数の各反応ガスをキャリアガス流
路に沿った同一の混合位置に同時に流入させて混合する
ことが可能であるが、前記混合位置（円盤状のガス混合
室）の範囲が広いため、均一な混合比が得られ難い。ま
た、この従来技術では前記デッドゾーンの残留ガスに対
する考慮がなされていない。

【０００７】また従来、ガス混合装置として、キャリア
ガス流路、複数の反応ガス流路、およびそれらの混合ガ
ス流路等が形成された厚みの有る平板状の流路形成ブロ
ックと前記流路形成ブロックの上面に設けた多数の開閉
弁装着部にそれぞれ装着した複数の開閉弁とを有するブ
ロック状のガス混合装置が知られている。しかしなが
ら、このガス混合装置は高価であり、反応ガスの種類が
増加した場合等の対応にコストがかかる等の問題点があ
る。

【０００８】本発明は前記問題点に鑑み、次の記載内容
（Ｏ01）〜（Ｏ04）を課題とする。 （Ｏ01）キャリアガスに複数の反応ガスを均一に混合さ
せること。 （Ｏ02）残留ガスの生じるデッドゾーンを無くすこと。 （Ｏ03）混合するガスの種類の増減に容易に対応できる
ようにすること。 （Ｏ04）高純度の混合ガスをを得ることにより、高品質
の製品（薄膜等）を得ること。

【０００９】

【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。な
お、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。

【００１０】（第１発明）前記課題を解決するために、
第１発明の分流弁は、次の要件（Ａ01）を備えたことを
特徴とする。 （Ａ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流
体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面
（３）と、前記両接続面（２，３）に垂直な第２流体第
１流路接続面（４）と、前記三つの接続面（２，３，
４）に垂直なバルブ装着面（５）と、前記第１流体第１
流路接続面（２）に開口する接続端部（７ａ）および前
記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（７ｂ）
を有する第１流体第１流路（７）と、前記第１流体第２
流路接続面（３）に開口する接続端部（８ａ）および前
記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（８ｂ）
を有する第１流体第２流路（８）と、前記第２流体第１
流路接続面（４）に開口する接続端部（９ａ）および前
記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（９ｂ）
を有する第２流体第１流路（９）と、前記第１流体第１
流路（７）および第１流体第２流路（８）の前記各バル
ブ側端部（７ｂ，８ｂ）を常時連通させる第１流体常時
連通路（５ｃ）と、を有する分流弁本体ブロック
（１）。 （Ａ02）前記バルブ装着面（５）に装着されて、第２流
体第１流路（９）のバルブ側端部（９ｂ）を前記第１流
体常時連通路（５ｃ）に連通させる連通位置と前記第１
流体常時連通路（５ｃ）に対して遮断する遮断位置との
間で移動可能な弁部材（１４）を有する切替バルブ（Ｖ
１，Ｖ２）。

【００１１】（第１発明の作用）前記構成を備えた第１
発明の分流弁では、第１流体第１流路（７）は、第１流
体常時連通路（５ｃ）を介して第１流体第２流路（８）
に接続している。すなわち、分流弁本体ブロック（１）
の互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１
流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面（３）
にそれぞれ開口する第１流体第１流路（７）の接続端部
（７ａ）および第１流体第２流路（８）の接続端部（８
ａ）は連通している。したがって、第１発明の分流弁
（Ｖ）は、複数個を直列に接続することにより各分流弁
（Ｖ）の第１流体第１流路（７）および第１流体第２流
路（８）を直列に接続することができる。したがって、
第１流体として半導体製造装置のキャリアガスを使用す
る場合には、前記直列に接続した複数の分流弁にキャリ
アガスを連続して流すことかできる。

【００１２】一端部（接続端部９ａ）が前記第２流体第
１流路接続面（４）に開口する第２流体第１流路（９）
の他端部（バルブ側端部９ｂ）は前記バルブ装着面
（５）に開口する。バルブ装着面（５）に装着された切
替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）の弁部材（１４）が連通位置に
移動した状態では、第２流体第１流路（９）のバルブ側
端部（９ｂ）は、前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連
通し、遮断位置に移動した状態では前記第１流体常時連
通路（５ｃ）に対して遮断される。したがって、第２流
体第１流路（９）は、切替えバルブ（Ｖ１，Ｖ２）によ
りデッドゾーンの無い状態で第１流体常時連通路（５
ｃ）に対して連通または遮断される。このため、第１流
体として半導体製造装置のキャリアガスを使用し、第２
流体として半導体製造装置の反応ガスを使用する場合に
は、反応ガスをキャリアガス流路に対してデッドゾーン
の無い状態で連通または遮断することができるので、純
度の高い反応ガスを供給することができる。

【００１３】（第２発明）第２発明の連結分流弁装置
は、次の要件（Ｂ01），（Ｂ02）を備えたことを特徴と
する。 （Ｂ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流
体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面
（３）と、前記両接続面（２，３）に垂直な第２流体第
１流路接続面（４）と、前記三つの接続面（２，３，
４）に垂直なバルブ装着面（５）と、前記第１流体第１
流路接続面（２）に開口する接続端部（７ａ）および前
記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（７ｂ）
を有する第１流体第１流路（７）と、前記第１流体第２
流路接続面（３）に開口する接続端部（８ａ）および前
記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（８ｂ）
を有する第１流体第２流路（８）と、前記第２流体第１
流路接続面（４）に開口する接続端部（９ａ）および前
記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（８ｂ）
を有する第２流体第１流路（９）と、前記第１流体第１
流路（７）および第１流体第２流路（８）の前記各バル
ブ側端部（７ｂ，８ｂ）を常時連通させる第１流体常時
連通路（５ｃ）と、を有する分流弁本体ブロック（１）
と、前記バルブ装着面（５）に装着されて、第２流体第
１流路（９）のバルブ側端部（９ｂ）を前記第１流体常
時連通路（５ｃ）に連通させる連通位置と前記第１流体
常時連通路（５ｃ）に対して遮断する遮断位置との間で
移動可能な弁部材（１４）を有する切替バルブ（Ｖ１，
Ｖ２）と、前記第１流体第１流路接続面（２）に開口す
る第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）に接続さ
れた第１流体第１流管（２１）、および前記第１流体第
２流路接続面（３）に開口する第１流体第２流路（８）
の接続端部（８ａ）に接続された第１流体第２流管（２
３）と、前記第１流体第１流管（２１）および第１流体
第２流管（２３）の一方の管（２３）に装着された雌継
ぎ手（２４）および他方の管（２１）に装着された雄継
ぎ手（２２）とを備えた複数の分流弁（Ｖ）、 （Ｂ02）前記複数の分流弁（Ｖ）を１列に並べて、互い
に隣接する各分流弁（Ｖ）の第１流体第１流管（２１）
および第１流体第２流管（２３）を各流管に装着された
継ぎ手により互いに接続し、前記複数の分流弁（Ｖ）の
第１流体第１流路（７）および第１流体第２流路（８）
を全て連通させた直列連結分流弁装置（Ｕ１，Ｕ２ａ，
Ｕ２ｂ）。

【００１４】（第２発明の作用）前記構成を備えた第２
発明の連結分流弁装置では、複数の各分流弁（Ｂ）の第
１流体第１流路（７）は、第１流体常時連通路（５ｃ）
を介して第１流体第２流路（８）に接続している。すな
わち、分流弁本体ブロック（１）の互いに平行で且つ反
対側面に形成された第１流体第１流路接続面（２）およ
び第１流体第２流路接続面（３）にそれぞれ開口する第
１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）および第１流
体第２流路（８）の接続端部（８ａ）は連通している。
前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する第１流体
第１流路（７）の接続端部（７ａ）に接続された第１流
体第１流管（２１）、および前記第１流体第２流路接続
面（３）に開口する第１流体第２流路（８）の接続端部
（８ａ）に接続された第１流体第２流管（２３）の一方
の管（２３）には雌継ぎ手（２４）が装着され、他方の
管（２１）には雄継ぎ手（２２）が装着されている。前
記複数の各分流弁（Ｖ）の雌継ぎ手（２４）および雄継
ぎ手（２２）を順次接続することにより複数の分流弁
（Ｖ）を容易に直列に接続することができる。そして、
第１流体として半導体製造装置のキャリアガスを使用す
る場合には、前記直列に接続した複数の分流弁（Ｖ）の
第１流体の流路（７，８，５ｃ）にキャリアガスを流す
ことかできる。

【００１５】一端部（接続端部９ａ）が前記第２流体第
１流路接続面（４）に開口する第２流体第１流路（９）
の他端部（バルブ側端部９ｂ）は前記バルブ装着面
（５）に開口する。バルブ装着面（５）に装着された切
替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）の弁部材（１４）が連通位置に
移動した状態では、第２流体第１流路（９）のバルブ側
端部（９ｂ）は、前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連
通し、遮断位置に移動した状態では前記第１流体常時連
通路（５ｃ）に対して遮断される。したがって、第２流
体第１流路（９）は、切替えバルブ（Ｖ１，Ｖ２））に
よりデッドゾーンの無い状態で第１流体常時連通路（５
ｃ）に対して連通または遮断される。このため、第１流
体として半導体製造装置のキャリアガスを使用し、第２
流体として半導体製造装置の反応ガスを使用する場合に
は、反応ガス（第２流体）をキャリアガス流路（第１流
体の流路７，８，５ｃ）に対してデッドゾーンの無い状
態で連通または遮断することができる。

【００１６】また、種類の異なる反応ガスの数が増加し
た場合でも、連結する分流弁（Ｖ）の数を加減すること
により容易に対応することができるので、ガス混合装置
の規模の小さいものから大きなものまで容易に構成する
ことができる。また同様に、流体の分流装置として使用
する場合にも、装置規模の小さいものから大きいものま
で、容易に構成することができる。また従来、半導体製
造装置で使用していたキャリアガスおよび反応ガスの搬
送路の混合装置、分流装置等では、Ｔ字型管と遮断弁と
を使用していたが、前記従来のガス搬送路の代わりに容
易に設置することができる。その際、デッドゾーンの残
留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くなる
ので、旧式の半導体製造装置が高性能の装置として再生
される。

【００１７】

【発明の実施の形態】（第１発明の実施の形態１）第１
発明の実施の形態１の分流弁は前記第１発明において、
次の要件（Ａ03）を備えたことを特徴とする。 （Ａ03）前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する
第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）に接続され
た第１流体第１流管（２１）、および前記第１流体第２
流路接続面（３）に開口する第１流体第２流路（８）の
接続端部（８ａ）に接続された第１流体第２流管（２
３）。

【００１８】（第１発明の実施の形態１の作用）前記構
成を備えた第１発明の実施の形態１の分流弁（Ｖ）で
は、複数の各分流弁（Ｖ）の第１流体第１流管（２１）
と第１流体第２流管（２３）とを順次接続することによ
り容易に直列連結分流弁装置（複数の分流弁を直列に接
続した装置）（Ｕ１，Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を製作すること
ができる。

【００１９】（第１発明の実施の形態２）第１発明の実
施の形態２の分流弁は、前記第１発明または第１発明の
実施の形態１において次の要件（Ａ04）を備えたことを
特徴とする。 （Ａ04）前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する
前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）開口に
接続された第２流体第１流管（２５）。

【００２０】（第１発明の実施の形態２の作用）前記構
成を備えた第１発明の実施の形態２の分流弁では、前記
第２流体第１流管（２５）に第２流体を供給することに
より、容易に第１流体（第１流体第１流路７、第１流体
第２流路８および第１流体常時連通路５ｃを流れる流
体）と混合させることができる。また、第１流体を前記
第２流体第１流管（２５）に容易に分流させることがで
きる。

【００２１】（第１発明の実施の形態３）第１発明の実
施の形態３の分流弁は、前記第１発明の実施の形態１に
おいて、次の要件（Ａ05）を備えたことを特徴とする。 （Ａ05）前記第１流体第１流管（２１）および第１流体
第２流管（２３）の一方の管（２３）に装着された雌継
ぎ手（２４）および他方の管（２１）に装着された雄継
ぎ手（２２）。

【００２２】（第１発明の実施の形態３の作用）前記構
成を備えた第１発明の実施の形態３の分流弁は、複数の
各分流弁の前記第１流体第１流管（２１）および第１流
体第２流管（２３）の一方の管（２３）に装着された雌
継ぎ手（２４）および他方の管（２１）に装着された雄
継ぎ手（２２）を互いに接続することにより、複数の分
流弁（Ｖ）を容易に直列に接続することができる。

【００２３】（第１発明の実施の形態４）第１発明の実
施の形態４の分流弁は、第１発明または第１発明の実施
の形態１ないし３のいずれかにおいて次の要件（Ａ0
6），（Ａ07）を備えたことを特徴とする。 （Ａ06）前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する
前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に接続
された第２流体第１流管（２５）、 （Ａ07）雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着された
前記第２流体第１流管（２５）。

【００２４】（第１発明の実施の形態４の作用）前記構
成を備えた第１発明の実施の形態４の分流弁では、前記
第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記第２流体
第１流路（９）の接続端部（９ａ）に第２流体第１流管
（２５）が接続され、前記第２流体第１流管（２５）に
は雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着される。前記
複数の分流弁（Ｖ）を直列に接続した直列連結分流弁装
置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列製作して並列に配置した状
態で、前記第２流体第１流管（２５）の雄継ぎ手（２
６）または雌継ぎ手は、Ｔ字管（３１）の両端に連結し
た継ぎ手（３３）により容易に連結することができる。
その場合、Ｔ字管（３１）から第２流体を、前記２列の
各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁
（Ｖ）に供給することができる。

【００２５】前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体
第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送
用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置
（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第
１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベント
ガス流路として使用することができる。その場合、前記
Ｔ字管（３１）から第２流体として反応ガスを供給する
ことができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）が接続さ
れた一対の分流弁（Ｖ）の一方の分流弁（Ｖ）の切替バ
ルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分
流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移
動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送
用流路またはベントガス流路に流すことができる。

【００２６】（第１発明の実施の形態５）第１発明の実
施の形態５の分流弁は、第１発明または第１発明の実施
の形態１ないし４のいずれかにおいて次の要件（Ａ08）
を備えたことを特徴とする。 （Ａ08）前記第２流体第１流路接続面（４）またはバル
ブ装着面（５）のいずれかの面（４，５）と反対側の側
面に形成された第２流体第２流路接続面（３６）に一端
部が開口し他端が前記第２流体第１流路（９）に接続す
る第２流体第２流路（３７）を有する前記分流弁本体ブ
ロック（１）。

【００２７】（第１発明の実施の形態５の作用）前記構
成を備えた第１発明の実施の形態５の分流弁では、前記
複数の分流弁（Ｖ）を直列に接続した直列連結分流弁装
置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列製作して並列に配置した状
態で、一方の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の前記第２
流体第１流路（９）と他方の直列連結分流弁装置（Ｕ２
ｂ）の第２流体第１流路（９）とを連結した状態で、前
記第２流体第２流路（３７）から第２流体を、前記２列
の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁
（Ｖ）の第２流体第１流路（９）に供給することができ
る。前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２
ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の第１
流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路
８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送用流路と
して使用し、他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）
の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２
流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベントガス流路と
して使用することができる。その場合、前記第２流体第
２流路（３７）から第２流体として反応ガスを供給する
と、第２流体第２流路（３７）が接続された一対の分流
弁（Ｖ）の一方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ
２）を連通位置に移動させ且つ他方の分流弁（Ｖ）の切
替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させることに
より、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路またはベ
ントガス流路に流すことができる。

【００２８】（第１発明の実施の形態６）第１発明の実
施の形態６の分流弁は、第１発明の実施の形態５におい
て次の要件（Ａ09），（Ａ010）を備えたことを特徴と
する、 （Ａ09）前記第２流体第２流路接続面（３６）に開口す
る前記第２流体第２流路（３７）の接続端部（３７ａ）
開口に接続された第２流体第２流管（３８）。 （Ａ010）雌継ぎ手または雄継ぎ手が装着された前記第
２流体第２流管（３８）。

【００２９】（第１発明の実施の形態６の作用）前記構
成を備えた第１発明の実施の形態６の分流弁では、第２
流体第２流管（３８）に装着された雌継ぎ手または雄継
ぎ手により、前記第２流体第２流管（３８）に第２流体
を供給する第２流体供給部材を容易に接続することがで
きる。

【００３０】（第２発明の実施の形態１）第２発明の実
施の形態１の連結分流弁装置は、前記第２発明において
次の要件（Ｂ03），（Ｂ04）を備えたことを特徴とす
る。 （Ｂ03）前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する
前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に接続
された第２流体第１流管（２５）、 （Ｂ04）雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着された
前記第２流体第１流管（２５）。

【００３１】（第２発明の実施の形態１の作用）前記構
成を備えた第２発明の実施の形態１の連結分流弁装置で
は、前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記
第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に第２流体
第１流管（２５）が接続され、前記第２流体第１流管
（２５）には雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着さ
れる。前記複数の分流弁（Ｖ）を直列に接続した直列連
結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列製作して並列に
配置した状態で、前記第２流体第１流管（２５）の雄継
ぎ手（２６）または雌継ぎ手は、例えばＴ字管（３１）
の両端に連結した継ぎ手（３３）により容易に連結する
ことができる。その場合、Ｔ字管（３１）から第２流体
を、前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２
ｂ）の各分流弁（Ｖ）に供給することができる。

【００３２】前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体
第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送
用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置
（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第
１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベント
ガス流路として使用することができる。その場合、前記
Ｔ字管（３１）から第２流体として反応ガスを供給する
ことができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）が接続さ
れた一対の分流弁（Ｖ）の一方の分流弁（Ｖ）の切替バ
ルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分
流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移
動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送
用流路またはベントガス流路に流すことができる。

【００３３】（第２発明の実施の形態２）第２発明の実
施の形態２の連結分流弁装置は、前記第２発明または第
２発明の実施の形態１において次の要件（Ｂ05）を備え
たことを特徴とする。 （Ｂ05）前記直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を
２列設け、一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の
各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部
（９ａ）と他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の
各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部
（９ａ）とを互いに接続する端部接続部材（３１，３
２，２５）および前記端部接続部材（２５，３１，３
２）に連結された第２流体供給部材（３４）。

【００３４】（第２発明の実施の形態２の作用）前記構
成を備えた第２発明の実施の形態２の連結分流弁装置で
は、２列設けられた前記直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，
Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の
各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部
（９ａ）と他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の
各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部
（９ａ）とは端部接続部材（２５，３１，３２）により
互いに接続される。前記端部接続部材（２５，３１，３
２）に連結された第２流体供給部材（３４）から供給さ
れた第２流体は、前記２列の各列の直列連結分流弁装置
（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の互いに連結された各分流弁（Ｖ）
の第２流体第１流路（９）に供給される。

【００３５】前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体
第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送
用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置
（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第
１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベント
ガス流路として使用することができる。その場合、前記
第２流体供給部材（３４）から第２流体として反応ガス
を供給することができる。その場合、前記Ｔ字管（３
１）が接続された一対の分流弁の一方の分流弁の切替バ
ルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分
流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させ
ることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路
またはベントガス流路に流すことができる。

【００３６】（第２発明の実施の形態３）第２発明の実
施の形態３の連結分流弁装置は、前記第２発明または第
２発明の実施の形態１において次の要件（Ｂ06），（Ｂ
07）を備えたことを特徴とする。 （Ｂ06）前記第２流体第１流路接続面（４）またはバル
ブ装着面（５）のいずれかの面と反対側の側面に形成さ
れた第２流体第２流路接続面（３６）に一端部が開口し
他端部が前記第２流体第１流路（９）に接続する第２流
体第２流路（３７）を有する前記分流弁本体ブロック
（１）、 （Ｂ07）前記直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を
２列設け、各列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２
ｂ）の分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路接続面（４）が
対向して配置された２列の直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ，Ｕ２ｂ）であって、各列の連結分流弁装置（Ｕ２
ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路
（９）どうしが接続された直列連結分流弁装置（Ｕ１，
Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）。

【００３７】（第２発明の実施の形態３の作用）前記構
成を備えた第２発明の実施の形態３の連結分流弁装置
は、２列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各
列の分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）どうしが接
続されて構成される。一方の直列連結分流弁装置（Ｕ２
ａ）の前記第２流体第１流管（９）と他方の直列連結分
流弁装置（Ｕ２ｂ）の第２流体第１流路（９）とを直接
連結した状態で、前記第２流体第２流路（３７）から第
２流体を、前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，
Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）に
供給することができる。前記２列の各直列連結分流弁装
置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置
（Ｕ２ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第
１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガ
ス搬送用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁
装置（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路
７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を
ベントガス流路として使用することができる。その場
合、前記第２流体第２流路（３７）から第２流体として
反応ガスを供給するとともに、一対の分流弁（Ｖ）の一
方の分流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移
動させ且つ他方の分流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を
遮断位置に移動させることにより、前記反応ガスを前記
反応ガス搬送用流路またはベントガス流路に流すことが
できる。

【００３８】

【実施例】次に図面を参照しながら、本発明のガス混合
装置の実施の形態の例（すなわち、実施例）を説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 （実施例１）図１は本発明の実施例１の常閉の分流弁の
説明図で、図１Ａは正断面図、図１Ｂは上面図で前記図
１Ａの矢印ＩＢから見た図、図１Ｃは下面図で前記図１
Ａの矢印ＩＣから見た図である。図２は同実施例１の常
閉の分流弁の説明図で図２Ａは前記図１ＡのIIＡ−IIＡ
線断面図、図２Ｂは前記図１Ａの矢印IIＢから見た図で
ある。図３は同実施例１の常閉の分流弁の正断面拡大図
で、図３Ａは閉じた状態（遮断状態）を示す図、図３Ｂ
は開いた状態（連通状態）を示す図である。

【００３９】図１〜図３において、分流弁Ｖは、分流弁
本体ブロック１を有している。分流弁本体ブロック１
は、互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第
１流路接続面２および第１流体第２流路接続面３と、前
記両接続面２，３に垂直な第２流体第１流路接続面４
と、前記三つの接続面２，３，４に垂直なバルブ装着面
５とを有している。前記バルブ装着面５には突出部５ａ
が設けられており、突出部５ａの端面５ｂには環状凹溝
により形成された第１流体常時連通路５ｃが設けられて
いる。前記突出部５ａの円筒状外周面にはバルブ装着用
オスネジ５ｄが形成されている。

【００４０】分流弁本体ブロック１には第１流体第１流
路７が形成されており、第１流体第１流路７は前記第１
流体第１流路接続面２に開口する接続端部７ａと、前記
バルブ装着面５の第１流体常時連通路５ｃに開口するバ
ルブ側端部７ｂとを有している。また、分流弁本体ブロ
ック１には第１流体第２流路８が形成されており、第１
流体第２流路８は前記第１流体第２流路接続面３に開口
する接続端部８ａと、前記バルブ装着面５の第１流体常
時連通路５ｃに開口するバルブ側端部８ｂとを有してい
る。前記バルブ側端部７ｂおよび８ｂは前記第１流体常
時連通路５ｃにより常時連通している。また、分流弁本
体ブロック１には第２流体第１流路９が形成されてお
り、第２流体第１流路９は前記第２流体第１流路接続面
４（図２Ａ参照）に開口する接続端部９ａと、前記バル
ブ装着面５に開口するバルブ側端部９ｂとを有してい
る。前記第２流体第１流路９の位置が前記第１流体第１
流路７および第１流体第２流路８の直線上にあるが、他
の位置に形成することも可能である。例えば、上方に形
成した場合の方が加工が容易である。

【００４１】図３において、前記バルブ装着用オスネジ
５ｄには連結用ナット１２が螺合しており、連結用ナッ
ト１２にはスライダ支持ナット１３が螺合している。前
記スライダ支持ナット１３の外端部には円筒状突出部１
３aが設けられており、前記円筒状突出部１３aの周側面
にはキャップ装着用オスネジ１３ｂが形成されている。
前記スライダ支持ナット１３の内端と前記バルブ装着面
５との間には弾性を有する円板状のバルブ切替プレート
（弁部材）１４の外周縁が配置されている。

【００４２】前記キャップ装着用オスネジ１３ｂには円
筒状キャップ１６が螺合している。円筒状キャップ１６
の外端にはエアパイプ１７が固定されている。エアパイ
プ１７の外端は前記円筒状キャップ１６の外端よりも外
方に突出しており、内端部は円筒状キャップ１６の内部
内方に延びている。前記円筒状キャップ１６の内孔１６
ａおよび前記スライダ支持ナット１３の内孔にはスライ
ダ１８がスライド可能に支持されている。前記スライダ
１８の外端部には大径フランジ１８ａが設けられてお
り、大径フランジ１８ａは前記内孔１６ａにスライド可
能に嵌合している。前記スライダ１８にはパイプガイド
孔１８ｂが形成されており、パイプガイド孔１８ｂは前
記エアパイプ１７の内端部とスライド移動可能に嵌合し
ている。前記スライダ１８には前記パイプラインガイド
孔１８ｂと前記大径フランジ１８ａの下側の空間とを連
結するエア連通孔１８cが形成されている。

【００４３】前記スライダ１８の大径フランジ１８ａの
外端に形成された凹部の底面１８ｄと前記円筒状キャッ
プ１６の外端部内面には圧縮バネ１９が配置されてお
り、前記スライダ１８を常時内方（図３で下方、すなわ
ち、バルブ装着面５の方向に押圧している。このスライ
ダ１８により前記バルブ切替プレート１４は常時図３Ａ
の位置（前記第２流体第１流路９および第１流体常時連
通路５ｃを遮断する遮断位置）に保持される。また図３
Ｂにおいて、前記エアパイプ１７の外端からエアが供給
されると、エアはスライダ１８のパイプラインガイド孔
１８ｂから前記エア連通孔１８cを通って前記大径フラ
ンジ１８ａの下側の空間に流入し、前記大径フランジ１
８ａを上方に移動させる。このとき、スライダ１８は上
昇し、前記バルブ切替プレート１４はその弾性力により
図３Ｂの位置（前記第２流体第１流路９および第１流体
常時連通路５ｃを連通させる連通位置）に保持される。
前記図３に示す符号１２〜１９で示された要素により常
閉切替バルブＶ１が構成されている。

【００４４】前記第１流体第１流路接続面２に開口する
第１流体第１流路７の接続端部７ａには第１流体第１流
管２１（図１Ａ参照）が接続されており、第１流体第１
流管２１には雄継ぎ手２２が装着されている。前記第１
流体第２流路接続面３に開口する第１流体第２流路８の
接続端部８ａには第１流体第２流管２３が接続されてお
り、第１流体第２流管２３には雌継ぎ手２４が装着され
ている。前記第２流体第１流路接続面４に開口する第２
流体第１流路９の接続端部９ａには第２流体第１流管２
５（図２Ａ参照）が接続されており、第２流体第１流管
２５には雄継ぎ手２６が装着されている。前記符号１〜
２６で示された要素により実施例１の分流弁Ｖが構成さ
れている。

【００４５】（実施例１の作用）前記構成を備えた実施
例１では、前記分流弁Ｖの切替バルブＶ１は、前記バル
ブ装着面５に装着される。切替バルブＶ１の弁部材１４
は、第２流体第１流路９のバルブ側端部９ｂを前記第１
流体常時連通路５ｃに連通させる連通位置（図３Ｂ参
照）と前記第１流体常時連通路５ｃに対して遮断する遮
断位置（図３Ａ参照）との間で移動する。前記実施例１
の分流弁Ｖを使用して、例えば第１流体として半導体製
造装置で使用するキャリアガスを使用すると、キャリア
ガスは第１流体常時連通路５ｃを常時流れる。第２流体
として反応ガスを使用する場合、反応ガスは第２流体第
１流路９からバルブ側端部９ｂに供給される。

【００４６】前記弁部材１４が連通位置のときには反応
ガスは前記バルブ側端部９ｂから第１流体常時連通路５
ｃに流入する。第２流体第１流路９のバルブ側端部９ｂ
は前記第１流体常時連通路５ｃに面して配置されている
ため、前記切替バルブＶ１が遮断位置に移動したとき、
キャリアガス流路（第１流体第１流路７、第１流体第２
流路８および第１流体常時連通路５ｃ）に対して第２流
体第１流路９が完全に遮断される。このため、キャリア
ガス流路に接続するデッドゾーン（反応ガスが残留する
領域）が全く無くなる。したがって、デッドゾーンの残
留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くな
る。

【００４７】また、前記分流弁Ｖを複数用意して、互い
に異なる分流弁の雄継ぎ手２２と雌継ぎ手２４とを連結
することにより、連通した第１流体流路（例えば、キャ
リアガス流路）に複数の第２流体第１流路（例えば、複
数の反応ガス流路）を接続することができる。したがっ
て、種類の異なる反応ガスの数が増加した場合でも、連
結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応す
ることができるので、ガス混合装置の規模の小さいもの
から大きなものまで容易に構成することができる。また
同様に、流体の分流装置として使用する場合にも、装置
規模の小さいものから大きいものまで、容易に構成する
ことができる。また従来、半導体製造装置で使用してい
たキャリアガスおよび反応ガスの搬送路の混合装置、分
流装置等では、Ｔ字型管と遮断弁とを使用していたが、
前記従来のガス搬送路の代わりに容易に設置することが
できる。その際、デッドゾーンの残留ガスがキャリアガ
スに混入するようなことが無くなるので、旧式の装置が
高性能の装置として再生される。

【００４８】（実施例２）図４は実施例２の常閉の分流
弁の正断面拡大図で、図４Ａは開いた状態（連通状態）
を示す図、図４Ｂは閉じた状態（連通状態）を示す図で
ある。なお、この実施例２の説明において、前記実施例
１の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付し
て、その詳細な説明を省略する。図４においてバルブ装
着面５には、前記常閉の切替バルブＶ１と類似した常開
の切替バルブＶ2が装着されている。前記常開の切替バ
ルブＶ2は、前記常閉の切替バルブＶ１と同様の連結用
ナット１２、スライダ支持ナット１３、バルブ切替プレ
ート１４および円筒状キャップ１６を有している。円筒
状キャップ１６の外端に固定されたエアパイプ１７′の
外端は前記円筒状キャップ１６の外端よりも外方に突出
しており、内端部は円筒状キャップ１６の内部に延びて
いる。

【００４９】前記円筒状キャップ１６の内孔１６aおよ
び前記スライダ支持ナット１３の内孔にはスライダ１
８′がスライド可能に支持されている。前記スライダ１
８′の外端部には大径フランジ１８a′が設けられてお
り、大径フランジ１８a′の下面と前記スライダ支持ナ
ット１３の外端面との間には圧縮バネ１９′が配置され
ており、前記スライダ１８′を常時外方（図４で上方、
すなわち、バルブ装着面５から離れる方向）に押圧して
いる。このスライダ１８′により前記バルブ切替プレー
ト１４は常時図４Ａの位置（前記第２流体第１流路９お
よび第１流体常時連通路５ｃを連通させる連通位置）に
保持される。また、前記エアパイプ１７′の外端からエ
アが供給されると、エアはスライダ１８′の凹部底面１
８d′を下方に押圧して前記スライダ１８′を下方に移
動させる。このとき、スライダ１８′下面により前記バ
ルブ切替プレート１４は図４Ｂの位置（前記第２流体第
１流路９および第１流体常時連通路５ｃを遮断する遮断
位置）に保持される。前記図４に示す符号１２〜１６、
１７′，１８′，１９′で示された要素により常開の切
替バルブＶ2が構成されている。

【００５０】（実施例２の作用）前記常開の切替バルブ
Ｖ2を使用した分流弁Ｖは、エアパイプ１７′にエアが
供給された場合とされない場合の状態が前記実施例１の
分流弁Ｖと逆であるが、その他の点では前記実施例１の
分流弁Ｖと同様の作用を奏する。

【００５１】（実施例３）図５は本発明の実施例３の連
結分流弁装置の説明図である。図５において、本発明の
実施例３の連結分流弁装置Ｕ１は、前記実施例１の常閉
の切替えバルブＶ１（図１〜３参照）を使用した分流弁
Ｖを複数使用し、前記複数の分流弁Ｖを１列に並べて、
互いに隣接する各分流弁の第１流体第１流管２１および
第１流体第２流管２３を各流管２１，２３に装着された
雄継ぎ手２２および雌継ぎ手２４により互いに接続し、
前記複数の分流弁Ｖの第１流体第１流路７、第１流体常
時連通路５ｃおよび第１流体第２流路８を全て連通させ
ている。すなわち、連結分流弁装置Ｕ１は直列連結分流
弁装置である。。

【００５２】（実施例３の作用）前記構成を備えた実施
例３の連結分流弁装置Ｕ１は、例えば、第１流体として
キャリアガスを使用し、第２流体として反応ガスを使用
する場合、種類の異なる反応ガスの数が増加した場合で
も、連結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に
対応することができる。したがって、自由度の高いガス
混合装置およびガス分流装置等を構成することができ
る。

【００５３】（実施例４）図６は本発明の実施例４の連
結分流弁装置の説明図である。図６において、本発明の
実施例４の連結分流弁装置Ｕ２は、平行に配置された一
対の直列分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂを有している。
直列分流弁装置Ｕ２ａは、前記常閉の切替えバルブＶ１
を使用した複数の分流弁Ｖ（図３参照）を連結した直列
分流弁装置であり、実施例３の直列連結分流弁装置Ｕ１
と同じ構成である。第２直列分流弁装置Ｕ２ｂは、常開
の切替えバルブＶ２を使用した複数の分流弁Ｖ（図４参
照）を連結した直列連結分流弁装置である。

【００５４】前記２列の直列連結分流弁装置Ｕ２ａおよ
びＵ２ｂの一方の列の直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分
流弁Ｖの第２流体第１流管２５と他方の列の直列連結分
流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流管２５と
は、Ｔ字管３１およびＴ字管３１の両端部に接続された
端部接続管３２，３２により接続されている。前記各端
部接続管３２，３２にはそれぞれ雌継ぎ手３３，３３が
装着されており、前記雌継ぎ手３３，３３は、前記２列
の直列連結分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂの各分流弁Ｖ
１，Ｖ２の各第２流体第１流管２５，２５に装着された
雄継ぎ手２６，２６と連結されている。各Ｔ字管３１は
それぞれ第２流体供給管（第２流体供給部材）３４に接
続されている。前記符号２５，３１，３２で示された要
素により端部接続部材（２５，３１，３２）が構成され
ており、端部接続部材（２５，３１，３２）は、前記一
方の直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖの第２流体
第１流路９の接続端部９ａと他方の直列連結分流弁装置
Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流路９の接続端部９
ａとを接続している。

【００５５】図６において、直列連結分流弁装置Ｕ２ａ
の各分流弁Ｖは、図３に示す常閉の切替えバルブＶ1を
有し、直列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖは、図４
に示す常開の切替えバルブＶ２を有している。前記常閉
の切替えバルブＶ１を有する分流弁Ｖを流れるガスは反
応室（図示せず）に接続されており、前記常開の切替え
バルブＶ2はガス回収室（図示せず）に接続されてい
る。前記Ｔ字管３１により接続された各一対の切替えバ
ルブＶ１およびＶ２のエアパイプ１７および１７′は同
一の電磁切替バルブＶa（図６には１個のみ図示）を介
してエア供給源Ａに接続されている。図６のように、各
エアパイプ１７，１７′にエア供給源Ａの圧縮エアが供
給されていない場合には、常閉切替えバルブＶ1は図３
Ａの位置（遮断位置）に保持され、常開切替えバルブＶ
2は図４Ａの位置（連通位置）に保持される。また、図
６において電磁バルブＶaが切り替えられると、常閉切
替えバルブＶ１は図３Ｂの位置（連通位置）に保持さ
れ、常開切替えバルブＶ２は図４Ｂの位置（遮断位置）
に保持される。

【００５６】（実施例４の作用）前記構成を備えた本発
明の実施例４の連結分流弁装置Ｕ２は、例えば、第１流
体としてキャリアガスを使用し、第２流体として反応ガ
スを使用する。キャリアガスは、前記直列連結分流弁装
置Ｕ２ａおよびＵ２ｂをそれぞれ流れ、直列連結分流弁
装置Ｕ２ａを流れるキャリアガスは反応室（図示せず）
に搬送され、直列連結分流弁装置Ｕ２ｂを流れるキャリ
アガスは回収室（図示せず）に搬送される。第２流体供
給管３４およびＴ字管３１から供給される反応ガスは、
前記電磁バルブＶａがオフのとき（Ｖ１が遮断、Ｖ２が
連通のとき）、常開の切替えバルブＶ２を通って直列連
結分流弁装置Ｕ２ｂから回収室に流れ、前記電磁バルブ
Ｖａがオンのとき（Ｖ１が連通、Ｖ２が遮断のとき）、
常閉の切替えバルブＶ１を通って直列連結分流弁装置Ｕ
２ａから反応室に流れる。この実施例４の連結分流弁装
置Ｕ２は、反応ガスの種類が増加した場合でも、連結す
る分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応するこ
とができる。したがって、自由度の高いガス混合装置を
構成することができる。

【００５７】（実施例５）図７は本発明の実施例５の常
閉の分流弁の説明図で、図７Ａは正断面図、図７Ｂは上
面図で前記図７Ａの矢印ＶIIＢから見た図、図７Ｃは下
面図で前記図７Ａの矢印ＶIIＣから見た図である。図８
は同実施例５の常閉の分流弁の説明図で図８Ａは前記図
７ＡのＶIIIＡ−ＶIIIＡ線断面図、図８Ｂは前記図７Ａ
の矢印ＶIIIＢから見た図である。図７、図８におい
て、本発明の実施例５の分流弁Ｖは、前記実施例１の分
流弁Ｖ（図３参照）と次の点で相違しているが他の点で
は同一に構成されている。

【００５８】図８において、分流弁本体１の第２流体第
１流路接続面４の反対側の第２流体第２流路接続面３６
には、第２流体第２流路３７の一端部（接続端部）３７
ａが開口しており、他端部は前記第２流体第１流路９に
連通している。前記第２流体第２流路接続面３６に開口
する第２流体第２流路３７の一端部（接続端部）３７ａ
には第２流体供給管３８が接続されている。

【００５９】（実施例５の作用）前記構成を備えた実施
例５では、前記分流弁Ｖの切替バルブＶ１の弁部材１４
は、前記実施例１と同様に、第２流体第１流路９のバル
ブ側端部９ｂを前記第１流体常時連通路５ｃに連通させ
る連通位置（図３Ｂ参照）と前記第１流体常時連通路５
ｃに対して遮断する遮断位置（図３Ａ参照）との間で移
動する。前記実施例５の分流弁Ｖを使用して、例えば第
１流体として半導体製造装置で使用するキャリアガスを
使用すると、キャリアガスは第１流体常時連通路５ｃを
常時流れる。第２流体として反応ガスを使用する場合、
反応ガスは第２流体供給管３８から第２流体第２流路３
７、第２流体第１流路９に順次供給され、さらにバルブ
側端部９ｂに供給される。

【００６０】前記弁部材１４が連通位置のときには第２
流体第２流路３７および第２流体第１流路９を有する第
２流体流路（３７，９）を流れるガス（例えば反応ガ
ス）は、前記バルブ側端部９ｂから第１流体常時連通路
５ｃに流入する。第２流体第１流路９のバルブ側端部９
ｂは前記第１流体常時連通路５ｃに面して配置されてい
るため、前記切替バルブＶ１が遮断位置に移動したと
き、第１流体第１流路７、第１流体常時連通路５ｃおよ
び第１流体第２流路８を有する第１流体流路（５ｃ，
７，８）を流れるガス（キャリアガス）に対して第２流
体流路（３７，９）を流れるガス（反応ガス）は完全に
遮断される。このため、第１流体流路（キャリアガス流
路（５ｃ，７，８）に接続するデッドゾーン（反応ガス
が残留する領域）が全く無くなる。したがって、デッド
ゾーンの残留ガスがキャリアガスに混入するようなこと
が無くなる。

【００６１】また、前記実施例５の分流弁Ｖを複数用意
して、互いに異なる分流弁Ｖの雄継ぎ手２２と雌継ぎ手
２４とを連結することにより、第１流体流路７，５ｃ，
８（例えば、キャリアガス流路）に複数の第２流体流路
９，３７（例えば、複数の反応ガス流路）を接続するこ
とができる。したがって、種類の異なる反応ガスの数が
増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減するこ
とにより容易に対応することができるので、ガス混合装
置の規模の小さいものから大きなものまで容易に構成す
ることができる。また同様に、流体の分流装置として使
用する場合にも、装置規模の小さいものから大きいもの
まで、容易に構成することができる。また従来、半導体
製造装置で使用していたキャリアガスおよび反応ガスの
搬送路の混合装置、分流装置等では、Ｔ字型管と遮断弁
とを使用していたが、前記従来のガス搬送路の代わりに
容易に設置することができる。その際、デッドゾーンの
残留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くな
るので、旧式の半導体製造装置が高性能の装置として再
生される。

【００６２】（実施例６）図９は本発明の実施例６の連
結分流弁装置の説明図である。図１０は前記図９のＸ−
Ｘ線断面図である。図９、図１０において、本発明の実
施例６の連結分流弁装置Ｕ２は、前記実施例４の図６に
示す連結分流弁装置Ｕ２と同様に、平行に配置された一
対の直列分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂを有している。
実施例６（図９、図１０参照）の連結分流弁装置Ｕ２は
次の点で前記実施例４（図６参照）の連結分流弁装置Ｕ
２と相違しているが他の点では同一に構成されている。

【００６３】前記実施例４（図６参照）の直列分流弁装
置Ｕ２ａの複数の各分流弁Ｖが図１、図２に示す実施例
１の分流弁であったのに対し、本実施例６（図９、図１
０参照）の直列分流弁装置Ｕ２ａの複数の各分流弁Ｖ
は、図７、図８に示す実施例５の分流弁である。また、
前記実施例４（図６参照）の直列分流弁装置Ｕ２ｂの複
数の各分流弁Ｖが雄継ぎ手２６を有したのに対し、本実
施例６は雌継ぎ手２６′を有している。図１０におい
て、前記直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖの第２
流体第１流管２５に装着された雄継ぎ手２６と、前記直
列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流
管２５に装着された雌継ぎ手２６′とは直接連結されて
いる。図１０から分かるように、第２流体供給管３８か
ら供給されたガスは、前記雄継ぎ手２６および雌継ぎ手
２６′により連結された各直列連結分流弁装置Ｕ２ａ，
Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流路９に供給され
る。

【００６４】また、前記図６で説明したのと同様に、図
９に示す前記直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖは
常閉切替えバルブＶ１（図３参照）を有し、前記直列連
結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖは常開切替えバルブＶ
２（図４参照）を有している。そして、各分流弁Ｖの切
替えバルブＶ１およびＶ２は前記図６のように、各エア
パイプ１７，１７′にエア供給源Ａの圧縮エアが供給さ
れるように構成されている。前記各エアパイプ１７，１
７′にエア供給源Ａの圧縮エアが供給されていない場合
には、常閉切替えバルブＶ１は図３Ａの位置（遮断位
置）に保持され、常開切替えバルブＶ2は図４Ａの位置
（連通位置）に保持される。また、図６において電磁バ
ルブＶaが切り替えられると、常閉切替えバルブＶ１は
図３Ｂの位置（連通位置）に保持され、常開切替えバル
ブＶ２は図４Ｂの位置（遮断位置）に保持される。

【００６５】（実施例６の作用）この実施例６の連結分
流弁装置Ｕ２は、前記実施例４と同様に、反応ガスの種
類が増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減す
ることにより容易に対応することができる。したがっ
て、自由度の高いガス混合装置を構成することができ
る。また本実施例６では、各分流弁の第２流体第１流路
９を直接接続するので、図６の実施例４に示すようにＴ
字型管を使用する必要が無い。このため、ガス混合装
置、分流装置等に使用する連結分流弁装置Ｕ２を組み立
てる場合の作業性が向上する。また、構成も簡素とな
り、コンパクトなガス混合装置、分流装置等を提供する
ことができる。

【００６６】（変更例）以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。 （Ｈ01）本発明は各種のガスを混合して薄膜を形成する
各種の装置に適用可能であり、例えば次の装置に適用可
能である。 （a）ＣＶＤ等の各種半導体製造装置。 （b）ＬＣＤ（液晶表示パネル）製造装置。 （c）ＨＤ（ハードディスク）に代表される各種の記憶
媒体の薄膜を形成する装置。 （Ｈ02）分流弁Ｖにおいて、第２流体第２流路３７の開
口する第２流体第２流路接続面３６は、バルブ装着面５
の反対側に設けることが可能である。 （Ｈ03）分流弁Ｖにおいて、第２流体第１流路９の開口
する第２流体第１流路接続面４に設けた第２流体第１流
管２５およびそれに装着された継ぎ手２６，２６′等を
省略することが可能である。その場合、実施例４の図６
に示す連結分流弁装置Ｕ２を構成するときは、第２流体
第１流路接続面４に開口する第２流体第１流路９の接続
端部９ａどうしを直接Ｔ字管３１で連結することが可能
である。

【００６７】

【発明の効果】前述の本発明のガス混合装置およびガス
混合ブロックは、下記の効果を奏する。 （Ｅ01）キャリアガスに複数の反応ガスを均一に混合さ
せることができる。 （Ｅ02）残留ガスの生じるデッドゾーンを無くすことが
できる。 （Ｅ03）混合するガスの種類の増減に容易に対応できる
ようにすることができる。 （Ｅ04）高純度の混合ガスをを得ることにより、高品質
の製品（薄膜等）を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の実施例１の常閉の分流弁の説
明図で、図１Ａは正断面図、図１Ｂは上面図で前記図１
Ａの矢印ＩＢから見た図、図１Ｃは下面図で前記図１Ａ
の矢印ＩＣから見た図である。

【図２】 図２は同実施例１の常閉の分流弁の説明図で
図２Ａは前記図１ＡのIIＡ−IIＡ線断面図、図２Ｂは前
記図１Ａの矢印IIＢから見た図である。

【図３】 図３は同実施例１の常閉の分流弁の正断面拡
大図で、図３Ａは閉じた状態（遮断状態）を示す図、図
３Ｂは開いた状態（連通状態）を示す図である。

【図４】 図４は実施例２の常閉の分流弁の正断面拡大
図で、図４Ａは開いた状態（連通状態）を示す図、図４
Ｂは閉じた状態（連通状態）を示す図である。

【図５】 図５は本発明の実施例３の連結分流弁装置の
説明図である。

【図６】 図６は本発明の実施例４の連結分流弁装置の
説明図である。

【図７】 図７は本発明の実施例５の常閉の分流弁の説
明図で、図７Ａは正断面図、図７Ｂは上面図で前記図７
Ａの矢印ＶIIＢから見た図、図７Ｃは下面図で前記図７
Ａの矢印ＶIIＣから見た図である。

【図８】 図８は同実施例５の常閉の分流弁の説明図で
図８Ａは前記図７ＡのＶIIIＡ−ＶIIIＡ線断面図、図８
Ｂは前記図７Ａの矢印ＶIIIＢから見た図である。

【図９】 図９は本発明の実施例６の連結分流弁装置の
説明図である。

【図１０】図１０は前記図９のＸ−Ｘ線断面図である。

【図１１】 図１１は従来のガス混合装置の説明図であ
る。

【符号の説明】

Ｕ１，Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ…直列連結分流弁装置、Ｖ…分流
弁、Ｖ１，Ｖ２…切替バルブ。 １…分流弁本体ブロック、２…第１流体第１流路接続
面、３…第１流体第２流路接続面、４…第２流体第１流
路接続面、５…バルブ装着面、５ｃ…第１流体常時連通
路、７…第１流体第１流路、７ａ…第１流体第１流路の
接続端部、７ｂ…第１流体第１流路のバルブ側端部、８
…第１流体第２流路、８ａ…第１流体第２流路の接続端
部、８ｂ…第１流体第２流路のバルブ側端部、９…第２
流体第１流路、９ａ…第２流体第１流路の接続端部、９
ｂ…第２流体第１流路のバルブ側端部、１４…弁部材、
２１…第１流体第１流管、２２…雄継ぎ手、２３…第１
流体第２流管、２４…雌継ぎ手、２５…第２流体第１流
管、２６…雄継ぎ手、３４…第２流体供給部材、３６…
第２流体第２流路接続面、３７…第２流体第２流路、３
７ａ…第２流体第２流路の接続端部、３８…第２流体第
２流管、（３１，３２，２５）…端部接続部材。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の要件（Ａ01）を備えた分流弁、 （Ａ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流
   体第１流路接続面および第１流体第２流路接続面と、前
   記両接続面に垂直な第２流体第１流路接続面と、前記三
   つの接続面に垂直なバルブ装着面と、前記第１流体第１
   流路接続面に開口する接続端部および前記バルブ装着面
   に開口するバルブ側端部を有する第１流体第１流路と、
   前記第１流体第２流路接続面に開口する接続端部および
   前記バルブ装着面に開口するバルブ側端部を有する第１
   流体第２流路と、前記第２流体第１流路接続面に開口す
   る接続端部および前記バルブ装着面に開口するバルブ側
   端部を有する第２流体第１流路と、前記第１流体第１流
   路および第１流体第２流路の前記各バルブ側端部を常時
   連通させる第１流体常時連通路と、を有する分流弁本体
   ブロック。 （Ａ02）前記バルブ装着面に装着されて、第２流体第１
   流路のバルブ側端部を前記第１流体常時連通路に連通さ
   せる連通位置と前記第１流体常時連通路に対して遮断す
   る遮断位置との間で移動可能な弁部材を有する切替バル
   ブ。
2. 【請求項２】 次の要件（Ｂ01），（Ｂ02）を備えた連
   結分流弁装置、（Ｂ01）互いに平行で且つ反対側面に形
   成された第１流体第１流路接続面および第１流体第２流
   路接続面と、前記両接続面に垂直な第２流体第１流路接
   続面と、前記三つの接続面に垂直なバルブ装着面と、前
   記第１流体第１流路接続面に１端が開口し他端が前記バ
   ルブ装着面に開口する第１流体第１流路および前記第１
   流体第２流路接続面に１端が開口し他端が前記バルブ装
   着面に開口する第１流体第２流路と、１端が前記第２流
   体第１流路接続面に開口し他端が前記バルブ装着面に開
   口する第２流体第１流路と、前記第１流体第１流路およ
   び第１流体第２流路の前記バルブ装着面の開口を常時連
   通させる第１流体常時連通路と、を有する分流弁本体ブ
   ロックと、 前記バルブ装着面に装着されて、第２流体第１流路のバ
   ルブ側端部を前記第１流体常時連通路に連通させる連通
   位置と前記第１流体常時連通路に対して遮断する遮断位
   置との間で移動可能な弁部材を有する切替バルブと、 前記第１流体第１流路接続面に開口する第１流体第１流
   路の接続端部に接続された第１流体第１流管、および前
   記第１流体第２流路接続面に開口する第１流体第２流路
   の接続端部に接続された第１流体第２流管と、 前記第１流体第１流管および第１流体第２流管の一方の
   管に装着された雌継ぎ手および他方の管に装着された雄
   継ぎ手とを備えた複数の分流弁、 （Ｂ02）前記複数の分流弁を１列に並べて、互いに隣接
   する各分流弁の第１流体第１流管および第１流体第２流
   管を各流管に装着された継ぎ手により互いに接続し、前
   記複数の分流弁の第１流体第１流路および第１流体第２
   流路を全て連通させた直列連結分流弁装置。
3. 【請求項３】 次の要件（Ｂ03），（Ｂ04）を備えた請
   求項２記載の連結分流弁装置、 （Ｂ03）前記第２流体第１流路接続面に開口する前記第
   ２流体第１流路の接続端部に接続された第２流体第１流
   管、 （Ｂ04）雌継ぎ手または雄継ぎ手が装着された前記第２
   流体第１流管。
4. 【請求項４】 次の要件（Ｂ05）を備えた請求項２また
   は３記載の連結分流弁装置、 （Ｂ05）前記直列連結分流弁装置を２列設け、一方の列
   の直列連結分流弁装置の各分流弁の第２流体第１流路の
   接続端部と他方の列の直列連結分流弁装置の各分流弁の
   第２流体第１流路の接続端部とを互いに接続する端部接
   続部材および前記端部接続部材に連結された第２流体供
   給部材。
5. 【請求項５】 次の要件（Ｂ06），（Ｂ07）を備えた請
   求項２または３記載の連結分流弁装置、 （Ｂ06）前記第２流体第１流路接続面またはバルブ装着
   面のいずれかの面と反対側の側面に形成された第２流体
   第２流路接続面に一端部が開口し他端部が前記第２流体
   第１流路に接続する第２流体第２流路を有する前記分流
   弁本体ブロック、 （Ｂ07）前記直列連結分流弁装置を２列設け、各列の直
   列連結分流弁装置の分流弁の第２流体第１流路接続面が
   対向して配置された２列の直列連結分流弁装置であっ
   て、各列の連結分流弁装置の各分流弁の第２流体第１流
   路どうしが接続された直列連結分流弁装置。